JP6350534B2 - テトラゾリノン化合物及びその用途 - Google Patents
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Description
本発明者らは、有害生物に対して優れた防除効力を有する化合物を見出すべく検討した結果、下記式(1)で示されるテトラゾリノン化合物が有害生物に対して優れた防除効力を有することを見出し、本発明を完成した。
すなわち、本発明は以下の〔1〕〜〔4〕のとおりである。
〔1〕 式(1)
で示されるテトラゾリノン化合物。
{式中、
Eは群P2から選ばれる5員芳香族複素基を表し;
R4およびR5は、互いに独立に、水素原子もしくは炭素数1〜3のアルキル基を表すか、または、
R4とR5とが結合して、それらが結合している炭素原子とともに炭素数3〜6のシクロアルカン環を形成していてもよく;
R6は、炭素数1〜12のアルキル基、ハロゲン原子、炭素数1〜12のハロアルキル基、炭素数3〜12のシクロアルキル基、炭素数3〜12のハロシクロアルキル基、炭素数1〜12のアルコキシ基、炭素数1〜12のハロアルコキシ基、炭素数1〜12のアルキルチオ基、炭素数1〜12のハロアルキルチオ基、ニトロ基、シアノ基、ヒドロキシ基、スルファニル基、ペンタフルオロスルファニル基、炭素数2〜12のアルケニル基、炭素数2〜12のハロアルケニル基、炭素数2〜12のアルキニル基、炭素数2〜12のハロアルキニル基、炭素数3〜12のシクロアルキルオキシ基、炭素数3〜12のハロシクロアルキルオキシ基、炭素数3〜12のシクロアルキルチオ基、炭素数2〜12のアルケニルオキシ基、炭素数2〜12のアルキニルオキシ基、炭素数2〜12のハロアルケニルオキシ基、炭素数2〜12のハロアルキニルオキシ基、炭素数2〜12のアルキニルチオ基、炭素数2〜12のアルケニルチオ基、炭素数2〜12のハロアルケニルチオ基、炭素数2〜12のハロアルキニルチオ基、炭素数2〜12のアルキルカルボニル基、炭素数2〜12のハロアルキルカルボニル基、炭素数2〜12のアルキルカルボニルオキシ基、炭素数2〜12のアルキルカルボニルチオ基、炭素数2〜12のアルコキシカルボニル基、炭素数3〜12のトリアルキルシリル基、炭素数5〜14のトリアルキルシリルエチニル基、炭素数1〜12のアルキルスルホニル基、炭素数1〜12のハロアルキルスルホニル基、炭素数1〜12のアルキルスルフィニル基、炭素数1〜12のハロアルキルスルフィニル基、炭素数1〜12のアルキル基を有していてもよいアミノスルホニル基、炭素数1〜12のアルキル基を有していてもよいアミノ基、炭素数1〜12のアルキル基を有していてもよいアミノカルボニル基、カルボキシ基、またはホルミル基を表し;
R7、R8、およびR9は、互いに独立に、水素原子、炭素数1〜12のアルキル基、ハロゲン原子、炭素数1〜12のハロアルキル基、炭素数3〜12のシクロアルキル基、炭素数3〜12のハロシクロアルキル基、炭素数1〜12のアルコキシ基、炭素数1〜12のハロアルコキシ基、炭素数1〜12のアルキルチオ基、炭素数1〜12のハロアルキルチオ基、ニトロ基、シアノ基、ヒドロキシ基、スルファニル基、ペンタフルオロスルファニル基、炭素数2〜12のアルケニル基、炭素数2〜12のハロアルケニル基、炭素数2〜12のアルキニル基、炭素数2〜12のハロアルキニル基、炭素数3〜12のシクロアルキルオキシ基、炭素数3〜12のハロシクロアルキルオキシ基、炭素数3〜12のシクロアルキルチオ基、炭素数2〜12のアルケニルオキシ基、炭素数2〜12のアルキニルオキシ基、炭素数2〜12のハロアルケニルオキシ基、炭素数2〜12のハロアルキニルオキシ基、炭素数2〜12のアルキニルチオ基、炭素数2〜12のアルケニルチオ基、炭素数2〜12のハロアルケニルチオ基、炭素数2〜12のハロアルキニルチオ基、炭素数2〜12のアルキルカルボニル基、炭素数2〜12のハロアルキルカルボニル基、炭素数2〜12のアルキルカルボニルオキシ基、炭素数2〜12のアルキルカルボニルチオ基、炭素数2〜12のアルコキシカルボニル基、炭素数3〜12のトリアルキルシリル基、炭素数5〜14のトリアルキルシリルエチニル基、炭素数1〜12のアルキルスルホニル基、炭素数1〜12のハロアルキルスルホニル基、炭素数1〜12のアルキルスルフィニル基、炭素数1〜12のハロアルキルスルフィニル基、炭素数1〜12のアルキル基を有していてもよいアミノスルホニル基、炭素数1〜12のアルキル基を有していてもよいアミノ基、炭素数1〜12のアルキル基を有していてもよいアミノカルボニル基、カルボキシ基、またはホルミル基を表し;
R10は、炭素数1〜3のアルキル基、または炭素数1〜3のハロアルキル基を表し;
Yは、酸素原子または硫黄原子を表し;
Qは、酸素原子、硫黄原子、またはNR12基を表し;
R12は、水素原子、炭素数1〜6のアルキル基、または炭素数1〜6のハロアルキル基を表す。
群P2:下記構造式からなる群。
〔式中、#はQとの結合位置を表し;
R0、R2、およびR3はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜6のアルキル基、炭素数1〜6のハロアルキル基、炭素数2〜6のアルケニル基、炭素数2〜6のハロアルケニル基、炭素数2〜6のアルキニル基、炭素数2〜6のハロアルキニル基、炭素数2〜6のアルコキシカルボニル基、カルボキシ基、またはシアノ基を表し;
R1は、群P1から選ばれる1以上の原子もしくは基を有していてもよい炭素数6〜16のアリール基、群P1から選ばれる1以上の原子もしくは基を有していてもよい炭素数7〜18のアラルキル基、群P1から選ばれる1以上の原子もしくは基を有していてもよい炭素数3〜12のシクロアルキル基、群P1から選ばれる1以上の原子もしくは基を有していてもよいアダマンチル基または水素原子を表し
(但し、該炭素数6〜16のアリール基、該炭素数7〜18のアラルキル基、該炭素数3〜12のシクロアルキル基、および該アダマンチル基が2以上の群P1から選ばれる原紙もしくは基を有する場合、該原子もしくは基は同一または相異なっていてもよい。)
R11は、水素原子、炭素数1〜6のアルキル基、炭素数1〜6のハロアルキル基、炭素数2〜6のアルケニル基、炭素数2〜6のハロアルケニル基、炭素数2〜6のアルキニル基または炭素数2〜6のハロアルキニル基を表し;
R13は、群P1から選ばれる1以上の原子もしくは基を有していてもよい炭素数6〜16のアリール基、群P1から選ばれる1以上の原子もしくは基を有していてもよい炭素数7〜18のアラルキル基、群P1から選ばれる1以上の原子もしくは基を有していてもよい炭素数3〜12のシクロアルキル基または群P1から選ばれる1以上の原子もしくは基を有していてもよいアダマンチル基を表し;
(但し、2以上の群P1から選ばれる原子もしくは基を有する場合、該原子もしくは基は同一または相異なっていてもよい。)
群P1:ハロゲン原子、炭素数1〜12のアルキル基、炭素数1〜12のハロアルキル基、炭素数1〜12のアルコキシ基、炭素数1〜12のハロアルコキシ基、炭素数1〜12のアルキルチオ基、炭素数1〜12のハロアルキルチオ基、カルボキシ基、ホルミル基、ニトロ基、シアノ基、ヒドロキシ基、スルファニル基、ペンタフルオロスルファニル基、炭素数2〜12のアルケニル基、炭素数2〜12のハロアルケニル基、炭素数2〜12のアルキニル基、炭素数2〜12のハロアルキニル基、炭素数3〜12のシクロアルキル基、炭素数3〜12のハロシクロアルキル基、炭素数3〜12のシクロアルキルオキシ基、炭素数3〜12のハロシクロアルキルオキシ基、炭素数3〜12のシクロアルキルチオ基、炭素数2〜12のアルケニルオキシ基、炭素数2〜12のアルキニルオキシ基、炭素数2〜12のハロアルケニルオキシ基、炭素数2〜12のハロアルキニルオキシ基、炭素数2〜12のアルキニルチオ基、炭素数2〜12のアルケニルチオ基、炭素数2〜12のハロアルケニルチオ基、炭素数2〜12のハロアルキニルチオ基、炭素数2〜12のアルキルカルボニル基、炭素数2〜12のハロアルキルカルボニル基、炭素数2〜12のアルキルカルボニルオキシ基、炭素数2〜12のアルキルカルボニルチオ基、炭素数2〜12のアルコキシカルボニル基、炭素数6〜16のアリール基、炭素数6〜16のハロアリール基、炭素数6〜16のアリールオキシ基、炭素数6〜16のハロアリールオキシ基、炭素数6〜16のアリールチオ基、炭素数6〜16のハロアリールチオ基、炭素数7〜18のアラルキル基、炭素数7〜18のハロアラルキル基、炭素数7〜18のアリールアルコキシ基、炭素数7〜18のハロアリールアルコキシ基、炭素数3〜12のトリアルキルシリル基、炭素数5〜14のトリアルキルシリルエチニル基、炭素数1〜12のアルキルスルホニル基、炭素数1〜12のハロアルキルスルホニル基、炭素数6〜16のアリールスルホニル基、炭素数6〜16のハロアリールスルホニル基、炭素数1〜12のアルキルスルフィニル基、炭素数1〜12のハロアルキルスルフィニル基、炭素数6〜16のアリールスルフィニル基、炭素数6〜16のハロアリールスルフィニル基、炭素数2〜11のポリオキサアルキルオキシ基、炭素数2〜5のオキサシクロアルキルオキシ基、炭素数1〜12のアルキル基および/または炭素数6〜12のアリール基を有していてもよいアミノカルボニル基、炭素数1〜12のアルキル基および/または炭素数6〜12のアリール基を有していてもよいアミノスルホニル基ならびに炭素数1〜12のアルキル基を有していてもよいアミノ基からなる群。〕}
R11が水素原子、炭素数1〜3のアルキル基、または炭素数1〜3のハロアルキル基であり;
R0が水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜3のアルキル基、または炭素数1〜3のハロアルキル基であり;
R1が群P3から選ばれる1以上の原子もしくは基を有していてもよい炭素数6〜16のアリール基または水素原子であり;
R6が炭素数1〜3のアルキル基、ハロゲン原子、炭素数1〜3のハロアルキル基、炭素数3〜4のシクロアルキル基、炭素数1〜3のアルコキシ基、炭素数1〜3のハロアルコキシ基、炭素数1〜3のアルキルチオ基、シアノ基、炭素数2〜3のアルケニル基、または炭素数2〜3のアルキニル基であり;
R7、R8およびR9が、それぞれ独立して水素原子またはフッ素原子であり;
R10がメチル基であり;
YおよびQが、酸素原子である〔1〕または〔2〕記載のテトラゾリノン化合物。
群P3:ハロゲン原子、炭素数1〜3のアルキル基、炭素数1〜3のハロアルキル基、炭素数1〜3のアルコキシ基、炭素数1〜3のハロアルコキシ基、炭素数1〜3のアルキルチオ基、炭素数1〜3のハロアルキルチオ基、3〜6シクロアルキル基、炭素数2〜3のアルケニル基、炭素数2〜3のアルキニル基、およびシアノ基からなる群。
R0、R2、R3、R7、R8およびR9が水素原子であり;
R1が、群P3から選ばれる1以上の原子もしくは基を有していてもよい炭素数6のアリール基または水素原子であり;
R6が、炭素数1〜3のアルキル基、ハロゲン原子、炭素数1〜3のハロアルキル基、炭素数3〜4のシクロアルキル基、炭素数1〜3のアルコキシ基、炭素数1〜3のハロアルコキシ基、炭素数1〜3のアルキルチオ基、シアノ基、炭素数2〜3のアルケニル基、または炭素数2〜3のアルキニル基であり;
R10がメチル基であり;
YおよびQが、酸素原子である〔1〕または〔2〕に記載のテトラゾリノン化合物。
〔6〕 〔1〕〜〔4〕のいずれかに記載のテトラゾリノン化合物の有効量を植物または土壌に施用する有害生物の防除方法。
〔7〕 有害生物を防除するための〔1〕〜〔4〕のいずれかに記載のテトラゾリノン化合物の使用。
本発明により、有害生物を防除することができる。
{式中、記号は前記と同じ意味を表す。}
で示されるテトラゾリノン化合物(以下、本発明化合物と記載することがある。)である。
本発明において、本発明防除剤とは、本発明化合物を含有する有害生物防除剤を表す。
ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子およびヨウ素原子があげられる。
炭素数1〜3のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基およびイソプロピル基があげられる。
炭素数1〜6のアルキル基としては、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基およびヘキシル基があげられる。
炭素数1〜12のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基およびドデシル基が挙げられる。
炭素数1〜6のハロアルキル基とは、炭素数1〜6のアルキル基の、少なくとも1の水素原子がハロゲン原子で置換された基を表し、フルオロメチル基、クロロメチル基、ジクロロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、トリクロロメチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、2,2,2−トリクロロエチル基、ペンタフルオロエチル基、2,2−ジフルオロエチル基、2−フルオロプロピル基、3−フルオロプロピル基、2,2−ジフルオロプロピル基、3,3,3−トリフルオロプロピル基、3−(フルオロメチル)−2−フルオロエチル基、4−フルオロブチル基、2,2−ジフルオロヘキシル基等があげられる。
炭素数1〜12のハロアルキル基とは、炭素数1〜12のアルキル基が有する少なくとも1の水素原子がハロゲン原子で置換された基を表し、例えば、フルオロメチル基、クロロメチル基、ジクロロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、トリクロロメチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、2,2−ジフルオロエチル基、2−フルオロプロピル基、3−フルオロプロピル基、2,2−ジフルオロプロピル基、3,3,3−トリフルオロプロピル基、2−(フルオロメチル)−3−フルオロプロピル基、4−フルオロブチル基、5−フルオロペンチル基、2,2−ジフルオロヘキシル基、パーフルオロヘプチル基、パーフルオロオクチル基、パーフルオロノニル基、パーフルオロデシル基、パーフルオロウンデシル基およびパーフルオロドデシル基が挙げられる。
炭素数2〜6のアルケニル基としては、例えば、ビニル基、1−プロペニル基、イソプロペニル基、2−プロペニル基、1−ブテニル基、1−メチル−1−プロペニル基、2−ブテニル基、1−メチル−2−プロペニル基、3−ブテニル基、2−メチル−1−プロペニル基、2−メチル−2−プロペニル基、1,3−ブタジエニル基、1−ペンテニル基、1−エチル−2−プロペニル基、2−ペンテニル基、1−メチル−1−ブテニル基、3−ペンテニル基、1−メチル−2−ブテニル基、4−ペンテニル基、1−メチル−3−ブテニル基、3−メチル−1−ブテニル基、1,2−ジメチル−2−プロペニル基、1,1−ジメチル−2−プロペニル基、2−メチル−2−ブテニル基、3−メチル−2−ブテニル基、1,2−ジメチル−1−プロペニル基、2−メチル−3−ブテニル基、3−メチル−3−ブテニル基、1,3−ペンタジエニル基、1−ビニル−2−プロペニル基、1−ヘキセニル基および5−ヘキセニル基があげられる。
炭素数2〜12のアルケニル基としては、例えば、ビニル基、1−プロペニル基、イソプロペニル基、2−プロペニル基、1−ブテニル基、1−メチル−1−プロペニル基、2−ブテニル基、1−メチル−2−プロペニル基、3−ブテニル基、2−メチル−1−プロペニル基、2−メチル−2−プロペニル基、1,3−ブタジエニル基、1−ペンテニル基、1−エチル−2−プロペニル基、2−ペンテニル基、1−メチル−1−ブテニル基、3−ペンテニル基、1−メチル−2−ブテニル基、4−ペンテニル基、1−メチル−3−ブテニル基、3−メチル−1−ブテニル基、1,2−ジメチル−2−プロペニル基、1,1−ジメチル−2−プロペニル基、2−メチル−2−ブテニル基、3−メチル−2−ブテニル基、1,2−ジメチル−1−プロペニル基、2−メチル−3−ブテニル基、3−メチル−3−ブテニル基、1,3−ペンタジエニル基、1−ビニル−2−プロペニル基、1−ヘキセニル基、5−ヘキセニル基、1−ヘプテニル基、6−ヘプテニル基、1−オクテニル基、7−オクテニル基、1−ノネニル基、8−ノネニル基、1−デセニル基、9−デセニル基、1−ウンデセニル基、10−ウンデセニル基、1−ドデセニル基および11−ドデセニル基が挙げられる。
炭素数2〜12のハロアルケニル基とは、直鎖状もしくは分枝状の炭素数2〜12のアルケニル基が有する少なくとも1の水素原子がハロゲン原子で置換された基を表し、例えば、2−クロロビニル基、2−ブロモビニル基、2−ヨ−ドビニル基、1−(クロロメチル)ビニル基、1−(トリフルオロメチル)ビニル基、1−(トリフルオロメチル)−2,2−ジフルオロビニル基、3,3−ジフルオロ−2−プロペニル基、4,4,4−トリフルオロ−2−ブテニル基、3,4,4−トリフルオロ−3−ブテニル基、3,3−ジフルオロ−2−メチル−2−プロペニル基、3,3,3−トリフルオロ−2−メチル−1−プロペニル基、3,3,3−トリフルオロ−1−メチル−1−プロペニル基、3,4,4−トリフルオロ−1,3−ブタジエニル基、4,4−ジフルオロ−3−メチル−3−ブテニル基、3,3,4,4,5,5,5−ヘプタフルオロ−1−ペンテニル基、5,5−ジフルオロ−4−ペンテニル基、4,5,5−トリフルオロ−4−ペンテニル基、パーフルオロ−1−ブテニル基、パーフルオロ−3−ブテニル基、パーフルオロ−1−ペンテニル基、パーフルオロ−4−ペンテニル基、パーフルオロ−1−ヘキセニル基、パーフルオロ−5−ヘキセニル基、パーフルオロ−1−ヘプテニル基、パーフルオロ−6−ヘプテニル基、パーフルオロ−1−オクテニル基、パーフルオロ−7−オクテニル基、パーフルオロ−1−ノネニル基、パーフルオロ−8−ノネニル基、パーフルオロ−1−デセニル基、パーフルオロ−9−デセニル基、パーフルオロ−1−ウンデセニル基、パーフルオロ−10−ウンデセニル基、パーフルオロ−1−ドデセニル基およびパーフルオロ−11−ドデセニル基が挙げられる。
炭素数2〜6のアルキニル基としては、例えばエチニル基、プロパルギル基、3−ブチン−2−イル基、2−メチル−3−ブチン−2−イル基、2−ブチニル基、3−ブチニル基、2−ペンチニル基、3−ペンチニル基、4−ペンチニル基、1−ヘキシニル基および5−ヘキシニル基があげられる。
炭素数2〜12のアルキニル基としては、例えば、エチニル基、プロパルギル基、3−ブチン−2−イル基、2−メチル−3−ブチン−2−イル基、2−ブチニル基、3−ブチニル基、2−ペンチニル基、3−ペンチニル基、4−ペンチニル基、1−ヘキシニル基、5−ヘキシニル基、1−ヘプチニル基、6−ヘプチニル基、1−オクチニル基、7−オクチニル基、1−ノニニル基、8−ノニニル基、1−デシニル基、9−デシニル基、1−ウンデシニル基、10−ウンデシニル基、1−ドデシニル基および11−ドデシニル基が挙げられる。
炭素数2〜12のハロアルキニル基とは、炭素数2〜12のアルキニル基が有する少なくとも1の水素原子がハロゲン原子で置換された基を表し、例えば、フルオロエチニル基、3−クロロ−2−プロピニル基、3−ブロモ−2−プロピニル基、3−ヨード−2−プロピニル基、3−クロロ−1−プロピニル基、5−クロロ−4−ペンチニル基、3,3,3−トリフルオロ−1−プロピニル基、3,3,3−トリフルオロ−1−プロピニル基、パーフルオロ−2−ブチニル基、パーフルオロ−3−ブチニル基、パーフルオロ−2−ペンチニル基、パーフルオロ−3−ペンチニル基、パーフルオロ−4−ペンチニル基、パーフルオロ−1−ヘキシニル基、パーフルオロ−5−ヘキシニル基、パーフルオロ−1−ヘプチニル基、パーフルオロ−6−ヘプチニル基、パーフルオロ−1−オクチニル基、パーフルオロ−7−オクチニル基、パーフルオロ−1−ノニニル基、パーフルオロ−8−ノニニル基、パーフルオロ−1−デシニル基、パーフルオロ−9−デシニル基、パーフルオロ−1−ウンデシニル基、パーフルオロ−10−ウンデシニル基、パーフルオロ−1−ドデシニル基およびパーフルオロ−11−ドデシニル基が挙げられる。
炭素数3〜6のシクロアルキル基としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基およびシクロヘキシル基があげられる。
炭素数3〜6のシクロアルカン環としては、シクロプロパン環、シクロブタン環、シクロペンタン環およびシクロヘキサン環があげられる。
炭素数3〜12のシクロアルキル基としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロノニル基、シクロデシル基、シクロウンデシル基およびシクロドデシル基が挙げられる。
炭素数3〜12のハロシクロアルキル基とは、炭素数3〜12のシクロアルキル基が有する少なくとも1の水素原子がハロゲン原子で置換された基を表し、例えば、2−フルオロシクロプロピル基、2,2−ジフルオロシクロプロピル基、2−クロロ−2−フルオロシクロプロピル基、2,2−ジクロロシクロプロピル基、2,2−ジブロモシクロプロピル基、2,2,3,3−テトラフルオロシクロブチル基、2−クロロシクロペンチル基、2−クロロシクロヘキシル基、4,4−ジフルオロシクロヘキシル基、4−クロロシクロヘキシル基、2−フルオロシクロヘプチル基、2−フルオロシクロオクチル基、2−フルオロシクロノニル基、2−フルオロシクロデシル基、2−フルオロシクロウンデシル基および2−フルオロシクロドデシル基が挙げられる。
炭素数1〜12のアルコキシ基としては、例えばメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、sec−ブトキシ基、tert−ブトキシ基、ペンチルオキシ基、イソアミルオキシ基、ネオペンチルオキシ基、2−ペンチルオキシ基、3−ペンチルオキシ基、2−メチルブトキシ基、ヘキシルオキシ基、イソヘキシルオキシ基、3−メチルペンチルオキシ基、および4−メチルペンチルオキシ基があげられる。
炭素数1〜3のハロアルコキシ基とは、炭素数1〜3のアルキル基の、少なくとも1の水素原子がハロゲン原子で置換された基を表し、例えばトリフルオロメトキシ基、トリクロロメトキシ基、クロロメトキシ基、ジクロロメトキシ基、フルオロメトキシ基、ジフルオロメトキシ基、クロロフルオロメトキシ基、ジクロロフルオロメトキシ基、クロロジフルオロメトキシ基、ペンタフルオロエトキシ基、2,2,2−トリフルオロエトキシ基、2−フルオロエトキシ基、2−クロロエトキシ基、2,2−ジフルオロエトキシ基、2,2,2−トリフルオロエトキシ基、ヘプタフルオロプロポキシ基、3,3,3−トリフルオロプロポキン基、3,3,3−トリクロロプロポキシ基、2−フルオロプロポキシ基、3−フルオロプロポキシ基、2,2−ジフルオロプロポキシ基、2,3−ジフルオロプロポキシ基および3,3,3−トリフルオロプロポキシ基があげられる。
炭素数1〜12のハロアルコキシ基とは、炭素数1〜12のアルコキシ基が有する少なくとも1の水素原子がハロゲン原子で置換された基を表し、例えば、トリフルオロメトキシ基、フルオロメトキシ基、ジフルオロメトキシ基、2,2,2−トリクロロエトキシ基、2,2,2−トリフルオロエトキシ基、2−フルオロエトキシ基、2−クロロエトキシ基、2,2−ジフルオロエトキシ基、ヘプタフルオロプロポキシ基、3,3,3−トリフルオロプロポキン基、2−フルオロプロポキシ基、3−フルオロプロポキシ基、2,2−ジフルオロプロポキシ基、2,3−ジフルオロプロポキシ基、3,3,3−トリフルオロプロポキシ基、ノナフルオロブトキシ基、パーフルオロペンチルオキシ基、パーフルオロヘキシルオキシ基、パーフルオロヘプチルオキシ基、パーフルオロオクチルオキシ基、パーフルオロノニルオキシ基、パーフルオロデシルオキシ基、パーフルオロウンデシルオキシ基およびパーフルオロドデシルオキシ基が挙げられる。
炭素数2〜12のハロアルケニルオキシ基とは、炭素数2〜12のアルケニルオキシ基が有する少なくとも1の水素原子がハロゲン原子で置換された基を表し、例えば、1−フルオロビニルオキシ基、2−フルオロビニルオキシ基、3,3−ジフルオロ−2−プロペニルオキシ基、3,4,4−トリフルオロ−3−ブテニルオキシ基、3,3−ジフルオロ−2−メチル−2−プロペニルオキシ基、4,4−ジフルオロ−3−メチル−3−ブテニルオキシ基、5,5−ジフルオロ−4−ペンテニルオキシ基、4,5,5−トリフルオロ−4−ペンテニルオキシ基、4,4,4−トリフルオロ−3−メチル−2−ブテニルオキシ基、3,5,5−トリフルオロ−2,4−ペンタジエニルオキシ基、パーフルオロ−3−ブテニルオキシ基、パーフルオロ−4−ペンテニルオキシ基、パーフルオロ−5−ヘキセニルオキシ基、パーフルオロ−6−ヘプテニルオキシ基、パーフルオロ−7−オクテニルオキシ基、パーフルオロ−8−ノネニルオキシ基、パーフルオロ−9−デセニルオキシ基、パーフルオロ−10−ウンデセニルオキシ基およびパーフルオロ−11−ドデセニルオキシ基が挙げられる。
炭素数2〜12のハロアルキニルオキシ基とは、炭素数2〜12のアルキニルオキシ基が有する少なくとも1の水素原子がハロゲン原子で置換された基を表し、例えば、ブロモエチニルオキシ基、3−クロロ−2−プロピニルオキシ基、3−ブロモ−2−プロピニルオキシ基、3−ヨード−2−プロピニルオキシ基、5−クロロ−4−ペンチニルオキシ基、3,3,3−トリフルオロ−1−プロピニルオキシ基、パーフルオロ−2−ブチニルオキシ基、パーフルオロ−3−ブチニルオキシ基、パーフルオロ−2−ペンチニルオキシ基、パーフルオロ−3−ペンチニルオキシ基、パーフルオロ−4−ペンチニルオキシ基、パーフルオロ−5−ヘキシニルオキシ基、パーフルオロ−6−ヘプチニルオキシ基、パーフルオロ−7−オクチニルオキシ基、パーフルオロ−8−ノニニルオキシ基、パーフルオロ−9−デシニルオキシ基、パーフルオロ−10−ウンデシニルオキシ基およびパーフルオロ−11−ドデシニルオキシ基が挙げられる。
炭素数3〜12のハロシクロアルキルオキシ基とは、炭素数3〜12のシクロアルキルオキシ基が有する少なくとも1の水素原子がハロゲン原子で置換された基を表し、例えば、2−フルオロシクロプロピルオキシ基、2,2−ジフルオロシクロプロピルオキシ基、2,2−ジフルオロ−1−メチルシクロプロピルオキシ基、2,2−ジクロロ−1−メチルシクロプロピルオキシ基、1−(トリフルオロメチル)シクロプロピルオキシ基、2,2,3,3−テトラフルオロシクロブチルオキシ基、4,4−ジフルオロシクロヘキシルオキシ基、2−フルオロシクロヘプチルオキシ基、2−フルオロシクロオクチルオキシ基、2−フルオロシクロノニルオキシ基、2−フルオロシクロデシルオキシ基、2−フルオロシクロウンデシルオキシ基および2−フルオロシクロドデシルオキシ基が挙げられる。
炭素数3〜12のシクロアルキルチオ基としては、シクロプロピルチオ基、シクロブチルチオ基、シクロペンチルチオ基、シクロヘキシルチオ基、シクロヘプチルチオ基、シクロオクチルチオ基、シクロノニルチオ基、シクロデシルチオ基、シクロウンデシルチオ基およびシクロドデシルチオ基が挙げられる。
炭素数1〜12のアルキルチオ基としては、例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、イソプロピルチオ基、ブチルチオ基、イソブチルチオ基、sec−ブチルチオ基、tert−ブチルチオ基、ペンチルチオ基、イソペンチルチオ基、ネオペンチルチオ基、イソアミルチオ基、2−ペンチルチオ基、3−ペンチルチオ基、2−メチルブチルチオ基、ヘキシルチオ基、イソヘキシルチオ基、sec−ヘキシルチオ基、3−メチルペンチルチオ基、4−メチルペンチルチオ基、ヘプチルチオ基、イソヘプチルチオ基、sec−ヘプチルチオ基、オクチルチオ基、2−エチルヘキシルチオ基、ノニルチオ基、デシルチオ基、ウンデシルチオ基およびドデシルチオ基が挙げられる。
炭素数1〜3のハロアルキルチオ基とは、炭素数1〜3のアルキルチオ基が有する少なくとも1の水素原子がハロゲン原子で置換された基を表し、例えば、フルオロメチルチオ基、ブロモジフルオロメチルチオ基、ジフルオロメチルチオ基、トリフルオロメチルチオ基、ペンタフルオロエチルチオ基、2,2,2−トリフルオロエチルチオ基、2,2−ジフルオロエチルチオ基、ヘプタフルオロプロピルチオ基、3,3,3−トリフルオロプロピルチオ基または2,2−ジフルオロプロピルチオ基があげられる。
炭素数1〜12のハロアルキルチオ基とは、炭素数1〜12のアルキルチオ基が有する少なくとも1の水素原子がハロゲン原子で置換された基を表し、例えば、フルオロメチルチオ基、ブロモジフルオロメチルチオ基、ジフルオロメチルチオ基、トリフルオロメチルチオ基、ペンタフルオロエチルチオ基、2,2,2−トリフルオロエチルチオ基、2,2−ジフルオロエチルチオ基、ヘプタフルオロプロピルチオ基、3,3,3−トリフルオロプロピルチオ基、2,2−ジフルオロプロピルチオ基、ノナフルオロブチルチオ基、パーフルオロペンチルチオ基、パーフルオロヘキシルチオ基、パークロロヘキシルチオ基、パーフルオロヘプチルチオ基、パーフルオロオクチルチオ基、パーフルオロノニルチオ基、パーフルオロデシルチオ基、パークロロデシルチオ基、パーブロモデシルチオ基、パーフルオロウンデシルチオ基およびパーフルオロドデシルチオ基が挙げられる。
炭素数2〜12のハロアルケニルチオ基とは、炭素数2〜12のアルケニルチオ基が有する少なくとも1の水素原子がハロゲン原子で置換された基を表し、例えば、1−フルオロビニルチオ基、2−フルオロビニルチオ基、3,3−ジフルオロ−2−プロペニルチオ基、4,4,4−トリフルオロ−2−ブテニルチオ基、3,4,4−トリフルオロ−3−ブテニルチオ基、3,3−ジフルオロ−2−メチル−2−プロペニルチオ基、4,4−ジフルオロ−3−メチル−3−ブテニルチオ基、5,5−ジフルオロ−4−ペンテニルチオ基、4,5,5−トリフルオロ−4−ペンテニルチオ基、4,4,4−トリフルオロ−3−メチル−2−ブテニルチオ基、3,5,5−トリフルオロ−2,4−ペンタジエニルチオ基、4,4,5,5,6,6,6−ヘプタフルオロ−2−ヘキセニルチオ基、4,5,5,5−テトラフルオロ−4−トリフルオロメチル−2−ペンテニルチオ基、パーフルオロ−3−ブテニルチオ基、パーフルオロ−4−ペンテニルチオ基、パーフルオロ−5−ヘキセニルチオ基、パーフルオロ−6−ヘプテニルチオ基、パーフルオロ−7−オクテニルチオ基、パーフルオロ−8−ノネニルチオ基、パーフルオロ−9−デセニルチオ基、パーフルオロ−10−ウンデセニルチオ基およびパーフルオロ−11−ドデセニルチオ基が挙げられる。
炭素数2〜12のハロアルキニルチオ基とは、炭素数2〜12のアルキニルチオ基が有する少なくとも1の水素原子がハロゲン原子で置換された基を表し、例えば、ブロモエチニルチオ基、3−クロロ−2−プロピニルチオ基、3−ブロモ−2−プロピニルチオ基、3−ヨード−2−プロピニルチオ基、5−クロロ−4−ペンチニルチオ基、3,3,3−トリフルオロ−1−プロピニルチオ基、パーフルオロ−2−ブチニルチオ基、パーフルオロ−3−ブチニルチオ基、パーフルオロ−2−ペンチニルチオ基、パーフルオロ−3−ペンチニルチオ基、パーフルオロ−4−ペンチニルチオ基、パーフルオロ−5−ヘキシニルチオ基、パーフルオロ−6−ヘプチニルチオ基、パーフルオロ−7−オクチニルチオ基、パーフルオロ−8−ノニニルチオ基、パーフルオロ−9−デシニルチオ基、パーフルオロ−10−ウンデシニルチオ基およびパーフルオロ−11−ドデシニルチオ基が挙げられる。
炭素数2〜12のハロアルキルカルボニル基とは、炭素数2〜12のアルキルカルボニル基が有する少なくとも1の水素原子がハロゲン原子で置換された基を表し、例えば、トリクロロアセチル基、フルオロアセチル基、ジフルオロアセチル基、トリフルオロアセチル基、ペンタフルオロプロピオニル基、3−フルオロプロピオニル基および3,3,3−トリフルオロプロピオニル基が挙げられる。
炭素数2〜12のアルキルカルボニルオキシ基とは、カルボニルの炭素も含めた合計の炭素数が2〜12であり、例えば、アセトキシ基、プロピオニルオキシ基、イソプロピオニルオキシ基およびブタノイルオキシ基が挙げられる。
炭素数2〜12のアルキルカルボニルチオ基とは、カルボニルの炭素も含めた合計の炭素数が2〜12であり、例えば、アセチルチオ基、プロピオニルチオ基、イソプロピオニルチオ基およびブタノイルチオ基が挙げられる。
炭素数2〜6のアルコキシカルボニル基とは、カルボニルの炭素も含めた合計の炭素数が2〜6である基を表し例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基、イソブトキシカルボニル基、sec−ブトキシカルボニル基、tert−ブトキシカルボニル基およびペンチルオキシカルボニル基があげられる。
炭素数2〜12のアルコキシカルボニル基とは、カルボニルの炭素も含めた合計の炭素数が2〜12であり、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基、イソブトキシカルボニル基、sec−ブトキシカルボニル基、tert−ブトキシカルボニル基、ペンチルオキシカルボニル基、ヘキシルオキシカルボニル基、ヘプチルオキシカルボニル基、オクチルオキシカルボニル基、ノニルオキシカルボニル基、デシルオキシカルボニル基、ウンデシルオキシカルボニル基およびドデシルオキシカルボニル基が挙げられる。
炭素数5〜14のトリアルキルシリルエチニル基とは、トリアルキルシリル基が結合したエチニル基を表し、エチニル基の炭素も含めた合計の炭素数が5〜14であり、シリル基上の3つのアルキル基は同一または相異なっていてもよく、例えば、トリメチルシリルエチニル基、tert−ブチルジメチルシリルエチニル基、トリエチルシリルエチニル基、イソプロピルジメチルシリルエチニル基、トリイソプロピルシリルエチニル基、トリ(tert−ブチル)シリルエチニル基およびトリブチルシリルエチニル基が挙げられる。
炭素数1〜12のアルキルスルホニル基としては、例えば、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、プロピルスルホニル基、イソプロピルスルホニル基、ブチルスルホニル基、イソブチルスルホニル基、sec−ブチルスルホニル基、tert−ブチルスルホニル基、ペンチルスルホニル基、イソペンチルスルホニル基、ネオペンチルスルホニル基、イソアミルスルホニル基、2−ペンチルスルホニル基、3−ペンチルスルホニル基、2−メチルブチルスルホニル基、ヘキシルスルホニル基、イソヘキシルスルホニル基、sec−ヘキシルスルホニル基、3−メチルペンチルスルホニル基、4−メチルペンチルスルホニル基、ヘプチルスルホニル基、イソヘプチルスルホニル基、sec−ヘプチルスルホニル基、オクチルスルホニル基、2−エチルヘキシルスルホニル基、ノニルスルホニル基、デシルスルホニル基、ウンデシルスルホニル基およびドデシルスルホニル基が挙げられる。
炭素数1〜12のハロアルキルスルホニル基とは炭素数1〜12のアルキルスルホニル基が有する少なくとも1の水素原子がハロゲン原子で置換された基を表し、例えば、フルオロメチルスルホニル基、ブロモジフルオロメチルスルホニル基、ジフルオロメチルスルホニル基、トリフルオロメチルスルホニル基、トリクロロメチルスルホニル基および2,2,2−トリフルオロエチルスルホニル基が挙げられる。
炭素数1〜12のハロアルキルスルフィニル基とは、炭素数1〜12のアルキルスルフィニル基が有する少なくとも1の水素原子がハロゲン原子で置換された基を表し、例えば、フルオロメチルスルフィニル基、ジフルオロメチルスルフィニル基、トリフルオロメチルスルフィニル基、トリクロロメチルスルフィニル基、トリブロモメチルスルフィニル基、ペンタフルオロエチルスルフィニル基、2,2,2−トリクロロエチルスルフィニル基、2−フルオロエチルスルフィニル基および2,2,2−トリフルオロエチルスルフィニル基が挙げられる。
炭素数1〜12のアルキル基を有していてもよいアミノスルホニル基とは、アミノスルホニル基の有する1または2の水素原子がアルキル基で置換されていてもよいアミノ基であり、該アルキル基の炭素数の合計が1〜12であり、該アルキル基が2以上である場合、それらは互いに同一でも相異なっていてもよい。炭素数1〜12のアルキル基を有していてもよいアミノスルホニル基としては、例えば、アミノスルホニル基、メチルアミノスルホニル基、エチルアミノスルホニル基、プロピルアミノスルホニル基、イソプロピルアミノスルホニル基、ブチルアミノスルホニル基、ジメチルアミノスルホニル基、ジエチルアミノスルホニル基、ジプロピルアミノスルホニル基、ジイソプロピルアミノスルホニル基、エチル(メチル)アミノスルホニル基およびプロピル(メチル)アミノスルホニル基が挙げられる。
炭素数1〜12のアルキル基を有していてもよいアミノカルボニル基とは、カルボニルの炭素も含めた合計の炭素数が1〜12であり、アミノカルボニル基の有する1または2の水素原子がアルキル基で置換されていてもよい基を表し、該アルキル基が2以上である場合、それらは互いに同一でも相異なっていてもよい。炭素数1〜12のアルキル基を有していてもよいアミノカルボニル基としては、例えば、アミノカルボニル基、メチルアミノカルボニル基、エチルアミノカルボニル基、プロピルアミノカルボニル基、イソプロピルアミノカルボニル基、ブチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、ジエチルアミノカルボニル基、ジプロピルアミノカルボニル基、ジイソプロピルアミノカルボニル基、エチル(メチル)アミノカルボニル基およびプロピル(メチル)アミノカルボニル基が挙げられる。
炭素数6〜16のハロアリール基とは、炭素数6〜16のアリール基が有する少なくとも1の水素原子がハロゲン原子で置換された基を表し、例えば、2−フルオロフェニル基、3−フルオロフェニル基、4−フルオロフェニル基、2−クロロフェニル基、3−クロロフェニル基、4−クロロフェニル基、2−ブロモフェニル基、3−ブロモフェニル基、4−ブロモフェニル基、2−ヨードフェニル基、3−ヨードフェニル基、4−ヨードフェニル基、2,4−ジフルオロフェニル基、2,5−ジフルオロフェニル基、2,6−ジフルオロフェニル基、3,5−ジフルオロフェニル基、2,4−ジクロロフェニル基、2,5−ジクロロフェニル基、2,6−ジクロロフェニル基、3,5−ジクロロフェニル基、2,4,6−トリフルオロフェニル基、2,3,4−トリフルオロフェニル基、2,4,5−トリフルオロフェニル基、3,4,5−トリフルオロフェニル基および2,4,6−トリクロロフェニル基が挙げられる。
炭素数6〜16のアリールオキシ基とは、例えば、フェニルオキシ基、1−ナフチルオキシ基および2−ナフチルオキシ基が挙げられる。
炭素数6〜16のハロアリールオキシ基とは、炭素数6〜16のアリールオキシ基が有する少なくとも1の水素原子がハロゲン原子で置換された基を表し、例えば、2−フルオロフェノキシ基、3−フルオロフェノキシ基、4−フルオロフェノキシ基、2−クロロフェノキシ基、4−フルオロフェノキシ基、2−クロロフェノキシ基、4−フルオロフェノキシ基、4−フルオロフェノキシ基、4−フルオロフェノキシ基、2−クロロフェノキシ基、4−フルオロフェノキシ基、4−フルオロフェノキシ基、2−クロロフェノキシ基、4−フルオロフェノキシ基、2−クロロフェノキシ基、4−フルオロフェノキシ基、2−クロロフェノキシ基、4−フルオロフェノキシ基、2−クロロフェノキシ基、4−フルオロフェノキシ基、2−クロロフェノキシ基、4−フルオロフェノキシ基、4−フルオロフェノキシ基、2−クロロフェノキシ基、4−フルオロフェノキシ基、2−クロロフェノキシ基、4−フルオロフェノキシ基、2−クロロフェノキシ基、3−クロロフェノキシ基、4−フルオロフェノキシ基、2−クロロフェノキシ基、3−クロロフェノキシ基、3−クロロフェノキシ基、3−クロロフェノキシ基、2−クロロフェノキシ基、3−クロロフェノキシ基、3−クロロフェノキシ基、3−クロロフェノキシ基、3−クロロフェノキシ基、3−クロロフェノキシ基、3−クロロフェノキシ基、2−クロロフェノキシ基、3−クロロフェノキシ基、3−クロロフェノキシ基、2−クロロフェノキシ基、3−クロロフェノキシ基、2−クロロフェノキシ基、3−クロロフェノキシ基、3−クロロフェノキシ基、3−クロロフェノキシ基、4−クロロフェノキシ基、2−ブロモフェノキシ基、3−ブロモフェノキシ基、4−ブロモフェノキシ基、2−ヨードフェノキシ基、3−ヨードフェノキシ基、4−ヨードフェノキシ基、2,4−ジフルオロフェノキシ基、2,5−ジフルオロフェノキシ基、2,6−ジフルオロフェノキシ基、3,5−ジフルオロフェノキシ基、2,4−ジクロロフェノキシ基、2,5−ジクロロフェノキシ基、2,6−ジクロロフェノキシ基、3,5−ジクロロフェノキシ基、2,4,6−トリフルオロフェノキシ基、2,3,4−トリフルオロフェノキシ基および2,4,5−トリフルオロフェノキシ基が挙げられる。
炭素数6〜16のハロアリールチオ基とは、炭素数6〜16のアリールチオ基が有する少なくとも1の水素原子がハロゲン原子で置換された基を表し、例えば、2−フルオロフェニルチオ基、3−フルオロフェニルチオ基、4−フルオロフェニルチオ基、2−クロロフェニルチオ基、3−クロロフェニルチオ基、4−クロロフェニルチオ基、2−ブロモフェニルチオ基、3−ブロモフェニルチオ基、4−ブロモフェニルチオ基、2−ヨードフェニルチオ基、3−ヨードフェニルチオ基、4−ヨードフェニルチオ基、2,4−ジフルオロフェニルチオ基、2,5−ジフルオロフェニルチオ基、2,6−ジフルオロフェニルチオ基、3,5−ジフルオロフェニルチオ基、2,4−ジクロロフェニルチオ基、2,5−ジクロロフェニルチオ基、2,6−ジクロロフェニルチオ基、3,5−ジクロロフェニルチオ基、2,4,6−トリフルオロフェニルチオ基、2,3,4−トリフルオロフェニルチオ基およびペンタフルオロフェニルチオ基が挙げられる。
炭素数7〜18のハロアラルキル基とは、炭素数7〜18のアラルキル基のアリール部分および/またはアルキル部分が有する少なくとも1の水素原子がハロゲン原子で置換された基を表し、例えば、2−フルオロベンジル基、3−フルオロベンジル基、4−フルオロベンジル基、2−クロロベンジル基、3−クロロベンジル基、4−クロロベンジル基、2−ブロモベンジル基、3−ブロモベンジル基、4−ブロモベンジル基、2−ヨードベンジル基、3−ヨードベンジル基、4−ヨードベンジル基、2−(4−フルオロフェニル)エチル基、2−(4−クロロフェニル)エチル基、2−(4−ブロモフェニル)エチル基、2−(4−ヨードフェニル)エチル基、3−(4−フルオロフェニル)プロピル基、3−(4−クロロフェニル)プロピル基、3−(4−ブロモフェニル)プロピル基、3−(4−ヨードフェニル)プロピル基、ジフルオロ(フェニル)メチル基、ジフルオロ(4−フルオロフェニル)メチル基、ジフルオロ(4−クロロフェニル)メチル基、ジフルオロ(4−ブロモフェニル)メチル基およびジフルオロ(4−ヨードフェニル)メチル基が挙げられる。
炭素数7〜18のアリールアルコキシ基とは、アリール部分とアルコキシ部分との合計の炭素数が7〜18である基を表し、炭素数7〜18のアリールアルコキシ基としては、例えば、ベンジルオキシ基、フェネチルオキシ基、3−フェニルプロポキシ基、4−フェニルブトキシ基、2−(1−ナフチル)エチルオキシ基、3−(1−ナフチル)プロポキシ基、4−(1−ナフチル)ブトキシ基、5−(1−ナフチル)ペンチルオキシ基、6−(1−ナフチル)ヘキシルオキシ基、7−(1−ナフチル)ヘプチルオキシ基、8−(1−ナフチル)オクチルオキシ基、2−ナフチルメチルオキシ基、2−(2−ナフチル)エチルオキシ基、3−(2−ナフチル)プロポキシ基および4−(2−ナフチル)ブトキシ基が挙げられる。
炭素数7〜18のハロアリールアルコキシ基とは、炭素数7〜18のアリールアルコキシ基のアリール部分および/またはアルキル部分が有する少なくとも1の水素原子がハロゲン原子で置換された基を表し、例えば、2−フルオロベンジルオキシ基、3−フルオロベンジルオキシ基、4−フルオロベンジルオキシ基、2−クロロベンジルオキシ基、3−クロロベンジルオキシ基、4−クロロベンジルオキシ基、2−ブロモベンジルオキシ基、3−ブロモベンジルオキシ基、4−ブロモベンジルオキシ基、2−ヨードベンジルオキシ基、3−ヨードベンジルオキシ基、4−ヨードベンジルオキシ基、ジフルオロ(フェニル)メトキシ基、ジフルオロ(4−フルオロフェニル)メトキシ基、ジフルオロ(4−クロロフェニル)メトキシ基、ジフルオロ(4−ブロモフェニル)メトキシ基およびジフルオロ(4−ヨードフェニル)メトキシ基が挙げられる。
炭素数6〜16のハロアリールスルフィニル基とは、炭素数6〜16のアリールスルフィニル基が有する少なくとも1の水素原子がハロゲン原子で置換された基を表し、例えば、2−フルオロフェニルスルフィニル基、3−フルオロフェニルスルフィニル基、4−フルオロフェニルスルフィニル基、2−クロロフェニルスルフィニル基、3−クロロフェニルスルフィニル基、4−クロロフェニルスルフィニル基、2−ブロモフェニルスルフィニル基、3−ブロモフェニルスルフィニル基、4−ブロモフェニルスルフィニル基、2−ヨードフェニルスルフィニル基、3−ヨードフェニルスルフィニル基、4−ヨードフェニルスルフィニル基、2,4−ジフルオロフェニルスルフィニル基、2,5−ジフルオロフェニルスルフィニル基、2,6−ジフルオロフェニルスルフィニル基、3,5−ジフルオロフェニルスルフィニル基、2,4−ジクロロフェニルスルフィニル基、2,5−ジクロロフェニルスルフィニル基、2,6−ジクロロフェニルスルフィニル基、3,5−ジクロロフェニルスルフィニル基、2,4,6−トリフルオロフェニルスルフィニル基、2,3,4−トリフルオロフェニルスルフィニル基、2,4,5−トリフルオロフェニルスルフィニル基および3,4,5−トリフルオロフェニルスルフィニル基が挙げられる。
炭素数2〜11のポリオキサアルキルオキシ基とは、炭素数3の直鎖のアルコキシ基のうちの1のメチレン基が酸素原子で置き換わった基、炭素数4の直鎖のアルコキシ基のうちの1もしくは2のメチレン基が酸素原子で置き換わった基、または、炭素数5〜12の直鎖のアルコキシ基のうちの1、2もしくは3のメチレン基が酸素原子で置き換わった基のいずれかであり、該酸素原子は隣合うことはなく、例えば、−O−CH2−O−CH3基、−O−CH2−O−CH2−CH3基、−O−(CH2)2−O−CH3基および−O−(CH2)2−O−CH2−CH3基が挙げられる。
炭素数2〜5のオキサシクロアルキルオキシ基とは、炭素数3〜6のシクロアルキルオキシ基の環内のメチレン基の1が酸素原子に置き換わったものであり、例えば、オキシラニルオキシ基、オキセタニルオキシ基、テトラヒドロフラニルオキシ基およびテトラヒドロピラニルオキシ基が挙げられる。
炭素数1〜12のアルキル基および/または炭素数6〜12のアリール基を有していてもよいアミノスルホニル基とは、アミノスルホニル基が有する1または2の水素原子が炭素数1〜12のアルキル基および/または炭素数6〜12のアリール基で置換されていてもよい基を表し、窒素原子上の置換基は互いに同一でも相異なっていてもよい。炭素数1〜12のアルキル基および/または炭素数6〜12のアリール基を有していてもよいアミノスルホニル基としては、例えば、アミノスルホニル基、N−メチルアミノスルホニル基、N−エチルアミノスルホニル基、N−プロピルアミノスルホニル基、N−イソプロピルアミノスルホニル基、N,N−ジメチルアミノスルホニル基、N,N−ジエチルアミノスルホニル基、N,N−ジプロピルアミノスルホニル基、N,N−ジイソプロピルアミノスルホニル基、N−フェニルアミノスルホニル基、N−メチル−N−フェニルアミノスルホニル基、N−エチル−N−フェニルアミノスルホニル基およびN−プロピル−N−フェニルアミノスルホニル基が挙げられる。
炭素数1〜12のアルキル基および/または炭素数6〜12のアリール基を有していてもよいアミノ基とは、アミノ基が有する1または2の水素原子が炭素数1〜12のアルキル基および/または炭素数6〜12のアリール基で置換されていてもよい基を表し、窒素原子上の置換基は互いに同一でも相異なっていてもよい。炭素数1〜12のアルキル基および/または炭素数6〜12のアリール基を有していてもよいアミノ基としては、例えば、アミノ基、N−メチルアミノ基、N−エチルアミノ基、N−プロピルアミノ基、N−イソプロピルアミノ基、N,N−ジメチルアミノ基、N,N−ジエチルアミノ基、N,N−ジプロピルアミノ基、N,N−ジイソプロピルアミノ基、N−フェニルアミノ基、N−メチル−N−フェニルアミノ基、N−エチル−N−フェニルアミノ基およびN−プロピル−N−フェニルアミノ基が挙げられる。
炭素数6〜16のハロアリールスルホニル基とは、炭素数6〜16のアリールスルホニル基が有する少なくとも1の水素原子がハロゲン原子で置換された基を表し、例えば、2−フルオロフェニルスルホニル基、3−フルオロフェニルスルホニル基、4−フルオロフェニルスルホニル基、2−クロロフェニルスルホニル基、3−クロロフェニルスルホニル基、4−クロロフェニルスルホニル基、2−ブロモフェニルスルホニル基、3−ブロモフェニルスルホニル基、4−ブロモフェニルスルホニル基、2−ヨードフェニルスルホニル基、3−ヨードフェニルスルホニル基、4−ヨードフェニルスルホニル基、4−フルオロ−1−ナフチルスルホニル基、4−クロロ−1−ナフチルスルホニル基、3−フルオロ−1−アセナフチルスルホニル基、9−フルオロ−1−フェナントリルスルホニル基、10−フルオロ−9−アントリルスルホニル基および6−フルオロ−1−ピレニルスルホニル基が挙げられる。
Yが酸素原子であるテトラゾリノン化合物。Yが硫黄原子であるテトラゾリノン化合物。
Qが酸素原子であるテトラゾリノン化合物。Qが硫黄原子であるテトラゾリノン化合物。QがNR11基であるテトラゾリノン化合物。
YおよびQが酸素原子であるテトラゾリノン化合物。Yが酸素原子であり、Qが硫黄原子であるテトラゾリノン化合物。Yが酸素原子であり、QがNR11基であるテトラゾリノン化合物。Yが硫黄原子であり、Qが酸素原子であるテトラゾリノン化合物。YおよびQが硫黄原子であるテトラゾリノン化合物。Yが硫黄原子であり、QがNR11基であるテトラゾリノン化合物。
EがE1であり;R1が1以上のハロゲン原子を有していてもよいフェニル基であり;R0、R3、R4、R5、R7、R8およびR9が水素原子であり;R6が炭素数1〜3のアルキル基または炭素数1〜3のアルコキシ基であり;R10が炭素数1〜3のアルキル基であり;QおよびYが酸素原子であるテトラゾリノン化合物。
EがE1であり;R1が1以上のハロゲン原子を有していてもよいフェニル基であり;R0、R3、R4、R5、R7、R8およびR9が水素原子であり;R6が炭素数1〜3のアルキル基であり;R10が炭素数1〜3のアルキル基であり;QおよびYが酸素原子であるテトラゾリノン化合物。
EがE23であり;R1が1以上のハロゲン原子を有していてもよいフェニル基であり;R2、R4、R5、R7、R8およびR9が水素原子であり;R6が炭素数1〜3のアルキル基または炭素数1〜3のアルコキシ基であり;R10が炭素数1〜3のアルキル基であり;QおよびYが酸素原子であるテトラゾリノン化合物。
EがE23であり;R1がフェニル基であり;R2、R4、R5、R7、R8およびR9が水素原子であり;R6が炭素数1〜3のアルキル基であり;R10が炭素数1〜3のアルキル基であり;QおよびYが酸素原子であるテトラゾリノン化合物。
EがE3であり;R1が1以上のハロゲン原子を有していてもよいフェニル基であり;R2、R4、R5、R7、R8およびR9が水素原子であり;R6が炭素数1〜3のアルキル基または炭素数1〜3のアルコキシ基であり;R10が炭素数1〜3のアルキル基であり;QおよびYが酸素原子であるテトラゾリノン化合物。
EがE3であり;R1が1以上のハロゲン原子を有していてもよいフェニル基であり;R2、R4、R5、R7、R8およびR9が水素原子であり;R6が炭素数1〜3のアルキル基であり;R10が炭素数1〜3のアルキル基であり;QおよびYが酸素原子であるテトラゾリノン化合物。
EがE8であり;R1がフェニル基であり;R0、R2、R4、R5、R7、R8およびR9が水素原子であり;R6が炭素数1〜3のアルキル基であり;R10が炭素数1〜3のアルキル基であり;QおよびYが酸素原子であるテトラゾリノン化合物。
EがE11であり;R1が1以上のハロゲン原子を有していてもよいフェニル基であり;R2、R4、R5、R7、R8およびR9が水素原子であり;R6が炭素数1〜3のアルキル基または炭素数1〜3のアルコキシ基であり;R10が炭素数1〜3のアルキル基であり;QおよびYが酸素原子であるテトラゾリノン化合物。
EがE11であり;R1がフェニル基であり;R2、R4、R5、R7、R8およびR9が水素原子であり;R6が炭素数1〜3のアルキル基または炭素数1〜3のアルコキシ基であり;R10が炭素数1〜3のアルキル基であり;QおよびYが酸素原子であるテトラゾリノン化合物。
本発明化合物は、例えば以下の製造法により製造することができる。
(製造法A)
式(1)で示される本発明化合物(以下、化合物(1)と記す。)は、式(A1)で示される化合物(以下、化合物(A1)と記す。)と式(A2)で示される化合物(以下、化合物(A2)と記す。)とを塩基の存在下で反応させることにより製造することができる。
〔式中、R4、R5、R6、R7、R8、R9、R10、E、QおよびYは前記と同じ意味を表し、Z11は塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、メタンスルホニルオキシ基、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基またはp−トルエンスルホニルオキシ基等の脱離基を表す。〕
該反応は、通常溶媒中で行われる。
該反応に用いられる溶媒としては、例えば、n−ヘプタン、n−ヘキサン、シクロヘキサン、n−ペンタン、トルエン、キシレン等の炭化水素類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン、エチレングリコールジメチルエーテル、アニソール、メチルtert−ブチルエーテル、ジイソプロピルエーテル等のエーテル類、四塩化炭素、クロロホルム、ジクロロメタン、1,2−ジクロロエタン、テトラクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、N,N−ジメチルホルムアミド、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン、N−メチルピロリドン等の酸アミド類、酢酸エチル、酢酸メチル等のエステル類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル類、水およびこれらの混合物が挙げられる。
該反応に用いられる塩基としては、例えばトリエチルアミン、ピリジン、N−メチルモルホリン、N−メチルピペリジン、4−ジメチルアミノピリジン、ジイソプロピルエチルアミン、ルチジン、コリジン、ジアザビシクロウンデセン、ジアザビシクロノネン等の有機塩基、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム等のアルカリ金属炭酸塩、炭酸水素リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素セシウム等のアルカリ金属炭酸水素塩、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化セシウム等のアルカリ金属水酸化物、フッ化ナトリウム、フッ化カリウム、フッ化セシウム等のアルカリ金属ハロゲン化物、水素化リチウム、水素化ナトリウム、水素化カリウム等のアルカリ金属水素化物、ナトリウムtert−ブトキシド、カリウムtert−ブトキシド等のアルカリ金属アルコキシドが挙げられる。
該反応には化合物(A1)1モルに対して、化合物(A2)が通常1〜10モルの割合、塩基が通常0.5〜5モルの割合で用いられる。
該反応の反応温度は通常−20〜150℃の範囲である。該反応の反応時間は通常0.1〜24時間の範囲である。
該反応は、必要に応じてヨウ化ナトリウム、ヨウ化テトラブチルアンモニウムなどを加えてもよく、これらの化合物は通常、化合物(A1)1モルに対して、0.001〜1.2モルの割合で用いられる。
反応終了後は、反応混合物を有機溶媒で抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、化合物(1)を単離することができる。単離された本発明化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
化合物(1)は、式(1−3)で示される化合物(以下、化合物(1−3)と記す。)と式(E1)で示される化合物(以下、化合物(E1)と記す。)とを塩基の存在下反応させることにより製造することができる。
〔式中、R4、R5、R6、R7、R8、R9、R10、E、Q、Z11およびYは前記と同じ意味を表す。〕
該反応は、通常溶媒中で行われる。
該反応に用いられる溶媒としては、例えば、n−ヘプタン、n−ヘキサン、シクロヘキサン、n−ペンタン、トルエン、キシレン等の炭化水素類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン、エチレングリコールジメチルエーテル、アニソール、メチルtert−ブチルエーテル、ジイソプロピルエーテル等のエーテル類、四塩化炭素、クロロホルム、ジクロロメタン、1,2−ジクロロエタン、テトラクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、N,N−ジメチルホルムアミド、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン、N−メチルピロリドン等の酸アミド類、酢酸エチル、酢酸メチル等のエステル類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル類、水およびこれらの混合物が挙げられる。
該反応に用いられる化合物(E1)は、通常市販のものを用いることができる。具体的には、クロロジフルオロメタン、臭化メチル、臭化エチル、臭化プロピル、ヨウ化メチル、ヨウ化エチル、、1,1−ジフルオロ−2−ヨードエタン等のハロゲン化アルキル類、硫酸ジメチル等の硫酸ジアルキル類、p−トルエンスルホン酸メチル、p−トルエンスルホン酸エチル、p−トルエンスルホン酸プロピル、メタンスルホン酸メチル、メタンスルホン酸エチル、メタンスルホン酸プロピル等のスルホン酸エステル等を挙げることができる。
該反応に用いられる塩基としては、例えばトリエチルアミン、ピリジン、N−メチルモルホリン、N−メチルピペリジン、4−ジメチルアミノピリジン、ジイソプロピルエチルアミン、ルチジン、コリジン、ジアザビシクロウンデセン、ジアザビシクロノネン等の有機塩基、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム等のアルカリ金属炭酸塩、炭酸水素リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素セシウム等のアルカリ金属炭酸水素塩、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化セシウム等のアルカリ金属水酸化物、フッ化ナトリウム、フッ化カリウム、フッ化セシウム等のアルカリ金属ハロゲン化物、水素化リチウム、水素化ナトリウム、水素化カリウム等のアルカリ金属水素化物、水素化リチウム、水素化ナトリウム、水素化カリウム等のアルカリ金属水素化物、ナトリウムtert−ブトキシド、カリウムtert−ブトキシド等のアルカリ金属アルコキシドが挙げられる。
該反応には化合物(1−3)1モルに対して、化合物(E1)が通常1〜10モルの割合、塩基が通常1〜10モルの割合で用いられる。
該反応の反応温度は通常−20〜150℃の範囲である。該反応の反応時間は通常0.1〜24時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を有機溶媒で抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、化合物(1)を単離することができる。単離された本発明化合物は、クロマトグラフィ−、再結晶等によりさらに精製することもできる。
化合物(1)のうちYが硫黄原子である化合物(以下、化合物(1−S)と記す。)は、化合物(1)のうちYが酸素原子である化合物(以下、化合物(1−O)と記す。)と硫化剤とを反応させることにより製造することができる。
〔式中、R4、R5、R6、R7、R8、R9、R10、EおよびQは前記と同じ意味を表す。〕
該反応は、通常溶媒中で行われる。
該反応に用いられる溶媒としては、例えば、n−ヘプタン、n−ヘキサン、シクロヘキサン、n−ペンタン、トルエン、キシレン等の炭化水素類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン、エチレングリコールジメチルエーテル、アニソール、メチルtert−ブチルエーテル、ジイソプロピルエーテル等のエーテル類、四塩化炭素、クロロホルム、ジクロロメタン、1,2−ジクロロエタン、テトラクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル類およびこれらの混合物が挙げられる。
該反応に用いられる硫化剤としては五硫化リン、ローソン試薬(2,4−Bis(4−methoxyphenyl)−1,3,2,4−dithiadiphosphetane 2,4−disulfide)が挙げられる。
該反応には、硫化剤が、化合物(1−O)1モルに対して通常0.5〜1.5モルの割合で用いられる。
該反応の反応温度は通常−20〜150℃の範囲である。該反応の反応時間は通常0.1〜24時間の範囲である。
該反応は、必要に応じてピリジンやトリエチルアミンなどの有機塩基、アルカリ金属水酸化物やアルカリ金属炭酸塩などの無機塩基などを加えてもよく、添加する塩基の使用量は化合物(1−O)に対して0.5〜1.5モルである。
反応終了後は、反応混合物を有機溶媒で抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、化合物(1−S)を単離することができる。単離された本発明化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
化合物(1)のうち、R6がR71である式(1−1)で示される化合物(以下、化合物(1−1)と記す。)は、式(F11)で示される化合物(以下、化合物(F11)と記す。)と式(F21)で示される化合物(以下、化合物(F21)と記す。)とを、塩基及び触媒存在下でカップリング反応することにより製造することができる。
〔式中、R4、R5、R7、R8、R9、R10およびXは前記と同じ意味を表し、Z41は塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、またはトリフルオロメタンスルホニルオキシ基を表し、R71はC1−C6のアルキル基、C1−C6のハロアルキル基、C2−C6のアルケニル基、C2−C6のハロアルケニル基、C2−C6のアルキニル基、C2−C6のハロアルキニル基、C3−C6のシクロアルキル基またはC3−C6のハロシクロアルキル基を表し、Z31はB(OH)2、アルコキシボラニル基、またはトリフルオロボレート塩BF3 −K+を表す。〕
該反応は、通常溶媒中で行われる。
該反応に用いられる溶媒としては、例えば、n−ヘプタン、n−ヘキサン、シクロヘキサン、n−ペンタン、トルエン、キシレン等の炭化水素類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン、エチレングリコールジメチルエーテル、アニソール、メチルtert−ブチルエーテル、ジイソプロピルエーテル等のエーテル類、四塩化炭素、クロロホルム、ジクロロメタン、1,2−ジクロロエタン、テトラクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、N,N−ジメチルホルムアミド、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン、N−メチルピロリドン等の酸アミド類、酢酸エチル、酢酸メチル等のエステル類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル類、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール等のアルコール類、水およびこれらの混合物が挙げられる。
該反応に用いられる有機ホウ素化合物(F21)は、通常市販のものを用いるか、N. Miyaura and A. Suzuki, Chem. Rev.,1995,95,2457等の総説に記載された公知の方法により製造したものを用いることもできる。該反応に用いられる有機ホウ素化合物(F21)は、例えば、ヨウ素化合物(R71 −I)またはブロモ化合物(R71 −Br)とブチルリチウムなどのアルキルリチウムとを反応させた後、ホウ酸エステルと反応させることによりボロン酸エステル誘導体を製造することができる。また、前述の反応で得られたボロン酸エステル誘導体を、必要に応じて加水分解することによりボロン酸誘導体を製造することができる。さらに、Molander et al.Acc.Chem.Res.,2007,40,275などの総説に記載された公知の方法に従い、前記ボロン酸エステルをフッ化水素カリウム等でフッ素化することにより、トリフルオロボレート塩BF3 −K+を得ることもできる。
該反応に用いられる触媒としては、酢酸パラジウム(II)、ジクロロビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム、テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム(0)、パラジウム(II)アセテート/トリスシクロヘキシルホスフィン、ビス(ジフェニルホスファンフェロセニル)パラジウム(II)ジクロリド、1,3−ビス(2,6−ジイソプロピルフェニル)イミダゾール−2−イリデン(1,4−ナフトキノン)パラジウムダイマー、アリル(クロロ)(1,3−ジメシチル−1,3−ジヒドロ−2H−イミダゾール−2−イリデン)パラジウムまたはパラジウム(II)アセテート/ジシクロヘキシル(2’,4’,6’−トリイソプロピルビフェニル−2−イル)ホスフィン、トリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム等が挙げられる。
該反応に用いられる塩基としては、トリエチルアミン、ピリジン、N−メチルモルホリン、N−メチルピペリジン、4−ジメチルアミノピリジン、ジイソプロピルエチルアミン、ルチジン、コリジン、ジアザビシクロウンデセン、ジアザビシクロノネン等の有機塩基、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム等のアルカリ金属炭酸塩、炭酸水素リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素セシウム等のアルカリ金属炭酸水素塩、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化セシウム等のアルカリ金属水酸化物、フッ化ナトリウム、フッ化カリウム、フッ化セシウム等のアルカリ金属ハロゲン化物、水素化リチウム、水素化ナトリウム、水素化カリウム等のアルカリ金属水素化物、リン酸三カリウム等のアルカリ金属リン酸塩、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、ナトリウムtert−ブトキシド、カリウムtert−ブトキシドのアルカリ金属アルコキシド等が挙げられる。
該反応には化合物(F11)1モルに対して、化合物(F21)が通常1〜10モルの割合、塩基が通常1〜10モルの割合、触媒が通常0.0001〜1モルの割合で用いられる。
該反応の反応温度は通常0〜150℃の範囲である。該反応の反応時間は通常0.1〜24時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を有機溶媒で抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、化合物(1−1)を単離することができる。単離された本発明化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
〔式中、R4、R5、R6、R8、R9、R10、Z41、Z31およびXは前記と同じ意味を表し、R72はC1−C4アルキル基、C1−C4ハロアルキル基、C3−C5シクロアルキル基またはC3−C5ハロシクロアルキル基を表す。〕
該反応は、製造法Dに準じて実施される。
〔式中、R4、R5、R6、R7、R9、R10、R72、Z41、Z31およびXは前記と同じ意味を表す。〕
該反応は、製造法Dに準じて実施される。
〔式中、R4、R5、R6、R7、R8、R10、R72、Z41、Z31およびXは前記と同じ意味を表す。〕
該反応は、製造法Dに準じて実施される。
製造法Dに準じ、化合物(1)のうちR6、R7、R8およびR9の中から選ばれる2以上の置換基が、各々R71またはR72である化合物を製造することができる。
製造法Dのカップリング反応に代えて、他の公知のカップリング反応を用いることにより、化合物(1)を製造することもできる。
(参考製造法A)
式(XA3)で示される化合物(以下、化合物(XA3)と記す。)は、式(XA1)で示される化合物(以下、化合物(XA1)と記す。)または式(XA2)で示される化合物(以下、化合物(XA2)と記す。)とアジド化剤とを反応させることにより製造することができる。
〔式中、R4、R5、R6、R7、R8、R9、E、QおよびYは前記と同じ意味を表し、R101はP11、P12またはP13を表し、R91はC1−C12アルキル基を表し、Z101は塩素原子または臭素原子を表し、波線は結合部位を表す。〕
該反応は、通常溶媒中で行われる。
該反応に用いられる溶媒としては、例えば、n−ヘプタン、n−ヘキサン、シクロヘキサン、n−ペンタン、トルエン、キシレン等の炭化水素類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン、エチレングリコールジメチルエーテル、アニソール、メチルtert−ブチルエーテル、ジイソプロピルエーテル等のエーテル類、四塩化炭素、クロロホルム、ジクロロメタン、1,2−ジクロロエタン、テトラクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、N,N−ジメチルホルムアミド、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン、N−メチルピロリドン等の酸アミド類、酢酸エチル、酢酸メチル等のエステル類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル類およびこれらの混合物が挙げられる。
該反応に用いられるアジド化剤としては例えばアジ化ナトリウム、アジ化バリウムまたはアジ化リチウム等の無機アジド類、アジ化トリメチルシリル、アジ化ジフェニルホスホリル等の有機アジド類が挙げられる。
該反応には化合物(XA1)または化合物(XA2)1モルに対して、アジド化剤が通常1〜10モルの割合で用いられる。
該反応の反応温度は通常−20〜150℃の範囲である。該反応の反応時間は通常0.1〜24時間の範囲である。
該反応は、必要に応じて、塩化アルミニウムもしくは塩化亜鉛等のルイス酸を加えてもよく、これらの化合物は通常、化合物(XA1)または化合物(XA2)1モルに対して、0.05〜5モルの割合で用いられる。
反応終了後は、反応混合物を有機溶媒で抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、化合物(XA3)を単離することができる。単離された化合物(XA3)は、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
化合物(XA1)は、式(XB1)で示される化合物(以下、化合物(XB1)と記す。)とイソシアナート化剤とを反応させることにより製造することができる。
〔式中、R6、R7、R8、R9、R101およびYは前記と同じ意味を表す。〕
該反応は、通常溶媒中で行われる。
該反応に用いられる溶媒としては、例えば、n−ヘプタン、n−ヘキサン、シクロヘキサン、n−ペンタン、トルエン、キシレン等の炭化水素類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン、エチレングリコールジメチルエーテル、アニソール、メチルtert−ブチルエーテル、ジイソプロピルエーテル等のエーテル類、四塩化炭素、クロロホルム、ジクロロメタン、1,2−ジクロロエタン、テトラクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、酢酸エチル、酢酸メチル等のエステル類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル類およびこれらの混合物が挙げられる。
該反応に用いられるイソシアナート化剤としては、例えば、ホスゲン、ジホスゲン、トリホスゲン、チオホスゲン、N,N−カルボジイミダゾールおよびN,N−チオカルボジイミダゾール等が挙げられる。
該反応には化合物(XB1)1モルに対して、イソシアナート化剤が通常0.34〜10モルの割合で用いられる。
該反応の反応温度は通常−20〜150℃の範囲である。該反応の反応時間は通常0.1〜24時間の範囲である。
該反応は、必要に応じて、トリエチルアミン、ピリジン、N−メチルモルホリン、N−メチルピペリジン、4−ジメチルアミノピリジン、ジイソプロピルエチルアミン、ルチジン、コリジン、ジアザビシクロウンデセン、ジアザビシクロノネン等の有機塩基、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム等のアルカリ金属炭酸塩、炭酸水素リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素セシウム等のアルカリ金属炭酸水素塩等を加えてもよく、これらの化合物は通常、化合物(XB1)1モルに対して、0.05〜5モルの割合で用いられる。
反応終了後は、反応混合物を有機溶媒で抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、化合物(XA1)を単離することができる。さらに蒸留、クロマトグラフィー、再結晶等の操作で精製してもよい。
化合物(XA2)は、式(XC1)で示される化合物(以下、化合物(XC1)と記す。)とハロゲン化剤とを反応させることにより製造することができる。
〔式中、R6、R7、R8、R9、R101およびZ101は前記と同じ意味を表す。〕
該反応は、通常溶媒中で行われる。
該反応に用いられる溶媒としては、例えば、n−ヘプタン、n−ヘキサン、シクロヘキサン、n−ペンタン、トルエン、キシレン等の炭化水素類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン、エチレングリコールジメチルエーテル、アニソール、メチルtert−ブチルエーテル、ジイソプロピルエーテル等のエーテル類、四塩化炭素、クロロホルム、ジクロロメタン、1,2−ジクロロエタン、テトラクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、酢酸エチル、酢酸メチル等のエステル類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル類およびこれらの混合物が挙げられる。
該反応に用いられるハロゲン化剤としては、例えば、オキシ塩化リン、三塩化リン、五塩化リン、塩化チオニル、オキシ臭化リン、三臭化リン、五臭化リン、二塩化オキサリル、二臭化オキサリル、トリホスゲン、ジホスゲン、ホスゲンおよび塩化スルフリル等が挙げられる。
該反応には化合物(XC1)1モルに対して、ハロゲン化剤が通常1〜10モルの割合で用いられる。
該反応の反応温度は通常−20〜150℃の範囲である。該反応の反応時間は通常0.1〜24時間の範囲である。
該反応は、必要に応じて、触媒を加えてもよく、N,N−ジメチルホルムアミド、トリエチルアミン、ピリジン、N−メチルモルホリン、N−メチルピペリジン、4−ジメチルアミノピリジン、ジイソプロピルエチルアミン、ルチジン、コリジン、ジアザビシクロウンデセン、ジアザビシクロノネン等の有機塩基、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム等のアルカリ金属炭酸塩、炭酸水素リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素セシウム等のアルカリ金属炭酸水素塩等を加えてもよく、これらの化合物は通常、化合物(XC1)1モルに対して、0.001〜5モルの割合で用いられる。
反応終了後は、反応混合物を有機溶媒で抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、化合物(XA2)を単離することができる。さらに蒸留、クロマトグラフィー、再結晶等の操作で精製してもよい。
化合物(XA1)は、化合物(XB1)とカーバメート化剤とを反応させて式(XD1)で示される化合物(以下、化合物(XD1)と記す。)を得たのち、化合物(XD1)とイソシアナート化剤とを反応させることにより製造することができる。
〔式中、R6、R7、R8、R9、R101およびYは前記と同じ意味を表し、R111はC1−C12アルキル基またはフェニル基を表す。〕
該反応は、通常溶媒中で行われる。
該反応に用いられる溶媒としては、例えば、n−ヘプタン、n−ヘキサン、シクロヘキサン、n−ペンタン、トルエン、キシレン等の炭化水素類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン、エチレングリコールジメチルエーテル、アニソール、メチルtert−ブチルエーテル、ジイソプロピルエーテル等のエーテル類、四塩化炭素、クロロホルム、ジクロロメタン、1,2−ジクロロエタン、テトラクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、N,N−ジメチルホルムアミド、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン、N−メチルピロリドン等の酸アミド類、酢酸エチル、酢酸メチル等のエステル類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル類、水およびこれらの混合物が挙げられる。
該反応に用いられるカーバメート化剤としては、クロロ炭酸フェニル、クロロ炭酸メチル、クロロ炭酸エチル、クロロ炭酸n−プロピル、クロロ炭酸イソプロピル、クロロ炭酸n−ブチル、クロロ炭酸tert−ブチル、二炭酸ジ−tert−ブチル、二炭酸ジメチル、二炭酸ジエチル、クロロチオぎ酸O−フェニル、クロロチオぎ酸O−メチル、クロロチオぎ酸O−エチル等が挙げられる。
該反応には化合物(XB1)1モルに対して、カーバメート化剤が通常1〜10モルの割合で用いられる。
該反応の反応温度は通常−20〜150℃の範囲である。該反応の反応時間は通常0.1〜24時間の範囲である。
該反応は、必要に応じて、トリエチルアミン、ピリジン、N−メチルモルホリン、N−メチルピペリジン、4−ジメチルアミノピリジン、ジイソプロピルエチルアミン、ルチジン、コリジン、ジアザビシクロウンデセン、ジアザビシクロノネン等の有機塩基、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム等のアルカリ金属炭酸塩、炭酸水素リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素セシウム等のアルカリ金属炭酸水素塩等を加えてもよく、これらの化合物は通常、化合物(XB1)1モルに対して、0.05〜5モルの割合で用いられる。
反応終了後は、反応混合物を有機溶媒で抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、化合物(XD1)を単離することができる。さらに蒸留、クロマトグラフィー、再結晶等の操作で精製してもよい。
該反応は、通常溶媒中で行われる。
該反応に用いられる溶媒としては、例えば、テトラヒドロフラン、ジオキサン、エチレングリコールジメチルエーテル、メチルtert−ブチルエーテル等のエーテル類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、四塩化炭素、クロロホルムまたは1,2−ジクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、アセトニトリル等のニトリル類、N,N−ジメチルホルムアミド、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン、N−メチルピロリドン等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類及びこれらの混合物が挙げられる。
該反応に用いられるイソシアナート化剤としては、例えば、五塩化リン、オキシ塩化リン、五酸化二リン、トリクロロシラン、ジクロロシラン、モノクロロシラン、三塩化ホウ素、2−クロロ−1,3,2−ベンゾジオキサボロール、二ヨウ化シラン、メチルトリクロロシラン、ジメチルジクロロシラン、クロロトリメチルシラン等を用いることができる。
該反応には化合物(XD1)1モルに対して、イソシアナート化剤が通常1〜10モルの割合で用いられる。
該反応の反応温度は通常−20〜250℃の範囲である。該反応の反応時間は通常0.1〜24時間の範囲である。
該反応は、必要に応じて、トリエチルアミン、ピリジン、N−メチルモルホリン、N−メチルピペリジン、4−ジメチルアミノピリジン、ジイソプロピルエチルアミン、ルチジン、コリジン、ジアザビシクロウンデセン、ジアザビシクロノネン等の有機塩基、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム等のアルカリ金属炭酸塩、炭酸水素リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素セシウム等のアルカリ金属炭酸水素塩等を加えてもよく、これらの化合物は通常、化合物(XD1)1モルに対して、0.05〜5モルの割合で用いられる。
反応終了後は、反応混合物を有機溶媒で抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、化合物(XA1)を単離することができる。さらに蒸留、クロマトグラフィー、再結晶等の操作で精製してもよい。
式(XE2)で示される化合物(以下、化合物(XE2)と記す。)は、式(XE1)で示される化合物(以下、化合物(XE1)と記す。)と過剰量の水素とを、触媒存在下で反応させることにより製造することができる。
〔式中、R4、R5、R6、R7、R8、R9、EおよびQは前記と同じ意味を表し、R181は水素原子またはP21を表し、波線は結合部位を表す。〕
該反応は、通常溶媒中で行われる。
該反応に用いられる溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール等のアルコール類、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、四塩化炭素、クロロホルム、ジクロロメタン、1,2−ジクロロエタン、テトラクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン、エチレングリコールジメチルエーテル、アニソール、メチルtert−ブチルエーテル、ジイソプロピルエーテル等のエーテル類、n−ヘプタン、n−ヘキサン、シクロヘキサン、n−ペンタン、トルエン、キシレン等の炭化水素類、水およびこれらの混合物が挙げられる。
該反応に用いられる触媒として、パラジウム担持炭素(Pd/C)、白金担持炭素(Pt/C)、オスミウム担持炭素(Os/C)、ルテニウム担持炭素(Ru/C)、ロジウム担持炭素(Rh/C)、ラネー(登録商標)ニッケル等をあげることができる。
該反応には化合物(XE1)1モルに対して、触媒が通常0.0001〜1モルの割合で用いられる。
該反応の反応温度は通常−20〜150℃の範囲である。該反応の反応時間は通常0.1〜24時間の範囲である。
反応終了後は、触媒を濾過後、有機層を濃縮する等の後処理操作を行うことにより、化合物(XE2)を単離することができる。さらに蒸留、クロマトグラフィー、再結晶等の操作で精製してもよい。
化合物(XE2)は、酸の存在下で化合物(XE1)と還元剤とを反応することにより製造することができる。
〔式中、R4、R5、R6、R7、R8、R9およびR181は前記と同じ意味を表す。〕
該反応は、通常溶媒中で行われる。
該反応に用いられる溶媒としては、例えば、酢酸等の脂肪族カルボン酸類、メタノール、エタノール等のアルコール類、水およびそれらの混合物が挙げられる。
該反応に用いられる還元剤としては、例えば、鉄、スズ、および亜鉛が挙げられる。
該反応に用いられる酸としては、例えば、塩酸、硫酸、酢酸、および塩化アンモニウム水溶液等が挙げられ、通常化合物(XE1)1モルに対して、0.01〜30モルの割合で用いられる。
該反応には化合物(XE1)1モルに対して、還元剤が通常1〜30モルの割合で用いられる。
該反応の反応温度は通常−20〜150℃の範囲である。該反応の反応時間は通常0.1〜24時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を有機溶媒で抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、化合物(XE2)を単離することができる。さらに蒸留、クロマトグラフィー、再結晶等の操作で精製してもよい。
式(XG2)で示される化合物(以下、化合物(XG2)と記す。)は、式(XG1)で示される化合物(以下、化合物(XG1)と記す。)と化合物(E1)とを塩基の存在下反応させることにより製造することができる。
〔式中、R6、R7、R8、R9、R10、YおよびZ11は前記と同じ意味を表し、R191はP11またはP12を表す。〕
該反応は、前記製造法Bに準じて実施することができる。
式(XH2)で示される化合物(以下、化合物(XH2)と記す。)は、式(XH1)で示される化合物(以下、化合物(XH1)と記す。)とハロゲン化剤とを反応させることにより製造することができる。
〔式中、R4、R5、R6、R7、R8、R9、R10よびYは前記と同じ意味を表し、R201はP51またはニトロ基を表す。Z21は、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子を表す。〕
該反応は、通常溶媒中で行われる。
該反応に用いられる溶媒としては、例えば、n−ヘプタン、n−ヘキサン、シクロヘキサン、n−ペンタン、トルエン、キシレン等の炭化水素類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン、エチレングリコールジメチルエーテル、アニソール、メチルtert−ブチルエーテル、ジイソプロピルエーテル等のエーテル類、四塩化炭素、クロロホルム、ジクロロメタン、1,2−ジクロロエタン、テトラクロロエタン、フルオロベンゼン、ジフルオロベンゼン、トリフルオロベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、トリクロロベンゼン、α,α,α−トリフルオロトルエン、α,α,α−トリクロロトルエン等のハロゲン化炭化水素類、酢酸エチル、酢酸メチル等のエステル類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル類およびこれらの混合物が挙げられる。
該反応に用いることができるハロゲン化剤としては、塩素化、臭素化もしくはヨウ素化剤、例えば塩素、臭素、ヨウ素、塩化スルフリル、N−クロロスクシンイミド、N−ブロモスクシンイミド、1,3−ジブロモ−5,5−ジメチルヒダントイン、ヨードスクシンイミド、次亜塩素酸tert−ブチル、N−クロログルタルイミド、N−ブロモグルタルイミド、N−クロロ−N−シクロヘキシル−ベンゼンスルホンイミド、N−ブロモフタルイミド等を挙げることができる。
該反応にはラジカル開始剤を用いることも出来る。
該反応に用いられるラジカル開始剤としては、過酸化ベンゾイル、アゾビスイソブチロニトリル(AIBN)等を挙げることができる。
該反応には化合物(XH1)1モルに対して、ハロゲン化剤が通常1〜10モルの割合、ラジカル開始剤は通常0.01〜5モルの割合で用いられる。
該反応の反応温度は通常−20〜150℃の範囲である。該反応の反応時間は通常0.1〜24時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を有機溶媒で抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、化合物(XH2)を単離することができる。さらに蒸留、クロマトグラフィー、再結晶等の操作で精製してもよい。
式(XJ2)で示される化合物(以下、化合物(XJ2)と記す。)は、化合物(XH2)と式(XJ1)で示される化合物(以下、化合物(XJ1)と記す。)とを反応させることにより製造することができる。
〔式中、R4、R5、R6、R7、R8、R9、R111、R201およびZ21は前記と同じ意味を表し、Mはナトリウム、カリウム、またはリチウムを表す。〕
該反応は、通常溶媒中で行われる。
該反応に用いられる溶媒としては、例えば、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン、エチレングリコールジメチルエーテル、アニソール、メチルtert−ブチルエーテル、ジイソプロピルエーテル等のエーテル類、n−ヘプタン、n−ヘキサン、シクロヘキサン、n−ペンタン、トルエン、キシレン等の炭化水素類、四塩化炭素、クロロホルム、ジクロロメタン、1,2−ジクロロエタン、テトラクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル類、N,N−ジメチルホルムアミド、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン、N−メチルピロリドン等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール等のアルコール類およびこれらの混合物が挙げられる。
該反応に用いることができる化合物(XJ1)としては、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、ナトリウムプロポキシド、ナトリウムブトキシド、ナトリウムイソプロポキシド、ナトリウムsec−ブトキシド、ナトリウムtert−ブトキシド、カリウムメトキシド、カリウムエトキシド、カリウムプロポキシド、カリウムブトキシド、カリウムイソプロポキシド、カリウムsec−ブトキシド、カリウムtert−ブトキシド、ナトリウムフェノキシド等が挙げられる。
該反応には化合物(XH2)1モルに対して、化合物(XJ1)が通常1〜10モルの割合で用いられる。
該反応の反応温度は通常−20〜150℃の範囲である。該反応の反応時間は通常0.1〜24時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を有機溶媒で抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、化合物(XJ2)を単離することができる。さらに蒸留、クロマトグラフィー、再結晶等の操作で精製してもよい。
式(XK1)で示される化合物(以下、化合物(XK1)と記す。)は、化合物(XH2)を塩基の存在下で水と反応させることにより製造することができる。
〔式中R4、R5、R6、R7、R8、R9、R201、およびZ21は前記と同じ意味を表す。〕
該反応は、通常、水中もしくは、水を含む溶媒中で行われる。
該反応に用いられる溶媒としては、例えば、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン、エチレングリコールジメチルエーテル、アニソール、メチルtert−ブチルエーテル、ジイソプロピルエーテル等のエーテル類、n−ヘプタン、n−ヘキサン、シクロヘキサン、n−ペンタン、トルエン、キシレン等の炭化水素類、四塩化炭素、クロロホルム、ジクロロメタン、1,2−ジクロロエタン、テトラクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル類、N,N−ジメチルホルムアミド、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン、N−メチルピロリドン等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール等のアルコール類およびこれらの混合物が挙げられる。
該反応に用いられる塩基としては、例えばトリエチルアミン、ピリジン、N−メチルモルホリン、N−メチルピペリジン、4−ジメチルアミノピリジン、ジイソプロピルエチルアミン、ルチジン、コリジン、ジアザビシクロウンデセン、ジアザビシクロノネン等の有機塩基、ギ酸リチウム、酢酸リチウム、ギ酸ナトリウム、酢酸ナトリウム、ギ酸カリウム、酢酸カリウム等の金属有機酸塩、硝酸銀、硝酸ナトリウム等の金属硝酸塩、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム等のアルカリ金属炭酸塩、炭酸水素リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素セシウム等のアルカリ金属炭酸水素塩、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化セシウム等のアルカリ金属水酸化物、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、ナトリウムtert−ブトキシド、カリウムtert−ブトキシド等のアルカリ金属アルコキシドが挙げられる。
該反応には化合物(XH2)1モルに対して、塩基が通常1〜100モルの割合で用いられる。
該反応には化合物(XH2)1モルに対して、水が通常1モル〜大過剰の割合で用いられる。
該反応の反応温度は通常−20〜150℃の範囲である。該反応の反応時間は通常0.1〜24時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を有機溶媒で抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、化合物(XK1)を単離することができる。さらに蒸留、クロマトグラフィー、再結晶等の操作で精製してもよい。
化合物(XH2)は、化合物(XJ2)とハロゲン化剤とを反応させることにより製造することができる。
〔式中、R4、R5、R6、R7、R8、R9、R111、R201、およびZ21は前記と同じ意味を表す。〕
該反応は、通常溶媒中で行われる。
該反応に用いられる溶媒としては、例えば、n−ヘプタン、n−ヘキサン、シクロヘキサン、n−ペンタン、トルエン、キシレン等の炭化水素類、四塩化炭素、クロロホルム、ジクロロメタン、1,2−ジクロロエタン、テトラクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル類、ギ酸、酢酸、トリフルオロ酢酸等の有機酸類、水およびこれらの混合物が挙げられる。
該反応に用いられるハロゲン化剤としては、例えば、塩酸、臭化水素酸、およびヨウ化水素酸が挙げられる。
該反応には化合物(XJ2)1モルに対して、ハロゲン化剤が通常1モル以上の割合で用いられる。
該反応の反応温度は通常−20〜150℃の範囲である。該反応の反応時間は通常0.1〜24時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を有機溶媒で抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、化合物(XH2)を単離することができる。さらに蒸留、クロマトグラフィー、再結晶等の操作で精製してもよい。
化合物(XH2)は、化合物(XK1)とハロゲン化剤とを反応させることにより製造することができる。
〔式中、R4、R5、R6、R7、R8、R9、R201、およびZ21は前記と同じ意味を表す。〕
該反応は、通常溶媒中で行われる。
該反応に用いられる溶媒としては、例えば、n−ヘプタン、n−ヘキサン、シクロヘキサン、n−ペンタン、トルエン、キシレン等の炭化水素類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン、エチレングリコールジメチルエーテル、アニソール、メチルtert−ブチルエーテル、ジイソプロピルエーテル等のエーテル類、四塩化炭素、クロロホルム、ジクロロメタン、1,2−ジクロロエタン、テトラクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、酢酸エチル、酢酸メチル等のエステル類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル類、ギ酸、酢酸、トリフルオロ酢酸等の有機酸類、水およびこれらの混合物が挙げられる。
該反応に用いられるハロゲン化剤としては、例えば、臭素、塩素、塩化スルフリル、塩酸、臭化水素酸、ヨウ化水素酸、三臭化ホウ素、三臭化リン、塩化トリメチルシリル、臭化トリメチルシリル、ヨウ化トリメチルシリル、塩化チオニル、臭化チオニル、オキシ塩化リン、三塩化リン、五塩化リン、塩化チオニル、オキシ臭化リン、五臭化リン、三ヨウ化リン、二塩化オキサリル、二臭化オキサリル、塩化アセチル、四臭化炭素、N−ブロモスクシンイミド、塩化リチウム、ヨウ化ナトリウム、臭化アセチル等が挙げられる。
該反応には化合物(XK1)1モルに対して、ハロゲン化剤が通常1〜10モルの割合で用いられる。
該反応を進行させるため、使用するハロゲン化剤によっては添加剤を加える必要があり、具体的には、塩化アセチルに対して塩化亜鉛、四臭化炭素に対してトリフェニルホスフィン、N−ブロモスクシンイミドに対してジメチルスルフィド、ヨウ化ナトリウムに対して三フッ化ホウ素ジエチルエーテル錯体、臭化アセチルに対して三フッ化ホウ素ジエチルエーテル錯体、塩化リチウムに対してトリエチルアミン及び塩化メタンスルホニル、ヨウ化ナトリウムに対して塩化アルミニウム、ヨウ化ナトリウムに対して塩化トリメチルシリル等が挙げられる。その使用量はいずれの添加剤も、通常、化合物(XK1)1モルに対して、0.01〜5モルの割合で用いられる。
該反応の反応温度は通常−20〜150℃の範囲である。該反応の反応時間は通常0.1〜24時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を有機溶媒で抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、化合物(XH2)を単離することができる。さらに蒸留、クロマトグラフィー、再結晶等の操作で精製してもよい。
式(XM3)で示される化合物(以下、化合物(XM3)と記す。)は、化合物(XK1)と式(XM2)で示される化合物(以下、化合物(XM2)と記す。)とを塩基の存在下で反応させることにより製造することができる。
〔式中、R4、R5、R6、R7、R8、R9およびR201は前記と同じ意味を表し、R901はC1−C6アルキル基、C1−C6ハロアルキル基、C6−C16アリール基、またはC6−C16ハロアリール基を表し、Z801はフッ素原子、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子を表す。〕
該反応は、通常溶媒中で行われる。
該反応に用いられる溶媒としては、例えば、n−ヘプタン、n−ヘキサン、シクロヘキサン、n−ペンタン、トルエン、キシレン等の炭化水素類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン、エチレングリコールジメチルエーテル、アニソール、メチルtert−ブチルエーテル、ジイソプロピルエーテル等のエーテル類、四塩化炭素、クロロホルム、ジクロロメタン、1,2−ジクロロエタン、テトラクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル類、N,N−ジメチルホルムアミド、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン、N−メチルピロリドン等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類及びこれらの混合物が挙げられる。
該反応に用いられる塩基としては、例えばトリエチルアミン、ピリジン、N−メチルモルホリン、N−メチルピペリジン、4−ジメチルアミノピリジン、ジイソプロピルエチルアミン、ルチジン、コリジン、ジアザビシクロウンデセン、ジアザビシクロノネン等の有機塩基、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム等のアルカリ金属炭酸塩、炭酸水素リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素セシウム等のアルカリ金属炭酸水素塩、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化セシウム等のアルカリ金属水酸化物、水素化リチウム、水素化ナトリウム、水素化カリウム等のアルカリ金属水素化物、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、ナトリウムtert−ブトキシド、カリウムtert−ブトキシド等のアルカリ金属アルコキシドが挙げられる。
化合物(XM2)は、一般に入手可能な化合物である。
該反応には化合物(XK1)1モルに対して、化合物(XM2)が通常1〜10モルの割合、塩基が通常1〜5モルの割合で用いられる。
該反応の反応温度は通常−20〜150℃の範囲である。該反応の反応時間は通常0.1〜24時間の範囲である。
該反応は、必要に応じてヨウ化ナトリウム、ヨウ化テトラブチルアンモニウムなどを加えてもよく、これらの化合物は通常、化合物(XK1)1モルに対して、0.001〜1.2モルの割合で用いられる。
反応終了後は、反応混合物を有機溶媒で抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、化合物(XM3)を単離することができる。さらに蒸留、クロマトグラフィー、再結晶等の操作で精製してもよい。
式(XN12)で示される化合物(以下、化合物(XN12)と記す。)は、式(XN11)で示される化合物(以下、化合物(XN11)と記す。)と化合物(G21)とを塩基及び触媒存在下、カップリング反応に供することにより製造することができる。
〔式中、R501は水素原子またはOR111を表し、R111、R4、R5、R6、R7、R8、R9、Z41、Z31、R71およびYは前記と同じ意味を表す。〕
該反応は、前記製造法Dに準じて実施することができる。
〔式中、R4、R5、R6、R7、R8、R9、R10、R72、R501、X、Z31およびZ41は前記と同じ意味を表す。〕
該反応は、前記製造法Dに準じて実施することができる。
〔式中、R4、R5、R6、R7、R8、R9、R72、R501、Y、Z31およびZ41は前記と同じ意味を表す。〕
該反応は、前記製造法Dに準じて実施することができる。
〔式中、R4、R5、R6、R7、R8、R9、R72、R501、X、Z31およびZ41は前記と同じ意味を表す。〕
該反応は、前記製造法Dに準じて実施することができる。
〔式中、R4、R5、R6、R7、R8、R9、R10、R501およびyは前記と同じ意味を表す。〕
で示される化合物のうちR3、R4、R5、およびR6から選ばれる2以上の置換基がR71および/またはR72である化合物を製造することができる。
さらに、前記製造法Dに記載のカップリング反応に代えて、他の公知のカップリング反応を用いることにより、化合物(XN50)を製造することができる。
式(XW2)で示される化合物(以下、化合物(XW2)と記す。)は、式(XW1)で示される化合物(以下、化合物(XW1)と記す。)を反応促進剤の存在下、式(XW3)で示される化合物(以下、化合物(XW3)と記す。)と反応させることにより製造することができる。
〔式中、R6、R7、R8、R9およびR91は前記と同じ意味を表す。〕
該反応は、通常溶媒中で行われる。
該反応に用いられる溶媒としては、例えば、n−ヘプタン、n−ヘキサン、シクロヘキサン、n−ペンタン、トルエン、キシレン等の炭化水素類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン、エチレングリコールジメチルエーテル、アニソール、メチルtert−ブチルエーテル、ジイソプロピルエーテル等のエーテル類、四塩化炭素、クロロホルム、ジクロロメタン、1,2−ジクロロエタン、テトラクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、N,N−ジメチルホルムアミド、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン、N−メチルピロリドン等の酸アミド類、酢酸エチル、酢酸メチル等のエステル類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル類及びこれらの混合物があげられ、また、化合物(XW3)を溶媒として用いてもよい。
該反応に用いることができる化合物(XW3)としては、例えばメタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、n−ブタノール、sec−ブタノール、tert−ブタノール、n−ペンタノールがあげられる。
該反応に用いられる反応促進剤としては、塩酸、硫酸等の鉱酸類、ジシクロヘキシルカルボジイミド、ジイソプロピルカルボジイミド、N’−(3−ジメチルアミノプロピル)−N−エチルカルボジイミド等のカルボジイミド、メタンスルホン酸、トルエンスルホン酸等の有機酸、トリフェニリルホスフィン/アゾジカルボン酸ジエチル等の光延反応試薬、塩化チオニル、ボロントリフルオリド−エチルエーテル コンプレックス等が挙げられる。
該反応には化合物(XW1)1モルに対して、反応促進剤が通常0.01〜10モルの割合で用いられる。
該反応は、必要に応じて、トリエチルアミン、ピリジン、N−メチルモルホリン、N−メチルピペリジン、4−ジメチルアミノピリジン、ジイソプロピルエチルアミン、ルチジン、コリジン、ジアザビシクロウンデセン、ジアザビシクロノネン等の有機塩基、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム等のアルカリ金属炭酸塩、炭酸水素リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素セシウム等のアルカリ金属炭酸水素塩等を加えてもよく、これらの化合物は通常、化合物(XW1)1モルに対して、0.001〜5モルの割合で用いられる。
該反応には、化合物(XW1)に対して過剰量の化合物(XW3)を用いる。
該反応の反応温度は通常−78〜100℃の範囲である。該反応の反応時間は通常0.1〜24時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を有機溶媒で抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、化合物(XW2)を単離することができる。さらに蒸留、クロマトグラフィー、再結晶等の操作で精製してもよい。
化合物(XW2)は、化合物(XW1)とハロゲン化剤とを反応させ、式(XV1)で示される化合物(以下、化合物(XV1)と記す。)を得た後、化合物(XV1)と化合物(XW3)とを反応させることにより製造することができる。
〔式中、R6、R7、R8、R9、R91およびZ101は前記と同じ意味を表す。〕
化合物(XW1)とハロゲン化剤とを反応させ化合物(XV1)を製造する方法は、参考製造法Cに準じて実施することができる。
該反応は、通常溶媒中で行われる。
該反応に用いられる溶媒としては、例えば、n−ヘプタン、n−ヘキサン、シクロヘキサン、n−ペンタン、トルエン、キシレン等の炭化水素類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン、エチレングリコールジメチルエーテル、アニソール、メチルtert−ブチルエーテル、ジイソプロピルエーテル等のエーテル類、四塩化炭素、クロロホルム、ジクロロメタン、1,2−ジクロロエタン、テトラクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、N,N−ジメチルホルムアミド、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン、N−メチルピロリドン等の酸アミド類、酢酸エチル、酢酸メチル等のエステル類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル類及びこれらの混合物があげられ、化合物(XW3)を溶媒として用いてもよい。
該反応には、化合物(XV1)に対して、過剰量の化合物(XW3)を用いる。
該反応の反応温度は通常−78〜100℃の範囲である。該反応の反応時間は通常0.1〜24時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を有機溶媒で抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、化合物(XW2)を単離することができる。さらに蒸留、クロマトグラフィー、再結晶等の操作で精製してもよい。
化合物(XW2)は、化合物(XW1)とアルキル化剤とを反応させることにより製造することができる。
〔式中、R6、R7、R8、R9およびR91は前記と同じ意味を表す。〕
該反応は、通常溶媒中で行われる。
該反応に用いられる溶媒としては、例えば、n−ヘプタン、n−ヘキサン、シクロヘキサン、n−ペンタン、トルエン、キシレン等の炭化水素類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン、エチレングリコールジメチルエーテル、アニソール、メチルtert−ブチルエーテル、ジイソプロピルエーテル等のエーテル類、四塩化炭素、クロロホルム、ジクロロメタン、1,2−ジクロロエタン、テトラクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、N,N−ジメチルホルムアミド、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン、N−メチルピロリドン等の酸アミド類、酢酸エチル、酢酸メチル等のエステル類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル類、水およびこれらの混合物が挙げられる。
該反応に用いることができるアルキル化剤としては、例えばジアゾメタン、トリメチルシリルジアゾメタン、臭化メチル、臭化エチル、臭化プロピル、ヨウ化メチル、ヨウ化エチル、ヨウ化プロピル、等のハロゲン化アルキル類、硫酸ジメチル、硫酸ジエチル、硫酸ジ−n−プロピル等の硫酸ジアルキル類、p−トルエンスルホン酸メチル、p−トルエンスルホン酸エチル、p−トルエンスルホン酸n−プロピル、メタンスルホン酸メチル、メタンスルホン酸エチル、メタンスルホン酸プロピル等のスルホン酸エステル等を挙げることができる。
該反応には化合物(XW1)1モルに対して、アルキル化剤が通常1〜10モルの割合で用いられる。
該反応は、必要に応じて、トリエチルアミン、ピリジン、N−メチルモルホリン、N−メチルピペリジン、4−ジメチルアミノピリジン、ジイソプロピルエチルアミン、ルチジン、コリジン、ジアザビシクロウンデセン、ジアザビシクロノネン等の有機塩基、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム等のアルカリ金属炭酸塩、炭酸水素リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素セシウム等のアルカリ金属炭酸水素塩、テトラ(n−ブチル)アンモニウムヒドロキシド等の4級アンモニウム塩等を加えてもよく、これらの化合物は通常、化合物(XW1)1モルに対して、0.001〜5モルの割合で用いられる。
該反応の反応温度は通常−78〜100℃の範囲である。該反応の反応時間は通常0.1〜24時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を有機溶媒で抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、化合物(XW2)を単離することができる。さらに蒸留、クロマトグラフィー、再結晶等の操作で精製してもよい。
式(XS2)で示される化合物(以下、化合物(XS2)と記す。)は、式(XS1)で示される化合物(以下、化合物(XS1)と記す。)と化合物(A2)とを塩基の存在下で反応させることにより製造することができる。
〔式中、R4、R5、R6、R7、R8、R9、E、QおよびZ11は前記と同じ意味を表す。〕
該反応は、前記製造法Aに準じて実施することができる。
固体担体としては、例えば、粘土類(例えば、カオリン、珪藻土、合成含水酸化珪素、フバサミクレ−、ベントナイト、酸性白土)、タルク類、その他の無機鉱物(例えば、セリサイト、石英粉末、硫黄粉末、活性炭、炭酸カルシウム、水和シリカ)等の微粉末あるいは粒状物が挙げられ、液体担体としては、例えば、水、アルコール類(例えば、メタノ−ル、エタノ−ル)、ケトン類(例えば、アセトン、メチルエチルケトン)、芳香族炭化水素類(例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、メチルナフタレン)、脂肪族炭化水素類(例えば、n−ヘキサン、シクロヘキサノン、灯油)、エステル類(例えば、酢酸エチル、酢酸ブチル)、ニトリル類(例えば、アセトニトリル、イソブチロニトリル)、エーテル類(例えば、ジオキサン、ジイソプロピルエーテル)、酸アミド類(例えば、DMF、ジメチルアセトアミド)、ハロゲン化炭化水素類(例えば、ジクロロエタン、トリクロロエチレン、四塩化炭素)が挙げられる。
界面活性剤としては、例えばアルキル硫酸エステル類、アルキルスルホン酸塩、アルキルアリールスルホン酸塩、アルキルアリールエーテル類及びそのポリオキシエチレン化物、ポリオキシエチレングリコールエーテル類、多価アルコールエステル類、糖アルコール誘導体が挙げられる。
その他の製剤用補助剤としては、例えば固着剤や分散剤、具体的にはカゼイン、ゼラチン、多糖類(例えば、デンプン、アラビヤガム、セルロース誘導体、アルギン酸)、リグニン誘導体、ベントナイト、糖類、合成水溶性高分子(例えば、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ポリアクリル酸類)、PAP(酸性りん酸イソプロピル)、BHT(2,6−ジ−tert−ブチル−4−メチルフェノール)、BHA(2−tert−ブチル−4−メトキシフェノールと3−tert−ブチル−4−メトキシフェノールとの混合物)、植物油、鉱物油、脂肪酸又はそのエステル等が挙げられる。
本発明化合物を、有害生物の寄生する家畜やペット等の動物に対して処理する場合、その投与量は、投与方法等に応じて広範囲に変えることができるが、一般的には、動物体重1kg当たりの有効成分(本発明化合物またはその塩)が0.1mg〜2000mg、好ましくは0.5mg〜1000mgとなるように投与することが望ましい。
農作物;トウモロコシ、イネ、コムギ、オオムギ、ライムギ、エンバク、ソルガム、ワタ、ダイズ、ピ−ナッツ、ソバ、テンサイ、ナタネ、ヒマワリ、サトウキビ、タバコ等、野菜;ナス科野菜(ナス、トマト、ピ−マン、トウガラシ、ジャガイモ等)、ウリ科野菜(キュウリ、カボチャ、ズッキ−ニ、スイカ、メロン等)、アブラナ科野菜(ダイコン、カブ、セイヨウワサビ、コ−ルラビ、ハクサイ、キャベツ、カラシナ、ブロッコリ−、カリフラワ−等)、キク科野菜(ゴボウ、シュンギク、ア−ティチョ−ク、レタス等)、ユリ科野菜(ネギ、タマネギ、ニンニク、アスパラガス)、セリ科野菜(ニンジン、パセリ、セロリ、アメリカボウフウ等)、アカザ科野菜(ホウレンソウ、フダンソウ等)、シソ科野菜(シソ、ミント、バジル等)、イチゴ、サツマイモ、ヤマノイモ、サトイモ等、花卉、観葉植物、
果樹;仁果類(リンゴ、セイヨウナシ、ニホンナシ、カリン、マルメロ等)、核果類(モモ、スモモ、ネクタリン、ウメ、オウトウ、アンズ、プル−ン等)、カンキツ類(ウンシュウミカン、オレンジ、レモン、ライム、グレ−プフル−ツ等)、堅果類(クリ、クルミ、ハシバミ、ア−モンド、ピスタチオ、カシュ−ナッツ、マカダミアナッツ等)、液果類(ブル−ベリ−、クランベリ−、ブラックベリ−、ラズベリ−等)、ブドウ、カキ、オリ−ブ、ビワ、バナナ、コ−ヒ−、ナツメヤシ、ココヤシ等、
果樹以外の樹;チャ、クワ、花木、街路樹(トネリコ、カバノキ、ハナミズキ、ユ−カリ、イチョウ、ライラック、カエデ、カシ、ポプラ、ハナズオウ、フウ、プラタナス、ケヤキ、クロベ、モミノキ、ツガ、ネズ、マツ、トウヒ、イチイ)等。
上記「植物」には遺伝子組換え作物も含まれる。
双翅目害虫:イエバエ(Musca domestica)、アカイエカ(Culex pipiens pallens)、ウシアブ(Tabanus trigonus)、タマネギバエ(Hylemya antiqua)、タネバエ(Hylemya platura)、シナハマダラカ(Anopheles sinensis)、イネハモグリバエ(Agromyza oryzae)、イネヒメハモグリバエ(Hydrellia griseola)、イネキモグリバエ(Chloropsoryzae)、ウリミバエ(Dacus cucurbitae)、チチュウカイミバエ(Ceratitis capitata)、マメハモグリバエ(Liriomyza trifolii)等。
直翅目害虫:トノサマバッタ(Locusta migratoria)、ケラ(Gryllotalpa africana)、コバネイナゴ(Oxya yezoensis)、ハネナガイナゴ(Oxya japonica)等。
膜翅目害虫:カブラハバチ(Athalia rosae)、ハキリアリ(Acromyrmex spp.)、ファイヤーアント(Solenopsis spp.)等。
ゴキブリ目害虫:チャバネゴキブリ(Blattella germanica)、クロゴキブリ(Periplaneta fuliginosa)、ワモンゴキブリ(Periplaneta americana)、トビイロゴキブリ(Periplaneta brunnea)、トウヨウゴキブリ(Blatta orientalis)等。
ダニ目害虫:ナミハダニ(Tetranychus urticae)、ミカンハダニ(Panonychus citri)、オリゴニカス属等のハダニ類、ミカンサビダニ(Aculops pelekassi)等のフシダニ類、チャノホコリダニ(Polyphagotarsonemus latus)等のホコリダニ類、ヒメハダニ類、ケナガハダニ類、ケナガコナダニ(Tyrophagus putrescentiae)等のコナダニ類、コナヒョウヒダニ(Dermatophagoides farinae)、ヤケヒョウヒダニ(Dermatophagoidesptrenyssnus)等のヒョウヒダニ類、ホソツメダニ(Cheyletuseruditus)、クワガタツメダニ(Cheyletus malaccensis)、ミナミツメダニ(Cheyletus moorei)等のツメダニ類、ワクモ類等。
まず、製造例を示す。
製造例1
1−(2−ブロモメチル−3−メトキシフェニル)−4−メチル−1,4−ジヒドロ−テトラゾール−5−オン 1mmol(0.3g)、3−(2−クロロフェニル)−1−メチル−1H−ピラゾール−5−オール 1mmol(0.2g)、炭酸カリウム 1.3mmol(0.18g)およびアセトニトリル20mlの混合物を加熱還流下7時間攪拌した。該反応混合物を室温まで冷却し、ろ過し、ろ液を減圧濃縮し、シリカゲルクロマトグラフィーに付し、1−{2−[5−(2−クロロフェニル)−2−メチル−2H−ピラゾール−3−イルオキシメチル]−3−メトキシフェニル}−4−メチル−1,4−ジヒドロ−テトラゾール−5−オン(以下、本発明化合物1と記す。)0.25g得た。
1H−NMR(CDCl3)δ:7.76(1H,dd,J=7.6,1.7Hz),7.50(1H,t,J=8.2Hz),7.40(1H,dd,J=7.9,1.3Hz),7.29−7.19(2H,m),7.10(1H,d,J=8.5Hz),7.07(1H,d,J=8.0Hz),6.13(1H,s),5.31(2H,s),3.94(3H,s),3.65(3H,s),3.54(3H,s).
製造例1の3−(2−クロロフェニル)−1−メチル−1H−ピラゾール−5−オールを3−(3−クロロフェニル)−1−メチル−1H−ピラゾール−5−オールに替えて同様の反応を実施することにより、本発明化合物2を得た。
製造例1の3−(2−クロロフェニル)−1−メチル−1H−ピラゾール−5−オールを3−(4−クロロフェニル)−1−メチル−1H−ピラゾール−5−オールに替えて同様の反応を実施することにより、本発明化合物3を得た。
製造例1の3−(2−クロロフェニル)−1−メチル−1H−ピラゾール−5−オールと1−(2−ブロモメチル−3−メトキシフェニル)−4−メチル−1,4−ジヒドロ−テトラゾール−5−オンをそれぞれ、3−(4−クロロフェニル)−1−メチル−1H−ピラゾール−5−オールと1−(2−ブロモメチル−3−メチルフェニル)−4−メチル−1,4−ジヒドロテトラゾール−5−オンに替えて同様の反応を実施することにより、本発明化合物4を得た。
製造例1の3−(2−クロロフェニル)−1−メチル−1H−ピラゾール−5−オールを3−(3−クロロフェニル)−1−エチル−1H−ピラゾール−5−オールに替えて同様の反応を実施することにより、本発明化合物5を得た。
製造例1の3−(2−クロロフェニル)−1−メチル−1H−ピラゾール−5−オールと1−(2−ブロモメチル−3−メトキシフェニル)−4−メチル−1,4−ジヒドロ−テトラゾール−5−オンをそれぞれ、3−(3−クロロフェニル)−1−エチル−1H−ピラゾール−5−オールと1−(2−ブロモメチル−3−メチルフェニル)−4−メチル−1,4−ジヒドロテトラゾール−5−オンに替えて同様の反応を実施することにより、本発明化合物6を得た。
製造例1の3−(2−クロロフェニル)−1−メチル−1H−ピラゾール−5−オールを3−(4−クロロフェニル)−1,4−ジメチル−1H−ピラゾール−5−オールに替えて同様の反応を実施することにより、本発明化合物7を得た。
製造例1の3−(2−クロロフェニル)−1−メチル−1H−ピラゾール−5−オールと1−(2−ブロモメチル−3−メトキシフェニル)−4−メチル−1,4−ジヒドロ−テトラゾール−5−オンをそれぞれ、3−フェニル−1,4−ジメチル−1H−ピラゾール−5−オールと1−(2−ブロモメチル−3−メチルフェニル)−4−メチル−1,4−ジヒドロテトラゾール−5−オンに替えて同様の反応を実施することにより、本発明化合物8を得た。
製造例1の3−(2−クロロフェニル)−1−メチル−1H−ピラゾール−5−オールと1−(2−ブロモメチル−3−メトキシフェニル)−4−メチル−1,4−ジヒドロ−テトラゾール−5−オンをそれぞれ、3−(4−クロロフェニル)−1−エチル−1H−ピラゾール−4−オールと1−(2−ブロモメチル−3−メチルフェニル)−4−メチル−1,4−ジヒドロテトラゾール−5−オンに替えて同様の反応を実施することにより、本発明化合物9を得た。
製造例1の3−(2−クロロフェニル)−1−メチル−1H−ピラゾール−5−オールと1−(2−ブロモメチル−3−メトキシフェニル)−4−メチル−1,4−ジヒドロ−テトラゾール−5−オンをそれぞれ、2−フェニルチアゾール−4−オンと1−(2−ブロモメチル−3−メチルフェニル)−4−メチル−1,4−ジヒドロテトラゾール−5−オンに替えて同様の反応を実施することにより、本発明化合物10を得た。
製造例1の3−(2−クロロフェニル)−1−メチル−1H−ピラゾール−5−オールと1−(2−ブロモメチル−3−メトキシフェニル)−4−メチル−1,4−ジヒドロ−テトラゾール−5−オンをそれぞれ、1−メチル−4−(4−クロロフェニル)−1,3−ジヒドロイミダゾール−2−オンと1−(2−ブロモメチル−3−メチルフェニル)−4−メチル−1,4−ジヒドロテトラゾール−5−オンに替えて同様の反応を実施することにより、本発明化合物11を得た。
1H−NMR(CDCl3)δ:7.44(1H,t,J=8.2Hz),7.37−7.28(3H,m),7.07(1H,d,J=8.0Hz),7.02(1H,d,J=8.0Hz),6.69(2H,d,J=3.6Hz),5.33(2H,s),3.92(3H,s),3.67(3H,s),1.88(3H,s).
本発明化合物3
1H−NMR(CDCl3)δ:7.67−7.63(2H,m),7.51(1H,t,J=8.2Hz),7.33(2H,dt,J=8.8,2.2Hz),7.11(1H,d,J=8.5Hz),7.09−7.07(1H,m),5.84(1H,s),5.29(2H,s),3.94(3H,s),3.62(3H,s),3.52(3H,s).
本発明化合物4
1H−NMR(CDCl3)δ:1H−NMR(CDCl3)δ:7.67−7.64(2H,m),7.49−7.42(2H,m),7.36−7.29(3H,m),5.80(1H,s),5.14(2H,s),3.64(3H,s),3.58(3H,s),2.53(3H,s).
本発明化合物5
1H−NMR(CDCl3)δ:1H−NMR(CDCl3)δ:7.74(1H,t,J=1.7Hz),7.61−7.59(1H,m),7.52(1H,t,J=8.2Hz),7.31−7.22(2H,m),7.11(1H,d,J=8.5Hz),7.09(1H,d,J=8.0Hz),5.85(1H,s),5.28(2H,s),3.94(3H,s),3.88(2H,q,J=7.2Hz),3.63(3H,s),1.29(3H,t,J=7.2Hz).
本発明化合物6
1H−NMR(CDCl3)δ:7.75(1H,t,J=1.8Hz),7.61(1H,dt,J=7.6,1.5Hz),7.49−7.42(2H,m),7.32−7.23(3H,m),5.82(1H,s),5.13(2H,s),3.94(2H,q,J=7.2Hz),3.65(3H,s),2.53(3H,s),1.32(3H,t,J=7.2Hz).
本発明化合物7
1H−NMR(CDCl3)δ:7.57−7.50(3H,m),7.37−7.34(2H,m),7.09(2H,dd,J=8.2,1.9Hz),5.23(2H,s),3.88(3H,s),3.63(3H,s),3.51(3H,s),1.96(3H,s).
本発明化合物8
1H−NMR(CDCl3)δ:7.46−7.36(5H,m),7.28−7.24(3H,m),5.28(2H,s),3.69(3H,s),3.57(3H,s),2.58(3H,s),1.75(3H,s).
本発明化合物9
1H−NMR(CDCl3)δ:7.56−7.52(2H,m),7.49(1H,d,J=1.0Hz),7.44−7.37(5H,m),7.28−7.26(1H,m),4.99(2H,s),3.66(3H,s),2.51(3H,s).
本発明化合物10
1H−NMR(CDCl3)δ:7.90−7.87(2H,m),7.42−7.38(5H,m),7.26−7.23(1H,m),6.11(1H,s),5.35(2H,s),3.59(3H,s),2.57(3H,s).
本発明化合物11
1H−NMR(CDCl3)δ:7.57(2H,dt,J=8.8,2.1Hz),7.39−7.44(2H,m),7.29(2H,dt,J=8.9,2.2Hz),7.24(1H,dd,J=6.0,3.1Hz),6.74(1H,s),5.50(2H,s),3.57(3H,s),3.30(3H,s),2.60(3H,s).
5−{[2−(4,5−ジヒドロ−4−メチル−5−オキソ−1H−テトラゾール−1−イル)−6−メチルフェニル]メチルオキシ}−3−ブロモ−1,2,4−チアジアゾール0.85g、4−クロロフェニルボロン酸0.36g、[1,1’−ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセン]パラジウム(II)ジクロリド ジクロロメタン付加物0.19g、炭酸カリウム0.63、ジメトキシエタン10mL、水1mLの混合物を加熱還流で5時間加熱した。反応混合物に飽和重曹水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水および飽和重曹水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、1−(2−{[3−(4−クロロフェニル)−1,2,4−チアジアゾール−5−イル]オキシメチル}−3−メチルフェニル)−4−メチル−1,4−ジヒドロテトラゾール−5−オン(以下、本発明化合物12と記す。)0.07gを得た。
1H−NMR(CDCl3)δ:2.58(3H,s),3.63(3H,s),5.67(2H,s),7.30(1H,dd,J=7.5,1.6Hz),7.41−7.43(3H,m),7.47(1H,t,J=7.6Hz),8.09(2H,dt,J=9.0,2.2Hz).
トリフェニルホスフィン1.97g、テトラヒドロフラン20mLの混合物に氷冷下、アゾジカルボン酸ジエチル (40%トルエン溶液)3.4mLを加えた。氷冷下、更に10分間撹拌後、1−(2−(ヒドロキシメチル)−3−メチルフェニル)−4−メチル−1,4−ジヒドロテトラゾール−5−オン1.10g加えた。氷冷下、更に10分間撹拌後、2(5H)−チオフェノン0.75g加え、室温で5時間撹拌した。反応混合物に飽和重曹水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水および飽和重曹水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、1−[2−(チオフェン−2−イルオキシメチル)−3−メチルフェニル]−4−メチル−1,4−ジヒドロテトラゾール−5−オン(以下、本発明化合物13と記す。)0.60g得た。
1H−NMR(CDCl3)δ:2.51(3H,s),3.68(3H,s),5.08(2H,s),6.20(1H,dd,J=3.8,1.5Hz),6.55(1H,dd,J=5.7,1.6Hz),6.67(1H,dd,J=5.8,3.8Hz),7.27−7.28(1H,m),7.38(1H,dd,J=7.7,1.5Hz),7.42(1H,t,J=7.6Hz).
1−[2−(チオフェン−2−イルオキシメチル)−3−メチルフェニル]−4−メチル−1,4−ジヒドロテトラゾール−5−オン0.60g、クロロホルム10mLの混合物に氷冷下N−ブロモスクシンイミド0.35gを加えた。氷冷下1時間撹拌した後、反応混合物に飽和重曹水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水および飽和重曹水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、減圧下濃縮し、1−[2−(5−ブロモチオフェン−2−イルオキシメチル)−3−メチルフェニル]−4−メチル−1,4−ジヒドロテトラゾール−5−オン(以下、本発明化合物14と記す。)0.68g得た。
1H−NMR(CDCl3)δ:2.49(3H,s),3.70(3H,s),5.05(2H,s),5.97(1H,d,J=3.9Hz),6.65(1H,d,J=4.1Hz),7.27−7.28(1H,m),7.39(1H,d,J=6.6Hz),7.43(1H,t,J=7.6Hz).
1−[2−(5−ブロモチオフェン−2−イルオキシメチル)−3−メチルフェニル]−4−メチル−1,4−ジヒドロテトラゾール−5−オン0.34g、4−クロロフェニルボロン酸0.18g、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム0.10g、炭酸ナトリウム0.26、ジメトキシエタン5mL、水5mLの混合物を100℃で5時間加熱した。反応混合物に飽和重曹水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水および飽和重曹水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、1−{2−[5−(4−クロロフェニル)チオフェン−2−イルオキシメチル]−3−メチルフェニル}−4−メチル−1,4−ジヒドロテトラゾール−5−オン(以下、本発明化合物15と記す。)0.19g得た。
1H−NMR(CDCl3)δ:2.53(3H,s),3.67(3H,s),5.12(2H,s),6.18(1H,d,J=3.9Hz),6.89(1H,d,J=4.1Hz),7.26−7.30(3H,m),7.39−7.42(4H,m).
4−(2−メトキシフェニル)−4−オキサゾリン−2−オン0.11g、1−(2−ブロモメチル−3−メチルフェニル)−4−メチル−1,4−ジヒドロテトラゾール−5−オン0.16g、炭酸カリウム0.16gおよびN,N−ジメチルホルムアミド5mLの混合物を室温下3時間攪拌した。反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下に濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、1−(2−{[4−(2−メトキシフェニル)−1,3−オキサゾール−2−イルオキシ]メチル}−3−メチルフェニル)−4−メチル−1,4−ジヒドロテトラゾール−5−オン(以下、本発明化合物16と記す。)0.05gを得た。
1H−NMR(CDCl3)δ:7.97−7.95(1H,m),7.68(1H,s),7.59−7.57(1H,m),7.41−7.38(2H,m),7.28−7.25(1H,m),7.07−7.03(1H,m),6.93−6.91(1H,m),5.56(2H,s),3.91(3H,s),3.62(3H,s),2.59(3H,s).
製造例16の4−(2−メトキシフェニル)−4−オキサゾリン−2−オンを4−(4−クロロフェニル)−4−オキサゾリン−2−オンに替えて同様の反応を実施することにより、1−(2−{[4−(4−クロロフェニル)−1,3−オキサゾール−2−イルオキシ]メチル}−3−メチルフェニル)−4−メチル−1,4−ジヒドロテトラゾール−5−オン(以下、本発明化合物17と記す。)を得た。
1H−NMR(CDCl3)δ:7.55(2H,d,J=8.7Hz),7.44−7.40(3H,m),7.34(2H,d,J=8.7Hz),7.29−7.26(1H,m),5.54(2H,s),3.63(3H,s),2.58(3H,s).
製造例16の4−(2−メトキシフェニル)−4−オキサゾリン−2−オンを4−(4−メトキシフェニル)−4−オキサゾリン−2−オンに替えて同様の反応を実施することにより、1−(2−{[4−(4−メトキシフェニル)−1,3−オキサゾール−2−イルオキシ]メチル}−3−メチルフェニル)−4−メチル−1,4−ジヒドロテトラゾール−5−オン(以下、本発明化合物18と記す。)を得た。
1H−NMR(CDCl3)δ:7.55(2H,d,J=8.8Hz),7.43−7.39(2H,m),7.35(1H,s),7.28−7.25(1H,m),6.91(2H,d,J=8.8Hz),5.54(2H,s),3.82(3H,s),3.61(3H,s),2.58(3H,s).
製造例16の4−(2−メトキシフェニル)−4−オキサゾリン−2−オンを4−(3−クロロフェニル)−4−オキサゾリン−2−オンに替えて同様の反応を実施することにより、1−(2−{[4−(3−クロロフェニル)−1,3−オキサゾール−2−イルオキシ]メチル}−3−メチルフェニル)−4−メチル−1,4−ジヒドロテトラゾール−5−オン(以下、本発明化合物19と記す。)を得た。
1H−NMR(CDCl3)δ:7.62−7.60(1H,m),7.46−7.45(1H,m),7.40−7.38(1H,m),7.34−7.32(3H,m),7.26−7.24(1H,m),7.22−7.20(1H,m),5.55(2H,s),3.63(3H,s),2.57(3H,s).
製造例16の4−(2−メトキシフェニル)−4−オキサゾリン−2−オンを4−フェニル−4−オキサゾリン−2−オンに替えて同様の反応を実施することにより、1−{2−[(4−フェニル−1,3−オキサゾール−2−イルオキシ)メチル]−3−メチルフェニル}−4−メチル−1,4−ジヒドロテトラゾール−5−オン(以下、本発明化合物20と記す。)を得た。
1H−NMR(CDCl3)δ:7.62−7.60(2H,m),7.43(1H,s),7.38−7.34(4H,m),7.27−7.24(2H,m),5.55(2H,s),3.58(3H,s),2.56(3H,s).
製造例16の4−(2−メトキシフェニル)−4−オキサゾリン−2−オンを4−(4−シアノフェニル)−4−オキサゾリン−2−オンに替えて同様の反応を実施することにより、1−(2−{[4−(4−シアノフェニル)−1,3−オキサゾール−2−イルオキシ]メチル}−3−メチルフェニル)−4−メチル−1,4−ジヒドロテトラゾール−5−オン(以下、本発明化合物21と記す。)を得た。
1H−NMR(CDCl3)δ:7.72(2H,d,J=8.7Hz),7.65(2H,d,J=8.7Hz),7.56(1H,s),7.44−7.40(2H,m),7.30−7.27(1H,m),5.55(2H,s),3.65(3H,s),2.59(3H,s).
4−フェニル−4−オキサゾリン−2−チオン0.4g、1−(2−ブロモメチル−3−メチル−フェニル)−4−メチル−1,4−ジヒドロテトラゾール−5−オン0.58g、炭酸カリウム0.62gおよびN,N−ジメチルホルムアミド10mLの混合物を室温下2時間攪拌した。反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下に濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、1−{2−[(4−フェニル−1,3−オキサゾール−2−イルチオ)メチル]−3−メチルフェニル}−4−メチル−1,4−ジヒドロテトラゾール−5−オン(以下、本発明化合物22と記す。)0.58gを得た。
1H−NMR(CDCl3)δ:7.86(1H,s),7.70−7.67(2H,m),7.41−7.37(2H,m),7.33−7.29(3H,m),7.21−7.19(1H,m),4.58(2H,s),3.54(3H,s),2.52(3H,s).
製造例22の4−フェニル−4−オキサゾリン−2−チオンを4−(4−クロロフェニル)−4−オキサゾリン−2−チオンに替えて同様の反応を実施することにより、1−(2−{[4−(4−クロロフェニル)−1,3−オキサゾール−2−イルチオ]メチル}−3−メチルフェニル)−4−メチル−1,4−ジヒドロテトラゾール−5−オン(以下、本発明化合物23と記す。)を得た。
1H−NMR(CDCl3)δ:7.85(1H,s),7.61(2H,d,J=8.4Hz),7.36−7.32(4H,m),7.21−7.19(1H,m),4.56(2H,s),3.57(3H,s),2.52(3H,s).
製造例22の4−フェニル−4−オキサゾリン−2−チオンを4−(3−クロロフェニル)−4−オキサゾリン−2−チオンに替えて同様の反応を実施することにより、1−(2−{[4−(3−クロロフェニル)−1,3−オキサゾール−2−イルチオ]メチル}−3−メチルフェニル)−4−メチル−1,4−ジヒドロテトラゾール−5−オン(以下、本発明化合物24と記す。)を得た。
1H−NMR(CDCl3)δ:7.88(1H,s),7.70−7.69(1H,m),7.57−7.55(1H,m),7.37−7.27(4H,m),7.23−7.21(1H,m),4.57(2H,s),3.62(3H,s),2.56(3H,s).
5−(4−クロロフェニル)−1,2−ジヒドロ−1−メチル−3H−ピラゾール−3−オン(CN102584705A号に記載の方法に従って合成)1.05g、1−(2−ブロモメチル−3−メチルフェニル)−4−メチル−1,4−ジヒドロテトラゾール−5−オン1.35g、炭酸カリウム1.34gおよびアセトニトリル20mLの混合物を加熱還流下3時間攪拌した。放冷した反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下に濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、1−(2−{[1−メチル−5−(4−クロロフェニル)−1H−ピラゾール−3−イルオキシ]メチル}−3−メチルフェニル)−4−メチル−1,4−ジヒドロテトラゾール−5−オン(以下、本発明化合物25と記す。)1.48gを得た。
1H−NMR(CDCl3)δ:7.39−7.36(4H,m),7.29−7.25(3H,m),5.62(1H,s),5.22(2H,s),3.68(3H,s),3.65(3H,s),2.55(3H,s).
1−{2−[4−ブロモ−1,3−チアゾール−2−イルオキシメチル]−3−メチルフェニル}−4−メチル−1,4−ジヒドロテトラゾール−5−オン0.30g、フェニルボロン酸0.11g、リン酸三カリウム0.34g、水0.5mL、[1,1’−ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセン]パラジウム(II)ジクロリド ジクロロメタン付加物0.07gおよび1,2−ジメトキシエタン5mLの混合物を加熱還流下1時間攪拌した。冷却後、反応液をセライトでろ過し、ろ液を減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、1−{2−[(4−フェニル−1,3−チアゾール−2−イルオキシ)メチル]−3−メチルフェニル}−4−メチル−1,4−ジヒドロテトラゾール−5−オン(以下、本発明化合物26と記す。)0.21gを得た。
1H−NMR(CDCl3)δ:7.41−7.38(4H,m),7.34−7.31(2H,m),7.29−7.24(3H,m),5.49(2H,s),3.69(3H,s),2.54(3H,s).
製造例26のフェニルボロン酸を2−メトキシフェニルボロン酸に替えて同様の反応を実施することにより、1−(2−{[4−(2−メトキシフェニル)−1,3−チアゾール−2−イルオキシ]メチル}−3−メチルフェニル)−4−メチル−1,4−ジヒドロテトラゾール−5−オン(以下、本発明化合物27と記す。)を得た。
1H−NMR(CDCl3)δ:7.48−7.44(2H,m),7.41−7.36(2H,m),7.28−7.20(2H,m),6.97−6.90(2H,m),5.49(2H,s),3.86(3H,s),3.68(3H,s),2.53(3H,s).
製造例26のフェニルボロン酸を4−メトキシフェニルボロン酸に替えて同様の反応を実施することにより、1−(2−{[4−(4−メトキシフェニル)−1,3−チアゾール−2−イルオキシ]メチル}−3−メチルフェニル)−4−メチル−1,4−ジヒドロテトラゾール−5−オン(以下、本発明化合物28と記す。)を得た。
1H−NMR(CDCl3)δ:7.41−7.37(2H,m),7.31(2H,d,J=8.9Hz),7.28−7.26(1H,m),7.11(1H,s),6.86(2H,d,J=8.9Hz),5.47(2H,s),3.79(3H,s),3.68(3H,s),2.53(3H,s).
5−(4−クロロフェニル)−1,2−ジヒドロ−1,4−ジメチル−3H−ピラゾール−3−オン(国際公開第CN102584705A号に記載の方法に従って合成)0.4g、1−(2−ブロモメチル−3−メチルフェニル)−4−メチル−1,4−ジヒドロ−テトラゾール−5−オン0.51g、炭酸カリウム0.5gおよびアセトニトリル10mLの混合物を加熱還流下3時間攪拌した。放冷した反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下に濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、1−(2−{[1,4−ジメチル−5−(4−クロロフェニル)−1H−ピラゾール−3−イルオキシ]メチル}−3−メチルフェニル)−4−メチル−1,4−ジヒドロテトラゾール−5−オン(以下、本発明化合物29と記す。)0.6gを得た。
1H−NMR(CDCl3)δ:7.43−7.37(4H,m),7.26−7.23(1H,m),7.20(2H,d,J=8.6Hz),5.28(2H,s),3.69(3H,s),3.55(3H,s),2.58(3H,s),1.73(3H,s).
5−(4−クロロフェニル)−1,3,4−チアジアゾール−2−オン0.19g、1−(2−ブロモメチル−3−メチルフェニル)−4−メチル−1,4−ジヒドロ−テトラゾール−5−オン0.23g、炭酸カリウム0.24gおよびアセトニトリル10mLの混合物を加熱還流下3時間攪拌した。放冷した反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下に濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、1−(2−{[5−(4−クロロフェニル)−1,3,4−チアジアゾール−2−イルオキシ]メチル}−3−メチルフェニル)−4−メチル−1,4−ジヒドロテトラゾール−5−オン(以下、本発明化合物30と記す。)0.3gを得た。
1H−NMR(CDCl3)δ:7.65(2H,d,J=8.6Hz),7.42−7.37(4H,m),7.25−7.23(1H,m),5.06(2H,s),3.74(3H,s),2.66(3H,s).
参考製造例1
1−ブロモ−2−メチル−3−アミノベンゼン25.0g、トリホスゲン60.0gおよびトルエン400mlの混合物を加熱還流下3時間攪拌した。放冷した反応混合物を減圧下濃縮し、1−ブロモ−3−イソシアナト−2−メチルベンゼン30.3gを得た。
1H−NMR(CDCl3)δ(ppm):2.42(3H,s),7.00(1H,dt,J=0.5,8.0Hz),7.05(1H,dd,J=1.7,8.0Hz),7.39(1H,dd,J=1.5,7.7Hz).
3−アミノ−1−メトキシ−2−メチルベンゼン15.0g、トリホスゲン48.7gおよびトルエン350mlの混合物を加熱還流下3時間攪拌した。放冷した反応混合物を減圧下濃縮し、1−メトキシ−3−イソシアナト−2−メチルベンゼン17.0gを得た。
1H−NMR(CDCl3)δ(ppm):2.19(3H,s),3.82(3H,s),6.69(1H,d,J=8.2Hz),6.72(1H,dd,J=0.5,8.0Hz),7.09(1H,t,J=8.2Hz).
無水塩化アルミニウム21.9gを氷冷下、N,N−ジメチルホルムアミド250mLに加え、15分攪拌した。ここにアジ化ナトリウム10.7gを加え、15分攪拌した後、1−クロロ−3−イソシアナト−2−メチルベンゼン25.0gを加え、80℃で5時間加熱した。冷却後、反応液を亜硝酸ナトリウム35g、水2Lおよび氷500gの混合物中に攪拌しながら加えた。混合物を10%塩酸で酸性とした後、酢酸エチルで抽出した。有機層を水および飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下に濃縮し、1−(2−メチル−3−クロロフェニル)−1,4−ジヒドロテトラゾール−5−オン17.0gを得た。
1H−NMR(CDCl3)δ(ppm):2.32(3H,s),7.28−7.36(2H,m),7.57(1H,dd,J=6.8,2.2Hz),13.08(1H,s).
参考製造例3に記載の1−(2−メチル−3−クロロフェニル)−1,4−ジヒドロテトラゾール−5−オン10.00gおよびN,N−ジメチルホルムアミド100mLの混合物に、氷冷下、60%水素化ナトリウム2.30gを加えた。混合物を室温に昇温し、1時間攪拌した。反応混合物に氷冷下、ヨウ化メチル3.2mLを加えた。混合物を室温に昇温し、14時間攪拌した。反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を10%塩酸、水および飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下に濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、1−(2−メチル−3−クロロフェニル)−4−メチル−1,4−ジヒドロテトラゾール−5−オン1.56gを得た。
1H−NMR(CDCl3)δ(ppm):2.30(3H,s),3.73(3H,s),7.27(1H,d,J=2.7Hz),7.28(1H,d,J=7.1Hz),7.52(1H,dd,J=2.7,6.8Hz).
参考製造例4に記載の1−(2−メチル−3−クロロフェニル)−4−メチル−1,4−ジヒドロテトラゾール−5−オン1.56g、1,1’−アゾビス(シクロヘキサン−1−カルボニトリル)0.34g、N−ブロモスクシンイミド1.42gおよびクロロベンゼン30mLの混合物を加熱還流下5時間攪拌した。冷却後、反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水および飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下に濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、1−(2−ブロモメチル−3−クロロフェニル)−4−メチル−1,4−ジヒドロテトラゾール−5−オン1.94gを得た。
1H−NMR(CDCl3)δ(ppm):3.76(3H,s),4.69(2H,s),7.35(1H,dd,J=1.2,8.1Hz),7.43(1H,t,J=8.1Hz),7.58(1H,dd,J=1.2,8.1Hz).
無水塩化アルミニウム16.0gを氷冷下、N,N−ジメチルホルムアミド180mLに加え、15分攪拌した。ここにアジ化ナトリウム7.8gを加え、15分攪拌した後、参考製造例4に記載の1−メトキシ−3−イソシアナト−2−メチルベンゼン17.0gを加え、80℃で4.5時間加熱した。冷却後、反応液を亜硝酸ナトリウム25g、水2Lおよび氷500gの混合物中に攪拌しながら加えた。混合物を10%塩酸で酸性とした後、酢酸エチルで抽出した。有機層を水および飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下に濃縮し、1−(2−メチル−3−メトキシフェニル)−1,4−ジヒドロテトラゾール−5−オン16.2gを得た。
1H−NMR(DMSO−d6)δ(ppm):1.99(3H,s),3.87(3H,s),7.01(1H,d,J=8.1Hz),7.17(1H,d,J=8.1Hz).7.36(1H,t,J=8.3Hz),14.63(1H,s).
参考製造例6に記載の1−(2−メチル−3−メトキシフェニル)−1,4−ジヒドロテトラゾール−5−オン10.00gおよびN,N−ジメチルホルムアミド100mLの混合物に、氷冷下、60%水素化ナトリウム2.47gを加えた。混合物を室温に昇温し、1時間攪拌した。反応混合物に氷冷下、ヨウ化メチル3.5mLを加えた。混合物を室温に昇温し、14時間攪拌した。反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を10%塩酸、水および飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下に濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、1−(2−メチル−3−メトキシフェニル)−4−メチル−1,4−ジヒドロテトラゾール−5−オン2.19gを得た。
1H−NMR(CDCl3)δ(ppm):2.11(3H,s),3,72(3H,s),3.88(3H,s),6.95(1H,d,J=8.2Hz),6.98(1H,d,J=8.5Hz),7.29(1H,t,J=8.2Hz)
参考製造例7に記載の1−(2−メチル−3−メトキシフェニル)−4−メチル−1,4−ジヒドロテトラゾール−5−オン2.19g、1,1’−アゾビス(シクロヘキサン−1−カルボニトリル)0.52g、N−ブロモスクシンイミド2.16gおよびクロロベンゼン40mLの混合物を加熱還流下5時間攪拌した。冷却後、反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水および飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下に濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、1−(2−ブロモメチル−3−メトキシフェニル)−4−メチル−1,4−ジヒドロテトラゾール−5−オン2.36gを得た。
1H−NMR(CDCl3)δ(ppm):3.74(3H,s),3.96(3H,s),4.93(2H,s),7.02(1H,dd,J=1.0,8.5Hz),7.04(1H,d,J=9.0Hz),7.43(1H,t,J=8.1Hz).
氷冷下、トリイソプロピルシランチオール4.99gおよびトルエン30mLの混合物に、60%水素化ナトリウム0.63gを加え、30分間攪拌した。反応混合物に、合成例10に記載の1−(2−メチル−3−ブロモフェニル)−4−メチル−1,4−ジヒドロテトラゾール−5−オン2.82g、および[1,1’−ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセン]パラジウム(II)ジクロリド ジクロロメタン付加物0.856gを加え、反応混合物を90℃に昇温し、4時間攪拌した。冷却後、反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水および飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下に濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、1−(2−メチル−3−トリイソプロピルシリルチオフェニル)−4−メチル−1,4−ジヒドロテトラゾール−5−オン3.64gを得た。
1H−NMR(CDCl3)δ(ppm):1.09(18H,d,J=6.6Hz),1.31(3H,q,J=6.6Hz),2.45(3H,s),3.71(3H,s),7.16−7.21(2H,m),7.64(1H,dd,J=6.6,2.7Hz).
参考製造例9に記載の1−(2−メチル−3−トリイソプロピルシリルチオフェニル)−4−メチル−1,4−ジヒドロテトラゾール−5−オン3.63g、フッ化セシウム2.91gおよびN,N−ジメチルホルムアミド10mLの混合物を室温で30分攪拌した。混合物にヨウ化メチル2.72gを加え、室温で3時間攪拌した。反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水および飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下に濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、1−(2−メチル−3−メチルチオフェニル)−4−メチル−1,4−ジヒドロテトラゾール−5−オン1.65gを得た。
1H−NMR(CDCl3)δ(ppm):2.22(3H,s),2.51(3H,s),3.72(3H,s),7.10−7.16(1H,m),7.36−7.29(2H,m).
参考製造例10に記載の1−(2−メチル−3−メチルチオフェニル)−4−メチル−1,4−ジヒドロテトラゾール−5−オン1.50g、1,1’−アゾビス(シクロヘキサン−1−カルボニトリル)0.620g、N−ブロモスクシンイミド1.30gおよびクロロベンゼン15mLの混合物を加熱還流下4時間攪拌した。冷却後、反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水および飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下に濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、1−(2−ブロモメチル−3−メチルチオフェニル)−4−メチル−1,4−ジヒドロテトラゾール−5−オン0.400gを得た。
1H−NMR(CDCl3)δ(ppm):2.57(3H,s),3.75(3H,s),4.69(2H,s),7.20(1H,t,J=4.5Hz),7.44(2H,d,J=4.5Hz).
無水塩化アルミニウム19.7gを氷冷下、N,N−ジメチルホルムアミド220mLに加え、15分攪拌した。ここにアジ化ナトリウム9.6gを加え、15分攪拌した後、参考製造例3に記載の1−ブロモ−3−イソシアナト−2−メチルベンゼン30.3gを加え、80℃で5時間加熱した。冷却後、反応液を亜硝酸ナトリウム33g、水2Lおよび氷500gの混合物中に攪拌しながら加えた。混合物を10%塩酸で酸性とした後、酢酸エチルで抽出した。有機層を水および飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下に濃縮し、1−(2−メチル−3−ブロモフェニル)−1,4−ジヒドロテトラゾール−5−オン31.4gを得た。
1H−NMR(DMSO−d6)δ(ppm):2.22(3H,s),7.34(1H,t,J=7.2Hz),7.49(1H,dd,J=8.2,1.1Hz),7.82(1H,dd,J=8.0,1.0Hz),14.72(1H,s).
参考製造例12に記載の1−(2−メチル−3−ブロモフェニル)−1,4−ジヒドロテトラゾール−5−オン31.40gおよびN,N−ジメチルホルムアミド250mLの混合物に、氷冷下、60%水素化ナトリウム5.90gを加えた。混合物を室温に昇温し、1時間攪拌した。反応混合物に氷冷下、ヨウ化メチル8.4mLを加えた。混合物を室温に昇温し、14時間攪拌した。反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を10%塩酸、水および飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下に濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、1−(2−メチル−3−ブロモフェニル)−4−メチル−1,4−ジヒドロテトラゾール−5−オン)8.47gを得た。
1H−NMR(CDCl3)δ(ppm):2.33(3H,s),3.73(3H,s),7.21(1H,dt,J=0.5,7.8Hz),7.30(1H,dd,J=1.0,8.0Hz),7.71(1H,dd,J=1.2,8.3Hz).
参考製造例13に記載の1−(2−メチル−3−ブロモフェニル)−4−メチル−1,4−ジヒドロテトラゾール−5−オン8.47g、1,1’−アゾビス(シクロヘキサン−1−カルボニトリル)1.54g、N−ブロモスクシンイミド6.44gおよびクロロベンゼン125mLの混合物を加熱還流下5時間攪拌した。冷却後、反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水および飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下に濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、1−(2−ブロモメチル−3−ブロモフェニル)−4−メチル−1,4−ジヒドロテトラゾール−5−オン7.52gを得た。
1H−NMR(CDCl3)δ(ppm):3.76(3H,s),4.71(2H,s),7.34(1H,t,J=7.8Hz),7.38(1H,dd,J=8.0,1.7Hz),7.77(1H,dd,J=7.8,1.7Hz).
参考製造例14に記載の1−(2−ブロモメチル−3−ブロモフェニル)−4−メチル−1,4−ジヒドロテトラゾール−5−オン45.0g、ナトリウムメトキシド37.4gおよびテトラヒドロフラン600mLの混合物を室温で3時間攪拌した。反応混合物に飽和重曹水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和重曹水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下に濃縮後、1−(2−メトキシメチル−3−ブロモフェニル)−4−メチル−1,4−ジヒドロテトラゾール−5−オン36.2gを得た。
1H−NMR(CDCl3)δ(ppm):3.23(3H,s),3.72(3H,s),4.67(2H,s),7.33(1H,t,J=7.8Hz),7.38(1H,dd,J=1.2,8.1Hz),7.76(1H,dd,J=1.5,7.8Hz).
参考製造例15に記載の1−(2−メトキシメチル−3−ブロモフェニル)−4−メチル−1,4−ジヒドロテトラゾール−5−オン36.2g、メチルボロン酸23.2g、フッ化セシウム66.7g、[1,1’−ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセン]パラジウム(II)ジクロリド ジクロロメタン付加物10.6gおよびジオキサン500mlの混合物を90℃で5.5時間攪拌した。冷却後、反応混合物をろ過し、ろ液を減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、1−(2−メトキシメチル−3−メチルフェニル)−4−メチル−1,4−ジヒドロテトラゾール−5−オン25.6gを得た。
1H−NMR(CDCl3)δ(ppm):2.48(3H,s),3.23(3H,s),3.72(3H,s),4.42(2H,s),7.21(1H,t,J=5.1Hz),7.35(2H,d,J=4.8Hz).
参考製造例16に記載の1−(2−メトキシメチル−3−メチルフェニル)−4−メチル−1,4−ジヒドロテトラゾール−5−オン25.6g、酢酸50mL及び25%臭化水素−酢酸溶液50mLの混合物を65℃で1時間攪拌した。反応混合物に飽和食塩水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和重曹水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下に濃縮後、1−(2−ブロモメチル−3−メチルフェニル)−4−メチル−1,4−ジヒドロテトラゾール−5−オンを27.9g得た。
1H−NMR(CDCl3)δ(ppm):2.51(3H,s),3.75(3H,s),4.51(2H,s),7.22−7.24(1H,m),7.36−7.39(2H,m).
参考製造例15に記載の1−(2−メトキシメチル−3−ブロモフェニル)−4−メチル−1,4−ジヒドロテトラゾール−5−オン30.1g、シクロプロピルボロン酸12.9g、フッ化セシウム46.2g、[1,1’−ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセン]パラジウム(II)ジクロリド ジクロロメタン付加物8.2gおよびジオキサン680mlの混合物を90℃で4時間攪拌した。冷却後、反応混合物をろ過し、ろ液を減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、1−(2−メトキシメチル−3−シクロプロピルフェニル)−4−メチル−1,4−ジヒドロテトラゾール−5−オン26.0gを得た。
1H−NMR(CDCl3)δ(ppm):7.36(1H,t,J=8.0Hz),7.20(2H,d,J=8.0Hz),4.64(2H,s),3.72(3H,s),3.24(3H,s),2.20−2.13(1H,m),1.04−1.00(2H,m),0.76−0.72(2H,m).
参考製造例18に記載の1−(2−メトキシメチル−3−シクロプロピルフェニル)−4−メチル−1,4−ジヒドロテトラゾール−5−オン26.0g、酢酸40mL及び25%臭化水素−酢酸溶液40mLの混合物を65℃で2時間攪拌した。反応混合物に飽和食塩水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和重曹水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下に濃縮後、1−(2−ブロモメチル−3−シクロプロピルフェニル)−4−メチル−1,4−ジヒドロテトラゾール−5−オン30.8gを得た。
1H−NMR(CDCl3)δ(ppm):7.38(1H,t,J=7.8Hz),7.26−7.22(2H,m),4.77(2H,s),3.75(3H,s),2.16−2.09(1H,m),1.10−1.06(2H,m),0.82−0.78(2H,m).
参考製造例15に記載の1−(2−メトキシメチル−3−ブロモフェニル)−4−メチル−1,4−ジヒドロテトラゾール−5−オン29.8g、トリブチルビニルスズ35.2g、テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム11.6gおよびトルエン500mLの混合物を加熱還流下14時間攪拌した。冷却後、反応液に飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水および飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下に濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、1−(2−メトキシメチル−3−エテニルフェニル)−4−メチル−1,4−ジヒドロテトラゾール−5−オンを19.7g得た。
1H−NMR(CDCl3)δ(ppm):7.67(1H,dd,J=7.8,1.3Hz),7.44(1H,t,J=7.8Hz),7.29(1H,dd,J=7.8,1.3Hz),7.11(1H,dd,J=17.4,11.1Hz),5.72(1H,dd,J=17.4,1.3Hz),5.44(1H,dd,J=11.1,1.3Hz),4.45(2H,s),3.72(3H,s),3.23(3H,s).
参考製造例20に記載の1−(2−メトキシメチル−3−エテニルフェニル)−4−メチル−1,4−ジヒドロテトラゾール−5−オン19.7g、パラジウム−フィブロイン複合体3.02gおよびメタノール1Lの混合物を水素雰囲気下、室温で11時間攪拌した。反応混合物をろ過し、ろ液を減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、1−(2−メトキシメチル−3−エチルフェニル)−4−メチル−1,4−ジヒドロテトラゾール−5−オンを19.3g得た。
1H−NMR(CDCl3)δ(ppm):7.42−7.38(2H,m),7.23−7.20(1H,m),4.44(2H,s),3.72(3H,s),3.22(3H,s),2.82(2H,q,J=7.6Hz),1.27(3H,t,J=7.6Hz).
参考製造例21に記載の1−(2−メトキシメチル−3−エチルフェニル)−4−メチル−1,4−ジヒドロテトラゾール−5−オン19.3g、酢酸40mL及び25%臭化水素−酢酸溶液40mLの混合物を65℃で1.5時間攪拌した。反応混合物に飽和食塩水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和重曹水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下に濃縮後、1−(2−ブロモメチル−3−エチルフェニル)−4−メチル−1,4−ジヒドロテトラゾール−5−オンを23.3g得た。
1H−NMR(CDCl3)δ(ppm):7.44−7.37(2H,m),7.23(1H,dd,J=7.1,2.0Hz),4.56(2H,s),3.75(3H,s),2.85(2H,q,J=7.6Hz),1.33(3H,t,J=7.6Hz).
80℃下で炭酸ジエチル9.5g、55%−水素化ナトリウム2.8gおよびトルエン200mlの混合物を0.5時間攪拌した。
該反応混合物に2−クロロアセトフェノン5gを加え、2時間攪拌した。室温下、水100mlを加え、酢酸エチルで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄し、3−(2−クロロフェニル)−3−オキソプロピオン酸エチルエステルの粗生成物を得た。室温下、該3−(2−クロロフェニル)−3−オキソプロピオン酸エチルエステルの粗生成物に、エタノール100mlおよびメチルヒドラジン2.2gを加え、加熱還流下4時間攪拌した。該反応混合物を減圧濃縮し、10%−塩酸を加え酸性にし、生じた沈殿物をろ取し、水、酢酸エチルおよびヘキサンで洗浄し、減圧乾燥し、3−(2−クロロフェニル)−1−メチル−1H−ピラゾール−5−オール4.2gを得た。
1H−NMR(DMSO−D6)δ:7.75(1H,dd,J=7.3,2.2Hz),7.50(1H,dd,J=7.1,2.0Hz),7.39−7.32(2H,m),5.95(1H,s),3.62(3H,s).
同様の製造法にて、以下の中間体を得た。
3−(3−クロロフェニル)−1−メチル−1H−ピラゾール−5−オール
1H−NMR(DMSO−D6)δ:7.72−7.72(1H,m),7.66(1H,dd,J=7.7,1.0Hz),7.38(1H,t,J=7.7Hz),7.30(1H,d,J=7.7Hz),5.87(1H,s),3.57(3H,s).
3−(3−クロロフェニル)−1−エチル−1H−ピラゾール−5−オール
1H−NMR(DMSO−D6)δ:11.11(1H,s),7.73−7.72(1H,m),7.67−7.65(1H,m),7.38(1H,t,J=7.9Hz),7.31−7.28(1H,m),5.85(1H,s),3.93(2H,q,J=7.2Hz),1.29(3H,t,J=7.2Hz).
40%メチルアミン水溶液40gとメタノール240mLとの混合物に氷冷下、2−ブロモ−1−(4−クロロフェニル)エタノン10gを加え、30分間撹拌した。反応液を濃縮後、メタノール30mLおよびシアン酸カリウム6.95gを加え、加熱還流下1時間撹拌した。反応液に酢酸10mLを加え、更に加熱還流下1時間撹拌した。該反応混合物を減圧濃縮し、飽和重層水でアルカリ性とし、クロロホルムで抽出した。減圧下溶媒を留去し、1−メチル−4−(4−クロロフェニル)−1,3−ジヒドロイミダゾール−2−オン1.4gを得た。
1H−NMR(DMSO−D6)δ:10.71(1H,s),7.48(2H,d,J=8.5Hz),7.38(2H,d,J=8.5Hz),7.05(1H,s),3.13(3H,s).
1−(2−(ヒドロキシメチル)−3−メチルフェニル)−4−メチル−1,4−ジヒドロテトラゾール−5−オン0.50g、ジメトキシエタン10mLの混合物に撹拌下、水素化ナトリウム0.10g(55%、流動パラフィンに分散)を加えた。10分間室温で撹拌後、3−ブロモ−5−クロロ−1,2,4−チアジアゾール0.46gを加え、室温で2時間撹拌した。反応混合物に飽和重曹水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水および飽和重曹水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、減圧下濃縮し、1−[2−(3−ブロモ−1,2,4−チアジアゾール−5−イルオキシメチル)−3−メチルフェニル]−4−メチル−1,4−ジヒドロテトラゾール−5−オン0.85gを得た。
1H−NMR(CDCl3)δ:2.55(3H,s),3.75(3H,s),5.61(2H,s),7.31(1H,d,J=7.9Hz),7.42(1H,d,J=6.8Hz),7.48(1H,t,J=7.7Hz).
2−ブロモ−1−(2−メトキシフェニル)エタノン1.0g、ギ酸ナトリウム1.2gおよびメタノール15mLの混合物を加熱還流下3時間攪拌した。放冷した反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下に濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、1−(2−メトキシフェニル)−2−ヒドロキシエタノン0.5gを得た。
1H−NMR(CDCl3)δ:8.06−8.04(1H,m),7.58−7.53(1H,m),7.08−7.04(1H,m),7.01(1H,d,J=8.5Hz),4.77(2H,d,J=4.8Hz),3.94(3H,s),3.77(1H,t,J=4.8Hz).
1−(2−メトキシフェニル)−2−ヒドロキシエタノン0.5g、シアン酸カリウム0.5g、酢酸1mLおよびイソプロパノール10mLの混合物を加熱還流で3時間攪拌した。放冷した反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下に濃縮した。得られた残渣をヘキサンで洗浄し、4−(2−メトキシフェニル)−4−オキサゾリン−2−オン0.15gを得た。
1H−NMR(CDCl3)δ:9.96(1H,br s),7.42−7.40(1H,m),7.35−7.31(1H,m),7.28(1H,s),7.07−7.03(1H,m),6.98(1H,d,J=8.4Hz),3.95(3H,s).
参考製造例26の2−ブロモ−1−(2−メトキシフェニル)エタノンを2−ブロモ−1−(4−クロロフェニル)エタノンに替えて同様の反応を実施することにより、1−(4−クロロフェニル)−2−ヒドロキシエタノンを得た。
1H−NMR(CDCl3)δ:7.90(2H,d,J=8.4Hz),7.50(2H,d,J=8.4Hz),4.80(2H,s),3.20(1H,bs).
参考製造例27の1−(2−メトキシフェニル)−2−ヒドロキシエタノンを1−(4−クロロフェニル)−2−ヒドロキシエタノンに替えて同様の反応を実施することにより、4−(4−クロロフェニル)−4−オキサゾリン−2−オンを得た
1H−NMR(DMSO−D6)δ:11.43(1H,s),7.76(1H,s),7.59(2H,d,J=8.9Hz),7.52(2H,d,J=8.9Hz).
参考製造例26の2−ブロモ−1−(2−メトキシフェニル)エタノンを2−ブロモ−1−(4−メトキシフェニル)エタノンに替えて同様の反応を実施することにより、1−(4−メトキシフェニル)−2−ヒドロキシエタノンを得た。
1H−NMR(CDCl3)δ:7.91(2H,d,J=8.8Hz),6.98(2H,d,J=8.8Hz),4.83(2H,d,J=4.5Hz),3.89(3H,s),3.58(1H,t,J=4.5Hz).
参考製造例27の1−(2−メトキシフェニル)−2−ヒドロキシエタノンを1−(4−メトキシフェニル)−2−ヒドロキシエタノンに替えて同様の反応を実施することにより、4−(4−メトキシフェニル)−4−オキサゾリン−2−オンを得た。
1H−NMR(CDCl3)δ:7.91(2H,d,J=8.8Hz),6.98(2H,d,J=8.8Hz),4.83(2H,d,J=4.5Hz),3.89(3H,s),3.58(1H,t,J=4.5Hz).
参考製造例26の2−ブロモ−1−(2−メトキシフェニル)エタノンを2−ブロモ−1−(3−クロロフェニル)エタノンに替えて同様の反応を実施することにより、1−(3−クロロフェニル)−2−ヒドロキシエタノンを得た。
1H−NMR(CDCl3)δ:7.92−7.90(1H,m),7.81−7.79(1H,m),7.62−7.60(1H,m),7.48−7.44(1H,m),4.87(2H,s),3.42(1H,s).
参考製造例27の1−(2−メトキシフェニル)−2−ヒドロキシエタノンを1−(3−クロロフェニル)−2−ヒドロキシエタノンに替えて同様の反応を実施することにより、4−(3−クロロフェニル)−4−オキサゾリン−2−オンを得た。
1H−NMR(CDCl3)δ:10.61(1H,br s),7.41−7.30(4H,m),7.14(1H,s).
参考製造例27の1−(2−メトキシフェニル)−2−ヒドロキシエタノンを1−フェニル−2−ヒドロキシエタノンに替えて同様の反応を実施することにより、4−フェニル−4−オキサゾリン−2−オンを得た。
1H−NMR(CDCl3)δ:10.96(1H,br s),7.46−7.43(4H,m),7.38−7.35(1H,m),7.14(1H,s).
参考製造例26の2−ブロモ−1−(2−メトキシフェニル)エタノンを2−ブロモ−1−(4−シアノフェニル)エタノンに替えて同様の反応を実施することにより、1−(4−シアノフェニル)−2−ヒドロキシエタノンを得た。
1H−NMR(CDCl3)δ:8.03(2H,d,J=8.8Hz),7.83(2H,d,J=8.8Hz),4.91(2H,s),3.40(1H,br s).
参考製造例27の1−(2−メトキシフェニル)−2−ヒドロキシエタノンを1−(4−シアノフェニル)−2−ヒドロキシエタノンに替えて同様の反応を実施することにより、4−(4−シアノフェニル)−4−オキサゾリン−2−オンを得た。
1H−NMR(DMSO−D6)δ:7.93(1H,s),7.92(2H,d,J=8.6Hz),7.74(2H,d,J=8.6Hz).
1−フェニル−2−ヒドロキシエタノン2.0g、チオシアン酸カリウム2.1gおよび塩酸(1N)30mLの混合物を90℃で5時間攪拌した。放冷した反応混合物を酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下に濃縮した。得られた残渣をヘキサンで洗浄し、4−フェニル−4−オキサゾリン−2−チオン0.4gを得た。
1H−NMR(CDCl3)δ:7.56(1H,s),7.50−7.42(5H,m).
参考製造例36の1−フェニル−2−ヒドロキシエタノンを1−(4−クロロフェニル)−2−ヒドロキシエタノンに替えて同様の反応を実施することにより、4−(4−クロロフェニル)−4−オキサゾリン−2−チオンを得た。
H−NMR(CDCl3)δ:7.51(1H,s),7.45(2H,d,J=8.9Hz),7.37(2H,d,J=8.9Hz).
参考製造例36の1−フェニル−2−ヒドロキシエタノンを1−(3−クロロフェニル)−2−ヒドロキシエタノンに替えて同様の反応を実施することにより、4−(3−クロロフェニル)−4−オキサゾリン−2−チオンを得た。
1H−NMR(DMSO−D6)δ:8.39(1H,s),7.83−7.82(1H,m),7.66−7.64(1H,m),7.53−7.45(2H,m).
4−クロロチオベンゾヒドラジド(Journal of Medicinal Chemistry,50(17),4255−4259;2007に記載の方法に従って合成)1.0g、1,1’−カルボニルジイミダゾール0.9gおよびテトラヒドロフラン10mLの混合物を室温下5時間攪拌した。反応混合物に塩酸(1N)を加えて酸性にしてから、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下に濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、5−(4−クロロフェニル)−1,3,4−チアジアゾール−2−オン0.19gを得た。
1H−NMR(CDCl3)δ:8.84(1H,s),7.80(2H,d,J=8.6Hz),7.47(2H,d,J=8.6Hz).
1−(2−ヒドロキシメチル−3−メチルフェニル)−4−メチル−1,4−ジヒドロテトラゾール−5−オン4.0g、カリウムtert−ブトキシド2.4gおよびテトラヒドロフラン50mLの混合物を25℃で15分間攪拌後、2,5−ジブロモ−チアゾール4.4g加え、60℃で1時間攪拌した。放冷した反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下に濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、1−{2−[4−ブロモ−1,3−チアゾール−2−イルオキシメチル]−3−メチルフェニル}−4−メチル−1,4−ジヒドロテトラゾール−5−オン3.0gを得た。
1H−NMR(CDCl3)δ:7.44−7.39(2H,m),7.28−7.26(1H,m),6.97(1H,s),5.44(2H,s),3.71(3H,s),2.52(3H,s).
例えばHA1001−0001とは、式(HA1001)で示される化合物において、Yが置換基0001である化合物を表し、下記式で表される。
製剤例1
本発明化合物1〜30のいずれか1化合物50部、リグニンスルホン酸カルシウム3部、ラウリル硫酸マグネシウム2部及び合成含水酸化珪素45部をよく粉砕混合することにより、製剤を得る。
本発明化合物1〜30のいずれか1化合物20部とソルビタントリオレエ−ト1.5部とを、ポリビニルアルコール2部を含む水溶液28.5部と混合し、湿式粉砕法で微粉砕した後、この中に、キサンタンガム0.05部及びアルミニウムマグネシウムシリケ−ト0.1部を含む水溶液40部を加え、さらにプロピレングリコール10部を加えて攪拌混合し、製剤を得る。
本発明化合物1〜9のいずれか1化合物2部、カオリンクレ−88部及びタルク10部をよく粉砕混合することにより、製剤を得る。
本発明化合物1〜9のいずれか1化合物5部、ポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテル14部、ドデシルベンゼンスルホン酸カルシウム6部及びキシレン75部をよく混合することにより、製剤を得る。
本発明化合物1〜9のいずれか1化合物2部、合成含水酸化珪素1部、リグニンスルホン酸カルシウム2部、ベントナイト30部及びカオリンクレ−65部をよく粉砕混合した後、水を加えてよく練り合せ、造粒乾燥することにより、製剤を得る。
本発明化合物1〜9のいずれか1化合物10部;ポリオキシエチレンアルキルエーテルサルフェ−トアンモニウム塩50部を含むホワイトカ−ボン35部;及び水55部を混合し、湿式粉砕法で微粉砕することにより、製剤を得る。
なお防除効果は、調査時の供試植物上の病斑の面積を目視観察し、本発明化合物を処理した植物の病斑の面積と、無処理の植物の病斑の面積とを比較することにより評価した。
プラスチックポットに土壌を詰め、そこにオオムギ(品種;ニシノホシ)を播種し、温室で7日間生育させた。本発明化合物1,2,3,4,5,6,7,8,9,10,14,19,21,22,23,24,25,28,29または30のいずれか一つの化合物を所定の濃度(500ppm)含有するように調整した水希釈液を、上記オオムギの葉面に充分付着するように茎葉散布した。散布後植物を風乾し、2日後にオオムギ網斑病菌(Pyrenophora teres)胞子の水懸濁液を噴霧接種した。接種後植物を昼間23℃、夜間20℃の温室内で多湿下に3日間置き、次に温室内で7日間栽培した後、病斑面積を調査した。その結果、本発明化合物1,2,3,4,5,6,7,8,9,10,14,19,21,22,23,24,25,28,29または30を処理した植物における病斑面積はいずれも、無処理の植物における病斑面積の30%以下であった。
プラスチックポットに土壌を詰め、そこにオオムギ(品種;ニシノホシ)を播種し、温室で7日間生育させた。本発明化合物26または27を含有する所定濃度(200ppm)の混合物をそれぞれ水で調整し、上記オオムギの葉面に充分付着するように茎葉散布した。散布後植物を風乾し、2日後にオオムギ網斑病菌(Pyrenophora teres)胞子の水懸濁液を噴霧接種した。接種後植物を昼間23℃、夜間20℃の温室内で多湿下に3日間置き、次に温室内で7日間栽培した後、病斑面積を調査した。その結果、本発明化合物26または27を処理した植物における病斑面積はいずれも、無処理の植物における病斑面積の30%以下であった。
プラスチックポットに土壌を詰め、そこにオオムギ(品種;ニシノホシ)を播種し、温室で7日間生育させた。本発明化合物3、5、6、7、8、9、12、16、17、18、19、20、21、22、23、24、25、26、27または30を含有する所定濃度(200ppm)の混合物をそれぞれ水で調整し、上記オオムギの葉面に充分付着するように茎葉散布した。散布後植物を風乾し、2日後にオオムギ雲形病菌(Rhynchosporium secalis)胞子の水懸濁液を噴霧接種した。接種後植物を昼間23℃、夜間20℃の温室内で多湿下に3日間置き、次に温室内で7日間栽培した後、病斑面積を調査した。その結果、本発明化合物3、5、6、7、8、9、12、16、17、18、19、20、21、22、23、24、25、26、27または30を処理した植物における病斑面積はいずれも、無処理の植物における病斑面積の30%以下であった。
プラスチックポットに土壌を詰め、そこにコムギ(品種;アポジ−)を播種し、温室内で10日間生育させた。本発明化合物1、2、3、5、6、7、8、10、11、19、21、22、25、26、28または29のいずれか一つの化合物を所定の濃度(500ppm)含有するように調整した水希釈液を、上記コムギの葉面に充分付着するように茎葉散布した。散布後植物を風乾し、4日後にコムギ葉枯病菌(Septoria tritici)胞子の水懸濁液を噴霧接種した。接種後植物を18℃多湿下に3日間置き、次に照明下に14日から18日間置いた後、病斑面積を調査した。その結果、本発明化合物1、2、3、5、6、7、8、10、11、19、21、22、25、26、28または29を処理した植物における病斑面積はいずれも、無処理の植物における病斑面積の30%以下であった。
プラスチックポットに土壌を詰め、そこにコムギ(品種;アポジ−)を播種し、温室内で10日間生育させた。その後、該コムギにコムギ葉枯病菌(Septoria tritici)胞子の水懸濁液を噴霧接種した。該コムギを18℃、多湿下に3日間置いた後、風乾した。本発明化合物5、8、16、17、18、25または29のいずれか一つの化合物を所定濃度(200ppm)含有するように調整した界面活性剤等を含む水希釈液を、上記コムギの葉面に充分付着するように茎葉散布した。散布後植物を風乾し、さらに照明下に14日から18日間置いた後、病斑面積を調査した。その結果、本発明化合物5、8、16、17、18、25または29を処理した植物における病斑面積はいずれも、無処理の植物における病斑面積の30%以下であった。
プラスチックポットに土壌を詰め、そこにコムギ(品種;シロガネ)を播種し、温室内で9日間生育させた。本発明化合物2、8または30のいずれか一つの化合物を所定の濃度(500ppm)含有するように調整した水希釈液を、上記コムギの葉面に充分付着するように茎葉散布した。散布後植物を風乾し、20℃、照明下で5日間栽培した後、コムギのさび病菌(Puccinia recondita)の胞子をふりかけ接種した。接種後植物を23℃、暗黒多湿下に1日間置いた後、20℃、照明下で8日間栽培し、病斑面積を調査した。その結果、本発明化合物2、8または30を処理した植物における病斑面積はいずれも、無処理の植物における病斑面積の30%以下であった。
プラスチックポットに土壌を詰め、そこにコムギ(品種;シロガネ)を播種し、温室内で9日間生育させた。本発明化合物22、23、25または29のいずれか一つの化合物を所定の濃度(200ppm)含有するように調整した水希釈液を、上記コムギの葉面に充分付着するように茎葉散布した。散布後植物を風乾し、20℃、照明下で5日間栽培した後、コムギのさび病菌(Puccinia recondita)の胞子をふりかけ接種した。接種後植物を23℃、暗黒多湿下に1日間置いた後、20℃、照明下で8日間栽培し、病斑面積を調査した。
その結果、本発明化合物22、23、25または29を処理した植物における病斑面積はいずれも、無処理の植物における病斑面積の30%以下であった。
プラスチックポットに土壌を詰め、そこにキュウリ(品種;相模半白)を播種し、温室内で12日間生育させた。本発明化合物1、2、5、8、19、25または29のいずれか一つの化合物を所定の濃度(500ppm)含有するように調整した水希釈液を、上記キュウリ葉面に充分付着するように茎葉散布した。散布後植物を風乾し、キュウリうどんこ病菌(Sphaerotheca fuliginea、チトクロームbをコードする遺伝子のうち、チトクロームbの143番目のアミノ酸残基がグリシンからアラニンに変異したQoI耐性株)胞子をふりかけ接種した。植物を昼間24℃、夜間20℃の温室で8日間栽培した後、病斑面積を調査した。その結果、本発明化合物1、2、5、8、19、25または29を処理した植物における病斑面積はいずれも、無処理の植物における病斑面積の30%以下であった。
プラスチックポットに土壌を詰め、そこにキュウリ(品種;相模半白)を播種し、温室内で12日間生育させた。本発明化合物16または17のいずれか一つの化合物を所定の濃度(200ppm)含有するように調整した水希釈液を、上記キュウリ葉面に充分付着するように茎葉散布した。散布後植物を風乾し、キュウリうどんこ病菌(Sphaerotheca fuliginea、チトクロームbをコードする遺伝子のうち、チトクロームbの143番目のアミノ酸残基がグリシンからアラニンに変異したQoI耐性株)の胞子をふりかけ接種した。植物を昼間24℃、夜間20℃の温室で8日間栽培した後、病斑面積を調査した。その結果、本発明化合物16または17を処理した植物における病斑面積はいずれも、無処理の植物における病斑面積の30%以下であった。
プラスチックポットに土壌を詰め、そこにキュウリ(品種;相模半白)を播種し、温室内で19日間生育させた。本発明化合物7、16、17、20、21、22、24、25、26、27または30のいずれか一つの化合物を所定の濃度(200ppm)含有するように調整した水希釈液を、上記キュウリ葉面に充分付着するように茎葉散布した。散布後植物を風乾し、1日後にキュウリ褐斑病菌(Corynespora cassiicola)胞子の水懸濁液を噴霧接種した。接種後は昼間24℃、夜間20℃の多湿下で7日間栽培した後、病斑面積を調査した。その結果、本発明化合物7、16、17、20、21、22、24、25、26、27または30を処理した植物における病斑面積はいずれも、無処理の植物における病斑面積の30%以下であった。
プラスチックポットに土壌を詰め、そこにイネ(品種;日本晴)を播種し、温室内で20日間生育させた。その後、本発明化合物8を所定の濃度(500ppm)含有するように調整した水希釈液を、上記イネの葉面に充分付着するように茎葉散布した。散布後、植物を風乾し、昼間24℃、夜間20℃多湿下で、前記散布処理をしたイネと、イネいもち病菌(Magnaporthe grisea)に罹病したイネ苗(品種;日本晴)とを接触させながら6日間置いた後、病斑面積を調査した。その結果、本発明化合物8を処理した植物における病斑面積はいずれも、無処理の植物における病斑面積の30%以下であった。
プラスチックポットに土壌を詰め、そこにイネ(品種;日本晴)を播種し、温室内で20日間生育させた。その後、本発明化合物12、16、17、18、19、21、23、24、25、29、または30のいずれか一つの化合物を所定の濃度(200ppm)含有するように調整した水希釈液を、上記イネの葉面に充分付着するように茎葉散布した。散布後、植物を風乾し、昼間24℃、夜間20℃多湿下で、前記散布処理をしたイネと、イネいもち病菌(Magnaporthe grisea)に罹病したイネ苗(品種;日本晴)とを接触させながら6日間置いた後、病斑面積を調査した。
その結果、本発明化合物12、16、17、18、19、21、23、24、25、29、または30を処理した植物における病斑面積はいずれも、無処理の植物における病斑面積の30%以下であった。
プラスチックポットに土壌を詰め、そこにダイズ(品種;黒千石)を播種し、温室内で13日間生育させた。本発明化合物8または29のいずれか一つの化合物を所定の濃度(200ppm)含有するように調整した水希釈液を、上記ダイズの葉面に充分付着するように茎葉散布した。散布後植物を風乾し、2日後にダイズさび病菌(Phakopsora pachyrhizi)胞子の水懸濁液を噴霧接種した。接種後植物を昼間23℃、夜間20℃の温室内で多湿下に3日間置き、次に温室内で14日間栽培した後、病斑面積を調査した。その結果、本発明化合物8または29を処理した植物における病斑面積はいずれも、無処理の植物における病斑面積の30%以下であった。
プラスチックポットに土壌を詰め、インゲン(品種;長鶉菜豆)を播種し、温室内で8日間生育させた。本発明化合物1、2、5、7または8のいずれか一つの化合物を所定の濃度(500ppm)含有するように調整した水希釈液を、上記インゲン葉面に充分付着するように茎葉散布した。散布後植物を風乾し、インゲン菌核病菌(Sclerotinia sclerotiorum)の菌糸含有PDA培地をインゲン葉面上に置いた。接種後全てのインゲンは夜間のみ多湿下におき、接種4日後に病斑面積を調査した。その結果、本発明化合物1、2、5、7または8を処理した植物における病斑面積はいずれも、無処理の植物における病斑面積の30%以下であった。
プラスチックポットに土壌を詰め、インゲン(品種;長鶉菜豆)を播種し、温室内で8日間生育させた。本発明化合物3、5、7、8、20、23、25、26または29のいずれか一つの化合物を所定の濃度(200ppm)含有するように調整した水希釈液を、上記インゲン葉面に充分付着するように茎葉散布した。散布後植物を風乾し、インゲン菌核病菌(Sclerotinia sclerotiorum)の菌糸含有PDA(ポテトデキストロース寒天培地)培地をインゲン葉面上に置いた。接種後全てのインゲンは夜間のみ多湿下におき、接種4日後に病斑面積を調査した。その結果、本発明化合物3、5、7、8、20、23、25、26または29を処理した植物における病斑面積はいずれも、無処理の植物における病斑面積の30%以下であった。
プラスチックポットに土壌を詰め、トマト(品種:パティオ)を播種し、温室内で20日間生育させた。本発明化合物8を、所定濃度(500ppm)含有するように調整した水希釈液を、上記トマト苗の葉面に充分付着するように茎葉散布した。葉面上の該希釈液が乾く程度に風乾した後、トマト疫病菌(Phytophthora infestans)胞子の水懸濁液を噴霧接種した。接種後はじめは23℃、多湿下に1日間置き、続いて20℃の人工気象室内で4日間栽培した後、病斑面積を調査した。その結果、本発明化合物8を処理した植物における病斑面積は、無処理の植物における病斑面積の30%以下であった。
プラスチックポットに土壌を詰め、そこにコムギ(品種;シロガネ)を播種し、温室内で9日間生育させた。本発明化合物22、23、25または29のいずれか一つの化合物を所定の濃度(200ppm)含有するように調整した水希釈液を、上記コムギの葉面に充分付着するように茎葉散布した。散布後植物を風乾し、20℃、照明下で5日間栽培した後、コムギのさび病菌(Puccinia recondita)の胞子をふりかけ接種した。接種後植物を23℃、暗黒多湿下に1日間置いた後、20℃、照明下で8日間栽培し、病斑面積を調査した。
その結果、本発明化合物22、23、25または29を処理した植物における病斑面積はいずれも、無処理の植物における病斑面積の30%以下であった。
プラスチックポットに土壌を詰め、そこにコムギ(品種;シロガネ)を播種し、温室内で9日間生育させた。本発明化合物12、17、18、22、23、25または29のいずれか一つの化合物を所定の濃度(200ppm)含有するように調整した水希釈液を、上記コムギの葉面に充分付着するように茎葉散布した。散布後植物を風乾し、20℃、照明下で5日間栽培した後、コムギのさび病菌(Puccinia recondita)の胞子をふりかけ接種した。接種後植物を23℃、暗黒多湿下に1日間置いた後、20℃、照明下で8日間栽培し、病斑面積を調査した。
その結果、本発明化合物12、17、18、22、23、25または30を処理した植物における病斑面積はいずれも、無処理の植物における病斑面積の30%以下であった。
プラスチックポットに土壌を詰め、そこにコムギ(品種;アポジ−)を播種し、温室内で10日間生育させた。その後、該コムギにコムギ葉枯病菌(Septoria tritici)胞子の水懸濁液を噴霧接種した。該コムギを18℃、多湿下に3日間置いた後、風乾した。本発明化合物5、8、16、17、18、25または29のいずれか一つの化合物を所定濃度(200ppm)含有するように調整した水希釈液を、上記コムギの葉面に充分付着するように茎葉散布した。散布後植物を風乾し、さらに照明下に14日から18日間置いた後、病斑面積を調査した。その結果、本発明化合物5、8、16、17、18、25または29を処理した植物における病斑面積はいずれも、無処理の植物における病斑面積の30%以下であった。
本発明化合物4、10および28を、それぞれ製剤例2に準じて製剤とし、有効成分が500ppmになるようにイオン交換水で希釈し、試験用薬液とした。
ポリエチレンカップにキャベツ(品種;グリーンボール)を植え、第3本葉ないしは第4本葉が展開するまで生育させた。そのキャベツに上記の試験用薬液を20mL/カップの割合で散布した。薬液が乾いた後、ろ紙を敷いた直径5.5cmのポリエチレンカップに根元から切り取ったキャベツを設置し、コナガ(Plutella xylostella)3令幼虫5頭を放ち、蓋をした。25℃で保管し、5日後に生存虫数を数え、次式より死虫率を求めた。
死虫率(%)=(死亡虫数/供試虫数)×100
その結果、本発明化合物4、10および28の試験用薬液の処理区は死虫率80%以上を示した。
本発明化合物15および29を、それぞれ製剤例2に準じて製剤とし、有効成分が500ppmになるようにイオン交換水で希釈し、試験用薬液とした。
上記試験用薬液0.7mLをイオン交換水100mLに加え有効成分濃度を3.5ppmに調製した。該液中にアカイエカ(Culex pipiens pallens)終令幼虫20頭を放ち、1日後に死亡虫数を数えた。
死亡率は下式により求めた。
死亡率(%)=(死亡虫数/供試虫数)×100
その結果、本発明化合物15および29はいずれも死亡率95%を示した。
本試験例において用いた試験用薬液は、本発明化合物5、15、29を、それぞれ有効成分が500ppmになるようにイオン交換水で希釈し、調製した。
ポリエチレンカップで第1本葉が展開するまで育成したキュウリ葉上に、ワタアブラムシ(Aphis gossypii)30頭(成虫、幼虫を含む)を放し、翌日上記試験用薬液20mLを散布した。6日後に生存虫数を数え、次式により防除価を求めた。
防除価(%)={1−(Cb×Tai)/(Cai×Tb)}×100
なお、式中の文字は以下の意味を表す。
Cb:無処理区の処理前の虫数
Cai:無処理区の観察時の虫数
Tb:処理区の処理前の虫数
Tai:処理区の観察時の虫数
その結果、本発明化合物5、15、29は、防除価90%以上を示した。
Claims (6)
- 式(1)
{式中、
R 4 およびR5は、互いに独立に、水素原子もしくは炭素数1〜3のアルキル基を表すか、または、
R4とR5とが結合して、それらが結合している炭素原子とともに炭素数3〜6のシクロアルカン環を形成していてもよく;
R6は、炭素数1〜3のアルキル基、ハロゲン原子、炭素数1〜3のハロアルキル基、炭素数3〜4のシクロアルキル基、炭素数1〜3のアルコキシ基、炭素数1〜3のハロアルコキシ基、炭素数1〜3のアルキルチオ基、シアノ基、炭素数2〜3のアルケニル基、または炭素数2〜3のアルキニル基を表し;
R7、R8、およびR9は、水素原子を表し;
R10は、メチル基を表し;
Yは、酸素原子を表し;
Qは、酸素原子を表し;
Eは、E19
〔上記のE19において、#はQとの結合位置を表し;
R 0 は、水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜3のアルキル基、または炭素数1〜3のハロアルキル基を表し;
R1は、群P 3 から選ばれる1以上の原子もしくは基を有していてもよい炭素数6〜16のアリール基または水素原子を表し
(但し、該炭素数6〜16のアリール基が2以上の群P 3 から選ばれる原子もしくは基を有する場合、該原子もしくは基は同一または相異なっていてもよい。);
R11は、水素原子、炭素数1〜3のアルキル基、または炭素数1〜3のハロアルキル基を表す。
群P 3 :ハロゲン原子、炭素数1〜3のアルキル基、炭素数1〜3のハロアルキル基、炭素数1〜3のアルコキシ基、炭素数1〜3のハロアルコキシ基、炭素数1〜3のアルキルチオ基、炭素数1〜3のハロアルキルチオ基、炭素数3〜6のシクロアルキル基、炭素数2〜3のアルケニル基、炭素数2〜3のアルキニル基、およびシアノ基からなる群。〕
または、E8もしくはE11
〔上記のE8またはE11において、#はQとの結合位置を表し;
R 0 、R 2 およびR 3 は、水素原子を表し;
R 1 は、群P 3 から選ばれる1以上の原子もしくは基を有していてもよい炭素数6のアリール基または水素原子を表す。
群P 3 :ハロゲン原子、炭素数1〜3のアルキル基、炭素数1〜3のハロアルキル基、炭素数1〜3のアルコキシ基、炭素数1〜3のハロアルコキシ基、炭素数1〜3のアルキルチオ基、炭素数1〜3のハロアルキルチオ基、炭素数3〜6のシクロアルキル基、炭素数2〜3のアルケニル基、炭素数2〜3のアルキニル基、およびシアノ基からなる群。〕
を表す。}
で示されるテトラゾリノン化合物。 - EがE19である請求項1に記載のテトラゾリノン化合物。
- Eが、E8またはE11である請求項1に記載のテトラゾリノン化合物。
- 請求項1、2または3に記載のテトラゾリノン化合物を含有する有害生物防除剤。
- 請求項1、2または3に記載のテトラゾリノン化合物の有効量を植物又は土壌に施用する有害生物の防除方法。
- 有害生物を防除するための請求の範囲1、2または3に記載のテトラゾリノン化合物の使用(但し、人間への使用を除く。)。
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