JP6348051B2 - レーザ加工方法、レーザ加工装置、およびレーザ加工品 - Google Patents
レーザ加工方法、レーザ加工装置、およびレーザ加工品 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6348051B2 JP6348051B2 JP2014234593A JP2014234593A JP6348051B2 JP 6348051 B2 JP6348051 B2 JP 6348051B2 JP 2014234593 A JP2014234593 A JP 2014234593A JP 2014234593 A JP2014234593 A JP 2014234593A JP 6348051 B2 JP6348051 B2 JP 6348051B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- processing
- laser
- carbon film
- hard carbon
- laser beam
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000003672 processing method Methods 0.000 title claims description 27
- 229910021385 hard carbon Inorganic materials 0.000 claims description 103
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 54
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 24
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 17
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 claims description 14
- 238000009826 distribution Methods 0.000 claims description 9
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 238000000034 method Methods 0.000 description 23
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 13
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 11
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 9
- 239000011358 absorbing material Substances 0.000 description 7
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910003481 amorphous carbon Inorganic materials 0.000 description 5
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 5
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 5
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 5
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 5
- 238000002407 reforming Methods 0.000 description 5
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 5
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 3
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 3
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 2
- 229940079593 drug Drugs 0.000 description 2
- 239000003814 drug Substances 0.000 description 2
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 2
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 2
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 2
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 2
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 2
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 2
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 2
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002679 ablation Methods 0.000 description 1
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 238000005265 energy consumption Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000007888 film coating Substances 0.000 description 1
- 238000009501 film coating Methods 0.000 description 1
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 1
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical compound [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 description 1
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000007734 materials engineering Methods 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- 230000001131 transforming effect Effects 0.000 description 1
- 230000005068 transpiration Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Laser Beam Processing (AREA)
Description
22 第2工程
23 基材
24 硬質炭素膜
25 改質部
26 加工部位
L 加工用パルスレーザ光
L1 パルスレーザ光
W 加工対象物
Claims (7)
- 基材上に形成された硬質炭素膜にパルス幅が1ps以上の加工用パルスレーザ光を照射して硬質炭素膜を加工するレーザ加工方法であって、
前記加工用パルスレーザ光の照射領域の硬質炭素膜の表面乃至内部を、加工用パルスレーザ光を照射した際に、基材乃至基材と硬質炭素膜の間に介在された中間層に損傷を与えず、基材と硬質炭素膜との結合が破壊されなくなる改質部に成形する第1工程と、
前記改質部に、前記加工用パルスレーザ光を照射する第2工程とを備え、
前記第1工程では、加工用パルスレーザ光の照射強度よりも弱くかつパルス幅が1ps以上であって、基材の加工閾値未満のパルスレーザ光を照射することによって、前記改質部を成形することを特徴とするレーザ加工方法。 - 前記第2工程で用いる加工用パルスレーザ光が、その集光点での空間的な照射エネルギー密度分布の中に、前記改質部の加工が可能な照射エネルギー密度と未改質状態の前記硬質炭素膜を前記改質部へと改質可能な照射エネルギー密度を併せ持ち、前記パルスレーザ光照射による改質部の加工と同時にこの加工部周辺の硬質炭素膜自身の表面ないし内部に新規改質部を形成し、その後、さらに次のパルスレーザ光照射による加工部が既設の新規改質部形成領域に含まれるようにパルスレーザ集光点と加工対象物を相対的に移動させ照射することで、加工領域を連続的に拡張することを特徴とする請求項1に記載のレーザ加工方法。
- 照射するパルスレーザ光の集光点での照射エネルギー密度が時間的に変調され、パルス列内において前記第1工程と第2工程とを含んでいることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載のレーザ加工方法。
- 第2工程では、加工闘値近傍の照射強度の加工用パルスレーザを照射し、この加工用パルスレーザ光の照射部分をオーバーラップさせながら走査して、グレーティング状の表面微細周期構造を自己組織的に形成することを特徴とする請求項1〜請求項3のいずれかに記載のレーザ加工方法。
- 請求項1〜請求項4のいずれか1項に記載のレーザ加工方法により得られることを特徴とするレーザ加工品。
- 基材上に形成された硬質炭素膜にパルス幅が1ps以上の加工用パルスレーザ光を照射して硬質炭素膜を加工するレーザ加工装置であって、
前記加工用パルスレーザ光の照射領域の硬質炭素膜の表面乃至内部を、基材乃至基材と硬質炭素膜の間に介在された中間層に損傷を与えず、基材と硬質炭素膜との結合が破壊されなくなる改質部に成形するレーザ光の照射と、前記改質部に加工用パルスレーザ光の照射とを行うものであり、前記改質部に成形するレーザ光は、加工用パルスレーザ光の照射強度よりも弱くかつパルス幅が1ps以上であって、基材の加工閾値未満のパルスレーザ光であることを特徴とするレーザ加工装置。 - 請求項6に記載のレーザ加工装置により得られることを特徴とするレーザ加工品。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014234593A JP6348051B2 (ja) | 2014-11-19 | 2014-11-19 | レーザ加工方法、レーザ加工装置、およびレーザ加工品 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014234593A JP6348051B2 (ja) | 2014-11-19 | 2014-11-19 | レーザ加工方法、レーザ加工装置、およびレーザ加工品 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2016097419A JP2016097419A (ja) | 2016-05-30 |
JP2016097419A5 JP2016097419A5 (ja) | 2016-12-08 |
JP6348051B2 true JP6348051B2 (ja) | 2018-06-27 |
Family
ID=56075774
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014234593A Active JP6348051B2 (ja) | 2014-11-19 | 2014-11-19 | レーザ加工方法、レーザ加工装置、およびレーザ加工品 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6348051B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6781645B2 (ja) * | 2017-03-02 | 2020-11-04 | キヤノンマシナリー株式会社 | レーザ加工方法、レーザ加工装置、及び材料の製造方法 |
KR20240050470A (ko) * | 2021-09-06 | 2024-04-18 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 기판 처리 방법 및 기판 처리 장치 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006212646A (ja) * | 2005-02-01 | 2006-08-17 | Canon Machinery Inc | 周期構造作成方法 |
JP2007162045A (ja) * | 2005-12-12 | 2007-06-28 | Japan Science & Technology Agency | 摺動材及びその製造方法 |
JP5227563B2 (ja) * | 2006-10-26 | 2013-07-03 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 半導体装置の作製方法 |
JP5103054B2 (ja) * | 2007-04-27 | 2012-12-19 | サイバーレーザー株式会社 | レーザによる加工方法およびレーザ加工装置 |
-
2014
- 2014-11-19 JP JP2014234593A patent/JP6348051B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2016097419A (ja) | 2016-05-30 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TWI692457B (zh) | 藉由電磁輻射及後續蝕刻製程將至少一個凹槽導入材料的方法 | |
Tsukamoto et al. | Periodic microstructures produced by femtosecond laser irradiation on titanium plate | |
EP2768626B1 (en) | Method and device for producing a structured surface on a steel embossing roller | |
Venkatakrishnan et al. | Laser writing techniques for photomask fabrication using a femtosecond laser | |
US20130164457A1 (en) | Method of manufacturing patterned x-ray optical elements | |
US20140175067A1 (en) | Methods of forming images by laser micromachining | |
JP2006212646A (ja) | 周期構造作成方法 | |
US20190359515A1 (en) | Method of forming hole in glass substrate by using pulsed laser, and method of producing glass substrate provided with hole | |
Bravo et al. | Demonstration of nanomachining with focused extreme ultraviolet laser beams | |
JP2003133690A (ja) | 超短パルスレーザを用いた回路形成方法 | |
Liu et al. | Photoetching of spherical microlenses on glasses using a femtosecond laser | |
JP6348051B2 (ja) | レーザ加工方法、レーザ加工装置、およびレーザ加工品 | |
JP2004306127A (ja) | 薄膜パターニング加工方法 | |
US20150343567A1 (en) | Method and system for formation of vertical microvias in opaque ceramic thin-plate by femtosecond laser pulse | |
Böhme et al. | Ultra-short laser processing of transparent material at the interface to liquid | |
JP4203310B2 (ja) | 防眩性反射防止フィルムの製造方法 | |
JP6781645B2 (ja) | レーザ加工方法、レーザ加工装置、及び材料の製造方法 | |
JP3305670B2 (ja) | フォトマスクの修正方法 | |
JP4147304B2 (ja) | 多波長超短パルスレーザー光による材料加工法 | |
JP2010005629A (ja) | Si基板のレーザ加工方法 | |
TWI598173B (zh) | 雷射去毛刺方法、雷射加工方法及雷射加工裝置 | |
JP2004360012A (ja) | 金属密着面表面処理方法及びその装置 | |
Sharp | Laser processing of medical devices | |
Ostendorf et al. | Nanostructuring of solids with femtosecond laser pulses (Keynote Address) | |
JP5305928B2 (ja) | 周期構造の作成方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20161021 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20170418 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20180216 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20180222 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20180419 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20180507 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20180530 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6348051 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |