JP6343173B2 - 微細パターンの形成方法、成型体の製造方法、ワイヤグリッド偏光子の製造方法、及び転写装置 - Google Patents
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紫外線光源としてMLR3000B−27メタルハライド(セン特殊光源社製)を使用し、Ni電鋳でピッチ(P)100nm、グリッド幅(D)30nm、高さ(H1)100nmの微細パターンを有するロール状スタンパを使用した。ロール状スタンパの周長は260mmである。ロール状スタンパの微細パターンが形成された表面に予めオプツール(登録商標)HD2100(ダイキン工業社製)をメーカ指定の処理方法で被覆した。オプツール(登録商標)HD2100Z中に浸漬し、引き上げ後、24度50%RHに2時間放置し乾燥した。次いでリンス液デュラサーフ(登録商標)HD−ZV(ハーベス社製)に浸漬及びリンス後、24度50%RHで2時間乾燥し離型層を形成した。透明基材には、PETフィルム(東洋紡製)を用いた。
基材フィルムをTAC(富士フィルム社製)とし、比較例1と同様に成型体を得た。TACフィルムの波長380nmでの透過率は約3%である(図9参照)。このようにTACフィルムは、波長380nm未満の光を透過しないため、吸収ピーク波長が246nm、280nm及び333nmである光重合開始剤としてのイルガキュア(登録商標)184を含む紫外線硬化性樹脂を硬化させることができず、表面に微細パターンを備えた成型体を得ることはできなかった。
基材フィルムをTACフィルムとし、TACフィルムの光吸収波長より長い380nm以上で光重合開始するダロキュア(登録商標)TPO(BASF社製、吸収ピーク波長;295nm、368nm、380nm、393nm)を光重合開始剤に用い、比較例1と同様に成型体を得た。
基材フィルムをPETフィルムとし、実施例1と同様に成型体を得た。図9に示すように、PETフィルムの波長380nmでの透過率は約87%である。
基材フィルムをCOP(アートン(登録商標)、JSR製)に変更し、実施例1と同様に成型体を得た。図9に示すように、COPフィルムの波長380nmでの透過率は約90%である。そして、成型体にアルミニウムを斜め蒸着してワイヤグリッド偏光フィルムを形成した。
メタルハライドランプ光源とロール状スタンパとの間に波長380nmから430nmの光を透過し、それ以外の波長の光を遮断するバンドパスフィルターを設けた。そして比較例3と同様に成型体を得た。さらに成型体にアルミニウムを斜め蒸着してワイヤグリッド偏光フィルムを形成した。
メタルハライドランプ光源とロール状スタンパとの間に波長380nmから430nmの光を透過し、それ以外の波長の光を遮断するバンドパスフィルターを設けた。そして比較例4と同様に成型体を得た。さらに成型体にアルミニウムを斜め蒸着してワイヤグリッド偏光フィルムを形成した。
波長390nmにピーク波長を有するLED光源(LEDZero PinCure(登録商標)、ファインセンシング社製)を用いた。照度は0.35W/cm2であった。そして比較例4と同様に成型体を得た。さらに成型体にアルミニウムを斜め蒸着してワイヤグリッド偏光フィルムを形成した。
21 基材
21a 基材の表面
22 紫外線硬化樹脂層
22a 紫外線硬化樹脂層の表面
23、54 格子状凸部
25、52 微細パターン
26 誘電体層
27 金属層
30 ワイヤグリッド偏光子
40 塗布部
41 紫外線硬化性樹脂
50 ロール状スタンパ
51、63、64、66、92 光源
53 シート
55、91 離型層
60 転写硬化部
65 バンドパスフィルター
90 スタンパ
95 黒点欠陥
96 黒点
100 転写装置
F1 保護フィルム
Claims (10)
- 基材の表面に光吸収波長が380nm以上である光重合開始剤を含有する紫外線硬化性樹脂を塗布する工程と、
離型層が設けられた微細パターンを有する、Niで形成されたロール状のスタンパ表面に、前記基材に塗布された前記紫外線硬化性樹脂の表面を押し当てた状態で前記基材側から紫外線を照射し、このとき、照射波長を380nm以上に制限する波長制限手段を用いて、前記紫外線硬化性樹脂を硬化し、前記表面に前記微細パターンを転写する工程と、を有することを特徴とする微細パターンの形成方法。 - 前記波長制限手段として、380nm以上の照射波長に制限した光源を用いることを特徴とする請求項1に記載の微細パターンの形成方法。
- 前記光源は、単波長のLED光源であることを特徴とする請求項2に記載の微細パターンの形成方法。
- 前記波長制限手段として、光源から前記紫外線硬化性樹脂への光照射経路の途中に、照射波長を380nm以上に制限するバンドパスフィルターを用いることを特徴とする請求項1ないし3のいずれかに記載の微細パターンの形成方法。
- 前記波長制限手段として、380nm未満の照射波長を吸収する透明基材を使用し、前記透明基材側から紫外線を照射することを特徴とする請求項1ないし4のいずれかに記載の微細パターンの形成方法。
- 前記紫外線硬化性樹脂の厚みを0.5μm以上5μm以下の範囲内とすることを特徴とする請求項1ないし5のいずれかに記載の微細パターンの形成方法。
- 基材と、前記基材の表面に形成された紫外線硬化樹脂層と、を有し、前記紫外線硬化樹脂層の表面に微細パターンが形成されている成型体の製造方法であって、
該微細パターンを、請求項1ないし6のいずれかに記載された微細パターンの形成方法により形成することを特徴とする成型体の製造方法。 - 請求項7に記載の成型体の製造方法により製造された成型体の該微細パターンの表面の少なくとも一部に金属層を形成することを特徴とするワイヤグリッド偏光子の製造方法。
- 離型層が設けられた微細パターンを有するスタンパ表面に、基材に設けられた紫外線硬化性樹脂の表面を押し当てた状態で紫外線を照射して前記紫外線硬化性樹脂を硬化し、前記表面に前記微細パターンを転写するための転写装置であって、
前記スタンパは、ロール状であり、Niで構成され、
前記基材を挟んで前記スタンパと対向する位置に配置される光源と、
前記紫外線硬化性樹脂への紫外線の照射波長が380nm以上に制限される波長制限手段と、を有することを特徴とする転写装置。 - 前記波長制限手段として、380nm以上の照射波長に制限した前記光源、あるいは、前記光源から前記紫外線硬化性樹脂への光照射経路の途中に、照射波長を380nm以上に制限するバンドパスフィルターの少なくともいずれか一方が用いられることを特徴とする請求項9に記載の転写装置。
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