JP6342357B2 - Printed circuit board and manufacturing method thereof - Google Patents

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    • H05K3/40Forming printed elements for providing electric connections to or between printed circuits

Description

本発明は、印刷回路基板及びその製造方法に関する。   The present invention relates to a printed circuit board and a method for manufacturing the same.

近年、携帯用機器の厚さが益々薄くなるに従って、その内部に装着される電子部品も薄型化しており、多数の電子部品が実装される基板も薄板に製作されて、全体的な内部部品の厚さを低減しようとする取り組みが行われている。   In recent years, as the thickness of portable devices has become thinner and thinner, the electronic components that are mounted inside the devices have also become thinner, and a substrate on which a large number of electronic components are mounted has also been made into a thin plate. Efforts are being made to reduce the thickness.

特に、多数の電子部品が実装される基板が薄板に製作される場合、基板の製造工程または電子部品の実装時のリフロー工程などを経るうちに高温に露出されるが、その材質の特性上、繰り返される高温加工及び冷却によって反りが発生するという問題点がある。   In particular, when a substrate on which a large number of electronic components are mounted is manufactured as a thin plate, the substrate is exposed to high temperatures through the manufacturing process of the substrate or the reflow process at the time of mounting electronic components. There is a problem that warpage occurs due to repeated high-temperature processing and cooling.

このような基板の反りを防止するために、基板の製造工程中に用いられる原材料の剛性を高め、リフロー工程時における熱膨張係数(CTE)差による反りが改善されるように、原材料の熱膨張係数差を減らすための取り組みがなされているが、これに関する技術の開発が依然として求められている状況である。   In order to prevent such warpage of the substrate, the thermal expansion of the raw material is improved so as to increase the rigidity of the raw material used during the manufacturing process of the substrate and improve the warpage due to the difference in coefficient of thermal expansion (CTE) during the reflow process. Efforts are being made to reduce the coefficient difference, but there is still a need to develop technology related to this.

また、基板の製造工程中に物理的な構造を改善して反りを防止するための方法として、基板のコア材の剛性を高めるために基板の内部に金属性補強材をさらに挿入する方法が検討されているが、補強材が金属材質であるため、回路パターンを電気的に連結するためのビアなどを形成するために金属補強材の特定部分を予め除去しなければならない。   In addition, as a method for improving the physical structure and preventing warpage during the manufacturing process of the substrate, a method of further inserting a metallic reinforcing material inside the substrate in order to increase the rigidity of the core material of the substrate is examined. However, since the reinforcing material is a metal material, a specific portion of the metal reinforcing material must be removed in advance in order to form a via for electrically connecting the circuit patterns.

しかし、金属補強材または金属コア材にビアなどを形成するためにはエッチング工程またはレーザーを利用して金属補強材を除去するが、金属補強材を加工するための別のキャリアを備え、キャリア上の金属補強材上に絶縁層を形成した後キャリアを除去する工程を経なければならないため、基板の製造コストが増加するという問題点が指摘されている   However, in order to form a via or the like in the metal reinforcing material or the metal core material, the metal reinforcing material is removed using an etching process or a laser, but another carrier for processing the metal reinforcing material is provided, and the carrier is provided on the carrier. It has been pointed out that the manufacturing cost of the substrate increases because the process of removing the carrier after forming the insulating layer on the metal reinforcing material of

また、従来の金属補強材を用いる場合には、貫通孔が金属補強材と接触しないように、貫通孔が通る位置の金属補強材の一部を予め除去した後、貫通孔を含む表面に絶縁層を塗布しなければならない。そのため、回路配線の形成時にファインピッチ(fine pitch)の貫通孔を形成することが困難であるという短所がある。   In addition, when using a conventional metal reinforcing material, after removing a part of the metal reinforcing material at a position where the through hole passes in advance so that the through hole does not contact the metal reinforcing material, the surface is insulated from the surface including the through hole. The layer must be applied. Therefore, there is a disadvantage that it is difficult to form fine pitch through-holes when forming circuit wiring.

特開2004‐193295号公報JP 2004-193295 A

本発明の一目的は、反りの発生を防止することができる印刷回路基板を提供することにある。   An object of the present invention is to provide a printed circuit board that can prevent warping.

本発明の一目的は、印刷回路基板の製造工程中に発生する基板の反りを最小化することができる印刷回路基板の製造方法を提供することにある。   An object of the present invention is to provide a method of manufacturing a printed circuit board that can minimize the warpage of the substrate that occurs during the manufacturing process of the printed circuit board.

本発明の上記の目的は、絶縁層とコア補強材とが交互に積層されたコアを含む印刷回路基板が提供されることにより達成される。   The above object of the present invention is achieved by providing a printed circuit board including a core in which insulating layers and core reinforcing materials are alternately laminated.

この際、前記コアは、前記絶縁層の間に前記コア補強材が介在された構成であるか、または前記絶縁層の両面に前記コア補強材が積層された構成であることができる。   In this case, the core may have a configuration in which the core reinforcing material is interposed between the insulating layers, or may have a configuration in which the core reinforcing material is laminated on both surfaces of the insulating layer.

また、前記コア補強材は、板状のガラス材料または非電気伝導性高分子材料のフィルム形態に形成されることができる。   The core reinforcing material may be formed in a film form of a plate-like glass material or a non-electrically conductive polymer material.

前記コアの全体厚さに対する前記コア補強材の厚さの割合が35%〜80%の範囲を有し、前記コアは、前記コア補強材と絶縁層の熱膨張係数(CTE)とヤング率の関係で、反り特性に対して下記の数式を満たすことができる。   The ratio of the thickness of the core reinforcing material to the total thickness of the core is in the range of 35% to 80%, and the core has a coefficient of thermal expansion (CTE) and Young's modulus of the core reinforcing material and the insulating layer. In relation, the following mathematical formula can be satisfied for the warpage characteristics.

Figure 0006342357
(αはコア補強材の熱膨張係数(1/k)、αは絶縁層の熱膨張係数(1/k)、Eはコア補強材のヤング率(GPa)、Eは絶縁材のヤング率(GPa)である。)
Figure 0006342357
1 is the thermal expansion coefficient (1 / k) of the core reinforcing material, α 2 is the thermal expansion coefficient (1 / k) of the insulating layer, E 1 is the Young's modulus (GPa) of the core reinforcing material, and E 2 is the insulating material. Young's modulus (GPa).)

一方、本発明の他の目的は、剛性を有するコア補強材と、前記コア補強材の両面に形成された絶縁層と、前記絶縁層及びコア補強材を貫通して形成された貫通孔と、前記絶縁層上に形成された回路層及び前記回路層の層間連結のために前記貫通孔に形成されためっき層と、を含む印刷回路基板が提供されることにより達成されることができる。   Meanwhile, another object of the present invention is to provide a rigid core reinforcing material, insulating layers formed on both surfaces of the core reinforcing material, and through holes formed through the insulating layer and the core reinforcing material, This may be achieved by providing a printed circuit board including a circuit layer formed on the insulating layer and a plating layer formed in the through hole for interlayer connection of the circuit layers.

また、本発明の目的は、コア補強材を準備する段階と、前記コア補強材の両面に絶縁層を形成する段階と、前記コア補強材及び絶縁層を貫通する貫通孔を形成する段階と、前記貫通孔の内部にめっき層を形成するとともに、前記絶縁層の表面に回路層を形成する段階と、を含む印刷回路基板の製造方法が提供されることにより達成される。   Further, the object of the present invention is to prepare a core reinforcing material, to form an insulating layer on both sides of the core reinforcing material, and to form a through hole that penetrates the core reinforcing material and the insulating layer, This is achieved by providing a method of manufacturing a printed circuit board, including forming a plating layer inside the through hole and forming a circuit layer on the surface of the insulating layer.

また、本発明のさらに他の目的は、絶縁層と、前記絶縁層の両面に積層されたコア補強材と、前記絶縁層及びコア補強材を貫通して形成された貫通孔と、前記コア補強材上に形成された回路層と、を含む印刷回路基板が提供されることにより達成される。   Still another object of the present invention is to provide an insulating layer, a core reinforcing material laminated on both surfaces of the insulating layer, a through hole formed through the insulating layer and the core reinforcing material, and the core reinforcing material. This is achieved by providing a printed circuit board including a circuit layer formed on the material.

また、本発明の目的は、絶縁層の両面にコア補強材を接合する段階と、前記コア補強材上にシード層を形成する段階と、前記シード層上に回路形成用開口部を有するめっきレジスト層を形成する段階と、前記回路形成用開口部にめっき層を形成する段階と、前記めっきレジスト層を除去することにより回路層を形成する段階と、を含む印刷回路基板の製造方法が提供されることにより達成される。   Another object of the present invention is to provide a plating resist having a step of bonding a core reinforcing material to both surfaces of an insulating layer, a step of forming a seed layer on the core reinforcing material, and an opening for forming a circuit on the seed layer. There is provided a method of manufacturing a printed circuit board, including a step of forming a layer, a step of forming a plating layer in the circuit forming opening, and a step of forming a circuit layer by removing the plating resist layer. Is achieved.

上述したように、本発明による印刷回路基板及びその製造方法は、剛性を有するガラスまたは非電気伝導性高分子材料のフィルム形態のコア補強材を介在して製作することで、高温で印刷回路基板の剛性が維持されるため、製作工程中の反りを防止することができる長所がある。   As described above, the printed circuit board and the manufacturing method thereof according to the present invention are manufactured at high temperatures by interposing a core reinforcing material in the form of a film of rigid glass or non-electrically conductive polymer material. Therefore, there is an advantage that warpage during the manufacturing process can be prevented.

また、本発明は、印刷回路基板が薄板に製作される場合にもコア補強材の剛性が維持されるため撓みを改善することができ、垂直方向の放熱特性を向上させることができる利点がある。   In addition, the present invention has an advantage that even when the printed circuit board is manufactured as a thin plate, the rigidity of the core reinforcing material is maintained, so that the flexure can be improved and the heat radiation characteristics in the vertical direction can be improved. .

本発明の第1実施形態による印刷回路基板の断面図である。1 is a cross-sectional view of a printed circuit board according to a first embodiment of the present invention. 第1実施形態による印刷回路基板の製造方法を図示した工程断面図であって、コア補強材の断面図である。It is process sectional drawing which illustrated the manufacturing method of the printed circuit board by 1st Embodiment, Comprising: It is sectional drawing of a core reinforcement. 第1実施形態による印刷回路基板の製造方法を図示した工程断面図であって、コア補強材に絶縁層が積層された断面図である。FIG. 4 is a process cross-sectional view illustrating a method of manufacturing a printed circuit board according to the first embodiment, in which an insulating layer is stacked on a core reinforcing material. 第1実施形態による印刷回路基板の製造方法を図示した工程断面図であって、コア補強材と絶縁層との間にコーティング層が介在された断面図である。FIG. 5 is a process cross-sectional view illustrating a method of manufacturing a printed circuit board according to the first embodiment, in which a coating layer is interposed between a core reinforcing material and an insulating layer. 第1実施形態による印刷回路基板の製造方法を図示した工程断面図であって、絶縁層上に金属薄膜が形成された断面図である。FIG. 5 is a process cross-sectional view illustrating a method of manufacturing a printed circuit board according to the first embodiment, in which a metal thin film is formed on an insulating layer. 第1実施形態による印刷回路基板の製造方法を図示した工程断面図であって、貫通孔が形成された断面図である。FIG. 6 is a process cross-sectional view illustrating a method of manufacturing a printed circuit board according to the first embodiment, and is a cross-sectional view in which a through hole is formed. 第1実施形態による印刷回路基板の製造方法を図示した工程断面図であって、絶縁層に回路層が形成され、貫通孔内にめっき層が形成された断面図である。FIG. 5 is a process cross-sectional view illustrating a method of manufacturing a printed circuit board according to the first embodiment, in which a circuit layer is formed in an insulating layer and a plating layer is formed in a through hole. 本発明の第2実施形態による印刷回路基板の断面図である。FIG. 6 is a cross-sectional view of a printed circuit board according to a second embodiment of the present invention. 第2実施形態による印刷回路基板の製造方法を図示した工程断面図であって、絶縁層にコア補強材が積層された断面図である。FIG. 10 is a process cross-sectional view illustrating a method for manufacturing a printed circuit board according to a second embodiment, in which a core reinforcing material is laminated on an insulating layer. 第2実施形態による印刷回路基板の製造方法を図示した工程断面図であって、貫通孔が形成された断面図である。It is process sectional drawing which illustrated the manufacturing method of the printed circuit board by 2nd Embodiment, Comprising: It is sectional drawing in which the through-hole was formed. 第2実施形態による印刷回路基板の製造方法を図示した工程断面図であって、コア補強材の表面及び貫通孔の内壁にシード層が形成された断面図である。FIG. 10 is a process cross-sectional view illustrating a method of manufacturing a printed circuit board according to a second embodiment, and is a cross-sectional view in which a seed layer is formed on the surface of a core reinforcement and the inner wall of a through hole. 第2実施形態による印刷回路基板の製造方法を図示した工程断面図であって、めっきレジスト層が形成された断面図である。It is process sectional drawing which illustrated the manufacturing method of the printed circuit board by 2nd Embodiment, Comprising: It is sectional drawing in which the plating resist layer was formed. 第2実施形態による印刷回路基板の製造方法を図示した工程断面図であって、めっき層が形成された断面図である。It is process sectional drawing which illustrated the manufacturing method of the printed circuit board by 2nd Embodiment, Comprising: It is sectional drawing in which the plating layer was formed. 第2実施形態による印刷回路基板の製造方法を図示した工程断面図であって、回路層が形成された断面図である。FIG. 10 is a process cross-sectional view illustrating a method of manufacturing a printed circuit board according to a second embodiment and is a cross-sectional view in which a circuit layer is formed. 本発明の一実施形態による印刷回路基板に複数の絶縁層及び回路層がビルドアップされた多層印刷回路基板の断面図である。1 is a cross-sectional view of a multilayer printed circuit board in which a plurality of insulating layers and circuit layers are built up on a printed circuit board according to an embodiment of the present invention. 本発明の第1実施形態による印刷回路基板及び従来技術による印刷回路基板の反り特性のシミュレーショングラフである。5 is a simulation graph of warpage characteristics of the printed circuit board according to the first embodiment of the present invention and the printed circuit board according to the related art. 本発明の第1実施形態及び第2実施形態による印刷回路基板の剛性特性のシミュレーショングラフである。6 is a simulation graph of rigidity characteristics of the printed circuit board according to the first and second embodiments of the present invention. 本発明の第1実施形態及び第2実施形態による印刷回路基板の反り特性のシミュレーショングラフである。6 is a simulation graph of warpage characteristics of the printed circuit board according to the first and second embodiments of the present invention.

本発明による印刷回路基板及びその製造方法の前記目的に対する技術的構成を含めた作用効果に関する事項は、本発明の好ましい実施形態が図示された図面を参照した以下の詳細な説明によって明確に理解されるであろう。   DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A detailed description of a preferred embodiment of the present invention will be clearly understood from the following detailed description with reference to the drawings in which preferred embodiments of the present invention are included. It will be.

本発明を説明するにあたり、係わる公知技術についての具体的な説明が本発明の要旨を不明瞭にする可能性があると判断される場合には、その詳細な説明は省略する。本明細書において、第1、第2などの用語は一つの構成要素を他の構成要素から区別するために用いられるものであり、構成要素が前記用語によって限定されるものではない。   In describing the present invention, if it is determined that there is a possibility that a concrete description of the related art will obscure the gist of the present invention, a detailed description thereof will be omitted. In this specification, terms such as “first” and “second” are used to distinguish one component from other components, and the component is not limited by the terms.

[第1実施形態による印刷回路基板]
まず、図1は本発明の第1実施形態による印刷回路基板の断面図である。
[Printed Circuit Board According to First Embodiment]
FIG. 1 is a cross-sectional view of a printed circuit board according to a first embodiment of the present invention.

図1に図示されたように、本実施形態による印刷回路基板100は、コア補強材110及びコア補強材110の両面に形成された絶縁層120を含むコアCと、前記絶縁層120上に形成された回路層130と、で構成されることができる。   As shown in FIG. 1, the printed circuit board 100 according to the present embodiment is formed on the insulating layer 120 and the core C including the core reinforcing material 110 and the insulating layer 120 formed on both surfaces of the core reinforcing material 110. The circuit layer 130 can be configured.

この際、前記印刷回路基板100には、コア補強材110及び絶縁層120をともに貫通する貫通孔150が備えられており、前記絶縁層120の上面及び前記貫通孔150の内部にはそれぞれ回路層130とめっき層140が形成されることができる。   At this time, the printed circuit board 100 includes a through hole 150 that penetrates both the core reinforcing material 110 and the insulating layer 120, and a circuit layer is formed on the upper surface of the insulating layer 120 and the inside of the through hole 150, respectively. 130 and a plating layer 140 may be formed.

前記コア補強材110と絶縁層120との間には、コア補強材110の表面と絶縁層120との密着力を強化するためのコーティング層(不図示)がさらに形成されることができる。コーティング層は、コア補強材110の表面にプラズマ処理を施すことによりイオン化‐OH基を増加させてコア補強材110と絶縁層120との密着力を向上させることができ、カップリング剤などの塗布によって形成されて密着力を確保することができる。   A coating layer (not shown) for enhancing the adhesion between the surface of the core reinforcing material 110 and the insulating layer 120 may be further formed between the core reinforcing material 110 and the insulating layer 120. The coating layer can increase the ionization-OH groups by performing plasma treatment on the surface of the core reinforcing material 110 to improve the adhesion between the core reinforcing material 110 and the insulating layer 120, and can apply a coupling agent or the like. It is formed by this, and adhesion power can be secured.

この際、前記コーティング層は略2μm以下の厚さに形成されることが好ましい。   At this time, the coating layer is preferably formed to a thickness of about 2 μm or less.

ここで、前記コア補強材110は、ガラス(glass)または非電気伝導性高分子材料であることができる。ガラスとしては板状のガラスが用いられることができ、印刷回路基板の全体的な厚さに応じて約25〜200μmの厚さに形成されることができる。   Here, the core reinforcing material 110 may be glass or a non-electrically conductive polymer material. As the glass, a plate-like glass can be used, and can be formed to a thickness of about 25 to 200 μm depending on the overall thickness of the printed circuit board.

コア補強材110として用いられるガラスの厚さを25〜200μmに限定する理由は、印刷回路基板の製造工程中に所定の反りが加えられることがあるが、ガラスの厚さが25〜200μmである範囲で、反りの曲率半径が10cm以下になるまで破損されずに耐えることができるためである。   The reason for limiting the thickness of the glass used as the core reinforcing material 110 to 25 to 200 μm is that a predetermined warp may be added during the manufacturing process of the printed circuit board, but the thickness of the glass is 25 to 200 μm. This is because, within the range, it can withstand without being damaged until the curvature radius of warpage becomes 10 cm or less.

コア補強材110としてガラスを用いる場合、0.6W/mK内外の熱伝導度を有するガラス材料を適用することが好ましく、局所的な熱的ストレス(thermal stress)を防止するために1.0W/mK以上の熱伝導度を有するガラス材料を用いることがより好ましい。   When glass is used as the core reinforcement 110, it is preferable to apply a glass material having a thermal conductivity of 0.6 W / mK, and 1.0 W / m in order to prevent local thermal stress. It is more preferable to use a glass material having a thermal conductivity of mK or more.

このようにコア補強材110としてガラス材料を用いる場合、ガラス材料は50GPa以上の高い剛性(すなわち、弾性率(Elastic Module))を有するため、印刷回路基板の製造工程時に発生する反りを防止することができる。   Thus, when a glass material is used as the core reinforcing material 110, the glass material has a high rigidity of 50 GPa or more (that is, an elastic module), so that warpage that occurs during the manufacturing process of the printed circuit board is prevented. Can do.

また、前記コア補強材110は、ガラスの代りにフィルム形態の非電気伝導性高分子材料で形成されることもできる。   The core reinforcing material 110 may be formed of a non-electrically conductive polymer material in the form of a film instead of glass.

前記コア補強材110の両面に形成された絶縁層120には複数のガラス布が含まれて、コア補強材110とは別に反りに対応できる剛性を維持することができる。   The insulating layers 120 formed on both surfaces of the core reinforcing material 110 include a plurality of glass cloths, and can maintain rigidity that can cope with warpage separately from the core reinforcing material 110.

また、前記絶縁層120は、フィルム形態またはガラス布が含まれた絶縁シートに形成されることができる。   In addition, the insulating layer 120 may be formed in a film form or an insulating sheet including glass cloth.

絶縁層120が絶縁シートで形成される場合には、コア補強材110の両面にそれぞれ絶縁シートをラミネートした後、絶縁シートの上面を熱及び圧力で圧着することで、コア補強材110の表面に絶縁シートを接合させることができる。   When the insulating layer 120 is formed of an insulating sheet, the insulating sheet is laminated on both surfaces of the core reinforcing material 110, and then the upper surface of the insulating sheet is pressure-bonded with heat and pressure, so that the surface of the core reinforcing material 110 is adhered. An insulating sheet can be joined.

前記絶縁層120がコア補強材110の両面に形成される場合を図示し、これについて具体的に説明したが、これに限定されず、前記絶縁層120がコア補強材110の片面にのみ形成されてもよい。   Although the case where the insulating layer 120 is formed on both surfaces of the core reinforcing material 110 is illustrated and described in detail, the insulating layer 120 is not limited to this, and the insulating layer 120 is formed only on one surface of the core reinforcing material 110. May be.

また、前記絶縁層120が形成されたコア補強材110には絶縁層120及びコア補強材110を貫通する貫通孔150が形成される。前記貫通孔150の内部にはめっき層140が形成され、絶縁層120上には回路層130が形成されることができる。前記回路層130及びめっき層140は電気銅めっきにより形成されることができ、絶縁層120上に形成された回路層130は回路パターンを構成することになり、貫通孔150の内部に形成されためっき層140は絶縁層120上に形成された回路層130を電気的に連結する層間連結層として構成されることができる。   In addition, a through hole 150 that penetrates the insulating layer 120 and the core reinforcing material 110 is formed in the core reinforcing material 110 on which the insulating layer 120 is formed. A plating layer 140 may be formed in the through hole 150, and a circuit layer 130 may be formed on the insulating layer 120. The circuit layer 130 and the plating layer 140 may be formed by electrolytic copper plating, and the circuit layer 130 formed on the insulating layer 120 forms a circuit pattern and is formed in the through hole 150. The plating layer 140 may be configured as an interlayer connection layer that electrically connects the circuit layers 130 formed on the insulating layer 120.

また、前記絶縁層120上には、2μm以下の薄い金属薄膜(不図示)がさらに形成されることができる。前記金属薄膜は主に銅箔で形成されることができ、コア補強材110に絶縁層120を塗布する時に同時に形成されることができる。   A thin metal film (not shown) having a thickness of 2 μm or less may be further formed on the insulating layer 120. The metal thin film may be mainly formed of copper foil, and may be formed at the same time when the insulating layer 120 is applied to the core reinforcing material 110.

前記金属薄膜は、回路層130を形成するための電気銅めっき時にシード層として用いられるが、絶縁層120及びコア補強材110に貫通孔150を形成するためのレーザー加工が可能であるように2μm以下の厚さに形成されなければならない。また、前記金属薄膜は、電気伝導可能なカーボン材料で形成されることもできる。   The metal thin film is used as a seed layer at the time of electrolytic copper plating for forming the circuit layer 130, but is 2 μm so that laser processing for forming the through hole 150 in the insulating layer 120 and the core reinforcing material 110 is possible. It must be formed to the following thickness: The metal thin film may be formed of a carbon material that can conduct electricity.

[第1実施形態による印刷回路基板の製造方法]
以下、図2から図5を参照して本実施形態による印刷回路基板の製造方法を説明すると次の通りである。
[Method for Manufacturing Printed Circuit Board According to First Embodiment]
Hereinafter, the method of manufacturing the printed circuit board according to the present embodiment will be described with reference to FIGS.

まず、図2に図示されたように、コア補強材110を準備する。コア補強材110は板状のガラスまたは非電気伝導性高分子材料であることができ、非電気伝導性高分子材料の場合、フィルム形態で形成されることができる。   First, as shown in FIG. 2, the core reinforcing material 110 is prepared. The core reinforcing material 110 may be a plate-like glass or a non-electrically conductive polymer material. In the case of a non-electrically conductive polymer material, the core reinforcing material 110 may be formed in a film form.

この際、コア補強材110がガラスで形成される場合、50GPa以上の剛性を有して25〜200μmの厚さに形成されることが好ましい。前記厚さが維持されると、印刷回路基板の製造工程時に所定の曲率半径で変形された後破損されずに元状態に復帰されることができる。   At this time, when the core reinforcing material 110 is formed of glass, it is preferable to have a rigidity of 50 GPa or more and to have a thickness of 25 to 200 μm. If the thickness is maintained, it can be restored to its original state without being damaged after being deformed with a predetermined radius of curvature during the manufacturing process of the printed circuit board.

次に、図3aに図示されたように、コア補強材110の両面に絶縁層120を形成してコアCを製作することができる。絶縁層120は、コア補強材110上に絶縁材料を塗布することにより形成し、ガラス布材料が添加された絶縁材を塗布することもできる。   Next, as shown in FIG. 3 a, the core C can be manufactured by forming the insulating layers 120 on both surfaces of the core reinforcing material 110. The insulating layer 120 can be formed by applying an insulating material on the core reinforcing material 110, and an insulating material to which a glass cloth material is added can also be applied.

この際、図3bに図示されたように、前記絶縁層120を形成する前に、コア補強材110の片面または両面にコーティング層115をさらに形成することができる。コーティング層115は、コア補強材110と絶縁層120との密着力を強化させるための薄い絶縁層であって、主に高分子物質を塗布して絶縁層120の接着性を向上させることができる。コーティング層115は2μm内外に形成されることが好ましく、コア補強材110の表面にプラズマ処理を施すことにより‐OH基を増加させて密着力を向上させることができる。   At this time, as shown in FIG. 3 b, a coating layer 115 may be further formed on one or both sides of the core reinforcing material 110 before the insulating layer 120 is formed. The coating layer 115 is a thin insulating layer for strengthening the adhesion between the core reinforcing material 110 and the insulating layer 120, and the adhesion of the insulating layer 120 can be improved by mainly applying a polymer material. . The coating layer 115 is preferably formed on the inside and outside of 2 μm, and by applying plasma treatment to the surface of the core reinforcing material 110, the —OH group can be increased and the adhesion can be improved.

また、前記コーティング層115は、コア補強材110の表面へのプラズマ処理の他に、カップリング剤などをコア補強材110の表面に塗布して形成することができる。   The coating layer 115 may be formed by applying a coupling agent or the like to the surface of the core reinforcing material 110 in addition to the plasma treatment on the surface of the core reinforcing material 110.

次に、図4に図示されたように、前記コア補強材110及び絶縁層120を貫通する貫通孔150を形成することができる。前記貫通孔150は、通常、レーザー加工で形成することができ、COレーザーを利用して貫通孔150を加工することができる。前記貫通孔150は、絶縁材料であるコア補強材110及び絶縁層120にレーザーを照射することにより形成されるため、従来のように層間導通を防止するための別の絶縁基材を貫通孔150の内壁面に形成する必要がなく、レーザー加工だけで貫通孔を形成することができるため、ファインピッチ(fine pitch)の貫通孔を加工することができる。 Next, as illustrated in FIG. 4, a through hole 150 may be formed through the core reinforcing material 110 and the insulating layer 120. The through hole 150 can be generally formed by laser processing, and the through hole 150 can be processed using a CO 2 laser. Since the through-hole 150 is formed by irradiating the core reinforcing material 110 and the insulating layer 120, which are insulating materials, with a laser, another through-hole insulating material for preventing interlayer conduction as in the conventional case is used. Since the through hole can be formed only by laser processing, it is possible to process a fine pitch through hole.

一方、前記コア補強材110及び絶縁層120に貫通孔を形成する前に、図3cに図示されたように、前記絶縁層120上に約2μm内外の薄い金属薄膜125をさらに形成することができる。前記金属薄膜125は、主に銅箔で形成されることができ、その厚さがレーザー加工が可能な程度の厚さ(5μm以下の厚さでCOレーザー加工が可能である)に形成されるため、所定位置にCOレーザーを照射して貫通孔150を加工することができる。 Meanwhile, before forming the through holes in the core reinforcing material 110 and the insulating layer 120, a thin metal thin film 125 of about 2 μm may be further formed on the insulating layer 120 as shown in FIG. . The metal thin film 125 can be mainly formed of a copper foil, and has a thickness that allows laser processing (a thickness of 5 μm or less is capable of CO 2 laser processing). Therefore, the through hole 150 can be processed by irradiating a predetermined position with a CO 2 laser.

この際、貫通孔150が形成された部分以外の絶縁層120上に形成された金属薄膜125は、後工程で回路層を形成するための銅めっき時にシード層として用いられることができる。   At this time, the metal thin film 125 formed on the insulating layer 120 other than the portion where the through hole 150 is formed can be used as a seed layer at the time of copper plating for forming a circuit layer in a subsequent process.

次に、図5に図示されたように、前記貫通孔150の内部及び絶縁層120の上面にそれぞれめっき層140と回路層130を形成することができる。前記めっき層140と回路層130のうち絶縁層120上に形成された回路層130は回路パターンで構成されることができ、前記貫通孔150内に形成されためっき層140は、回路パターンを構成する絶縁層120上の回路層130を電気的に連結する層間連結層として用いられることができる。   Next, as illustrated in FIG. 5, a plating layer 140 and a circuit layer 130 may be formed in the through hole 150 and on the upper surface of the insulating layer 120, respectively. Of the plating layer 140 and the circuit layer 130, the circuit layer 130 formed on the insulating layer 120 may be configured by a circuit pattern, and the plating layer 140 formed in the through hole 150 may configure a circuit pattern. The circuit layer 130 on the insulating layer 120 to be electrically connected can be used as an interlayer connection layer.

前記回路層130及びめっき層140は、電気銅めっきにより形成されることができ、絶縁層120の上面と貫通孔150の内部に同時に形成されることができる。   The circuit layer 130 and the plating layer 140 may be formed by electrolytic copper plating, and may be simultaneously formed on the upper surface of the insulating layer 120 and the inside of the through hole 150.

[第2実施形態による印刷回路基板]
図6は本発明の第2実施形態による印刷回路基板の断面図である。
[Printed Circuit Board According to Second Embodiment]
FIG. 6 is a cross-sectional view of a printed circuit board according to the second embodiment of the present invention.

図示されたように、本実施形態による印刷回路基板200は、絶縁層210及び絶縁層210上に形成されたコア補強材220を含むコアCと、前記コアC上に形成された回路層270と、を含んで構成されることができる。   As illustrated, the printed circuit board 200 according to the present embodiment includes a core C including an insulating layer 210 and a core reinforcing material 220 formed on the insulating layer 210, and a circuit layer 270 formed on the core C. , Can be configured.

この際、絶縁層210は、上述の第1実施形態による印刷回路基板に適用された絶縁層と同様に、複数のガラス布が含まれた絶縁材で形成されることができ、フィルム形態またはガラス布が混在された絶縁シートで形成されてもよい。   At this time, the insulating layer 210 may be formed of an insulating material including a plurality of glass cloths, like the insulating layer applied to the printed circuit board according to the first embodiment, and may be formed in a film form or glass. You may form with the insulating sheet with which cloth was mixed.

図面に図示されたように、絶縁層210の両面にコア補強材220が付着されることができるが、これは一つの実施形態に過ぎず、絶縁層210の片面にのみコア補強材220が付着されてもよい。   As shown in the drawing, the core reinforcing material 220 may be attached to both surfaces of the insulating layer 210, but this is only one embodiment, and the core reinforcing material 220 is attached to only one surface of the insulating layer 210. May be.

コア補強材220としては、略50Gpa以上の剛性を有するガラスが適用されることができ、薄い板状のガラスが絶縁層210の上、下面にそれぞれ積層されることができる。この際、コア補強材220は、ガラスの代りに非電気伝導性高分子材料で形成されてもよい。   As the core reinforcing member 220, glass having a rigidity of about 50 Gpa or more can be applied, and thin plate-like glass can be laminated on the upper and lower surfaces of the insulating layer 210, respectively. At this time, the core reinforcing member 220 may be formed of a non-electrically conductive polymer material instead of glass.

上記のように、絶縁層210を挟んで絶縁層210の両面に板状のガラスがコア補強材220として採用されると、コア補強材220の間の絶縁層210が衝撃吸収の役割をするため、印刷回路基板の製造工程中にコア補強材220が破損されることを防止することができる。   As described above, when plate-like glass is adopted as the core reinforcing material 220 on both surfaces of the insulating layer 210 with the insulating layer 210 interposed therebetween, the insulating layer 210 between the core reinforcing materials 220 serves to absorb shock. The core reinforcing member 220 can be prevented from being damaged during the manufacturing process of the printed circuit board.

ここで、コア補強材220の間に積層された絶縁層210が一つの層からなる場合を図示しているが、これは一実施形態を説明するためのものであって、二つ以上の多層からなる絶縁層を形成してもよい。   Here, although the case where the insulating layer 210 laminated | stacked between the core reinforcement materials 220 consists of one layer is illustrated, this is for describing one Embodiment, Comprising: Two or more multilayers are shown. An insulating layer made of may be formed.

前記回路層270はコア補強材220上に所定のパターンで形成されることができ、上記の第1実施形態と同様に、コア補強材220及び絶縁層210を貫通して形成された貫通孔250に充填されているめっき層260により、前記コア補強材220上に形成された回路層270の層間連結がなされることができる。   The circuit layer 270 may be formed in a predetermined pattern on the core reinforcing member 220, and the through hole 250 formed through the core reinforcing member 220 and the insulating layer 210 as in the first embodiment. The circuit layer 270 formed on the core reinforcing member 220 can be connected by the plating layer 260 filled in the layer.

回路層270は、コア補強材220上にめっき層によって形成されることができる。回路層270を形成するためのめっき層の形成時に、シード層230を先に形成した後にめっき層を形成し、めっき層をパターニングすることにより回路層270が形成されることができる。この際、シード層230は第1シード層230a及び第2シード層230bで形成されることができる。   The circuit layer 270 may be formed on the core reinforcement member 220 by a plating layer. When the plating layer for forming the circuit layer 270 is formed, the circuit layer 270 can be formed by forming the plating layer after forming the seed layer 230 first and then patterning the plating layer. At this time, the seed layer 230 may be formed of the first seed layer 230a and the second seed layer 230b.

第1シード層230a及び第2シード層230bを含むシード層230は、チタン(Ti)、銅(Cu)、モリブデン(Mo)、ニッケル(Ni)、銀(Ag)、亜鉛(Zn)、炭素(C)などの伝導性金属材またはこれらの合金からなる群から選択される何れか一つで形成されることができる。   The seed layer 230 including the first seed layer 230a and the second seed layer 230b includes titanium (Ti), copper (Cu), molybdenum (Mo), nickel (Ni), silver (Ag), zinc (Zn), carbon ( The conductive metal material such as C) or any one selected from the group consisting of these alloys can be used.

また、前記シード層230及び回路層270は、コスト的な側面及び工程上の利点などを考慮して銅(Cu)で形成されることが好ましい。   In addition, the seed layer 230 and the circuit layer 270 are preferably formed of copper (Cu) in consideration of cost aspect and process advantages.

上記のように構成された本実施形態による印刷回路基板200は、絶縁層210を中心として形成されたコア補強材220が板状のガラスで形成されるため、コア補強材220上に形成された回路層270が滑らかな表面に形成される。これにより、コア補強材220と回路層270との間の界面に粗さ(roughness)がないため、信号のノイズが少なく、超微細ピッチを有する回路層270を容易に具現することができる。   The printed circuit board 200 according to the present embodiment configured as described above is formed on the core reinforcing material 220 because the core reinforcing material 220 formed around the insulating layer 210 is formed of plate-like glass. The circuit layer 270 is formed on a smooth surface. Accordingly, since there is no roughness at the interface between the core reinforcing member 220 and the circuit layer 270, the circuit layer 270 having a very fine pitch can be easily implemented with less signal noise.

即ち、回路層270が滑らかな表面、即ち、表面粗さの小さい面に形成されるため、回路層を形成するためのエッチング量が減少され、回路形成時の損失量が低減されて、超微細ピッチの形成が可能となり、信号のノイズが顕著に低減される。   That is, since the circuit layer 270 is formed on a smooth surface, that is, a surface with a small surface roughness, the etching amount for forming the circuit layer is reduced, the loss amount at the time of circuit formation is reduced, A pitch can be formed, and signal noise is significantly reduced.

[第2実施形態による印刷回路基板の製造方法]
図7から図12は本発明の第2実施形態による印刷回路基板の製造方法を順に図示した工程断面図である。
[Method for Manufacturing Printed Circuit Board According to Second Embodiment]
7 to 12 are process cross-sectional views sequentially illustrating a method of manufacturing a printed circuit board according to the second embodiment of the present invention.

まず、図7に図示されたように、絶縁層210の上、下面にコア補強材220を付着してコアCを製作することができる。この際、絶縁層210は、耐熱性を有する高分子材料としてガラス布が含浸された絶縁材で形成されることができ、フィルム形態またはガラス布が混在された絶縁シートで形成されてもよい。また、前記コア補強材220の間に積層された絶縁層210が工程中に発生する衝撃を吸収することにより、コア補強材220が衝撃または反りによって破損されることを防止することができる。   First, as shown in FIG. 7, the core C can be manufactured by attaching the core reinforcing material 220 to the upper and lower surfaces of the insulating layer 210. At this time, the insulating layer 210 can be formed of an insulating material impregnated with glass cloth as a polymer material having heat resistance, and may be formed of a film form or an insulating sheet mixed with glass cloth. In addition, the insulating layer 210 laminated between the core reinforcing members 220 absorbs an impact generated during the process, so that the core reinforcing member 220 can be prevented from being damaged by an impact or a warp.

前記コアCを製作する段階は、絶縁層210の両面にコア補強材220を積層する段階と、コア補強材220と絶縁層210を順に積層して加熱、加圧した後、絶縁層210の両面にコア補強材220を接合する段階と、をさらに含むことができる。   The step of manufacturing the core C includes the step of laminating the core reinforcing material 220 on both sides of the insulating layer 210, the layering of the core reinforcing material 220 and the insulating layer 210 in sequence, heating and pressing, and then the both sides of the insulating layer 210. Joining the core reinforcing member 220 to the core.

次に、図8に図示されたように、絶縁層210及びコア補強材220が積層されたコアCを貫通する貫通孔250を形成することができる。貫通孔250は、レーザードリルにより形成することができ、代表的にCOレーザー、YAGレーザー、またはパルスUVエキシマレーザーなどが適用されることができる。 Next, as illustrated in FIG. 8, a through hole 250 that penetrates the core C in which the insulating layer 210 and the core reinforcing material 220 are stacked can be formed. The through hole 250 can be formed by a laser drill, and typically, a CO 2 laser, a YAG laser, a pulsed UV excimer laser, or the like can be applied.

一方、コアCに貫通孔250を形成する段階の後に、貫通孔250が形成されたコアCの表面及び貫通孔250の内壁をクリーニングする段階をさらに含むことができる。この際、コアCの表面及び貫通孔250の内壁をクリーニングする際には、特に限定されないが、乾式エッチングまたは湿式エッチングが適用されてもよく、デスミア工程により行われてもよい。このうち乾式エッチング工程としては、プラズマエッチング、スパッタエッチング、またはイオンエッチングなどが用いられることができる。   Meanwhile, after the step of forming the through hole 250 in the core C, a step of cleaning the surface of the core C in which the through hole 250 is formed and the inner wall of the through hole 250 may be further included. At this time, the surface of the core C and the inner wall of the through hole 250 are not particularly limited, but dry etching or wet etching may be applied, or may be performed by a desmear process. Among these, as the dry etching process, plasma etching, sputter etching, ion etching, or the like can be used.

次に、図9に図示されたように、貫通孔250の内壁を含むコアCの表面にシード層230を形成することができる。シード層230は、後続工程で回路層270を形成するためのめっき層の形成時にめっき層を容易に成長させるためのものであり、通常スパッタリング工法により形成することができる。また、シード層230は場合に応じて第1シード層230aと第2シード層230bとに区分して形成することができ、チタン(Ti)、アルミニウム(Al)、銅(Cu)、モリブデン(Mo)、ニッケル(Ni)、銀(Ag)、亜鉛(Zn)、炭素(C)、またはこれらの合金からなる群から選択される何れか一つで形成することができる。   Next, as illustrated in FIG. 9, the seed layer 230 may be formed on the surface of the core C including the inner wall of the through hole 250. The seed layer 230 is for easily growing a plating layer when forming a plating layer for forming the circuit layer 270 in a subsequent process, and can be formed by a normal sputtering method. The seed layer 230 can be divided into a first seed layer 230a and a second seed layer 230b according to circumstances, and can be formed of titanium (Ti), aluminum (Al), copper (Cu), molybdenum (Mo ), Nickel (Ni), silver (Ag), zinc (Zn), carbon (C), or any one of these alloys.

次に、図10に図示されたように、シード層230上に回路形成用開口部241を有するめっきレジスト層240を形成することができる。めっきレジスト層240は感光性ポリマーを用いたフォトレジストを利用して形成することができ、フォトレジストを塗布した後、マスクを用いて回路形成用開口部241を形成することができる。この際、めっきレジスト層240の回路形成用開口部241は回路パターンの設計仕様に応じて形成することができる。   Next, as shown in FIG. 10, a plating resist layer 240 having a circuit forming opening 241 can be formed on the seed layer 230. The plating resist layer 240 can be formed using a photoresist using a photosensitive polymer. After applying the photoresist, the circuit forming opening 241 can be formed using a mask. At this time, the circuit forming opening 241 of the plating resist layer 240 can be formed according to the design specification of the circuit pattern.

次に、図11及び図12に図示されたように、めっきレジスト層240が形成されたコア補強材220上にめっき層260を形成し、めっきレジスト層240を除去することにより回路層270を形成することができる。   Next, as illustrated in FIGS. 11 and 12, the plating layer 260 is formed on the core reinforcing material 220 on which the plating resist layer 240 is formed, and the plating resist layer 240 is removed to form the circuit layer 270. can do.

ここで、前記コア補強材220上にめっき層260を形成するめっき工程は電解めっきにより行われることができ、めっき層260は銅(Cu)で形成されることが好ましい。また、前記めっきレジスト層240を除去する段階は、機械的剥離または化学溶液を用いた化学的剥離工程により行われることができる。   Here, the plating process for forming the plating layer 260 on the core reinforcing material 220 may be performed by electrolytic plating, and the plating layer 260 is preferably formed of copper (Cu). The step of removing the plating resist layer 240 may be performed by mechanical peeling or a chemical peeling process using a chemical solution.

上記のように構成された第1実施形態及び第2実施形態による印刷回路基板100、200は、図13に図示されたように、コア補強材220の両面に絶縁層210が形成されたり、絶縁層210の両面にコア補強材220が積層された構成のコアCを中心としてその上、下面にそれぞれ第2絶縁層310と回路層320が連続的に積層されるビルドアップ工程が後続されることができる。   In the printed circuit boards 100 and 200 according to the first and second embodiments configured as described above, as illustrated in FIG. A build-up process in which the second insulating layer 310 and the circuit layer 320 are successively laminated on the lower surface and the lower surface of the core C, in which the core reinforcing material 220 is laminated on both surfaces of the layer 210, is followed. Can do.

図13は本発明の一実施形態による印刷回路基板に複数の絶縁層及び回路層がビルドアップされた多層印刷回路基板の断面図である。   FIG. 13 is a cross-sectional view of a multilayer printed circuit board in which a plurality of insulating layers and circuit layers are built up on a printed circuit board according to an embodiment of the present invention.

図13に図示された多層印刷回路基板300は、図1及び図6に図示された印刷回路基板を製作した後、絶縁層210及びコア補強材220が積層されたコアCの上、下面にそれぞれプリプレグ(PPG)などの材料からなる第2絶縁層310を積層し、第2絶縁層310上に回路層320を形成することにより製作することができる。コアCに積層された第2絶縁層310にはビアホール330を形成して、コアCに形成された回路層270と第2絶縁層310上に形成された回路層270とを導通させて層間連結がなされるようにし、前記第2絶縁層310上にはソルダーレジスト層340を形成して第2絶縁層310及び回路層270の保護及び露出がなされるようにすることができる。   The multilayer printed circuit board 300 shown in FIG. 13 is formed on the upper and lower surfaces of the core C on which the insulating layer 210 and the core reinforcing material 220 are laminated after the printed circuit board shown in FIGS. The second insulating layer 310 made of a material such as prepreg (PPG) can be stacked, and the circuit layer 320 can be formed on the second insulating layer 310. Via holes 330 are formed in the second insulating layer 310 stacked on the core C, and the circuit layer 270 formed on the core C and the circuit layer 270 formed on the second insulating layer 310 are electrically connected to each other. A solder resist layer 340 may be formed on the second insulating layer 310 to protect and expose the second insulating layer 310 and the circuit layer 270.

[各実施形態による印刷回路基板の剛性及び反り特性]
上記のように構成された本発明による印刷回路基板を上述の製造工程で製作した。従来の一般的な印刷回路基板、即ち、コア補強材を用いず絶縁材のみで形成された絶縁層を用いて製作された印刷回路基板及び本発明による印刷回路基板に所定の熱を加えると、そのヤング率が図14のようにシミュレーションされる。
[Rigidity and warpage characteristics of printed circuit board according to each embodiment]
The printed circuit board according to the present invention configured as described above was manufactured by the above manufacturing process. When a predetermined heat is applied to a conventional general printed circuit board, that is, a printed circuit board manufactured using an insulating layer formed of only an insulating material without using a core reinforcing material and a printed circuit board according to the present invention, The Young's modulus is simulated as shown in FIG.

図14は本発明の第1実施形態による印刷回路基板及び従来技術による印刷回路基板の反り特性のシミュレーショングラフである。図示されたように、絶縁層の間にプリプレグ材料が介在された従来の印刷回路基板は、温度が上昇するほど反りを誘発する力であるヤング率が急激に大きくなって、基板の製造工程中に反りが大きく発生する。その反面、本発明による印刷回路基板は、低い温度または高い温度でヤング率が大きく変化することなく低いレベルに維持されるため、印刷回路基板の製作工程中に発生する反りが最小化されることが分かる。即ち、本発明による印刷回路基板は、コアを構成する絶縁層の表面または絶縁層の間にガラス材料のコア補強材が挿入されることにより、優れた剛性を有するとともに、印刷回路基板の製作工程中に適用される温度及び湿度の変化による反りが最小化される。   FIG. 14 is a simulation graph of warpage characteristics of the printed circuit board according to the first embodiment of the present invention and the printed circuit board according to the prior art. As shown in the drawing, in the conventional printed circuit board in which the prepreg material is interposed between the insulating layers, the Young's modulus, which is a force for inducing warpage, rapidly increases as the temperature rises. Warpage occurs greatly. On the other hand, the printed circuit board according to the present invention is maintained at a low level without a large change in Young's modulus at a low temperature or a high temperature, so that the warp generated during the manufacturing process of the printed circuit board is minimized. I understand. That is, the printed circuit board according to the present invention has excellent rigidity by inserting a core reinforcing material made of glass material between the surface of the insulating layer constituting the core or between the insulating layers, and the printed circuit board manufacturing process. Warpage due to changes in temperature and humidity applied therein is minimized.

一方、上述の実施形態の技術的特徴を有する本発明の印刷回路基板は、従来の印刷回路基板に比べ向上されたコアの剛性及び反り特性を具現するために、絶縁層とコア補強材からなるコアの全体厚さに対してコア補強材が占める割合(portion)が35%〜80%の範囲を有することが好ましい。これは、上述の第1実施形態による印刷回路基板(図1)及び第2実施形態による印刷回路基板(図6)の両方に採用されるコア構成に適用されることができる。   Meanwhile, the printed circuit board of the present invention having the technical features of the above-described embodiment includes an insulating layer and a core reinforcing material in order to realize improved core rigidity and warpage characteristics compared to the conventional printed circuit board. It is preferred that the ratio of the core reinforcement to the total thickness of the core ranges from 35% to 80%. This can be applied to the core configuration employed in both the printed circuit board according to the first embodiment (FIG. 1) and the printed circuit board according to the second embodiment (FIG. 6).

また、各実施形態においてコアを構成するコア補強材及び絶縁層の熱膨張係数(CTE)とヤング率の関係が下記の数式1を満たす時に、従来の印刷回路基板より向上されたコアの反り特性を具現することができる。   Further, when the relationship between the coefficient of thermal expansion (CTE) and Young's modulus of the core reinforcing material and the insulating layer constituting the core in each embodiment satisfies the following Equation 1, the core warpage characteristics improved over the conventional printed circuit board: Can be realized.

Figure 0006342357
(ここで、αはコア補強材の熱膨張係数(1/k)、αは絶縁層の熱膨張係数(1/k)、Eはコア補強材のヤング率(GPa)、Eは絶縁材のヤング率(GPa)である。)
Figure 0006342357
(Where α 1 is the coefficient of thermal expansion (1 / k) of the core reinforcement, α 2 is the coefficient of thermal expansion (1 / k) of the insulating layer, E 1 is the Young's modulus (GPa) of the core reinforcement, and E 2 Is the Young's modulus (GPa) of the insulating material.)

ここで、コアの全体厚さに対してコア補強材が占める割合を最下35%に限定する理由は、従来の基板におけるコア構造物に比べコア補強材の構成の割合が35%以上である時にコアの反り特性が向上され、最大80%以下に限定する理由は、コアでコア補強材を除いた絶縁層の厚さを10μmまで製作することができるが、絶縁層の厚さをより薄く形成するとコアにクラックが発生する恐れがあり、クラックの発生によってコアの破断が発生する恐れがあるためである。   Here, the reason for limiting the ratio of the core reinforcing material to the lowest 35% with respect to the total thickness of the core is that the ratio of the configuration of the core reinforcing material is 35% or more compared to the core structure in the conventional substrate. The core warping characteristics are sometimes improved, and the reason for limiting the maximum to 80% or less is that the thickness of the insulating layer excluding the core reinforcing material can be made up to 10 μm in the core, but the thickness of the insulating layer is made thinner. This is because if formed, the core may crack, and the core may break due to the occurrence of the crack.

したがって、前記数式に基づいてコアの全体厚さでコア補強材が占める割合が35%〜80%の範囲を有するようにし、且つコア補強材及びコア補強材をくるむ絶縁層が様々な材料、即ち、PPG、ABF、PIまたはプライマー(primer)のうち何れか一つで形成された絶縁層、またはPPG、ABF、PIまたはプライマーのうち何れか一つの絶縁材料にガラス布(glass cloth)またはフィラーなどが含浸された絶縁層の変数を前記数式に代入して6.492×10-8〜4.463×10-6/GPa・kの範囲を満たすと、コアの反り改善の効果が奏されるという意味である。 Therefore, the ratio of the core reinforcing material to the total thickness of the core based on the above formula is in the range of 35% to 80%, and the core reinforcing material and the insulating layer surrounding the core reinforcing material are various materials, , PPG, ABF, PI or an insulating layer formed of any one of primers, or any one insulating material of PPG, ABF, PI or a primer with a glass cloth or filler, etc. Substituting the variable of the insulating layer impregnated with the above equation into the above formula to satisfy the range of 6.492 × 10 −8 to 4.463 × 10 −6 / GPa · k, the effect of improving the core warpage is exhibited. It means that.

上記のようにコア全体の厚さに対してコア補強材が占める割合及び前記数式の条件を満たす時に、図15または図16に図示されたようにコアの剛性及び反り特性を満たすことができる。   As described above, when the ratio of the core reinforcing material to the thickness of the entire core and the condition of the above equation are satisfied, the rigidity and warpage characteristics of the core can be satisfied as shown in FIG.

図15は本発明の第1実施形態及び第2実施形態による印刷回路基板の剛性特性のシミュレーショングラフであり、図16は本発明の第1実施形態及び第2実施形態による印刷回路基板の反り特性のシミュレーショングラフである。   15 is a simulation graph of the rigidity characteristics of the printed circuit board according to the first and second embodiments of the present invention, and FIG. 16 is a warp characteristic of the printed circuit board according to the first and second embodiments of the present invention. It is a simulation graph of.

グラフに図示されたように、図15及び図16を参照すると、上述の印刷回路基板の第1実施形態及び第2実施形態は、コアの全体厚さに対してコア補強材が占める割合が35%以上である時に、従来の印刷回路基板のコア(通常CCL)に比べ剛性及び反り特性が両方とも改善され、各実施形態のうちコアの全体厚さに対してコア補強材が占める割合が35%以上である時に、第1実施形態の印刷回路基板に比べ第2実施形態の印刷回路基板が約2.5倍より強い剛性を有し、第1実施形態の印刷回路基板に比べ第2実施形態の印刷回路基板が微細に優れた反り特性の改善効果を示すことが分かる。   As shown in the graph, referring to FIGS. 15 and 16, in the first and second embodiments of the printed circuit board described above, the ratio of the core reinforcement to the total thickness of the core is 35. %, Both rigidity and warpage characteristics are improved as compared with the core of the conventional printed circuit board (usually CCL), and the ratio of the core reinforcing material to the total thickness of the core in each embodiment is 35. %, The printed circuit board of the second embodiment has a rigidity that is about 2.5 times stronger than the printed circuit board of the first embodiment, and the second implementation compared to the printed circuit board of the first embodiment. It can be seen that the printed circuit board of the embodiment shows the improvement effect of the warp characteristics excellent in fineness.

以上、代表的な実施形態を参照して本発明について詳細に説明したが、本発明に属する技術分野において通常の知識を有する者であれば、上述の実施形態に対して本発明の範囲を外れない限度内で多様な変形が可能であることを理解するのであろう。   As described above, the present invention has been described in detail with reference to the representative embodiments. However, a person having ordinary knowledge in the technical field belonging to the present invention may depart from the scope of the present invention with respect to the above-described embodiments. It will be understood that various modifications are possible within the limits.

100、200、300 印刷回路基板
110、220 コア補強材
120、210 絶縁層
130、270 回路層
150、250 貫通孔
100, 200, 300 Printed circuit board 110, 220 Core reinforcing material 120, 210 Insulating layer 130, 270 Circuit layer 150, 250 Through hole

Claims (15)

ガラス層及び前記ガラス層の両面に積層された絶縁層を有するコアと、
前記コアを貫通する貫通孔と、
前記貫通孔の内壁に形成されたシード層と、
前記絶縁層上に形成される回路層と、
を含み、前記シード層は前記回路層に対応するように、前記絶縁層と前記回路層との間にさらに形成されており、前記貫通孔の内壁に形成されたシード層と、前記絶縁層と前記回路層との間に形成されたシード層とは、一体層である、印刷回路基板。
A core having an insulating layer laminated on both sides of the glass layer and the glass layer;
A through hole penetrating the core;
A seed layer formed on the inner wall of the through hole;
A circuit layer formed on the insulating layer;
Only including, the seed layer so as to correspond to the circuit layer, the insulating layer and is further formed between the circuit layer, a seed layer formed on the inner wall of the through hole, the insulating layer And the seed layer formed between the circuit layer and the circuit layer is an integrated layer .
前記貫通孔内に形成されるめっき層をさらに含む、請求項1に記載の印刷回路基板。   The printed circuit board according to claim 1, further comprising a plating layer formed in the through hole. 前記ガラス層の厚さが25〜200μmである、請求項1又は請求項2に記載の印刷回路基板。   The printed circuit board according to claim 1, wherein the glass layer has a thickness of 25 to 200 μm. 前記コアの全体厚さに対する前記ガラス層の厚さの割合が35%〜80%である、請求項1から請求項3のいずれか1項に記載の印刷回路基板。   The printed circuit board according to any one of claims 1 to 3, wherein a ratio of the thickness of the glass layer to the entire thickness of the core is 35% to 80%. 前記シード層は複数の層で形成される、請求項1から請求項のいずれか1項に記載の印刷回路基板。 The seed layer is formed of a plurality of layers, printed circuit board according to any one of claims 1 to 4. 前記ガラス層と前記絶縁層との間にコーティング層が介在される、請求項1から請求項のいずれか1項に記載の印刷回路基板。 Printed circuit board according coating layer is interposed, claims 1 to any one of claims 5 between the insulating layer and the glass layer. 前記コーティング層の厚さは2μm以下である、請求項に記載の印刷回路基板。 The printed circuit board according to claim 6 , wherein a thickness of the coating layer is 2 μm or less. 前記絶縁層はガラス布が含浸された樹脂で形成される、請求項1から請求項のいずれか1項に記載の印刷回路基板。 The insulating layer is formed of a resin having a glass cloth is impregnated, printed circuit board according to any one of claims 1 to 7. ガラス層の両面に絶縁層を積層してコアを形成する段階と、
前記コアに貫通孔を形成する段階と、
前記貫通孔の内壁にシード層を形成する段階と、
前記絶縁層上に回路層を形成する段階と、
を含み、前記シード層を形成する段階において、前記シード層は前記回路層に対応して前記絶縁層上にさらに形成され、前記貫通孔の内壁に形成されたシード層と、前記絶縁層上に形成されたシード層とは、一体層である、印刷回路基板の製造方法。
Forming a core by laminating insulating layers on both sides of the glass layer;
Forming a through hole in the core;
Forming a seed layer on the inner wall of the through hole;
Forming a circuit layer on the insulating layer;
Only including, in the step of forming the seed layer, the seed layer is further formed on the insulating layer corresponding to the circuit layer, the seed layer formed on the inner wall of the through hole, said insulating layer The seed layer formed in the method is a method for manufacturing a printed circuit board , which is an integral layer .
前記貫通孔の内部にめっき層を形成する段階をさらに含む、請求項に記載の印刷回路基板の製造方法。 The method of manufacturing a printed circuit board according to claim 9 , further comprising forming a plating layer inside the through hole. 前記シード層は複数の層で形成される、請求項から請求項10のいずれか1項に記載の印刷回路基板の製造方法。 The seed layer is formed of a plurality of layers, a method of manufacturing a printed circuit board according to any one of claims 10 to claim 9. 前記コアを形成する段階は、
前記絶縁層を積層する前に、前記ガラス層にコーティング層を形成する段階を含む請求項から請求項11のいずれか1項に記載の印刷回路基板の製造方法。
Forming the core comprises:
Wherein prior to stacking the insulating layer, a method of manufacturing a printed circuit board according to any one of claims 9 to claim 11 including the step of forming a coating layer on the glass layer.
前記貫通孔を形成する段階の後に、
前記ガラス層の表面及び前記貫通孔の内壁をクリーニングする段階をさらに含む、請求項から請求項12のいずれか1項に記載の印刷回路基板の製造方法。
After the step of forming the through hole,
Further comprising the step of cleaning the inner wall surface and the through hole of the glass layer, a method of manufacturing a printed circuit board according to any one of claims 12 to claim 9.
前記クリーニングする段階はエッチングにより行われる、請求項13に記載の印刷回路基板の製造方法。 The method of manufacturing a printed circuit board according to claim 13 , wherein the cleaning is performed by etching. 前記コアを形成する段階において、
前記ガラス層の両面に前記絶縁層を配置し、加熱及び加圧する、請求項から請求項14のいずれか1項に記載の印刷回路基板の製造方法。
In the step of forming the core,
It said insulating layer is disposed on both surfaces of the glass layer, heating and pressing, a method of manufacturing a printed circuit board according to any one of claims 14 claim 9.
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KR102268385B1 (en) * 2014-08-14 2021-06-23 삼성전기주식회사 Printed circuit board and method of manufacturing the same
KR101650938B1 (en) * 2014-09-25 2016-08-24 코닝정밀소재 주식회사 Substrate for ic package
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4946165A (en) * 1972-09-11 1974-05-02
JP3756041B2 (en) * 1999-05-27 2006-03-15 Hoya株式会社 Manufacturing method of multilayer printed wiring board
EP1667510B1 (en) * 2003-09-09 2013-11-06 Hoya Corporation Method for manufacturing double-sided printed glass board
JP2005159330A (en) * 2003-11-05 2005-06-16 Hitachi Chem Co Ltd Method of manufacturing multilayer circuit board and multilayer circuit board manufactured by the same, and board with semiconductor chip mounted thereon and semiconductor package using the same
TWI236324B (en) * 2004-04-08 2005-07-11 Phoenix Prec Technology Corp Insulating structure of circuit board and method for fabricating the circuit board by using the insulating structure
JP2006049804A (en) * 2004-07-07 2006-02-16 Shinko Electric Ind Co Ltd Manufacturing method of wiring board
JP4564342B2 (en) * 2004-11-24 2010-10-20 大日本印刷株式会社 Multilayer wiring board and manufacturing method thereof
EP2461659A4 (en) * 2009-09-02 2014-08-20 Panasonic Corp Printed wiring board, build-up multi-layer board, and production method therefor

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