JP6314451B2 - カラーフィルタ形成基板および有機ｅｌ表示装置 - Google Patents

Description

本発明は、有機ＥＬ表示装置用のカラーフィルタ形成基板と、該基板を用いた有機ＥＬ表示装置に関し、特に、白色発光タイプまたは塗り分けタイプの有機ＥＬ表示装置用のカラーフィルタ形成基板に関する。

近年、有機ＥＬ表示装置は、自己発光性であるために視認性が優れ、バックライトが不要なため、薄く、軽くでき、構造が簡単で低コスト化が期待でき、動画表示にも適していることから、液晶ディスプレイ装置やプラズマディスプレイ装置に続くフラットなディスプレイ装置（フラットパネルとも言う）として、研究開発、商品化が進められている。

有機ＥＬ表示装置のフルカラー化には、大別して、カラーフィルタ方式と塗り分け方式と色変換方式とがある。カラーフィルタ方式は白色発光の有機ＥＬ素子とカラーフィルタを組み合わせる方法であり、塗り分け方式は赤、緑、青等の複数色の発光層を平面的に配列する方法であり、色変換方式は青色発光の有機ＥＬ素子と色変換層を組み合わせる方法である。また、塗り分け方式では、色純度を高めるためにカラーフィルタを併用する場合がある。

そして、通常、白色発光の有機ＥＬ素子（有機発光素子、有機ＥＬ発光素子とも言う）１２２を用いた白色発光タイプの有機ＥＬ表示装置としては、図１１（ａ）に示すように、表示の高色純度と高輝度を両立するために、カラーフィルタ用のＲ、Ｇ、Ｂの各色の着色層１１３Ｒ、１１３Ｇ、１１３Ｂを配した画素（着色画素とも言う）のほかに、高い光透過性の高光透過画素（ＷＨＩＴＥ層１１３Ｗを配したＷＨＩＴＥ画素）を備えた形態が採られている。
また、図１１（ｂ）に示すように、上記白色発光タイプの有機ＥＬ表示装置の前面（観察者側）に円偏光板１３０を設け、外部入射光の反射を低減する形態も採られている。
あるいはまた、図１１（ｃ）に示すように、ＷＨＩＴＥ画素に相当する領域に着色材が分散された感光性樹脂からなる層を配し、これを透過率調整部１１３ＷＡとして、外光の入射や、入射された外光の、有機ＥＬ素子が有する電極及び金属配線での反射を調整する形態も採られている。（特許文献２参照）
なお、図１１中の符号については後述の符号の説明に記載する。
図１１（ａ）に示す有機ＥＬ表示装置の場合、前面（観察者側）から入射される外光の反射率は、通常、９７％程度である。
図１１（ｂ）に示す有機ＥＬ表示装置の場合、前面（観察者側）から入射される外光の反射率は、通常、０．１％程度で、表示の明るさは、図１１（ａ）に示す形態の有機ＥＬ表示装置の４０％程度である。
図１１（ｃ）に示す有機ＥＬ表示装置の場合、透過率調整部１１３ＷＡにより、外光の入射や、入射された外光の、有機ＥＬ素子が有する電極及び金属配線での反射を調整することができるが、外光の反射低減が不十分であり、反射ムラが見え易い。
尚、高光透過画素には、通常、着色していない樹脂層や、Ｒ、Ｇ、Ｂの各色を併せた色に合わせて若干着色してある樹脂層を配しているが、このような高光透過画素をＷＨＩＴＥ画素と言い、ＷＨＩＴＥ画素に配置されている樹脂層をＷＨＩＴＥ層１１３Ｗと言う。
また、有機ＥＬ表示装置は、有機エレクトロルミネッセンスディスプレイ装置、有機ＥＬディスプレイ装置とも言われ、表示装置は、表示パネルとも言われる。

このように、白色発光の有機ＥＬ素子を用いた白色発光タイプの有機ＥＬ表示装置には種々の形態があり、いずれの形態も、各画素毎に白色発光の有機ＥＬ素子を対応して配し、各画素毎にＴＦＴ素子により制御駆動しているが、いずれの形態の場合も、ある画素領域についてみると、その画素領域の着色層に、隣接する画素を表示するための有機ＥＬ素子からの白色光が直接入り込み、あるいは、隣接する画素を表示するための有機ＥＬ素子からの白色光が該隣接する画素のカラーフィルタ用の着色層を通過して入り込み、これらが原因で、見る方向によって、表示される画像の色シフトや混色が発生していた。
これは、有機ＥＬ素子からの光が、全て、カラーフィルタ形成基板に対して、その基材面に直交する方向に入射するのではなく、入射する角度に広がりをもって入射するために起こるのである。
尚、ある画素を表示するための有機ＥＬ素子からの白色光が、該画素のカラーフィルタ用の着色層を通過して、隣接する画素の着色層に入り込む場合には、２つの着色層の可視領域での透過特性により、ほとんど吸収されるため、特に、ある画素を表示するための有機ＥＬ素子からの白色光が、直接、隣接する画素の着色層に入り込むことが、表示される画像の色シフトや混色に大きく影響をしている。

また、赤、緑、青等の複数色の発光層が平面的に配列された有機ＥＬ素子を備える塗り分けタイプの有機ＥＬ表示装置においても、カラーフィルタを併用した場合には、上記の白色発光タイプの有機ＥＬ表示装置と同様に、表示される画像の色シフトや混色が発生する。
図１５は、赤、緑、青の３色の発光層が平面的に配列された有機ＥＬ素子の発光スペクトルおよびカラーフィルタの透過スペクトルの一例を示すグラフである。例えば、有機ＥＬ素子の青色発光層の発光スペクトルとカラーフィルタの緑色着色層の透過スペクトルとは一部重複しているため、青色発光層からの青色光の一部は緑色着色層を透過する。同様に、有機ＥＬ素子の緑色発光層の発光スペクトルとカラーフィルタの青色着色層の透過スペクトルとは一部重複しているため、緑色発光層からの緑色光の一部は青色着色層を透過する。また、有機ＥＬ素子の赤色発光層の発光スペクトルとカラーフィルタの緑色着色層の透過スペクトルとは一部重複しているため、赤色発光層からの赤色光の一部は緑色着色層を透過する。そのため、隣接する画素の有機ＥＬ素子からの光の入り込みに起因して、表示される画像の色シフトや混色が発生してしまうのである。

そして、表示の高精細、高品質化の要求に伴い、各画素については、隣接する画素の有機ＥＬ素子から光の入り込みが、品質上、無視できなくなってきた。

特開２００６−０７３２１９号公報 特開２０１２−１８５９９２号公報

上記のように、白色発光タイプや塗り分けタイプの有機ＥＬ表示装置においては、特に、表示の高精細、高品質化の要求に伴い、品質上、各画素については、隣接する画素の有機ＥＬ素子からの光の入り込みが、無視できなくなってきて、この対応が求められていた。
本発明は、これに対応するもので、各画素についての隣接する画素の有機ＥＬ素子からの光の入り込みに起因する、表示される画像の色シフトや混色を防止あるいは抑制できる有機ＥＬ表示装置を提供しようとするものであり、そのような有機ＥＬ表示装置の作製を可能とすることができるカラーフィルタ形成基板を提供しようとするものである。

本発明のカラーフィルタ形成基板は、透明基板からなる基材の一面上に、画素区分用遮光領域を配して画素領域を区分けし、カラーフィルタ用の複数色の着色層を、各色それぞれ、所定の画素領域に配している有機ＥＬ表示装置用のカラーフィルタ形成基板であって、前記画素区分用遮光領域には、遮光層を配設しており、且つ、前記基材の一面から最も離れた遮光層の面が、カラーフィルタ用の各色の着色層の前記基材側でない側の面よりも、前記基材の一面から離れた位置に形成されていることを特徴とするものである。
そして、上記のカラーフィルタ形成基板であって、前記画素区分用遮光領域に配設される遮光層は１層で、前記基材の一面に接して配設されていることを特徴とするものである。
あるいは、上記のカラーフィルタ形成基板であって、前記画素区分用遮光領域には、隣接する画素のカラーフィルタ用の各色の着色層がそれぞれ延設され、隙間なく配設されており、前記画素区分用遮光領域に配設される遮光層は１層で、前記画素区分用遮光領域に延設された各色の着色層の前記基材側でない面側に配設されていることを特徴とするものであり、前記遮光層は、前記カラーフィルタ用の各色の着色層を覆う保護層の、前記基材の一面側でない側の面に接して形成されていることを特徴とするものであり、前記保護層が、無機組成物からなることを特徴とするものである。

あるいはまた、上記のカラーフィルタ形成基板であって、前記画素区分用遮光領域に配設される遮光層は２層で、前記基材の一面に接して第１の遮光層を配設し、前記第１の遮光層を覆うように、隣接する画素のカラーフィルタ用の各色の着色層がそれぞれ延設されて配されており、且つ、前記延設された各色の着色層の前記基材側でない面側に、第２の遮光層を配設していることを特徴とするものであり、前記第２の遮光層の線幅は、前記第１の遮光層の線幅よりも大であることを特徴とするものである。
ここで、前記第２の遮光層は、前記カラーフィルタ用の各色の着色層を覆う保護層の、前記基材の一面側でない側の面に接して形成されていることを特徴とするものである。更に、前記保護層が、無機組成物からなることを特徴とするものである。

また、本発明のカラーフィルタ形成基板は、透明基板からなる基材の一面上に、画素区分用遮光領域を配して画素領域を区分けし、カラーフィルタ用の複数色の着色層を、各色それぞれ、所定の画素領域に配している有機ＥＬ表示装置用のカラーフィルタ形成基板であって、前記基材の一面に接して遮光層を配設し、該遮光層を覆うように、隣接する画素のカラーフィルタ用の各色の着色層がそれぞれ延設されて配されており、且つ、前記延設された各色の着色層の前記基材側でない面側に、青色色材を含む樹脂組成物層を配設しており、且つ、前記基材の一面から離れた側の青色色材を含む樹脂組成物層の面が、カラーフィルタ用の各色の着色層の前記基材側でない側の面よりも、前記基材の一面から離れた位置にあることを特徴とするものである。
即ち、上記のカラーフィルタ形成基板において、第２の遮光層を青色色材を含む樹脂組成物層に置き換えたことを特徴とするものである。
そして、上記のカラーフィルタ形成基板であって、前記青色色材を含む樹脂組成物層が、カラーフィルタ用の青色着色層と同じ樹脂組成物からなることを特徴とするものである。

ここでは、可視光領域での光学濃度が２. ０以上、好ましくは４. ０以上のものを遮光層としている。
また、ここでは、カラーフィルタ用の各色の着色層の基材側でない側の面とは、着色層の基材側でない側の画素中心付近の平坦な面であり、この画素中心付近の平坦な面の基材面からの距離で表す位置は、ほぼ、画素領域面全体において、着色層の基材側でない側の面の基材面からの位置を平均化した位置に相当する。

また、上記いずれかのカラーフィルタ形成基板であって、前記画素領域に吸収層が積層して形成されていることを特徴とするものであり、前記光吸収層は、樹脂中に色材としてカーボンブラックを分散して含有しているものであることを特徴とするものである。
ここにおいて、前記光吸収層のＣ光源における平均透過率が４５％〜９５％であることを特徴とするものである。
尚、ここでの「平均透過率」とは、光吸収層の透過率を可視光領域全域にわたる透過率が略フラットで、可視光領域全域にわたる透過率を平均することにより得られる値である。
ここでは、顕微分光装置（ＯＳＰ−ＳＰ２０００、ＯＬＹＭＰＵＳ（株）社製）を用いて透過スペクトルを測定しており、測定により得られた透過スペクトルより下記（１）式より、ＸＹＺ表色系のＹの値が求められるが、実質的には、これに相当する。
尚、式（１）においては、Ｐ（λ）は、光源の分光組成、ｙ（λ）は、ＸＹＺ表示系における等色関数の１つ、τ（λ）は、ここでは、物体の分光透過率である。

本発明の表示装置は、有機ＥＬ素子形成基板とカラーフィルタ形成基板とを積層した構造の有機ＥＬ表示装置であって、上述のカラーフィルタ形成基板を用いていることを特徴とするものである。

（作用）
本発明のカラーフィルタ形成基板は、このような構成にすることにより、特に、表示の高精細、高品質化の要求に対応して、各画素についての隣接する画素の有機ＥＬ素子からの光の入り込みに起因する、表示される画像の色シフトや混色を防止あるいは抑制できる有機ＥＬ表示装置の作製を可能とすることができるカラーフィルタ形成基板の提供を可能としている。

具体的には、本発明の第１の形態は、透明基板からなる基材の一面上に、画素区分用遮光層にて画素領域を区分けし、カラーフィルタ用の複数色の着色層を各色区分けして所定の画素領域に配している有機ＥＬ表示装置用のカラーフィルタ形成基板において、画素領域を区分けする画素区分用遮光層の前記基材の一面から最も離れた面が、カラーフィルタ用の各色の着色層の前記基材側でない側の面よりも、前記基材の一面から離れた位置に形成されていることにより、これを達成している。

また、本発明の第２の形態は、透明基板からなる基材の一面上に、画素区分用遮光領域を配して画素領域を区分けし、カラーフィルタ用の複数色の着色層を、各色それぞれ、所定の画素領域に配している有機ＥＬ表示装置用のカラーフィルタ形成基板であって、前記基材の一面に接して、且つ、前記カラーフィルタ用の各色の着色層の前記基材側でない側の面よりも前記基材の一面側に、遮光層を配設し、該遮光層を覆うように、隣接する画素のカラーフィルタ用の各色の着色層がそれぞれ延設されて配されており、且つ、前記延設された各色の着色層の前記基材側でない面側に、青色色材を含む樹脂組成物層を配設していることにより、これを達成している。
尚、ここで、遮光層を覆う、隣接する画素のカラーフィルタ用の各色の着色層同士は、隙間が無い方が好ましいが、隙間がある形態でも良い。すなわち、「遮光層を覆うように、隣接する画素のカラーフィルタ用の各色の着色層がそれぞれ延設されて配されており」とは、遮光層全体を覆うように各色の着色層が隙間なく配置されている場合、および、遮光層の一部が露出するように各色の着色層が隙間をあけて配置されている場合を含む。

更に具体的には、第１の形態において、前記画素区分用遮光領域に配設される遮光層は１層で、前記基材の一面に接して配設されていることを特徴とする第１−１の形態、あるいは、第１の形態において、前記画素区分用遮光領域には、隣接する画素のカラーフィルタ用の各色の着色層がそれぞれ延設され、隙間なく配設されており、前記画素区分用遮光領域に配設される遮光層は１層で、前記画素区分用遮光領域に延設された各色の着色層の前記基材側でない面側に配設されていることを特徴とする第１−２の形態、あるいはまた、第１の形態において、前記画素区分用遮光領域に配設される遮光層は２層で、前記基材の一面に接して第１の遮光層を配設し、前記第１の遮光層を覆うように、隣接する画素のカラーフィルタ用の各色の着色層がそれぞれ延設されて配されており、且つ、前記延設された各色の着色層の前記基材側でない面側に、第２の遮光層を配設していることを特徴とする第１−３の形態が挙げられる。
尚、ここでも、第１の遮光層を覆う、隣接する画素のカラーフィルタ用の各色の着色層同士は、隙間が無い方が好ましいが、隙間がある形態でも良い。すなわち、「第１の遮光層を覆うように、隣接する画素のカラーフィルタ用の各色の着色層がそれぞれ延設されて配されており」とは、第１の遮光層全体を覆うように各色の着色層が隙間なく配置されている場合、および、第１の遮光層の一部が露出するように各色の着色層が隙間をあけて配置されている場合を含む。

ここで、本発明のカラーフィルタ形成基板を用いた白色光源タイプの有機ＥＬ表示装置における各画素についての隣接する画素の有機ＥＬ素子からの光の入り込みに起因する、表示される画像の色シフトや混色を防止あるいは抑制できることを、図７に基づいて簡単に説明する。
まず、従来のカラーフィルタ形成基板１０Ａを用いた白色光源タイプの有機ＥＬ表示装置の場合、図７（ａ）に示すように、画素領域１７ａに配された有機ＥＬ素子２２Ａからの白色光は、大半は、光線Ｌ１１のように、カラーフィルタ形成基板１０Ａの基材１１の面に直交する方向に進み、画素領域１７ａの赤色着色層１３Ｒに到達して通過するが、一部は、光線Ｌ１３のように、画素領域１７ａに配される赤色着色層１３Ｒを通過して隣接する画素領域１７ｂの緑色着色層１３Ｇに入射され通過し、あるいは、光線Ｌ１２のように、直接、隣接する画素領域１７ｂに配される緑色着色層１３Ｇに入射されて通過する。
光線Ｌ１３の場合は、赤色着色層１３Ｒ、緑色着色層１３Ｇを通過するため、赤色着色層１３Ｒ、緑色着色層１３Ｇの透過特性からほとんどがカットされるが、光線Ｌ１２の場合は、緑色着色層１３Ｇのみを通過するため、本来出射されるべきでない光が緑色着色層１３Ｇの透過特性で出射されることとなる。
このため、特に、このような光線Ｌ１２が原因で、見る方向によっては、表示される画像の色シフトや混色が発生していた。

一方、図７（ｂ）に示すように、本発明の第１−１の形態のカラーフィルタ形成基板１０を用いた有機ＥＬ表示装置の場合は、図７（ａ）に示す光線Ｌ１２に相当する光線Ｌ２２を遮光層１２でカットし、図７（ａ）に示す光線Ｌ１３に相当する光線（図示していない）もカットしている。
このため、このような光線に起因する、見る方向による、表示される画像の色シフトや混色は発生しない。

また、図７（ｃ）に示すように、本発明の第１−２の形態のカラーフィルタ形成基板１０ａを用いた有機ＥＬ表示装置の場合は、図７（ａ）に示す光線Ｌ１２に相当する光線Ｌ３２を遮光層１２ａでカットし、図７（ａ）に示す光線Ｌ１３に相当する光線Ｌ３３は、一部通過する。
この形態の場合、図７（ａ）に示す光線Ｌ１２に相当する光線Ｌ３２を遮光層１２ａでカットしているため、見る方向による、表示される画像の色シフトや混色は発生しない。

また、本発明の第１−３の形態のカラーフィルタ形成基板１０ｂを用いた有機ＥＬ表示装置の場合は、図７（ａ）に示す光線Ｌ１２に相当する光線を、図３に示す第２の遮光層１２ｂ２でカットし、図７（ａ）に示す光線Ｌ１３に相当する光線の大半を、図３に示す第１の遮光層１２ｂ１でカットするため、図７（ａ）に示す光線Ｌ１２、Ｌ１３に相当する光線に起因する表示される画像の色シフトや混色は発生しない。
第１−３の形態においては、図７（ａ）に示す光線Ｌ１３に相当する光線の大半を、第１の遮光層１２ｂ１でカットできればよく、第１の遮光層１２ｂ１の線幅を第２の遮光層１２ｂ２の線幅よりも小としても、同様に、図７（ａ）に示す光線Ｌ１２、Ｌ１３に相当する光線に起因する、見る方向による、表示される画像の色シフトや混色は発生しない。

また、本発明のカラーフィルタ形成基板を用いた塗り分けタイプの有機ＥＬ表示装置においても、隣接する画素の有機ＥＬ素子からの光の入り込みに起因する、表示される画像の色シフトや混色を防止あるいは抑制することができる。これを同じく図７に基づいて簡単に説明する。
まず、従来のカラーフィルタ形成基板１０Ａを用いた塗り分けタイプの有機ＥＬ表示装置の場合、図７（ａ）に示すように、画素領域１７ａに配された有機ＥＬ素子２２Ａからの赤色光は、大半は、光線Ｌ１１のように、カラーフィルタ形成基板１０Ａの基材１１の面に直交する方向に進み、画素領域１７ａの赤色着色層１３Ｒに到達して通過するが、一部は、光線Ｌ１３のように、画素領域１７ａに配される赤色着色層１３Ｒを通過して隣接する画素領域１７ｂの緑色着色層１３Ｇに入射され通過し、あるいは、光線Ｌ１２のように、直接、隣接する画素領域１７ｂに配される緑色着色層１３Ｇに入射されて通過する。
ここで、上述の図１５にて説明したように、有機ＥＬ素子の赤色発光層からの赤色光の一部は緑色着色層を透過する場合がある。図７（ａ）において、光線Ｌ１２は、緑色着色層１３Ｇのみを通過するため、本来出射されるべきでない光が緑色着色層１３Ｇの透過特性で出射されることとなる。また、図示しないが、同様に、有機ＥＬ素子の青色発光層からの青色光の一部が緑色着色層を透過する場合には、青色光のうち本来出射されるべきでない光が緑色着色層の透過特性で出射される。また、有機ＥＬ素子の緑色発光層からの緑色光の一部が青色着色層を透過する場合には、緑色光のうち本来出射されるべきでない光が青色着色層の透過特性で出射されることとなる。
このため、特に、このような光線Ｌ１２が原因で、見る方向によっては、表示される画像の色シフトや混色が発生していた。

これに対し、図７（ｂ）、図７（ｃ）、図３に示すように、本発明の第１−１、第１−２、第１−３の形態のカラーフィルタ形成基板１０、１０ａ、１０ｂを用いた有機ＥＬ表示装置の場合は、上述したように、図７（ａ）に示す光線Ｌ１２や光線Ｌ１３に相当する光線をカットすることができ、このような光線に起因する表示される画像の色シフトや混色の発生を防止または抑制することができる。

第１−２の形態において、前記遮光層は、前記カラーフィルタ用の各色の着色層を覆う保護層の、前記基材の一面側でない側の面に形成されている形態の場合、保護層に配設により平坦化や下地の安定化が見込まれ、遮光層を確実に形成し易くなり、更に、前記保護層が、無機組成物からなる場合には、光学特性を確保でき、遮光層の形成の際の下地として安定化できる。
同様に、第１−３の形態において、前記第２の遮光層は、前記カラーフィルタ用の各色の着色層を覆う保護層の、前記基材の一面側でない側の面に形成されている形態の場合、保護層に配設により平坦化や下地の安定化が見込まれ、第２の遮光層を確実に形成し易くなり、更に、前記保護層が、無機組成物からなる場合には、光学特性を確保でき、第２の遮光層の形成の際の下地として安定化できる。

上記本発明の第１−３の形態のカラーフィルタ形成基板において、第２の遮光層を青色色材を含む樹脂組成物層に置き換えた第２の形態のカラーフィルタ形成基板を用いた有機ＥＬ表示装置の場合は、図７（ａ）に示す光線Ｌ１２に相当する光線は、前記青色色材を含む樹脂組成物層の透過特性から、各画素の領域に配される着色層を通過する際に、効果的に吸収され、図７（ａ）に示す光線Ｌ１２に相当する光線に起因する、表示される画像の色シフトや混色を効果的に抑制することを可能としている。
そして、前記青色色材を含む樹脂組成物層が、カラーフィルタ用の青色着色層と同じ樹脂組成物からなる形態の場合には、その作製において、カラーフィルタ用の青色着色層と前記青色色材を含む樹脂組成物層の形成を一緒の処理にて行うことを可能としている。

上記いずれかの形態において、前記画素領域に光吸収層が積層して形成されている形態とすることにより、混色防止作用の他に、外光反射の低減に加えて表示輝度の低下防止を達成できる表示装置の作製を可能としている。
光吸収層としては、具体的には、樹脂中に色材としてカーボンブラックを分散して含有しているものが挙げられるが、これに限定はされない。
これらの形態において、前記光吸収層のＣ光源における平均透過率が４５％〜９５％である形態の場合、特に、外光反射の低減効果に加えて、表示の際の輝度を、円偏光板を用いた図１１（ｂ）に示す形態よりも、大きくできる。
尚、上述したように、ここでの「平均透過率」とは、光吸収層の透過率を可視光領域全域にわたる透過率が略フラットで、可視光領域全域にわたる透過率を平均することにより得られる値である。
特に、表示の際の可視光領域（４００ｎｍ〜７００ｎｍ波長領域）全体にわたり光吸収層の光透過率のバラツキが少ないフラットである場合、光吸収層を設けたことによる表示の際の色ずれを少ないものとできる。

本発明は、このように、特に、表示の高精細、高品質化の要求に対応して、各画素についての隣接する画素の有機ＥＬ素子からの光の入り込みに起因する、表示される画像の色シフトや混色を防止あるいは抑制できる有機ＥＬ表示装置の作製を可能とし、同時に、そのような有機ＥＬ表示装置の作製を可能とすることができるカラーフィルタ形成基板の提供を可能とした。

図１（ａ）は、本発明のカラーフィルタ形成基板の実施の形態の第１の例の一部断面図であり、図１（ｂ）は、図１（ａ）に示す第１例のカラーフィルタ形成基板を用いた有機ＥＬ表示装置の一部断面図である。 図２（ａ）は、本発明のカラーフィルタ形成基板の実施の形態の第２の例の一部断面図であり、図２（ｂ）は、図２（ａ）に示す第２例のカラーフィルタ形成基板を用いた有機ＥＬ表示装置の一部断面図である。 図３（ａ）は、本発明のカラーフィルタ形成基板の実施の形態の第３の例の一部断面図であり、図３（ｂ）は、図３（ａ）に示す第３例のカラーフィルタ形成基板を用いた有機ＥＬ表示装置の一部断面図である。 図４（ａ）は、本発明のカラーフィルタ形成基板の実施の形態の第４の例の一部断面図であり、図４（ｂ）は、図４（ａ）に示す第４例のカラーフィルタ形成基板を用いた有機ＥＬ表示装置の一部断面図である。 図５（ａ）は、本発明のカラーフィルタ形成基板の実施の形態の第５の例の一部断面図であり、図５（ｂ）は、図５（ａ）に示す第５例のカラーフィルタ形成基板を用いた有機ＥＬ表示装置の一部断面図である。 図６（ａ）は、図１（ａ）に示す第１の例のカラーフィルタ形成基板の一部断面図であり、図６（ｂ）、図６（ｃ）は、それぞれ、第１の例のカラーフィルタ形成基板の変形例を示した一部断面図である。 図７（ａ）は、従来のカラーフィルタ形成基板１０Ａを用いた有機ＥＬ表示装置における有機ＥＬ素子から光線を示した一部断面図で、図７（ｂ）は、図１（ａ）に示す第１の例のカラーフィルタ形成基板１０を用いた有機ＥＬ表示装置における有機ＥＬ素子から光線を示した一部断面図で、図７（ｃ）は、図２（ａ）に示す第２の例のカラーフィルタ形成基板１０ａを用いた有機ＥＬ表示装置における有機ＥＬ素子から光線を示した一部断面図である。 有機ＥＬ素子の構成例を示した概略層構成図である。 光吸収層の分光透過率特性を示した図である。 光吸収層の透過率と光吸収層を２回通過した外光の透過率との関係を示した図である。 図１１（ａ）は、従来のＷＨＩＴＥ層を配した有機ＥＬ表示装置の一部断面図であり、図１１（ｂ）は、図１１（ａ）に示す表示装置の前面（観察者側）に円偏光板を配した有機ＥＬ表示装置の一部断面図であり、図１１（ｃ）は、図１１（ａ）に示す表示装置において、従来のＷＨＩＴＥ層形成領域に透過率調整部を配した有機ＥＬ表示装置の一部断面図である。 本発明のカラーフィルタ形成基板の他の例を示す一部断面図である。 有機ＥＬ素子の構成例を示した概略層構成図である。 本発明のカラーフィルタ形成基板の実施の形態の第６の例の一部断面図である。 有機ＥＬ素子の発光スペクトルおよびカラーフィルタの透過スペクトルの一例を示すグラフである。

１．本発明のカラーフィルタ形成基板の実施形態の第１の例
先ず、本発明のカラーフィルタ形成基板の実施形態の第１の例を、図１（ａ）に基づいて説明する。
第１の例のカラーフィルタ形成基板１０は、透明基板からなる基材１１の一面１１Ｓ上に、画素区分用遮光領域１８にて画素領域１７を区分けし、カラーフィルタ用のＲ、Ｇ、Ｂの３色の着色層１３Ｒ、１３Ｇ、１３Ｂを各色区分けして画素領域１７に配している有機ＥＬ表示装置用のカラーフィルタ形成基板であり、図１（ａ）に示すように、画素領域１７を区分けする画素区分用遮光領域１８の遮光層１２の基材１１の一面から最も離れた面１２Ｓが、カラーフィルタ用のＲ、Ｇ、Ｂの着色層１３Ｒ、１３Ｇ、１３Ｂの基材１１側でない側の面よりも、前記基材１１の一面１１Ｓから離れた位置に形成されている。
尚、図１（ａ）では、ＷＨＩＴＥ画素を明示していないが、ＷＨＩＴＥ画素の領域も、画素区分用遮光領域１８の遮光層１２にて区分けしている。
特に、本例では、画素区分用遮光領域１８の遮光層１２は、前記基材１１の一面１１Ｓに接した一層からなる。

第１の例のカラーフィルタ形成基板１０は、例えば白色発光の有機ＥＬ素子（有機発光素子、有機ＥＬ発光素子とも言う）２２Ａを各画素毎に形成した、あるいは赤、緑、青等の複数色の発光層が平面的に配列された有機ＥＬ素子２２Ａを形成した有機ＥＬ素子形成基板２０と、絶縁性の樹脂層１４を間に挟んで、所定の間隔で積層されて、図１（ｂ）に示すように、有機ＥＬ表示装置となる。
なお、複数色の発光層が平面的に配列された有機ＥＬ素子を備える有機ＥＬ表示装置を、塗り分けタイプの有機ＥＬ表示装置と称する場合がある。

第１の例のカラーフィルタ形成基板１０は、このような形態とすることにより、白色発光タイプや塗り分けタイプの有機ＥＬ表示装置に用いられた場合、図７（ａ）に示す従来の有機ＥＬ表示装置における光線Ｌ１２、光線Ｌ１３に相当する、ある画素の有機ＥＬ素子から発光された光が隣接する画素の領域の着色層に入るそれぞれの光線を、カットすることができるものとし、これにより、このような光線に起因する、見る方向により、表示される画像の色シフトや混色を発生しないようにできる。

上記有機ＥＬ表示装置としては、モバイル機種のノートパソコンや多機能端末機器（高機能端末機器とも言う）等のモバイル電子機器用が挙げられるが、これらに限定はされない。

図１（ａ）に示すカラーフィルタ形成基板１０と図１（ｂ）に示す有機ＥＬ表示装置の、各部材について説明する。

＜基板１１＞
第１の例に用いられる透明基板からなる基材１１としては、従来よりカラーフィルタに用いられているものを用いることができ、石英ガラス、パイレックス（登録商標）ガラス、合成石英板等の可撓性のない透明な無機基板、および、透明樹脂フィルム、光学用樹脂板等の可撓性を有する透明な樹脂基板等を挙げることができるが、特に、無機基板を用いることが好ましく、無機基板のなかでもガラス基板を用いることが好ましい。
さらには、上記ガラス基板のなかでも無アルカリタイプのガラス基板を用いることが好ましい。無アルカリタイプのガラス基板は寸度安定性および高温加熱処理における作業性に優れ、かつ、ガラス中にアルカリ成分を含まないことから、表示装置用のカラーフィルタに好適に用いることができるからである。
上記基板は、通常、透明な透明基板が用いられている。

＜画素区分用遮光領域の遮光層１２＞
カラーフィルタ用の各色の着色層の画素領域を区分けする画素区分用遮光領域の遮光層１２を形成するための遮光性の着色層としては、例えば、ここでは、エポキシ樹脂等の樹脂で被覆したカーボンブラックをピグメント（顔料）としてバインダ樹脂中に分散させたものが用いられている。
カーボンブラックをピグメント（顔料）としてバインダ樹脂中に分散させたものは、膜厚を比較的薄くして遮光性の樹脂層を形成することができる。
ここでは、画素区分用遮光領域の遮光層１２用の遮光性の着色層の形成をフォトリソグラフィー法を用いているが、この場合、バインダ樹脂としては、例えば、アクリレート系、メタクリレート系、ポリ桂皮酸ビニル系、もしくは環化ゴム系等の反応性ビニル基を有する感光性樹脂が用いられる。
この場合、黒色着色剤および感光性樹脂を含有する画素区分用遮光領域の遮光層１２形成用の感光性樹脂組成物に、光重合開始剤を添加してもよく、さらには必要に応じて増感剤、塗布性改良剤、現像改良剤、架橋剤、重合禁止剤、可塑剤、難燃剤等を添加してもよい。
尚、画素区分用遮光領域の遮光層１２形成用の遮光性の着色層を、印刷法やインクジェット法を用いて形成する場合もあるが、この場合には、バインダ樹脂としては、例えば、ポリメチルメタクリレート樹脂、ポリアクリレート樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂、ヒドロキシエチルセルロース樹脂、カルボキシメチルセルロース樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、アルキッド樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、マレイン酸樹脂、ポリアミド樹脂等が挙げられる。

また、遮光層は金属膜であってもよい。金属膜としては、例えばクロムの単層や、酸化クロム（ＣｒＯ_ｘ）およびクロムの多層膜、酸化クロム（ＣｒＯ_ｘ）、窒化クロム（ＣｒＮ_ｙ）およびクロムの多層膜、クロムおよび酸化窒化クロム（ＣｒＮ_ｙＯ_ｘ）の多層膜等を用いることができる。ここで、ｘ、ｙは任意の数である。
また、金属膜の材料としては、上記の他、金属や合金を用いることができる。金属としては、例えば、銀、アルミニウム、金、ベリリウム、カルシウム、カドミウム、コバルト、銅、鉄、ガリウム、ハフニウム、インジウム、イリジウム、カリウム、ランタン、リチウム、マグネシウム、モリブデン、ナトリウム、ニオブ、ニッケル、オスニウム、鉛、パラジウム、白金、ルビジウム、レニウム、ロジウム、ルテニウム、アンチモン、シリコン、錫、ストロンチウム、タンタル、トリウム、チタン、タリウム、ウラニウム、バナジウム、タングステン、イットリウム、イッテルビウム、亜鉛、ジルコニウム等が挙げられる。また、合金としては、銀−パラジウム−銅（ＡＰＣ）、銀−ルテニウム−銅（ＡＲＣ）、アルメル、黄銅（真鍮）、コンスタンタン、ジュラルミン、青銅、炭素鋼、ニッケリン、白金ロジウム、ハイパーコ、ハイパーニック、パーマロイ、パーメンダー、プラチノイド、マンガニン、モネル、洋銀、リン青銅が挙げられる。これらの金属や合金は単層としてもよく多層膜としてもよい。
遮光層が金属膜である場合、遮光層の形成方法としては、例えばスパッタリング法や蒸着法により、着色層の間を埋め、着色層を覆うように全面に金属膜を成膜し、金属膜上にフォトレジスト層を形成し、フォトレジスト層を露光および現像し、フォトレジスト層に覆われていない部分の金属膜をエッチングし、フォトレジスト層を除去する方法が挙げられる。

尚、画素区分用遮光領域の遮光層１２の開口パターン形状や各色の着色層の配列は、限定はされない。 画素区分用遮光領域の遮光層１２の開口パターン形状がストライプ状の形状のものや、くの字形状、デルタ配列などの様に着色層の配列を変えたものも挙げられる。
また、ここでは、可視光領域での光学濃度が２. ０以上、好ましくは４. ０以上のものを遮光層としている。

また、第１の例においては、図１２（ａ）、（ｂ）に例示するように、画素区分用遮光領域の遮光層１２は、カラーフィルタ用の各色の着色層１３Ｒ、１３Ｇ、１３Ｂ（図示なし）の端部を覆うように形成されていてもよい。

＜着色層１３Ｒ、１３Ｇ、１３Ｂ＞
本例では、カラーフィルタ用の各色の着色層は、赤色着色層１３Ｒ、緑色着色層１３Ｇ、青色着色層１３Ｂの３色の着色層である。
各色の着色層は、各色の顔料や染料等の着色材（色材ともいう）をバインダ樹脂中に分散または溶解させた着色部形成用の樹脂組成物を用いて、フォトリソ法（フォトリソグラフィー法とも言う）により形成されるものである。
上記着色層に用いられるバインダ樹脂としては、例えば、アクリレート系、メタクリレート系、ポリ桂皮酸ビニル系、もしくは環化ゴム系等の反応性ビニル基を有する感光性樹脂が用いられる。
この場合、着色材および感光性樹脂を含有する着色部形成用感光性樹脂組成物に、光重合開始剤を添加してもよく、さらには必要に応じて増感剤、塗布性改良剤、現像改良剤、架橋剤、重合禁止剤、可塑剤、難燃剤等を添加してもよい。
上記各色の着色層の膜厚は、通常、１μｍ〜５μｍ程度で設定される。
着色層の色としては、赤色、緑色、青色の３色を少なくとも含むものであれば特に限定されるものではなく、例えば、赤色、緑色、青色の３色、または、赤色、緑色、青色、黄色の４色、または、赤色、緑色、青色、黄色、シアンの５色等とすることもできる。
尚、赤色（Ｒとも記載）の着色層に用いられる着色剤としては、例えば、ペリレン系顔料、レーキ顔料、アゾ系顔料、キナクリドン系顔料、アントラキノン系顔料、アントラセン系顔料、イソインドリン系顔料等が挙げられる。これらの顔料は単独で用いてもよく２種以上を混合して用いてもよい。
緑色（Ｇとも記載）の着色層に用いられる着色剤としては、例えば、ハロゲン多置換フタロシアニン系顔料もしくはハロゲン多置換銅フタロシアニン系顔料等のフタロシアニン系顔料、トリフェニルメタン系塩基性染料、イソインドリン系顔料、イソインドリノン系顔料等が挙げられる。これらの顔料もしくは染料は単独で用いてもよく２種以上を混合して用いてもよい。
青色（Ｂとも記載）の着色層に用いられる着色剤としては、例えば、銅フタロシアニン系顔料、アントラキノン系顔料、インダンスレン系顔料、インドフェノール系顔料、シアニン系顔料、ジオキサジン系顔料等が挙げられる。これらの顔料は単独で用いてもよく２種以上を混合して用いてもよい。

＜ＷＨＩＴＥ層＞
図１（ａ）では、明示していないが、上記の画素区分用遮光領域の遮光層１２や着色層１３Ｒ、１３Ｇ、１３Ｂを形成する樹脂組成物等から着色材（色材）を除いた組成の樹脂が用いられ、フォトリソ法により形成されるが、形成方法はこれに限定はされない。

＜絶縁性の樹脂層１４＞
絶縁性の樹脂層１４の材料としては、熱硬化性樹脂組成物と光硬化性樹脂組成物が挙げられる。
光硬化性樹脂組成物としては、上記カラーフィルタ用の各色の着色層に用いられるバインダ樹脂と同様のもの、例えば、アクリレート系、メタクリレート系、ポリ桂皮酸ビニル系、もしくは環化ゴム系等の反応性ビニル基を有する感光性樹脂が用いられる。
この場合も、感光性樹脂を含有する感光性樹脂組成物に、光重合開始剤を添加してもよく、さらには必要に応じて増感剤、塗布性改良剤、現像改良剤、架橋剤、重合禁止剤、可塑剤、難燃剤等を添加してもよい。
熱硬化性樹脂組成物としては、エポキシ化合物を用いたもの、熱ラジカル発生剤を用いたものが挙げられる。
エポキシ化合物としては、カルボン酸やアミン系化合物などにより硬化しうる公知の多価エポキシ化合物を挙げることができ、このようなエポキシ化合物は、例えば、新保正樹編「エポキシ樹脂ハンドブック」日刊工業新聞社刊（昭和６２年）等に広く開示されており、これらを用いることが可能である。
熱ラジカル発生剤としては過硫酸塩、ヨウ素等のハロゲン、アゾ化合物、および有機過酸化物からなる群から選択される少なくとも一種であり、より好ましくは、アゾ化合物または有機過酸化物である。
アゾ化合物としては、１，１’−アゾビス（シクロヘキサン−１−カルボニトリル、１−［（１−シアノ−１−メチルエチル）アゾ］ホルムアミド、２，２’−アゾビス−［Ｎ−（２−プロペニル）−２−メチルプロピオンアミド］、２，２’−アゾビス（Ｎ−ブチル−２−メチルプロピオンアミド）、および２，２’−アゾビス（Ｎ−シクロヘキシル−２−メチルプロピオンアミド）などが挙げられ、有機過酸化物としては、ジ（４−メチルゼンゾイル）ペーオキサイド、ｔ−ブチルパーオキシ−２−エチルエキサネート、１，１−ジ（ｔ−ヘキシルパーオキシ）シクロヘキサン、１，１−ジ（ｔ−ブチルパーオキシ）シクロヘキサン、ｔ−ブチルパーオキシベンゾネート、ｔ−ブチルパーオキシ−２−エチルヘキシルモノカルボネート、ｔ−ブチル−４，４−ジ−（ｔ−ブチルパーオキシ）ブタネート、およびジクミルパーオキサイドなどが挙げられる。

＜有機ＥＬ素子形成基板２０＞
（１）基材２１
基材２１としては、基本的に、基材１１と同様の材質が用いることができるが、第１の例のカラーフィルタ形成基板を用いた図１（ｂ）に示す有機ＥＬ表示装置の場合は、基材１１側から外側に出射して表示するため、透明である必要はない。

（２）有機ＥＬ素子（有機発光素子、有機ＥＬ発光素子とも言う）２２Ａ
有機ＥＬ素子は、白色発光の有機ＥＬ素子であってもよく、赤、緑、青等の複数色の発光層が平面的に配列された有機ＥＬ素子であってもよい。中でも、白色発光の有機ＥＬ素子が好ましい。白色光源タイプの有機ＥＬ表示装置は隣接画素への光漏れによる表示画像の色シフトや混色が生じやすいため、本発明の構成が有用である。

図１（ｂ）に示す白色発光の有機ＥＬ素子２２Ａについては、図１（ｂ）では明示していないが、例えば、図８に示すような材料構成とする。
図８に示す有機ＥＬ素子２２は、赤、緑、青に発光する３つの材料を用いて、併せて白色発光とするものである。
勿論、所望の白色発光ができれば、上記の３つの材料の組み合わせに限らない。

また、複数色の発光層が平面的に配列された有機ＥＬ素子の場合、例えば図１３に示すような構成とすることができる。図１３に示す有機ＥＬ素子２２では、赤色発光層、緑色発光層、青色発光層の３色の発光層が平面的に配列されている。発光層の組み合わせは、フルカラー表示が可能であれば特に限定されるものではない。

（有機ＥＬ層２６）
有機ＥＬ素子２２を形成する有機ＥＬ層２６は、少なくとも発光層２７を含む１層もしくは複数層の有機層から構成されるものである。
発光層以外の有機ＥＬ層２６を構成する有機層としては、正孔注入層、正孔輸送層、電子注入層、電子輸送層等を挙げることができる。
この正孔輸送層は、正孔注入層に正孔輸送の機能を付与することにより、正孔注入層と一体化される場合が多い。
また、有機ＥＬ層を構成する有機層としては、正孔ブロック層や電子ブロック層のような正孔もしくは電子の突き抜けを防止し、さらに励起子の拡散を防止して発光層内に励起子を閉じ込めることにより、再結合効率を高めるための層等を挙げることができる。
有機ＥＬ層の構成としては、一般的な構成であればよく、発光層のみ、正孔注入層／発光層、正孔注入層／発光層／電子注入層、正孔注入層／正孔ブロック層／発光層／電子注入層、正孔注入層／発光層／電子輸送層などを例示することができる。

白色発光の有機ＥＬ素子２２における、発光材料は、単一の化合物で構成されることはほとんどなく、一般的には、２つないし３つの色の異なる発光材料を用いている。この場合、発光スペクトルは、各色の発光材料のスペクトルを併せた形となる。

（陽極２５、陰極２８）
陽極２５、陰極２８の電極層を形成する導電性材料としては、一般に金属材料が用いられるが、有機物や無機化合物を用いてもよく、複数の材料を混合して用いてもよい。
また、陽極、陰極の電極層は、光の取り出し面に応じて、透明性を有するか否かを適宜選択される。
陽極２５には、正孔が注入し易いように仕事関数の大きい導電性材料が好ましく用いられ、陰極２８には、電子が注入し易いように仕事関数の小さな導電性材料が好ましく用いられる。
前記導電性材料としては、透明性を要求される場合には、Ｉｎ−Ｚｎ−Ｏ（ＩＺＯ）、Ｉｎ−Ｓｎ−Ｏ（ＩＴＯ）、Ｚｎ−Ｏ−Ａｌ、Ｚｎ−Ｓｎ−Ｏ等が挙げられ、透明性が要求されない場合には、金属を用いることができ、具体的にはＡｕ、Ｔａ、Ｗ、Ｐｔ、Ｎｉ、Ａｌ、Ｐｄ、Ｃｒ、あるいは、Ａｌ合金、Ｎｉ合金、Ｃｒ合金等を挙げることができる。
陽極２５および陰極２８のいずれの電極層も、抵抗が比較的小さいことが好ましい。
電極層の成膜方法としては、一般的な電極の成膜方法を用いることができ、スパッタリング法、イオンプレーティング法、真空蒸着法、ＣＶＤ法、印刷法等を挙げることができる。また、電極層のパターニング方法としては、フォトリソグラフィー法を挙げることができる。

２．本発明のカラーフィルタ形成基板の実施形態の第２の例
次に、本発明のカラーフィルタ形成基板の実施形態の第２の例を挙げる。
第２の例のカラーフィルタ形成基板１０ａも、第１の例と同様、透明基板からなる基材１１の一面１１Ｓ上に、画素区分用遮光領域１８の遮光層１２ａにて画素領域１７を区分けし、カラーフィルタ用のＲ、Ｇ、Ｂの３色の着色層１３Ｒ、１３Ｇ、１３Ｂを各色区分けして画素領域１７に配している有機ＥＬ表示装置用のカラーフィルタ形成基板であるが、図２（ａ）に示すように、第２の例は、特に、画素区分用遮光領域１８には、隣接する画素のカラーフィルタ用の各色の着色層１３Ｒ、１３Ｇ、１３Ｂがそれぞれ延設され、隙間なく配設されており、画素区分用遮光領域１８に配設される遮光層は１層（遮光層１２ａ）で、画素区分用遮光領域１８に延設された各色の着色層１３Ｒ、１３Ｇ、１３Ｂの前記基材１１側でない面側に配設されている。
ここでも、画素区分用遮光領域１８の遮光層１２ａの基材の一面１１Ｓから最も離れた面１２ａＳは、カラーフィルタ用の各色の着色層１３Ｒ、１３Ｇ、１３Ｂの前記基材１１側でない側の面よりも、前記基材１１の一面１１Ｓから離れた位置に形成されている。

第２の例のカラーフィルタ形成基板１０ａは、このような形態とすることにより、白色発光タイプや塗り分けタイプの有機ＥＬ表示装置に用いられた場合、図７（ａ）に示す従来の有機ＥＬ表示装置における光線Ｌ１２に相当する、ある画素の有機ＥＬ素子から発光された光が、直接、隣接する画素の領域の着色層に入る光線を、カットすることができるものとし、このような光線に起因する、見る方向により、表示される画像の色シフトや混色を発生しなくできる。

第２の例のカラーフィルタ形成基板１０ａも、モバイル機種のノートパソコンや多機能端末機器（高機能端末機器とも言う）等のモバイル電子機器用の有機ＥＬ表示装置として適用されるが、用途は、これらに限定はされない。

カラーフィルタ形成基板および有機ＥＬ表示装置の各部材としては、第１の例と同様のものを適用する。

第２の例においては、カラーフィルタ用の各色の着色層は隙間なく配置されており、例えば図１２（ｃ）に示すように、カラーフィルタ用の各色の着色層１３Ｒ、１３Ｇ、１３Ｂ（図示なし）は画素区分用遮光領域においてその端部が平面視上重なるように形成されていてもよい。

３．本発明のカラーフィルタ形成基板の実施形態の第３の例
次に、本発明のカラーフィルタ形成基板の実施形態の第３の例を挙げる。
第３の例のカラーフィルタ形成基板１０ｂも、第１の例、第２の例と同様、透明基板からなる基材１１の一面１１Ｓ上に、画素区分用遮光領域１８にて画素領域１７を区分けし、カラーフィルタ用のＲ、Ｇ、Ｂの３色の着色層１３Ｒ、１３Ｇ、１３Ｂを各色区分けして画素領域１７に配している有機ＥＬ表示装置用のカラーフィルタ形成基板であるが、図３（ａ）に示すように、第３の例は、特に、画素区分用遮光領域１８に配設される遮光層は２層（第１の遮光層１２ｂ１、第２の遮光層１２ｂ２）で、前記基材１１の一面１１Ｓに接して第１の遮光層１２ｂ１を配設し、該第１の遮光層１２ｂ１を覆うように、隣接する画素のカラーフィルタ用の各色の着色層１３Ｒ、１３Ｇ、１３Ｂがそれぞれ延設され、隙間なく配設されており、且つ、前記延設された各色の着色層１３Ｒ、１３Ｇ、１３Ｂの前記基材１１側でない面側に、第２の遮光層１２ｂ２を配設している。
ここでは、画素区分用遮光領域１８の第２の遮光層１２ｂ２の、基材１１の一面１１Ｓから最も離れた面１２ｂＳは、カラーフィルタ用の各色の着色層１３Ｒ、１３Ｇ、１３Ｂの前記基材１１側でない側の面よりも、前記基材１１の一面１１Ｓから離れた位置に形成されている。

第３の例のカラーフィルタ形成基板１０ｂは、このような形態とすることにより、白色発光タイプや塗り分けタイプの有機ＥＬ表示装置に用いられた場合、図７（ａ）に示す従来の有機ＥＬ表示装置における光線Ｌ１２に相当する、ある画素の有機ＥＬ素子から発光された光が、直接、隣接する画素の領域の着色層に入る光線を、カットし、また、図７（ａ）に示す従来の有機ＥＬ表示装置における光線Ｌ１３に相当する、ある画素の有機ＥＬ素子から発光された光が、その画素の領域の着色層を通り、隣接する画素の領域の着色層に入る光線を、ほとんどカットすることができ、このような光線に起因する、見る方向によって、表示される画像の色シフトや混色を発生しなくできる。

第３の例のカラーフィルタ形成基板１０ｂも、モバイル機種のノートパソコンや多機能端末機器（高機能端末機器とも言う）等のモバイル電子機器用の有機ＥＬ表示装置として適用されるが、用途は、これらに限定はされない。

カラーフィルタ形成基板および有機ＥＬ表示装置の各部材としては、第１の例と同様のものを適用する。

第３の例においては、カラーフィルタ用の各色の着色層は隙間なく配置されており、例えば図１２（ｄ）に示すように、カラーフィルタ用の各色の着色層１３Ｒ、１３Ｇ、１３Ｂ（図示なし）は画素区分用遮光領域においてその端部が平面視上重なるように形成されていてもよい。

４．本発明のカラーフィルタ形成基板の実施形態の第４の例
次に、本発明のカラーフィルタ形成基板の実施形態の第４の例を挙げる。
第４の例のカラーフィルタ形成基板１０ｃは、図４（ａ）に示すように、図３（ａ）に示す第３の例のカラーフィルタ形成基板１０ｂにおいて、特に、前記第２の遮光層１２ｂ２の線幅を、前記第１の遮光層１２ｂ１の線幅よりも大としているもので、それ以外は、第３の例と同じである。
ここでは、第２の遮光層１２ｃ２の線幅は、第１の遮光層１２ｃ１の線幅よりも大である。

この形態の場合には、図７（ａ）に示す従来の有機ＥＬ表示装置における光線Ｌ１２に相当する、ある画素の有機ＥＬ素子から発光された光が、直接、隣接する画素の領域の着色層に入る光線を、カットできるものとしており、また、図７（ａ）に示す従来の有機ＥＬ表示装置における光線Ｌ１３に相当する、ある画素の有機ＥＬ素子から発光された光が、その画素の領域の着色層を通り、隣接する画素の領域の着色層に入る光線を、ほとんどカットすることができ、このような光線に起因する、見る方向によって、表示される画像の色シフトや混色を発生しなくできる。

第４の例のカラーフィルタ形成基板１０ｃも、モバイル機種のノートパソコンや多機能端末機器（高機能端末機器とも言う）等のモバイル電子機器用の有機ＥＬ表示装置として適用されるが、用途は、これらに限定はされない。

カラーフィルタ形成基板および有機ＥＬ表示装置の各部材としては、第１の例と同様のものを適用する。

５．本発明のカラーフィルタ形成基板の実施形態の第５の例
次に、本発明のカラーフィルタ形成基板の実施形態の第５の例を挙げる。
図５（ａ）に示す第５の例のカラーフィルタ形成基板１０ｄは、図４（ａ）に示す第４の例のカラーフィルタ形成基板１０ｃにおいて、光吸収層１５を各色の着色層１３Ｒ、１３Ｇ、１３Ｂと第２の遮光層１２ｃ２との間に配したもので、光吸収層１５は、各色の着色層１３Ｒ、１３Ｇ、１３Ｂ全体を覆うように配されている。
ここでは、光吸収層１５を各色の着色層１３Ｒ、１３Ｇ、１３Ｂと第２の遮光層１２ｄ２との間に配している。
本例でも、図５（ａ）に示すように、第２の遮光層１２ｄ２の線幅を、第１の遮光層１２ｄ１の線幅よりも大としているもので、それ以外は、第４の例と同じである。

本例の場合も、このような形態のため、基本的に第４の例と同様に、図７（ａ）に示す従来の有機ＥＬ表示装置における光線Ｌ１２に相当する、ある画素の有機ＥＬ素子から発光された光が、直接、隣接する画素の領域の着色層に入る光線を、カットできるものとしており、また、図７（ａ）に示す従来の有機ＥＬ表示装置における光線Ｌ１３に相当する、ある画素の有機ＥＬ素子から発光された光が、その画素の領域の着色層を通り、隣接する画素の領域の着色層に入る光線を、ほとんどカットすることができ、このような光線に起因する、見る方向によって、表示される画像の色シフトや混色を発生しなくできる。

第５の例のカラーフィルタ形成基板１０ｄも、モバイル機種のノートパソコンや多機能端末機器（高機能端末機器とも言う）等のモバイル電子機器用の有機ＥＬ表示装置として適用されるが、用途は、これらに限定はされない。

＜光吸収層１５＞
光吸収層１５を形成する材料としては、樹脂中に、色材としてカーボンブラックを含有し、色調整用にＢＬＵＥ顔料等含有し、これらを分散させたものが用いられるが、上記樹脂としては、画素区分用遮光領域の遮光層１２や着色層１３Ｒ、１３Ｇ、１３Ｂを形成する樹脂組成物等から色材を除いた組成の樹脂が用いられて、塗膜される。
塗膜方法としては、フォトリソグラフィー（ダイコート法、スピンコート法）、インクジェット法等が挙げられるが、通常は、フォトリソグラフィーにて塗膜する。
塗膜性や外光反射低減の面からは、光吸収層１５の膜厚は０．３μｍ以上であることが好ましい。
主な色材の濃度調整により、光吸収層を透過する光の強度を調整でき、また、色調整用の顔料を適宜含有させることにより、表示の際の可視光領域（４００ｎｍ〜７００ｎｍ波長領域）全体にわたり光吸収層の光透過率のバラツキが少ないフラットな透過率特性を容易に得ることができる。
主な色材としてのカーボンブラックの濃度を調整することにより、図１０に示すように、種々の透過率を容易に得ることができる。
尚、図１０では、光吸収層の透過率の値を横軸で表し、光吸収層の透過率の値に対応した光吸収層を２回通過した場合の透過率を縦軸で表しており、図１０における三角印は、カーボンブラック濃度を調整して測定して得た光吸収層の透過率（横軸）と、対応する該吸収層を２回通過した場合の透過率（縦軸）を示している。
また、色調整用の顔料を含有量を調整することにより、可視光領域（４００ｎｍ〜７００ｎｍの波長範囲）にわたりフラットに近い透過率特性を容易に得ることができる。
光吸収層は、可視光領域（４００ｎｍ〜７００ｎｍの波長範囲）において、フラットに近い光透過特性の方が光吸収層を設けたことによる色ずれは小さく、表示の際の透過光の色ずれ、外光反射の色ずれを小さくすることができる。
例えば、図９に示すフラットに近い透過率特性を有する光吸収層を用いた場合、光吸収層を設けたことによる色ずれの問題はない。

例えば、可視光領域（４００ｎｍ〜７００ｎｍの波長範囲）において、光吸収層１５の透過率特性をフラットで６０％とした場合、２回光吸収層１５を通過する光は、実質６０％の６０％で３６％となる。
また、表示する際の光は、光吸収層１５を１回通過して出射されるため、光吸収層１５による透過光の低下は１回で済み、例えば、光吸収層１５の透過率を６０％とすれば、１回光吸収層１５を通過による透過光の低下は、実質６０％となる。
したがって、第５の例のカラーフィルタ形成基板を用いた場合、光吸収層１５の透過率特性が、可視光領域（４００ｎｍ〜７００ｎｍの波長範囲）においてフラットで６０％とすれば、図１１（ａ）に示す有機ＥＬ表示装置に比べて、前面（観察者側）から外光が入射して、内部の電極や配線で反射して出射する、外光の反射光を３６％に低減することができ、表示の際の通過光を６０％とでき、表示の際の通過光については、図１１（ａ）に示す有機ＥＬ表示装置の４０％程度である図１１（ｂ）に示す円偏光板を用いた有機ＥＬ表示装置に比べて、表示の際の通過光を多くすることができる。
尚、光吸収層１５の透過率としては、従来の図１１（ａ）に示す有機ＥＬ表示装置に比べて、前面（観察者側）から外光が入射して、内部の電極や配線で反射して出射する、外光の反射光を低減でき、且つ、図１１（ｂ）に示す円偏光板を用いた有機ＥＬ表示装置に比べて、表示の際の透過光を多くすることからは、Ｃ光源の場合、平均透過率が４５％〜９５％であることが好ましい。
上述したように、ここでの「平均透過率」とは、光吸収層の透過率を可視光領域全域にわたる透過率が略フラットで、可視光領域全域にわたる透過率を平均することにより得られる値である。
特に、表示の際の可視光領域（４００ｎｍ〜７００ｎｍ波長領域）全体にわたり光吸収層の光透過率のバラツキが少ないフラットである場合、光吸収層を設けたことによる表示の際の色ずれを少ないものとできる。

６．本発明のカラーフィルタ形成基板の実施形態の第６の例
次に、本発明のカラーフィルタ形成基板の実施形態の第６の例を挙げる。
第６の例のカラーフィルタ形成基板１０ｇは、図１４（ａ）に例示するように、各色の着色層１３Ｒ、１３Ｇ、１３Ｂが隙間をあけて配置されており、第１の遮光層１２ｂ１および第２の遮光層１２ｂ２が上記隙間を介して接して形成されているもので、それ以外は、第３の例と同じである。

この形態の場合には、図７（ａ）に示す従来の有機ＥＬ表示装置における光線Ｌ１２に相当する、ある画素の有機ＥＬ素子から発光された光が、直接、隣接する画素の領域の着色層に入る光線を、カットすることができる。また、図７（ａ）に示す従来の有機ＥＬ表示装置における光線Ｌ１３に相当する、ある画素の有機ＥＬ素子から発光された光が、その画素の領域の着色層を通り、隣接する画素の領域の着色層に入る光線を、カットすることができる。特に、上記第３の例と比較して、第１の遮光層および第２の遮光層が接して形成されていることにより、図７（ａ）に示す光線Ｌ１３に相当する光線を、第１の遮光層および第２の遮光層によって、より多くカットすることができる。したがって、このような光線に起因する、見る方向によって、表示される画像の色シフトや混色を発生しなくできる。

第６の例のカラーフィルタ形成基板の用途としては、上記第１の例〜第５の例と同様である。
カラーフィルタ形成基板および有機ＥＬ表示装置の各部材としては、第１の例と同様のものを適用する。

第６の例においては、カラーフィルタ形成基板の断面構造が図１４（ｂ）に例示するような構造となっていてもよい。

隣接する着色層間の隙間の幅は、第１の遮光層の線幅よりも小さく、第１の遮光層および第２の遮光層が接することが可能な程度であれば特に限定されるものではない。

本例では、第１の遮光層および第２の遮光層によって図７（ａ）に示す光線Ｌ１２、Ｌ１３に相当する光線をカットできればよく、第１の遮光層の線幅は第２の遮光層の線幅と同じであってもよく、第２の遮光層の線幅よりも小さくてもよく大きくてもよい。

第１の遮光層に第２の遮光層を接して形成するには、例えば各色の着色層を隙間をあけて形成し、その隙間を埋めるように第２の遮光層を形成すればよい。

７．本発明のカラーフィルタ形成基板の他の実施形態
本発明のカラーフィルタ形成基板は、上記の形態に限定はされない。
例えば、上記の第３の例〜第６の例の各例において、それぞれ、第２の遮光層１２ｂ２、１２ｃ２、１２ｄ２を青色色材を含む樹脂組成物層に置き換えた形態も挙げられる。
これらの形態における、青色色材を含む樹脂組成物層は、その透過特性から、各画素の領域に配される着色層を通過する際に、効果的に吸収され、図７（ａ）に示す光線Ｌ１２に相当する光線に起因する、表示される画像の色シフトや混色を効果的に抑制することを可能としている。
尚、前記青色色材を含む樹脂組成物層が、カラーフィルタ用の青色着色層と同じ樹脂組成物からなる場合には、作製において、カラーフィルタ用の青色着色層と前記青色色材を含む樹脂組成物層の形成を一緒の処理にて行うことができる。

また、第２の例の変形例として、カラーフィルタ用の各色の着色層１３Ｒ、１３Ｇ、１３Ｂを覆う保護層を配して、保護層の基材１１側でない側の面に、遮光層（図２の遮光層１２ａに相当）が形成されている形態も挙げられる。
この形態の場合、保護層に配設により平坦化や下地の安定化が見込まれ、遮光層を確実に形成し易くなり、更に、前記保護層が、無機組成物からなる場合には、光学特性を確保でき、遮光層の形成の際の下地として安定化できる。
勿論、第２の例と同様、白色発光タイプや塗り分けタイプの有機ＥＬ表示装置に用いられた場合、図７（ａ）に示す従来の有機ＥＬ表示装置における光線Ｌ１２に相当する、ある画素の有機ＥＬ素子から発光された光が、直接、隣接する画素の領域の着色層に入る光線を、カットすることができるものとし、このような光線に起因する、見る方向により、表示される画像の色シフトや混色を発生しなくできる。

同様に、第３の例〜第５の例の各例の変形例として、カラーフィルタ用の各色の着色層１３Ｒ、１３Ｇ、１３Ｂを覆う保護層を配して、保護層の基材１１側でない側の面に、第２の遮光層（図３の第２の遮光層１２ｂ２、図４の第２の遮光層１２ｃ２、図５の第２の遮光層１２ｄ２に相当）が形成されている形態も挙げられる。
これらの形態の場合、保護層に配設により平坦化や下地の安定化が見込まれ、第２の遮光層を確実に形成し易くなり、更に、前記保護層が、無機組成物からなる場合には、光学特性を確保でき、第２の遮光層の形成の際の下地として安定化できる。
勿論、これらの形態の場合も、白色発光タイプや塗り分けタイプの有機ＥＬ表示装置に用いられた場合、図７（ａ）に示す従来の有機ＥＬ表示装置における光線Ｌ１２に相当する、ある画素の有機ＥＬ素子から発光された光が、直接、隣接する画素の領域の着色層に入る光線を、カットすることができるものとし、また、図７（ａ）に示す従来の有機ＥＬ表示装置における光線Ｌ１３に相当する、ある画素の有機ＥＬ素子から発光された光が、その画素の領域の着色層を通り、隣接する画素の領域の着色層に入る光線を、ほとんどカットすることができ、このような光線に起因する、見る方向により、表示される画像の色シフトや混色を発生しなくできる。

また、図６（ａ）に示す第１の例のカラーフィルタ形成基板１０において、着色層１３Ｒ、１３Ｇ、１３Ｂの下側（基材１１側）に光吸収層１５を配した、図６（ｂ）、図６（ｃ）に示す形態も挙げることができる。

また、着色層を最も外側に配した形態例の着色層上に、あるいは、光吸収層を最も外側に配した形態例の光吸収層上に、更に、散乱機能を有する層（散乱層とも言う）を形成した形態のものも挙げられる。
散乱層を配した形態とすることにより、散乱層を設けない場合に比べて、観察者の見る方向による視差を改善できる。

尚、第２の例〜第４の例の各例においては、隣接する画素のカラーフィルタ用の各色の着色層同士は隙間が無いが、隙間がある形態も挙げられる。

８．本発明のカラーフィルタ形成基板の作製方法
次に、本発明のカラーフィルタ形成基板の作製方法の例を簡単に説明しておく。
先ず、図１（ａ）に示す第１の例のカラーフィルタ形成基板１０の作製方法の一例を挙げる。
予め、透明な基材１１を用意しておき、先ず、該基材１１の一面上に、一般的なフォトリソ法で画素区分用遮光領域１８の遮光層１２を形成し、次いで、カラーフィルタ用の各色の着色層１３Ｒ、１３Ｇ、１３Ｂ、ＷＨＩＴＥ層１３Ｗを、順次、一般的なフォトリソ法により、それぞれ、所定の形成領域に形成する。
通常、画素区分用遮光領域１８の遮光層１２やカラーフィルタ用の各色の着色層１３Ｒ、１３Ｇ、１３Ｂは、各色の顔料や染料等の着色材をバインダ樹脂中に分散または溶解させた着色部形成用の樹脂組成物を用いて、フォトリソ法（フォトリソグラフィー法とも言う）により形成するが、これに限定はされない。印刷法や、インクジェット法にて形成することもできる。
尚、ＷＨＩＴＥ画素がある場合には、更に、ＷＨＩＴＥ層を、上記の画素区分用遮光領域１８の遮光層１２や着色層１３Ｒ、１３Ｇ、１３Ｂを形成する樹脂組成物等から着色材（色材）を除いた組成の樹脂が用いられ、フォトリソ法により形成されるが、形成方法はこれに限定はされない。印刷法や、インクジェット法にて形成することもできる。

図２（ａ）に示す第２の例のカラーフィルタ形成基板１０ａの作製方法は、前述の第１の例のカラーフィルタ形成基板１０の作製方法において、画素区分用遮光領域１８の遮光層１２ａの形成と各色の着色層１３Ｒ、１３Ｇ、１３Ｂの順を変えて行う。各層の形成方法は、上記の第１の例のカラーフィルタ形成基板１０の作製方法の場合と同じである。

図３（ａ）に示す第３の例のカラーフィルタ形成基板１０ｂの作製方法は、遮光層（第１の遮光層１２ｂ１、第２の遮光層１２ｂ２）の形成を、各色の着色層１３Ｒ、１３Ｇ、１３Ｂの形成の前後に行う。各層の形成方法は、上記の第１の例のカラーフィルタ形成基板１０の作製方法の場合と同じである。
図４（ａ）に示す第４の例のカラーフィルタ形成基板１０ｃの作製方法は、第３のカラーフィルタ形成基板１０ｂの作製方法と基本的には同じである。
図１４（ａ）に示す第６の例のカラーフィルタ形成基板１０ｇの作製方法は、第３のカラーフィルタ形成基板１０ｂの作製方法と基本的には同じであり、各色の着色層１３Ｒ、１３Ｇ、１３Ｂを隙間をあけて形成し、その隙間を埋めるように第２の遮光層１２ｂ２を形成する。

図５（ａ）に示す第５の例のカラーフィルタ形成基板１０ｄの作製方法は、第３のカラーフィルタ形成基板１０ｂの作製方法と基本的には同じであり、各色の着色層１３Ｒ、１３Ｇ、１３Ｂの形成後に光吸収層１５の形成を行う行程を増やす。光吸収層の形成は、塗布法等にて行うことができる。
また、図６（ｂ）に示す形態のカラーフィルタ形成基板１０ｅの作製の場合には、第１の例のカラーフィルタ形成基板１０の作製方法において、各色の着色層１３Ｒ、１３Ｇ、１３Ｂの形成の前に光吸収層１５の形成を行う行程を増やす。光吸収層の形成は、フォトリソ法やインクジェット法等にて行うことができる。
また、図６（ｃ）に示す形態のカラーフィルタ形成基板１０ｆの作製の場合には、第１の例のカラーフィルタ形成基板１０の作製方法において、遮光層１２の形成の前に光吸収層１５の形成を行う。光吸収層の形成は、塗布法等にて行うことができる。

なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は、例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。

以下に実施例を示し、本発明をさらに詳細に説明する。

［実施例１］
図１（ａ）に例示するカラーフィルタ形成基板を作製した。
下記に示すように、まず、光硬化性の硬化性樹脂組成物Ａを調製し、この硬化性樹脂組成物Ａを用いて、着色層形成用の赤色硬化性樹脂組成物、緑色硬化性樹脂組成物および青色硬化性樹脂組成物と、遮光層形成用の硬化性樹脂組成物とを調製した。次いで、これらを用いて、硬化性樹脂組成物毎にフォトリソグラフィー法を行い、各色着色層および遮光層を形成した。
ここでは、遮光層１２を形成した後、赤色着色層１３Ｒ、緑色着色層１３Ｇ、青色着色層１３Ｂをそれぞれフォトリソ工程で形成した。

（硬化性樹脂組成物Ａの調製）
重合槽中にメタクリル酸メチル（ＭＭＡ）を６３重量部、アクリル酸（ＡＡ）を１２重量部、メタクリル酸−２−ヒドロキシエチル（ＨＥＭＡ）を６重量部、ジエチレングリコールジメチルエーテル（ＤＭＤＧ）を８８重量部仕込み、攪拌し溶解させた後、２、２′−アゾビス（２−メチルブチロニトリル）を７重量部添加し、均一に溶解させた。その後、窒素気流下、８５℃で２時間攪拌し、さらに１００℃で１時間反応させた。得られた溶液に、さらにメタクリル酸グリシジル（ＧＭＡ）を７重量部、トリエチルアミンを０．４重量部、およびハイドロキノンを０．２重量部添加し、１００℃で５時間攪拌し、共重合樹脂溶液（固形分５０％）を得た。
次に下記の材料を室温で攪拌、混合して硬化性樹脂組成物Ａとした。
＜硬化性樹脂組成物Ａの組成＞
・ 上記共重合樹脂溶液（固形分５０％） ：１６重量部
・ ジペンタエリスリトールペンタアクリレート（サートマー社 ＳＲ３９９）
：２４重量部
・ オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂（油化シェルエポキシ社 エピコート１８０Ｓ７０） ：４重量部
・ ２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノプロパン−１−オン ：４重量部
・ ジエチレングリコールジメチルエーテル ：５２重量部

（遮光層の形成）
下記に示すように、遮光層形成用の硬化性樹脂組成物を用いて、フォトリソグラフィー法により、ガラス基板（旭硝子社製、ＡＮ材）上に形成膜厚が２．７μｍとなるように遮光層を形成した。
＜遮光層形成用の硬化性樹脂組成物の調製＞
まず、下記分量の成分を混合し、ビーズミルにて十分に分散し、黒色顔料分散液Ｂを調製した。
＜黒色顔料分散液Ｂの組成＞
・ 樹脂被覆カーボンブラック（三菱化学社製ＭＳ１８Ｅ） ：２０重量部
・ 高分子分散材（ビックケミー・ジャパン株式会社 Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ １６３） ：５重量部
・ 溶剤（ジエチレングリコールジメチルエーテル） ：７５重量部
上記の樹脂被覆カーボンブラック（三菱化学社製ＭＳ１８Ｅ）は、平均粒径２５ｎｍであった。なお、粒径は、例えば、日機装社製のレーザードップラー散乱光解析粒度分析計（商品名「Ｍｉｃｒｏｔｒａｃ９３４ＵＰＡ」）を用い、組成物に含まれる溶剤（希釈溶剤と呼ぶ）で希釈し、組成物の顔料粒径の累積が５０％を占める粒径を５０％平均粒径とし、その値を測定して求めた。
次に、下記分量の成分を十分混合して、遮光層形成用の硬化性樹脂組成物を得た。
＜遮光層形成用の硬化性樹脂組成物の組成＞
・ 上記黒色顔料分散液Ｂ ：４３重量部
・ 硬化性樹脂組成物Ａ ：１９重量部
・ ジエチレングリコールジメチルエーテル ：３８重量部
ガラス基板の一面に、上記遮光層形成用の硬化性樹脂組成物をスピンコーターで塗布し、１００℃で３分間乾燥させ、遮光性樹脂層を形成した。この遮光性樹脂層を、遮光性樹脂層から１００μｍの距離にフォトマスクを配置してプロキシミティアライナにより２．０ｋＷの超高圧水銀ランプでパターン状に露光した後、０．０５ｗｔ％水酸化カリウム水溶液で現像した。その後、基板を２３０℃の雰囲気下に３０分間放置することにより加熱処理を施して、遮光層を所定形状に形成した。

（着色層の形成）
次に、以下のようにして、各色の着色層を形成した。
（１）赤色着色層の形成
遮光層がパターン状に形成された基板上に、下記組成の赤色硬化性樹脂組成物をスピンコーティング法により塗布し、その後、７０℃のオーブン中で３分間乾燥した。次いで、赤色硬化性樹脂組成物の塗布膜から１００μｍの距離にフォトマスクを配置してプロキシミティアライナにより２．０ｋｗの超高圧水銀ランプを用いて赤色着色層の形成領域に相当する領域のみに紫外線を１０秒間照射した。次いで、０．０５ｗｔ％水酸化カリウム水溶液（液温２３℃）中に１分間浸漬してアルカリ現像し、赤色硬化性樹脂組成物の塗布膜の未硬化部分のみを除去した。その後、基板を２３０℃の雰囲気下に１５分間放置することにより、加熱処理を施してパターン状の赤色着色層を表示用領域に形成した。形成膜厚は２．０μｍとなった。
＜赤色硬化性樹脂組成物の組成＞
・ Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１７７ ：３重量部
・ Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２５４ ：４重量部
・ ポリスルホン酸型高分子分散剤 ：３重量部
・ 硬化性樹脂組成物Ａ ：２３重量部
・ 酢酸−３−メトキシブチル ：６７重量部

（２）緑色着色層の形成
次に、下記組成の緑色硬化性樹脂組成物を用いて、赤色着色層の形成と同様の工程で、塗布膜厚を変えて、形成膜厚が２．０μｍとなるようにしてパターン状の緑色着色層を表示用領域に形成した。
＜緑色硬化性樹脂組成物の組成＞
・ Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン５８ ：７重量部
・ Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１３８ ：１重量部
・ ポリスルホン酸型高分子分散剤 ：３重量部
・ 硬化性樹脂組成物Ａ ：２２重量部
・ 酢酸−３−メトキシブチル ：６７重量部

（３）青色着色層の形成
次に、下記組成の青色硬化性樹脂組成物を用いて、赤色着色層の形成と同様の工程で、塗布膜厚を変えて、形成膜厚が２．０μｍとなるようにしてパターン状の青色着色層を表示用領域に形成した。
＜青色硬化性樹脂組成物の組成＞
・ Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５：６ ：４重量部
・ Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット２３：１重量部
・ ポリスルホン酸型高分子分散剤 ：３重量部
・ 硬化性樹脂組成物Ａ ：２５重量部
・ 酢酸−３−メトキシブチル ：６７重量部

［実施例２］
図３（ａ）に例示するカラーフィルタ形成基板を作製した。
下記に示すように、実施例１において遮光層（第１遮光層ともいう）の膜厚を１．５μｍに変更したこと、および、着色層上に第２遮光層を形成したこと以外は、実施例１と同様にしてカラーフィルタ形成基板を作製した。

（第２遮光層の形成）
着色層が形成された基板上に、下記の第２遮光層形成用の硬化性樹脂組成物を用いて、赤色着色層の形成と同様の工程で、塗布膜厚を変えて、形成膜厚が１．０μｍとなるようにして第２遮光層を形成した。
＜第２遮光層形成用の硬化性樹脂組成物の調製＞
まず、下記分量の成分を混合し、ビーズミルにて十分に分散し、黒色顔料分散液Ｃを調製した。
＜黒色顔料分散液Ｃの組成＞
・ 樹脂被覆カーボンブラック（三菱化学社製ＭＳ１８Ｅ） ：２０重量部
・ 高分子分散材（ビックケミー・ジャパン株式会社 Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ １６３） ：５重量部
・ 溶剤（ジエチレングリコールジメチルエーテル） ：７５重量部
次に、下記分量の成分を十分混合して、第２遮光層形成用の硬化性樹脂組成物を得た。
＜第２遮光層形成用の硬化性樹脂組成物の組成＞
・ 上記黒色顔料分散液Ｃ ：０．３重量部
・ 硬化性樹脂組成物Ａ ：１９．７重量部
・ ジエチレングリコールジメチルエーテル ：８０重量部

［実施例３］
図１４（ａ）に例示するカラーフィルタ形成基板を作製した。
着色層の形成において、赤色着色層、緑色着色層および青色着色層を間隙をもって形成したこと以外は、実施例２と同様にしてカラーフィルタ形成基板を作製した。

［実施例４］
第２遮光層を以下の方法にて形成したこと以外は実施例２と同様にしてカラーフィルタ形成基板を作製した。

（第２遮光層の形成）
着色層が形成された基板上に、スパッタ法にて銀−パラジウム−銅合金（ＡＰＣ）薄膜を膜厚１５００Å形成した。その後ポジ型フォトレジスト（Ｓ１８１８Ｇ、Ｒｏｈｍ ａｎｄ Ｈａａｓ Ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ ＬＬＣ製）を、スピンコーティング法により塗布し、その後、７０℃のオーブン中で３分間乾燥した。次いで、ポジ型フォトレジストの塗布膜から１００μｍの距離にフォトマスクを配置してプロキシミティアライナにより２．０ｋｗの超高圧水銀ランプを用いて第２遮光層の非形成領域に相当する領域のみに紫外線を１０秒間照射した。次いで、２．３８ｗｔ％テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液（液温２３℃）中に１分間浸漬してアルカリ現像し、ポジ型フォトレジストの塗布膜の光照射部分のみを除去した。その後、硝酸アンモニウム水溶液に浸漬させ、露出したＡＰＣ薄膜部分のみを除去した。ポジ型フォトレジストは所定の剥離液を用いて剥離させ、パターニングされたＡＰＣ薄膜を得た。

［比較例］
第２遮光層を形成しなかったこと以外は、実施例２と同様にしてカラーフィルタ形成基板を作製した。

［評価］
図１（ｂ）に例示するように、作製されたカラーフィルタ形成基板１０と、有機ＥＬ素子形成基板２０とを、絶縁性の樹脂を挟んで所定の間隔で積層して、有機ＥＬ表示装置を作製した。
実施例１〜４および比較例の各カラーフィルタ形成基板を用いた有機ＥＬ表示装置について、視差（正面方向および斜め方向から見たときの色ずれ）を評価した。視差は目視で評価し、有機ＥＬ表示装置を正面から見た場合と斜め方向から見た場合とで色ずれが認識されない場合を「Ａ」、色ずれが認識される場合を「Ｂ」とした。
下記表１に示すように、比較例では有機ＥＬ表示装置を正面から見た場合と斜め方向から見た場合とで色ずれが認識されたが、実施例１〜４ではいずれも有機ＥＬ表示装置を正面から見た場合と斜め方向から見た場合とで色ずれは認識されなかった。

１０、１０ａ〜１０ｇ カラーフィルタ形成基板
１１ 基材（透明基板とも言う）
１１Ｓ 基材面
１２、１２ａ、１２Ａ 遮光層
１２ｂ１、１２ｃ１、１２ｄ１ 第１の遮光層
１２ｂ２、１２ｃ２、１２ｄ２ 第２の遮光層
１２Ｓ、１２ａＳ （基材から最もはなれた遮光層の）面
１２ｂＳ、１２ｃＳ、１２ｄＳ （基材から最もはなれた遮光層の）面
１３Ｒ 赤色着色層
１３Ｇ 緑色着色層
１３Ｂ 青色着色層
１４ 絶縁性の樹脂層
１５ 光吸収層
１７ 画素領域
１７ａ〜１７ｆ 画素領域
１８ 画素区分用遮光領域
２０ 有機ＥＬ素子形成基板
２１ 基材（透明基板とも言う）
２２、２２Ａ 有機ＥＬ素子（有機発光素子、有機ＥＬ発光素子とも言う）
２５ 陽極
２６ 有機ＥＬ層
２７ 発光層
２８ 陰極
１１０、１１０ａ、１１０ｂ カラーフィルタ形成基板
１１１ 基材（透明基板とも言う）
１１２ ブラックマトリックス
１１３Ｒ 赤色着色層
１１３Ｇ 緑色着色層
１１３Ｂ 青色着色層
１１３Ｗ ＷＨＩＴＥ層
１１３ＷＡ 透過率調整部
１１３ＲＬ１、１１３ＲＬ２、１１３ＲＬ３ 赤色の表示色
１１３ＧＬ１、１１３ＧＬ２、１１３ＧＬ３ 緑色の表示色
１１３ＢＬ１、１１３ＢＬ２、１１３ＢＬ３ 青色の表示色
１１４ 絶縁性の樹脂層
１２０、１２０ａ、１２０ｂ 有機ＥＬ素子形成基板
１２１ 基材（透明基板とも言う）
１２２ 有機ＥＬ素子
１２２Ｗ 白色光

Claims (7)

1. 透明基板からなる基材の一面上に、画素区分用遮光領域を配して画素領域を区分けし、カラーフィルタ用の複数色の着色層を、各色それぞれ、所定の画素領域に配している有機ＥＬ表示装置用のカラーフィルタ形成基板であって、
   前記画素区分用遮光領域には、遮光層を配設しており、且つ、前記基材の一面から最も離れた遮光層の面が、カラーフィルタ用の各色の着色層の前記基材側でない側の面よりも、前記基材の一面から離れた位置に形成され、
   前記画素区分用遮光領域に配設される遮光層は２層で、前記基材の一面に接して第１の遮光層を配設し、前記第１の遮光層を覆うように、隣接する画素のカラーフィルタ用の各色の着色層がそれぞれ延設されて配されており、且つ、前記延設された各色の着色層の前記基材側でない面側に、第２の遮光層を配設し、
   前記第２の遮光層の線幅は、前記第１の遮光層の線幅よりも大であることを特徴とするカラーフィルタ形成基板。
2. 請求項１に記載のカラーフィルタ形成基板であって、前記第２の遮光層は、前記カラーフィルタ用の各色の着色層を覆う保護層の、前記基材の一面側でない側の面に接して形成されていることを特徴とするカラーフィルタ形成基板。
3. 請求項２に記載のカラーフィルタ形成基板であって、前記保護層が、無機組成物からなることを特徴とするカラーフィルタ形成基板。
4. 請求項１ないし請求項３のいずれか１項に記載のカラーフィルタ形成基板であって、前記画素領域に光吸収層が積層して形成されていることを特徴とするカラーフィルタ形成基板。
5. 請求項４に記載のカラーフィルタ形成基板であって、前記光吸収層は、樹脂中に色材としてカーボンブラックを分散して含有しているものであることを特徴とするカラーフィルタ形成基板。
6. 請求項４ないし請求項５のいずれか１項に記載のカラーフィルタ形成基板であって、前記光吸収層のＣ光源における平均透過率が４５％〜９５％であることを特徴とするカラーフィルタ形成基板。
7. 有機ＥＬ素子形成基板とカラーフィルタ形成基板とを積層した構造の有機ＥＬ表示装置であって、請求項１ないし請求項６のいずれかに記載のカラーフィルタ形成基板を用いていることを特徴とする有機ＥＬ表示装置。

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