JP6313161B2 - ペリクルフレーム及びペリクル - Google Patents
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Description
ところが、フォトマスクの洗浄やペリクルの構成物質の低発ガス化を進めても、フォトマスク基板上へのヘイズの発生を完全に防止することはできなかった。
前記ペリクルフレームは、パラキシリレン系ポリマーを含む層で被覆されたものであることを特徴とするペリクルフレームを提供する。
このようなものであれば、ペリクルフレームから放出される硫酸イオンやアンモニウムイオン等のヘイズ発生の原因となる物質の量を低減することが確実にできるので、露光環境下において、ヘイズの発生を確実に低減することができる。
このように、前記パラキシリレン系ポリマーを含む層が、可視光領域において透明であれば、ペリクルフレームでの露光光の反射を抑えられ、かつ異物検査においても有利なペリクルを得ることができる。
このように、パラキシリレン系ポリマーを含む層は化学蒸着により形成することができる。
このように、ペリクルフレームに使用される基材が、黒色系の材料であれば、ペリクルフレームでの露光光の反射を抑えられ、かつ、異物検査においても有利なペリクルを確実に得ることができる。
このように、ペリクルフレームに使用される基材に、黒色アルマイト処理を施すことによって、ペリクルフレームでの露光光の反射を抑えられ、かつ、異物検査においても有利なペリクルをより確実に得ることができる。
前記ペリクルフレームが、上記したような本発明に係るペリクルフレームであることを特徴とするペリクルを提供する。
また、本発明のペリクルは、露光環境下におけるヘイズの発生が抑制された本発明のペリクルフレームを用いるので、フォトリソグラフィーにおいてフォトマスク基板上へのヘイズの発生を抑えることができるペリクルとなる。
上記したように、ペリクルフレームとして使用されるアルミニウム合金の表面に形成された陽極酸化皮膜中に硫酸、硝酸、有機酸等の酸性成分が取り込まれており、これらが陽極酸化皮膜中から脱離し、露光環境下においてペリクルとフォトマスクの閉空間内で反応することによって、硫酸アンモニウムなどの硫酸化合物が生成し、これによって、ヘイズが生成されるという問題があった。
図1は、本発明のペリクル10の構成を示している。本発明のペリクル10はパラキシリレン系ポリマーを含む層で被覆されたペリクルフレーム3の上端面に接着剤2を介してペリクル膜1が張設されたものでる。
具体的には、例えば、アクリル樹脂接着剤、エポキシ樹脂接着剤、シリコーン樹脂接着剤、含フッ素シリコーン接着剤等のフッ素ポリマー等が挙げられる。なかでもフッ素系ポリマーが好適である。
このように、前記パラキシリレン系ポリマーを含む層が、可視光領域において透明であれば、ペリクルフレームでの露光光の反射を抑えられ、かつ異物検査においても有利なペリクルを得ることができる。
ペリクルフレームとして、フレーム外寸149mm×122mm×5.8mm、フレーム厚さ2mmのJIS A7075−T651アルミニウム合金製フレーム材を2本用意した。
なお、表1には、後述するヘイズの発生についても併せて記載した。さらに、後述する比較例1、2での溶出イオンの分析結果及び、ヘイズの発生についても併せて示した。
通気口にはフィルターを設置した。フィルターの材質はPTFEであり、大きさは、幅9.5mm、高さ2.5mm、厚さ300μmである。また、塵埃濾過サイズは0.1μm〜3.0μmで99.9999%であり、除塵用のフィルターと、その外側にケミカルフィルターを備えたものとした。
この膜に外寸200mm×200mm×5mm幅、厚さ5mmの貼り付け用フレームを、エポキシ系接着剤アラルダイトラピッド(昭和高分子社製商品名)を用いて接着し、水中で剥離した。
これを、ArFエキシマレーザースキャナーNSR S306C(ニコン社製商品名)に装着し、レチクル面上露光強度0.01mJ/cm2/pulse、繰り返し周波数4000Hzにて500J/cm2の照射量で照射した。
照射後のフォトマスク上をレーザー異物検査装置にて観察したところ、表1に示したように、ヘイズの発生はなかった。
実施例と同様のアルミニウム合金製フレーム材を2本用意し、実施例と同様にして、表面洗浄、表面粗化、NaOH処理洗浄を行った後、14%硫酸水溶液中にて化成電圧10V(1.3A)で陽極酸化を行い、その後、超純水と超音波洗浄装置を使用して、黒色酸化被膜が形成されたフレーム材を5分間洗浄した。
このペリクルを実施例と同様にフォトマスク基板に貼り付け、ArFエキシマレーザー照射を行い、照射後のフォトマスク上の観察を行った。その結果、表1に示したように、ヘイズの発生が認められた。
実施例と同様のアルミニウム合金製フレーム材を2本用意し、実施例と同様にして、表面洗浄、表面粗化、NaOH処理洗浄を行った後、14%硫酸水溶液中にて化成電圧10V(1.3A)で陽極酸化を行い、その後、超純水と超音波洗浄装置を使用して、黒色酸化被膜が形成されたフレーム材を5分間洗浄した。
このペリクルを実施例と同様にフォトマスク基板に貼り付け、ArFエキシマレーザー照射を行い、照射後のフォトマスク上の観察を行った。その結果、表1に示したように、ヘイズの発生が認められた。
5…露光原版、 6…気圧調整用穴、 7…除塵用フィルター、 10…ペリクル。
Claims (6)
- フォトリソグラフィ用のペリクルを構成するペリクルフレームであって、
前記ペリクルフレームは、パラキシリレン系ポリマー層で被覆されたものであり、前記パラキシリレン系ポリマーとして、ポリクロロパラキシリレンを主成分として含むことを特徴とするペリクルフレーム。 - 前記パラキシリレン系ポリマー層が、可視光領域において透明であることを特徴とする請求項1に記載のペリクルフレーム。
- 前記パラキシリレン系ポリマー層が、化学蒸着により形成されたものであることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載のペリクルフレーム。
- 前記ペリクルフレームの基材が、黒色系の材料であることを特徴とする請求項1から請求項3のいずれか一項に記載のペリクルフレーム。
- 前記ペリクルフレームの基材は、黒色アルマイト処理が施されたアルミニウム合金であることを特徴とする請求項1から請求項3のいずれか一項に記載のペリクルフレーム。
- ペリクルフレームと、該ペリクルフレームに張設されたペリクル膜とからなるフォトリソグラフィ用のペリクルであって、
前記ペリクルフレームが、請求項1から請求項5のいずれか一項に記載のペリクルフレームであることを特徴とするペリクル。
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