JP6294644B2 - Water quality inspection device - Google Patents
Water quality inspection device Download PDFInfo
- Publication number
- JP6294644B2 JP6294644B2 JP2013250509A JP2013250509A JP6294644B2 JP 6294644 B2 JP6294644 B2 JP 6294644B2 JP 2013250509 A JP2013250509 A JP 2013250509A JP 2013250509 A JP2013250509 A JP 2013250509A JP 6294644 B2 JP6294644 B2 JP 6294644B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- water
- ion
- quality inspection
- toc
- clean water
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 162
- 238000007689 inspection Methods 0.000 title claims description 54
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 claims description 44
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 18
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 18
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 17
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 claims description 16
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N iron Substances [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- -1 iron ions Chemical class 0.000 claims description 16
- JPVYNHNXODAKFH-UHFFFAOYSA-N Cu2+ Chemical compound [Cu+2] JPVYNHNXODAKFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- 229910001431 copper ion Inorganic materials 0.000 claims description 14
- 229910021642 ultra pure water Inorganic materials 0.000 claims description 14
- 239000012498 ultrapure water Substances 0.000 claims description 14
- 239000005416 organic matter Substances 0.000 claims description 13
- 238000012360 testing method Methods 0.000 claims description 5
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 3
- 239000011368 organic material Substances 0.000 claims description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 14
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 13
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 8
- 235000019353 potassium silicate Nutrition 0.000 description 7
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 6
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 6
- 239000008235 industrial water Substances 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 239000003673 groundwater Substances 0.000 description 4
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 4
- 238000001223 reverse osmosis Methods 0.000 description 4
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 4
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 3
- 239000008399 tap water Substances 0.000 description 3
- 235000020679 tap water Nutrition 0.000 description 3
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 2
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- 239000008213 purified water Substances 0.000 description 2
- 238000012372 quality testing Methods 0.000 description 2
- NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(ethenyl)benzene;1-ethenyl-2-ethylbenzene;styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1.CCC1=CC=CC=C1C=C.C=CC1=CC=CC=C1C=C NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 229910001385 heavy metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003456 ion exchange resin Substances 0.000 description 1
- 229920003303 ion-exchange polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
- 238000004065 wastewater treatment Methods 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Physical Water Treatments (AREA)
Description
本発明は、水の水質を検査するための水質検査装置に関する。 The present invention relates to a water quality inspection apparatus for inspecting water quality.
通常、化学工業、機械工業における機器や原材料、製品の洗浄には、不純物が取り除かれた純水が使用される。洗浄に市水(上水)を使用すると、市水に含まれる微量の不純物が洗浄対象物に付着して残ってしまうためである。特に、半導体デバイスの製造プロセスにおいては、ごく微量の不純物がデバイス上に残っていても品質に重大な影響を及ぼすために、純水より更に純度の高い超純水が用いられている。 Usually, pure water from which impurities have been removed is used for cleaning equipment, raw materials, and products in the chemical and mechanical industries. This is because when city water (clean water) is used for cleaning, a trace amount of impurities contained in the city water remains attached to the object to be cleaned. In particular, in a semiconductor device manufacturing process, ultrapure water having a higher purity than pure water is used in order to seriously affect the quality even if a very small amount of impurities remain on the device.
ここで、純水とは比抵抗値が約1〜10MΩ・cmの水を指し、超純水とは比抵抗値が約10MΩ・cm以上の水を指す。例えば、純水は市水をフィルタ、活性炭フィルタ、イオン交換樹脂や逆浸透膜に通過させることで精製される。 Here, pure water refers to water having a specific resistance value of about 1 to 10 MΩ · cm, and ultrapure water refers to water having a specific resistance value of about 10 MΩ · cm or more. For example, pure water is purified by passing city water through a filter, an activated carbon filter, an ion exchange resin or a reverse osmosis membrane.
そこで、上水を純水に精製するために、第1の逆浸透膜分離装置を要する工業用水処理系と、第2の逆浸透膜分離装置を有する半導体製造排水処理系と、これらの処理系の処理水を混合して混合原水とする混合装置と、直列に二段以上配置された多段逆浸透膜分離装置を有する混合原水処理系とを含む純水精製装置(例えば、特許文献1参照)が提案されている。 Therefore, in order to purify clean water into pure water, an industrial water treatment system that requires a first reverse osmosis membrane separation device, a semiconductor manufacturing wastewater treatment system having a second reverse osmosis membrane separation device, and these treatment systems A pure water purifier including a mixing device that mixes the treated water into mixed raw water and a mixed raw water treatment system having a multistage reverse osmosis membrane separation device arranged in two or more stages in series (see, for example, Patent Document 1) Has been proposed.
一般に、半導体デバイス製造工場などでは、この種の純水精製装置を工場施設内に設けて、市水、工業用水、時には地下水等を引き入れて純水精製装置で精製することで、工場全体の純水・超純水をまかなっている。そのため、工場内に供給される市水、工業用水、地下水等は定期的にサンプリングを行い、その成分分析等を行い水質検査を行っている。 In general, in semiconductor device manufacturing plants, etc., this kind of pure water purifier is installed in the factory facility, and purified by the pure water purifier by drawing in city water, industrial water, and sometimes groundwater. Covers water and ultrapure water. For this reason, city water, industrial water, groundwater, etc. supplied to the factory are regularly sampled, analyzed for their components, and water quality is inspected.
しかし、供給される市水、工業用水、地下水は、その時々の気象状況やその他工場の外部環境の変化により不純物の含有状態も変化するものであり、従来のサンプリングによる水質検査において例えば半導体デバイスに悪影響を与える重金属などの成分が増大している結果が出たとしても、現在の状況とは異なっている場合が多い。そのため、純水精製装置のフィルタへの不純物の堆積具合が分からず、純水精製装置のフィルタ交換タイミングを把握しずらいという問題がある。 However, the supply of city water, industrial water, and groundwater also changes the state of impurities due to changes in the weather conditions and other changes in the external environment of the factory. Even if a result of an increase in components such as heavy metals that adversely affects the situation is often different from the current situation. For this reason, there is a problem that it is difficult to grasp the filter replacement timing of the pure water purification apparatus because it is not known how the impurities are deposited on the filter of the pure water purification apparatus.
本発明は、上記問題にかんがみなされたもので、その目的は、自動で水質検査を行うことができる水質検査装置を提供することである。 The present invention has been considered in view of the above problems, and an object thereof is to provide a water quality inspection apparatus capable of automatically performing a water quality inspection.
上述した課題を解決し、目的を達成するために、本発明の水質検査装置は、上水を純水または超純水に生成する設備に設置され、かつ該上水の水質を検査するための水質検査装置であって、該上水の主流から分岐する検査用分岐経路内に配設されており、該検査用分岐経路内に流水する上水に向けて紫外線を照射して上水中に含有する有機物を分解除去する紫外線照射部であるとともに、TOC計測手段に内蔵された紫外線照射器と、該TOC計測手段の下流側に配設され、かつ該TOC計測手段からの有機物が分解除去されて有機物が含有していない上水内の銅イオン及び鉄イオン濃度を測定するためのイオン検出部と、該イオン検出部から検出されたイオン濃度と、該TOC計測手段により算出された有機物量とを表示する表示部と、から構成され、該TOC計測手段と該イオン検出部とを、該上水の流れる方向に直列に配設していることを特徴とする。 In order to solve the above-described problems and achieve the object, the water quality inspection apparatus of the present invention is installed in a facility for generating clean water into pure water or ultrapure water, and for checking the quality of the clean water . a water quality testing device, are disposed in an examination for branch that branches from the main flow of the upper water contained in the upper water with ultraviolet rays to irradiate the water on the water flow to the test branch path with an organic substance which is an ultraviolet irradiating unit for decomposing and removing, a UV irradiator built in TOC measuring means, disposed on the downstream side of the TOC measurement device, and organic substances from the TOC measuring means is decomposed and removed an ion detector for measuring the copper ions and iron ions concentration on the water organic material does not contain an ion concentration detected by the ion detector, and amount of organic substances calculated by the TOC measurement device Display part to display, or It is configured, and the TOC measurement device and the ion detector, characterized in that it is arranged in series in the flow direction of the upper water.
本発明の水質検査装置は、上水の主流から分岐された検査用分岐経路内に、上水中に含有する銅イオン及び鉄イオン濃度を検出するイオン電極の上流側に上水中の有機物を除去する紫外線照射部を設けている。このために、水質検査装置は、自動で水質検査を行うことができる。 Water quality testing device of the present invention, in an examination for branch which is branched from the main flow of the upper water to remove organic matter of the upper water to the upstream side of the ion-selective electrode which detects the copper ions and iron ions concentration contained in the upper water An ultraviolet irradiation unit is provided. For this reason, the water quality inspection device can automatically perform a water quality inspection.
本発明を実施するための形態(実施形態)につき、図面を参照しつつ詳細に説明する。以下の実施形態に記載した内容により本発明が限定されるものではない。また、以下に記載した構成要素には、当業者が容易に想定できるもの、実質的に同一のものが含まれる。さらに、以下に記載した構成は適宜組み合わせることが可能である。また、本発明の要旨を逸脱しない範囲で構成の種々の省略、置換又は変更を行うことができる。 DESCRIPTION OF EMBODIMENTS Embodiments (embodiments) for carrying out the present invention will be described in detail with reference to the drawings. The present invention is not limited by the contents described in the following embodiments. The constituent elements described below include those that can be easily assumed by those skilled in the art and those that are substantially the same. Furthermore, the structures described below can be combined as appropriate. Various omissions, substitutions, or changes in the configuration can be made without departing from the scope of the present invention.
〔実施形態〕
実施形態に係る水質検査装置を、図1から図4に基づいて説明する。図1は、実施形態に係る水質検査装置が用いられる工場設備の構成の一例を示す図である。図2は、実施形態に係る水質検査装置の構成例を示す図である。図3は、実施形態に係る水質検査装置のTOC計測手段の構成例を示す図である。図4は、実施形態に係る水質検査装置のイオン検出部の構成例を示す図である。
Embodiment
A water quality inspection apparatus according to an embodiment will be described with reference to FIGS. Drawing 1 is a figure showing an example of composition of factory equipment in which a water quality inspection device concerning an embodiment is used. Drawing 2 is a figure showing the example of composition of the water quality inspection device concerning an embodiment. FIG. 3 is a diagram illustrating a configuration example of the TOC measurement unit of the water quality inspection apparatus according to the embodiment. FIG. 4 is a diagram illustrating a configuration example of an ion detection unit of the water quality inspection apparatus according to the embodiment.
実施形態に係る水質検査装置1は、不純物を除去された上水(特許請求の範囲に記載された水に相当)内の銅イオン、鉄イオンの濃度を検出する装置である。水質検査装置1は、例えば、図1に示される工場設備100に設置される。工場設備100は、上水道などの市水供給源101から供給された上水を純水または超純水に精製した後、研削装置、切削装置や研磨装置などの各種の加工装置102に供給する設備である。なお、上水とは、水から異物を除去したものをいい、例えば、水道水、工業用水、地下水などをいう。
The water quality inspection apparatus 1 according to the embodiment is an apparatus that detects the concentration of copper ions and iron ions in clean water from which impurities have been removed (corresponding to water described in claims). The water quality inspection apparatus 1 is installed, for example, in a
工場設備100は、図1に示すように、市水供給源101から供給経路103(水の主流に相当)を通して上水が供給される純水精製装置104と、純水精製装置104からの純水または超純水を加工に用いる加工装置102と、水質検査装置1とを備えている。純水精製装置104は、上水を純水または超純水に精製するものであって、精製用のフィルタなどを備えている。フィルタは、純水または超純水の精製により上水の含有イオンなどからなる堆積物が堆積する。フィルタは、許容できる堆積物の量などに応じた寿命が予め設定されている。純水精製装置104は、精製した純水または超純水を加工装置102に供給する。加工装置102は、純水精製装置104からの純水または超純水を用いて、被加工物を研削加工などの加工するものである。なお、加工装置102の加工対象としての被加工物は、純水、超純水を用いて加工されることが要求される半導体デバイスなどである。加工装置102は、純水精製装置104からの純水または超純水を加工に用い、加工中に発生した研削屑などを含んだ加工水を再度、純水精製装置104に供給する。また、純水精製装置104は、加工装置102から供給された加工水を再度純水または超純水に精製して、加工装置102に供給する。
As shown in FIG. 1, the
水質検査装置1は、上水の水質を検査するためのものであって、図1に示すように、市水供給源101から純水精製装置104に上水を供給する供給経路103から分岐する検査用分岐経路2を通して上水が供給される。なお、検査用分岐経路2には、図示しない開閉バルブが設けられている。水質検査装置1は、図2に示すように、検査用分岐経路2内に配設されている。水質検査装置1は、図2に示すように、TOC(Total Organic Carbon:全有機炭素)計測手段3と、イオン検出部4と、表示部・記録部5(表示部に相当)とから構成されている。
The water quality inspection device 1 is for inspecting the quality of clean water, and branches from a
TOC計測手段3は、上水内の有機物量を算出するものである。TOC計測手段3は、図3に示すように、紫外線照射器31(紫外線照射部に相当)と、検査用分岐経路2に接続した流水ガラス管32と、一対の比抵抗計33a,33bと、計測部34とを備えている。紫外線照射器31は、検査用分岐経路2内に流水する上水に向けて紫外線を照射して、上水中に含有する有機物を分解除去するものである。紫外線照射器31は、TOC計測手段3に内蔵された紫外線照射器であり、外観が円柱状に形成されている。流水ガラス管32は、一端が検査用分岐経路2に接続し、紫外線照射器31の外周に巻きつけられている。流水ガラス管32は、紫外線を透過する材料で構成され、かつ検査用分岐経路2からの上水を流すとともに、検査用分岐経路2内の上水に紫外線が照射されることを許容する。流水ガラス管32は、内側を流れる上水に紫外線が照射されることを許容することで、内側を流れる上水内の有機物を除去する。
The TOC measuring means 3 calculates the amount of organic matter in the tap water. As shown in FIG. 3, the TOC measuring means 3 includes an ultraviolet irradiator 31 (corresponding to an ultraviolet irradiator), a flowing
一対の比抵抗計33a,33bは、流水ガラス管32の両端に取り付けられ、流水ガラス管32内の上水の比抵抗値を計測する。即ち、一対の比抵抗計33a,33bのうち上流側の比抵抗計33aは、紫外線照射器31により有機物が除去される前の上水の比抵抗値を計測する。一対の比抵抗計33a,33bのうち下流側の比抵抗計33bは、紫外線照射器31により有機物が除去された後の上水の比抵抗値を計測する。一対の比抵抗計33a,33bは、計測結果を計測部34に出力する。計測部34は、一対の比抵抗計33a,33bの計測した比抵抗値の差に基づいて、上水内の有機物量を算出し、算出した有機物量を表示部・記録部5に出力する。
The pair of
イオン検出部4は、TOC計測手段3の紫外線照射器31の下流側に配設され、有機物が含有していない上水内の銅イオン及び鉄イオン濃度を測定するためのものである。イオン検出部4は、図4に示すように、TOC計測手段3からの有機物が分解除去された上水を一旦貯留する貯留槽41と、貯留槽41内に設けられた比較電極42と、貯留槽41内に設けられたイオン電極43と、検出部44とを備えている。貯留槽41には、比抵抗計33bを介して流水ガラス管32の他端に接続した流入口41aと、貯留槽41内の上水を排水するための流出口41bとが設けられている。
The ion detector 4 is disposed on the downstream side of the
イオン電極43と比較電極42とは、貯留槽41内の上水内に浸漬されて電池を構成して、銅イオンと鉄イオンの濃度に応じた起電力を生じる。検出部44は、イオン電極43と比較電極42との起電力に基づいて、銅イオンと鉄イオンの濃度を検出する。なお、本実施形態では、イオン電極43として、銅、鉄イオン複合電極(例えば、東亜ディーケーケー株式会社製、製品名CU−2021)を用いて、検出部44が、上水中の銅イオンと鉄イオンを合算した濃度を検出する。また、実施形態では、イオン電極43として銅、鉄イオン複合電極を用いたイオン検出部4を一つのみ設けているが、本発明では、濃度を検出するイオンの種類に応じて、少なくとも一種類以上のイオンを検出するためのイオン電極43を備えたイオン検出部4を一以上設けてもよい。なお、本発明では、イオン検出部4を複数設ける場合には、イオン検出部4を上水の流れる方向に直列に配設するのが望ましい。
The
表示部・記録部5は、例えばCPU等で構成された演算処理装置やROM、RAM等を備える図示しないマイクロプロセッサを主体としたコンピュータと、液晶ディスプレイ、有機ELディスプレイ等の表示パネルなどで構成される。表示部・記録部5は、イオン検出部4から検出されたイオン濃度をリアルタイムで表示するとともに、TOC計測手段3により算出された有機物量もリアルタイムで表示する。また、表示部・記録部5は、イオン検出部4から検出されたイオン濃度と、TOC計測手段3により算出された有機物量とを時刻に関連付けて記録する。
The display unit / recording unit 5 includes, for example, an arithmetic processing unit constituted by a CPU or the like, a computer mainly including a microprocessor (not shown) provided with a ROM, a RAM, etc., and a display panel such as a liquid crystal display or an organic EL display. The The display unit / recording unit 5 displays the ion concentration detected from the ion detection unit 4 in real time, and also displays the amount of organic matter calculated by the
また、水質検査装置1は、図2に示すように、検査用分岐経路2に伝導率計6を配設している。伝導率計6は、検査用分岐経路2内を流れる上水の伝導率を検出して検出結果を、表示部・記録部5に出力する。表示部・記録部5は、伝導率計6が検出した伝導率をリアルタイムで表示するとともに時刻と関連付けて記録する。
Further, as shown in FIG. 2, the water quality inspection apparatus 1 has a
次に、実施形態に係る水質検査装置1が、上水の水質を検査する際には、検査用分岐経路2に上水が供給され、伝導率計6が上水の伝導率を検出し、検出結果を表示部・記録部5に出力する。そして、上水が、TOC計測手段3の流水ガラス管32に通されて、計測部34が有機物量を算出して、算出結果を表示部・記録部5に出力する。その後、上水が、イオン検出部4の貯留槽41に一旦貯留され、検出部44が銅イオンと鉄イオンを合算したイオン濃度を測定し、測定結果を表示部・記録部5に出力する。そして、上水が貯留槽41から外部に排水される。表示部・記録部5は、伝導率、有機物量、イオン濃度をリアルタイムで表示するとともに、これらを時刻と関連付けて記録する。水質検査装置1は、表示部・記録部5に記録されたイオン濃度に基づいて、純水精製装置104のフィルタの交換タイミングを予想するために用いられる。また、水質検査装置1は、検査用分岐経路2内から供給される上水内のイオン濃度が急上昇した際には、純水精製装置104への上水の供給を停止するためにも用いることができる。
Next, when the water quality inspection apparatus 1 according to the embodiment inspects the quality of the clean water, clean water is supplied to the
以上のように、実施形態に係る水質検査装置1によれば、供給経路103から分岐された検査用分岐経路2内に、上水内に含有する銅イオン及び鉄イオン濃度を検出するイオン検出部4の上流側に上水中の有機物を除去する紫外線照射器31を設けている。このために、水質検査装置1は、上水を検査分岐経路2内に流しながら銅イオン及び鉄イオン濃度を検出することができる。したがって、水質検査装置1は、簡易な構成で自動で継続的に流れる上水の水質検査を行うことができ、上水内に含有する銅イオン及び鉄イオン濃度をリアルタイムで把握することができる。よって、水質検査装置1は、純水精製装置104のフィルタの堆積物の量を把握でき、フィルタの交換タイミングを容易に把握することができる。
As described above, according to the water quality inspection apparatus 1 according to the embodiment, the ion detection unit 4 that detects the concentration of copper ions and iron ions contained in the clean water in the
また、水質検査装置1は、イオン検出部4の上流側に上水中の有機物を除去する紫外線照射器31を設けているために、有機物と反応して錯イオンとなった銅イオン、鉄イオンをイオン電極43により測定できないという不具合を解消できる。よって、水質検査装置1は、簡易な構成で確実に銅イオン、鉄イオンの濃度の検出が可能であり、自動で水質検査を行うことができる。また、水質検査装置1は、紫外線照射器31がTOC計測手段3に内蔵されているので、同時に上水中に含有される有機物濃度の検査も行うことができる。
In addition, since the water quality inspection apparatus 1 is provided with an
前述した実施形態は、TOC計測手段3をイオン検出部4の上流側に配設して、TOC計測手段3の紫外線照射器31から紫外線を照射することで上水内の有機物を分解除去するとともにTOC計測手段3が有機物量を算出する。しかしながら、本発明では、紫外線照射器31のみをイオン検出部4の上流側に配設して、紫外線照射器31から紫外線を照射することで、有機物量を算出することなく、検査用分岐経路2を流れる上水内の有機物を分解除去するようにしてもよい。
In the above-described embodiment, the
なお、本発明は上記実施形態に限定されるものではない。即ち、本発明の骨子を逸脱しない範囲で種々変形して実施することができる。 The present invention is not limited to the above embodiment. That is, various modifications can be made without departing from the scope of the present invention.
1 水質検査装置
2 検査用分岐経路
3 TOC計測手段
4 イオン検出部
5 表示部・記録部(表示部)
31 紫外線照射器(紫外線照射部)
103 供給経路(水の主流)
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Water
31 UV irradiator (UV irradiator)
103 Supply route (mainstream of water)
Claims (1)
該上水の主流から分岐する検査用分岐経路内に配設されており、
該検査用分岐経路内に流水する上水に向けて紫外線を照射して上水中に含有する有機物を分解除去する紫外線照射部であるとともに、TOC計測手段に内蔵された紫外線照射器と、
該TOC計測手段の下流側に配設され、かつ該TOC計測手段からの有機物が分解除去されて有機物が含有していない上水内の銅イオン及び鉄イオン濃度を測定するためのイオン検出部と、
該イオン検出部から検出されたイオン濃度と、該TOC計測手段により算出された有機物量とを表示する表示部と、から構成され、
該TOC計測手段と該イオン検出部とを、該上水の流れる方向に直列に配設している水質検査装置。 A water quality inspection device installed in a facility for generating clean water into pure water or ultrapure water, and for checking the quality of the clean water ,
It is disposed in the branch for inspection branching from the main stream of the clean water,
With an ultraviolet irradiation unit for decomposing and removing organic substances contained in the above water by irradiating ultraviolet rays toward the water on the water flow to the test branch path, and an ultraviolet irradiator built in TOC measuring means,
Disposed downstream of the TOC measurement device, and an ion detector for organic material from the TOC measuring means for measuring the copper ions and iron ions concentration on the water is decomposed and removed organic matter does not contain ,
A display unit that displays the ion concentration detected from the ion detection unit and the amount of organic matter calculated by the TOC measurement unit ;
A water quality inspection apparatus in which the TOC measurement means and the ion detector are arranged in series in the direction in which the clean water flows .
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013250509A JP6294644B2 (en) | 2013-12-03 | 2013-12-03 | Water quality inspection device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013250509A JP6294644B2 (en) | 2013-12-03 | 2013-12-03 | Water quality inspection device |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2015108526A JP2015108526A (en) | 2015-06-11 |
JP6294644B2 true JP6294644B2 (en) | 2018-03-14 |
Family
ID=53438984
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013250509A Active JP6294644B2 (en) | 2013-12-03 | 2013-12-03 | Water quality inspection device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6294644B2 (en) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6626686B2 (en) | 2015-10-27 | 2019-12-25 | 三菱重工エンジニアリング株式会社 | Acid gas recovery method and system, and iron ion analysis method and system |
JP7280790B2 (en) * | 2019-09-25 | 2023-05-24 | 株式会社ディスコ | Processing waste liquid treatment method |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3963319B2 (en) * | 2002-11-07 | 2007-08-22 | オルガノ株式会社 | Ultrapure water production equipment |
JP4538604B2 (en) * | 2004-09-21 | 2010-09-08 | 独立行政法人産業技術総合研究所 | Photoreaction tube built-in photoreaction apparatus and water quality monitoring apparatus using the same |
JP2009034646A (en) * | 2007-08-03 | 2009-02-19 | Kurita Water Ind Ltd | Bobbin-type filter and water treatment method |
-
2013
- 2013-12-03 JP JP2013250509A patent/JP6294644B2/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2015108526A (en) | 2015-06-11 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US8650935B2 (en) | Method of TOC monitoring | |
US9665852B2 (en) | Water purification unit | |
WO2006006370A1 (en) | Method of rating water quality, ultrapure water rating apparatus utilizing the method and system for ultrapure water production | |
WO1991006848A1 (en) | Method of measuring total quantity of organic substances in ultrapure water and ultrapure water treating system utilizing said method in preparation of ultrapure water | |
JP6294644B2 (en) | Water quality inspection device | |
JP2024014871A (en) | Ultrapure water production system and water quality control method therefor | |
KR20240023199A (en) | Water quality management method, ion adsorption device, information processing device, and information processing system | |
JP4538604B2 (en) | Photoreaction tube built-in photoreaction apparatus and water quality monitoring apparatus using the same | |
JP2007170863A (en) | Water-quality evaluation method, ultrapure water evaluation device using the same and ultrapure water producing system | |
JP4591703B2 (en) | Liquid processing method and apparatus | |
KR20060104662A (en) | Examination machine of water for water processor | |
KR101507025B1 (en) | A Real-time Automatic Analyzing Device for Organic Pollutants of Fluid | |
JP2018025454A (en) | Hydrogen peroxide analyzer and hydrogen peroxide analysis method | |
JP2005240588A (en) | Power generation device and method and device for monitoring water quality of the power generation device | |
JP4864671B2 (en) | Water quality abnormality detection device, water quality abnormality detection method, and water treatment device | |
CN104511451B (en) | The control method of the cleannes of consumptive material used by a kind of core main pump manufacture process and detection method thereof | |
JP2010044022A (en) | Method and apparatus for continuously monitoring test water | |
US20070238188A1 (en) | Peroxide monitor | |
JP7139301B2 (en) | Pure water production control system and pure water production control method | |
JP2005010057A (en) | Method and device for detecting membrane damage in membrane filter | |
JP6180905B2 (en) | Water quality inspection device | |
JP5534329B2 (en) | Particle measurement water quality analyzer | |
JP7208043B6 (en) | Concentration measurement device, ultrapure water production device, and water treatment method | |
KR101328675B1 (en) | Purifying device for ground water | |
KR102422847B1 (en) | Waste water traetment monitoring apparatus and operation method thereof |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20161017 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20170614 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20170627 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20170828 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20180130 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20180216 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6294644 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |