JP6279374B2 - タッチパネルおよびその製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、光学異方性ハードコート転写フィルムおよびその製造方法、並びにタッチパネルおよびその製造方法に関する。

近年、ディスプレイ画面に触れることで情報入力が可能なタッチパネルを搭載した画像表示装置（例えば、携帯情報端末及び携帯電話）が急速に普及している。タッチパネルディスプレイの厚さを薄くすることは最近の開発の傾向である。

特許文献１には、基材の上に、少なくともハードコート層と接着層とをこの順に積層してなるハードコート層転写シートであって、ハードコート層が感光性基を設けたシリカを使用したアクリル−シリカハイブリッド樹脂からなり、接着層にシランカップリング剤を含有することを特徴とするハードコート層転写シートが記載されている。

特許文献２には、透光性保護フィルムと、液晶層からなる光学異方素子と、偏光素子と、透光性保護フィルムとが、この順に積層されている楕円偏光板が記載されており、特に光学異方素子としてλ／４位相差板を使用することが記載されている。

特開２０１１−８３９１２号公報 特開２００９−１８６６５９号公報

上記の通りタッチパネルディスプレイの厚さを薄くすることが要求されているが、タッチセンサーを保護するためのハードコートフィルムの厚さを薄くすると、加工や貼合時にシワが発生しやすくなるという問題がある。
また、スマートフォン、タブレット、車載カーナビゲーション及び自動販売機等のタッチパネル搭載ディスプレイの急速な普及に伴い、屋外での利用が増加している。このため、偏光特性を有するサングラスを掛けたまま、タッチパネル搭載ディスプレイを観察する機会が増えており、干渉色が見える虹ムラの問題や、見る角度によって画像が黒くなるブラックアウトの問題が近年注目されている。

上記した特許文献１には、仮支持体上に形成したハードコート層を転写する方法が提案されているが、ブラックアウトの問題を解決することができないという問題がある。また、特許文献２は、虹ムラおよびブラックアウトの問題を低減するものではあるが、耐傷性を付与することはできない。
本発明は、耐傷性に優れ、厚さが薄く、かつタッチパネル搭載ディスプレイにおける虹ムラおよびブラックアウトを低減することができる光学異方性ハードコート転写フィルムおよびその製造方法を提供することを解決すべき課題とした。さらに本発明は、虹ムラおよびブラックアウトを低減したタッチパネルおよびその製造方法を提供することを解決すべき課題とした。

本発明者らは上記課題を解決するために鋭意検討を行った結果、仮支持体の一方の表面上にハードコート層および光学異方層を有する光学異方性ハードコート転写フィルムを使用した場合には、耐傷性に優れ、かつタッチパネル搭載ディスプレイにおける虹ムラおよびブラックアウトを低減できることを見出し、本発明を完成させるに至った。
具体的に、本発明は、以下の構成を有する。

＜１＞ 仮支持体の一方の表面上に、少なくとも１層のハードコート層と少なくとも１層の光学異方層とを有する、光学異方性ハードコート転写フィルム。
＜２＞ 光学異方層の波長５５０ｎｍにおける面内方向のリタデーションＲｅが４０〜２４０ｎｍである、＜１＞に記載の光学異方性ハードコート転写フィルム；
但し、光学異方層の面内遅相軸方向の屈折率をｎｘ、面内進相軸方向の屈折率をｎｙ、厚み方向の屈折率をｎｚ、膜厚をｄとすると、面内方向のリタデーションＲｅ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄで表される。
＜３＞ 仮支持体、ハードコート層および光学異方層がこの順に積層している、＜１＞または＜２＞に記載の光学異方性ハードコート転写フィルム。
＜４＞ 仮支持体およびハードコート層が互いに隣接して積層している、＜１＞〜＜３＞のいずれかに記載の光学異方性ハードコート転写フィルム。
＜５＞ 仮支持体と光学異方層との間に少なくとも１層の配向層を有し、配向層と光学異方層が互いに隣接して積層している、＜１＞〜＜４＞のいずれかに記載の光学異方性ハードコート転写フィルム。
＜６＞ 仮支持体、ハードコート層、配向層および光学異方層がこの順で互いに隣接して積層している、＜５＞に記載の光学異方性ハードコート転写フィルム。
＜７＞ 仮支持体側と反対側の最表面に粘着層を有する、＜１＞〜＜６＞のいずれかに記載の光学異方性ハードコート転写フィルム。
＜８＞ 仮支持体上にハードコート層用塗工液、および光学異方層用塗工液を塗布する工程を含む、＜１＞〜＜７＞のいずれかに記載の光学異方性ハードコート転写フィルムの製造方法。
＜９＞少なくとも１層のハードコート層、少なくとも１層の光学異方層、粘着層およびタッチセンサーを有し、タッチセンサーの波長５５０ｎｍにおける４０度方向のリタデーションＲｅ４０が、０〜１０００ｎｍであるタッチパネル；
ただし、リタデーションＲｅ４０は、面内の遅相軸を回転軸として面内の法線方向に対して±４０度タッチセンサーを傾斜させた時のリタデーションＲｅの平均値を表し、光学異方層の面内遅相軸方向の屈折率をｎｘ、面内進相軸方向の屈折率をｎｙ、厚み方向の屈折率をｎｚ、膜厚をｄとすると、面内方向のリタデーションＲｅ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄで表される。
＜１０＞ 光学異方層の波長５５０ｎｍにおける面内方向のリタデーションＲｅが、４０〜２４０ｎｍである、＜９＞に記載のタッチパネル；
ただし、光学異方層の面内遅相軸方向の屈折率をｎｘ、面内進相軸方向の屈折率をｎｙ、厚み方向の屈折率をｎｚ、膜厚をｄとすると、面内方向のリタデーションＲｅ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄで表される。
＜１１＞ タッチセンサー、光学異方層およびハードコート層がこの順に積層している、＜９＞または＜１０＞に記載のタッチパネル。
＜１２＞ ハードコート層が最表面層である、＜９＞〜＜１１＞のいずれかに記載のタッチパネル。
＜１３＞ 光学異方層のタッチセンサー側と反対側に少なくとも１つの配向層を有し、配向層と光学異方層が互いに隣接して積層している、＜９＞〜＜１２＞のいずれかに記載のタッチパネル。
＜１４＞ タッチセンサー、粘着層、光学異方層、配向層およびハードコート層がこの順で互いに隣接して積層している、＜１３＞に記載のタッチパネル。
＜１５＞ タッチパネル上に、＜１＞〜＜７＞のいずれかに記載の光学異方性ハードコート転写フィルムを転写することによって製造される、＜９＞〜＜１４＞のいずれかに記載のタッチパネル。
＜１６＞ ＜１＞〜＜６＞のいずれかに記載の光学異方性ハードコート転写フィルムの仮支持体側と反対側の最表面に粘着層を形成する工程と、粘着層を介してハードコート転写フィルムをタッチセンサーに転写する工程と、仮支持体を剥離する工程とを含む、タッチパネルの製造方法。
＜１７＞ ＜７＞に記載の光学異方性ハードコート転写フィルムをタッチセンサーに転写する工程と、仮支持体を剥離する工程とを含む、タッチパネルの製造方法。

本発明によれば、耐傷性に優れ、厚さが薄く、かつタッチパネル搭載ディスプレイにおける虹ムラおよびブラックアウトを低減することができる、光学異方性ハードコート転写フィルムおよびその製造方法が提供される。さらに本発明によれば、虹ムラおよびブラックアウトを低減したタッチパネルおよびその製造方法が提供される。

本発明の光学異方性ハードコート転写フィルムの一例を示す断面図である。 本発明の光学異方性ハードコート転写フィルムの他の一例を示す断面図である。 本発明の光学異方性ハードコート転写フィルムの他の一例を示す断面図である。 本発明の光学異方性ハードコート転写フィルムの他の一例を示す断面図である。 本発明のタッチパネルの一例を示す断面図である。 本発明のタッチパネルの実施形態の断面図である。 本発明のタッチパネルの他の実施形態の断面図である。 タッチセンサーの一実施形態を示す平面図である。 図８中に示した切断線Ａ−Ａに沿って切断した断面図である。 第１検出電極の拡大平面図である。 極角と方位角との関係を示す概略図である。

以下において、本発明について詳細に説明する。以下に記載する構成要件の説明は、代表的な実施形態や具体例に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施形態に限定されるものではない。なお、本明細書において「〜」を用いて表される数値範囲は「〜」前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
Ｒｅは、面内方向のレタデーションを表し、Ｒｅ４０は、４０度方向のレタデーションを表す。４０度方向のレタデーションとは、より具体的には、面内の遅相軸を回転軸として面内の法線方向に対して±４０度サンプルを傾斜させたときのレターデーションの平均値である。ＲｅおよびＲｅ４０はＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ、またはＷＲ（王子計測機器（株）製）において、フィルム法線方向に光を入射することで測定できる。
また、本明細書において、角度（例えば「９０°」等の角度）、およびその関係（例えば「直交」、「平行」等）については、本発明が属する技術分野において許容される誤差の範囲を含むものとする。この時、許容される誤差としては、例えば、厳密な角度±５°未満の範囲内であることなどを意味し、具体的に厳密な角度との誤差は、３°以下であることが好ましい。より具体的には、直交とは９０°±５°を意図し、平行とは０°±５°を意図する。

（光学異方性ハードコート転写フィルム）
本発明の光学異方性ハードコート転写フィルムは、仮支持体の一方の表面上に、少なくとも１層のハードコート層と少なくとも１層の光学異方層とを有することを特徴とする。
本発明の光学異方性ハードコート転写フィルムは、ハードコート層を有することで耐傷性に優れ、また光学異方層を有することで、タッチパネル搭載ディスプレイにおける虹ムラおよびブラックアウトを低減できるようになる。
また、本発明の光学異方性ハードコート転写フィルムにおいては、ハードコート層と光学異方層を一つの仮支持体上に設けた転写フィルムとすることで、光学異方性転写フィルムとハードコート転写フィルムをそれぞれ貼合する場合に比べて、転写工程を１回削減することができる。ここで、光学異方性転写フィルムとは、仮支持体と光学異方層とを有する転写フィルムをいい、ハードコート転写フィルムとは、仮支持体とハードコート層とを有する転写フィルムをいう。
本発明では、光学異方性転写フィルムとハードコート転写フィルムをそれぞれ貼合する場合に必要なハードコート層と光学異方層との間の粘着層は必ずしも必要ではなく、省略することが可能である。その場合、粘着層を介してハードコート層と光学異方層とを積層させた場合と比較して光学異方層が割れにくくなるという利点があり、また、上記光学異方性ハードコート転写フィルムを用いて製造されるタッチパネルの厚さをより薄くすることができる。
本発明の光学異方性ハードコート転写フィルムにおいては、ハードコート層と光学異方層とを塗布により形成することが好ましく、これによりハードコート層と光学異方層とを密着させることができる。
なお、ハードコート層と光学異方層との間に、上記粘着層とは区別される粘着性を有する薄層を形成し、ハードコート層と光学異方層との密着性を向上させてもよい。なお、上記薄層は塗布により形成することができる。

光学異方性ハードコート転写フィルムの硬度としては、ＪＩＳ Ｋ−５６００−５−４に従う鉛筆硬度試験で、Ｈ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることがさらに好ましい。このような硬度を有することで、タッチパネル用途に有用である。

光学異方性ハードコート転写フィルムのうち仮支持体および粘着層を除いた厚さの上限は特に限定されるものではないが、タッチパネルディスプレイの厚さを薄くするというニーズの観点から４０μｍ未満が好ましく、３５μｍ未満がより好ましく、上記厚さの下限は、薄くなりすぎると仮支持体から剥離する際に破れが発生しやすくなるため０．５μｍ以上が好ましく、５μｍ以上がより好ましい。

本発明の光学異方性ハードコート転写フィルムは、仮支持体、ハードコート層、および光学異方層の間にその他の層を有していてもよい。その他の層としては、配向層等が挙げられる。
以下、光学異方性ハードコート転写フィルムを構成する各層について説明する。

＜仮支持体＞
本発明の光学異方性ハードコート転写フィルムは、仮支持体を有する。本発明で用いる仮支持体は、透明でも不透明でもよく特に限定はない。仮支持体を構成するポリマーの例には、セルロースエステル（例、セルロースアセテート、セルロースプロピオネート、セルロースブチレート）、ポリオレフィン（例、ポリエチレン、ポリプロピレン）、環状オレフィン（例、ノルボルネン系ポリマー、ノルボルネン系コポリマー）、ポリ（メタ）アクリル酸エステル（例、ポリメチルメタクリレート）、ポリカーボネート、ポリエステルおよびポリスルホンが含まれる。製造工程において光学特性を検査する目的には、透明支持体は透明で低複屈折の材料が好ましく、低複屈折性の観点からはセルロースエステルおよび環状オレフィンが好ましい。市販のノルボルネン系ポリマーとしては、アートン（ＪＳＲ（株）製）、ゼオネックス、ゼオノア（以上、日本ゼオン（株）製）、ＴＯＰＡＳ（ポリプラスチックス（株）製）などを用いることができる。また安価なポリカーボネートやポリエチレンテレフタレート等も好ましく用いられる。
仮支持体の厚さは特に限定されないが、一般的には１０μｍ〜１０００μｍであり、好ましくは１０μｍ〜２００μｍである。

＜ハードコート層＞
本発明の光学異方性ハードコート転写フィルムは、仮支持体上に少なくとも１層のハードコート層を有する。ハードコート層は、耐傷性を付与するためのものである。ハードコート層は、以下に記載する第一の態様及び第二の態様のいずれでもよい。

＜＜第一の態様＞＞
第一の態様のハードコート層は、紫外線により硬化する樹脂である電離放射線硬化型樹脂と光重合開始剤とを含有するハードコート層用組成物を用いて形成されたものである。

電離放射線硬化型樹脂としては、例えば、アクリレート系の官能基を有する化合物等の１または２以上の不飽和結合等の反応性基を有する化合物を挙げることができ、本発明ではハードコート層がアクリレートを含むことが、光学異方層とハードコート層の湿熱経時後との密着性を向上させる観点から、好ましい。１の不飽和結合を有する化合物としては、例えば、エチル（メタ）アクリレート、エチルヘキシル（メタ）アクリレート、スチレン、メチルスチレン、Ｎ−ビニルピロリドン等を挙げることができる。２以上の不飽和結合を有する化合物としては、例えば、ポリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート等およびこれらをエチレンオキサイド（ＥО）等で変性した多官能化合物、または、上記多官能化合物と（メタ）アクリレート等の反応生成物（例えば多価アルコールのポリ（メタ）アクリレートエステル）等を挙げることができる。なお、本明細書において「（メタ）アクリレート」は、メタクリレートおよびアクリレートを指すものである。アクリレートとして好ましい化合物としては、３以上の不飽和結合を有する化合物等が挙げられる。このような化合物を用いると形成するハードコート層の架橋密度を高めることができ、硬度を良好にできる。具体的には、本発明においては、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ポリエステル多官能アクリレートオリゴマー（３〜１５官能）、ウレタン多官能アクリレートオリゴマー（３〜１５官能）等を適宜組み合わせて用いることが好ましく、市販品としては、例えばＡ−ＤＰＨ、Ａ−ＴＭＭＴ（ともに新中村化学社製）等が挙げられる。

上記化合物のほかに、不飽和二重結合等の反応性基を有する比較的低分子量（数平均分子量３００〜８万、好ましくは４００〜５０００）のポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂等も上記電離放射線硬化型樹脂として使用することができる。なお、この場合の樹脂とは、モノマー以外のダイマー、オリゴマー、ポリマー全てを含む。

電離放射線硬化型樹脂は、溶剤乾燥型樹脂（熱可塑性樹脂等、塗工時に固形分を調整するために添加した溶剤を乾燥させるだけで、被膜となるような樹脂）と併用して使用することもできる。溶剤乾燥型樹脂を併用することによって、塗布面の被膜欠陥を有効に防止することができる。電離放射線硬化型樹脂と併用して使用することができる溶剤乾燥型樹脂としては特に限定されず、一般に、熱可塑性樹脂を使用することができる。

熱可塑性樹脂としては特に限定されず、例えば、スチレン系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、酢酸ビニル系樹脂、ビニルエーテル系樹脂、ハロゲン含有樹脂、脂環式オレフィン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、セルロース誘導体、シリコーン系樹脂およびゴムまたはエラストマー等を挙げることができる。熱可塑性樹脂は、非結晶性で、かつ有機溶媒（特に複数のポリマーや硬化性化合物を溶解可能な共通溶媒）に可溶であることが好ましい。特に、製膜性、透明性や耐候性の観点から、スチレン系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、脂環式オレフィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、セルロース誘導体（セルロースエステル類等）等が好ましい。市販品としては、例えば、アクリベースＭＨ−１０１−５（藤倉化成社製）等が挙げられる。

また、ハードコート層用組成物は、熱硬化性樹脂を含有していてもよい。熱硬化性樹脂としては特に限定されず、例えば、フェノール樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、メラミン樹脂、グアナミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、アミノアルキッド樹脂、メラミン−尿素共縮合樹脂、ケイ素樹脂、ポリシロキサン樹脂等が挙げられる。

光重合開始剤としては特に限定されず、公知のものを用いることができ、例えば、光重合開始剤としては、具体例には、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーベンゾイルベンゾエート、α−アミロキシムエステル、チオキサントン類、プロピオフェノン類、ベンジル類、ベンゾイン類、アシルホスフィンオキシド類等が挙げられる。また、光増感剤を混合して用いることが好ましく、その具体例としては、例えば、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、ポリ−ｎ−ブチルホスフィン等が挙げられる。

光重合開始剤としては、電離放射線硬化型樹脂がラジカル重合性不飽和基を有する樹脂系の場合は、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、チオキサントン類、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル等を単独または混合して用いることが好ましい。また、電離放射線硬化型樹脂がカチオン重合性官能基を有する樹脂系の場合は、光重合開始剤としては、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族スルホニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、メタロセン化合物、ベンゾインスルホン酸エステル等を単独または混合物として用いることが好ましい。

光重合開始剤としては、ラジカル重合性不飽和基を有する電離放射線硬化型樹脂の場合、ＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４（ＢＡＳＦ社製）として市販されている１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトンが、電離放射線硬化型樹脂との相溶性、および、黄変も少ないという理由から好ましい。

ハードコート層用組成物における光重合開始剤の含有量は、電離放射線硬化型樹脂１００質量部に対して、１〜１０質量部であることが好ましい。１質量部以上とすることで、ハードコート層を所望の硬度とすることができ、１０質量部以下とすることで、塗設した膜の深部まで電離放射線が届くようになり内部硬化が促進される。
光重合開始剤の含有量のより好ましい下限は２質量部であり、より好ましい上限は８質量部である。光重合開始剤の含有量がこの範囲にあることで、膜厚方向に硬度分布が発生せず、均一な硬度になりやすくなる。

ハードコート層には、平均粒子１０μｍ以下の無機微粒子を含有させてもよい。微粒子の硬さで膜の硬度や屈折率を調整したり、親疎水性基で変性した微粒子を用いることでハードコート層表面の濡れ性やハードコート層上に形成した層との層間密着力を制御することができる。また、平均粒径０．２〜１０μｍの粒子を含有させて防眩機能（アンチグレア機能）を付与することもできる。
ここで平均粒子径は、分散した粒子を透過型電子顕微鏡により観察し、得られた写真から求めることができる。粒子の投影面積を求め、そこから円相当径を求め平均粒子径（平均一次粒子径）とする。本明細書における平均粒子径は、３００個以上の粒子について投影面積を測定して、円相当径を求めて算出することができる。

無機微粒子としては、透明導電膜の直上に用いられるため透明で絶縁性の金属酸化物微粒子等があげられる。金属酸化物の具体例としては、シリカ、アルミナ、ジルコニア、チタンからなる微粒子を用いることが好ましく、変性のしやすさから、シリカ微粒子を用いることより好ましい。

シリカ微粒子としては、四塩化ケイ素の燃焼によって製造される乾燥粉末状のシリカを用いることもできるが、二酸化ケイ素が溶媒中に分散したコロイダルシリカを用いることがより好ましい。特に限定されないが、具体的にはＭＥＫ−ＳＴ、ＭＥＫ−ＳＴ−Ｌ、ＭＥＫ−ＳＴ−ＸＬなどの日産化学工業(株)製のスノーテックスシリーズ等が挙げられる。

ハードコート層には、塗布性をより向上させる観点から、各種の界面活性剤を添加してもよい。界面活性剤としては、フッ素系界面活性剤、ノニオン系界面活性剤、カチオン系界面活性剤、アニオン系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤などの各種界面活性剤を使用できる。

フッ素系界面活性剤としては、例えば、メガファックＦ１７１、同Ｆ１７２、同Ｆ１７３、同Ｆ１７６、同Ｆ１７７、同Ｆ１４１、同Ｆ１４２、同Ｆ１４３、同Ｆ１４４、同Ｒ３０、同Ｆ４３７、同Ｆ４７５、同Ｆ４７９、同Ｆ４８２、同Ｆ５５４、同Ｆ７８０、同Ｆ７８１（以上、ＤＩＣ（株）製）、フロラードＦＣ４３０、同ＦＣ４３１、同ＦＣ１７１（以上、住友スリーエム（株）製）、サーフロンＳ−３８２、同ＳＣ−１０１、同ＳＣ−１０３、同ＳＣ−１０４、同ＳＣ−１０５、同ＳＣ１０６８、同ＳＣ−３８１、同ＳＣ−３８３、同Ｓ３９３、同ＫＨ−４０（以上、旭硝子（株）製）、ＰＦ６３６、ＰＦ６５６、ＰＦ６３２０、ＰＦ６５２０、ＰＦ７００２（ＯＭＮＯＶＡ社製）等が挙げられる。

ノニオン系界面活性剤として具体的には、グリセロール、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン並びにそれらのエトキシレート及びプロポキシレート（例えば、グリセロールプロポキシレート、グリセリンエトキシレート等）、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、ポリエチレングリコールジラウレート、ポリエチレングリコールジステアレート、ソルビタン脂肪酸エステル（ＢＡＳＦ社製のプルロニックＬ１０、Ｌ３１、Ｌ６１、Ｌ６２、１０Ｒ５、１７Ｒ２、２５Ｒ２、テトロニック３０４、７０１、７０４、９０１、９０４、１５０Ｒ１、パイオニンＤ−６５１２、Ｄ−６４１４、Ｄ−６１１２、Ｄ−６１１５、Ｄ−６１２０、Ｄ−６１３１、Ｄ−６１０８−Ｗ、Ｄ−６１１２−Ｗ、Ｄ−６１１５−Ｗ、Ｄ−６１１５−Ｘ、Ｄ−６１２０−Ｘ（竹本油脂（株）製）、ソルスパース２００００（日本ルーブリゾール（株）製）、ナロアクティーＣＬ−９５、ＨＮ−１００（三洋化成工業（株）製）等が挙げられる。

カチオン系界面活性剤として具体的には、フタロシアニン誘導体（商品名：ＥＦＫＡ−７４５、森下産業（株）製）、オルガノシロキサンポリマーＫＰ３４１（信越化学工業（株）製）、（メタ）アクリル酸系（共）重合体ポリフローＮｏ．７５、Ｎｏ．９０、Ｎｏ．９５（共栄社化学（株）製）、Ｗ００１（裕商（株）製）等が挙げられる。

アニオン系界面活性剤として具体的には、Ｗ００４、Ｗ００５、Ｗ０１７（裕商（株）社製）、サンデッドＢＬ（三洋化成工業（株）製）等が挙げられる。

シリコーン系界面活性剤としては、例えば、東レ・ダウコーニング（株）製「トーレシリコーンＤＣ３ＰＡ」、「トーレシリコーンＳＨ７ＰＡ」、「トーレシリコーンＤＣ１１ＰＡ」、「トーレシリコーンＳＨ２１ＰＡ」、「トーレシリコーンＳＨ２８ＰＡ」、「トーレシリコーンＳＨ２９ＰＡ」、「トーレシリコーンＳＨ３０ＰＡ」、「トーレシリコーンＳＨ８４００」、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製「ＴＳＦ−４４４０」、「ＴＳＦ−４３００」、「ＴＳＦ−４４４５」、「ＴＳＦ−４４６０」、「ＴＳＦ−４４５２」、信越シリコーン株式会社製「ＫＰ３４１」、「ＫＦ６００１」、「ＫＦ６００２」、ビックケミー社製「ＢＹＫ３０７」、「ＢＹＫ３２３」、「ＢＹＫ３３０」等が挙げられる。
界面活性剤は、１種のみを用いてもよいし、２種類以上を組み合わせてもよい。
界面活性剤の添加量は、水性組成物の全質量に対して、０．００１質量％〜２．０質量％が好ましく、より好ましくは０．００５質量％〜１．０質量％である。

＜＜第二の態様＞＞
第二の態様のハードコート層は、エポキシ基含有アルコキシシランと、エポキシ基非含有アルコキシシランと、金属錯体とを含むものであり、このハードコート層を採用することにより、アルカリ耐性の高いハードコート層を得ることができる。第二の態様の組成物を用いて形成したハードコート層は高いアルカリ耐性を持つため、ハードコート層をアルカリ溶液に浸漬させた場合であっても、ハードコート層が溶解することを極力抑えることができる。これにより、アルカリ処理の前後において、ハードコート層のヘイズ値が上昇することがなく、光学特性に優れたハードコート層を得ることができる。

第二の態様では、エポキシ基含有アルコキシシランと、エポキシ基非含有アルコキシシランを含む。これらのアルコキシシランは、水溶性又は水分散性の素材を使用することが好ましい。水溶性又は水分散性の素材を使用することは、ＶＯＣ（ｖｏｌａｔｉｌｅ ｏｒｇａｎｉｃ ｃｏｍｐｏｕｎｄｓ）による環境汚染を低減する観点からも特に好ましい。

エポキシ基含有アルコキシシランとエポキシ基非含有アルコキシシランは、各々、加水分解性基を有する。この加水分解性基が酸性の水溶液中で加水分解されることによりシラノールが生成され、シラノール同士が縮合することによって、オリゴマーが生成される。本発明の水性組成物中においては、エポキシ基含有アルコキシシランとエポキシ基非含有アルコキシシランの一部は加水分解されていても良い。

エポキシ基含有アルコキシシランとエポキシ基非含有アルコキシシランからなる全アルコキシシランに対して、エポキシ基含有アルコキシシランが占める割合は２０〜８５質量％であればよく、下限として、２５質量％以上であることが好ましく、３０質量％以上であることがより好ましい。また、上限としては、８０質量％以下であることが好ましく、７５質量％以下であることがより好ましい。全アルコキシシランに対してエポキシ基含有アルコキシシランが占める割合を上記範囲内とすることにより、ハードコート層形成組成物の安定性を高めることができ、さらに、アルカリ耐性の強いハードコート層を形成することができる。

エポキシ基含有アルコキシシランは、エポキシ基を有するアルコキシシランである。エポキシ基含有アルコキシシランとしては、１分子中に１つ以上エポキシ基を有するものであればよく、エポキシ基の数は特に限定されない。エポキシ基含有アルコキシシランは、エポキシ基の他に、さらに、アルキル基、アミド基、ウレタン基、ウレア基、エステル基、ヒドロキシ基、カルボキシル基など基を有していても良い。

本発明で用いるエポキシ基含有アルコキシシランとしては、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリエトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリエトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルメチルジメトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルメチルジエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン等を挙げることができる。市販品としては、ＫＢＥ−４０３（信越化学工業（株）製）等が挙げられる。

エポキシ基非含有アルコキシシランは、エポキシ基を有さないアルコキシシランである。エポキシ基非含有アルコキシシランは、エポキシ基を有さないアルコキシシランであればよく、アルキル基、アミド基、ウレタン基、ウレア基、エステル基、ヒドロキシ基、カルボキシル基などの基を有していても良い。

エポキシ基非含有アルコキシシランは、テトラアルコキシシランまたはトリアルコキシシランであるか、これらの混合物であることが好ましい。テトラアルコキシシランまたはトリアルコキシシランの混合物であることが好ましく、テトラアルコキシシランとトリアルコキシシランを混合して含有することにより、ハードコート層を形成した際に、適度な柔軟性を有しつつも、十分な硬度を得ることができる。

エポキシ基非含有アルコキシシランが、テトラアルコキシシランとトリアルコキシシランの混合物である場合、テトラアルコキシシランとトリアルコキシシランのモル比は、２５：７５〜８５：１５であることが好ましく、３０：７０〜８０：２０であることがより好ましく、３０：７０〜６５：３５であることがさらに好ましい。モル比を上記範囲内とすることにより、アルコキシシランの重合度を所望の範囲内に制御することや加水分解速度及びアルミキレートの溶解性の制御が容易となる。

テトラアルコキシシランは、４官能のアルコキシシランであり、各アルコキシ基の炭素数が１〜４のものがより好ましい。中でも、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシランが特に好ましく用いられる。炭素数を４以下とすることにより、酸性水と混ぜたときのテトラアルコキシシランの加水分解速度が遅くなりすぎることがなく、均一な水溶液にするまでの溶解に要する時間がより短くなる。これにより、ハードコート層を製造する際の製造効率を高めることができる。市販品としては、ＫＢＥ−０４（信越化学工業（株）製）等が挙げられる。

トリアルコキシシランは、下記一般式（１）で表される３官能のアルコキシシランである。
ＲＳｉ（ＯＲ¹）₃ …（１）
ここで、Ｒはアミノ基を含まない炭素数が１〜１５の有機基、Ｒ¹はメチル、エチル基等炭素数４以下のアルキル基である。

一般式（１）で表される３官能のアルコキシシランは、アミノ基を官能基として含まない。つまり、この３官能のアルコキシシランは、アミノ基を持たない有機基Ｒを有している。Ｒがアミノ基を有する場合は、４官能のアルコキシシランと混合して加水分解すると、生成するシラノール同士で脱水縮合が促進されてしまう。このため、水性組成物が不安定となり好ましくない。

一般式（１）のＲは、炭素数が１〜１５の範囲であるような分子鎖長をもつ有機基であれば良い。炭素数を１５以下とすることにより、ハードコート層を形成した際の柔軟性が過度に大きくならず、十分な硬度を得ることができる。Ｒの炭素数を上記範囲内とすることにより、脆性がより改善されたハードコート層を得ることができる。また、支持体等の他のフィルムとハードコート層の密着性を高めることができる。

さらに、Ｒで示す有機基は、酸素、窒素、硫黄などのヘテロ原子を有しても良い。有機基がヘテロ原子をもつことにより、他のフィルムとの密着性をより向上させることができる。

トリアルコキシシランとしては、ビニルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン、３−ウレイドプロピルトリメトキシシラン、プロピルトリメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、３−アクリロキシプロピルトリエトキシシラン、３−クロロプロピルトリエトキシシラン、３−ウレイドプロピルトリエトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、プロピルトリエトキシシラン、プロピルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシランを挙げることができる。中でも、メチルトリエトキシシラン、メチルトリメトキシシランは特に好ましく用いられる。市販品としては、ＫＢＥ−１３（信越化学工業（株）製）等が挙げられる。

第二の態様のハードコート層は、金属錯体（硬化剤）を含む。金属錯体としては、Ａｌ、Ｍｇ、Ｍｎ、Ｔｉ、Ｃｕ、Ｃｏ、Ｚｎ、Ｈｆ及びＺｒよりなる金属錯体が好ましく、これらを併用することもできる。

これらの金属錯体は、金属アルコキシドにキレート化剤を反応させることにより容易に得ることができる。キレート化剤の例としては、アセチルアセトン、ベンゾイルアセトン、ジベンゾイルメタンなどのβ−ジケトン、アセト酢酸エチル、ベンゾイル酢酸エチルなどのβ−ケト酸エステルなどを用いることができる。

金属錯体の好ましい具体的な例としては、エチルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムトリス（エチルアセトアセテート）、アルキルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムモノアセチルアセテートビス（エチルアセトアセテート）、アルミニウムトリス（アセチルアセトネート）等のアルミニウムキレート化合物、エチルアセトアセテートマグネシウムモノイソプロピレート、マグネシウムビス（エチルアセトアセテート）、アルキルアセトアセテートマグネシウムモノイソプロピレート、マグネシウムビス（アセチルアセトネート）等のマグネシウムキレート化合物、ジルコニウムテトラアセチルアセトナート、ジルコニウムトリブトキシアセチルアセトナート、ジルコニウムアセチルアセトナートビス（エチルアセトアセテート）、マンガンアセチルアセトナート、コバルトアセチルアセトナート、銅アセチルアセトナート、チタンアセチルアセトナート、チタンオキシアセチルアセトナート等が挙げられる。これらのうち、好ましくは、アルミニウムトリス（アセチルアセトネート）、アルミニウムトリス（エチルアセトアセテート）、マグネシウムビス（アセチルアセトネート）、マグネシウムビス（エチルアセトアセテート）、ジルコニウムテトラアセチルアセトナートであり、保存安定性、入手容易さを考慮すると、アルミニウムキレート錯体であるアルミニウムトリス（アセチルアセトネート）、アルミニウムトリス（エチルアセトアセテート）が特に好ましい。市販品としては、アルミキレートＡ（Ｗ）、アルミキレートＤ、アルミキレートＭ（川研ファインケミカル（株）製）等が挙げられる。

エポキシ基含有アルコキシシランに対して、金属錯体が占める割合は、１７〜７０モル％である。金属錯体が占める割合は、１７％モル以上であれば良く、２０モル％以上であることがより好ましい。また、金属錯体の含有率は、７０モル％以下であれば良く、６５モル％以下であることが好ましく、６０モル％以下であることがより好ましい。
本発明では、金属錯体を上記下限値以上含むことにより、ハードコート層を形成した際に優れたアルカリ耐性を得ることができる。また、上記上限値以下とすることにより、水性水溶液中の分散性を良好とし、かつ、製造コストを抑えることができる。

第二の態様のハードコート層は、無機微粒子をさらに含むことが好ましい。無機微粒子をさらに含む場合、水性組成物中に含まれる全固形分に対して無機微粒子が占める割合（単位：質量％）をｘとすると、０＜ｘ≦８０である。ｘは１以上であることが好ましく、３以上であることがより好ましい。また、ｘは、８０以下であれば良く、７０以下であることが好ましく、６５以下であることがより好ましい。水性組成物中において無機微粒子が占める割合を上記範囲とすることにより、ハードコート層を形成した際により高いアルカリ耐性を得ることができる。

水性組成物中に含まれる全固形分に対して、無機微粒子が占める割合（単位：質量％）をｘとして、全アルコキシシランに対してエポキシ基含有アルコキシシランが占める割合（単位：質量％）をｙとすると、ｙ≧ｘ−５であることが好ましい。さらに、ｙ≧ｘであることがより好ましい。ｙとｘの関係を上記範囲とすることにより、より高い耐アルカリ耐性を得ることができ、アルカリ溶液に浸漬させた際のヘイズ値の変化を抑えることができる。さらに、ハードコート層用塗工液の安定性を高めることができる。

無機微粒子としては、透明導電膜の直下に用いられるため透明で絶縁性の金属酸化物微粒子等があげられる。金属酸化物の具体例としては、シリカ、アルミナ、ジルコニア、チタンからなる微粒子を用いることが好ましく、特に、アルコキシシランとの架橋の観点からシリカ微粒子を用いることが好ましい。

シリカ微粒子としては、四塩化ケイ素の燃焼によって製造される乾燥粉末状のシリカを用いることもできるが、二酸化ケイ素又はその水和物が水に分散したコロイダルシリカを用いることがより好ましい。特に限定されないが、具体的にはスノーテックス０３３、スノーテックスＯ−Ｌなどの日産化学工業(株)製のスノーテックスシリーズ等が挙げられる。コロイダルシリカの平均粒子径は３ｎｍ〜５０ｎｍであり、４ｎｍ〜５０ｎｍの範囲にあることが好ましく、４ｎｍ〜４０ｎｍの範囲にあることがより好ましく、５ｎｍ〜３５ｎｍの範囲にあることが特に好ましい。
ここで平均粒子径は、分散した粒子を透過型電子顕微鏡により観察し、得られた写真から求めることができる。粒子の投影面積を求め、そこから円相当径を求め平均粒子径（平均一次粒子径）とする。本明細書における平均粒子径は、３００個以上の粒子について投影面積を測定して、円相当径を求めて算出することができる。

なお、コロイダルシリカは、水性組成物中に添加される時点でのｐＨが２〜７の範囲に調整されていることがより好ましい。このｐＨが２〜７であると、２よりも小さいあるいは７よりも大きい場合に比べて、アルコキシシランの加水分解物であるシラノールの安定性がより良好で、このシラノールの脱水縮合反応が速く進行することによる塗布液の粘度上昇を抑制することができる。

第二の態様のハードコート層では、ハードコート層の平滑性を向上させて塗膜表面の摩擦を軽減する目的で、第一の態様のハードコート層の場合と同様の界面活性剤を添加しても良い。また、顔料や染料、その他微粒子等を分散させることによってハードコート層を着色しても良い。さらに、耐候性を向上させる目的で紫外線吸収剤や酸化防止剤等を添加しても良く、酸（工業用酢酸１質量％水溶液（ダイセル化学工業社製））等を添加してもよい。

＜＜ハードコート層の耐傷性＞＞
ハードコート層の膜厚は用途により適切に設計することができる。ハードコート層の膜厚は、０．２〜１０μｍであることが好ましく、より好ましくは０．５〜７μｍである。
ハードコート層の厚みは、ハードコート層用塗工液の塗布量を調整することにより制御することができる。
ハードコート層の硬度は、ＪＩＳ Ｋ−５４００に従う鉛筆硬度試験で、Ｈ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることがさらに好ましく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。

＜光学異方層＞
本発明の光学異方性ハードコート転写フィルムは、仮支持体上に少なくとも１層の光学異方層を有する。

光学異方層を形成する材料（光学異方層形成用材料）は、塗布等により光学異方性を与えることができる材料であれば、特に限定されない。
光学異方層形成用材料の１例としては、高分子を含む材料等が挙げられる。高分子はアクリル基、メタクリル基、ビニルエーテル基、オキセタン基、及びエポキシ基からなる群から選択される少なくとも１つの重合性基を有することが好ましい。
光学異方層形成用材料の好ましい例としては、液晶性化合物を含む材料等が挙げられる。特に光学異方層が、液晶性化合物を含む溶液が塗布され、液晶相形成温度で熟成・配向されたあと、その状態のまま熱または電離放射線照射して固化することによって得られた層であることが好ましい。この態様につき、以下に詳しく説明する。

＜＜液晶性化合物＞＞
一般的に、液晶性化合物はその形状から、棒状タイプと円盤状タイプに分類できる。さらにそれぞれ低分子と高分子タイプがある。高分子とは一般に重合度が１００以上のものを指す（高分子物理・相転移ダイナミクス，土井 正男 著，２頁，岩波書店，１９９２）。本発明では、いずれの液晶性化合物を用いることもできるが、棒状液晶性化合物を用いるのが好ましい。また、２種以上の棒状液晶性化合物、２種以上の円盤状液晶性化合物、又は棒状液晶性化合物と円盤状液晶性化合物との混合物を用いてもよい。温度変化や湿度変化を小さくできることから、反応性基を有する液晶性化合物を用いて形成することがより好ましく、少なくとも１つは１液晶分子中の反応性基が２以上あることがさらに好ましい。液晶性化合物が二種類以上の混合物の場合、少なくとも１つが２以上の反応性基を有していることが好ましい。
上記光学異方層の厚さは、０．１〜２０μｍであることが好ましく、０．５〜１０μｍであることがさらに好ましい。

棒状液晶性化合物としては、アゾメチン類、アゾキシ類、シアノビフェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、アルコキシ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類およびアルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類が好ましく用いられる。以上のような低分子液晶性化合物だけではなく、高分子液晶性化合物も用いることができる。上記高分子液晶性化合物は、低分子の反応性基を有する棒状液晶性化合物が重合した高分子化合物である。特に好ましく用いられる上記低分子の反応性基を有する棒状液晶性化合物としては、例えば特開２００８−２８１９８９号公報の段落００４５〜００６０に記載の棒状液晶性化合物が挙げられ、かかる内容は本明細書に組み込まれる。具体的には、例えば、以下の棒状液晶化合物を用いることができる。

棒状液晶性化合物は、市販品を使用することができ、例えばＬＣ−２４２（ＢＡＳＦ社製）、ＲＭ−２５７（ＭＥＲＣＫ社製）等が挙げられる。

液晶性化合物は円盤状（ディスコティック）化合物であってもよい。ディスコティック化合物の例としては、Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅらの研究報告、Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｔ．７１巻、１１１頁（１９８１年）に記載されているベンゼン誘導体、Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅらの研究報告、Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｔ．１２２巻、１４１頁（１９８５年）、Ｐｈｙｓｉｃｓｌｅｔｔ，Ａ，７８巻、８２頁（１９９０）に記載されているトルキセン誘導体、Ｂ．Ｋｏｈｎｅらの研究報告、Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．９６巻、７０頁（１９８４年）に記載されたシクロヘキサン誘導体およびＪ．Ｍ．Ｌｅｈｎらの研究報告、Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍｕｎ．，１７９４頁（１９８５年）、Ｊ．Ｚｈａｎｇらの研究報告、Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．１１６巻、２６５５頁（１９９４年）に記載されているアザクラウン系やフェニルアセチレン系マクロサイクルなどを挙げることができる。上記ディスコティック（円盤状）化合物は、一般的にこれらを分子中心の円盤状の母核とし、直鎖のアルキル基やアルコキシ基、置換ベンゾイルオキシ基等の基（Ｌ）が放射線状に置換された構造であり、液晶性を示し、一般的にディスコティック液晶とよばれるものが含まれる。ただし、このような分子の集合体が一様に配向した場合は負の一軸性を示すが、この記載に限定されるものではない。また、本発明において、円盤状化合物から形成したとは、最終的にできた物が上記化合物である必要はなく、例えば、上記低分子ディスコティック液晶が熱、光等で反応する基を有しており、結果的に熱、光等で反応により重合または架橋し、高分子量化し液晶性を失ったものも含まれる。

本発明で用いる円盤状液晶性化合物としては、例えば特開２００８−２８１９８９号公報の段落００６１〜００７５に記載の円盤状液晶性化合物が挙げられ、かかる内容は本明細書に組み込まれる。

光学異方層を、液晶性化合物を含有する組成物から形成する場合、液晶性化合物を含有する組成物（例えば塗工液）を、後述する配向層の表面に塗布し、所望の液晶相を示す配向状態とした後、上記配向状態を熱又は電離放射線の照射により固定することで作製することが好ましい。

液晶性化合物として、反応性基を有する円盤状液晶性化合物を用いる場合、水平配向、垂直配向、傾斜配向、およびねじれ配向のいずれの配向状態で固定されていてもよい。水平配向とは円盤状液晶性化合物のコアの円盤面と支持体の水平面が平行であることをいうが、厳密に平行であることを要求するものではなく、本明細書では、水平面とのなす傾斜角が１０度未満の配向を意味するものとする。

光学異方層は２層以上の層からなっていてもよく、液晶性化合物からなる層を２層以上積層する場合、液晶性化合物の組み合わせについては特に限定されず、全て円盤状液晶性化合物からなる層の積層体、全て棒状性液晶性化合物からなる層の積層体、円盤状液晶性化合物からなる層と棒状性液晶性化合物からなる層の積層体であってもよい。また、各層の配向状態の組み合わせも特に限定されず、同じ配向状態の光学異方層を積層してもよいし、異なる配向状態の層を積層してもよい。

液晶性化合物を含有する組成物は、液晶性化合物および下記の重合開始剤や他の添加剤を含む塗工液として、後述する所定の配向層の上に塗布されることが好ましい。塗工液の調製に使用する溶媒としては、有機溶媒が好ましく用いられる。有機溶媒の例には、アミド（例、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド）、スルホキシド（例、ジメチルスルホキシド）、ヘテロ環化合物（例、ピリジン）、炭化水素（例、ベンゼン、ヘキサン）、アルキルハライド（例、クロロホルム、ジクロロメタン）、エステル（例、酢酸メチル、酢酸ブチル）、ケトン（例、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン）、エーテル（例、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン）が含まれる。アルキルハライドおよびケトンが好ましい。二種類以上の有機溶媒を併用してもよい。

［液晶性化合物の配向状態の固定化］
配向させた液晶性化合物は、配向状態を維持して固定することが好ましい。固定化は、液晶性化合物に導入した反応性基の重合反応により実施することが好ましい。重合反応には、熱重合開始剤を用いる熱重合反応と光重合開始剤を用いる光重合反応とが含まれるが、光重合反応がより好ましい。光重合反応としては、ラジカル重合、カチオン重合のいずれでも構わない。ラジカル光重合開始剤の例には、α−カルボニル化合物（米国特許２３６７６６１号、同２３６７６７０号の各明細書記載）、アシロインエーテル（米国特許２４４８８２８号明細書記載）、α−炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（米国特許２７２２５１２号明細書記載）、多核キノン化合物（米国特許３０４６１２７号、同２９５１７５８号の各明細書記載）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ−アミノフェニルケトンとの組み合わせ（米国特許３５４９３６７号明細書記載）、アクリジンおよびフェナジン化合物（特開昭６０−１０５６６７号公報、米国特許４２３９８５０号明細書記載）およびオキサジアゾール化合物（米国特許４２１２９７０号明細書記載）が含まれる。市販品としては、例えばＩＲＧＡＣＵＲＥＯＸＥ０２、ＩＲＧＡＣＵＲＥ８１９（ともにＢＡＳＦ社製）等が挙げられる。
カチオン光重合開始剤の例には、有機スルフォニウム塩系、ヨードニウム塩系、フォスフォニウム塩系等を例示する事ができる。これら化合物の対イオンとしては、アンチモネート、フォスフェートなどが好ましく用いられる。

光重合開始剤の使用量は、塗工液の固形分の０．０１〜２０質量％であることが好ましく、０．５〜５質量％であることがさらに好ましい。液晶性化合物の重合のための光照射は、紫外線を用いることが好ましい。照射エネルギーは、１０ｍＪ／ｃｍ²〜１０Ｊ／ｃｍ²であることが好ましく、２５〜８００ｍＪ／ｃｍ²であることがさらに好ましい。照度は１０〜１０００ｍＷ／ｃｍ²であることが好ましく、２０〜５００ｍＷ／ｃｍ²であることがより好ましく、４０〜３５０ｍＷ／ｃｍ²であることがさらに好ましい。照射波長としては２５０〜４５０ｎｍにピークを有することが好ましく、３００〜４１０ｎｍにピークを有することがさらに好ましい。光重合反応を促進するため、窒素雰囲気下あるいは加熱条件下で光照射を実施してもよい。

［偏光照射による光配向］
上記光学異方層は、偏光照射による光配向で面内方向のリタデーションが発現した層であってもよい。この偏光照射は、上記配向固定化における光重合プロセスと同時に行ってもよいし、先に偏光照射を行ってから非偏光照射でさらに固定化を行ってもよいし、非偏光照射で先に固定化してから偏光照射によって光配向を行ってもよい。大きな面内方向のリタデーションを得るためには、偏光照射は液晶化合物層塗布、配向後に最初に行うことが好ましい。偏光照射は、酸素濃度０．５％以下の不活性ガス雰囲気下で行うのが好ましい。照射エネルギーは、２０ｍＪ／ｃｍ²〜１０Ｊ／ｃｍ²であることが好ましく、１００〜８００ｍＪ／ｃｍ²であることがさらに好ましい。照度は２０〜１０００ｍＷ／ｃｍ²であることが好ましく、５０〜５００ｍＷ／ｃｍ²であることがより好ましく、１００〜３５０ｍＷ／ｃｍ²であることがさらに好ましい。偏光照射によって硬化する液晶性化合物の種類については特に制限はないが、反応性基としてエチレン不飽和基を有する液晶性化合物が好ましい。照射波長としては３００〜４５０ｎｍにピークを有することが好ましく、３５０〜４００ｎｍにピークを有することがさらに好ましい。

［偏光照射後の紫外線照射による後硬化］
上記光学異方層は、最初の偏光照射（光配向のための照射）の後に、偏光もしくは非偏光紫外線をさらに照射することで反応性基の反応率を高め（後硬化）、密着性等を改良すると共に、大きな搬送速度で生産できるようになる。後硬化は偏光でも非偏光でも構わないが、偏光であることが好ましい。また、２回以上の後硬化をすることが好ましく、偏光のみでも、非偏光のみでも、偏光と非偏光を組み合わせてもよいが、組み合わせる場合は非偏光より先に偏光を照射することが好ましい。紫外線照射は、不活性ガス置換してもしなくてもよいが、酸素濃度０．５％以下の不活性ガス雰囲気下で行うのが好ましい。照射エネルギーは、２０ｍＪ／ｃｍ²〜１０Ｊ／ｃｍ²であることが好ましく、１００〜８００ｍＪ／ｃｍ²であることがさらに好ましい。照度は２０〜１０００ｍＷ／ｃｍ²であることが好ましく、５０〜５００ｍＷ／ｃｍ²であることがより好ましく、１００〜３５０ｍＷ／ｃｍ²であることがさらに好ましい。照射波長としては偏光照射の場合は３００〜４５０ｎｍにピークを有することが好ましく、３５０〜４００ｎｍにピークを有することがさらに好ましい。非偏光照射の場合は２００〜４５０ｎｍにピークを有することが好ましく、２５０〜４００ｎｍにピークを有することがさらに好ましい。

［水平配向剤］
液晶化合物を含む溶液などの光学異方層形成用組成物中に水平配向剤を含有させることで、液晶性化合物の分子を実質的に水平配向させることができる。尚、本明細書において「水平配向」とは、棒状液晶の場合、分子長軸と透明支持体の水平面が平行であることをいい、円盤状液晶の場合、円盤状液晶性化合物のコアの円盤面と透明支持体の水平面が平行であることをいうが、厳密に平行であることを要求するものではなく、本明細書では、水平面とのなす傾斜角が１０度未満の配向を意味するものとする。傾斜角は０〜５度が好ましく、０〜３度がより好ましく、０〜２度がさらに好ましく、０〜１度が最も好ましい。
水平配向剤としては、例えば特開２００８−２８１９８９号公報の段落００８４〜００９３に記載の水平配向剤が挙げられ、かかる内容は本明細書に組み込まれる。
具体的には、例えば、以下の水平配向剤を用いることができる。

水平配向剤の添加量としては、液晶性化合物の質量の０．０１〜２０質量％が好ましく、０．０１〜１０質量％がより好ましく、０．０２〜１質量％が特に好ましい。

＜＜光学異方層の光学特性＞＞
光学異方層の波長５５０ｎｍにおける面内方向のリタデーションＲｅとしては、タッチパネル搭載ディスプレイにおける虹ムラおよびブラックアウトをより低減できるという観点から、４０〜２４０ｎｍであることが好ましい。ここで、リタデーションＲｅは、光学異方層を薄くするという観点では、４０〜１４０ｎｍがより好ましく、偏光サングラスを掛けたまま見る角度を変えた場合の色味変化を小さくするという観点では、４０〜９０ｎｍがさらに好ましい。また、偏光サングラスを掛けたまま見る角度を変えた場合のコントラスト変化を小さくするという観点では、リタデーションＲｅは９０〜１９０ｎｍがより好ましい。
ここで、波長５５０ｎｍにおける面内方向のリタデーションＲｅとは、Ｒｅ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄで表される式により求めることができる。ｎｘは光学異方層の面内遅相軸方向の屈折率を表し、ｎｙは面内進相軸方向の屈折率を表し、ｎｚは厚み方向の屈折率を表し、ｄは膜厚を表す。

＜その他の層＞
本発明の光学異方性ハードコート転写フィルムは、仮支持体、ハードコート層、および光学異方層の他に、配向層等のその他の層を有していてもよい。
また、本発明の光学異方性ハードコート転写フィルムは、仮支持体側とは反対側の最表面に粘着層（本明細書中においてこの粘着層のことを第1の粘着層と称する場合がある）を有していてもよい。

＜＜配向層＞＞
本発明では、光学異方層を形成するために、配向層を利用してもよい。配向層は、仮支持体と光学異方層との間に少なくとも１層有することが好ましい。
配向層は、その上に設けられる液晶性化合物の配向方向を規定するように機能する。配向層は、光学異方層に配向性を付与できるものであれば、どのような層でもよい。配向層の好ましい例としては、有機化合物（好ましくはポリマー）のラビング処理された層、無機化合物の斜方蒸着層、およびマイクログルーブを有する層、さらにω−トリコサン酸、ジオクタデシルメチルアンモニウムクロライドおよびステアリル酸メチル等のラングミュア・ブロジェット法（ＬＢ膜）により形成される累積膜、あるいは電場あるいは磁場の付与により誘電体を配向させた層を挙げることができる。

配向層用の有機化合物の例としては、ポリメチルメタクリレート、アクリル酸／メタクリル酸共重合体、スチレン／マレインイミド共重合体、ポリビニルアルコール、ポリ（Ｎ−メチロールアクリルアミド）、スチレン／ビニルトルエン共重合体、クロロスルホン化ポリエチレン、ニトロセルロース、ポリ塩化ビニル、塩素化ポリオレフィン、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル／塩化ビニル共重合体、エチレン／酢酸ビニル共重合体、カルボキシメチルセルロース、ポリエチレン、ポリプロピレンおよびポリカーボネート等のポリマーおよびシランカップリング剤等の化合物を挙げることができる。好ましいポリマーの例としては、ポリイミド、ポリスチレン、スチレン誘導体のポリマー、ゼラチン、ポリビニルアルコールおよびアルキル基（炭素原子数６以上が好ましい）を有するアルキル変性ポリビニルアルコールを挙げることができる。市販品としては、例えばＰＶＡ２０５（クラレ社製）等が挙げられる。

配向層の形成には、ポリマーを使用することが好ましい。利用可能なポリマーの種類は、液晶性化合物の配向（特に平均傾斜角）に応じて決定することができる。例えば、液晶性化合物を水平に配向させるためには配向層の表面エネルギーを低下させないポリマー（通常の配向用ポリマー）を用いる。具体的なポリマーの種類については液晶セルまたは光学補償シートについて種々の文献に記載がある。例えば、ポリビニルアルコールもしくは変性ポリビニルアルコール、ポリアクリル酸もしくはポリアクリル酸エステルとの共重合体、ポリビニルピロリドン、セルロースもしくは変性セルロース等が好ましく用いられる。配向層用素材には液晶性化合物の反応性基と反応できる官能基を有してもよい。反応性基は、側鎖に反応性基を有する繰り返し単位を導入するか、あるいは、環状基の置換基として導入することができる。界面で液晶性化合物と化学結合を形成する配向層を用いることがより好ましく、かかる配向層としては特開平９−１５２５０９号公報に記載されており、酸クロライドやカレンズＭＯＩ（昭和電工（株）製）を用いて側鎖にアクリル基を導入した変性ポリビニルアルコールが特に好ましい。配向層の厚さは０．０１〜５μｍであることが好ましく、０．０５〜２μｍであることがさらに好ましい。配向層は酸素遮断膜としての機能を有していてもよい。例えば、以下のポリマーや、市販品としては、Ｌｕｖｉｔｅｃ Ｋ３０（ＢＡＳＦ社製）等が挙げられる。

また、配向層の形成には架橋剤を使用することが好ましく、架橋剤としては、例えばグルタルアルデヒドの５０質量％水溶液（関東化学社製）等が挙げられる。

液晶性化合物を配向させるために、ラビング処理を行うことが好ましい。このとき、ＬＣＤ（液晶表示装置）の液晶配向処理工程として広く採用されている処理方法を利用することができる。即ち、配向層の表面を、紙やガーゼ、フェルト、ゴムあるいはナイロン、ポリエステル繊維などを用いて一定方向に擦ることにより配向を得る方法を用いることができる。一般的には、長さおよび太さが均一な繊維を平均的に植毛した布などを用いて数回程度ラビングを行うことにより実施される。
また、ラビング処理の方向は、塗工方向に対して４５度傾けて行うことが好ましい。これにより、光学異方層の遅相軸を塗布方向に対して４５度の方向にすることができ、ＬＣＤの上偏光板の透過軸に対して、４５度の向きに効率的に貼り合わせることができる。

また、無機斜方蒸着膜の蒸着物質としては、ＳｉＯ₂を代表とし、ＴｉＯ₂、ＺｎＯ₂等の金属酸化物、あるいやＭｇＦ₂等のフッ化物、さらにＡｕ、Ａｌ等の金属等が挙げられる。尚、金属酸化物は、高誘電率のものであれば斜方蒸着物質として用いることができ、上記に限定されるものではない。無機斜方蒸着膜は、蒸着装置を用いて形成することができる。フィルム（支持体）を固定して蒸着するか、あるいは長尺フィルムを移動させて連続的に蒸着することにより無機斜方蒸着膜を形成することができる。

配向層の厚みとしては、０．１〜１μｍが好ましく、０．２〜０．８μｍがより好ましく、０．３〜０．７μｍがさらに好ましい。

＜＜粘着層＞＞
本発明においては、本発明の光学異方性ハードコート転写フィルムを用いて形成した積層体とタッチセンサーの密着を担保するための層として、第１の粘着層を設けることができる。

第１の粘着層を構成する材料としては、公知の粘着性絶縁材料を使用することが好ましく、例えば、ゴム系、アクリル系、天然ゴム系、合成ゴム系、シリコーン系、ポリエステル系、ポリアミド系、ポリウレタン系、（変性）ポリオレフィン系、ポリビニルアルコール系、ポリビニルエーテル系、酢酸ビニル／塩化ビニルコポリマー系、エポキシ系、フッ素系等が挙げられる。なかでも、透明性に優れ、適度な濡れ性、凝集性および接着性等の粘着特性を示し、耐候性や耐熱性等にも優れるという点から、アルキル（メタ）アクリレート由来の繰り返し単位を有するアクリル系ポリマーを主成分とするアクリル系が好ましい。市販品としては、例えば、高透明性接着剤転写テープ８１４６−１（３Ｍ社製）等が挙げられる。

アクリル系粘着性絶縁材料のなかでも、粘着性がより優れる点から、アルキル基の炭素数が１〜１２程度であるアルキル（メタ）アクリレート由来の繰り返し単位を有するアクリル系ポリマーであることが好ましい。上記アクリル系ポリマー中の繰り返し単位のなかには、（メタ）アクリル酸由来の繰り返し単位が含まれていてもよい。

第１の粘着層の厚みは特に制限されないが、５〜３５０μｍであることが好ましく、２０〜１５０μｍであることがより好ましい。また、タッチパネルの薄手化という観点からは、５０μｍ以下がさらに好ましい。

上記範囲内であれば所望の可視光の透過率が得られ、且つ、取り扱いも容易である。全光線透過率は、８５〜１００％であることが好ましく、また、光学等方性を示すことが好ましい。

＜光学異方性ハードコート転写フィルムの層構成＞
本発明の光学異方性ハードコート転写フィルムは、仮支持体上に、ハードコート層および光学異方層を有していれば、積層の順番、並びにハードコート層および光学異方層の数は特に制限されないが、仮支持体、ハードコート層および光学異方層がこの順に積層していることが好ましい。また、仮支持体およびハードコート層が互いに隣接して積層していることが好ましい。さらに、仮支持体と光学異方層との間に少なくとも１層の配向層を有し、配向層と光学異方層が互いに隣接して積層していることも好ましい。特に好ましい態様では、仮支持体、ハードコート層、配向層および光学異方層がこの順で互いに隣接して積層している。
本明細書における、互いに隣接して積層とは、その間に他の層を介して積層しておらず、面同士が直接接触して積層している状態を表す。

以下、本発明の光学異方性ハードコート転写フィルムの具体的な層構成について説明する。なお、本明細書における図は模式図であり、各層の厚みの関係や位置関係などは必ずしも実際のものとは一致しない。
図１は、本発明の光学異方性ハードコート転写フィルムの一例を示す断面図である。 光学異方性ハードコート転写フィルム２００は、仮支持体１００の一方の表面上に、ハードコート層１０１、および光学異方層１０２を有する。仮支持体１００、ハードコート層１０１、および光学異方層１０２の間や、光学異方性ハードコート転写フィルム２００の最表面に、その他の層を有していてもよい。その他の層としては、配向層、粘着性を有する薄層、上記第１の粘着層等が挙げられる。

ハードコート層１０１および光学異方層１０２の積層の順番、並びに各層の積層数は特に制限されないが、図１のように、タッチセンサー転写後にハードコート層が最表面となるように、仮支持体１００とハードコート層は互いに隣接して積層していることが好ましい。これにより、タッチパネルの耐傷性を向上させることができる。

また、図２に一例を示すように、仮支持体１００と光学異方層１０２との間に少なくとも１層の配向層１０３を有し、配向層１０３と光学異方層１０２が互いに隣接して積層していることが好ましい。これにより、光学異方層１０２のムラを抑制でき、画像ムラを低減することができる。
さらに、図２のように、ハードコート層１０１と光学異方層１０２との間に粘着層が存在しないことが好ましい。これにより、粘着層を介してハードコート層１０１と光学異方層１０２とを積層させた場合と比較して光学異方層１０２が割れにくくすることができるだけでなく、粘着層が存在しないことにより、当該光学異方性ハードコート転写フィルムを用いて製造されるタッチパネルの厚さを薄くすることもできる。

上記３つの観点を合わせて、図２のように、仮支持体１００、ハードコート層１０１、配向層１０３および光学異方層１０２がこの順で互いに隣接して積層していることが最も好ましい。

また、図３や図４に一例を示すように、仮支持体１００とは反対側の最表面に第１の粘着層１０４を有していてもよい。これにより、タッチパネルの作製時に粘着層を用意する手間が省ける。

（光学異方性ハードコート転写フィルムの製造方法）
本発明の光学異方性ハードコート転写フィルムの製造方法は、ハードコート層と光学異方層とを塗布により形成することが好ましく、これによりハードコート層と光学異方層とを密着させることができる。
仮支持体上にハードコート層用塗工液（塗布液）および光学異方層用塗工液を塗布する工程を含む。また、配向層を形成させる場合は、配向層用塗工液を塗布すればよい。
ハードコート層用塗工液、配向層用塗工液、および光学異方層用塗工液を塗布する順序は特に制限はなく、所望の層構成順に各塗工液を塗布することで各層を形成させればよい。

塗布方法としては、例えば、グラビアコーター、バーコーターなどの公知の塗布方法を利用することができる。
塗工液は、塗布溶媒として水を用いた水系でもよいし、２−ブタノンやシクロヘキサノン等の有機溶媒を用いた溶剤系でもよい。塗布溶媒は、１種類を単独で用いてもよいし、２種類以上を混合して用いてもよい。

また、塗工液には、必要に応じて上記界面活性剤を含有させてもよい。
各塗工液を塗布後、乾燥させ、必要に応じて下記のように紫外線等による光照射を行ってもよい。

（タッチパネル）
本発明のタッチパネルは、少なくとも１層のハードコート層、少なくとも１層の光学異方層、１層の粘着層、およびタッチセンサーを有し、上記タッチセンサーの波長５５０ｎｍにおける４０度方向のリタデーションＲｅ４０が、０〜１０００ｎｍであることを特徴とする。本発明のタッチパネルは、上記した本発明の光学異方性ハードコート転写フィルムを用いて作製したものでもよいが、それ以外の材料及び方法を用いて作製したものでもよい。本発明のタッチパネルにおいては、虹ムラおよびブラックアウトが低減されている。

図５は、本発明のタッチパネルの一例を示す断面図である。図５に示すように、タッチパネル１はタッチセンサー３を有し、タッチセンサー３の一方の面に第１の粘着層１０４を介して光学異方層１０２、配向層１０３およびハードコート層１０１等を含む本発明の光学異方性ハードコート転写フィルムを用いて形成した積層体２１０が貼合されている。また、タッチセンサー３の他方の面には、保護基板５０が第２の粘着層４２を介して貼合されている。
なお、第２の粘着層４２の好ましい様態は、上記第１の粘着層１０４の好ましい様態と同様である。

図６は、本発明のタッチパネルを搭載した画像表示装置の一例を示した断面図である。本発明のタッチパネルは、タッチセンサー３および画像表示パネル２を少なくとも有し、画像表示パネル２は視認側に直線偏光を出射する。なお、図６においては、矢印の方向から視認する。画像表示パネル２は、画像表示セル４と、視認側に偏光板５とを少なくとも備える。
なお、保護基板５０上の視認側に、ハードコート層を設けてもよいし、上記画像表示パネル２とタッチセンサー３との間に粘着層を配置して、貼合してもよい。

なお、このタッチパネル１が静電容量式タッチパネルである場合においては、タッチセンサー３上の保護基板５０上に指が近接、接触すると、指とタッチセンサー３中の検出電極との静電容量が変化する。ここで、図示しない位置検出ドライバは、指と検出電極との間の静電容量の変化を常に検出している。この位置検出ドライバは、所定値以上の静電容量の変化を検出すると、静電容量の変化が検出された位置を入力位置として検出する。このようにして、タッチパネル１は、入力位置を検出することができる。

（タッチパネルの製造方法）
本発明のタッチパネルの製造方法は、光学異方性ハードコート転写フィルムの仮支持体側とは反対側の最表面に第１の粘着層を形成する工程と、上記第１の粘着層を介して上記ハードコート転写フィルムをタッチセンサーに転写する工程と、仮支持体を剥離する工程とを含むことを特徴とする。また、光学異方性ハードコート転写フィルムが、仮支持体側とは反対側の最表面に第１の粘着層を有する場合、光学異方性ハードコート転写フィルムをタッチセンサーに転写する工程と、仮支持体を剥離する工程とを含む。

光学異方性ハードコート転写フィルムをタッチセンサー上に転写する方法については特に制限されず、タッチセンサー上に上記光学異方層およびハードコート層を転写できれば特に方法は限定されない。例えば、本発明の光学異方性ハードコート転写フィルムを、転写接着層面をタッチセンサー表面側にして、ラミネータを用いて加熱および／又は加圧したローラー又は平板で圧着又は加熱圧着して、貼り付けることができる。具体的には、特開平７−１１０５７５号公報、特開平１１−７７９４２号公報、特開２０００−３３４８３６号公報、特開２００２−１４８７９４号公報に記載のラミネータおよびラミネート方法等が挙げられるが、低異物の観点で、特開平７−１１０５７５号公報に記載の方法を用いるのが好ましい。その後、仮支持体は剥離してもよく、剥離によって露出した光学異方層またはハードコート層表面に、他の層、例えば電極層等を形成してもよい。

以下、タッチパネル１の各部材について詳述する。まず、画像表示パネル２について述べる。なお第１の粘着層、光学異方層およびハードコート層については本明細書中の上記の通りである。

＜保護基板＞
タッチ面を構成する保護基板５０として、絶縁性の透明基板であることが好ましい。また、保護基板５０は光学等方性であること、機械強度や耐熱性が高く、寸法安定性がよいことが好ましく、ガラス板が好適に用いられる。また、ガラス板は重いため、プラスチックフィルムおよびプラスチック板を用いてもよい。

保護基板５０としては、ガラス板を用いる場合、より割れにくい強化ガラスが好ましく、さらに割れにくい化学強化ガラスがより好ましい。市販品としては、ゴリラガラス（コーニング社製）、ドラゴントレイル（旭硝子社製）等が挙げられる。

保護基板５０としては、プラスチックフィルムおよびプラスチック板を用いる場合、原料としては、例えば、ポリエステル系樹脂（ポリエチレンテレフタレート：ＰＥＴ、ポリエチレンナフタレート：ＰＥＮ等）、ポリオレフィン系樹脂（ポリエチレン：ＰＥ、ポリプロピレン：ＰＰ等）、ビニル系樹脂（ポリスチレン：ＰＳ、エチレン−酢酸ビニルコポリマー：ＥＶＡ、ポリ塩化ビニル：ＰＶＣ等）、環状オレフィン系樹脂（環状オレフィンポリマー：ＣＯＰ、環状オレフィンコポリマー：ＣＯＣ）、セルロース系樹脂（トリアセチルセルロース：ＴＡＣ等）、ポリカーボネート樹脂：ＰＣ、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、アクリル系樹脂、ポリウレタン系樹脂等を用いることができる。
機械強度や寸法安定性、耐熱性の観点から、ＰＥＴやＰＥＮ等のポリエステル系樹脂を主成分とするポリエステルフィルムが好適に用いられるが、延伸製膜による光学異方性によって、虹ムラが発生しやすいため、ＣＯＰやＣＯＣ等の環状オレフィン系樹脂を主成分とする環状オレフィンフィルムが好ましい。また、保護基板５０の面内遅相軸と画像表示パネル２から出射される直線偏光の振動方向とのなす角が直角または平行となるように、保護基板５０が配置されることが好ましい。これにより、虹ムラを抑制することができる。

保護基板５０は単層であっても、２層以上の複層であってもよい。保護基板５０の厚み（保護基板５０が２層以上の複層の場合は、それらの合計厚み）は特に制限されないが、５〜３５０μｍであることが好ましく、２０〜１５０μｍであることがさらに好ましい。上記範囲内であれば所望の可視光の透過率が得られ、且つ、取り扱いも容易である。全光線透過率は８５〜１００％であることが好ましい。
また、保護基板５０の平面視形状は特に限定されず、例えば、矩形状、円形状、多角形状等が挙げられる。

＜画像表示パネル＞
画像表示パネル２は、画像表示セル４と、視認側に偏光板５（視認側偏光板）とを備える。
画像表示セル４としては、液晶セルや有機ＥＬセル等が用いられる。
液晶セルとしては、外光を利用する反射型液晶セル、バックライト等の光源からの光を利用する透過型液晶セル、外部からの光と光源からの光の両者を利用する半透過半反射型液晶セルのいずれを用いてもよい。また、液晶セルの駆動方式としては、例えばＶＡモード、ＩＰＳモード、ＴＮモード、ＳＴＮモードやベンド配向（π型）等の任意なタイプのものを用いうる。なお、液晶セルとして、透過型液晶セル、または、半透過半反射型液晶セルを採用する場合、画像表示パネルは、液晶セルの視認側と反対側に光源側偏光板を備え、さらに光源を備えていてもよい。この場合、光源からの出射光が、液晶セルを伝搬中に偏光状態が変換され、液晶セルの視認側に配置された偏光板によって偏光状態に応じた量の光が吸収されるために透過光量が調整され、画像表示を可能としている。そのため、画像表示パネルから視認側に出射する光は、偏光板５の透過軸方向に振動面を有する直線偏光である。

有機ＥＬセルとしては、例えば、透明基板上に透明電極と有機発光層と金属電極とを順に積層した発光体（有機エレクトロルミネセンス発光体）が用いられる。有機発光層は、種々の有機薄膜の積層体であり、例えばトリフェニルアミン誘導体等からなる正孔注入層と、アントラセン等の蛍光性の有機固体からなる発光層との積層体や、このような発光層とペリレン誘導体等からなる電子注入層の積層体、あるいはこれらの正孔注入層、発光層、および電子注入層の積層体等、種々の組み合わせをもった構成が知られている。有機ＥＬパネルは、有機ＥＬセル自体の発光量を調整することによって画像表示を可能としているため、画像表示において偏光板は必須ではない。しかしながら、有機発光層の厚みがきわめて薄いために、外光が金属電極で反射して再び視認側へ出射され、外部から視認したとき、有機ＥＬ表示装置の表示面が鏡面のように見える場合がある。このような外光の鏡面反射を遮蔽するために、図７に示すように、有機ＥＬセル６の視認側に、偏光板５と１／４波長板７を積層した円偏光板８を配置する方法が採用されている。そのため、視認側に円偏光板８を備える有機ＥＬパネル９から視認側に出射する光は、円偏光板８を構成する偏光板５の透過軸方向に振動面を有する直線偏光である。
このように、画像表示セルから出射した光は、偏光板５によって、偏光板５の吸収軸方向の光が吸収され、吸収軸方向と直交する透過軸方向の光のみがタッチセンサー３側へ出射される。

偏光板５としては、適宜の吸収型直線偏光子を有する偏光板が用いられる。このような偏光板としては、例えば、ヨウ素を含有するポリビニルアルコール系延伸フィルムからなる偏光子を適宜の透明保護フィルムで挟持したものが好適に用いられる。

＜タッチセンサー＞
タッチセンサー３は、画像表示パネル２上（操作者側）に配置され、例えば、人間の指などの外部導体が接触（接近）するときに発生する静電容量の変化を利用して、人間の指などの外部導体の位置を検出するセンサーである。
タッチセンサー３としては、指が接触または近接した検出電極（特に、Ｘ方向に延びる検出電極およびＹ方向に延びる検出電極）の静電容量変化を検出することによって、指の座標を特定する投影型静電容量方式のタッチセンサーが好ましく用いられる。タッチセンサー３としては、例えば、抵抗膜方式のタッチセンサーを用いてもよい。

タッチセンサー３の構成は基板と基板の少なくとも一方の表面上に配置された検出電極とを有する導電性フィルムを少なくとも含むことが好ましい。なお、検出電極は、導電性フィルム中の導電部を構成する。

図８および９は、１枚の導電性フィルムを用いた静電容量式タッチセンサーの例を示す図である。図８に、静電容量式タッチセンサー３００の平面図を示す。図９は、図８中の切断線Ａ−Ａに沿って切断した断面図である。
なお、図８および９は、タッチセンサーの層構成に対する理解を容易にするために模式的に表したものであり、各層の配置を正確に表した図面ではない。

静電容量式タッチセンサー３００は、支持体１２と、支持体１２の一方の主面上（表面上）に配置される第１検出電極１４と、第１引き出し配線１６と、他方の主面上（裏面上）に配置される第２検出電極１８と、第２引き出し配線２０とを備える。なお、第１検出電極１４および第２検出電極１８がある領域は、使用者によって入力操作が可能な入力領域Ｅ_Iを構成し、入力領域Ｅ_Iの外側に位置する外側領域ＥOには第１引き出し配線１６、第２引き出し配線２０および図示しないフレキシブルプリント配線板が配置される。
なお、上記においては、第１検出電極１４および第２検出電極１８が支持体１２の表面および裏面に配置される態様について詳述したが、タッチセンサーはこの態様には限定されず、各層の順番が異なっていても、他の層が追加されていても、また、接着層を介して２枚以上の導電性フィルムを貼合したものでも問題ない。

＜＜支持体＞＞
支持体１２は、入力領域Ｅ_Iにおいて後述する第１検出電極１４および第２検出電極１８を支持する役割を担うとともに、外側領域ＥOにおいて後述する第１引き出し配線１６および第２引き出し配線２０を支持する役割を担う部材である。

支持体１２の波長５５０ｎｍにおける４０度方向のリタデーションＲｅ４０は、虹ムラの発生がより抑制される点で、０〜１０００ｎｍであり、０〜５００ｎｍがより好ましく、０〜４０ｎｍであることがさらに好ましい。

支持体１２の面内遅相軸と、上述した画像表示パネル２から出射される直線偏光の振動方向とのなす角は、直角または平行であることが好ましく、虹ムラの発生がより抑制される点で、直角であることがさらに好ましい。直角および平行の定義は、上述の通りである。
なお、上記態様は、支持体１２の面内遅相軸と、画像表示パネル２中の偏光板５（視認側偏光板）の透過軸とのなす角が直角または平行であることと同義である。

支持体１２は、保護基板５０と同様、絶縁性の透明基板であることが好ましい。例えば、プラスチックフィルム、プラスチック板、ガラス板等が挙げられる。中でも、靭性に優れる理由から、プラスチックフィルムが好ましい。

支持体１２としてプラスチックフィルムおよびプラスチック板を使用する場合、原料としては、保護基板５０と同様である。具体的には、ポリエステル系樹脂（ポリエチレンテレフタレート：ＰＥＴ、ポリエチレンナフタレート：ＰＥＮ等）、ポリオレフィン系樹脂（ポリエチレン：ＰＥ、ポリプロピレン：ＰＰ等）、ビニル系樹脂（ポリスチレン：ＰＳ、エチレン−酢酸ビニルコポリマー：ＥＶＡ、ポリ塩化ビニル：ＰＶＣ等）、環状オレフィン系樹脂（環状オレフィンポリマー：ＣＯＰ、環状オレフィンコポリマー：ＣＯＣ）、セルロース系樹脂（トリアセチルセルロース：ＴＡＣ等）、ポリカーボネート樹脂：ＰＣ、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、アクリル系樹脂、ポリウレタン系樹脂等を用いることができる。
機械強度や寸法安定性、耐熱性の観点から、ＰＥＴやＰＥＮ等のポリエステル系樹脂を主成分とするフィルムが好適に用いられるが、延伸製膜による光学異方性で虹ムラが発生しやすくなる。このため、光学等方性のＣＯＰやＣＯＣ等の環状オレフィン系樹脂を主成分とするフィルムが好ましい。

支持体１２は単層であっても、２層以上の複層であってもよい。支持体１２の厚み（支持体１２が２層以上の複層の場合は、それらの合計厚み）は特に制限されないが、５〜３５０μｍであることが好ましく、２０〜１５０μｍであることがさらに好ましい。上記範囲内であれば所望の可視光の透過率が得られ、且つ、取り扱いも容易である。
全光線透過率は８５〜１００％であることが好ましい。
また、支持体１２の平面視形状は特に限定されず、例えば、矩形状、円形状、多角形状等が挙げられる。

＜＜＜環状オレフィン系樹脂を主成分とするフィルム＞＞＞
環状オレフィン系樹脂を主成分とするフィルム（以下、環状オレフィン系フィルムともいう）の原料となるとなるノルボルネン樹脂（ノルボルネン単位）として、以下に記載する飽和ノルボルネン樹脂−Ａと飽和ノルボルネン樹脂−Ｂを好ましい例として挙げることができる。これらの飽和ノルボルネン樹脂は、いずれも後述の溶液製膜法、溶融製膜法により製膜することができるが、飽和ノルボルネン樹脂−Ａは溶融製膜法により製膜することがより好ましく、飽和ノルボルネン樹脂−Ｂは溶融および溶液製膜法により製膜することがより好ましい。

（飽和ノルボルネン樹脂−Ａ）
飽和ノルボルネン樹脂−Ａとして、（１）ノルボルネン系モノマーの開環（共）重合体に対して、必要に応じてマレイン酸付加、シクロペンタジエン付加のようなポリマー変性を行ない、その後さらに水素添加して得られた樹脂、（２）ノルボルネン系モノマーを付加型重合させて得られた樹脂、（３）ノルボルネン系モノマーとエチレンやα−オレフィンなどのオレフィン系モノマーとを付加型共重合させて得られた樹脂などを挙げることができる。重合方法および水素添加方法は、常法により行なうことができる。

ノルボルネン系モノマーとしては、例えば、ノルボルネン、およびそのアルキルおよび／またはアルキリデン置換体（例えば、５−メチル−２−ノルボルネン、５−ジメチル−２−ノルボルネン、５−エチル−２−ノルボルネン、５−ブチル−２−ノルボルネン、５−エチリデン−２−ノルボルネン等）、これらのハロゲン等の極性基置換体；ジシクロペンタジエン、２，３−ジヒドロジシクロペンタジエン等；ジメタノオクタヒドロナフタレン、そのアルキルおよび／またはアルキリデン置換体、およびハロゲン等の極性基置換体（例えば、６−メチル−１，４：５，８−ジメタノ−１，４，４ａ，５，６，７，８，８ａ−オクタヒドロナフタレン、６−エチル−１，４：５，８−ジメタノ−１，４，４ａ，５，６，７，８，８ａ−オクタヒドロナフタレン、６−エチリデン−１，４：５，８−ジメタノ−１，４，４ａ，５，６，７，８，８ａ−オクタヒドロナフタレン、６−クロロ−１，４：５，８−ジメタノ−１，４，４ａ，５，６，７，８，８ａ−オクタヒドロナフタレン、６−シアノ−１，４：５，８−ジメタノ−１，４，４ａ，５，６，７，８，８ａ−オクタヒドロナフタレン、６−ピリジル−１，４：５，８−ジメタノ−１，４，４ａ，５，６，７，８，８ａ−オクタヒドロナフタレン、６−メトキシカルボニル−１，４：５，８−ジメタノ−１，４，４ａ，５，６，７，８，８ａ−オクタヒドロナフタレン等）；シクロペンタジエンとテトラヒドロインデン等との付加物；シクロペンタジエンの３〜４量体（例えば、４，９：５，８−ジメタノ−３ａ，４，４ａ，５，８，８ａ，９，９ａ−オクタヒドロ−１Ｈ−ベンゾインデン、４，１１：５，１０：６，９−トリメタノ−３ａ，４，４ａ，５，５ａ，６，９，９ａ，１０，１０ａ，１１，１１ａ−ドデカヒドロ−１Ｈ−シクロペンタアントラセン）等が挙げられる。これらのノルボルネン系モノマーは単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。

（飽和ノルボルネン樹脂−Ｂ）
飽和ノルボルネン樹脂−Ｂとして、下記一般式（１）〜（４）で表わされるものを挙げることができる。これらのうち、下記一般式（１）で表されるものが特に好ましい。

一般式（１）〜（４）中、Ｒ¹〜Ｒ¹²は、各々独立に水素原子または１価の置換基（好ましくは有機基）を示し、これらのうち少なくとも１つは極性基であることが好ましい。これらの飽和ノルボルネン樹脂の質量平均分子量は、通常５，０００〜１，０００，０００が好ましく、より好ましくは８，０００〜２００，０００である。

上記の置換基としては、特許第５００９５１２号公報の段落［００３６］に記載されたものを例示することができる。また、上記の極性基としては、特許第５００９５１２号公報の段落［００３７］に記載されたものを例示することができる。

本発明で用いることができる飽和ノルボルネン樹脂としては、例えば、特開昭６０−１６８７０８号公報、特開昭６２−２５２４０６号公報、特開昭６２−２５２４０７号公報、特開平２−１３３４１３号公報、特開昭６３−１４５３２４号公報、特開昭６３−２６４６２６号公報、特開平１−２４０５１７号公報、特公昭５７−８８１５号公報などに記載されている樹脂などを挙げることができる。
これらの樹脂の中でも、ノルボルネン系モノマーの開環重合体を水素添加して得られる水添重合体が特に好ましい。

本発明では、飽和ノルボルネン樹脂として、下記一般式（５）で表わされる少なくとも１種のテトラシクロドデセン誘導体を単独で、あるいは、当該テトラシクロドデセン誘導体と、これと共重合可能な不飽和環状化合物とをメタセシス重合して得られる重合体を水素添加して得られる水添重合体を用いることもできる。

一般式（５）中、Ｒ¹³〜Ｒ¹⁶は、各々独立に水素原子または１価の置換基（好ましくは有機基）を示し、これらのうち少なくとも１つは極性基であることが好ましい。ここでいう置換基と極性基の具体例と好ましい範囲については、一般式（１）〜（４）について説明したのと同一である。
上記一般式（５）で表わされるテトラシクロドデセン誘導体において、Ｒ¹³〜Ｒ¹⁶のうち少なくとも１つが極性基であることにより、他の材料との密着性、耐熱性などに優れたフィルムを得ることができる。さらに、この極性基が−（ＣＨ₂）_nＣＯＯＲ（ここで、Ｒは炭素数１〜２０の炭化水素基、ｎは０〜１０の整数を示す。）で表わされる基であることが、最終的に得られる水添重合体（偏光フィルムの基材）が高いガラス転移温度を有するものとなるので好ましい。特に、この−（ＣＨ₂）_nＣＯＯＲで表わされる極性置換基は、一般式（５）のテトラシクロドデセン誘導体の１分子あたりに１個含有されることが吸水率を低下させる点から好ましい。上記極性置換基において、Ｒで示される炭化水素基の炭素数が多くなるほど得られる水添重合体の吸湿性が小さくなる点では好ましいが、得られる水添重合体のガラス転移温度とのバランスの点から、当該炭化水素基は、炭素数１〜４の鎖状アルキル基または炭素数５以上の（多）環状アルキル基であることが好ましく、特にメチル基、エチル基、シクロヘキシル基であることが好ましい。

さらに、−（ＣＨ₂）_nＣＯＯＲで表わされる基が結合した炭素原子に、炭素数１〜１０の炭化水素基が置換基として結合されている一般式（５）のテトラシクロドデセン誘導体は、得られる水添重合体の吸湿性が低いものとなるので好ましい。特に、この置換基がメチル基またはエチル基である一般式（５）のテトラシクロドデセン誘導体は、その合成が容易な点で好ましい。具体的には、８−メチル−８−メトキシカルボニルテトラシクロ〔４，４，０，１^2.5，１^7.10〕ドデカ−３−エンが好ましい。これらのテトラシクロドデセン誘導体、およびこれと共重合可能な不飽和環状化合物の混合物は、例えば特開平４−７７５２０号公報第４頁右上欄１２行〜第６頁右下欄第６行に記載された方法によってメタセシス重合、水素添加することができる。
これらのノルボルネン系樹脂は、クロロホルム中、３０℃で測定される固有粘度（η_inh）が、０．１〜１．５ｄｌ／ｇであることが好ましく、さらに好ましくは０．４〜１．２ｄｌ／ｇである。また、水添重合体の水素添加率は、６０ＭＨｚ、¹Ｈ−ＮＭＲで測定した値が５０％以上であることが好ましく、より好ましくは９０％以上、さらに好ましくは９８％以上である。水素添加率が高いほど、得られる飽和ノルボルネンフィルムは、熱や光に対する安定性が優れたものとなる。上記水添重合体中に含まれるゲル含有量は５質量％以下であることが好ましく、さらに好ましくは１質量％以下である。

（その他の開環重合可能なシクロオレフィン類）
本発明においては、開環重合可能な他のシクロオレフィン類を併用することができる。このようなシクロオレフィンの具体例としては、例えば、シクロペンテン、シクロオクテン、５，６−ジヒドロジシクロペンタジエンなどのごとき反応性の二重結合を１個有する化合物が例示される。これらの開環重合可能なシクロオレフィン類の含有量は、上記ノルボルネン系モノマーに対して０モル％〜５０モル％であることが好ましく、０．１モル％〜３０モル％であることがより好ましく、０．３モル％〜１０モル％であることが特に好ましい。

環状オレフィン系樹脂は、エチレン単位とノルボルネン単位を含む環状オレフィン系樹脂共重合体であってもよい。エチレン単位は、−ＣＨ₂ＣＨ₂−で表される繰り返し単位である。エチレン単位が、上述したノルボルネン単位とビニル重合することによって、環状オレフィン系樹脂共重合体が得られる。ノルボルネン単位とエチレン単位の共重合モル比率が、８０：２０〜２０：８０であることが好ましく、８０：２０〜５０：５０であることが好ましく、８０：２０〜６０：４０であることがより好ましい。

なお、環状オレフィン系樹脂共重合体は、エチレン単位とノルボルネン単位以外にも他の共重合可能なビニルモノマーからなる繰り返し単位を少量含有していてもよい。他のビニルモノマーとしては、具体的に、プロピレン、１−ブテン、１−ヘキセン、４−メチル−１−ペンテン、１−オクテン、１−デセン、１−ドデセン、１−テトラデセン、１−ヘキサデセン、１−オクタデセンのような炭素数３〜１８のα−オレフィン、シクロブテン、シクロペンテン、シクロヘキセン、３−メチルシクロヘキセン、シクロオクテンのようなシクロオレフィン等を挙げることができる。このようなビニルモノマーは単独であるいは２種類以上組み合わせて用いてもよく、またその繰り返し単位が全体の１０モル％以下であることが好ましく、５モル％以下であることがより好ましい。

（その他添加剤）
環状オレフィン系樹脂には、本発明の目的を損なわない範囲で、他の添加剤を添加することができる。添加剤としては、例えば、酸化防止剤、紫外線吸収剤、易滑剤、帯電防止剤を挙げることができる。特に、環状オレフィン系樹脂が各種デバイスの表面に設置される場合には、紫外線吸収剤を含むことが好ましい。紫外線吸収剤としては、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、ベンゾトリアゾル系紫外線吸収剤、アクリルニトリル系紫外線吸収剤などを用いることができる。

また、環状オレフィン系樹脂には付加重合型と開環重合型があり、いずれを用いてもよい。開環重合型の環状オレフィン系樹脂としては、例えば、ＷＯ２００９／０４１３７７号、ＷＯ２００８／１０８１９９号、ＷＯ２００７／００１０２０号、ＷＯ２００６／１１２３０４号、特開２００８−０３７９３２、ＷＯ２００７／０４３５７３号、ＷＯ２００７／０１０８３０号、特願２００７−５２５９７９号（特許５２３３２８０号）、ＷＯ２００７／００１０２０号、特開２００７−０６３３５６号公報、特開２００９−２１０７５６号公報、特開２００８−１５８０８８号公報、特開２００１−３５６２１３号公報、特開２００４−２１２８４８号公報、特開２００３−０１４９０１号公報、特開２０００−２１９７５２号公報、特開２００５−００８６９８号公報、ＷＯ２００７／１３５８８７号、特開２０１２−０５６３２２号公報、特開平７−１９７６２３号公報、特開２００６−２１５３３３号公報、特開２００６−２３５０８５号公報、特開２００５−１７３０７２号公報、特願２００３−５７８９７８号（特許４２９２９９３号）、特開２００４−２５８１８８号公報、特開２００３−１３６６３５号公報、特開２００３−２３６９１５号公報、特開平１０−１３０４０２号公報、特開平９−２６３６２７号公報、特開平４−３６１２３０号公報、特開平４−３６３３１２号公報、特開平４−１７０４２５号公報、特開平３−２２３３２８号公報等に記載の開環重合型の環状オレフィン系樹脂等が挙げられる。

また、付加重合型の環状オレフィン系樹脂としては、例えば、ＷＯ２００９／１３９２９３号、ＷＯ２００６／０３０７９７号、特願２００６−５３５１５９号（特許４４９３６６０号）、特開２００７−２３２８７４号公報、特開２００７−００９０１０号公報、ＷＯ２０１３／１７９７８１号、ＷＯ２０１２／１１４６０８号、ＷＯ２００８／０７８８１２号、特開平１１−１４２６４５号公報、特開平１０−２８７７１３号公報、特願２００８−５４８１６２号（特許５２２０６１６号）、特開平１１−１４２６４５号公報、特開平１０−２５８０２５号公報、特開２００１−０２６６８２号公報、特開平５−０２５３３７号公報、特開平３−２７３０４３号公報等に記載の付加重合型の環状オレフィン系樹脂等が挙げられる。

環状オレフィン系フィルムとしては、市販品を用いることができる。市販品としては、アートン（ＪＳＲ（株）製）、ゼオノア（日本ゼオン（株）製）、Ｆフィルム（グンゼ（株）製）、パナピールＮＰ−７５−Ａ（パナック（株）製）等が挙げられる。
また、樹脂のガラス転移温度Ｔｇは耐熱性の観点から１５０度以上が好ましい。
また、上記環状オレフィン系フィルム以外の市販品を用いることもでき、市販品としては、ＴＤ４０ＵＬ（富士フイルム社製）、磁気材料用ルミラー（東レ社製）等が挙げられる。

＜導電層＞
第１検出電極１４および第２検出電極１８は、静電容量の変化を感知するセンシング電極であり、感知部（センサ部）を構成する。つまり、指先をタッチパネルに接触させると、第１検出電極１４および第２検出電極１８の間の相互静電容量が変化し、この変化量に基づいて指先の位置をＩＣ回路によって演算する。
第１検出電極１４は、入力領域Ｅ_Iに接近した使用者の指のＸ方向における入力位置の検出を行う役割を有するものであり、指との間に静電容量を発生する機能を有している。第１検出電極１４は、第１方向（Ｘ方向）に延び、第１方向と直交する第２方向（Ｙ方向）に所定の間隔をあけて配列された電極であり、後述するように所定のパターンを含む。
第２検出電極１８は、入力領域Ｅ_Iに接近した使用者の指のＹ方向における入力位置の検出を行う役割を有するものであり、指との間に静電容量を発生する機能を有している。第２検出電極１８は、第２方向（Ｙ方向）に延び、第１方向（Ｘ方向）に所定の間隔をあけて配列された電極であり、後述するように所定のパターンを含む。図３においては、第１検出電極１４は５つ、第２検出電極１８は５つ設けられているが、その数は特に制限されず複数あればよい。

図８中、第１検出電極１４および第２検出電極１８は、例えば、導電性細線により構成することができる。図１０に、第１検出電極１４の一部の拡大平面図を示す。図１０に示すように、第１検出電極１４は、導電性細線３０により構成され、交差する導電性細線３０による複数の格子３２を含んでいる。言い換えると、第１検出電極１４は、交差する複数の導電性細線で構成されるメッシュパターンを有する。なお、第２検出電極１８も、第１検出電極１４と同様に、交差する導電性細線３０による複数の格子３２を含んでいる。

導電性細線３０の材料としては、例えば、金（Ａｕ）、銀（Ａｇ）、銅（Ｃｕ）、アルミニウム（Ａｌ）などの金属や合金、ＩＴＯ、酸化スズ、酸化亜鉛、酸化カドミウム、酸化ガリウム、酸化チタンなどの金属酸化物等が挙げられる。なかでも、導電性細線３０の導電性が優れる理由から、銀であることが好ましい。

導電性細線３０の中には、導電性細線３０と支持体１２との密着性の観点から、バインダーが含まれていることが好ましい。
バインダーとしては、導電性細線３０と支持体１２との密着性がより優れる理由から、水溶性高分子であることが好ましい。バインダーの種類としては、例えば、ゼラチン、カラギナン、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、ポリビニルピロリドン（ＰＶＰ）、澱粉等の多糖類、セルロースおよびその誘導体、ポリエチレンオキサイド、ポリサッカライド、ポリビニルアミン、キトサン、ポリリジン、ポリアクリル酸、ポリアルギン酸、ポリヒアルロン酸、カルボキシセルロース、アラビアゴム、アルギン酸ナトリウム等が挙げられる。なかでも、導電性細線３０と支持体１２との密着性がより優れる理由から、ゼラチンが好ましい。
なお、ゼラチンとしては石灰処理ゼラチンの他、酸処理ゼラチンを用いてもよく、ゼラチンの加水分解物、ゼラチン酵素分解物、その他アミノ基、カルボキシル基を修飾したゼラチン（フタル化ゼラチン、アセチル化ゼラチン）を使用することができる。

導電性細線３０中における金属とバインダーとの体積比（金属の体積／バインダーの体積）は、１．０以上が好ましく、１．５以上がさらに好ましい。金属とバインダーの体積比を１．０以上とすることで、導電性細線３０の導電性をより高めることができる。上限は特に制限されないが、生産性の観点から、４．０以下が好ましく、２．５以下がより好ましい。
なお、金属とバインダーの体積比は、導電性細線３０中に含まれる金属およびバインダーの密度より計算することができる。例えば、金属が銀の場合、銀の密度を１０．５ｇ／ｃｍ³として、バインダーがゼラチンの場合、ゼラチンの密度を１．３４ｇ／ｃｍ³として計算して求めるものとする。

導電性細線３０の線幅は特に制限されないが、低抵抗の電極を比較的容易に形成できる観点から、３０μｍ以下が好ましく、１５μｍがより好ましく、１０μｍがさらに好ましく、９μｍ以下が特に好ましく、７μｍ以下が最も好ましく、０．５μｍ以上が好ましく、１．０μｍ以上がより好ましい。
導電性細線３０の厚みは特に制限されないが、導電性と視認性との観点から、０．００００１〜０．２ｍｍから選択可能であるが、３０μｍ以下が好ましく、２０μｍ以下がより好ましく、０．０１〜９μｍがさらに好ましく、０．０５〜５μｍが最も好ましい。

格子３２は、導電性配線３０で囲まれる開口領域を含んでいる。格子３２の一辺の長さＷは、８００μｍ以下が好ましく、６００μｍ以下がより好ましく、４００μｍ以上であることが好ましい。
第１検出電極１４および第２検出電極１８では、可視光透過率の点から開口率は８５％以上であることが好ましく、９０％以上であることがさらに好ましく、９５％以上であることが最も好ましい。開口率とは、所定領域において第１検出電極１４または第２検出電極１８中の導電性細線３０を除いた透過性部分が全体に占める割合に相当する。

格子３２は、略ひし形の形状を有している。但し、その他、多角形状（例えば、三角形、四角形、六角形）としてもよい。また、一辺の形状を直線状の他、湾曲形状でもよいし、円弧状にしてもよい。円弧状とする場合は、例えば、対向する２辺については、外方に凸の円弧状とし、他の対向する２辺については、内方に凸の円弧状としてもよい。また、各辺の形状を、外方に凸の円弧と内方に凸の円弧が連続した波線形状としてもよい。もちろん、各辺の形状を、サイン曲線にしてもよい。
なお、図１０においては、導電性細線３０はメッシュパターンとして形成されているが、この態様には限定されず、ストライプパターンであってもよい。

なお、図８においては、第１検出電極１４および第２検出電極１８は導電性細線のメッシュ構造で構成されていたが、この態様には限定されず、例えば、ＩＴＯ、酸化スズ、酸化亜鉛、酸化カドミウム、酸化ガリウム、酸化チタンなどの透明金属酸化物薄膜であってもよい。また、第１検出電極１４および第２検出電極１８は、金属酸化物粒子、銀ペーストまたは銅ペーストなどの金属ペースト、銀ナノワイヤや銅ナノワイヤなどの金属ナノワイヤ粒子で構成されていてもよい。なかでも導電性と透明性に優れる点で、銀ナノワイヤが好ましい。
また、電極部のパターニングは、電極部の材料に応じて選択でき、金属ペーストの場合は、スクリーン印刷やインクジェット印刷法で、金属や合金薄膜の場合は、スパッタ膜をフォトリソグラフィー法などのパターニング方法が好適に用いられる。

第１引き出し配線１６および第２引き出し配線２０は、それぞれ上記第１検出電極１４および第２検出電極１８に電圧を印加するための役割を担う部材である。
第１引き出し配線１６は、外側領域ＥOの支持体１２上に配置され、その一端が対応する第１検出電極１４に電気的に接続され、その他端はフレキシブルプリント配線板などが配置される外部導通領域Ｇ_Iに位置している。
第２引き出し配線２０は、外側領域ＥOの支持体１２上に配置され、その一端が対応する第２検出電極１８に電気的に接続され、その他端はフレキシブルプリント配線板などが配置される外部導通領域Ｇ_Iに位置している。
なお、図８においては、第１引き出し配線１６は５本、第２引き出し配線２０は５本記載されているが、その数は特に制限されず、通常、検出電極の数に応じて複数配置される。

第１引き出し配線１６および第２引き出し配線２０を構成する配線の材料としては、例えば、金（Ａｕ）、銀（Ａｇ）、銅（Ｃｕ）などの金属や、酸化スズ、酸化亜鉛、酸化カドミウム、酸化ガリウム、酸化チタンなどの金属酸化物等が挙げられる。なかでも、導電性が優れる理由から、銀であることが好ましい。また、銀ペーストや銅ペーストなどの金属ペーストや、アルミニウム（Ａｌ）やモリブデン（Ｍｏ）、パラジウム（Ｐｄ）などの金属や合金薄膜で構成されていてもよい。金属ペーストの場合は、スクリーン印刷やインクジェット印刷法で、金属や合金薄膜の場合は、スパッタ膜をフォトリソグラフィー法などのパターニング方法が好適に用いられる。
なお、第１引き出し配線１６および第２引き出し配線２０中には、支持体１２との密着性がより優れる点から、バインダーが含まれていることが好ましい。バインダーの種類は、上述の通りである。

図８の外部導通領域Ｇ_Iには、図示しないフレキシブルプリント配線板が配置される。フレキシブルプリント配線板とは、基板上に複数の配線および端子が設けられた板であり、第１引き出し配線１６のそれぞれの他端および第２引き出し配線２０のそれぞれの他端に接続され、タッチセンサー３００と外部の装置（例えば、画像表示パネル）とを接続する役割を果たす。

＜＜タッチセンサーの製造方法＞＞
タッチセンサー３００の製造方法は特に制限されず、公知の方法を採用することができる。その一例として、検出電極および引き出し配線の製造方法としては、支持体１２の両主面上に形成された金属箔上のフォトレジスト膜を露光、現像処理してレジストパターンを形成し、レジストパターンから露出する金属箔をエッチングする方法が挙げられる。また、支持体１２の両主面上に金属微粒子または金属ナノワイヤを含むペーストを印刷し、ペーストに金属めっきを行う方法が挙げられる。また、支持体１２上にスクリーン印刷版またはグラビア印刷版によって印刷形成する方法、または、インクジェットにより形成する方法も挙げられる。

さらに、上記方法以外にハロゲン化銀を使用した方法が挙げられる。より具体的には、まず、支持体１２上に第１検出電極１４および第１引き出し配線１６、並びに、第２検出電極１８および第２引き出し配線２０を形成する方法としては、ハロゲン化銀を使用した方法が挙げられる。より具体的には、支持体１２の両面にそれぞれ、ハロゲン化銀とゼラチンとを含有するハロゲン化銀乳剤層（以後、単に感光性層とも称する）を形成する工程（１）、感光性層を露光した後、現像処理することにより第１検出電極１４および第１引き出し配線１６、並びに、第２検出電極１８および第２引き出し配線２０を形成する工程（２）を有する方法が挙げられる。
以下に、各工程に関して説明する。

［工程（１）：感光性層形成工程］
工程（１）は、支持体１２の両面に、ハロゲン化銀とゼラチンとを含有する感光性層を形成する工程である。
感光性層を形成する方法は特に制限されないが、生産性の点から、ハロゲン化銀およびバインダーを含有する感光性層形成用組成物を支持体１２に接触させ、支持体１２の両面上に感光性層を形成する方法が好ましい。
以下に、上記方法で使用される感光性層形成用組成物の態様について詳述した後、工程の手順について詳述する。

感光性層形成用組成物には、ハロゲン化銀およびゼラチンが含有される。
ハロゲン化銀に含有されるハロゲン元素は、塩素、臭素、ヨウ素およびフッ素のいずれであってもよく、これらを組み合わせでもよい。ハロゲン化銀としては、例えば、塩化銀、臭化銀、ヨウ化銀を主体としたハロゲン化銀が好ましく用いられ、さらに臭化銀や塩化銀を主体としたハロゲン化銀が好ましく用いられる。
ゼラチンとしては、石灰処理ゼラチンの他、酸処理ゼラチンを用いてもよく、ゼラチンの加水分解物、ゼラチン酵素分解物、その他アミノ基、カルボキシル基を修飾したゼラチン（フタル化ゼラチン、アセチル化ゼラチン）等が挙げられる。
感光性層形成用組成物中に含まれるハロゲン化銀およびゼラチンの体積比は特に制限されず、上述した導電性細線３０中における金属とバインダーとの好適な体積比の範囲となるように適宜調整される。

感光性層形成用組成物には、必要に応じて、溶媒が含有される。
使用される溶媒としては、例えば、水、有機溶媒（例えば、メタノール等のアルコール類、アセトン等のケトン類、ホルムアミド等のアミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類、酢酸エチル等のエステル類、エーテル類等）、イオン性液体、またはこれらの混合溶媒を挙げることができる。
使用される溶媒の含有量は特に制限されないが、ハロゲン化銀およびバインダーの合計質量に対して、３０〜９０質量％の範囲が好ましく、５０〜８０質量％の範囲がより好ましい。

［工程の手順］
感光性層形成用組成物と支持体１２とを接触させる方法は特に制限されず、公知の方法を採用できる。例えば、感光性層形成用組成物を支持体１２に塗布する方法や、感光性層形成用組成物中に支持体１２を浸漬する方法等が挙げられる。
感光性層中におけるハロゲン化銀の含有量は特に制限されないが、導電特性がより優れる点で、銀換算で１．０〜２０．０ｇ／ｍ²が好ましく、５．０〜１５．０ｇ／ｍ²がより好ましい。

感光性層以外に、必要に応じて、以下の下塗層、アンチハレーション層、保護層を設けてもよい。
また、下塗層を設けることで、支持体と感光性層との密着性が向上する。アンチハレーション層を設けることで、導電性細線の細線化が容易になる。また、保護層を設けることにより、擦り傷防止や力学特性が向上する。

（下塗層）
感光性層との密着性を向上させるための下塗層を設けてもよい。
感光性層との密着性を向上させるための下塗層として、原料としては、フェノール系、アルキド系、メラミン系、ユリア系、ビニル系、エポキシ系、ポリエステル系、ポリウレタン系、アクリル系などの合成樹脂が挙げられ、ウレタン系が好ましい。市販品の例としては、タケラックＷＳ５１００、タケラックＷＳ４０００（ともに三井武田ケミカル社製）等が挙げられる。また、合成樹脂以外の他の樹脂としては、ゼラチンなどを挙げることができる。
また、樹脂成分の他に、必要に応じて架橋剤（エポクロスＷＳ３００、エポクロスＷＳ７００（ともに日本触媒社製）、カルボジライトＶ−０２−Ｌ２（日清紡ケミカル社製）等）、造膜助剤、マット剤（スノーテックスＵＰ（日産化学社製）等）、滑剤（セロゾール５２４（中京油脂社製）等）、界面活性剤（ナロアクティーＣＬ９５（三洋化成工業社製）、ラピゾールＡ−９０（日油社製）等）、消泡剤、抑泡剤、染料、蛍光増白剤、防腐剤、耐水化剤、帯電防止剤、架橋剤の触媒（Ｃａｔ６４（第一工業製薬社製）等）等を含んでいてもよい。

下塗層の厚みは、１０〜４００ｎｍであり、１０〜２００ｎｍが好ましく、１０〜１００ｎｍがより好ましく、２０〜１００ｎｍがさらに好ましい。厚みを１０ｎｍ以上とすることで剥離応力を吸収できるようになり、感光性層の破壊を抑制することができる。また、厚みを４００ｎｍ以下とすることで、下塗層が変形して支持体の凝集破壊が抑制される。

下塗層表面の表面粗さＲａは、０．５〜３０ｎｍであり、０．５〜２５ｎｍが好ましく、１〜２５ｎｍがより好ましく、１０〜２０ｎｍがさらに好ましい。表面粗さＲａが０．５ｎｍ以上であると、接触面積が上昇し、密着性を向上させることができる。一方、表面粗さ（Ｒａ）が３０ｎｍ以下であると、樹脂層の凹凸により剥離応力が集中することがなくなり密着不良が起こりにくくなる。表面粗さＲａは、例えばレーザー顕微鏡を用いて測定することができる。

（下塗層の形成方法）
下塗層は、塗布法、共押出法のいずれにより形成してもよく、素材選定範囲の広さ、溶融段階で耐熱性を考慮しなくてもよいという観点から塗布法が好ましい。
まず、下塗層を構成する樹脂を含む溶液、もしくはラテックス水溶液を混合し調製した塗布液を混合して相分離させ、樹脂中に粒子を分散させた液を塗工する。その後乾燥する際に、塗工膜と雰囲気温度に１〜１００℃の温度差を付けることが好ましく、３〜８０℃がより好ましく、５〜６０℃がさらに好ましい。このような温度差を付与することで、樹脂層内部溶媒の乾燥により塗工層内部で対流が発生し、溶剤の揮散の進む箇所は膜厚が薄くなり、溶剤の拡散が進みにくい箇所は膜厚が厚くなる塗膜に凹凸が形成される。雰囲気温度とは、下塗層を形成する際の塗工表面から３０ｃｍの外気の温度をいう。なお、必要に応じて、塗工面に凹凸を有する基材を押し当て凹凸を転写することで、所定の表面粗さＲａにすることもできる。

（アンチハレーション層）
導電性細線の細線化を容易にするために、アンチハレーション層を設けてもよい。
アンチハレーション機能を付与するために、染料を添加することが好ましい。染料の例としては、特開２０１２−６３７７号公報の［００６４］〜［００６８］に記載の染料を用いることができ、その中でも以下の固体分散染料Ａが好ましい。
固体分散染料Ａ

また、視認性向上の観点から、アンチハレーション層の厚みは、０．２〜１０μｍであることが好ましく、０．５〜５μｍであることが特に好ましい。

アンチハレーション層表面の、水の接触角は７０度以下であることが好ましく、６０度以下であることがより好ましく、５５度以下であることがさらに好ましい。
また、親水性樹脂を含むことが水の接触角を上記範囲とできる観点から好ましい。親水性樹脂の好ましい態様は、透明導電層用の感光材料に用いることができる親水性樹脂の好ましい態様と同様である。親水性樹脂の中でもゼラチンを含むことがより好ましい。

［工程（２）：露光現像工程］
工程（２）は、上記工程（１）で得られた感光性層をパターン露光した後、現像処理することにより第１検出電極１４および第１引き出し配線１６、並びに、第２検出電極１８および第２引き出し配線２０を形成する工程である。
以下では、パターン露光処理について詳述し、その後現像処理について詳述する。

（パターン露光）
感光性層に対してパターン状の露光を施すことにより、露光領域における感光性層中のハロゲン化銀が潜像を形成する。この潜像が形成された領域は、後述する現像処理によって第１検出電極１４および第１引き出し配線１６、並びに、第２検出電極１８および第２引き出し配線２０を形成する。一方、露光がなされなかった未露光領域では、後述する定着処理の際にハロゲン化銀が溶解して感光性層から流出し、透明な膜が得られる。
露光の際に使用される光源は特に制限されず、可視光線、紫外線などの光、または、Ｘ線などの放射線等が挙げられる。
パターン露光を行う方法は特に制限されず、例えば、フォトマスクを利用した面露光で行ってもよいし、レーザービームによる走査露光で行ってもよい。なお、パターンの形状は特に制限されず、形成したい導電性細線のパターンに合わせて適宜調整される。

（現像処理）
現像処理の方法は特に制限されず、公知の方法を採用できる。例えば、銀塩写真フィルム、印画紙、印刷製版用フィルム、フォトマスク用エマルジョンマスク等に用いられる通常の現像処理の技術を用いることができる。
現像処理の際に使用される現像液の種類は特に制限されないが、例えば、ＰＱ現像液、ＭＱ現像液、ＭＡＡ現像液等を用いることもできる。市販品では、例えば、富士フイルム社処方のＣＮ−１６、ＣＲ−５６、ＣＰ４５Ｘ、ＦＤ−３、パピトール、ＫＯＤＡＫ社処方のＣ−４１、Ｅ−６、ＲＡ−４、Ｄ−１９、Ｄ−７２等の現像液、またはそのキットに含まれる現像液を用いることができる。また、リンス現像液を用いることもできる。
現像処理は、未露光部分の銀塩を除去して安定化させる目的で行われる定着処理を含むことができる。定着処理は、銀塩写真フィルムや印画紙、印刷製版用フィルム、フォトマスク用エマルジョンマスク等に用いられる定着処理の技術を用いることができる。
定着工程における定着温度は、約２０℃〜約５０℃が好ましく、２５〜４５℃がより好ましい。また、定着時間は５秒〜１分が好ましく、７秒〜５０秒がより好ましい。
現像処理後の露光部（導電性細線）に含まれる金属銀の質量は、露光前の露光部に含まれていた銀の質量に対して５０質量％以上の含有率であることが好ましく、８０質量％以上であることがさらに好ましい。露光部に含まれる銀の質量が露光前の露光部に含まれていた銀の質量に対して５０質量％以上であれば、高い導電性を得ることができるため好ましい。

［工程（３）：加熱工程］
工程（３）は、上記現像処理の後に加熱処理を実施する工程である。本工程を実施することにより、バインダー間で融着が起こり、導電性細線３４の硬度がより上昇する。特に、感光性層形成用組成物中にバインダーとしてポリマー粒子を分散している場合（バインダーがラテックス中のポリマー粒子の場合）、本工程を実施することにより、ポリマー粒子間で融着が起こり、所望の硬さを示す導電性細線３０が形成される。
加熱処理の条件は使用されるバインダーによって適宜好適な条件が選択されるが、４０℃以上であることがポリマー粒子の造膜温度の観点から好ましく、５０℃以上がより好ましく、６０℃以上がさらに好ましい。また、基板のカール等を抑制する観点から、１８０℃以下が好ましく、１４０℃以下がより好ましい。
加熱時間は特に限定されないが、基板のカール等を抑制する観点、および、生産性の観点から、１〜５分間であることが好ましく、１〜３分間であることがより好ましい。
なお、この加熱処理は、通常、露光、現像処理の後に行われる乾燥工程と兼ねることができるため、ポリマー粒子の造膜のために新たな工程を増加させる必要がなく、生産性、コスト等の観点で優れる。

以下に実施例と比較例を挙げて本発明の特徴をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す具体例により限定的に解釈されるべきものではない。

（ガラス基板Ｇ１の準備）
厚さ５５０μｍのガラス ＧＯＲＩＬＬＡ−ＩＯＸ（コーニング社製）を、ガラス基板Ｇ１として用いた。

（粘着フィルムＡＤ１の準備）
厚さ２５μｍの粘着層Ｄ１が２枚の剥離ＰＥＴフィルムで挟まれた高透明性接着剤転写テープ８１４６−１（３Ｍ社製）を準備し、粘着フィルムＡＤ１として用いた。

（支持体Ｓ１の作製）
三酸化アンチモンを主触媒として重縮合した固有粘度０．６６のポリエチレンテレフタレート樹脂を含水率５０ｐｐｍ（ｍｇ／Ｌ）以下に乾燥させ、ヒーター温度が２８０〜３００℃設定の押し出し機内で溶融させた。溶融させたＰＥＴ樹脂をダイ部より静電印加されたチルロール上に吐出させ、非結晶ベースを得る。得られた非結晶ベースをベース進行方向に３．３倍に延伸後、巾方向に３．８倍に延伸し、厚さ９６μｍの支持体Ｓ１を作製した。

（支持体Ｓ２の準備）
厚さ４０μｍのアートンフィルム：Ｇ７８１０（ＪＳＲ社製）を準備し、支持体Ｓ２として用いた。

（支持体Ｓ３の準備）
厚さ４０μｍのトリアセチルセルロースフィルム：ＴＤ４０ＵＬ（富士フイルム社製）を準備し、支持体Ｓ３として用いた。

（支持体Ｓ４の準備）
剥離ＰＥＴフィルム（パナピールＮＰ−７５−Ａ、パナック社製）を準備し、支持体Ｓ４として用いた。

（支持体Ｓ５の準備）
厚さ４０μｍのゼオノアフィルム：ＺＦ１６（日本ゼオン社製）を準備し、支持体Ｓ５として用いた。

（支持体Ｓ６の準備）
厚さ６μｍのポリエステルフィルム：磁気材料用ルミラー（東レ社製）を準備し、支持体Ｓ６として用いた。

（支持体Ｓ７の準備）
支持体Ｓ６を２枚準備し、位相差測定装置ＫＯＢＲＡ−ＷＲ（王子計測機器社製）を用いて、各々の遅相軸を検出した。粘着フィルムＡＤ１の一方の剥離ＰＥＴを剥離して、一方の支持体Ｓ６上に、ローラーを使用して粘着層Ｄ１を貼合し、他方の剥離ＰＥＴを剥離した。その後、他方の支持体Ｓ６とを、２枚の支持体Ｓ６の遅相軸が一致するように、ローラーを使用して貼合し、支持体Ｓ７として用いた。

（支持体Ｓ８の準備）
厚さ３８μｍのポリエステルフィルム：Ａ４３００（東洋紡社製）を準備し、支持体Ｓ８として用いた。

＜下塗層用塗工液ＰＣ−１の調製＞
ウレタン樹脂：タケラックＷＳ５１００（三井武田ケミカル社製） ２．８８質量部
架橋剤：エポクロスＷＳ３００（日本触媒社製） ０．９６質量部
架橋剤：カルボジライトＶ−０２−Ｌ２（日清紡ケミカル社製） ０．４４質量部
微粒子：スノーテックスＵＰ（日産化学社製） ０．０６質量部
滑剤：セロゾール５２４（中京油脂社製） ０．１５質量部
界面活性剤：ナロアクティーＣＬ９５（三洋化成工業社製） ０．０２質量部
界面活性剤：ラピゾールＡ−９０（日油社製） ０．０２質量部
水 ９５．４７質量部

＜アンチハレーション層用塗工液ＡＨ−１の調製＞
水 １０００質量部
ゼラチン １２質量部
染料Ｄ−１ １０質量部

（保護層用塗工液ＰＲ−１の調製）
水 １０００質量部
ゼラチン １２質量部

（ハロゲン化銀乳剤用液ＥＭ−１の調製）
下記組成物をミキシングタンクに投入後に攪拌して、ハロゲン化銀乳剤用液ＥＭ−１とした。
ハロゲン化銀層用液ＥＭ−１
水 ７５０質量部
ゼラチン ９質量部
塩化ナトリウム ３質量部
１，３−ジメチルイミダゾリジン−２−チオン ０．０２質量部
ベンゼンチオスルホン酸ナトリウム ０．０１質量部
クエン酸 ０．７質量部

（ハロゲン化銀乳剤用液ＥＭ−２の調製）
下記組成物をミキシングタンクに投入後に攪拌して、ハロゲン化銀乳剤用液ＥＭ−２とした。
ハロゲン化銀乳剤用液ＥＭ−２
水 ３００質量部
硝酸銀 １５０質量部

（ハロゲン化銀乳剤用液ＥＭ−３の調製）
下記組成物をミキシングタンクに投入後に攪拌して、ハロゲン化銀乳剤用液ＥＭ−３とした。
ハロゲン化銀乳剤用液ＥＭ−３
水 ３００質量部
塩化ナトリウム ３８質量部
臭化カリウム ３２質量部
ヘキサクロロイリジウム（ＩＩＩ）酸カリウム２０質量％水溶液（０．００５質量％ＫＣｌ）
８質量部
ヘキサクロロロジウム酸アンモニウム２０質量％水溶液（０．００１質量％ＮａＣｌ）
１０質量部

（ハロゲン化銀乳剤用液ＥＭ−４の調製）
下記組成物をミキシングタンクに投入後に攪拌して、ハロゲン化銀乳剤用液ＥＭ−４とした。
ハロゲン化銀乳剤用液ＥＭ−４
水 １００質量部
硝酸銀 ５０質量部

（ハロゲン化銀乳剤用液ＥＭ−５の調製）
下記組成物をミキシングタンクに投入後に攪拌して、ハロゲン化銀乳剤用液ＥＭ−５とした。
ハロゲン化銀乳剤用液ＥＭ−５
水 １００質量部
塩化ナトリウム １３質量部
臭化カリウム １１質量部
黄血塩 ０．００５質量部

（感光性層用塗工液ＰＳ−１の調製）
３８℃、ｐＨ４．５に保たれた下記ハロゲン化銀乳剤液ＥＭ−１に、上記のハロゲン化銀乳剤液ＥＭ−２およびハロゲン化銀乳剤液ＥＭ−３の各々９０質量％に相当する量を攪拌しながら同時に２０分間にわたって加え、０．１６μｍの核粒子を形成した。続いて上記ハロゲン化銀乳剤液ＥＭ−４およびハロゲン化銀乳剤液ＥＭ−５を８分間にわたって加え、さらに、上記のハロゲン化銀乳剤液ＥＭ−２およびハロゲン化銀乳剤液ＥＭ−３の残りの１０質量％の量を２分間にわたって加え、０．２１μｍまで成長させた。さらに、ヨウ化カリウム０．１５ｇを加え、５分間熟成し粒子形成を終了した。
その後、常法に従い、フロキュレーション法によって水洗した。具体的には、温度を３５℃に下げ、硫酸を用いてハロゲン化銀が沈降するまでｐＨを下げた（ｐＨ３．６±０．２の範囲であった）。次に、上澄み液を約３リットル除去した（第一水洗）。さらに３リットルの蒸留水を加えてから、ハロゲン化銀が沈降するまで硫酸を加えた。再度、上澄み液を３リットル除去した（第二水洗）。第二水洗と同じ操作をさらに１回繰り返して（第三水洗）、水洗・脱塩工程を終了した。水洗・脱塩後の乳剤をｐＨ６．４、ｐＡｇ７．５に調整し、ゼラチン３．９g、ベンゼンチオスルホン酸ナトリウム１０ｍｇ、ベンゼンチオスルフィン酸ナトリウム３ｍｇ、チオ硫酸ナトリウム１５ｍｇと塩化金酸１０ｍｇを加え５５℃にて最適感度を得るように化学増感を施し、安定剤として１，３，３ａ，７−テトラアザインデン１００ｍｇ、防腐剤としてプロキセル（商品名、ＩＣＩ Ｃｏ．，Ｌｔｄ．製）１００ｍｇを加えた。最終的に得られた乳剤は、沃化銀を０．０８モル％含み、塩臭化銀の比率を塩化銀７０モル％、臭化銀３０モル％とする、平均粒子径０．２２μｍ、変動係数９％のヨウ塩臭化銀立方体粒子乳剤であった。
上記乳剤に１，３，３ａ，７−テトラアザインデン１．２×１０^-4モル／モルＡｇ、ハイドロキノン１．２×１０^-2モル／モルＡｇ、クエン酸３．０×１０^-4モル／モルＡｇ、２，４−ジクロロ−６−ヒドロキシ−１，３，５−トリアジンナトリウム塩０．９０ｇ／モルＡｇを添加し、クエン酸を用いて塗工液ｐＨを５．６に調整して、感光性層用塗工液ＰＳ−１を得た。

（現像液ＤＶ−１の調製）
下記組成物をミキシングタンクに投入後に攪拌して、現像液ＤＶ−１とした。
現像液ＤＶ−１
水 １０００ｇ
ハイドロキノン ０．０３７ｍｏｌ
Ｎ−メチルアミノフェノール ０．０１６ｍｏｌ
メタホウ酸ナトリウム ０．１４０ｍｏｌ
水酸化ナトリウム ０．３６０ｍｏｌ
臭化ナトリウム ０．０３１ｍｏｌ
メタ重亜硫酸カリウム ０．１８７ｍｏｌ

（タッチセンサーフィルムＴ１の作製）
支持体Ｓ２の両面に８ｋＪ／ｍ²でコロナ放電処理を施した後、上記の下塗層用塗工液ＰＣ−１を両面塗工し、膜面温度９０℃で１分間乾燥して、厚み０．１μｍの下塗層を形成した。次いで、上記のアンチハレーション層用塗工液ＡＨ−１を両面塗工し、乾燥して、厚さ１．０μｍのアンチハレーション層を設けた。さらに、感光性層用塗工液ＰＳ−１を両面塗工、乾燥して、感光性層を形成した後、上記の保護層用塗工液ＰＲ−１を両面塗工、乾燥して、厚み０．１５μｍの保護層を設けた。ここで、アンチハレーション層の光学濃度は約１．０、感光性層中の銀量は銀で換算して７ｇ／ｍ²であった。

この両面に、図８に示すようなタッチセンサーパターン（第１検出電極および第２検出電極）および引き出し配線部（第１引き出し配線および第２引き出し配線）を配したフォトマスクを介し、高圧水銀ランプを光源とした平行光を用いて露光を行った。露光後、上記の現像液ＤＶ−１で現像し、さらに定着液（商品名：ＣＮ１６Ｘ用Ｎ３Ｘ−Ｒ、富士フィルム社製）を用いて現像処理を行った。さらに、純水でリンスし、乾燥することで、両面にＡｇ細線からなるメッシュパターンを有する検出電極を有する、タッチセンサーフィルムＴ１を得た。
尚、配置された第１検出電極はＸ方向にのびる電極で、第２検出電極はＹ方向に延びる電極であり、Ｘ検出電極（長さ：１７０ｍｍ）は３２本、Ｙ検出電極（長さ：３００ｍｍ）は５６本であった。また、位相差測定装置ＫＯＢＲＡ−ＷＲ（王子計測機器社製）を用いて測定したＲｅ４０は、３ｎｍであった。

（下塗層用塗工液ＰＣ−２の調製）
下塗層用塗工液ＰＣ−２
・ウレタンアクリレート １００．０質量部
（ペンタエリスリトールアクリレートと水添キシレンジイソシアネートの反応物）
・モノマー（Ａ−９３００（新中村化学社製）） ２０．０質量部
・シリカ粒子（平均粒径１〜３μｍ） ８４．２質量部
・光重合開始剤（ＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４、ＢＡＳＦ社製） ６．３質量部
・溶媒（酢酸ブチル） ８５．７質量部
・溶媒（メチルエチルケトン） １７１．４質量部

（ポリマーＰ−１の合成）
下記組成物をミキシングタンクに投入後に攪拌し、６０℃乃至１００℃の温度で重合反応させることにより、下記ポリマーＰ１のＰＧＭＥＡ４５質量％溶液（固形分濃度）を得た。分子量はゲルパーミエーションクロマトグラフィ法（ＧＰＣ）を用いて測定した結果、ポリスチレン換算による質量平均分子量（Ｍｗ）は３０，０００、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は２．２１であった。さらに、ＰＧＭＥＡで希釈して、ポリマーＰ１のＰＧＭＥＡ４０質量％溶液を得た。
ポリマーＰ−１合成用溶液
モノマー（メタクリル酸） ７．８質量部
モノマー（ベンジルメタクリレート） ３７．２質量部
重合開始剤（ＡＢＮ−Ｒ（日本ファインケム社製）） ０．５質量部
溶媒（ＰＧＭＥＡ：メトキシプロピルアセテート） ５５．０質量部

（感光性層用塗工液ＰＳ−２の調製）
下記組成物をミキシングタンクに投入後に攪拌して、感光性層用塗工液ＰＳ−２とした。
感光性層用塗工液ＰＳ−２
ポリマー溶液（ポリマーＰ−１のＰＧＭＥＡ４０質量％溶液） ３．８０質量部
モノマー（ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ（日本化薬社製）） １．５９質量部
光重合開始剤（ＩＲＧＡＣＵＲＥ３７９（ＢＡＳＦ社製）） ０．１６質量部
架橋剤（ＥＨＰＥ−３１５０（ダイセル化学社製）） ０．１５質量部
界面活性剤（メガファックＦ７８１Ｆ（ＤＩＣ社製）） ０．００２質量部
溶媒（ＰＧＭＥＡ） １９．３質量部

（タッチセンサーフィルムＴ２の作製）
支持体Ｓ２の表面に、下塗層用塗工液ＰＣ−２をグラビアリバース法にて塗工、７０℃４０秒乾燥し、３００ｍＪ／ｃｍ²でＵＶ照射して、膜厚１．７μｍの下塗層を形成した。その後、下塗層表面にＡｒ流量３００ｓｃｃｍ、出力７００Ｖ／０．０５Ａにてプラズマ処理を施し、スパッタリング装置内に配置し、真空排気を行いながらローラーを１４０℃に加熱し、圧力を２×１０^-1Ｐａに保持し、アルゴンガスおよび酸素ガス流入下で、ターゲットとして質量比Ｉｎ₂Ｏ₃／ＳｎＯ₃＝９０／１０の酸化物混合体を用いたスパッタリングにより、フィルムのプラズマ処理を施した面に、ＩＴＯからなる透明導電層を厚さ２００オングストロームで積層して、導電性透明フィルムを得た。
上記透明導電フィルムのＩＴＯ層上に、ワイヤーバーを用いて感光性層用塗工液ＰＳ−２を塗工後、１５０℃のオーブンで５分間乾燥して、厚み５μｍの感光性層を得た。
次いで、タッチセンサーＴ１と同様の検出電極が形成可能な露光ガラスマスクを用いて、高圧水銀灯ｉ線（波長３６５ｎｍ）を４００ｍＪ／ｃｍ²（照度５０ｍＷ／ｃｍ²）露光後、１質量％水酸化ナトリウム水溶液（３５℃）、シャワー圧０．０８ＭＰａで１分間シャワー現像し、純水のシャワーでリンスした後、５０℃１分間乾燥した。
続いて、３質量％シュウ酸水溶液（３５℃）に２分間浸漬してＩＴＯエッチング処理後、エアーナイフでサンプル表面の水を吹き飛ばしてから６０℃５分間乾燥した。
さらに、２．３８質量％テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液（３５℃）、シャワー圧３．０ＭＰａで７５秒間シャワー現像し、純水のシャワーでリンスした後、エアーナイフでサンプル表面の水を吹き飛ばしてから６０℃５分間乾燥して、電極パターンを形成した。
尚、Ｘ方向に３２本の検出電極（長さ：１７０ｍｍ）が伸びる電極パターンを有する透明導電フィルムＸ１と、Ｙ方向に５６本の検出電極（長さ：３００ｍｍ）が伸びる透明導電フィルムＹ１をそれぞれ１枚ずつ作製した。
最後に、透明導電フィルムＸ１、透明導電フィルムＹ１、粘着層Ｄ１を有する粘着フィルムＡＤ１を用いて、支持体Ｓ２／ＩＴＯ層（Ｙ方向）／粘着層Ｄ１／支持体Ｓ２／ＩＴＯ層（Ｘ方向）の順で構成される積層体を作製し、タッチセンサーフィルムＴ２を得た。
ここで、タッチセンサーフィルムＴ２中の２枚の支持体Ｓ２の遅相軸のなす角度が０°となるように積層した。また、位相差測定装置ＫＯＢＲＡ−ＷＲ（王子計測機器社製）を用いて測定したＲｅ４０は、３ｎｍであった。

（タッチセンサーＴ３の作製）
支持体Ｓ５を用いた以外は、タッチセンサーフィルムＴ１と同様の方法で作製した、タッチセンサーフィルムＴ３を得た。位相差測定装置ＫＯＢＲＡ−ＷＲ（王子計測機器社製）を用いて測定したＲｅ４０は、５ｎｍであった。

（タッチセンサーＴ４の作製）
支持体Ｓ６を用いた以外は、タッチセンサーフィルムＴ１と同様の方法で作製した、タッチセンサーフィルムＴ４を得た。位相差測定装置ＫＯＢＲＡ−ＷＲ（王子計測機器社製）を用いて測定したＲｅ４０は、４８０ｎｍであった。

（タッチセンサーＴ５の作製）
支持体Ｓ７を用いた以外は、タッチセンサーフィルムＴ１と同様の方法で作製した、タッチセンサーフィルムＴ５を得た。位相差測定装置ＫＯＢＲＡ−ＷＲ（王子計測機器社製）を用いて測定したＲｅ４０は、９６０ｎｍであった。

（タッチセンサーＴ６の作製）
支持体Ｓ８を用いた以外は、タッチセンサーフィルムＴ１と同様の方法で作製した、タッチセンサーフィルムＴ６を得た。位相差測定装置ＫＯＢＲＡ−ＷＲ（王子計測機器社製）を用いて測定したＲｅ４０は、１１５０ｎｍであった。

（ハードコート層用塗工液ＨＣ−１の調製）
下記組成物をミキシングタンクに投入後に攪拌して、ハードコート層用塗工液ＨＣ−１とした。
ハードコート層用塗工液ＨＣ−１
ポリマー（アクリベースＭＨ−１０１−５（藤倉化成社製）） ６０質量部
光硬化性モノマー（Ａ−ＤＰＨ（新中村化学社製）） ２０質量部
光硬化性モノマー（Ａ−ＴＭＭＴ（新中村化学社製） ２０質量部
微粒子（ＭＥＫ−ＳＴ−Ｌ（日産化学工業社製）） ２００質量部
光重合開始剤（ＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４（ＢＡＳＦ社製）） ５質量部
界面活性剤（メガファックＦ−７８０Ｆ（ＤＩＣ社製）） １質量部
溶媒（２−ブタノン（関東化学社製） ５４質量部

（ハードコート層用塗工液ＨＣ−２の調製）
下記組成物をミキシングタンクに投入後に攪拌して、ハードコート層用塗工液ＨＣ−２とした。
ハードコート層用塗工液ＨＣ−２
アルコキシシラン（ＫＢＥ−４０３（信越化学工業社製）） ８０質量部
アルコキシシラン（ＫＢＥ−０４（信越化学工業社製）） ２０質量部
酸（工業用酢酸１質量％水溶液（ダイセル化学工業社製）） ２００質量部
キレート錯体（アルミキレートＤ（川研ファインケミカル社製）） ２５質量部
シリカ微粒子（スノーテックスＯ−Ｌ（日産化学工業社製）） １００質量部
界面活性剤（サンデッドＢＬ（三洋化成工業社製）１質量％水溶液） ２０質量部
界面活性剤（ナロアクティーＣＬ−９５（三洋化成工業社製）１質量％水溶液）
２０質量部

（配向層用塗工液ＡＬ−１の調製）
下記の組成物を調製し、配向層用塗工液ＡＬ−１として用いた。
配向層用塗工液ＡＬ−１
ポリマー（ＰＶＡ２０５（クラレ社製）） ７質量部
ポリマー（Ｌｕｖｉｔｅｃ Ｋ３０（ＢＡＳＦ社製）） ３質量部
溶媒（純水） １２０質量部
溶媒（メタノール（関東化学社製）） ８０質量部

（配向層用塗工液ＡＬ−２の調製）
下記の組成物を調製し、配向層用塗工液ＡＬ−２として用いた。化合物Ａ−１は特許第３９０７７３５号記載の方法に準じて製造した。
配向層用塗工液ＡＬ−２
ポリマー（化合物Ａ−１） １０質量部
架橋剤（グルタルアルデヒド５０質量％水溶液（関東化学社製）） １質量部
溶媒（純水） １８０質量部
溶媒（メタノール（関東化学社製）） ６０質量部

（光学異方層用塗工液ＬＣ−１の調製）
下記の組成物を調製し、光学異方層用塗工液ＬＣ−１として用いた。
光学異方層用塗工液ＬＣ−１
重合性液晶モノマー（ＬＣ−２４２（ＢＡＳＦ社製）） １００質量部
光重合開始剤（ＩＲＧＡＣＵＲＥＯＸＥ０２（ＢＡＳＦ社製）） ５質量部
界面活性剤（メガファックＦ−７８０Ｆ（ＤＩＣ社製）） １質量部
溶媒（２−ブタノン（関東化学社製）） ５４０質量部

（光学異方層用塗工液ＬＣ−２の調製）
下記の組成物を調製し、光学異方層用塗工液ＬＣ−２として用いた。
光学異方層用塗工液ＬＣ−２
重合性液晶モノマー（ＲＭ−２５７（ＭＥＲＣＫ社製）） ６０質量部
重合性液晶モノマー（ＬＣ−２４２（ＢＡＳＦ社製）） ４０質量部
光重合開始剤（ＩＲＧＡＣＵＲＥＯＸＥ０２（ＢＡＳＦ社製）） ５質量部
界面活性剤（メガファックＦ−７８０Ｆ（ＤＩＣ社製）） １質量部
溶媒（２−ブタノン（関東化学社製）） ５１０質量部
溶媒（シクロヘキサノン（関東化学社製）） ３０質量部

（光学異方層用塗工液ＬＣ−３の調製）
下記の組成物を調製し、光学異方層用塗工液ＬＣ−３として用いた。化合物Ｌ−２はＴｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔ．誌、第４３巻、６７９３頁（２００２）に記載の方法準じて製造した。
光学異方層用塗工液ＬＣ−３
重合性液晶モノマー（化合物Ｌ−１） ６０質量部
重合性液晶モノマー（ＲＭ−２５７（ＭＥＲＣＫ社製）） ４０質量部
光重合開始剤（ＩＲＧＡＣＵＲＥ８１９（ＢＡＳＦ社製）） ５質量部
界面活性剤（化合物Ｌ−２） １質量部
溶媒（２−ブタノン（関東化学社製）） ５１０質量部
溶媒（シクロヘキサノン（関東化学社製）） ３０質量部

（実施例１）
＜ハードコート層Ｈ１の形成＞
仮支持体としての支持体Ｓ１上に、＃１０のワイヤーバーを用いて、ハードコート層用塗工液ＨＣ−１を塗工し、９０℃２分間乾燥した後、酸素濃度１．０％以下の窒素雰囲気下にて１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス社製）を用いて、照射量１００ｍＪ／ｃｍ²の光量でＵＶ照射して、厚さ５．２μｍのハードコート層Ｈ１を形成した。

＜配向層Ａ１の形成＞
ハードコート層Ｈ１上に、＃８のワイヤーバーを用いて、配向層用塗工液ＡＬ−１を塗工し、６０℃１分間、さらに９０℃２分間乾燥して厚さ０．５μｍの配向層Ａ１を形成した。

＜光学異方層Ｌ１の形成＞
配向層Ａ１をラビング処理した後、＃４ワイヤーバーを用いて光学異方層用塗工液ＬＣ−１を塗工、膜面温度８０℃で２分間乾燥して液晶相状態とし、酸素濃度１．０％以下の窒素雰囲気下にて１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス社製）を用いて、照射量１００ｍＪ／ｃｍ²の光量でＵＶ照射して、その配向状態を固定化し、厚さ０．８μｍの光学異方層Ｌ１を形成した。ここで、塗工方向は、支持体の遅相軸方向であり、ラビングの方向は、塗工方向に対して４５°とした。

＜粘着層Ｄ１の形成＞
粘着フィルムＡＤ１の一方の剥離ＰＥＴを剥離して、粘着層Ｄ１を光学異方層Ｌ１上に、ローラーを使用して貼合し、他方の剥離ＰＥＴを剥離して、実施例１の光学異方性ハードコート転写フィルムを得た。

（実施例２）
実施例１において、＃４ワイヤーバーを用いて光学異方層Ｌ１を形成した代わりに、＃０．７ワイヤーバーを用いて、厚さ０．１μｍの光学異方層Ｌ２を形成した以外は、実施例１と同様の方法で実施例２の光学異方性ハードコート転写フィルムを作製した。

（実施例３）
実施例１において、＃４ワイヤーバーを用いて光学異方層Ｌ１を形成した代わりに、＃１ワイヤーバーを用いて、厚さ０．２μｍの光学異方層Ｌ３を形成した以外は、実施例１と同様の方法で実施例３の光学異方性ハードコート転写フィルムを作製した。

（実施例４）
実施例１において、＃４ワイヤーバーを用いて光学異方層Ｌ１を形成した代わりに、＃２ワイヤーバーを用いて、厚さ０．２μｍの光学異方層Ｌ４を形成した以外は、実施例１と同様の方法で実施例４の光学異方性ハードコート転写フィルムを作製した。

（実施例５）
実施例１において、＃４ワイヤーバーを用いて光学異方層Ｌ１を形成した代わりに、＃６ワイヤーバーを用いて、厚さ１．２μｍの光学異方層Ｌ５を形成した以外は、実施例１と同様の方法で実施例５の光学異方性ハードコート転写フィルムを作製した。

（実施例６）
実施例１において、＃４ワイヤーバーを用いて光学異方層Ｌ１を形成した代わりに、＃７ワイヤーバーを用いて、厚さ１．４μｍの光学異方層Ｌ６を形成した以外は、実施例１と同様の方法で実施例６の光学異方性ハードコート転写フィルムを作製した。

（実施例７）
実施例１において、＃４ワイヤーバーを用いて光学異方層Ｌ１を形成した代わりに、＃８ワイヤーバーを用いて、厚さ１．６μｍの光学異方層Ｌ７を形成した以外は、実施例１と同様の方法で実施例７の光学異方性ハードコート転写フィルムを作製した。

（実施例８）
実施例１において、ハードコート層Ｈ１を形成する代わりに、以下の方法でハードコート層Ｈ２を形成した以外は、実施例１と同様の方法で実施例８の光学異方性ハードコート転写フィルムを作製した。

＜ハードコート層Ｈ２の形成＞
仮支持体としての支持体Ｓ１上を、コロナ処理をした後、＃４のワイヤーバーを用いて、ハードコート層用塗工液ＨＣ−２を塗工し、９０℃２分間乾燥した後、１５０℃にて２分間乾燥して、厚さ１．０μｍのハードコート層Ｈ２を形成した。

（実施例９）
実施例１において、配向層用塗工液ＡＬ−１を用いて配向層Ａ１を形成する代わりに、配向層用塗工液ＡＬ−２を用いて配向層Ａ２を形成した以外は、実施例１と同様の方法で実施例９の光学異方性ハードコート転写フィルムを作製した。

（実施例１０）
実施例１において、光学異方層用塗工液ＬＣ−１を用いて光学異方層Ｌ１を形成する代わりに、光学異方層用塗工液ＬＣ−２を用いて光学異方層Ｌ８を形成した以外は、実施例１と同様の方法で実施例１０の光学異方性ハードコート転写フィルムを作製した。

（実施例１１）
実施例１において、光学異方層用塗工液ＬＣ−１を用いて光学異方層Ｌ１を形成する代わりに、光学異方層用塗工液ＬＣ−３を用いて光学異方層Ｌ９を形成した以外は、実施例１と同様の方法で実施例１１の光学異方性ハードコート転写フィルムを作製した。

（実施例１２）
実施例１において、光学異方層Ｌ１の形成後、粘着層Ｄ１の形成前に、光学異方層Ｌ１上に実施例８と同様の方法でハードコート層Ｈ２を形成した以外は、実施例１と同様の方法で実施例１２の光学異方性ハードコート転写フィルムを作製した。

（実施例１３）
実施例１において、光学異方層Ｌ１の形成後、粘着層Ｄ１の形成前に、光学異方層Ｌ１上に実施例３と同様の方法で光学異方層Ｌ３を形成した以外は、実施例１と同様の方法で実施例１３の光学異方性ハードコート転写フィルムを作製した。

（実施例１４）
実施例１において、配向層Ａ１を形成せずに、ハードコート層Ｈ１表面をラビング処理したこと以外は、実施例１と同様の方法で実施例１４の光学異方性ハードコート転写フィルムを作製した。

（実施例１５）
仮支持体としての支持体Ｓ１上をラビング処理した後、光学異方層Ｌ１、ハードコート層Ｈ１、粘着層Ｄ１を実施例１と同様の方法でこの順に形成して、実施例１５の光学異方性ハードコート転写フィルムを作製した。

（実施例１６）
実施例１において、仮支持体としての支持体Ｓ１を支持体Ｓ２に代えたこと以外は、実施例１と同様の方法で実施例１６の光学異方性ハードコート転写フィルムを作製した。

（実施例１７）
実施例１において、仮支持体としての支持体Ｓ１を支持体Ｓ３に代えたこと以外は、実施例１と同様の方法で実施例１７の光学異方性ハードコート転写フィルムを作製した。

（実施例１８）
実施例１において、仮支持体としての支持体Ｓ１を支持体Ｓ４に代えたこと以外は、実施例１と同様の方法で実施例１８の光学異方性ハードコート転写フィルムを作製した。

（実施例１９）
実施例１８において、仮支持体としての支持体Ｓ４上に配向層Ａ１、光学異方層Ｌ１、ハードコート層Ｈ１を実施例１と同様の方法でこの順に形成した以外は実施例１８と同様にして、実施例１９の光学異方性ハードコート転写フィルムを作製した。

（比較例１）
仮支持体としての支持体Ｓ１上をラビング処理した後、光学異方層Ｌ１、粘着層Ｄ１を実施例１と同様の方法でこの順に形成して、比較例１の光学異方性ハードコート転写フィルムを作製した。

（比較例２）
仮支持体としての支持体Ｓ１上に、ハードコート層Ｈ１、粘着層Ｄ１を実施例１と同様の方法でこの順に形成して、比較例２の光学異方性ハードコート転写フィルムを作製した。

＜光学異方性ハードコート転写フィルム評価用サンプルの作製＞
実施例１〜１９および比較例１〜２の転写フィルムの粘着層Ｄ１の転写フィルムの光学異方層Ｌ１とガラス基板Ｇ１とを、ローラーを使用して貼合し、支持体Ｓ１〜Ｓ４のいずれかを剥離した。気泡の発生を防止するため、０．５気圧、４０℃の環境下で２０分間加熱し、オートクレーブ処理を施すことで、実施例１〜１９および比較例１〜２の光学異方性ハードコート転写フィルム評価用サンプルを作製した。

＜タッチパネルの作製＞
タッチセンサーフィルムＴ１の一方の面に、実施例１〜１９および比較例１〜２の光学異方性ハードコート転写フィルムの粘着層Ｄ１を、ローラーを使用して貼合し、支持体Ｓ１〜Ｓ４のいずれかを剥離した。このとき、タッチセンサーフィルムの遅相軸と光学異方層の遅相軸のなす角度が４５°になるようにした。次に、粘着フィルムＡＤ１の一方の剥離ＰＥＴを剥離して、粘着層Ｄ１（第１の粘着層）をタッチセンサーフィルムＴ１のもう一方の面上に、ローラーを使用して貼合した。続いて、他方の剥離ＰＥＴを剥離し、ガラス基板Ｇ１を、ローラーを使用して貼合し、その後、気泡の発生を防止するため、０．５気圧、４０℃の環境下で２０分間加熱し、オートクレーブ処理を施すことで、実施例１〜１９および比較例１〜２のタッチパネルを作製した。

（実施例２０）
＜タッチパネルの作製＞
実施例１において、タッチセンサーフィルムＴ１の代わりに、タッチセンサーフィルムＴ２を用いた以外は、実施例１と同様の方法で、実施例２０のタッチパネルを作製した。

（実施例２１）
＜タッチパネルの作製＞
実施例１において、タッチセンサーフィルムＴ１の代わりに、タッチセンサーフィルムＴ３を用いた以外は、実施例１と同様の方法で、実施例２１のタッチパネルを作製した。

（実施例２２）
＜タッチパネルの作製＞
実施例１において、タッチセンサーフィルムＴ１の代わりに、タッチセンサーフィルムＴ４を用いた以外は、実施例１と同様の方法で、実施例２２のタッチパネルを作製した。

（実施例２３）
＜タッチパネルの作製＞
実施例１において、タッチセンサーフィルムＴ１の代わりに、タッチセンサーフィルムＴ５を用いた以外は、実施例１と同様の方法で、実施例２３のタッチパネルを作製した。

（比較例３）
＜光学異方性ハードコート転写フィルム評価用サンプルの作製＞
比較例１の光学異方性ハードコート転写フィルム評価用サンプル作製中の支持体Ｓ１剥離面に対して、さらに、比較例２の光学異方性ハードコート転写フィルムの粘着層Ｄ１を貼合した後、支持体Ｓ１を剥離する以外は、比較例１と同様の方法で、比較例３のハードコート転写フィルム評価用サンプルを作製した。比較例３は、ハードコート層Ｈ１と光学異方層Ｈ１との間に粘着層Ｄ１を有する態様である。

＜比較例３のタッチパネルの作製＞
比較例１の光学異方性ハードコート転写フィルム評価用サンプル作製中の支持体Ｓ１剥離面に対して、さらに、比較例２の光学異方性ハードコート転写フィルムの粘着層Ｄ１を貼合した後、支持体Ｓ１を剥離する以外は、比較例１と同様の方法で、比較例３のタッチパネルを作製した。

（比較例４）
＜光学異方性ハードコート転写フィルム評価用サンプルの作製＞
比較例２の光学異方性ハードコート転写フィルム評価用サンプル作製中の支持体Ｓ１剥離面に対して、さらに、比較例１の光学異方性ハードコート転写フィルムの粘着層Ｄ１を貼合した後、支持体Ｓ１を剥離する以外は、比較例２と同様の方法で、比較例４のハードコート転写フィルム評価用サンプルを作製した。比較例４は、ハードコート層Ｈ１と光学異方層Ｈ１との間に粘着層Ｄ１を有する態様である。

＜タッチパネルの作製＞
比較例２の光学異方性ハードコート転写フィルム評価用サンプル作製中の支持体Ｓ１剥離面に対して、さらに、比較例１の光学異方性ハードコート転写フィルムの粘着層Ｄ１を貼合した後、支持体Ｓ１を剥離する以外は、比較例２と同様の方法で、比較例４のタッチパネルを作製した。

（比較例５）
＜タッチパネルの作製＞
タッチセンサーフィルムＴ１の代わりに、タッチセンサーフィルムＴ６を用いた以外は、実施例１と同様の方法で、比較例５のタッチパネルを作製した。

＜表示装置の作製＞
ＩＰＳ型液晶テレビ４２ＬＳ５６００（ＬＧ電子社製）の上偏光板上に、実施例１〜２３および比較例１〜５のタッチパネルをガラス基板が上側になるよう配置して、擬似的なタッチパネルを有する実施例１の表示装置を作製した。尚、タッチパネルの遅相軸と液晶モニターの観測者側の偏光板の吸収軸とのなす角度が４５°となるように配置した。

＜評価＞
実施例１〜１９および比較例１〜４の光学異方性ハードコート転写フィルム評価用サンプルのＲｅの測定、厚みの測定、硬度の評価、および光学異方層の割れの評価を以下のように評価した。また、実施例１〜２３および比較例１〜５の表示装置の虹ムラ、ブラックアウト、ムラ、およびボケを以下のように評価した。

＜＜Ｒｅの測定＞＞
位相差測定装置ＫＯＢＲＡ−ＷＲ（王子計測機器社製）を用いて、実施例１〜１９および比較例１〜４の光学異方性ハードコート転写フィルム評価用サンプルの波長５５０ｎｍにおける面内リタデーションＲｅを測定した。

＜＜厚さの評価＞＞
実施例１〜１９および比較例１〜４の光学異方性ハードコート転写フィルム評価用サンプルの厚さからガラス基板Ｇ１の厚さ５５０μｍを差し引いた厚さｄを測定し、さらに以下の基準で評価した。すなわち、厚さｄは、光学異方性ハードコート転写フィルムの仮支持体を除いた厚みを意味する。薄手化のニーズに答えるためには、厚さｄは４０μｍ未満であることが好ましい。
Ａ：厚さｄが４０μｍ未満
Ｂ：厚さｄが４０μｍ以上

＜＜硬度の評価＞＞
ＪＩＳ Ｋ５６００−５−４に基づき、往復磨耗試験機トライボギアＴＹＰＥ：３０Ｓ（新東科学社製）を用いて、実施例１〜１９および比較例１〜４の光学異方性ハードコート転写フィルム評価用サンプル表面の鉛筆硬度を測定し、さらに以下の基準で評価した。タッチパネル用途として求められる鉛筆硬度は、「Ｈ」以上であることが好ましく、「２Ｈ」以上であることがより好ましい。
Ａ：鉛筆硬度が２Ｈ以上
Ｂ：鉛筆硬度がＨ
Ｃ：鉛筆硬度がＨ未満

＜＜光学異方層の割れの評価＞＞
実施例１〜１９および比較例１〜４の光学異方性ハードコート転写フィルム評価用サンプルの硬度の評価を実施した後、目視もしくは顕微鏡観察して、光学異方層のヒビ割れを以下の基準で評価した。
Ａ：光学異方層のヒビ割れが全く確認できない。
Ｂ：光学異方層のヒビ割れが目視では確認できないが、顕微鏡観察すると確認できる。
Ｃ：光学異方層のヒビ割れが確認できる。

＜＜虹ムラの評価＞＞
実施例１〜２３および比較例１〜５の表示装置上に、偏光サングラスを模擬した直線偏光板ＨＬＣ２−５６１８（サンリッツ社製）（上偏光板）を設置し、目視観察による虹ムラの評価を行った。ここで、上記直線偏光板の透過軸が、表示装置中の上偏光板の透過軸のなす角が４５°になるように直線偏光板を配置した。
虹ムラの具体的な観察方法は、図１１に示すように、タッチパネル平面と観察者の視線とのなす角を極角θ１、液晶ディスプレイの上偏光板の吸収軸に対して直交した線と観察者の視線とのなす角を方位角θ２に対し、（θ１、θ２）＝（４０°、０°）の位置で観察者が虹ムラを観察し、以下の基準で評価した。
Ａ：虹ムラも、画像ムラも確認できない。
Ｂ：虹ムラは確認できないが、画像ムラが確認できる。
Ｃ：薄い虹ムラが確認できる。
Ｄ：強い虹ムラが確認できる。

＜＜ブラックアウトの評価＞＞
実施例１〜２３および比較例１〜５の表示装置上に、偏光サングラスを模擬した直線偏光板ＨＬＣ２ −５６１８（サンリッツ社製）（上偏光板）を設置し、目視観察によるＢＯの評価を行った。ＢＯの具体的な観察方法は、図８の極角θ１、方位角θ２に対し、（θ１、θ２）＝（４０°、０°）の位置で観察者の視点を固定しながら、上記直線偏光板ＨＬＣ２ −５６１８の方位角を３６０°回転させた際の、コントラスト変化を以下の基準で観察した。
Ａ：常に画像は見える上、コントラスト変化もほとんどない。
Ｂ：常に画像は見えるが、コントラスト変化は大きい。
Ｃ：ある角度で、画像が暗くなるが、ブラックアウトはしない。
Ｄ：ある角度で、画像が真っ黒で見えなくなり、ブラックアウトしてしまう。

＜＜ボケの評価＞＞
実施例１〜２３および比較例１〜５の表示装置を目視観察して、画像ボケを以下の基準で観察した。
Ａ：画像ボケがほとんどなく、表示装置として問題ないレベル。
Ｂ：画像ボケが少しあるが、表示装置として問題ないレベル。
Ｃ：画像ボケが大きく、表示装置として問題あるレベル。

上記表から、本発明の光学異方性ハードコート転写フィルムは、硬度が高いことから耐傷性に優れ、光学異方層が割れにくいことがわかる。また、本発明の光学異方性ハードコート転写フィルムの貼合回数は、比較例３、４に比べて１回少なく、かつ、タッチパネルディスプレイの厚さを薄くするというニーズに応えることが可能である。さらに、比較例３、４は、光学異方層の割れが生じ易いという問題もある。一方、比較例１では、ハードコート層を有さないため、硬度が実施例よりも著しく劣ることが分かる。
また、本発明の光学異方性ハードコート転写フィルムを用いて作製した表示装置は、虹ムラ、ブラックアウト、ムラおよびボケが改善されていることが分かる。一方、比較例２は光学異方層を有さないため、ブラックアウトが実施例よりも著しく劣ることが分かる。比較例５は、タッチセンサーフィルムＴ５のＲｅ４０が１１５０ｎｍであり、Ｒｅ４０が０〜１０００ｎｍの範囲外となっているため、虹ムラが実施例よりも著しく劣ることが分かる。

１ タッチパネル
２ 画像表示パネル
３，３００，タッチセンサー
４ 画像表示セル
５ 偏光板
６ 有機ＥＬセル
７ １／４波長板
８ 円偏向板
９ 有機ＥＬパネル
１２ 支持体
１４ 第１検出電極
１６ 第１引き出し配線
１８ 第２検出電極
２０ 第２引き出し配線
３０ 導電性細線
３２ 格子
４２ 第２粘着層
５０ 保護基板
２００ 光学異方性ハードコート転写フィルム
２１０ 積層体
１００ 仮支持体
１０１ ハードコート層
１０２ 光学異方層
１０３ 配向層
１０４ 第１の粘着層

Claims (8)

1. 少なくとも１層のハードコート層、少なくとも１層の光学異方層、少なくとも１つの配向層、粘着層およびタッチセンサーを有し、少なくとも１つの配向層が前記光学異方性層の前記タッチセンサー側と反対側にあり、前記配向層と前記光学異方層が互いに隣接して積層している、前記タッチセンサーの波長５５０ｎｍにおける４０度方向のリタデーションＲｅ４０が、０〜１０００ｎｍであるタッチパネル；
   ただし、リタデーションＲｅ４０は、面内の遅相軸を回転軸として面内の法線方向に対して±４０度タッチセンサーを傾斜させた時のリタデーションＲｅの平均値を表し、前記光学異方層の面内遅相軸方向の屈折率をｎｘ、面内進相軸方向の屈折率をｎｙ、厚み方向の屈折率をｎｚ、膜厚をｄとすると、面内方向のリタデーションＲｅ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄで表される。
2. 前記光学異方層の波長５５０ｎｍにおける面内方向のリタデーションＲｅが、４０〜２４０ｎｍである、請求項１に記載のタッチパネル；
   ただし、前記光学異方層の面内遅相軸方向の屈折率をｎｘ、面内進相軸方向の屈折率をｎｙ、厚み方向の屈折率をｎｚ、膜厚をｄとすると、面内方向のリタデーションＲｅ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄで表される。
3. 前記タッチセンサー、前記光学異方層および前記ハードコート層がこの順に積層している、請求項１または２に記載のタッチパネル。
4. 前記ハードコート層が最表面層である、請求項１〜３のいずれか１項に記載のタッチパネル。
5. 前記タッチセンサー、粘着層、前記光学異方層、前記配向層および前記ハードコート層がこの順で互いに隣接して積層している、請求項１〜４の何れか１項に記載のタッチパネル。
6. 前記タッチパネル上に、仮支持体の一方の表面上に、少なくとも１層のハードコート層と少なくとも１層の光学異方層とを有する、光学異方性ハードコート転写フィルムを転写することによって製造される、請求項１〜５のいずれか１項に記載のタッチパネル。
7. 仮支持体の一方の表面上に、少なくとも１層のハードコート層と少なくとも１層の光学異方層とを有する、光学異方性ハードコート転写フィルムの仮支持体側と反対側の最表面に粘着層を形成する工程と、前記粘着層を介して前記ハードコート転写フィルムをタッチセンサーに転写する工程と、仮支持体を剥離する工程とを含む、タッチパネルの製造方法。
8. 仮支持体の一方の表面上に、少なくとも１層のハードコート層と少なくとも１層の光学異方層とを有し、前記仮支持体側と反対側の最表面に粘着層を有する、光学異方性ハードコート転写フィルムをタッチセンサーに転写する工程と、仮支持体を剥離する工程とを含む、タッチパネルの製造方法。

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