JP2018072995A - 透明導電性フィルム及びタッチ機能付き表示装置 - Google Patents

Abstract

【課題】ハンドリング性を有しつつ、ディスプレイモジュール内部に組み込まれた際も低反射特性を損なわない透明導電性フィルム及びこれを用いるタッチ機能付き表示装置を提供する。【解決手段】透明導電性フィルム１０は、正面位相差が２００ｎｍ以下の透明フィルム基材１と、基材１の第１主面側及び第２主面側の少なくとも一方に設けられたアンチブロッキング層２と、層２の基材１側とは反対の面側及び基材１の層２側とは反対の面側の少なくとも一方に設けられた透明導電層５とを備える。層２は、バインダー樹脂及び粒子を含む樹脂組成物の硬化物層であり、層２は、基材１側とは反対側の表面に平坦部２ａと粒子に起因する***部２ｂとを有する。粒子の最頻粒子径は、層２の平坦部の厚みより大きく、粒子の屈折率ｎｐとバインダー樹脂の屈折率ｎｂとが式｜ｎｐ−ｎｂ｜＜０．１４を満たす。【選択図】図１

Description

本発明は、透明導電性フィルム及びタッチ機能付き表示装置に関する。

ディスプレイ表示特性の改善及びデバイスの薄型化などを目的として、近年、タッチモジュール機能とディスプレイ表示機能の統合が検討されている。例えば、ディスプレイモジュールの一部の部材の内部にタッチセンサーを組み込む手法や、円偏光板等の表示装置用光学機能フィルムの一部に透明導電膜を付与し、タッチセンサーとして活用する手法が検討されている。円偏光板の内部に透明導電センサーを組み込む場合には等方性材料を基材として用い、また円偏光板の一部に導電膜を付与する場合には、λ／４位相差板を基材として用いる手法が検討されている。

透明フィルムを加工するにあたっては、高い歩留りを確保するために十分なハンドリング性（フィルム同士の貼り付き防止性やフィルムのコシ（強度）等）が求められる。一般的にハンドリング性を高めるための一つの方法として、フィルム表面の粗度を高め、滑り性を高めることが考えられる。例えば、λ／４位相差フィルム上に透明導電層が設けられ、反対側に加工時の傷付きを防止する光散乱層を設ける技術が提案されている（特許文献１）。

特許第４０５９８８３号

しかしながら、円偏光板の内側にタッチセンサーが組み込まれる構成や円偏光板の一部にタッチセンサー用透明導電膜が付与される構成においては、円偏光による反射防止機能に極力影響を与えないことが求められる。上記技術ではアンチブロッキング機能層としての光散乱層はあったものの、表面粗度を高めることで光の散乱を増大して偏光散乱要因となっており、反射防止機能が低下することが問題となっている。このようにアンチブロッキング機能の付与と反射防止機能の確保とは互いにトレードオフの関係にあり、両者を十分なレベルで達成する透明導電性フィルムが求められている。

上記観点に鑑み、本発明は、十分なハンドリング性を有しつつ、ディスプレイモジュール内部に組み込まれた際も低反射特性を損なわない透明導電性フィルム及びこれを用いるタッチ機能付き表示装置を提供することを目的とする。

本発明者らは、前記課題を解決すべく鋭意検討した結果、下記構成を採用することにより上記目的を達成し得ることを見出し本発明にいたった。

本発明は、正面位相差が２００ｎｍ以下の透明フィルム基材と、
前記透明フィルム基材の第１主面側及び第２主面側の少なくとも一方に設けられたアンチブロッキング層と、
前記アンチブロッキング層の前記透明フィルム基材側とは反対の面側及び前記透明フィルム基材の前記アンチブロッキング層側とは反対の面側の少なくとも一方に設けられた透明導電層と
を備え、
前記アンチブロッキング層は、バインダー樹脂及び粒子を含む樹脂組成物の硬化物層であり、
前記アンチブロッキング層は、前記透明フィルム基材側とは反対側の表面に平坦部と前記粒子に起因する***部とを有し、
前記粒子の最頻粒子径は、前記アンチブロッキング層の平坦部の厚みより大きく、
前記粒子の屈折率ｎｐと前記バインダー樹脂の屈折率ｎｂとが下記の関係を満たす透明導電性フィルムに関する。
｜ｎｐ−ｎｂ｜＜０．１４

当該透明導電性フィルムでは、アンチブロッキング層が粒子に起因する***部を有しており、この粒子の最頻粒子径をアンチブロッキング層の平坦部より大きくしているので、滑り性や耐ブロッキング性に優れ、良好なハンドリング性を発揮することができる。さらに、粒子の屈折率ｎｐとアンチブロッキング層を形成するバインダー樹脂の屈折率ｎｂとの差の絶対値を小さくしているので、両者間での屈折率差による光散乱や偏光解消を防止し、これによりディスプレイモジュール内部に組み込まれた際にも当該表示装置に低反射特性を含む優れた光学特性を付与することができる。

前記アンチブロッキング層の前記透明フィルム基材側とは反対側の表面の最大粗さＲｚが０．３μｍ以上２．５μｍ以下であることが好ましい。これによりハンドリング性と低反射特性とを高いレベルで発揮することができる。

前記アンチブロッキング層の前記***部の分布密度が１００個／ｍｍ^２以上１２００個／ｍｍ^２以下であることが好ましい。これにより高いハンドリング性と優れた低反射特性とを発揮することができる。

前記アンチブロッキング層のヘイズが０．７％以上３％以下であることが好ましい。当該構成により、透明導電性フィルム全体でのヘイズをも低減することができ、ディスプレイモジュールの光学特性を良好なものとすることができる。

前記透明導電層は、前記アンチブロッキング層の前記透明フィルム基材側とは反対の面側に設けられており、前記透明導電層と前記アンチブロッキング層との間に少なくとも１層のコーティング層が形成されていてもよい。また、前記透明導電層は、前記透明フィルム基材の前記アンチブロッキング層側とは反対の面側に設けられており、前記透明導電層と前記透明フィルム基材との間に少なくとも１層のコーティング層が形成されていてもよい。いずれの構成であってもコーティング層に基づくさらなる機能を好適に付与することができる。

一実施形態において、当該透明導電性フィルムは、偏光板と表示素子との間に配置される。当該透明導電性フィルムは、円偏光による反射防止機能への影響を低減しているので、高機能ディスプレイモジュールへの組み込みも容易に促進することができる。

本発明はまた、偏光板と、
表示素子と、
前記偏光板と前記表示素子との間に配置された当該透明導電性フィルムと
を備えるタッチ機能付き表示装置に関する。

当該透明導電性フィルムを備えるタッチ機能付き表示装置は、加工時のハンドリング性とともに優れた低反射特性を発揮することができる。

前記透明導電性フィルムの前記アンチブロッキング層形成面側と前記偏光板又は前記表示素子との間に固定層が設けられており、前記固定層の屈折率ｎａ、前記粒子の屈折率ｎｐ及び前記バインダー樹脂の屈折率ｎｂのうちの最大値と最小値との差の絶対値が０．１４以下であることが好ましい。このような構成により、ディスプレイモジュール全体での低反射特性を高めることができ、さらなる高機能化を図ることができる。

当該タッチ機能付き表示装置において、前記固定層は、粘着剤層又は接着剤層であってもよい。これらの構成により光学設計が容易となる。

本発明の一実施形態に係る透明導電性フィルムの模式的断面図である。 本発明の一実施形態に係るタッチ機能付き表示装置の模式的断面図である。 実施例１で測定した反射スペクトルである。 実施例２で測定した反射スペクトルである。 実施例３で測定した反射スペクトルである。 実施例４で測定した反射スペクトルである。 比較例２で測定した反射スペクトルである。 比較例３で測定した反射スペクトルである。 比較例４で測定した反射スペクトルである。 比較例５で測定した反射スペクトルである。 比較例６で測定した反射スペクトルである。 比較例７で測定した反射スペクトルである。 比較例８で測定した反射スペクトルである。

本発明の一実施形態に係る透明導電性フィルム及びこれを備えるタッチ機能付き表示装置について、図面を参照しながら以下に説明する。ただし、図の一部又は全部において、説明に不要な部分は省略し、また説明を容易にするために拡大または縮小等して図示した部分がある。上下等の位置関係を示す用語は、単に説明を容易にするために用いられており、特段の言及がない限り、本発明の構成を限定する意図は一切ない。

＜透明導電性フィルム＞
図１は、本発明の一実施形態に係る透明導電性フィルムを模式的断面図である。透明導電性フィルム１０において、透明フィルム基材１の一方の主面である第１主面（図１中、透明フィルム基材１の上面）側には、透明導電層５が形成されており、透明フィルム基材１の他方の主面である第２主面（図１中、透明フィルム基材１の下面）側に、粒子Ｐを含むアンチブロッキング層２が形成されている。さらに透明フィルム基材１と透明導電層５との間には、透明フィルム基材１の側から順にハードコート層３及び屈折率調整層４が形成されている。

（透明フィルム基材）
透明フィルム基材１としては、正面位相差が２００ｎｍ以下で透明性を有する各種のプラスチックフィルムが用いられる。例えば、その材料として、ポリエステル系樹脂、アセテート系樹脂、ポリエーテルスルホン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリノルボルネン系樹脂などのポリシクロオレフィン系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ塩化ビニリデン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリアリレート系樹脂、ポリフェニレンサルファイド系樹脂等が挙げられる。これらの中で特に好ましいのは、ポリシクロオレフィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリオレフィン系樹脂である。

ポリシクロオレフィン系樹脂により形成されるポリシクロオレフィン系樹脂フィルムは、高透明性、低位相差及び低吸水性等の特性を有する。ポリシクロオレフィン系樹脂フィルムの採用により透明導電性フィルム１０の光学特性の制御が可能となる。

ポリシクロオレフィン系樹脂フィルムを形成するポリシクロオレフィン系樹脂としては、環状オレフィン（シクロオレフィン）からなるモノマーのユニットを有する樹脂であれば特に限定されるものではない。ポリシクロオレフィン系樹脂フィルムに用いられるポリシクロオレフィン系樹脂としては、シクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）又はシクロオレフィンコポリマー（ＣＯＣ）のいずれであってもよい。シクロオレフィンコポリマーとは、環状オレフィンとエチレン等のオレフィンとの共重合体である非結晶性の環状オレフィン系樹脂のことをいう。

上記環状オレフィンとしては、多環式の環状オレフィンと単環式の環状オレフィンとが存在している。かかる多環式の環状オレフィンとしては、ノルボルネン、メチルノルボルネン、ジメチルノルボルネン、エチルノルボルネン、エチリデンノルボルネン、ブチルノルボルネン、ジシクロペンタジエン、ジヒドロジシクロペンタジエン、メチルジシクロペンタジエン、ジメチルジシクロペンタジエン、テトラシクロドデセン、メチルテトラシクロドデセン、ジメチルシクロテトラドデセン、トリシクロペンタジエン、テトラシクロペンタジエンなどが挙げられる。また、単環式の環状オレフィンとしては、シクロブテン、シクロペンテン、シクロオクテン、シクロオクタジエン、シクロオクタトリエン、シクロドデカトリエンなどが挙げられる。

上記ポリシクロオレフィン系樹脂からなる光学フィルムは市販品としても入手可能であり、例えば、Ｔｉｃｏｎａ社製のＴｏｐａｓ、ＪＳＲ社製のアートン、日本ゼオン社製のＺＥＯＮＯＲ、ＺＥＯＮＥＸ、三井化学社製のアペル等が挙げられる。

透明フィルム基材１の厚みは、２〜２００μｍの範囲内であることが好ましく、２０〜１８０μｍの範囲内であることがより好ましい。透明フィルム基材１の厚みが２μｍ未満であると、透明フィルム基材１の機械的強度が不足し、フィルム基材をロール状にして透明導電層５を連続的に形成する操作が困難になる場合がある。一方、厚みが２００μｍを超えると、透明導電層５の耐擦傷性やタッチパネル用としての打点特性の向上が図れない場合がある。

透明フィルム基材１には、表面に予めスパッタリング、コロナ放電、火炎、紫外線照射、電子線照射、化成、酸化などのエッチング処理や下塗り処理を施して、フィルム基材上に形成されるハードコート層や透明導電層等との密着性を向上させるようにしてもよい。また、ハードコート層や透明導電層を形成する前に、必要に応じて溶剤洗浄や超音波洗浄などにより、フィルム基材表面を除塵、清浄化してもよい。

透明フィルム基材１として、λ／４位相差板を用いることができる。このような構成により、透明導電性フィルム１０とともに別途λ／４位相差板を設ける必要がなく、ディスプレイ表示特性の改善やデバイスの薄型化を図ることができる。

λ／４位相差板としては、円偏光と直線偏光とを相互に変換するものであれば特に限定されない。本願明細書及び特許請求の範囲において、「円偏光」とは、完全な円偏光のみならず、完全な円偏光に近い、すなわち楕円率が１に近い楕円偏光をも含み得る。このような楕円偏光としては、例えば、直線偏光が、その振動方向に対して遅相軸が４５°の角度をなし、正面レターデーションが１００〜１８０ｎｍである位相差板を透過した場合に得られる楕円偏光を含むものである。なお、本願明細書及び特許請求の範囲においては、特に断りのない限り、偏光状態やレターデーション等はいずれも、画面を正面方向、すなわち、画面の法線方向から観察した場合の、波長５５０ｎｍでの偏光状態、レターデーション等をさす。また、円偏光及び楕円偏光は、右回りであるか左回りであるかを問わない。さらに、偏光状態としては、必ずしも完全偏光であることを要さず、一部偏光していない状態を含む部分偏光であってもよい。

λ／４位相差板の正面位相差は２００ｎｍ以下であればよいものの、好ましくは１００〜１８０ｎｍであり、より好ましくは１１０〜１７０ｎｍであり、特に好ましくは１２０〜１６０ｎｍである。

λ／４位相差板を構成するポリマーとして、例えば特開２０００−１３７１１６号公報等に開示されている所定の置換度を有するセルロース誘導体、ＷＯ００／２６７０５号国際公開パンフレット等に開示されている共重合ポリカーボネート、特開２００６−１７１２３５号公報、特開２００６−８９６９６号公報等に開示されているポリビニルアセタール系ポリマー等が好適に用いられる。また、特開２００４−３２５５２３号公報に開示されているようなレターデーション調整剤を用いることもできる。

また、λ／４位相差板として、２枚以上のフィルムが積層された積層位相差板を用いてもよい。例えば、特開平５−２７１１８号公報や、特開平５−２７１１９号公報等に開示されているように、遅相軸のなす角が直交するように積層された積層位相差板や、特開平５−１００１１４号公報、特開平１０−６８８１６号公報、特開平１１−１４９０１５号公報、特開２００６−１７１７１３号公報等に開示されているように、遅相軸が平行でも垂直でもない角をなすように積層した積層位相差板等を好適に用いることができる。

本実施形態において、λ／４位相差板は、波長５５０ｎｍでの円偏光と直線偏光との変換を行うのみならず、可視光の広い帯域、すなわち、波長４００〜８００ｎｍ、中でも特に４５０〜７５０ｎｍの範囲において、円偏光と直線偏光とを互いに変換することが好ましい。

λ／４位相差板は、例えば流延法等のキャスティング法や押出法などの適宜な方式で形成することができる。得られたフィルムに延伸処理を施してもよい。λ／４位相差板の厚さは、一般には２〜２００μｍ、好ましくは２０〜１８０μｍ、さらに好ましくは４０〜２００μｍである。

（アンチブロッキング層）
アンチブロッキング層２は、バインダー樹脂及び粒子を含む樹脂組成物の硬化物層であり、表面に平坦部２ａ及び***部２ｂを有する。***部２ｂは、アンチブロッキング層２に含まれる粒子Ｐに起因して形成されている。本実施形態の透明導電性フィルム１０では、粒子Ｐの最頻粒子径をアンチブロッキング層２の平坦部２ａより大きくしているので、滑り性や耐ブロッキング性に優れ、良好なハンドリング性を発揮することができる。また、平坦部２ａを設けることで、アンチブロッキング層２のヘイズを低減させて透明性をより向上させることができる。

本実施形態では、粒子Ｐの屈折率ｎｐとバインダー樹脂の屈折率ｎｂとが下記の関係を満たす。
｜ｎｐ−ｎｂ｜＜０．１４

光散乱や偏光解消を惹起しやすい***部２ｂを形成する粒子Ｐの屈折率ｎｐと、アンチブロッキング層２のマトリクスを形成するバインダー樹脂の屈折率ｎｂとが上記関係を満たすので、透明導電性フィルムのディスプレイモジュールへの組み込みの際の光学特性への影響を好適に低減することができる。粒子Ｐの屈折率ｎｐとバインダー樹脂の屈折率ｎｂとが下記の関係を満たすことがより好ましい。
｜ｎｐ−ｎｂ｜＜０．１０

アンチブロッキング層２の透明フィルム基材１側とは反対側の表面の最大粗さＲｚは、０．３μｍ以上２．５μｍ以下であることが好ましく、０．３μｍ以上１．５μｍ以下であることがより好ましい。これによりハンドリング性と低反射特性とを高いレベルで発揮することができる。

アンチブロッキング層２の***部２ｂの分布密度は１００個／ｍｍ^２以上１２００個／ｍｍ^２以下であることが好ましく、１００個／ｍｍ^２以上１０００個／ｍｍ^２以下であることがより好ましい。これにより高いハンドリング性と優れた低反射特性とを発揮することができる。

アンチブロッキング層２のヘイズは０．７％以上３％以下であることが好ましく、０．７％以上２．５％以下であることがより好ましい。当該構成により、透明導電性フィルム全体でのヘイズをも低減することができ、ディスプレイモジュールの光学特性を良好なものとすることができる。

アンチブロッキング層２の平坦部２ａの厚みは、特に限定されないものの、２００ｎｍ以上３０μｍ以下であることが好ましく、５００ｎｍ以上１０μｍ以下であることがより好ましく、８００ｎｍ以上５μｍ以下であることがさらに好ましい。アンチブロッキング層の平坦部の厚みが過度に小さいと、透明フィルム基材からのオリゴマー等の低分子量成分の析出を抑止することができず、透明導電性フィルムや、これを用いたタッチパネルの視認性が悪化する傾向がある。一方、アンチブロッキング層の平坦部の厚みが過度に大きいと、透明導電層の結晶化時やタッチパネルの組み立て時の加熱によって、アンチブロッキング層形成面を内側として透明導電性フィルムがカールする傾向がある。そのため、アンチブロッキング層の平坦部の厚みが大きい場合は、耐ブロッキング性や易滑性とは別の問題で、フィルムの取り扱い性に劣る傾向がある。なお、本明細書において、アンチブロッキング層の平坦部の厚みとは、アンチブロッキング層の平坦部における平均厚みを指す。

粒子の最頻粒子径は、最表面層の***部のサイズやアンチブロッキング層２の平坦部２ａの厚みとの関係などを考慮して適宜設定することができ、特に限定されない。なお、透明導電性フィルムに耐ブロッキング性を十分に付与し、かつ光散乱等を十分に抑制するという観点から、粒子の最頻粒子径は５００ｎｍ以上３０μｍ以下であることが好ましく、８００ｎｍ以上２０μｍ以下であることがより好ましく、１μｍ以上１０μｍ以下であることがより好ましい。なお、本明細書において、「最頻粒子径」とは、粒子分布の極大値を示す粒径をいい、フロー式粒子像分析装置（Ｓｙｓｍｅｘ社製、製品名「ＦＰＩＡ−３０００Ｓ」）を用いて、所定条件下（Ｓｈｅａｔｈ液：酢酸エチル、測定モード：ＨＰＦ測定、測定方式：トータルカウント）で測定することによって求められる。測定試料は、粒子を酢酸エチルで１．０重量％に希釈し、超音波洗浄機を用いて均一に分散させたものを用いる。

***部２ｂの高さは、要求される滑り性等を考慮して設定される。***部２ｂ、すなわちアンチブロッキング層２の平坦部２ａから上に突出する部分の高さは、アンチブロッキング層２の平坦部２ａの厚みや粒子Ｐの最頻粒子径等によって制御することができる。***部２ｂの高さは、好ましくは１００ｎｍ以上３μｍ以下であり、より好ましくは２００ｎｍ以上２μｍ以下であり、さらに好ましくは３００ｎｍ以上１．５μｍ以下である。***部２ｂの高さを上記範囲に設定することで、透明導電性フィルム１０の耐ブロッキング性を満足すると同時に、光散乱や偏光解消を十分に抑えることができる。

粒子は多分散粒子及び単分散粒子のいずれでもよいが、***部の付与の容易性や光散乱防止性等を考慮すると単分散粒子が好ましい。単分散粒子の場合は、粒子の粒径と最頻粒子径とが実質的に同一と見なすことができる。

アンチブロッキング層中の粒子の含有量は、樹脂組成物の固形分１００重量部に対して０．０１〜５重量部であることが好ましく、０．０２〜１重量部であることがより好ましく、０．０５〜０．５重量部であることがさらに好ましい。アンチブロッキング層中の粒子の含有量が小さいと、アンチブロッキング層の表面に耐ブロッキング性や易滑性を付与するのに十分な***部が形成され難くなる傾向がある。一方、粒子の含有量が大きすぎると、粒子による光散乱や偏光解消の度合いが高くなり、ディスプレイモジュールに組み込んだ際の低反射特性等の光学特性が低下する傾向がある。また、粒子の含有量が大きすぎると、アンチブロッキング層の形成時（溶液の塗布時）に、スジが発生し、視認性が損なわれたり、透明導電層の電気特性が不均一となったりする場合がある。

（樹脂組成物）
アンチブロッキング層２を形成する樹脂組成物におけるバインダー樹脂としては粒子の分散が可能で、アンチブロッキング層形成後の皮膜として十分な強度を持ち、透明性のあるものを特に制限なく使用できる。用いるバインダー樹脂としては熱硬化型樹脂、熱可塑型樹脂、紫外線硬化型樹脂、電子線硬化型樹脂、二液混合型樹脂などがあげられるが、これらのなかでも紫外線照射による硬化処理にて、簡単な加工操作にて効率よく皮膜を形成することができる紫外線硬化型樹脂が好適である。

紫外線硬化型樹脂としては、ポリエステル系、アクリル系、ウレタン系、アミド系、シリコーン系、エポキシ系等の各種のものがあげられ、紫外線硬化型のモノマー、オリゴマー、ポリマー等が含まれる。好ましく用いられる紫外線硬化型樹脂は、例えば紫外線重合性の官能基を有するもの、なかでも当該官能基を２個以上、特に３〜６個有するアクリル系のモノマーやオリゴマー成分を含むものがあげられる。また、紫外線硬化型樹脂には、紫外線重合開始剤が配合されている。

樹脂組成物には、前記材料に加えて、レベリング剤、チクソトロピー剤、帯電防止剤、可塑剤、界面活性剤、酸化防止剤、硬化触媒、及び紫外線吸収剤等の添加剤を用いることができる。チクソトロピー剤を用いると、微細凹凸形状表面における突出粒子の形成に有利である。チクソトロピー剤としては、０．１μｍ以下のシリカ、マイカ等があげられる。これら添加剤の含有量は、通常、紫外線硬化型樹脂１００重量部に対して、１５重量部以下程度、好ましくは０．０１〜１５重量部、とするのが好適である。

バインダー樹脂の屈折率ｎｂは、粒子Ｐの屈折率やアンチブロッキング層２に要求される光学特性等を考慮して適宜設定される。屈折率ｎｂは、１．４０以上１．８０以下が好ましく、１．４５以上１．７５以下がより好ましい。

（粒子）
アンチブロッキング層２に含有される粒子Ｐとしては、各種金属酸化物、ガラス、プラスチックなどの透明性を有するものを特に制限なく使用することができる。例えばシリカ、アルミナ、チタニア、ジルコニア、酸化カルシウム等の無機系粒子、ポリメチルメタクリレート、ポリスチレン、ポリウレタン、アクリル系樹脂、アクリル−スチレン共重合体、ベンゾグアナミン、メラミン、ポリカーボネート等の各種ポリマーからなる架橋又は未架橋の有機系粒子やシリコーン系粒子などがあげられる。前記粒子は、１種または２種以上を適宜に選択して用いることができるが、有機系粒子が好ましい。有機系粒子としては、屈折率の観点から、アクリル系樹脂が好ましい。

粒子Ｐの屈折率ｎｐは、バインダー樹脂の屈折率やアンチブロッキング層２に要求される光学特性等を考慮して適宜設定される。屈折率ｎｐは、１．４０以上１．８０以下が好ましく、１．４５以上１．７５以下がより好ましい。

（コーティング組成物）
アンチブロッキング層を形成するには、上記樹脂組成物と溶媒とを含むコーティング組成物を用いることが好ましい。

コーティング組成物は、上記のバインダー樹脂及び粒子を含む樹脂組成物と溶媒とを混合することにより調製される。コーティング組成物中の溶媒は、特に限定されるものではなく、用いる樹脂や塗装の下地となる部分の材質及び組成物の塗装方法などを考慮して適時選択される。溶媒の具体例としては、例えば、トルエン、キシレンなどの芳香族系溶媒；メチルエチルケトン、アセトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンなどのケトン系溶媒；ジエチルエーテル、イソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、アニソール、フェネトールなどのエーテル系溶媒；酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸イソプロピル、エチレングリコールジアセテートなどのエステル系溶媒；ジメチルホルムアミド、ジエチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドンなどのアミド系溶媒；メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブなどのセロソルブ系溶媒；メタノール、エタノール、プロパノールなどのアルコール系溶媒；ジクロロメタン、クロロホルムなどのハロゲン系溶媒；などが挙げられる。これらの溶媒を単独で使用してもよく、また２種以上を併用して使用してもよい。これらの溶媒のうち、エステル系溶媒、エーテル系溶媒、アルコール系溶媒及びケトン系溶媒が好ましく使用される。

コーティング組成物の固形分濃度は、１重量％〜７０重量％が好ましく、２重量％〜５０重量％がより好ましく、５重量％〜４０重量％が最も好ましい。固形分濃度が低くなりすぎると、塗布後の乾燥工程でアンチブロッキング層表面の***部のばらつきが大きくなり、アンチブロッキング層表面の***部が大きくなった部分のヘイズが上昇する場合がある。一方、固形分濃度が大きくなりすぎると、含有成分が凝集しやすくなり、その結果、凝集部分が顕在化して透明導電性フィルムの外観を損ねる場合がある。

（塗布、乾燥及び硬化）
アンチブロッキング層は、透明フィルム基材１上に、上記のコーティング組成物を塗布し、得られる塗布液膜を乾燥し、乾燥後の塗膜を硬化することにより形成される。透明フィルム基材１上へのコーティング組成物の塗布は、図１のような本実施形態の場合には基材の片面に行う。なお、コーティング組成物は、透明フィルム基材１上に直接行ってもよく、透明フィルム基材１上に形成されたコーティング層等の上に行うこともできる。

コーティング組成物の塗布方法は、コーティング組成物及び塗装工程の状況に応じて適時選択することができ、例えばディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、ダイコート法やエクストルージョンコート法などにより塗布することができる。

塗布液膜の乾燥条件は、コーティング組成物の組成や厚み等に応じて適宜設定することができ、例えば公知の加熱乾燥機中、４０〜１８０℃で５〜３００秒間加熱することで乾燥を行うことができる。

最後に、乾燥後の塗膜を硬化させることによって、アンチブロッキング層を形成することができる。樹脂組成物のバインダー樹脂が紫外線硬化性である場合は、必要に応じた波長の紫外線を発する光源を用いて紫外線を照射することによって、硬化させることができる。照射する紫外線として、例えば、露光量１５０ｍＪ／ｃｍ^２以上の紫外線、好ましくは２００ｍＪ／ｃｍ^２〜１０００ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を用いることができる。またこの紫外線の波長は特に限定されるものではないが、例えば３８０ｎｍ以下の波長を有する紫外線などを用いることができる。なお、紫外線硬化処理の際に加熱を行ってもよい。

（透明導電層）
透明導電層５の構成材料は特に限定されず、インジウム、スズ、亜鉛、ガリウム、アンチモン、チタン、珪素、ジルコニウム、マグネシウム、アルミニウム、金、銀、銅、パラジウム、タングステンからなる群より選択される少なくとも１種の金属の金属酸化物が好適に用いられる。当該金属酸化物には、必要に応じて、さらに上記群に示された金属原子を含んでいてもよい。例えば酸化スズを含有する酸化インジウム（ＩＴＯ）、アンチモンを含有する酸化スズ（ＡＴＯ）などが好ましく用いられる。

透明導電層５の厚みは特に制限されないが、その表面抵抗を１×１０^３Ω／□以下の良好な導電性を有する連続被膜とするには、厚みを１０ｎｍ以上とするのが好ましい。膜厚が、厚くなりすぎると透明性の低下などをきたすため、１５〜５０ｎｍであることが好ましく、より好ましくは２０〜４５ｎｍの範囲内である。透明導電層５の厚みが１５ｎｍ未満であると膜表面の電気抵抗が高くなり、かつ連続被膜になり難くなる。また、透明導電層５の厚みが５０ｎｍを超えると透明性の低下などをきたす場合がある。

透明導電層５の形成方法は特に限定されず、従来公知の方法を採用することができる。具体的には、例えば真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等のドライプロセスを例示できる。また、必要とする膜厚に応じて適宜の方法を採用することもできる。なお、図１とは異なり、アンチブロッキング層２上に透明導電層５を形成する場合、透明導電層５がスパッタリング法等のドライプロセスによって形成されれば、透明導電層５の表面は、その下地層であるアンチブロッキング層２表面の平坦部及び***部の形状をほぼ維持する。そのため、アンチブロッキング層２上に透明導電層５が形成されている場合においても、透明導電層５表面にも耐ブロッキング性及び易滑性を好適に付与することができる。

透明導電層５は、必要に応じて加熱アニール処理（例えば、大気雰囲気下、８０〜１５０℃で３０〜９０分間程度）を施して結晶化することができる。透明導電層を結晶化することで、透明導電層が低抵抗化されることに加えて、透明性及び耐久性が向上する。透明導電性フィルム１０においてアンチブロッキング層２ａの厚みを上記範囲とすることにより、加熱アニール処理の際にもカールの発生が抑制され、ハンドリング性に優れる。

また、透明導電層５は、エッチング等によりパターン化してもよい。例えば、静電容量方式のタッチパネルやマトリックス式の抵抗膜方式のタッチパネルに用いられる透明導電性フィルムにおいては、透明導電層５がストライプ状にパターン化されることが好ましい。なお、エッチングにより透明導電層５をパターン化する場合、先に透明導電層５の結晶化を行うと、エッチングによるパターン化が困難となる場合がある。そのため、透明導電層５のアニール処理は、透明導電層５をパターン化した後に行うことが好ましい。

（コーティング層）
本実施形態の透明導電性フィルム１０においては、透明フィルム基材１と透明導電層５との間に、透明フィルム基材１の側から順にコーティング層としてハードコート層３及び屈折率調整層４が形成されている。このようなコーティング層を設けることにより、透明導電性フィルムのさらなる高機能化を図ることができる。

（ハードコート層）
ハードコート層３は、透明フィルム基材１に強度を付与して透明フィルム基材１の割れ防止やハンドリング性の向上を目的として形成される。ハードコート層３の詳細は、粒子を含まないことを除いてアンチブロッキング層２と同様であるので、ここではその説明を省略する。なおハードコート層３の厚みは、アンチブロッキング層２の平坦部２ａの厚みと同様である。

（屈折率調整層）
屈折率調整層４は、透明導電層５の密着性や反射特性の制御等を目的として設けられる。屈折率調整層は１層でもよく、２層あるいはそれ以上設けてもよい。屈折率調整層は、無機物、有機物、あるいは無機物と有機物との混合物により形成される。屈折率調整層を形成する材料としては、ＮａＦ、Ｎａ_３ＡｌＦ_６、ＬｉＦ、ＭｇＦ_２、ＣａＦ_２、ＳｉＯ_２、ＬａＦ_３、ＣｅＦ_３、Ａｌ_２Ｏ_３、ＴｉＯ_２、Ｔａ_２Ｏ_５、ＺｒＯ_２、ＺｎＯ、ＺｎＳ、ＳｉＯ_ｘ（ｘは１．５以上２未満）などの無機物や、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、メラミン樹脂、アルキド樹脂、シロキサン系ポリマーなどの有機物が挙げられる。特に、有機物として、メラミン樹脂とアルキド樹脂と有機シラン縮合物の混合物からなる熱硬化型樹脂を使用することが好ましい。屈折率調整層は、上記の材料を用いて、グラビアコート法やバーコート法などの塗工法、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法などにより形成できる。

屈折率調整層４の厚みは、１０ｎｍ〜２００ｎｍであることが好ましく、２０ｎｍ〜１５０ｎｍであることがより好ましく、２０ｎｍ〜１３０ｎｍであることがさらに好ましい。屈折率調整層の厚みが過度に小さいと連続被膜となりにくい。また、屈折率調整層の厚みが過度に大きいと、透明導電性フィルムの透明性が低下したり、屈折率調整層にクラックが生じ易くなったりする傾向がある。また、アンチブロッキング層が透明フィルム基材１の第１主面（図１中、上面）側に形成される場合、屈折率調整層が上記のようなナノオーダーレベルの厚みで形成されれば、屈折率調整層の透明導電層５側の表面は、その下地層であるアンチブロッキング層２表面の***形状をほぼ維持する。そして、透明導電層５の表面においてもその***形状が維持されて***部３２が形成されるために、耐ブロッキング性及び易滑性を有する透明導電性フィルムとすることができる。

屈折率調整層は、平均粒径が１ｎｍ〜５００ｎｍのナノ微粒子を有していてもよい。屈折率調整層中のナノ微粒子の含有量は０．１重量％〜９０重量％であることが好ましい。屈折率調整層に用いられるナノ微粒子の平均粒径は、上述のように１ｎｍ〜５００ｎｍの範囲であることが好ましく、５ｎｍ〜３００ｎｍであることがより好ましい。また、屈折率調整層中のナノ微粒子の含有量は１０重量％〜８０重量％であることがより好ましく、２０重量％〜７０重量％であることがさらに好ましい。屈折率調整層中にナノ微粒子を含有することによって、屈折率調整層自体の屈折率の調整を容易に行うことができる。

ナノ微粒子を形成する無機酸化物としては、例えば、酸化ケイ素（シリカ）、中空ナノシリカ、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化亜鉛、酸化錫、酸化ジルコニウム等の微粒子があげられる。これらの中でも、酸化ケイ素（シリカ）、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化亜鉛、酸化錫、酸化ジルコニウムの微粒子が好ましい。これらは１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。

透明導電性フィルムのヘイズは、要求される透明性を確保可能であれば特に限定されないものの、５％以下が好ましく、４％以下がより好ましく、３％以下がさらに好ましい。

本実施形態の透明導電性フィルム１０は、長尺シートがロール状に巻回された透明導電性フィルム巻回体とすることができる。透明導電性フィルムの長尺シートの巻回体は、透明フィルム基材として長尺シートのロール状巻回体を用い、前述のアンチブロッキング層や透明導電層に加え、ハードコート層、屈折率調整層等の付加的な層を、いずれもロール・トゥ・ロール法により形成することによって形成し得る。このような巻回体の形成にあたっては、透明導電性フィルムの表面に、弱粘着層を備える表面保護フィルム（離型フィルム）を貼り合わせた上で、ロール状に巻回してもよいが、本実施形態の透明導電性フィルムは、滑り性や耐ブロッキング性が改善されているために、表面保護フィルムを用いずとも透明導電性フィルムの長尺シートの巻回体を形成し得る。すなわち、滑り性や耐ブロッキング性が改善されていることによって、ハンドリング時のフィルム表面へのキズの発生が抑止されるとともにフィルムの巻取性に優れるため、表面に表面保護フィルムを貼り合わせずとも、長尺シートをロール状に巻回した巻回体を得られ易い。このように、本実施形態の透明導電性フィルムは、表面保護フィルムを用いることなく長尺シートの巻回体を形成し得るために、その後のタッチパネルの形成等に用いる際の作業性に優れる。また、工程部材である保護フィルムを不要とすることによって、コスト削減や廃棄物低減にも寄与し得る。

透明導電性フィルム１０は、例えば、静電容量方式、抵抗膜方式などのタッチパネルに好適に適用できる。

タッチパネルの形成に際しては、透明導電性フィルムの一方または両方の主面に透明な粘着剤層を介して、ガラスや高分子フィルム等の他の基材等を貼り合わせることができる。例えば、透明導電性フィルムの透明導電層５が形成されていない側の面に透明な粘着剤層を介して透明基体が貼り合わせられた積層体を形成してもよい。透明基体は、１枚の基体フィルムからなっていてもよく、２枚以上の基体フィルムの積層体（例えば透明な粘着剤層を介して積層したもの）であってもよい。また、透明導電性フィルムに貼り合わせる透明基体の外表面にハードコート層を設けることもできる。

透明導電性フィルムと基材との貼り合わせに用いられる粘着剤層としては、透明性を有するものであれば特に制限なく使用できる。具体的には、例えば、アクリル系ポリマー、シリコーン系ポリマー、ポリエステル、ポリウレタン、ポリアミド、ポリビニルエーテル、酢酸ビニル／塩化ビニルコポリマー、変性ポリオレフィン、エポキシ系、フッ素系、天然ゴム、合成ゴム等のゴム系などのポリマーをベースポリマーとするものを適宜に選択して用いることができる。特に、光学的透明性に優れ、適度な濡れ性、凝集性及び接着性等の粘着特性を示し、耐候性や耐熱性等にも優れるという点からは、アクリル系粘着剤が好ましく用いられる。

上記の本発明にかかる透明導電性フィルムを、タッチパネルの形成に用いた場合、タッチパネル形成時のハンドリング性に優れる。そのため、透明性及び視認性に優れたタッチパネルを生産性高く製造することが可能である。

本実施形態の透明導電性フィルムは、例えば、液晶表示素子や固体撮像素子、有機ＥＬ素子といった各種表示素子の透明電極や透明部材の帯電防止、電磁波遮断、液晶調光ガラス、透明ヒーター等として好適に利用できる。

＜タッチ機能付き表示装置＞
図２は、本発明の一実施形態に係るタッチ機能付き表示装置の模式的断面図である。タッチ機能付き表示装置１００は、偏光板２０、表示素子３０、及び偏光板２０と表示素子３０との間に配置された透明導電性フィルム１０を備える。偏光板２０と透明導電性フィルム１０との間、及び透明導電性フィルム１０と表示素子３０との間には、それぞれ固定層１３ａ、１３ｂが設けられており、各要素同士を固定している。透明導電性フィルム１０はすでに上記で説明しているので、以下、偏光板２０及び表示素子３０を説明する。

（偏光板）
本実施形態の偏光板２０は、偏光子２１の両面に接着剤層（図示せず）を介して保護フィルム２２ａ、２２ｂが貼り合わされた構造を有する。
（偏光子）
偏光子２１としては、直交する直線偏光のうち、透過軸に平行な振動面を有する偏光をそのまま透過させ、吸収軸に平行な振動面を有する偏光を選択的に吸収するものを用いることができる。偏光子２１としては、ポリマーフィルムにヨウ素が吸着配向されたものを用いることが好ましい。前記ポリマーフィルムとしては、例えば、特に限定されず各種のものを使用できる。例えば、ポリビニルアルコール系フィルム、ポリエチレンテレフタレート系フィルム、エチレン・酢酸ビニル共重合体系フィルムや、これらの部分ケン化フィルム、セルロース系フィルム等の親水性高分子フィルムに、ポリビニルアルコールの脱水処理物やポリ塩化ビニルの脱塩酸処理物等ポリエン系配向フィルム等が挙げられる。これらの中でも、ヨウ素による染色性に優れたポリビニルアルコール系フィルムを用いることが好ましい。

前記ポリマーフィルムとしてポリビニルアルコール系フィルムを用いる場合、ポリビニルアルコール系フィルムの製法としては、水又は有機溶媒に溶解した原液を流延成膜する流延法、キャスト法、押出法等任意の方法で成膜されたものを適宜使用することができる。前記ポリマーフィルム（未延伸フィルム）は、常法に従って、一軸延伸処理、ヨウ素染色処理が少なくとも施される。さらには、ホウ酸処理、洗浄処理を施すことができる。また前記処理の施されたポリマーフィルム（延伸フィルム）は、常法に従って乾燥されて偏光子となる。

偏光子２１の厚みとしては特に限定されず、好ましくは１５μｍ以下であり、より好ましくは１μｍ〜１２μｍ、さらに好ましくは３μｍ〜１０μｍであり、特に好ましくは３μｍ〜８μｍである。

（偏光子保護フィルム）
偏光子保護フィルム２２ａ、２２ｂは光に対し透明性を有し、その構成材料としては、例えば透明性、機械的強度、熱安定性、水分遮断性、等方性等に優れる熱可塑性樹脂が用いられる。このような熱可塑性樹脂の具体例としては、トリアセチルセルロース等のセルロース樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリオレフィン樹脂、（メタ）アクリル樹脂、環状ポリオレフィン樹脂（ノルボルネン系樹脂）、ポリアリレート樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、及びこれらの混合物が挙げられる。

偏光子保護フィルムに光学等方性、すなわち、面内レターデーションが１０ｎｍ以下、好ましくは５ｎｍ以下、より好ましくは３ｎｍ以下の特性が要求される場合には、セルロース系樹脂が好適に用いられる。光学等方性を有する偏光子保護フィルムとして、環状ポリオレフィン系樹脂を用いることも好ましい。環状ポリオレフィン系樹脂の具体的としては、好ましくはノルボルネン系樹脂である。

偏光子保護フィルム２２ａ、２２ｂの厚みは適宜に設定し得るが、一般には強度や取扱い等の作業性、薄層性等の点より１〜５００μｍ程度である。特に１〜３００μｍが好ましく、５〜２００μｍがより好ましい。保護フィルムは、５〜１５０μｍの場合に特に好適である。

なお、偏光子２１の両側に偏光子保護フィルムを設ける場合、その表裏で同じポリマー材料からなる偏光子保護フィルムを用いてもよく、異なるポリマー材料等からなる偏光子保護フィルムを用いてもよい。

偏光子保護フィルムとして、正面位相差が４０ｎｍ以上及び厚み方向位相差が８０ｎｍ以上のうちの一方又は両方を満たす位相差を有する位相差板を用いることができる。正面位相差は、通常、４０〜２００ｎｍの範囲に、厚み方向位相差は、通常、８０〜３００ｎｍの範囲に制御される。偏光子保護フィルムとして位相差板を用いる場合には、当該位相差板が偏光子保護フィルムとしても機能するため、薄型化を図ることができる。

位相差板としては、高分子素材を一軸又は二軸延伸処理してなる複屈折性フィルム、液晶ポリマーの配向フィルム、液晶ポリマーの配向層をフィルムにて支持したもの等が挙げられる。位相差板の厚さも特に制限されないが、２０〜１５０μｍ程度が一般的である。

高分子素材としては、例えば、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラール、ポリメチルビニルエーテル、ポリヒドロキシエチルアクリレート、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、メチルセルロース、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリスルホン、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリエーテルスルホン、ポリフェニレンスルファイド、ポリフェニレンオキサイド、ポリアリルスルホン、ポリアミド、ポリイミド、ポリオレフィン、ポリ塩化ビニル、セルロース樹脂、環状ポリオレフィン樹脂（ノルボルネン系樹脂）、又はこれらの二元系、三元系各種共重合体、グラフト共重合体、ブレンド物等が挙げられる。これらの高分子素材は延伸等により配向物（延伸フィルム）となる。

位相差板は、例えば各種波長板や液晶層の複屈折による着色や視角等の補償を目的としたもの等の使用目的に応じた適宜な位相差を有するものであって良く、２種以上の位相差板を積層して位相差等の光学特性を制御したもの等であってもよい。

（接着剤層）
偏光子２１と偏光子保護フィルム２２ａ、２２ｂの貼り合わせに用いる接着剤層は光学的に透明であれば、特に制限されず水系、溶剤系、ホットメルト系、ラジカル硬化型の各種形態のものが用いられるが、水系接着剤またはラジカル硬化型接着剤が好適である。

接着剤層を形成する水系接着剤としては特に限定されるものではないが、例えば、ビニルポリマー系、ゼラチン系、ビニル系ラテックス系、ポリウレタン系、イソシアネート系、ポリエステル系、エポキシ系等を例示できる。

また、接着剤層の形成は、これを乾燥した後の接着剤の厚さが０．０１〜２０μｍ、好ましくは０．０２〜１０μｍ、より好ましくは０．５〜５μｍとなる様に行うのが好ましい。

（表示素子）
表示素子３０としては、例えば、液晶表示装置、プラズマディスプレイパネル、有機エレクトロルミネッセンスディスプレイ、陰極管表示装置等の表示素子を採用することができる。偏光板２０とともにλ／４位相差板を配置して円偏光と直線偏光との変換を行う構成とすることにより、外光の鏡面反射を生じ易い反射型液晶表示装置や、エレクトロルミネッセンスディスプレイの反射防止を目的とした光学素子として好適に用いられる。

表示素子３０としての液晶表示装置は、セル基板３１と、該セル基板３１の視認側（図１中、セル基板３１の上側）に配置された偏光板３２ｂと、セル基板３１の背面側（図１中、セル基板３１の下側）に配置された偏光板３２ａを備える。偏光板３２ａ、３２ｂはそれぞれ粘着層（図示せず）を介してセル基板３１に貼り合わされている。

液晶表示装置は一般に、セル基板と偏光板、さらには、位相差フィルム、視野角拡大フィルム、拡散板、アンチグレア層、反射防止膜、保護フィルム、プリズムアレイ、レンズアレイシート、反射板、半透過反射板、輝度向上フィルム等の光学層、及び必要に応じて照明システム等の構成部品を適宜に組立てて駆動回路を組込むことなどにより形成することができる。

セル基板３１としては、例えばツイステッドネマチック（ＴＮ）モード、スーパーツイステッドネマチック（ＳＴＮ）モードや、水平配向（ＥＣＢ）モード、垂直配向（ＶＡ）モード、インプレーンスイッチング（ＩＰＳ）モード、フリンジフイールドスイッチング（ＦＦＳ）モード、ベンドネマチック（ＯＣＢ）モード、ハイブリッド配向（ＨＡＮ）モード、強誘電性液晶（ＳＳＦＬＣ）モード、反強誘電液晶（ＡＦＬＣ）モードのセル基板など種々のセル基板が挙げられる。

有機エレクトロルミネッセンスディスプレイの場合、発光素子、電極、反射板、封止基材等を適宜に組み合わせて構成される表示装置が使用される。

（固定層）
固定層１３ａ、１３ｂは、偏光板２０や透明導電性フィルム１０、表示素子３０、他の機能性フィルム等を互いに固定する部材である。固定層１３ａ、１３ｂとしては、粘着剤層又は接着剤層が好ましい。

粘着剤層の形成材料としては、例えばアクリル系重合体、シリコーン系ポリマー、ポリエステル、ポリウレタン、ポリアミド、ポリエーテル、フッ素系やゴム系などのポリマーをベースポリマーとする粘着剤を適宜に選択して用いることができる。特に、アクリル系粘着剤の如く光学的透明性に優れ、適度な濡れ性と凝集性と接着性を示して、耐候性や耐熱性などに優れるものが好ましく用いうる。

接着剤層の形成材料としては、例えば、アクリル系ポリマーやビニルアルコール系ポリマーからなる接着剤、あるいは、ホウ酸やホウ砂、グルタルアルデヒドやメラミン、シュウ酸などのビニルアルコール系ポリマーの水溶性架橋剤から少なくともなる接着剤等を介して行うことができる。これにより、湿度や熱の影響で剥がれにくく、光透過率や偏光度に優れるものとすることができる。

アンチブロッキング層２と接する固定層１３ａの屈折率ｎａ、粒子Ｐの屈折率ｎｐ及びバインダー樹脂の屈折率ｎｂのうちの最大値と最小値との差の絶対値が０．１４以下であることが好ましく、０．１以下であることがより好ましい。このような構成により、ディスプレイモジュール全体での低反射特性を高めることができ、さらなる高機能化を図ることができる。

（λ／４位相差板）
本実施形態のタッチ機能付き表示装置１００では、透明フィルム基材１としてλ／４位相差板を用いることもできるし、偏光板２０と透明導電性フィルム１０との間にλ／４位相差板を配置することもできる。偏光子２１とλ／４位相差板との組み合わせにより円偏光板を構成することができる。表示素子の視認側に円偏光板が設けられることによって、表示素子の反射板や金属電極によって反射された外光が再び視認側に射出されること（鏡面反射）が抑止され、反射率の低減を図ることができる。この場合、λ／４位相差板の遅相軸方向と偏光子２１の吸収軸方向とのなす角が４５°±５°となるように配置されることが好ましく、４５°±３°となるように配置されることがより好ましく、４５°±１°となるように配置されることがさらに好ましい。

＜他の実施形態＞
図１に示した実施形態では、透明導電層５は透明フィルム基材１の一方の第１主面（上面）側にのみ設けられているが、これに限定されず、他方の第２主面（下面）側にも設けられていてもよい。この場合、図１に示すように下地層としてアンチブロッキング層２が形成されていると、そのアンチブロッキング層２の平坦部と***部とに起因して、第２主面側に設けられた透明導電層の表面にも平坦部と***部とが形成されることになる。同様に、アンチブロッキング層２は、透明フィルム基材１の一方の第２主面（下面）側にのみ設けられているが、これに限定されず、第２主面側のアンチブロッキング層とともに、又は第２主面側のアンチブロッキング層２に代えて、他方の第２主面（下面）側に設けられていてもよい。ハードコート層３や屈折率調整層４についても、透明フィルム基材１の第１主面側とともに、又は第１主面側に代えて、透明フィルム基材１の第２主面側に設けられていてもよい。

以下、本発明に関して実施例を用いて詳細に説明するが、本発明はその要旨を超えない限り、以下の実施例に限定されるものではない。実施例中、特に示さない限り「部」とあるのは「重量部」を意味する。

＜実施例１＞
（１．透明導電性フィルムの作製）
平均粒子径１．８μｍの複数個の単分散粒子（綜研化学社製、商品名「ＭＸ１８０−ＴＡＮ」、屈折率１．４９５）とバインダー樹脂（ＤＩＣ社製、「ＵＮＩＤＩＣ」、屈折率１．５１）とを含み、溶媒を酢酸エチルとするコーティング組成物を準備した。粒子の添加部数はバインダー樹脂１００部に対して０．１６部であった。次に、厚さ４０μｍからなる長尺フィルム基材（日本ゼオン社製、商品名「ＺＥＯＮＯＲ」）の片面に、コーティング組成物をグラビアコーターを用いて乾燥後の平坦部の厚みが１．０μｍとなるように塗布し、８０℃で加熱することにより塗膜を乾燥させた。その後、高圧水銀ランプにて、積算光量２５０ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射することで、アンチブロッキング層を形成した。

続いて、バインダー樹脂（ＤＩＣ社製、「ＵＮＩＤＩＣ」、屈折率１．５１）を酢酸エチルにて希釈したコーティング組成物を準備した。長尺フィルム基材のアンチブロッキング層とは反対側の面に、コーティング組成物をグラビアコーターを用いて乾燥後の平坦部の厚みが１．０μｍとなるように塗布し、８０℃で加熱することにより塗膜を乾燥させた。その後、高圧水銀ランプにて、積算光量２５０ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射することで、ハードコート層を形成した。

次に、ハードコート層の表面に、屈折率調整剤（ＪＳＲ社製、商品名「オプスターＺ７４１２」：無機成分としてメジアン径４０ｎｍの酸化ジルコニア粒子を含む屈折率が１．６２の有機無機複合材料）をグラビアコーターを用いて塗布し、６０℃で加熱することにより塗膜を乾燥させた。その後、高圧水銀ランプにて、積算光量２５０ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射して硬化処理を施すことで、厚さ１１５ｎｍ、屈折率１．６２の屈折率調整層を形成した。

次いで、上記の各層を形成した長尺フィルム基材を巻き取り式スパッタ装置に投入し、屈折率調整層の表面に、透明導電層として厚さ２５ｎｍのインジウム・スズ酸化物層（アルゴンガス９８％と酸素２％とからなる０．４Ｐａの雰囲気中、酸化インジウム９７重量％−酸化スズ３重量％からなる焼結体を用いたスパッタリング製膜法による）を積層した。これにより図１に示す形態の透明導電性フィルムＡを得た。

（２．偏光板の作製）
厚み３０μｍのポリビニルアルコール（ＰＶＡ）系樹脂フィルム（株式会社クラレ製、製品名「ＰＥ３０００」）の長尺ロールを、ロール延伸機により長手方向に５．９倍になるように長手方向に一軸延伸しながら同時に膨潤、染色、架橋、洗浄処理を施し、最後に乾燥処理を施すことにより厚み１２μｍの偏光子を作製した。

具体的には、膨潤処理は２０℃の純水で処理しながら２．２倍に延伸した。次いで、染色処理は得られる偏光子の単体透過率が４５．０％になるようにヨウ素濃度が調整された３０℃の水溶液（ヨウ素とヨウ化カリウムの重量比が１：７）中において処理しながら１．４倍に延伸した。さらに、架橋処理は、２段階の架橋処理を採用し、１段階目の架橋処理は４０℃のホウ酸とヨウ化カリウムを溶解した水溶液において処理しながら１．２倍に延伸した。１段階目の架橋処理の水溶液のホウ酸含有量は５．０重量％で、ヨウ化カリウム含有量は３．０重量％とした。２段階目の架橋処理は６５℃のホウ酸とヨウ化カリウムを溶解した水溶液において処理しながら１．６倍に延伸した。２段階目の架橋処理の水溶液のホウ酸含有量は４．３重量％で、ヨウ化カリウム含有量は５．０重量％とした。また、洗浄処理は、２０℃のヨウ化カリウム水溶液で処理した。洗浄処理の水溶液のヨウ化カリウム含有量は２．６重量％とした。最後に、乾燥処理は７０℃で５分間乾燥させて偏光子を得た。

上記偏光子の片側に、ポリビニルアルコール系接着剤を介して、ＴＡＣフィルムの片面にハードコート処理により形成されたハードコート（ＨＣ）層を有するＨＣ−ＴＡＣフィルム（厚み３２μｍ）を、もう一方の側に、ポリビニルアルコール系接着剤を介して、通常のＴＡＣフィルム（厚み２５μｍ）をロール・トゥ・ロール法により貼り合わせ、偏光子保護フィルム／偏光子／偏光子保護フィルムの構成を有する長尺状の偏光板を得た。

（３．λ／４位相差板の作製）
イソソルビド（ロケットフレール社製、商品名：ＰＯＬＹＳＯＲＢ）を４４５．１重量部、９、９−（４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル）フルオレン（大阪瓦斯ケミカル（株）製）を９０６．２重量部、分子量１０００のポリエチレングリコールを１５．４重量部、ジフェニルカーボネート（三洋化成工業（株）製）を１１２０．４重量部、及び触媒として炭酸セシウム（０．２重量％水溶液）６．２７重量部を、それぞれ反応器に投入し、窒素雰囲気下にて、反応の第１段目の工程として、反応容器の熱媒温度を１５０℃にし、必要に応じて攪拌しながら、原料を溶解させた（約１５分）。次いで、反応容器内の圧力を常圧から１３．３ｋＰａにし、反応容器の熱媒温度を１９０℃まで１時間で上昇させながら、発生するフェノールを反応容器外へ抜き出した。この工程を経てポリカーボネートを作製した。

作製したポリカーボネートを８０℃で５時間真空乾燥した後、単軸押出機（いすず化工機社製、スクリュー径２５ｍｍ、シリンダー設定温度：２２０℃、Ｔダイ（幅２００ｍｍ、設定温度：２２０℃）、チルロール（設定温度：１２０〜１３０℃））及び巻取機を備えたフィルム製膜装置を用いて、厚み１００μｍの原反フィルムを作製した。この試料を、バッチ式二軸延伸装置（東洋精機社製）で、延伸温度を１２７〜１７７℃で調節しながらＲ_１（５５０）が１４０±１０ｎｍとなるように、延伸速度７２０ｍｍ／分（ひずみ速度１２００％／分）で、１×２．０倍の一軸延伸を行い、厚み５０μｍのλ／４位相差板を得た。

（４．粘着剤の調製）
イソノニルアクリレート７０重量部、ブチルアクリレート２５重量部、アクリル酸５部、及び２、２−アゾビスイソブチロニトリル０．１重量部と酢酸エチル２００重量部とを、窒素導入管、冷却管を備えた４つ口フラスコに投入し、充分に窒素置換した後、窒素気流下で撹拌しながら５５℃で２０時間重合反応を行い、重量平均分子量１２５万のアクリルポリマーを得た。ポリマー溶液の固形分１００重量部に対して、ジベンゾイルパーオキシド０．４重量部、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン０．１重量部を配合した粘着剤組成物を、シリコーン剥離処理した３８μｍのＰＥＴフィルムに、粘着剤層の乾燥厚みが２５μｍになるように塗布し、１３０℃で３分間乾燥及び架橋を行い、上記で得られた偏光板のＨＣ−ＴＡＣ面に転写し、アクリル系粘着剤（９５℃における弾性率：８×１０^−３ＧＰａ）を得た。

（５．光学特性評価用サンプルの作製）
上記手順１〜３で作製した偏光板、λ／４位相差板、透明導電性フィルムを、この順に上記手順４で作製した粘着剤を用いて積層した。透明導電性フィルムに関しては、導電層が偏光板側を向くように積層を実施した。さらに透明導電性フィルムのアンチブロッキング層側の面に、粘着剤を介して、無指向性反射フィルム（ＰＥＴフィルム片面にアルミ膜を蒸着した基材、東レフィルム加工株式会社製、製品名「ＤＭＳ（Ｘ４２）」）を蒸着面が粘着層側となるように積層し、光学特性評価用サンプルとした。

＜実施例２＞
アンチブロッキング層の粒子材料に関して、平均粒子径３．０μｍ（積水化成品工業株式会社製、商品名「ＸＸ−１０４ＡＡ」、屈折率１．４９５）を用いたことを除いて、実施例１に記載と同様の手法にて透明導電性フィルムＢ、偏光板、λ／４位相差板及び光学特性評価用サンプルを作製した。

＜実施例３＞
アンチブロッキング層の添加粒子に関して、平均粒子径１．８μｍ（綜研化学社製、商品名「ＭＸ１８０−ＴＡＮ」、屈折率１．４９５）の材料、重量部数を０．３２部としたことを除いて、実施例１に記載と同様の手法にて透明導電性フィルムＣ、偏光板、λ／４位相差板及び光学特性評価用サンプルを作製した。

＜実施例４＞
実施例１に記載のポリカーボネート製のλ／４位相差板を透明導電性フィルムの透明フィルム基材として用いたことを除いて、実施例１記載の手法にて透明導電性フィルムＤを作製した。実施例１記載の偏光板、透明導電性フィルムＤ及び無指向反射フィルムを、実施例１記載の粘着剤を用いて積層し、光学特性評価用サンプルを作製した。

＜比較例１＞
厚さ４０μｍからなる長尺フィルム基材（日本ゼオン社製、商品名「ＺＥＯＮＯＲ」）を巻き取り式スパッタ装置に投入し、その片面に、透明導電層として厚み２５ｎｍのインジウム・スズ酸化物層（アルゴンガス９８％と酸素２％とからなる０．４Ｐａの雰囲気中、酸化インジウム９７重量％−酸化スズ３重量％からなる焼結体を用いたスパッタリング製膜法による）を積層した。これにより透明導電性フィルムＥを作製した。実施例１に記載の手法にて偏光板及びλ／４位相差板を作製するとともに、透明導電性フィルムＥを用いて光学特性評価用サンプルを作製した。

＜比較例２＞
実施例１のアンチブロッキング層の代わりに、バインダー樹脂（ＤＩＣ社製、「ＵＮＩＤＩＣ」、屈折率１．４９５）を酢酸エチルにて希釈したコーティング組成物を、乾燥後の平坦部の厚みが１．０μｍとなるように長尺フィルム基材に塗工し、ハードコート層を形成した。続いて、このハードコート層とは反対側の面に、実施例１に記載の手法にて、ハードコート層、光学調整層、透明導電層を製膜し、透明導電性フィルムＦを作製した。実施例１に記載の手法にて偏光板及びλ／４位相差板を作製するとともに、透明導電性フィルムＦを用いて光学特性評価用サンプルを作製した。

＜比較例３＞
アンチブロッキング層に関して、バインダー樹脂を「オプスターＫＺ６７３４」（ＪＳＲ社製、屈折率１．７４）としたことを除いて、実施例１に記載の方法で透明導電性フィルムＧを作製した。実施例１に記載の手法にて偏光板及びλ／４位相差板を作製するとともに、透明導電性フィルムＧを用いて光学特性評価用サンプルを作製した。

＜比較例４＞
実施例１のアンチブロッキング層の代わりに、バインダー樹脂（ＪＳＲ社製、「オプスターＫＺ６７３４」、屈折率１．７４）を酢酸エチルにて希釈したコーティング組成物を、乾燥後の平坦部の厚みが１．０μｍとなるように塗工し、ハードコート層を形成した。このハードコート層の反対側の面に、実施例１と同様の方法にて、ハードコート層、光学調整層及び透明導電層を製膜し、透明導電性フィルムＨを作製した。実施例１に記載の手法にて偏光板及びλ／４位相差板を作製するとともに、透明導電性フィルムＨを用いて光学特性評価用サンプルを作製した。

＜比較例５＞
アンチブロッキング層に関して、バインダー樹脂を「オプスターＫＺ６７３４」（ＪＳＲ社製、屈折率１．７４）としたこと、及び添加粒子を平均粒子径０．８μｍ（積水化成品工業株式会社製、商品名「ＸＸ−１８３ＡＡ」、屈折率１．４９５）としたことを除いて、実施例１に記載の方法にて、透明導電性フィルムＩを作製した。実施例１に記載の手法にて偏光板及びλ／４位相差板を作製するとともに、透明導電性フィルムＩを用いて光学特性評価用サンプルを作製した。

＜比較例６＞
アンチブロッキング層に関して、バインダー樹脂を「オプスターＫＺ６７３４」（ＪＳＲ社製、屈折率１．７４）としたこと、及び添加粒子を平均粒子径３．０μｍ（積水化成品工業株式会社製、商品名「ＸＸ−１０４ＡＡ」、屈折率１．４９５）としたことを除いて、実施例１に記載の方法にて、透明導電性フィルムＪを作製した。実施例１に記載の手法にて偏光板及びλ／４位相差板を作製するとともに、透明導電性フィルムＪを用いて光学特性評価用サンプルを作製した。

＜比較例７＞
アンチブロッキング層に関して、バインダー樹脂を「オプスターＫＺ６７３４」（ＪＳＲ社製、屈折率１．７４）としたこと、及び添加粒子を平均粒子径１．５μｍ（積水化成品工業株式会社製、商品名「ＸＸ−９５ＡＡ」）としたことを除いて、実施例１に記載の方法にて透明導電性フィルムＫを作製した。実施例１に記載の手法にて偏光板及びλ／４位相差板を作製するとともに、透明導電性フィルムＫを用いて光学特性評価用サンプルを作製した。

＜比較例８＞
実施例１に記載のポリカーボネート製のλ／４位相差板を透明フィルム基材として用いたこと、アンチブロッキング層に関してバインダー樹脂を「オプスターＫＺ６７３４」（ＪＳＲ社製、屈折率１．７４）としたこと、及び添加粒子を平均粒子径３．０μｍ（積水化成品工業株式会社製、商品名「ＸＸ−１０４ＡＡ」、屈折率１．４９５）としたことを除いて、実施例１と同様の手法にて、透明導電性フィルムＬを作製した。実施例１記載の偏光板、透明導電性フィルムＬ及び無指向反射フィルムを、実施例１記載の粘着剤を用いて積層し、光学特性評価用サンプルを作製した。

＜評価＞
実施例及び比較例で作製した透明導電性フィルム及び光学特性評価用サンプルについて、以下の項目を評価した。結果を表１に示す。

（表面形状測定）
アンチブロッキング層の最大粗さＲｚ及び***部の分布密度に関しては、非接触型干渉顕微鏡Ｗｙｋｏ（Ｖｅｅｃｏ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ社製）にて測定した。

（ヘイズ）
アンチブロッキング層のヘイズに関しては、ＪＩＳ Ｋ７１３６（２０００年）のヘイズ（濁度）に準じ、ヘイズメーター（村上色彩技術研究所社製 型番「ＨＭ−１５０」）を用いて測定した。具体的には、透明フィルム基材単体の構成、及び透明フィルム基材にアンチブロッキング層を形成した構成の２種類のヘイズを評価し，前者と後者との差をアンチブロッキング層のヘイズとして算出した。

（光学特性測定）
光学評価用積層体サンプルに関して、光学測色計（コニカミノルタ社製）を用いて、偏光板側より３６０〜７６０ｎｍの波長の光を入射し、反射光に関してスペクトル評価を実施し、また以下の基準で見栄えを評価した。図３Ａ〜図３Ｋに、実施例１〜４及び比較例２〜８の反射スペクトルをそれぞれ示す。比較例１ではアンチブロッキング処理等がなされていない基材が組み込まれており、偏光解消による光学特性への影響はなかった。そこで比較例１の反射スペクトルをリファレンスとして各グラフに表示し、比較対象として利用した。
＝評価基準＝
○：比較例１と比較し、４００ｍｎ〜５５０ｎｍの領域において反射スペクトルの増大がなかった。目視評価において、比較例１と同等の黒さが確認できた。
×：比較例１と比較して４００ｍｎ〜５５０ｎｍの領域において反射スペクトルが増加していた。目視評価において、比較例１よりも輝度が高く、黒味にかけていた。

（滑り性）
作製した透明導電性フィルムについてアンチブロッキング層の表面に、表面が平滑なフィルム（（株）日本ゼオン製、商品名「ＺＥＯＮＯＲ フィルム ＺＦ−１６」）をそれぞれ指圧にて圧着させ、その際のフィルム同士の貼り付き具合を以下の基準で目視にて確認した（検体数Ｎ＝１０）。
＝評価基準＝
○：貼りつきが起こらないか、又は一旦貼りつくが、時間が経過するとフィルムが離れて滑り性がでる。
×：貼りついたフィルムが、元に戻らずに滑り性がでない。

実施例では、滑り性及び見栄えともに良好な結果であった。滑り性に関しては、最大粗さＲｚ値が３００ｎｍ（０．３μｍ）以上である場合に良好であることが確認された。

光学特性評価においては、アンチブロッキング層がスペクトルに影響を及ぼすと考えたため、アンチブロッキング層を形成していない長尺フィルム基材を構成に取り入れた比較例１をリファレンスとして記載した。実施例１〜４では反射スペクトルに大きな差異がないことが確認され、見栄えも良好であった。

一方、比較例のうち、見栄えの悪かった比較例３、６〜８の反射スペクトルでは、特に４００ｎｍ〜５５０ｎｍの範囲における反射率が、アンチブロッキング層を形成していないサンプルと比較して上昇していることが確認された。この反射率の上昇により黒味が損なわれていると推察された。他の比較例に関しては実施例同じく、反射率に違いはなかった。

１ 透明フィルム基材
２ アンチブロッキング層
２ａ （アンチブロッキング層の）平坦部
２ｂ （アンチブロッキング層の）***部
３ ハードコート層
４ 屈折率調整層
５ 透明導電層
１０ 透明導電性フィルム
１３ａ、１３ｂ 固定層
２０ 偏光板
２１ 偏光子
２２ａ、２２ｂ 偏光子保護フィルム
３０ 表示素子
３１ セル基板
３２ａ、３２ｂ 偏光板
１００ タッチ機能付き表示装置
Ｐ 粒子

Claims (10)

1. 正面位相差が２００ｎｍ以下の透明フィルム基材と、
   前記透明フィルム基材の第１主面側及び第２主面側の少なくとも一方に設けられたアンチブロッキング層と、
   前記アンチブロッキング層の前記透明フィルム基材側とは反対の面側及び前記透明フィルム基材の前記アンチブロッキング層側とは反対の面側の少なくとも一方に設けられた透明導電層と
   を備え、
   前記アンチブロッキング層は、バインダー樹脂及び粒子を含む樹脂組成物の硬化物層であり、
   前記アンチブロッキング層は、前記透明フィルム基材側とは反対側の表面に平坦部と前記粒子に起因する***部とを有し、
   前記粒子の最頻粒子径は、前記アンチブロッキング層の平坦部の厚みより大きく、
   前記粒子の屈折率ｎｐと前記バインダー樹脂の屈折率ｎｂとが下記の関係を満たす透明導電性フィルム。
   ｜ｎｐ−ｎｂ｜＜０．１４
2. 前記アンチブロッキング層の前記透明フィルム基材側とは反対側の表面の最大粗さＲｚが０．３μｍ以上２．５μｍ以下である請求項１に記載の透明導電性フィルム。
3. 前記アンチブロッキング層の前記***部の分布密度が１００個／ｍｍ^２以上１２００個／ｍｍ^２以下である請求項１又は２に記載の透明導電性フィルム。
4. 前記アンチブロッキング層のヘイズが０．７％以上３％以下である請求項１〜３のいずれか１項に記載の透明導電性フィルム。
5. 前記透明導電層は、前記アンチブロッキング層の前記透明フィルム基材側とは反対の面側に設けられており、
   前記透明導電層と前記アンチブロッキング層との間に少なくとも１層のコーティング層が形成されている請求項１〜４のいずれか１項に記載の透明導電性フィルム。
6. 前記透明導電層は、前記透明フィルム基材の前記アンチブロッキング層側とは反対の面側に設けられており、
   前記透明導電層と前記透明フィルム基材との間に少なくとも１層のコーティング層が形成されている請求項１〜４のいずれか１項に記載の透明導電性フィルム。
7. 偏光板と表示素子との間に配置される請求項１〜６のいずれか１項に記載の透明導電性フィルム。
8. 偏光板と、
   表示素子と、
   前記偏光板と前記表示素子との間に配置された請求項７に記載の透明導電性フィルムと
   を備えるタッチ機能付き表示装置。
9. 前記透明導電性フィルムの前記アンチブロッキング層形成面側と前記偏光板又は前記表示素子との間に固定層が設けられており、
   前記固定層の屈折率ｎａ、前記粒子の屈折率ｎｐ及び前記バインダー樹脂の屈折率ｎｂのうちの最大値と最小値との差の絶対値が０．１４以下である請求項８に記載のタッチ機能付き表示装置。
10. 前記固定層は、粘着剤層又は接着剤層である請求項８又は９に記載のタッチ機能付き表示装置。
    
    

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