JP6273249B2 - 液晶表示装置及びその製造方法 - Google Patents

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Description

本発明は、液晶表示装置に関し、特に液晶表示パネル内への静電気サージ（ESD Surge; Electrostatic Discharge Surge）の流入を防止できる液晶表示装置及びその製造方法に関する。
通常、液晶表示装置（LCD; Liquid Crystal Display）は、ビデオ信号に基づいて液晶セルの光透過率を調整することにより、液晶セルがマトリクス状に配列された液晶表示パネルに当該ビデオ信号に対応する画像を表示する。
このような液晶表示装置は、液晶セルがアクティブマトリクス状に配列された液晶表示パネルと、液晶表示パネルを駆動するための駆動回路とを含む。
以下、図５〜図７を参照して、従来技術による液晶表示装置の構成要素について説明する。
図５は従来技術による液晶表示装置の概略平面図であり、図６は図５の「Ａ」部の拡大平面図であり、図７は図６のＩＩＩ−ＩＩＩ線断面図であって従来技術による液晶表示装置の概略断面図である。
従来技術による液晶表示装置は、同図に示すように、画像表示部ＤＡ（Display Area）と、画像表示部ＤＡの外郭に形成されるベゼル部ＢＡ（Bezel Area）とを含む。
従来技術による液晶表示パネルは、同図に示すように、液晶セルがアクティブマトリクス状に配列された液晶表示パネル１０と、液晶表示パネル１０を駆動するための駆動回路（ドライブＩＣ）７０とを含む。
液晶表示パネル１０は、薄膜トランジスタアレイが形成された第１基板１１とカラーフィルタアレイが形成された第２基板３１とが均一なセルギャップを維持するように貼り合わせられ、第１基板１１と第２基板３１間のセルギャップに液晶層５１が形成される。
第１基板１１には、画像情報が供給されるデータラインと走査信号が供給されるゲートラインとが交差するように配列され、前記データラインと前記ゲートラインとにより区画される領域にそれぞれ薄膜トランジスタ（図示せず）及び画素電極（図示せず）が備えられる。
第２基板３１には、ブラックマトリクス３５により画素毎に塗布されたカラーフィルタ３７、カラーフィルタ３７を平坦化するオーバーコート層（図示せず）、及び第１基板１１に備えられた画素電極の対向電極である共通電極（図示せず）が備えられる。
第１基板１１と第２基板３１とは、スペーサ（図示せず）により所定のセルギャップが維持され、画像表示部ＤＡの外郭に沿って形成されたシールパターン６１により貼り合わせられる。
また、第１基板１１のベゼル部ＢＡには、第２基板３１のブラックマトリクス３５とオーバーラップする接地ライン１５が備えられている。ここで、接地ライン１５は、駆動回路７０に接続され、メインＦＰＣ（図示せず）を介してメインシステム（図示せず）の接地９０に接続されている。
よって、接地ライン１５は、外部から流入する電気的ダメージ（Electric Damage）を前記メインシステムを介して排出する。すなわち、接地ライン１５は、前記メインＦＰＣを介して前記メインシステムの接地９０に接続されることにより、外部で発生した静電気サージを遮断する。
しかし、接地ライン１５は第１基板１１に発生する静電気を遮断する機能を有するだけであり、第２基板３１においては静電気が遮断されていない。すなわち、図７に示すように、第２基板３１には外部から流入する静電気サージ８０が接地ライン１５を介して排出されるようにする経路（パス）が形成されておらず、ブラックマトリクス３５に流入する。
このように、従来技術による液晶表示装置においては、液晶表示パネル１０の端部から接地ライン１５までの距離が遠いので、ブラックマトリクス３５及び前記オーバーコート層が先にダメージを受ける。
そうすると、電荷がブラックマトリクス３５に流入してＧＩＰ（Gate Drive-IC in Panel）回路の動作不能状態や液晶表示パネル１０の非駆動状態を引き起こし、また、前記オーバーコート層及び画像表示部ＤＡに電荷が流入してムラを生じさせる。
また、第１基板１１に備えられた接地ライン１５はパッシベーション膜により覆われているので、外部から流入する静電気サージが接地ライン１５を介して排出されるようにすることが困難である。
よって、外部からの静電気サージの流入を根本的に防止するためには、第１基板１１とは別に、第２基板３１においても外部からの静電気サージの流入を防止できる構造が必要不可欠である。
本発明の目的は、ブラックマトリクスを二重（デュアル）に設計することにより液晶表示パネル内への静電気サージ（ＥＳＤサージ）の流入を防止できる液晶表示装置及びその製造方法を提供することにある。
上記課題を解決するために、本発明の一態様においては、画像表示部及び前記画像表示部を囲むベゼル部が規定され、互いに貼り合わせられる第１基板及び第２基板と、前記第２基板のベゼル部に備えられ、互いに分離して離隔された内側ブラックマトリクス及び外側ブラックマトリクスと、前記第１基板と前記第２基板との間に備えられる液晶層とを含む液晶表示装置を提供する。
前記液晶表示装置において、前記内側ブラックマトリクスと前記外側ブラックマトリクスとの間に所定のギャップが形成されていてもよい。
前記液晶表示装置において、前記内側ブラックマトリクス及び前記外側ブラックマトリクスは、前記画像表示部を囲む形態で前記第２基板に配置されていてもよい。
前記液晶表示装置において、前記第１基板のベゼル部に接地ラインがさらに備えられていてもよい。
前記液晶表示装置において、前記第１基板の接地ラインは、前記第１基板の画像表示部を囲む形態で配置されていてもよい。
上記課題を解決するために、本発明の他の態様においては、画像表示部及び前記画像表示部を囲むベゼル部が規定され、互いに貼り合わせられる第１基板及び第２基板と、前記第１基板のベゼル部に備えられる接地ラインと、前記第２基板のベゼル部に備えられ、互いに分離して離隔された内側ブラックマトリクス及び外側ブラックマトリクスと、前記第１基板と前記第２基板との間に備えられる液晶層とを含む液晶表示装置を提供する。
前記液晶表示装置において、前記内側ブラックマトリクスと前記外側ブラックマトリクスとの間に所定のギャップが形成されていてもよい。
前記液晶表示装置において、前記内側ブラックマトリクス及び前記外側ブラックマトリクスは、所定のギャップを介して互いに独立して分離されるようにしてもよい。
前記液晶表示装置において、前記内側ブラックマトリクス及び前記外側ブラックマトリクスは、前記第２基板の画像表示部を囲む形態で配置されていてもよい。
前記液晶表示装置において、前記第１基板の接地ラインは、前記第１基板の画像表示部を囲む形態で配置されていてもよい。
上記課題を解決するために、本発明は、画像表示部及び前記画像表示部を囲むベゼル部が規定された第１基板及び第２基板を供給する段階と、前記第１基板上に薄膜トランジスタを形成する段階と、前記第１基板上に前記薄膜トランジスタに電気的に接続される画素電極を形成する段階と、前記第１基板に対向して貼り合わせられる前記第２基板のベゼル部に互いに分離して離隔するように内側ブラックマトリクス及び外側ブラックマトリクスを形成する段階と、前記第１基板と前記第２基板との間に液晶層を形成する段階とを含む液晶表示装置の製造方法を提供する。
前記液晶表示装置の製造方法において、前記内側ブラックマトリクス及び前記外側ブラックマトリクスは、所定のギャップを介して互いに独立して分離形成されてもよい。
前記液晶表示装置の製造方法において、前記内側ブラックマトリクス及び前記外側ブラックマトリクスは、前記第２基板に前記画像表示部を囲む形態で形成されてもよい。
前記液晶表示装置の製造方法において、前記内側ブラックマトリクス及び前記外側ブラックマトリクスは、同時に形成されてもよい。
前記液晶表示装置の製造方法において、前記第１基板のベゼル部に接地ラインを形成する段階をさらに含んでもよい。
前記液晶表示装置の製造方法において、前記第１基板の接地ラインは、前記第１基板の画像表示部を囲む形態で配置されてもよい。
本発明においては、上部基板に所定のギャップを介して内側ブラックマトリクス及び外側ブラックマトリクスを形成することにより、静電気サージ（ＥＳＤサージ）が内側ブラックマトリクスを介して画像表示部側に流入することを防止することができる。
また、本発明においては、下部基板のベゼル部にも接地ラインを形成することにより、ＧＩＰ回路が電気的ダメージを受けることを防止することができる。
さらに、本発明においては、外側ブラックマトリクスと内側ブラックマトリクスが所定のギャップを介して分離されていることにより静電気サージ（ＥＳＤサージ）が内側ブラックマトリクスを介して画像表示部側に流入することが根本的に遮断されるので、画像表示部に流入したサージに起因するムラを解消することができる。
さらに、本発明においては、従来１つであったブラックマトリクスを単に互いに離隔された内側ブラックマトリクスと外側ブラックマトリクスとに分離して形成しているので、設計済みのパネルの外郭のベゼル部を増加させることなく静電気サージ（ＥＳＤサージ）を防止することができる。
さらに、本発明においては、液晶表示装置を製造する際に、従来のブラックマトリクスの形成時に内側ブラックマトリクスと外側ブラックマトリクスとを同時に形成することから、マスク数の増加又は工程の変化を招かないので、様々なモデルへの適用が容易である。
さらに、本発明においては、液晶表示モジュール（ＬＣＭ）の駆動に全く影響を与えることなく、静電気サージ（ＥＳＤサージ）によるダメージや不良を防止することができる。
本発明による液晶表示装置の概略平面図である。 図１の「Ｂ」部の拡大平面図である。 図２のＶＩ−ＶＩ線断面図であって本発明による液晶表示装置の概略断面図である。 本発明による液晶表示装置の製造工程を示す断面図である。 図４Ａに続く工程を示す図である。 図４Ｂに続く工程を示す図である。 図４Ｃに続く工程を示す図である。 図４Ｄに続く工程を示す図である。 図４Ｅに続く工程を示す図である。 図４Ｆに続く工程を示す図である。 図４Ｇに続く工程を示す図である。 従来技術による液晶表示装置の概略平面図である。 図５の「Ａ」部の拡大平面図である。 図６のＩＩＩ−ＩＩＩ線断面図であって従来技術による液晶表示装置の概略断面図である。
以下、本発明の一部の実施の形態について例示的な図面を参照して詳細に説明する。なお、各図面における構成要素に符号を付す上で、異なる図面であっても同一の構成要素には可能な限り同一の符号を付す。また、本発明の実施の形態について説明する上で、関連する公知の構成又は機能についての具体的な説明が本発明の要旨を不明確にすると判断される場合は、その詳細な説明を省略する。
さらに、本発明の構成要素について説明する上で、第１、第２、Ａ、Ｂ、（ａ）、（ｂ）などの用語を用いることがあるが、当該用語は１つの構成要素を他の構成要素と区別するためのものにすぎず、当該用語により該当構成要素の本質や順番又は順序などが限定されるものではない。ある構成要素が他の構成要素に「連結」、「接続」又は「結合」されていると記載された場合は、ある構成要素が他の構成要素に直接的に連結、接続又は結合されていることもあり、さらに他の構成要素が各構成要素間に「連結」、「接続」又は「結合」されていることもあると解されるべきである。同様に、ある構成要素が他の構成要素の「上」又は「下」に形成されていると記載された場合は、ある構成要素が他の構成要素に直接的に形成されていることもあり、さらに他の構成要素を介して間接的に形成されていることもあると解されるべきである。
図１は本発明による液晶表示装置の概略平面図である。
図２は図１の「Ｂ」部の拡大平面図である。
本発明による液晶表示装置は、図１及び図２に示すように、画像を表示する画像表示部ＤＡ（Display Area）と、画像表示部ＤＡの周囲を囲む形態で規定されたベゼル部ＢＡ（Bezel Area）とを含む。
前記液晶表示装置は、図１及び図２に示すように、液晶セルがアクティブマトリクス状に配列された液晶表示パネル（図示せず、図３の１００参照）と、液晶表示パネル１００を駆動するための駆動回路（ドライブＩＣ）１７０とを含む。
また、画像表示部ＤＡの外郭のベゼル部ＢＡには、互いに分離して離隔された内側ブラックマトリクス１３５ａ及び外側ブラックマトリクス１３５ｂからなるブラックマトリクス１３５が備えられている。ここで、内側ブラックマトリクス１３５ａ及び外側ブラックマトリクス１３５ｂは、所定のギャップＧを介して独立して分離形成されている。内側ブラックマトリクス１３５ａは画像表示部ＤＡに接しており、外側ブラックマトリクス１３５ｂはパネルの外部に接している。さらに、内側ブラックマトリクス１３５ａ及び外側ブラックマトリクス１３５ｂは、画像表示部ＤＡを囲む形態で形成されている。
さらに、外側ブラックマトリクス１３５ｂ、内側ブラックマトリクス１３５ａ、又はそれらとオーバーラップする領域、例えば第１基板（図示せず、図３の１０１参照）には、接地ライン１０５が備えられている。ここで、接地ライン１０５は、駆動回路１７０に接続され、メインＦＰＣ（図示せず）を介してメインシステム（図示せず）の接地１９０に接続されている。しかし、接地ライン１０５は、ディスプレイ装置の種類によって、形成されることもあり、形成されないこともある。
以下、本発明による液晶表示装置について図３を参照して具体的に説明する。
図３は図２のＶＩ−ＶＩ線断面図であって本発明による液晶表示装置の概略断面図である。
図３に示すように、液晶表示パネル１００は、薄膜トランジスタアレイが形成された第１基板１０１と、カラーフィルタアレイが形成された第２基板１３１と、これらの基板１０１、１３１が均一なセルギャップを維持するように貼り合わせられて第１基板１０１と第２基板１３１との間のセルギャップに形成される液晶層１５１とを含む。
第１基板１０１には、画像情報が供給されるデータライン（図示せず）と走査信号が供給されるゲートライン（図示せず）が交差するように配列され、前記データラインと前記ゲートラインとにより区画される領域にそれぞれ薄膜トランジスタＴ及び画素電極１２３が備えられる。
より具体的には、画像表示部ＤＡ及び画像表示部ＤＡの周囲を囲むベゼル部ＢＡが規定された第１基板１０１上には、前記ゲートライン及び前記ゲートラインから延びたゲート電極１０３が一方向に形成されている。ここで、第１基板１０１のベゼル部ＢＡには、接地ライン１０５が形成されている。接地ライン１０５は、駆動回路（図示せず、図１の１７０参照）に接続され、メインＦＰＣ（図示せず）を介してメインシステム（図示せず）の接地（図示せず、図１の１９０参照）に接続されている。つまり、第１基板１０１のベゼル部ＢＡに接地ライン１０５が形成されており、ＧＩＰ回路が電気的ダメージを受けることを防止することができる。
ゲート電極１０３、接地ライン１０５及び前記ゲートラインを含む第１基板１０１の全面には、ゲート絶縁膜１０７が形成されている。
ゲート電極１０３の上方のゲート絶縁膜１０７上には、アクティブ層１０９及びオーミックコンタクト層１１１が積層されている。
アクティブ層１０９及びオーミックコンタクト層１１１上には、ソース電極１１３及びドレイン電極１１５が分離形成されている。ここで、ソース電極１１３から前記データラインが延びており、前記データラインは前記ゲートラインと交差する他方向に形成されている。
ゲート電極１０３、アクティブ層１０９、ソース電極１１３及びドレイン電極１１５は薄膜トランジスタＴを構成する。
ソース電極１１３及びドレイン電極１１５を含む第１基板１０１の全面には、保護膜１１７が形成されており、保護膜１１７の一部には、ドレイン電極１１５の一部を露出するドレインコンタクトホール（図示せず、図４Ｄの１１９参照）が形成されている。
ドレインコンタクトホール１１９を含む保護膜１１７上には、ドレイン電極１１５に電気的に接続される画素電極１２１が形成されている。
画素電極１２１を含む保護膜１１７上には、下部配向膜１２３が形成されている。
一方、第１基板１０１に対向して貼り合わせられる第２基板１３１の画像表示部ＤＡには、画素領域を規定する画像表示部用ブラックマトリクス（図示せず）が形成されており、第２基板１３１のベゼル部ＢＡには、ブラックマトリクス１３５が形成されている。ここで、ベゼル部ＢＡに形成されたブラックマトリクス１３５は、互いに離隔された内側ブラックマトリクス１３５ａ及び外側ブラックマトリクス１３５ｂからなる。また、内側ブラックマトリクス１３５ａ及び外側ブラックマトリクス１３５ｂは、所定のギャップＧを介して独立して分離形成されている。さらに、内側ブラックマトリクス１３５ａと外側ブラックマトリクス１３５ｂとの間の所定のギャップＧはディスプレイ装置のサイズによって異なり、そのギャップＧの大きさは適宜調整することができる。ここで、内側ブラックマトリクス１３５ａ及び外側ブラックマトリクス１３５ｂは、必ず互いに分離していなければならない。
よって、所定のギャップＧを介して内側ブラックマトリクス１３５ａ及び外側ブラックマトリクス１３５ｂを形成することにより、静電気サージ（ＥＳＤサージ）（図示せず、図１の１８０参照）が内側ブラックマトリクス１３５ａを介して画像表示部ＤＡ側に流入することを防止することができる。
第２基板１３１の画像表示部ＤＡには、赤色、緑色、青色のカラーフィルタ１３７が形成されており、カラーフィルタ１３７上には、基板表面を平坦化するためのオーバーコート層（図示せず）が形成されている。
前記オーバーコート層上には、上部配向膜１３９が形成されている。
また、対向して貼り合わせられる第１基板１０１と第２基板１３１との間には第１基板１０１と第２基板１３１との間のセルギャップを均一に維持する柱状スペーサ（図示せず）が形成されており、第１基板１０１と第２基板１３１との間のセルギャップには液晶層１５１が形成されている。
第１基板１０１と第２基板１３１とは、画像表示部ＤＡの外郭に沿ってシールパターン１６１により貼り合わせられている。
このように、本発明による液晶表示装置においては、上部基板に所定のギャップを介して内側ブラックマトリクス及び外側ブラックマトリクスを形成することにより、静電気サージ（ＥＳＤサージ）が内側ブラックマトリクスを介して画像表示部側に流入することを防止することができる。
また、本発明においては、下部基板のベゼル部にも接地ラインを形成することにより、ＧＩＰ回路が電気的ダメージを受けることを防止することができる。
さらに、本発明においては、外側ブラックマトリクスと内側ブラックマトリクスとが所定のギャップを介して分離されていることにより静電気サージ（ＥＳＤサージ）が内側ブラックマトリクスを介して画像表示部側に流入することを根本的に遮断するので、画像表示部に流入したサージに起因するムラを解消することができる。
さらに、本発明においては、従来１つであったブラックマトリクスを互いに離隔した内側ブラックマトリクスと外側ブラックマトリクスとに分離して形成しているので、設計済みのパネルの外郭のベゼル部を増加させることなく静電気サージ（ＥＳＤサージ）を防止することができる。
さらに、本発明においては、液晶表示モジュール（ＬＣＭ）の駆動に全く影響を与えることなく、静電気サージ（ＥＳＤサージ）によるダメージや不良を防止することができる。
以下、このように構成される本発明による液晶表示装置の製造方法について図４Ａ〜図４Ｈを参照して説明する。
図４Ａ〜図４Ｈは本発明による液晶表示装置の製造工程を示す断面図である。
まず、画像表示部ＤＡ及び画像表示部ＤＡの周囲を囲むベゼル部ＢＡが規定された透明な第１基板１０１上にスパッタリング蒸着法などの蒸着法によりゲート金属層（図示せず）を形成する。ここで、前記ゲート金属層としては、クロム（Ｃｒ）、モリブデン（Ｍｏ）、アルミニウム（Ａｌ）系金属などからなる単一層又は二重層構造を用いてもよい。
次に、図４Ａに示すように、第１マスクを用いたフォトリソグラフィ工程とエッチング工程で前記ゲート金属層をパターニングすることにより、ゲートライン（図示せず）、前記ゲートラインから延びたゲート電極１０３、及び接地ライン１０５を形成する。ここで、前記ゲートラインを形成する際に、ベゼル部ＢＡの共通ライン（図示せず）、前記共通ラインからの基準電圧が印加される共通電極（図示せず）などのパターンを形成してもよい。また、前記共通電極は、液晶駆動モードによって、例えばＴＮモードの場合は、第２基板１３１上に形成してもよい。
一方、接地ライン１０５は、画像表示部ＤＡの外郭のベゼル部ＢＡに形成する。接地ライン１０５は、駆動回路（図示せず、図１の１７０参照）に接続され、メインＦＰＣ（図示せず）を介してメインシステム（図示せず）の接地（図示せず、図１の１９０参照）に接続されるようにする。しかし、接地ライン１０５は、ディスプレイ装置の種類によって、形成することもあり、形成しないこともある。
つまり、第１基板１０１のベゼル部ＢＡに形成された接地ライン１０５により、ＧＩＰ回路が電気的ダメージを受けることを防止することができる。
次に、図４Ｂに示すように、パターンが形成された第１基板１０１上にＰＥＣＶＤ、スパッタリングなどの蒸着法によりゲート絶縁膜１０７、非晶質シリコン層（図示せず）及びｎ＋非晶質シリコン層（図示せず）を順次形成する。ここで、ゲート絶縁膜１０７の材料としては、酸化シリコン（ＳｉＯｘ）や窒化シリコン（ＳｉＮｘ）などの無機絶縁物質を用いてもよい。
次に、第２マスクを用いたフォトリソグラフィ工程とエッチング工程で前記ｎ＋非晶質シリコン層及び前記非晶質シリコン層をパターニングすることにより、アクティブ層１０９及びオーミックコンタクト層１１１を形成する。
次に、図４Ｃに示すように、オーミックコンタクト層１１１及びアクティブ層１０９を含む第１基板１０１の全面にソース／ドレイン金属層（図示せず）を形成し、その後、第３マスクを用いたフォトリソグラフィ工程とエッチング工程で前記ソース／ドレイン金属層をパターニングすることにより、前記ゲートラインと交差するデートライン（図示せず）、互いに分離したソース電極１１３及びドレイン電極１１５を形成する。ここで、前記ソース／ドレイン金属層としては、モリブデン（Ｍｏ）、チタン（Ｔｉ）、タンタル（Ｔａ）、モリブデン（Ｍｏ）合金などを用いてもよい。よって、ゲート電極１０３、アクティブ層１０９、ソース電極１１３及びドレイン電極１１５が薄膜トランジスタＴを構成する。
次に、図４Ｄに示すように、ソース電極１１３及びドレイン電極１１５を含むゲート絶縁膜１０７上にＰＥＣＶＤなどの蒸着法により保護膜１１７を形成する。ここで、保護膜１１７の材料としては、ゲート絶縁膜１０７と同じような無機絶縁物質、誘電率の低いアクリル（Ａｃｒｙ）系有機化合物、ＢＣＢやＰＦＣＢなどの有機絶縁物質を用いることができる。
次に、第４マスクを用いたフォトリソグラフィ工程とエッチング工程で保護膜１１７をパターニングすることにより、ドレイン電極１１５の一部を露出するドレインコンタクトホール１１９を形成する。
次に、図４Ｅに示すように、ドレインコンタクトホール１１９を含む保護膜１１７上にスパッタリングなどの蒸着法により透明電極物質層（図示せず）を蒸着する。
次に、第５マスクを用いたフォトリソグラフィ工程とエッチング工程で前記透明電極物質層をパターニングすることにより、ドレイン電極１１５に接触する画素電極１２１を形成する。ここで、前記透明電極物質層の材料としては、インジウムスズ酸化物（ITO; Indium Tin Oxide）、スズ酸化物（TO; Tin Oxide）又はインジウム亜鉛酸化物（IZO; Indium Zinc Oxide）を用いてもよい。
一方、本明細書においては、前記共通電極が第１マスク工程で前記ゲート金属層からゲート電極１０３などと同時に形成される場合を示すが、これに限定されるものではなく、必要に応じて共通電極が第５マスク工程で前記透明電極物質層から画素電極１２１と同時に形成されるようにしてもよい。
次に、画素電極１２１を含む保護膜１１７上にラビング処理又は光配向により下部配向膜１２３を形成する。
次に、第１基板１０１に対向して貼り合わせられる第２基板１３１上にブラックマトリクス膜（図示せず）を塗布する。ここで、前記ブラックマトリクス膜の材料としては、クロム（Ｃｒ）やブラック樹脂などを用いてもよい。
次に、図４Ｆに示すように、第６マスクを用いたフォトリソグラフィ工程とエッチング工程で前記ブラックマトリクス膜をパターニングすることにより、第２基板１３１の画像表示部ＤＡには複数の画素領域を規定するためのブラックマトリクス（図示せず）を形成し、第２基板１３１のベゼル部ＢＡにはブラックマトリクス１３５を形成する。ここで、ブラックマトリクス１３５は、互いに離隔された内側ブラックマトリクス１３５ａ及び外側ブラックマトリクス１３５ｂからなる。また、内側ブラックマトリクス１３５ａ及び外側ブラックマトリクス１３５ｂは、画像表示部ＤＡを囲む形態で形成されている。さらに、内側ブラックマトリクス１３５ａ及び外側ブラックマトリクス１３５ｂは、所定のギャップＧを介して独立して分離形成されている。
さらに、内側ブラックマトリクス１３５ａと外側ブラックマトリクス１３５ｂとの間の所定のギャップＧはディスプレイ装置のサイズによって異なり、そのギャップＧの大きさは適宜調整することができる。ここで、内側ブラックマトリクス１３５ａ及び外側ブラックマトリクス１３５ｂは、必ず互いに分離していなければならない。
よって、所定のギャップＧを介して内側ブラックマトリクス１３５ａ及び外側ブラックマトリクス１３５ｂを分離形成することにより、静電気サージ（ＥＳＤサージ）（図示せず、図１の１８０参照）が内側ブラックマトリクス１３５ａを介して画像表示部ＤＡ側に流入することを根本的に防止することができる。
次に、図４Ｇに示すように、第２基板１３１の画像表示部ＤＡに赤色、緑色、青色の顔料を順次塗布し、その後マスクを用いたフォトリソグラフィ工程とエッチング工程で赤色、緑色、青色の顔料層をパターニングすることにより、赤色、緑色、青色のカラーフィルタ１３７を形成する。
次に、図示していないが、カラーフィルタ１３７上に基板表面を平坦化するためのオーバーコート層（図示せず）を形成する。
次に、前記オーバーコート層上に（前記オーバーコート層上に共通電極を形成した場合は前記共通電極上に）第１基板１０１と第２基板１３１間のセルギャップを均一に維持する柱状スペーサ（図示せず）を形成する。
次に、図示していないが、前記柱状スペーサを含む前記オーバーコート層上に（前記オーバーコート層上に共通電極を形成した場合は前記共通電極上に）ラビング処理又は光配向により上部配向膜１３９を形成する。
次に、図４Ｈに示すように、対向して貼り合わせられる第１基板１０１と第２基板１３１との間のセルギャップに液晶層１５１を形成する。
次に、対向して貼り合わせられる第１基板１０１と第２基板１３１との間、とりわけ画像表示部ＤＡの外郭に沿ってシールパターン１６１を形成し、第１基板１０１と第２基板１３１を貼り合わせることにより、本発明による液晶表示装置の製造工程を完了する。
このように、本発明による液晶表示装置の製造方法においては、所定のギャップを介して内側ブラックマトリクス及び外側ブラックマトリクスを分離して形成することにより、静電気サージ（ＥＳＤサージ）が内側ブラックマトリクスを介して画像表示部側に流入することを根本的に防止することができる。
また、本発明においては、下部基板のベゼル部にも接地ラインを形成することにより、ＧＩＰ回路が電気的ダメージを受けることを防止することができる。
さらに、本発明においては、外側ブラックマトリクスと内側ブラックマトリクスとが所定のギャップを介して分離していることにより静電気サージ（ＥＳＤサージ）が内側ブラックマトリクスを介して画像表示部側に流入することを根本的に遮断するので、画像表示部ＤＡに流入したサージに起因するムラを解消することができる。
さらに、本発明においては、従来１つであったブラックマトリクスを互いに離隔した内側ブラックマトリクスと外側ブラックマトリクスに分離して形成しているので、設計済みのパネルの外郭のベゼル部を増加させることなく静電気サージ（ＥＳＤサージ）を防止することができる。
さらに、本発明においては、液晶表示装置を製造する際に、従来のブラックマトリクスの形成時に内側ブラックマトリクスと外側ブラックマトリクスを同時に形成することから、マスク数の増加又は工程の変化を招かないので、様々なモデルへの適用が容易である。
さらに、本発明においては、液晶表示モジュール（ＬＣＭ）の駆動に全く影響を与えることなく、静電気サージ（ＥＳＤサージ）によるダメージや不良を防止することができる。
以上、図面を参照して本発明の実施の形態について説明したが、本発明がこれに限定されるものではない。
本明細書に記載された「含む」、「構成する」、「有する」などの用語は、特に断らない限り、該当構成要素を内含することを意味するものであって、他の構成要素を排除するのではなく、他の構成要素をさらに含むこともあるものと解すべきである。別途定義されない限り、技術的用語や科学的用語を含む全ての用語は、本発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者に一般的に理解される意味と同一の意味を有する。辞書に定義されている用語のように一般的に用いられる用語は、関連技術の文脈上の意味と一致する意味を有するものと解すべきであり、本明細書において明らかに定義しない限り、理想的又は過度に形式的な意味で解すべきではない。
以上の説明は本発明の技術思想の例示的な説明にすぎず、本発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者であれば、本発明の本質的な特性から逸脱しない範囲で様々な変更及び変形が可能であろう。つまり、本明細書に開示されている実施の形態は本発明の技術思想を限定するためのものではなく説明するためのものであり、このような実施の形態により本発明の技術思想の範囲が限定されるものではない。よって、本発明の権利範囲は請求の範囲により定められるべきであり、同等の範囲内にある全ての技術思想は本発明の権利範囲に含まれるものと解釈されるべきである。
１０５ 接地ライン
１３５ ブラックマトリクス
１３５ａ 内側ブラックマトリクス
１３５ｂ 外側ブラックマトリクス
ＤＡ 画像表示部
ＢＡ ベゼル部

Claims (10)

  1. 画像表示部及び前記画像表示部を囲むベゼル部が規定され、互いに貼り合わせられる第１基板及び第２基板と、
    前記第２基板のベゼル部に備えられ、互いに分離して離隔した内側ブラックマトリクス及び外側ブラックマトリクスと、
    前記第１基板と前記第２基板間に備えられる液晶層と、
    前記第１基板のベゼル部の前記外側ブラックマトリクスとオーバーラップし、且つ前記内側ブラックマトリックスとオーバーラップしない領域に備えられた接地ラインと、
    を含む、液晶表示装置。
  2. 前記内側ブラックマトリクスと前記外側ブラックマトリクス間に所定のギャップが形成されている、請求項１に記載の液晶表示装置。
  3. 前記内側ブラックマトリクス及び前記外側ブラックマトリクスは、前記画像表示部を囲む形態で前記第２基板に配置されている、請求項１に記載の液晶表示装置。
  4. 前記第１基板の接地ラインは、前記第１基板の画像表示部を囲む形態で配置されている、請求項１に記載の液晶表示装置。
  5. 前記内側ブラックマトリクス及び前記外側ブラックマトリクスは、所定のギャップを介して互いに独立して分離されている、請求項１に記載の液晶表示装置。
  6. 画像表示部及び前記画像表示部を囲むベゼル部が規定された第１基板及び第２基板を供給する段階と、
    前記第１基板上に薄膜トランジスタを形成する段階と、
    前記第１基板上に前記薄膜トランジスタに電気的に接続される画素電極を形成する段階と、
    前記第１基板に対向して貼り合わせられる前記第２基板のベゼル部に互いに分離して離隔するように内側ブラックマトリクス及び外側ブラックマトリクスを形成する段階と、
    前記第１基板と前記第２基板間に液晶層を形成する段階と、
    前記第１基板のベゼル部の前記外側ブラックマトリクスとオーバーラップし、且つ前記内側ブラックマトリクスとオーバーラップしない領域に接地ラインを形成する段階と、
    を含む、液晶表示装置の製造方法。
  7. 前記内側ブラックマトリクス及び前記外側ブラックマトリクスは、所定のギャップを介して互いに独立して分離形成される、請求項６に記載の液晶表示装置の製造方法。
  8. 前記内側ブラックマトリクス及び前記外側ブラックマトリクスは、前記第２基板に前記画像表示部を囲む形態で形成される、請求項６に記載の液晶表示装置の製造方法。
  9. 前記内側ブラックマトリクス及び前記外側ブラックマトリクスは、同時に形成される、請求項６に記載の液晶表示装置の製造方法。
  10. 前記第１基板の接地ラインは、前記第１基板の画像表示部を囲む形態で配置される、請求項６に記載の液晶表示装置の製造方法。
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Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102079253B1 (ko) * 2013-06-26 2020-02-20 삼성디스플레이 주식회사 박막트랜지스터 기판, 이를 구비하는 유기 발광 장치, 박막트랜지스터 기판 제조방법 및 유기 발광 장치 제조방법
KR102621447B1 (ko) * 2016-08-31 2024-01-08 엘지디스플레이 주식회사 액정 표시장치
US10921634B2 (en) 2016-09-21 2021-02-16 Hefei Boe Optoelectronics Technology Co., Ltd. Display panel and display device
CN106154632A (zh) * 2016-09-21 2016-11-23 合肥京东方光电科技有限公司 显示面板和显示设备
KR102627625B1 (ko) * 2016-10-20 2024-01-22 삼성전자주식회사 정전기 방전 보호를 포함하는 터치 디스플레이 및 그것을 포함하는 전자 장치
KR102672153B1 (ko) * 2016-12-06 2024-06-04 삼성디스플레이 주식회사 표시 장치
KR20180079550A (ko) * 2016-12-30 2018-07-11 엘지디스플레이 주식회사 표시패널
CN106773430B (zh) * 2017-03-30 2022-01-18 京东方科技集团股份有限公司 一种显示基板及显示装置
CN206833100U (zh) * 2017-06-27 2018-01-02 京东方科技集团股份有限公司 显示面板及显示装置
CN107450214A (zh) * 2017-08-16 2017-12-08 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 显示面板及显示装置
CN109254449A (zh) * 2018-11-26 2019-01-22 厦门天马微电子有限公司 显示面板、显示装置和显示面板的制作方法

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100720411B1 (ko) * 2000-10-25 2007-05-22 엘지.필립스 엘시디 주식회사 액정 디스플레이 패널 및 그 제조방법
TWI282475B (en) * 2002-07-26 2007-06-11 Chi Mei Optoelectronics Corp Liquid crystal display device
US7050131B2 (en) * 2002-10-17 2006-05-23 Lg.Philips Lcd Co., Ltd. Liquid crystal display device having black seal pattern and external resin pattern, and method of fabricating the same
KR100964797B1 (ko) * 2003-12-23 2010-06-21 엘지디스플레이 주식회사 액정 표시 장치 및 그 제조 방법
WO2006098475A1 (ja) 2005-03-18 2006-09-21 Sharp Kabushiki Kaisha パネルおよびその製造方法
JP2008046277A (ja) * 2006-08-11 2008-02-28 Epson Imaging Devices Corp 液晶パネル
TW200823516A (en) * 2006-11-21 2008-06-01 Wintek Corp Liquid crystal panel with electrostatic discharge protection effect and manufacturing method thereof
KR101298610B1 (ko) * 2008-04-30 2013-08-26 엘지디스플레이 주식회사 액정표시장치 및 그 제조방법
JP2010085544A (ja) 2008-09-30 2010-04-15 Epson Imaging Devices Corp 液晶装置の製造方法
US20120229736A1 (en) * 2009-11-20 2012-09-13 Sharp Kabushiki Kaisha Liquid crystal panel and liquid crystal display device
JP5523864B2 (ja) * 2010-02-19 2014-06-18 株式会社ジャパンディスプレイ 液晶表示装置
JP5013554B2 (ja) * 2010-03-31 2012-08-29 株式会社ジャパンディスプレイセントラル 液晶表示装置
KR101799937B1 (ko) * 2011-05-12 2017-11-22 엘지디스플레이 주식회사 경량 박형의 액정표시장치의 제조 방법

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