JP6269662B2 - 発光パターンを有する有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法 - Google Patents
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Description
パターン化する画像について、あらかじめ作成した、ハイライト部とシャドウ部と直線部とからなり、かつハイライト部とシャドウ部とに直線部の階調の傾きより低い軟調な部分を有する調子再現曲線に基づき光照射量を変化させて、当該光照射量に対応した発光輝度による階調を有する発光パターンを形成することを特徴とする発光パターンを有する有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。
本発明の発光パターンを有する有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法は、少なくとも一対の電極間に一つ又は複数の有機機能層を備えた有機エレクトロルミネッセンス素子に光照射して形成する発光パターンを有する有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法であって、
パターン化する画像について、あらかじめ作成した、ハイライト部とシャドウ部と直線部とからなり、かつハイライト部とシャドウ部とに直線部の階調の傾きより低い軟調な部分を有する調子再現曲線に基づき光照射量を変化させて、当該光照射量に対応した発光輝度による階調を有する発光パターンを形成することを特徴とする。
発光パターンの形成は、光照射により行われるが、単に階調特性を有する画像を像用に有機EL素子に光照射して発光パターンを形成しても、光が照射された部分において有機EL素子の発光量が減少し、いわゆるネガ像(明暗が反転した画像)が得られる。ネガ像をポジ像にするため、単に画像の信号値の明暗を逆転したものを用いても好ましい画像は得られない。
撮影された画像の信号値、例えばデジタルカメラで撮影されたRGBのそれぞれ8ビットの画像の信号値から、例えばsRGB(standard RGB)変換されて、ある輝度を有する階調をもったカラー画像が、sRGBモニタ上に再現され、鑑賞することができる。
光照射された画像は、ネガ像になるため、元の画像信号値を本発明に係る、あらかじめ作成したハイライト部とシャドウ部とに直線部の階調の傾きより低い軟調な調部分を有する調子再現曲線となるよう階調変換して光照射量を変化する。この過程には、有機EL素子の露光量に対する非直線性の挙動、露光に対する照度不軌特性等の特性の補正も含めて行われる。
本発明に係る有機EL素子は、少なくとも一対の電極間に一つ又は複数の有機機能層を備えている。本発明における有機機能層とは、有機化合物を含有する層をいう。例えば、正孔注入層、正孔輸送層、発光層(青色発光層、緑色発光層、赤色発光層を含む)電子輸送層、電子注入層を挙げることができる。有機機能層は発光層を含むことが好ましい。
ここでは、一例として、図1に示す有機EL素子10の製造方法を説明する。
本発明に係る有機EL素子の製造方法では、基板13上に、第一電極1、有機機能層3及び第二電極5aを積層して形成する工程(積層工程)を行う。
積層工程の後には、有機機能層3を封止する工程(封止工程)を行う。
有機エレクトロルミネッセンス素子は、あらかじめ作成した、ハイライト部とシャドウ部とに直線部の階調の傾きより低い軟調な部分を有する調子再現曲線に基づき光照射量が変化され、光照射される(光照射工程)。光照射することにより有機機能層3の発光機能を変調させて、発光パターンを有する有機EL素子10を製造することができる。光照射工程において、その光照射方法は、有機機能層3の所定パターン領域に所定の光照射することで当該照射部分を輝度が変化した発光領域とすることができれば、いずれの方法であっても良く、特定の方法に限定されるものではない。
基板13は基本的に、支持体としての基材と、屈折率が1.4以上1.7以下の1層以上のバリア層とで、構成されていることが好ましい。
本発明に係る基材は、従来公知の基材を特に制限なく使用できる。本発明で好ましく用いられる基材は、有機EL素子に必要な耐湿性/耐気体透過性等のガスバリア性能を有することが好ましい。
(2.1)特性及び形成方法
本発明において、基板13の基材には、屈折率が1.4以上1.7以内の1層以上のバリア層(低屈折率層)が設けられていても良い。このようなバリア層としては、公知の素材を特に制限なく使用でき、無機物又は有機物からなる被膜や、これらの被膜を組み合わせたハイブリッド被膜であっても良い。バリア層は、JIS−K−7129−1992に準拠した方法で測定された、水蒸気透過度(25±0.5℃、相対湿度90±2%RH)が0.01g/(m2・24時間)以下のバリア性フィルム(バリア膜等ともいう)であることが好ましく、また、JIS−K−7126−1987に準拠した方法で測定された酸素透過度が1×10−3ml/(m2・24時間・atm)以下、水蒸気透過度が1×10−5g/(m2・24時間)以下の高バリア性フィルムであることがより好ましい。
また、バリア層は、基材上に、少なくとも1層の無機前駆体化合物を含有する塗布液が塗布されることにより形成されるものであっても良い。
第一電極は、通常有機EL素子に使用可能な全ての電極を使用することができる。具体的には、アルミニウム、銀、マグネシウム、リチウム、マグネシウム/同混合物、マグネシウム/銀混合物、マグネシウム/アルミニウム混合物、マグネシウム/インジウム混合物、インジウム、リチウム/アルミニウム混合物、希土類金属、ITO、ZnO、TiO2、SnO2等の酸化物半導体等が挙げられる。
下地層1aは、電極層1bの基板13側に設けられる層である。下地層1aを構成する材料としては、特に限定されるものではなく、銀又は銀を主成分とする合金からなる電極層1bの成膜に際し、銀の凝集を抑制できるものであれば良く、例えば、窒素原子を含んだ含窒素化合物等が挙げられる。
電極層1bは、銀又は銀を主成分とした合金を用いて構成された層であって、下地層1a上に成膜された層である。
以上のような構成の第一電極1は、例えば、窒素原子を含んだ化合物を用いて構成された下地層1a上に、銀又は銀を主成分とする合金からなる電極層1bを設けた構成である。これにより、下地層1aの上部に電極層1bを成膜する際には、電極層1bを構成する銀原子が下地層1aを構成する窒素原子を含んだ化合物と相互作用し、銀原子の下地層1a表面においての拡散距離が減少し、銀の凝集が抑えられる。
(1)発光層
有機機能層3には少なくとも発光層3cが含まれる。
注入層とは、駆動電圧低下や発光輝度向上のために電極と発光層3cの間に設けられる層のことで、「有機EL素子とその工業化最前線(1998年11月30日エヌ・ティー・エス社発行)」の第2編第2章「電極材料」(123〜166頁)に詳細に記載されており、正孔注入層3aと電子注入層3eとがある。
正孔輸送層3bは、正孔を輸送する機能を有する正孔輸送材料からなり、広い意味で正孔注入層3a、電子阻止層も正孔輸送層3bに含まれる。正孔輸送層3bは単層又は複数層設けることができる。
電子輸送層3dは、電子を輸送する機能を有する材料からなり、広い意味で電子注入層3e、正孔阻止層(図示略)も電子輸送層3dに含まれる。電子輸送層3dは単層構造又は複数層の積層構造として設けることができる。
阻止層は、有機機能層3として、上記各機能層の他に、更に設けられていても良い。例えば、特開平11−204258号公報、同11−204359号公報、及び「有機EL素子とその工業化最前線(1998年11月30日エヌ・ティー・エス社発行)」の237頁等に記載されている正孔阻止(ホールブロック)層がある。
第二電極5aは、有機機能層3に電子を供給するカソードとして機能する電極膜であり、金属、合金、有機又は無機の導電性化合物、及びこれらの混合物が用いられる。具体的には、アルミニウム、銀、マグネシウム、リチウム、マグネシウム/銅混合物、マグネシウム/銀混合物、マグネシウム/アルミニウム混合物、マグネシウム/インジウム混合物、インジウム、リチウム/アルミニウム混合物、希土類金属、ITO、ZnO、TiO2、SnO2等の酸化物半導体等が挙げられる。
取り出し電極16は、第一電極1と外部電源とを電気的に接続するものであって、その材料としては特に限定されるものではなく公知の素材を好適に使用できるが、例えば、3層構造からなるMAM電極(Mo/Al・Nd合金/Mo)等の金属膜を用いることができる。
補助電極15は、第一電極1の抵抗を下げる目的で設けるものであって、第一電極1の電極層1bに接して設けられる。補助電極15を形成する材料は、金、白金、銀、銅、アルミニウム等の抵抗が低い金属が好ましい。これらの金属は光透過性が低いため、光取り出し面13aからの発光光hの取り出しの影響のない範囲でパターン形成される。
封止材17は、有機EL素子10を覆うものであって、板状(フィルム状)の封止部材で接着剤19によって基板13側に固定されるものであっても良く、また、封止膜であっても良い。このような封止材17は、有機EL素子10における第一電極1及び第二電極5aの端子部分を露出させ、少なくとも有機機能層3を覆う状態で設けられている。また、封止材17に電極を設け、有機EL素子10の第一電極1及び第二電極5aの端子部分と、この電極とを導通させるように構成されていても良い。
なお、ここでの図示は省略したが、基板13との間に有機EL素子10及び封止材17を挟んで保護膜又は保護板を設けても良い。この保護膜又は保護板は、有機EL素子10を機械的に保護するためのものであり、特に封止材17が封止膜である場合には、有機EL素子10に対する機械的な保護が十分ではないため、このような保護膜又は保護板を設けることが好ましい。
《有機EL素子101の作製》
<発光パターンを有する有機EL素子101の作製>
ポリシラザンと有機層(応力緩和層)を積層したガスバリア層を有する厚さ75μmのPET(コスモシャインA4300 東洋紡製)の透明樹脂基板上に、真空蒸着装置内で、下記構造式で表される含窒素化合物N−1を25nmの厚さで成膜後、マスクを使用して陽極として銀を10nmの厚さで成膜した。なお、透明樹脂基板のガスバリア層は、特開2012−599号公報の実施例1におけるバリアフィルム試料1と同様にして形成した。
上記のように作製した有機EL素子101の発光領域サイズ93×93mmの部分に段階的に濃度を変化させたスケールを用いて、UVテスター(岩崎電気株式会社製、SUV−W151:100mW/cm2)の光量を変化させて光照射し、発光輝度が変化しているスケールの発光輝度をコニカミノルタ社製2次元色彩輝度計CA−2000で測定し、有機EL素子に与えた照射相対光量とパターン化後の発光輝度の関係を示す検量線を求めた。
発光パターンを有する有機EL素子4と同様にして、表1に示した特性を有する調子再現曲線を用いてパターン化を行い、発光パターンを有する有機EL素子5〜7を作製した。直線部については、その変動が表に示されている値になるよう、調子再現曲線の直線部を変化させてパターン化を行った。
発光パターンを有する有機EL素子1では調子再現曲線による階調調整は行わず、単にRGBのデータを明暗を逆転させて用いた。
実施例1と同様の有機EL素子、手法を用いてsRGB色空間での鑑賞を前提とした、RGBそれぞれ8ビットの信号値を有する風景画像の出力を行った。
実施例1の発光パターンを有する有機EL素子4の作製と同様にして、発光パターンを有する有機EL素子8〜13を作製した。
1a 下地層
1b 電極層
3 有機機能層
3a 正孔注入層
3b 正孔輸送層
3c 発光層
3d 電子輸送層
3e 電子注入層
5a 第二電極
10 有機EL素子
13 基板
13a 光取り出し面
15 補助電極
16 取り出し電極
17 封止材
19 接着剤
h 発光光
10 有機EL素子
Claims (5)
- 少なくとも一対の電極間に一つ又は複数の有機機能層を備えた有機エレクトロルミネッセンス素子に光照射して形成する発光パターンを有する有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法であって、
パターン化する画像について、あらかじめ作成した、ハイライト部とシャドウ部と直線部とからなり、かつハイライト部とシャドウ部とに直線部の階調の傾きより低い軟調な部分を有する調子再現曲線に基づき光照射量を変化させて、当該光照射量に対応した発光輝度による階調を有する発光パターンを形成することを特徴とする発光パターンを有する有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。 - 前記調子再現曲線の前記直線部の階調の傾きが、0.6〜2.0の範囲内であることを特徴とする請求項1に記載の発光パターンを有する有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。
- 前記発光パターンを有する有機エレクトロルミネッセンス素子の最高発光輝度と最低輝度の比の値が、10以上であることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の発光パターンを有する有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。
- 前記調子再現曲線における前記ハイライト部の軟調部分が、発光パターンを有する有機エレクトロルミネッセンス素子の最高発光輝度から、発光輝度の常用対数(log(発光輝度))単位で、少なくとも−0.20の範囲内であり、かつ前記シャドウ部の軟調部分が、光パターンを有する有機エレクトロルミネッセンス素子の最低輝度から、発光輝度の常用対数(log(発光輝度))単位で、少なくとも+0.20の範囲内であることを特徴とする請求項1から請求項3までのいずれか一項に記載の発光パターンを有する有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。
- 前記光照射して形成する発光パターンが、紫外線を含む光を照射して形成する発光パターンであることを特徴とする請求項1から請求項4までのいずれか一項に記載の発光パターンを有する有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。
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