JP6266902B2 - Liquid crystal dropping method sealing agent, vertical conduction material, and liquid crystal display element - Google Patents

Liquid crystal dropping method sealing agent, vertical conduction material, and liquid crystal display element Download PDF

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本発明は、シール形状保持性に優れる液晶滴下工法用シール剤に関する。また、本発明は、該液晶滴下工法用シール剤を用いて製造される上下導通材料及び液晶表示素子に関する。 The present invention relates to a sealant for a liquid crystal dropping method having excellent seal shape retention. Moreover, this invention relates to the vertical conduction material and liquid crystal display element which are manufactured using this sealing compound for liquid crystal dropping methods.

近年、液晶表示セル等の液晶表示素子の製造方法は、タクトタイム短縮、使用液晶量の最適化といった観点から、従来の真空注入方式から、例えば、特許文献1、特許文献2に開示されているような光硬化性樹脂、光重合開始剤、熱硬化性樹脂、及び、熱硬化剤を含有する光、熱併用硬化型のシール剤を用いた滴下工法と呼ばれる液晶滴下方式にかわりつつある。 In recent years, a method for manufacturing a liquid crystal display element such as a liquid crystal display cell has been disclosed in, for example, Patent Document 1 and Patent Document 2 from the conventional vacuum injection method from the viewpoint of shortening tact time and optimizing the amount of liquid crystal used. Such a photocurable resin, a photopolymerization initiator, a thermosetting resin, and a liquid crystal dropping method called a dropping method using a light and heat combined curing type sealant containing a thermosetting agent are being replaced.

滴下工法では、まず、2枚の電極付き透明基板の一方に、ディスペンスにより長方形状のシールパターンを形成する。次いで、シール剤が未硬化の状態で液晶の微小滴を透明基板の枠内全面に滴下し、すぐに他方の透明基板を重ねあわせ、シール部に紫外線等の光を照射して仮硬化を行う。その後、液晶アニール時に加熱して本硬化を行い、液晶表示素子を作製する。基板の貼り合わせを減圧下で行うようにすれば、極めて高い効率で液晶表示素子を製造することができ、現在この滴下工法が液晶表示素子の製造方法の主流となっている。 In the dropping method, first, a rectangular seal pattern is formed on one of two transparent substrates with electrodes by dispensing. Next, a liquid crystal micro-droplet is dropped on the entire surface of the transparent substrate frame with the sealant being uncured, and the other transparent substrate is immediately overlaid, and the seal portion is irradiated with light such as ultraviolet rays to perform temporary curing. . Thereafter, heating is performed at the time of liquid crystal annealing to perform main curing, and a liquid crystal display element is manufactured. If the substrates are bonded together under reduced pressure, a liquid crystal display element can be manufactured with extremely high efficiency, and this dripping method is currently the mainstream method for manufacturing liquid crystal display elements.

ところで、携帯電話、携帯ゲーム機等、各種液晶パネル付きモバイル機器が普及している現代において、装置の小型化は最も求められている課題である。小型化の手法として、液晶表示部の狭額縁化が挙げられ、例えば、シール部の位置をブラックマトリックス下に配置することが行われている(以下、狭額縁設計ともいう)。
しかしながら、滴下工法で狭額縁設計の液晶表示素子を製造すると、ブラックマトリックスによりシール部に光の当たらない箇所が存在し、このような光の当たらない箇所に位置するシール剤は、充分に光硬化が進行しないため、硬化が不充分なシール剤と液晶との接触により、シール形状が保持できないという問題があった。
By the way, in the present age when mobile devices with various liquid crystal panels such as mobile phones and portable game machines are widespread, downsizing of devices is the most demanded issue. As a technique for miniaturization, there is a narrow frame of the liquid crystal display unit, and for example, the position of the seal portion is arranged under the black matrix (hereinafter also referred to as a narrow frame design).
However, when a liquid crystal display element with a narrow frame design is manufactured by the dropping method, there are places where the light does not hit the seal part due to the black matrix, and the sealant located in such places where the light does not hit is sufficiently photocured. Therefore, there is a problem that the seal shape cannot be maintained due to the contact between the sealing agent and the liquid crystal that is not sufficiently cured.

特開2001−133794号公報JP 2001-133794 A 国際公開第02/092718号パンフレットInternational Publication No. 02/092718 Pamphlet

本発明は、シール形状保持性に優れる液晶滴下工法用シール剤を提供することを目的とする。また、本発明は、該液晶滴下工法用シール剤を用いて製造される上下導通材料及び液晶表示素子を提供することを目的とする。 An object of this invention is to provide the sealing compound for liquid crystal dropping methods which is excellent in seal shape retainability. Moreover, an object of this invention is to provide the vertical conduction material and liquid crystal display element which are manufactured using this sealing compound for liquid crystal dropping methods.

本発明は、液晶滴下工法による液晶表示素子の製造に用いる液晶滴下工法用シール剤であって、硬化性樹脂と、重合開始剤及び/又は熱硬化剤と、中空粒子とを含有する液晶滴下工法用シール剤である。
以下に本発明を詳述する。
The present invention relates to a liquid crystal dropping method sealing agent used for the production of a liquid crystal display element by a liquid crystal dropping method, which comprises a curable resin, a polymerization initiator and / or a thermosetting agent, and hollow particles. Sealing agent.
The present invention is described in detail below.

本発明者は、シール剤に中空粒子を配合することにより、液晶表示素子の基板を貼り合わせた際に、該中空粒子が貼り合わせの圧力によって変形し、他のシール剤成分と液晶との間の障壁となって、シール剤の形状保持ができることを見出し、本発明を完成させるに至った。 The present inventor, by blending the hollow particles in the sealing agent, when the substrate of the liquid crystal display element is bonded, the hollow particles are deformed by the bonding pressure, between the other sealing agent component and the liquid crystal. As a result, the present inventors have found that the shape of the sealing agent can be maintained and completed the present invention.

本発明の液晶滴下工法用シール剤は中空粒子を含有する。
上記中空粒子は、液晶表示素子を製造する際に、他のシール剤成分と液晶との間の障壁となって、シール剤の形状を保持する役割を有する。
なお、本明細書において、上記中空粒子とは、粒子内に少なくとも1個の空隙を有する粒子を意味する。
The sealing agent for liquid crystal dropping method of the present invention contains hollow particles.
The hollow particles serve as a barrier between the other sealing agent component and the liquid crystal when the liquid crystal display element is manufactured, and have a role of maintaining the shape of the sealing agent.
In the present specification, the hollow particles mean particles having at least one void in the particles.

上記中空粒子の中空形状としては、単中空形状であってもよいし、多中空形状であってもよい。
また、上記中空粒子の空隙内は、空気等の気体を含有していてもよいし、他のシール剤成分を含有していてもよい。
なお、中空粒子内の空隙は、透過型電子顕微鏡を用いて確認することができる。
The hollow shape of the hollow particles may be a single hollow shape or a multi-hollow shape.
The voids of the hollow particles may contain a gas such as air or may contain other sealing agent components.
The voids in the hollow particles can be confirmed using a transmission electron microscope.

上記中空粒子を構成する材料としては、例えば、単官能単量体と多官能単量体とを重合させて得られる樹脂等が挙げられる。なかでも、(メタ)アクリル樹脂、スチレン系樹脂が好ましく、(メタ)アクリル樹脂がより好ましい。
なお、本明細書において、上記「(メタ)アクリル」とは、「アクリル又はメタクリル」を意味し、上記「(メタ)アクリル樹脂」とは、「(メタ)アクリロイル基を有する樹脂」を意味し、上記「(メタ)アクリロイル」とは、「アクリロイル又はメタクリロイル」を意味する。
Examples of the material constituting the hollow particles include a resin obtained by polymerizing a monofunctional monomer and a polyfunctional monomer. Among these, (meth) acrylic resins and styrene resins are preferable, and (meth) acrylic resins are more preferable.
In the present specification, the “(meth) acrylic” means “acrylic or methacrylic”, and the “(meth) acrylic resin” means “resin having a (meth) acryloyl group”. The above “(meth) acryloyl” means “acryloyl or methacryloyl”.

上記単官能単量体としては、例えば、スチレン、α−メチルスチレン、p−メチルスチレン、p−クロロスチレン、クロロメチルスチレン等のスチレン誘導体や、塩化ビニル、酢
酸ビニル、プロピオン酸ビニル等のビニルエステル類や、アクリロニトリル等の不飽和ニトリル類や、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸ブチル、(メタ)アクリル酸2−エチルヘキシル、(メタ)アクリル酸ステアリル、エチレングリコール(メタ)アクリレート、トリフルオロエチル(メタ)アクリレート、ペンタフルオロプロピル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート等の(メタ)アクリル酸エステル類及びその誘導体等が挙げられる。これら単官能単量体は、単独で用いられてもよいし、2種以上を組み合わせて用いられてもよい。
Examples of the monofunctional monomer include styrene derivatives such as styrene, α-methylstyrene, p-methylstyrene, p-chlorostyrene, and chloromethylstyrene, and vinyl esters such as vinyl chloride, vinyl acetate, and vinyl propionate. , Unsaturated nitriles such as acrylonitrile, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate, ethylene Examples include (meth) acrylic acid esters such as glycol (meth) acrylate, trifluoroethyl (meth) acrylate, pentafluoropropyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, and derivatives thereof. These monofunctional monomers may be used independently and may be used in combination of 2 or more type.

上記多官能単量体としては、例えば、ジビニルベンゼン、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、テトラメチロールメタントリ(メタ)アクリレート、テトラメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、ジアリルフタレート及びその異性体、トリアリルイソシアヌレート及びその誘導体、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート及びその誘導体、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート等のポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、プロピレングリコールジ(メタ)アクリレート等のポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリテトラメチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、1,3−ブチレングリコールジ(メタ)アクリレート、2,2−ビス[4−(メタクリロキシエトキシ)フェニル]プロパンジ(メタ)アクリレート、2,2−水添ビス[4−(アクリロキシポリエトキシ)フェニル]プロパンジ(メタ)アクリレート、2,2−ビス[4−(アクリロキシエトキシポリプロポキシ)フェニル]プロパンジ(メタ)アクリレート、ジアリルフタレート及びその異性体、トリアリルイソシアヌレート及びその誘導体、トリアリルイソシアネート、ベンゾグアナミン等が挙げられる。これら多官能単量体は、単独で用いられてもよいし、2種以上を組み合わせて用いられてもよい。
なお、本明細書において、上記(メタ)アクリレートとは、アクリレート又はメタクリレートを意味する。
Examples of the polyfunctional monomer include divinylbenzene, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, tetramethylolmethanetri (meth) acrylate, tetramethylolpropanetetra (meta ) Acrylate, diallyl phthalate and its isomers, triallyl isocyanurate and its derivatives, trimethylolpropane tri (meth) acrylate and its derivatives, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (Meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate such as ethylene glycol di (meth) acrylate, propylene glycol di (meth) acrylate, etc. Ripropylene glycol di (meth) acrylate, polytetramethylene glycol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, 1,3-butylene glycol di (meth) acrylate, 2,2-bis [4- (methacrylic) Roxyethoxy) phenyl] propanedi (meth) acrylate, 2,2-hydrogenated bis [4- (acryloxypolyethoxy) phenyl] propanedi (meth) acrylate, 2,2-bis [4- (acryloxyethoxypolypropoxy) Phenyl] propane di (meth) acrylate, diallyl phthalate and isomers thereof, triallyl isocyanurate and derivatives thereof, triallyl isocyanate, benzoguanamine and the like. These polyfunctional monomers may be used independently and may be used in combination of 2 or more type.
In the present specification, the (meth) acrylate means acrylate or methacrylate.

また、上記単官能単量体又は上記多官能単量体として、親水性基を有する単量体を用いてもよい。
上記親水性基としては、例えば、水酸基、カルボキシル基、スルホニル基、ホスホニル基、アミノ基、アミド結合、エーテル結合、チオール基、チオエーテル結合等が挙げられる。
上記親水性基を有する単量体としては、具体的には例えば、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、1,4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、(ポリ)カプロラクトン変性ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、アリルアルコール、グリセリンモノアリルエーテル等の水酸基を有する単量体や、(メタ)アクリル酸、α−エチルアクリル酸、クロトン酸等のアクリル酸、及び、それらのα−又はβ−アルキル誘導体や、フマル酸、マレイン酸、シトラコン酸、イタコン酸等の不飽和ジカルボン酸や、これら不飽和ジカルボン酸のモノ2−(メタ)アクリロイルオキシエチルエステル誘導体等のカルボキシル基を有する単量体や、t−ブチルアクリルアミドスルホン酸、スチレンスルホン酸、2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸等のスルホニル基を有する単量体や、ビニルホスフェート、2−(メタ)アクリロイルオキシエチルホスフェート等のホスホニル基を有する単量体や、ジメチルアミノエチルメタクリレート、ジエチルアミノエチルメタクリレート等のアクリロイル基を有するアミン類等のアミノ基を有する化合物や、(ポリ)エチレングリコール(メタ)アクリレート、(ポリ)プロピレングリコール(メタ)アクリレート等の水酸基とエーテル結合とをともに有する単量体や、(ポリ)エチレングリコール(メタ)アクリレートの末端アルキルエーテル、(ポリ)プロピレングリコール(メタ)アクリレートの末端アルキルエーテル、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート等のエーテル結合を有する単量体や、(メタ)アクリルアミド、メチロール(メタ)アクリルアミド、ビニルピロリドン等のアミド結合を有する単量体等が挙げられる。
Moreover, you may use the monomer which has a hydrophilic group as the said monofunctional monomer or the said polyfunctional monomer.
Examples of the hydrophilic group include a hydroxyl group, a carboxyl group, a sulfonyl group, a phosphonyl group, an amino group, an amide bond, an ether bond, a thiol group, and a thioether bond.
Specific examples of the monomer having a hydrophilic group include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 1,4-hydroxybutyl (meth) acrylate, (poly) caprolactone-modified hydroxyethyl (meth) acrylate, Monomers having a hydroxyl group such as allyl alcohol and glyceryl monoallyl ether, acrylic acid such as (meth) acrylic acid, α-ethylacrylic acid and crotonic acid, and α- or β-alkyl derivatives thereof, fumar Monomers having a carboxyl group such as unsaturated dicarboxylic acids such as acid, maleic acid, citraconic acid and itaconic acid, and mono 2- (meth) acryloyloxyethyl ester derivatives of these unsaturated dicarboxylic acids, and t-butylacrylamide Sulfonic acid, styrene sulfonic acid, 2-acrylamido-2-methylpropyl Monomers having a sulfonyl group such as pansulfonic acid, monomers having a phosphonyl group such as vinyl phosphate and 2- (meth) acryloyloxyethyl phosphate, and acryloyl groups such as dimethylaminoethyl methacrylate and diethylaminoethyl methacrylate. Compounds having amino groups such as amines, monomers having both hydroxyl groups and ether bonds such as (poly) ethylene glycol (meth) acrylate and (poly) propylene glycol (meth) acrylate, and (poly) ethylene Monomers having ether bonds such as terminal alkyl ethers of glycol (meth) acrylate, terminal alkyl ethers of (poly) propylene glycol (meth) acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, and (meth) acrylic Bromide, methylol (meth) acrylamide, and monomers having a amide bond such as vinyl pyrrolidone.

上記中空粒子を製造する方法としては、例えば、樹脂粒子に発泡剤を含有させておき、後に該発泡剤を発泡させる方法や、樹脂粒子中に揮発性物質を封入しておき、後に該揮発性物質をガス化させて膨張させる方法や、樹脂粒子を溶融させ、これに空気等の気体を注入する方法や、重合性単量体と非重合性の溶剤を混合して重合し、溶剤を内包した樹脂粒子を得た後、溶剤を除去する方法(以下、溶剤除去法ともいう)等が挙げられる。なかでも、充分な強度を有する中空粒子を安定的に製造できることから、溶剤除去法が好ましい。 Examples of the method for producing the hollow particles include a method in which a foaming agent is contained in resin particles and the foaming agent is foamed later, or a volatile substance is encapsulated in resin particles, and the A method of gasifying and expanding a material, a method of melting resin particles and injecting a gas such as air into the mixture, a polymerization monomer and a non-polymerizable solvent are mixed and polymerized, and the solvent is contained. After obtaining the resin particles, a method of removing the solvent (hereinafter also referred to as a solvent removal method) and the like can be mentioned. Among these, the solvent removal method is preferable because hollow particles having sufficient strength can be stably produced.

上記溶剤除去法としては、具体的には例えば、上記単官能単量体、上記多官能単量体、及び、必要に応じて配合されるその他の単量体からなる単量体成分に油性物質を加えて分散液を調製し、単量体成分を重合させて樹脂粒子を得た後、油性物質を除去して単孔の中空粒子を製造する方法や、上記単量体成分と疎水性揮発性溶剤の存在下に水中で懸濁重合させ、乾燥して疎水性揮発性溶剤を揮散させ多孔の中空粒子を製造する方法や、上記単量体成分と非重合性の溶剤を混合し、重合開始剤の10時間半減期温度よりも10℃以上高い温度重合する方法等が挙げられる。 As the solvent removal method, specifically, for example, an oily substance is added to a monomer component composed of the monofunctional monomer, the polyfunctional monomer, and other monomers blended as necessary. To obtain a resin particle by polymerizing the monomer component, and then to remove the oily substance to produce a single-hole hollow particle, and the monomer component and the hydrophobic volatilization Polymerization in suspension in water in the presence of water-soluble solvent, drying to volatilize hydrophobic volatile solvent to produce porous hollow particles, or mixing the above monomer components and non-polymerizable solvent And a method of polymerizing at a temperature higher by 10 ° C. or more than the 10-hour half-life temperature of the initiator.

上記中空粒子のうち市販されているものとしては、例えば、マツモトマイクロスフェアーMHB−R(松本油脂製薬社製)、ADVANCELLHB−2051、ADVANCELLHB−4051(いずれも積水化学工業社製)等が挙げられる。 Examples of commercially available hollow particles include Matsumoto Microsphere MHB-R (manufactured by Matsumoto Yushi Seiyaku Co., Ltd.), ADVANCELLHB-2051, ADVANCELLHB-4051 (all manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd.), and the like. .

上記中空粒子は、中空率の好ましい下限が20%、好ましい上限が80%である。上記中空粒子の中空率が20%未満であると、シール剤成分と液晶との間の障壁となる機能が低下することがある。上記中空粒子の中空率が80%を超えると、脆くなり粒子としての形状を保持できなくなることがある。上記中空粒子の中空率のより好ましい下限は30%、より好ましい上限は50%である。
なお、本明細書において、上記「中空粒子の中空率」は、中空微粒子全体の体積に対する中空部分の体積の比率を百分率で表したものを意味し、例えば、ポロシメーター2000(アムコ社製)を用いて測定することができる。
The hollow particle has a preferable lower limit of the hollowness of 20% and a preferable upper limit of 80%. When the hollow ratio of the hollow particles is less than 20%, the function as a barrier between the sealing agent component and the liquid crystal may be lowered. If the hollow ratio of the hollow particles exceeds 80%, the particles may become brittle and may not be able to maintain the shape as particles. The more preferable lower limit of the hollow ratio of the hollow particles is 30%, and the more preferable upper limit is 50%.
In the present specification, the “hollow ratio of the hollow particles” means a ratio of the volume of the hollow portion to the volume of the entire hollow microparticles as a percentage. For example, Porosimeter 2000 (manufactured by AMCO) is used. Can be measured.

本発明の液晶滴下工法用シール剤は、液晶滴下工法による液晶表示素子の製造に用いられる。上記中空粒子の平均粒子径は、該液晶表示素子のセルギャップの100%以上の大きさであることが好ましい。上記中空粒子の平均粒子径が液晶表示素子のセルギャップの100%未満であると、得られる液晶滴下工法用シール剤のシール形状保持性が低下することがある。上記中空粒子の平均粒子径は、液晶表示素子のセルギャップの105%以上の大きさであることがより好ましい。
具体的には、上記中空粒子の平均粒子径の好ましい下限は4μm、好ましい上限は40μmである。上記中空粒子の平均粒子径が4μm未満であると、得られる液晶滴下工法用シール剤のシール形状保持性が低下することがある。上記中空粒子の平均粒子径が40μmを超えると、得られる液晶表示素子にギャップむらが生じることがある。上記中空粒子の平均粒子径のより好ましい下限は5μm、より好ましい上限は20μmである。
なお、上記中空粒子の平均粒子径は、走査型電子顕微鏡を用いて、1万倍の倍率で観察した粒子10個の粒子径の平均値を意味する。上記走査型電子顕微鏡としては、S−4300(日立ハイテクノロジーズ社製)等を用いることができる。
The sealant for a liquid crystal dropping method of the present invention is used for manufacturing a liquid crystal display element by a liquid crystal dropping method. The average particle diameter of the hollow particles is preferably 100% or more of the cell gap of the liquid crystal display element. When the average particle size of the hollow particles is less than 100% of the cell gap of the liquid crystal display element, the seal shape retention property of the obtained liquid crystal dropping method sealing agent may be lowered. The average particle diameter of the hollow particles is more preferably 105% or more of the cell gap of the liquid crystal display element.
Specifically, the preferable lower limit of the average particle diameter of the hollow particles is 4 μm, and the preferable upper limit is 40 μm. When the average particle diameter of the hollow particles is less than 4 μm, the seal shape retention of the obtained liquid crystal dropping method sealing agent may be lowered. When the average particle diameter of the hollow particles exceeds 40 μm, gap unevenness may occur in the obtained liquid crystal display element. A more preferable lower limit of the average particle diameter of the hollow particles is 5 μm, and a more preferable upper limit is 20 μm.
The average particle diameter of the hollow particles means an average value of the particle diameters of 10 particles observed at a magnification of 10,000 using a scanning electron microscope. As the scanning electron microscope, S-4300 (manufactured by Hitachi High-Technologies Corporation) or the like can be used.

上記中空粒子の含有量は、硬化性樹脂100重量部に対して、好ましい下限が3重量部、好ましい上限が70重量部である。上記柔軟粒子の含有量が3重量部未満であると、シール形状を保持する効果が充分に発揮されないことがある。上記中空粒子の含有量が70重量部を超えると、得られる液晶滴下工法用シール剤が接着性に劣るものとなることがある。上記柔軟粒子の含有量のより好ましい下限は5重量部、より好ましい上限は60重量部、更に好ましい下限は10重量部、更に好ましい上限は50重量部である。 As for the content of the hollow particles, a preferable lower limit is 3 parts by weight and a preferable upper limit is 70 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the curable resin. If the content of the flexible particles is less than 3 parts by weight, the effect of maintaining the seal shape may not be sufficiently exhibited. When content of the said hollow particle exceeds 70 weight part, the sealing compound for liquid crystal dropping methods obtained may become inferior to adhesiveness. The more preferable lower limit of the content of the flexible particles is 5 parts by weight, the more preferable upper limit is 60 parts by weight, the still more preferable lower limit is 10 parts by weight, and the still more preferable upper limit is 50 parts by weight.

本発明の液晶滴下工法用シール剤は、硬化性樹脂を含有する。
本発明の液晶滴下工法用シール剤は、速やかに硬化させることができるため、硬化性樹脂として(メタ)アクリル樹脂を含有し、かつ、重合開始剤として後述するラジカル重合開始剤を含有することが好ましく、加熱のみで本発明の液晶滴下工法用シール剤を速やかに硬化させることが可能となり、狭額縁設計の液晶表示素子であっても、液晶汚染の発生を充分に抑制することができるため、(メタ)アクリル樹脂と後述する熱ラジカル重合開始剤とを含有することがより好ましい。
The sealing agent for liquid crystal dropping method of the present invention contains a curable resin.
Since the sealing agent for liquid crystal dropping method of the present invention can be cured quickly, it contains a (meth) acrylic resin as a curable resin and a radical polymerization initiator described later as a polymerization initiator. Preferably, it becomes possible to quickly cure the liquid crystal dropping method sealing agent of the present invention only by heating, and even in a liquid crystal display element with a narrow frame design, the occurrence of liquid crystal contamination can be sufficiently suppressed, It is more preferable to contain a (meth) acrylic resin and a thermal radical polymerization initiator described later.

上記硬化性樹脂は、上記(メタ)アクリル樹脂としてエポキシ(メタ)アクリレートを含有することが好ましい。
なお、本明細書において、上記エポキシ(メタ)アクリレートとは、エポキシ樹脂中の全てのエポキシ基を(メタ)アクリル酸と反応させた化合物のことを意味する。
The curable resin preferably contains an epoxy (meth) acrylate as the (meth) acrylic resin.
In addition, in this specification, the said epoxy (meth) acrylate means the compound which made all the epoxy groups in an epoxy resin react with (meth) acrylic acid.

上記エポキシ(メタ)アクリレートとしては、例えば、(メタ)アクリル酸とエポキシ樹脂とを、常法に従って塩基性触媒の存在下で反応させることにより得られるもの等が挙げられる。 Examples of the epoxy (meth) acrylate include those obtained by reacting (meth) acrylic acid and an epoxy resin in the presence of a basic catalyst according to a conventional method.

上記エポキシ(メタ)アクリレートを合成するための原料となるエポキシ樹脂としては、例えば、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビスフェノールS型エポキシ樹脂、2,2’−ジアリルビスフェノールA型エポキシ樹脂、水添ビスフェノール型エポキシ樹脂、プロピレンオキシド付加ビスフェノールA型エポキシ樹脂、レゾルシノール型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、スルフィド型エポキシ樹脂、ジフェニルエーテル型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、オルトクレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエンノボラック型エポキシ樹脂、ビフェニルノボラック型エポキシ樹脂、ナフタレンフェノールノボラック型エポキシ樹脂、グリシジルアミン型エポキシ樹脂、アルキルポリオール型エポキシ樹脂、ゴム変性型エポキシ樹脂、グリシジルエステル化合物、ビスフェノールA型エピスルフィド樹脂等が挙げられる。 Examples of the epoxy resin that is a raw material for synthesizing the epoxy (meth) acrylate include bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, bisphenol S type epoxy resin, and 2,2′-diallyl bisphenol A type epoxy resin. , Hydrogenated bisphenol type epoxy resin, propylene oxide added bisphenol A type epoxy resin, resorcinol type epoxy resin, biphenyl type epoxy resin, sulfide type epoxy resin, diphenyl ether type epoxy resin, dicyclopentadiene type epoxy resin, naphthalene type epoxy resin, phenol Novolac epoxy resin, ortho-cresol novolac epoxy resin, dicyclopentadiene novolac epoxy resin, biphenyl novolac epoxy resin, naphtha Emissions phenol novolak type epoxy resin, glycidyl amine type epoxy resin, alkyl polyol type epoxy resin, rubber modified epoxy resin, glycidyl ester compounds, bisphenol A type episulfide resins.

上記ビスフェノールA型エポキシ樹脂のうち市販されているものとしては、例えば、エピコート828EL、エピコート1001、エピコート1004(いずれも三菱化学社製)、エピクロン850−S(DIC社製)等が挙げられる。
上記ビスフェノールF型エポキシ樹脂のうち市販されているものとしては、例えば、エピコート806、エピコート4004(いずれも三菱化学社製)等が挙げられる。
上記ビスフェノールS型エポキシ樹脂のうち市販されているものとしては、例えば、エピクロンEXA1514(DIC社製)等が挙げられる。
上記2,2’−ジアリルビスフェノールA型エポキシ樹脂のうち市販されているものとしては、例えば、RE−810NM(日本化薬社製)等が挙げられる。
上記水添ビスフェノール型エポキシ樹脂のうち市販されているものとしては、例えば、エピクロンEXA7015(DIC社製)等が挙げられる。
上記プロピレンオキシド付加ビスフェノールA型エポキシ樹脂のうち市販されているものとしては、例えば、EP−4000S(ADEKA社製)等が挙げられる。
上記レゾルシノール型エポキシ樹脂のうち市販されているものとしては、例えば、EX−201(ナガセケムテックス社製)等が挙げられる。
上記ビフェニル型エポキシ樹脂のうち市販されているものとしては、例えば、エピコートYX−4000H(三菱化学社製)等が挙げられる。
上記スルフィド型エポキシ樹脂のうち市販されているものとしては、例えば、YSLV−50TE(新日鐵化学社製)等が挙げられる。
上記ジフェニルエーテル型エポキシ樹脂のうち市販されているものとしては、例えば、YSLV−80DE(新日鐵化学社製)等が挙げられる。
上記ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂のうち市販されているものとしては、例えば、EP−4088S(ADEKA社製)等が挙げられる。
上記ナフタレン型エポキシ樹脂のうち市販されているものとしては、例えば、エピクロンHP4032、エピクロンEXA−4700(いずれもDIC社製)等が挙げられる。
上記フェノールノボラック型エポキシ樹脂のうち市販されているものとしては、例えば、エピクロンN−770(DIC社製)等が挙げられる。
上記オルトクレゾールノボラック型エポキシ樹脂のうち市販されているものとしては、例えば、エピクロンN−670−EXP−S(DIC社製)等が挙げられる。
上記ジシクロペンタジエンノボラック型エポキシ樹脂のうち市販されているものとしては、例えば、エピクロンHP7200(DIC社製)等が挙げられる。
上記ビフェニルノボラック型エポキシ樹脂のうち市販されているものとしては、例えば、NC−3000P(日本化薬社製)等が挙げられる。
上記ナフタレンフェノールノボラック型エポキシ樹脂のうち市販されているものとしては、例えば、ESN−165S(新日鐵化学社製)等が挙げられる。
上記グリシジルアミン型エポキシ樹脂のうち市販されているものとしては、例えば、エピコート630(三菱化学社製)、エピクロン430(DIC社製)、TETRAD−X(三菱ガス化学社製)等が挙げられる。
上記アルキルポリオール型エポキシ樹脂のうち市販されているものとしては、例えば、ZX−1542(新日鐵化学社製)、エピクロン726(DIC社製)、エポライト80MFA(共栄社化学社製)、デナコールEX−611(ナガセケムテックス社製)等が挙げられる。
上記ゴム変性型エポキシ樹脂のうち市販されているものとしては、例えば、YR−450、YR−207(いずれも新日鐵化学社製)、エポリードPB(ダイセル化学工業社製)等が挙げられる。
上記グリシジルエステル化合物のうち市販されているものとしては、例えば、デナコールEX−147(ナガセケムテックス社製)等が挙げられる。
上記ビスフェノールA型エピスルフィド樹脂のうち市販されているものとしては、例えば、エピコートYL−7000(三菱化学社製)等が挙げられる。
上記エポキシ樹脂のうちその他に市販されているものとしては、例えば、YDC−1312、YSLV−80XY、YSLV−90CR(いずれも新日鐵化学社製)、XAC4151(旭化成社製)、エピコート1031、エピコート1032(いずれも三菱化学社製)、EXA−7120(DIC社製)、TEPIC(日産化学社製)等が挙げられる。
Examples of commercially available bisphenol A type epoxy resins include Epicoat 828EL, Epicoat 1001, Epicoat 1004 (all manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation), Epicron 850-S (manufactured by DIC Corporation), and the like.
As what is marketed among the said bisphenol F type epoxy resins, Epicoat 806, Epicoat 4004 (all are Mitsubishi Chemical Corporation make) etc. are mentioned, for example.
As what is marketed among the said bisphenol S-type epoxy resins, Epicron EXA1514 (made by DIC Corporation) etc. are mentioned, for example.
As what is marketed among the said 2,2'- diallyl bisphenol A type epoxy resins, RE-810NM (made by Nippon Kayaku Co., Ltd.) etc. are mentioned, for example.
As what is marketed among the said hydrogenated bisphenol type | mold epoxy resins, Epicron EXA7015 (made by DIC Corporation) etc. are mentioned, for example.
As what is marketed among the said propylene oxide addition bisphenol A type epoxy resins, EP-4000S (made by ADEKA) etc. are mentioned, for example.
As what is marketed among the said resorcinol type epoxy resins, EX-201 (made by Nagase ChemteX Corporation) etc. are mentioned, for example.
As what is marketed among the said biphenyl type epoxy resins, Epicoat YX-4000H (made by Mitsubishi Chemical Corporation) etc. are mentioned, for example.
As what is marketed among the said sulfide type epoxy resins, YSLV-50TE (made by Nippon Steel Chemical Co., Ltd.) etc. are mentioned, for example.
As what is marketed among the said diphenyl ether type epoxy resins, YSLV-80DE (made by Nippon Steel Chemical Co., Ltd.) etc. are mentioned, for example.
As what is marketed among the said dicyclopentadiene type epoxy resins, EP-4088S (made by ADEKA) etc. are mentioned, for example.
As what is marketed among the said naphthalene type | mold epoxy resins, Epicron HP4032, Epicron EXA-4700 (all are the products made from DIC) etc. are mentioned, for example.
As what is marketed among the said phenol novolak-type epoxy resins, Epicron N-770 (made by DIC Corporation) etc. are mentioned, for example.
As what is marketed among the said ortho cresol novolak-type epoxy resins, Epicron N-670-EXP-S (made by DIC) etc. are mentioned, for example.
As what is marketed among the said dicyclopentadiene novolak-type epoxy resins, epiclone HP7200 (made by DIC) etc. are mentioned, for example.
As what is marketed among the said biphenyl novolak-type epoxy resins, NC-3000P (made by Nippon Kayaku Co., Ltd.) etc. are mentioned, for example.
As what is marketed among the said naphthalene phenol novolak-type epoxy resins, ESN-165S (made by Nippon Steel Chemical Co., Ltd.) etc. are mentioned, for example.
As what is marketed among the said glycidyl amine type epoxy resins, Epicoat 630 (made by Mitsubishi Chemical Corporation), Epicron 430 (made by DIC Corporation), TETRAD-X (made by Mitsubishi Gas Chemical Co., Inc.) etc. are mentioned, for example.
Examples of commercially available alkyl polyol type epoxy resins include ZX-1542 (manufactured by Nippon Steel Chemical Co., Ltd.), Epicron 726 (manufactured by DIC Corporation), Epolite 80MFA (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.), Denacol EX- 611 (manufactured by Nagase ChemteX Corporation).
Examples of commercially available rubber-modified epoxy resins include YR-450, YR-207 (all manufactured by Nippon Steel Chemical Co., Ltd.), Epolide PB (manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.), and the like.
As what is marketed among the said glycidyl ester compounds, Denacol EX-147 (made by Nagase ChemteX Corporation) etc. is mentioned, for example.
As what is marketed among the said bisphenol A type | mold episulfide resin, Epicoat YL-7000 (made by Mitsubishi Chemical Corporation) etc. are mentioned, for example.
Other commercially available epoxy resins include, for example, YDC-1312, YSLV-80XY, YSLV-90CR (all manufactured by Nippon Steel Chemical Co., Ltd.), XAC4151 (manufactured by Asahi Kasei Co., Ltd.), Epicoat 1031, and Epicoat. 1032 (all manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation), EXA-7120 (manufactured by DIC Corporation), TEPIC (manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.) and the like.

上記エポキシ(メタ)アクリレートのうち市販されているものとしては、例えば、EBECRYL860、EBECRYL3200、EBECRYL3201、EBECRYL3412、EBECRYL3600、EBECRYL3700、EBECRYL3701、EBECRYL3702、EBECRYL3703、EBECRYL3800、EBECRYL6040、EBECRYLRDX63182(いずれもダイセル・サイテック社製)、EA−1010、EA−1020、EA−5323、EA−5520、EA−CHD、EMA−1020(いずれも新中村化学工業社製)、エポキシエステルM−600A、エポキシエステル40EM、エポキシエステル70PA、エポキシエステル200PA、エポキシエステル80MFA、エポキシエステル3002M、エポキシエステル3002A、エポキシエステル1600A、エポキシエステル3000M、エポキシエステル3000A、エポキシエステル200EA、エポキシエステル400EA(いずれも共栄社化学社製)、デナコールアクリレートDA−141、デナコールアクリレートDA−314、デナコールアクリレートDA−911(いずれもナガセケムテックス社製)等が挙げられる。 Examples of commercially available epoxy (meth) acrylates include EBECRYL860, EBECRYL3200, EBECRYL3201, EBECRYL3412, EBECRYL3600, EBECRYL3700, EBECRYL3701, EBECRYL3702, and EBECRYL3703, EA-1010, EA-1020, EA-5323, EA-5520, EA-CHD, EMA-1020 (all manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.), epoxy ester M-600A, epoxy ester 40EM, epoxy ester 70PA, epoxy Ester 200PA, epoxy ester 80MFA Epoxy ester 3002M, Epoxy ester 3002A, Epoxy ester 1600A, Epoxy ester 3000M, Epoxy ester 3000A, Epoxy ester 200EA, Epoxy ester 400EA (all manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.), Denacol acrylate DA-141, Denacol acrylate DA-314, Denacol acrylate DA-911 (all manufactured by Nagase ChemteX Corporation) and the like.

上記エポキシ(メタ)アクリレート以外の他の(メタ)アクリル樹脂としては、例えば、(メタ)アクリル酸に水酸基を有する化合物を反応させることにより得られるエステル化合物、イソシアネートに水酸基を有する(メタ)アクリル酸誘導体を反応させることにより得られるウレタン(メタ)アクリレート等が挙げられる。 Examples of other (meth) acrylic resins other than the epoxy (meth) acrylate include ester compounds obtained by reacting a compound having a hydroxyl group with (meth) acrylic acid, and (meth) acrylic acid having a hydroxyl group in isocyanate. Examples thereof include urethane (meth) acrylate obtained by reacting a derivative.

上記(メタ)アクリル酸に水酸基を有する化合物を反応させることにより得られるエステル化合物のうち単官能のものとしては、例えば、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、t−ブチル(メタ)アクリレート、イソオクチル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、2−メトキシエチル(メタ)アクリレート、メトキシエチレングリコール(メタ)アクリレート、2−エトキシエチル(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、エチルカルビトール(メタ)アクリレート、フェノキシエチル(メタ)アクリレート、フェノキシジエチレングリコール(メタ)アクリレート、フェノキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレート、2,2,2−トリフルオロエチル(メタ)アクリレート、2,2,3,3−テトラフルオロプロピル(メタ)アクリレート、1H,1H,5H−オクタフルオロペンチル(メタ)アクリレート、イミド(メタ)アクリレート、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、n−ブチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、n−ブチル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、n−オクチル(メタ)アクリレート、イソノニル(メタ)アクリレート、イソミリスチル(メタ)アクリレート、2−ブトキシエチル(メタ)アクリレート、2−フェノキシエチル(メタ)アクリレート、ビシクロペンテニル(メタ)アクリレート、イソデシル(メタ)アクリレート、ジエチルアミノエチル(メタ)アクリレート、ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、2−(メタ)アクリロイロキシエチルコハク酸、2−(メタ)アクリロイロキシエチルヘキサヒドロフタル酸、2−(メタ)アクリロイロキシエチル2−ヒドロキシプロピルフタレート、グリシジル(メタ)アクリレート、2−(メタ)アクリロイロキシエチルホスフェート等が挙げられる。 Among the ester compounds obtained by reacting the above (meth) acrylic acid with a compound having a hydroxyl group, examples of monofunctional compounds include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 4 -Hydroxybutyl (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, t-butyl (meth) acrylate, isooctyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate, isobornyl (Meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, 2-methoxyethyl (meth) acrylate, methoxyethylene glycol (meth) acrylate, 2-ethoxyethyl (meth) acrylate, tetrahydroph Furyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, ethyl carbitol (meth) acrylate, phenoxyethyl (meth) acrylate, phenoxydiethylene glycol (meth) acrylate, phenoxypolyethylene glycol (meth) acrylate, methoxypolyethylene glycol (meth) acrylate, 2,2,2-trifluoroethyl (meth) acrylate, 2,2,3,3-tetrafluoropropyl (meth) acrylate, 1H, 1H, 5H-octafluoropentyl (meth) acrylate, imide (meth) acrylate, Methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) ) Acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, n-octyl (meth) acrylate, isononyl (meth) acrylate, isomyristyl (meth) acrylate, 2-butoxyethyl (meth) acrylate, 2-phenoxyethyl (meth) acrylate, Bicyclopentenyl (meth) acrylate, isodecyl (meth) acrylate, diethylaminoethyl (meth) acrylate, dimethylaminoethyl (meth) acrylate, 2- (meth) acryloyloxyethyl succinic acid, 2- (meth) acryloyloxyethyl hexa Examples include hydrophthalic acid, 2- (meth) acryloyloxyethyl 2-hydroxypropyl phthalate, glycidyl (meth) acrylate, 2- (meth) acryloyloxyethyl phosphate, and the like.

上記エステル化合物のうち2官能のものとしては、例えば、1,4−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,3−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、1,9−ノナンジオールジ(メタ)アクリレート、1,10−デカンジオールジ(メタ)アクリレート、2−n−ブチル−2−エチル−1,3−プロパンジオールジ(メタ)アクリレート、ジプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコール(メタ)アクリレート、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、テトラエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、プロピレンオキシド付加ビスフェノールAジ(メタ)アクリレート、エチレンオキシド付加ビスフェノールAジ(メタ)アクリレート、エチレンオキシド付加ビスフェノールFジ(メタ)アクリレート、ジメチロールジシクロペンタジエニルジ(メタ)アクリレート、1,3−ブチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、エチレンオキシド変性イソシアヌル酸ジ(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ−3−(メタ)アクリロイロキシプロピル(メタ)アクリレート、カーボネートジオールジ(メタ)アクリレート、ポリエーテルジオールジ(メタ)アクリレート、ポリエステルジオールジ(メタ)アクリレート、ポリカプロラクトンジオールジ(メタ)アクリレート、ポリブタジエンジオールジ(メタ)アクリレート等が挙げられる。 Examples of the bifunctional one of the ester compounds include 1,4-butanediol di (meth) acrylate, 1,3-butanediol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, 1,9-nonanediol di (meth) acrylate, 1,10-decanediol di (meth) acrylate, 2-n-butyl-2-ethyl-1,3-propanediol di (meth) acrylate, dipropylene glycol di (Meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) acrylate, polypropylene glycol (meth) acrylate, ethylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, tetraethylene glycol di (meth) acrylate, polyethylene glycol di (me ) Acrylate, propylene oxide-added bisphenol A di (meth) acrylate, ethylene oxide-added bisphenol A di (meth) acrylate, ethylene oxide-added bisphenol F di (meth) acrylate, dimethylol dicyclopentadienyl di (meth) acrylate, 1,3 -Butylene glycol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, ethylene oxide-modified isocyanuric acid di (meth) acrylate, 2-hydroxy-3- (meth) acryloyloxypropyl (meth) acrylate, carbonate diol di ( (Meth) acrylate, polyether diol di (meth) acrylate, polyester diol di (meth) acrylate, polycaprolactone diol di (meth) acrylate Polybutadiene di (meth) acrylate.

上記エステル化合物のうち3官能以上のものとしては、例えば、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、プロピレンオキシド付加トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、エチレンオキシド付加トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、カプロラクトン変性トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、エチレンオキシド付加イソシアヌル酸トリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、グリセリントリ(メタ)アクリレート、プロピレンオキシド付加グリセリントリ(メタ)アクリレート、トリス(メタ)アクリロイルオキシエチルホスフェート等が挙げられる。 Examples of the ester compound having three or more functional groups include pentaerythritol tri (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, propylene oxide-added trimethylolpropane tri (meth) acrylate, and ethylene oxide-added trimethylolpropane tri. (Meth) acrylate, caprolactone-modified trimethylolpropane tri (meth) acrylate, ethylene oxide-added isocyanuric acid tri (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, ditrimethylolpropane tetra (meth) ) Acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, glycerin tri (meth) acrylate, propylene oxide De additional glycerin tri (meth) acrylate, tris (meth) acryloyloxyethyl phosphate, and the like.

上記ウレタン(メタ)アクリレートは、例えば、2つのイソシアネート基を有する化合物1当量に対して水酸基を有する(メタ)アクリル酸誘導体2当量を、触媒量のスズ系化合物存在下で反応させることによって得ることができる。 The urethane (meth) acrylate is obtained, for example, by reacting 2 equivalents of a (meth) acrylic acid derivative having a hydroxyl group with 1 equivalent of a compound having two isocyanate groups in the presence of a catalytic amount of a tin-based compound. Can do.

上記ウレタン(メタ)アクリレートの原料となるイソシアネートとしては、例えば、イソホロンジイソシアネート、2,4−トリレンジイソシアネート、2,6−トリレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、ジフェニルメタン−4,4’−ジイソシアネート(MDI)、水添MDI、ポリメリックMDI、1,5−ナフタレンジイソシアネート、ノルボルナンジイソシネート、トリジンジイソシアネート、キシリレンジイオシアネート(XDI)、水添XDI、リジンジイソシアネート、トリフェニルメタントリイソシアネート、トリス(イソシアネートフェニル)チオフホスフェート、テトラメチルキシレンジイソシアネート、1,6,10−ウンデカントリイソシアネート等が挙げられる。 As an isocyanate used as the raw material of the urethane (meth) acrylate, for example, isophorone diisocyanate, 2,4-tolylene diisocyanate, 2,6-tolylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, trimethylhexamethylene diisocyanate, diphenylmethane-4,4 ′ -Diisocyanate (MDI), hydrogenated MDI, polymeric MDI, 1,5-naphthalene diisocyanate, norbornane diisocyanate, tolidine diisocyanate, xylylene diisocyanate (XDI), hydrogenated XDI, lysine diisocyanate, triphenylmethane triisocyanate, tris (Isocyanate phenyl) thiophosphate, tetramethylxylene diisocyanate, 1,6,10-undecane triisocyanate Etc. The.

また、上記イソシアネートとしては、例えば、エチレングリコール、グリセリン、ソルビトール、トリメチロールプロパン、(ポリ)プロピレングリコール、カーボネートジオール、ポリエーテルジオール、ポリエステルジオール、ポリカプロラクトンジオール等のポリオールと過剰のイソシアネートとの反応により得られる鎖延長されたイソシアネート化合物も使用することができる。 Examples of the isocyanate include, for example, a reaction between a polyol such as ethylene glycol, glycerin, sorbitol, trimethylolpropane, (poly) propylene glycol, carbonate diol, polyether diol, polyester diol, polycaprolactone diol and excess isocyanate. The resulting chain-extended isocyanate compound can also be used.

上記ウレタン(メタ)アクリレートの原料となる、水酸基を有する(メタ)アクリル酸誘導体としては、例えば、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート等の市販品やエチレングリコール、プロピレングリコール、1,3−プロパンジオール、1,3−ブタンジオール、1,4−ブタンジオール、ポリエチレングリコール等の二価のアルコールのモノ(メタ)アクリレート、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、グリセリン等の三価のアルコールのモノ(メタ)アクリレート又はジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールA型エポキシアクリレート等のエポキシ(メタ)アクリレート等が挙げられる。 Examples of the (meth) acrylic acid derivative having a hydroxyl group that is a raw material for the urethane (meth) acrylate include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, and 4-hydroxybutyl (meth). Commercial products such as acrylate and 2-hydroxybutyl (meth) acrylate, and divalent alcohols such as ethylene glycol, propylene glycol, 1,3-propanediol, 1,3-butanediol, 1,4-butanediol, and polyethylene glycol Epoxy (meth) acrylates such as mono (meth) acrylate or di (meth) acrylate of trivalent alcohols such as mono (meth) acrylate, trimethylolethane, trimethylolpropane and glycerin, and bisphenol A type epoxy acrylate Etc. The.

上記ウレタン(メタ)アクリレートのうち市販されているものとしては、例えば、M−1100、M−1200、M−1210、M−1600(いずれも東亞合成社製)、EBECRYL230、EBECRYL270、EBECRYL4858、EBECRYL8402、EBECRYL8804、EBECRYL8803、EBECRYL8807、EBECRYL9260、EBECRYL1290、EBECRYL5129、EBECRYL4842、EBECRYL210、EBECRYL4827、EBECRYL6700、EBECRYL220、EBECRYL2220(いずれもダイセル・サイテック社製)、アートレジンUN−9000H、アートレジンUN−9000A、アートレジンUN−7100、アートレジンUN−1255、アートレジンUN−330、アートレジンUN−3320HB、アートレジンUN−1200TPK、アートレジンSH−500B(いずれも根上工業社製)、U−122P、U−108A、U−340P、U−4HA、U−6HA、U−324A、U−15HA、UA−5201P、UA−W2A、U−1084A、U−6LPA、U−2HA、U−2PHA、UA−4100、UA−7100、UA−4200、UA−4400、UA−340P、U−3HA、UA−7200、U−2061BA、U−10H、U−122A、U−340A、U−108、U−6H、UA−4000(いずれも新中村化学工業社製)、AH−600、AT−600、UA−306H、AI−600、UA−101T、UA−101I、UA−306T、UA−306I(いずれも共栄社化学社製)等が挙げられる。 Examples of commercially available urethane (meth) acrylates include M-1100, M-1200, M-1210, M-1600 (all manufactured by Toagosei Co., Ltd.), EBECRYL230, EBECRYL270, EBECRYL4858, EBECRYL8402, EBECRYL8804, EBECRYL8803, EBECRYL8807, EBECRYL9260, EBECRYL1290, EBECRYL5129, EBECRYL4842, EBECRYL210, EBECRYL4827, EBECRYL6700, EBECRYL6700, EBECRYL6700 , Art resin N-1255, Art Resin UN-330, Art Resin UN-3320HB, Art Resin UN-1200TPK, Art Resin SH-500B (all manufactured by Negami Industrial Co., Ltd.), U-122P, U-108A, U-340P, U- 4HA, U-6HA, U-324A, U-15HA, UA-5201P, UA-W2A, U-1084A, U-6LPA, U-2HA, U-2PHA, UA-4100, UA-7100, UA-4200, UA-4400, UA-340P, U-3HA, UA-7200, U-2061BA, U-10H, U-122A, U-340A, U-108, U-6H, UA-4000 (all Shin-Nakamura Chemical Industries Manufactured by AH), AH-600, AT-600, UA-306H, AI-600, UA-101T, UA-101I, A-306T, UA-306I (all manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.).

上記(メタ)アクリル樹脂は、液晶への悪影響を抑える点で、−OH基、−NH−基、−NH基等の水素結合性のユニットを有するものが好ましい。
また、上記(メタ)アクリル樹脂は、反応性の高さから分子中に(メタ)アクリロイル基を2〜3個有するものが好ましい。
The (meth) acrylic resin preferably has a hydrogen-bonding unit such as —OH group, —NH— group, and —NH 2 group from the viewpoint of suppressing adverse effects on the liquid crystal.
The (meth) acrylic resin preferably has 2 to 3 (meth) acryloyl groups in the molecule because of its high reactivity.

上記硬化性樹脂は、得られる液晶滴下工法用シール剤の接着性を向上させることを目的として、更に、エポキシ樹脂を含有してもよい。
上記エポキシ樹脂としては、例えば、上記エポキシ(メタ)アクリレートを合成するための原料となるエポキシ樹脂や、部分(メタ)アクリル変性エポキシ樹脂等が挙げられる。
なお、本明細書において上記部分(メタ)アクリル変性エポキシ樹脂とは、1分子中にエポキシ基と(メタ)アクリロイル基とをそれぞれ1つ以上有する樹脂を意味し、例えば、2つ以上のエポキシ基を有する樹脂の一部分のエポキシ基を(メタ)アクリル酸と反応させることによって得ることができる。
The said curable resin may contain an epoxy resin further in order to improve the adhesiveness of the sealing compound for liquid crystal dropping methods obtained.
As said epoxy resin, the epoxy resin used as the raw material for synthesize | combining the said epoxy (meth) acrylate, a partial (meth) acryl modified epoxy resin, etc. are mentioned, for example.
In the present specification, the partial (meth) acryl-modified epoxy resin means a resin having one or more epoxy groups and (meth) acryloyl groups in one molecule, for example, two or more epoxy groups. It can be obtained by reacting a part of the epoxy group of the resin having a reaction with (meth) acrylic acid.

上記部分(メタ)アクリル変性エポキシ樹脂のうち、市販されているものとしては、例えば、UVACURE1561(ダイセル・サイテック社製)等が挙げられる。 Examples of commercially available partial (meth) acrylic-modified epoxy resins include UVACURE 1561 (manufactured by Daicel-Cytec).

上記硬化性樹脂として上記(メタ)アクリル樹脂と上記エポキシ樹脂とを含有する場合、上記硬化性樹脂全体における(メタ)アクリロイル基とエポキシ基との合計量に対するエポキシ基の比率の好ましい上限は50モル%である。上記エポキシ基の比率が50モル%を超えると、得られる液晶滴下工法用シール剤の液晶に対する溶解性が高くなって液晶汚染を引き起こし、得られる液晶表示素子が表示性能に劣るものとなることがある。上記エポキシ基の比率のより好ましい上限は20モル%である。 When the (meth) acrylic resin and the epoxy resin are contained as the curable resin, the preferable upper limit of the ratio of the epoxy group to the total amount of the (meth) acryloyl group and the epoxy group in the entire curable resin is 50 mol. %. When the ratio of the epoxy group exceeds 50 mol%, the resulting liquid crystal dropping method sealing agent is highly soluble in liquid crystals, causing liquid crystal contamination, and the resulting liquid crystal display element may be inferior in display performance. is there. A more preferable upper limit of the ratio of the epoxy group is 20 mol%.

本発明の液晶滴下工法用シール剤は、重合開始剤及び/又は熱硬化剤を含有する。
上記重合開始剤としては、例えば、ラジカル重合開始剤やカチオン重合開始剤等が挙げられる。
The sealing agent for liquid crystal dropping method of the present invention contains a polymerization initiator and / or a thermosetting agent.
Examples of the polymerization initiator include radical polymerization initiators and cationic polymerization initiators.

上記ラジカル重合開始剤としては、加熱によりラジカルを発生する熱ラジカル重合開始剤、光照射によりラジカルを発生する光ラジカル重合開始剤等が挙げられる。上述したように、本発明の液晶滴下工法用シール剤は、硬化性樹脂として上記(メタ)アクリル樹脂を含有し、かつ、重合開始剤としてラジカル重合開始剤を含有することが好ましく、上記(メタ)アクリル樹脂と熱ラジカル重合開始剤とを含有することがより好ましい。
上記熱ラジカル重合開始剤としては、例えば、アゾ化合物、有機過酸化物等からなるものが挙げられる。なかでも、高分子アゾ化合物からなる高分子アゾ開始剤が好ましい。
なお、本明細書において高分子アゾ開始剤とは、アゾ基を有し、熱によって(メタ)アクリロイルオキシ基を硬化させることができるラジカルを生成する、数平均分子量が300以上の化合物を意味する。
Examples of the radical polymerization initiator include a thermal radical polymerization initiator that generates radicals by heating, a photo radical polymerization initiator that generates radicals by light irradiation, and the like. As described above, the liquid crystal dropping method sealing agent of the present invention preferably contains the (meth) acrylic resin as a curable resin and a radical polymerization initiator as a polymerization initiator. It is more preferable to contain an acrylic resin and a thermal radical polymerization initiator.
As said thermal radical polymerization initiator, what consists of an azo compound, an organic peroxide, etc. is mentioned, for example. Among these, a polymer azo initiator composed of a polymer azo compound is preferable.
In the present specification, the polymer azo initiator means a compound having an azo group and generating a radical capable of curing a (meth) acryloyloxy group by heat and having a number average molecular weight of 300 or more. .

上記高分子アゾ開始剤の数平均分子量の好ましい下限は1000、好ましい上限は30万である。上記高分子アゾ開始剤の数平均分子量が1000未満であると、高分子アゾ開始剤が液晶に悪影響を与えることがある。上記高分子アゾ開始剤の数平均分子量が30万を超えると、硬化性樹脂への混合が困難になることがある。上記高分子アゾ開始剤の数平均分子量のより好ましい下限は5000、より好ましい上限は10万であり、更に好ましい下限は1万、更に好ましい上限は9万である。
なお、本明細書において、上記数平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)で測定を行い、ポリスチレン換算により求められる値である。GPCによってポリスチレン換算による数平均分子量を測定する際のカラムとしては、例えば、Shodex LF−804(昭和電工社製)等が挙げられる。
The preferable lower limit of the number average molecular weight of the polymeric azo initiator is 1000, and the preferable upper limit is 300,000. When the number average molecular weight of the polymer azo initiator is less than 1000, the polymer azo initiator may adversely affect the liquid crystal. When the number average molecular weight of the polymeric azo initiator exceeds 300,000, mixing with the curable resin may be difficult. The more preferable lower limit of the number average molecular weight of the polymeric azo initiator is 5000, the more preferable upper limit is 100,000, the still more preferable lower limit is 10,000, and the still more preferable upper limit is 90,000.
In addition, in this specification, the said number average molecular weight is a value calculated | required by polystyrene conversion by measuring with gel permeation chromatography (GPC). Examples of the column for measuring the number average molecular weight in terms of polystyrene by GPC include Shodex LF-804 (manufactured by Showa Denko KK).

上記高分子アゾ開始剤としては、例えば、アゾ基を介してポリアルキレンオキサイドやポリジメチルシロキサン等のユニットが複数結合した構造を有するものが挙げられる。
上記アゾ基を介してポリアルキレンオキサイド等のユニットが複数結合した構造を有する高分子アゾ開始剤としては、ポリエチレンオキサイド構造を有するものが好ましい。このような高分子アゾ開始剤としては、例えば、4,4’−アゾビス(4−シアノペンタン酸)とポリアルキレングリコールの重縮合物や、4,4’−アゾビス(4−シアノペンタン酸)と末端アミノ基を有するポリジメチルシロキサンの重縮合物等が挙げられ、具体的には例えば、VPE−0201、VPE−0401、VPE−0601、VPS−0501、VPS−1001、V−501(いずれも和光純薬工業社製)等が挙げられる。
Examples of the polymer azo initiator include those having a structure in which a plurality of units such as polyalkylene oxide and polydimethylsiloxane are bonded via an azo group.
As the polymer azo initiator having a structure in which a plurality of units such as polyalkylene oxide are bonded via the azo group, those having a polyethylene oxide structure are preferable. Examples of such a polymeric azo initiator include polycondensates of 4,4′-azobis (4-cyanopentanoic acid) and polyalkylene glycol, and 4,4′-azobis (4-cyanopentanoic acid). Examples include polycondensates of polydimethylsiloxane having a terminal amino group, and specific examples include VPE-0201, VPE-0401, VPE-0601, VPS-0501, VPS-1001, and V-501 (all of which are sums). Kogure Pharmaceutical Co., Ltd.).

上記有機過酸化物としては、例えば、ケトンパーオキサイド、パーオキシケタール、ハイドロパーオキサイド、ジアルキルパーオキサイド、パーオキシエステル、ジアシルパーオキサイド、パーオキシジカーボネート等が挙げられる。 Examples of the organic peroxide include ketone peroxide, peroxyketal, hydroperoxide, dialkyl peroxide, peroxyester, diacyl peroxide, and peroxydicarbonate.

上記光ラジカル重合開始剤としては、例えば、ベンゾフェノン系化合物、アセトフェノン系化合物、アシルホスフィンオキサイド系化合物、チタノセン系化合物、オキシムエステル系化合物、ベンゾインエーテル系化合物、チオキサントン等が挙げられる。 Examples of the photo radical polymerization initiator include benzophenone compounds, acetophenone compounds, acylphosphine oxide compounds, titanocene compounds, oxime ester compounds, benzoin ether compounds, thioxanthones, and the like.

上記光ラジカル重合開始剤のうち市販されているものとしては、例えば、IRGACURE184、IRGACURE369、IRGACURE379、IRGACURE651、IRGACURE819、IRGACURE907、IRGACURE2959、IRGACUREOXE01、ルシリンTPO(いずれもBASF Japan社製)、ベンソインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル(以上、いずれも東京化成工業社製)等が挙げられる。 Examples of commercially available photo radical polymerization initiators include IRGACURE 184, IRGACURE 369, IRGACURE 379, IRGACURE 651, IRGACURE 819, IRGACURE 907, IRGACURE 2959, IRGACUREOXE01, and Lucin TPO (all manufactured by BASF Methyl Corp. Examples include benzoin ethyl ether and benzoin isopropyl ether (all of which are manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.).

上記カチオン重合開始剤としては、光カチオン重合開始剤を好適に用いることができる。上記光カチオン重合開始剤は、光照射によりプロトン酸又はルイス酸を発生するものであれば特に限定されず、イオン性光酸発生タイプのものであってもよいし、非イオン性光酸発生タイプであってもよい。
上記光カチオン重合開始剤としては、例えば、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族ハロニウム塩、芳香族スルホニウム塩等のオニウム塩類、鉄−アレン錯体、チタノセン錯体、アリールシラノール−アルミニウム錯体等の有機金属錯体類等が挙げられる。
As the cationic polymerization initiator, a photocationic polymerization initiator can be suitably used. The cationic photopolymerization initiator is not particularly limited as long as it generates a protonic acid or a Lewis acid by light irradiation, and may be of an ionic photoacid generation type or a nonionic photoacid generation type. It may be.
Examples of the cationic photopolymerization initiator include onium salts such as aromatic diazonium salts, aromatic halonium salts, and aromatic sulfonium salts, organometallic complexes such as iron-allene complexes, titanocene complexes, and arylsilanol-aluminum complexes. Is mentioned.

上記光カチオン重合開始剤のうち市販されているものとしては、例えば、アデカオプトマーSP−150、アデカオプトマーSP−170(いずれも、ADEKA社製)等が挙げられる。 Examples of commercially available photocationic polymerization initiators include Adekaoptomer SP-150 and Adekaoptomer SP-170 (both manufactured by ADEKA).

上記重合開始剤の含有量は、上記硬化性樹脂100重量部に対して、好ましい下限が0.1重量部、好ましい上限が30重量部である。上記重合開始剤の含有量が0.1重量部未満であると、得られる液晶滴下工法用シール剤を充分に硬化させることができないことがある。上記重合開始剤の含有量が30重量部を超えると、得られる液晶滴下工法用シール剤の貯蔵安定性が低下することがある。上記重合開始剤の含有量のより好ましい下限は1重量部、より好ましい上限は10重量部であり、更に好ましい上限は5重量部である。 The content of the polymerization initiator is preferably 0.1 parts by weight and preferably 30 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the curable resin. If the content of the polymerization initiator is less than 0.1 parts by weight, the obtained sealing agent for liquid crystal dropping method may not be sufficiently cured. When content of the said polymerization initiator exceeds 30 weight part, the storage stability of the sealing compound for liquid crystal dropping methods obtained may fall. A more preferable lower limit of the content of the polymerization initiator is 1 part by weight, a more preferable upper limit is 10 parts by weight, and a still more preferable upper limit is 5 parts by weight.

上記熱硬化剤としては、例えば、有機酸ヒドラジド、イミダゾール誘導体、アミン化合物、多価フェノール系化合物、酸無水物等が挙げられる。なかでも、固形の有機酸ヒドラジドが好適に用いられる。 Examples of the thermosetting agent include organic acid hydrazides, imidazole derivatives, amine compounds, polyhydric phenol compounds, acid anhydrides, and the like. Among these, solid organic acid hydrazide is preferably used.

上記固形の有機酸ヒドラジドとしては、例えば、1,3−ビス(ヒドラジノカルボエチル)−5−イソプロピルヒダントイン、セバシン酸ジヒドラジド、イソフタル酸ジヒドラジド、アジピン酸ジヒドラジド、マロン酸ジヒドラジド等が挙げられ、市販されているものとしては、例えば、アミキュアVDH、アミキュアUDH(いずれも味の素ファインテクノ社製)、SDH、IDH、ADH(いずれも大塚化学社製)、MDH(日本ファインケム社製)等が挙げられる。 Examples of the solid organic acid hydrazide include 1,3-bis (hydrazinocarboethyl) -5-isopropylhydantoin, sebacic acid dihydrazide, isophthalic acid dihydrazide, adipic acid dihydrazide, malonic acid dihydrazide, and the like. Examples thereof include Amicure VDH, Amicure UDH (all manufactured by Ajinomoto Fine Techno Co., Ltd.), SDH, IDH, ADH (all manufactured by Otsuka Chemical Co., Ltd.), MDH (manufactured by Nippon Finechem Co., Ltd.), and the like.

上記熱硬化剤の含有量は、上記硬化性樹脂100重量部に対して、好ましい下限が1重量部、好ましい上限が50重量部である。上記熱硬化剤の含有量が1重量部未満であると、得られる液晶滴下工法用シール剤を充分に熱硬化させることができないことがある。上記熱硬化剤の含有量が50重量部を超えると、得られる液晶滴下工法用シール剤の粘度が高くなりすぎ、塗布性が悪くなることがある。上記熱硬化剤の含有量のより好ましい上限は30重量部である。 The content of the thermosetting agent is preferably 1 part by weight with respect to 100 parts by weight of the curable resin, and 50 parts by weight with respect to the preferable upper limit. When the content of the thermosetting agent is less than 1 part by weight, the resulting sealing agent for liquid crystal dropping method may not be sufficiently cured. When content of the said thermosetting agent exceeds 50 weight part, the viscosity of the sealing compound for liquid crystal dropping methods obtained will become high too much, and applicability | paintability may worsen. The upper limit with more preferable content of the said thermosetting agent is 30 weight part.

本発明の液晶滴下工法用シール剤は、粘度の向上、応力分散効果による接着性の改善、線膨張率の改善、硬化物の耐湿性の向上等を目的として充填剤を含有することが好ましい。 The sealing agent for liquid crystal dropping method of the present invention preferably contains a filler for the purpose of improving the viscosity, improving the adhesiveness due to the stress dispersion effect, improving the linear expansion coefficient, and improving the moisture resistance of the cured product.

上記充填剤としては、例えば、タルク、石綿、シリカ、珪藻土、スメクタイト、ベントナイト、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、アルミナ、モンモリロナイト、酸化亜鉛、酸化鉄、酸化マグネシウム、酸化錫、酸化チタン、水酸化マグネシウム、水酸化アルミニウム、ガラスビーズ、窒化珪素、硫酸バリウム、石膏、珪酸カルシウム、セリサイト活性白土、窒化アルミニウム等の無機充填剤や、ポリエステル微粒子、ポリウレタン微粒子、ビニル重合体微粒子、アクリル重合体微粒子、コアシェルアクリレート共重合体微粒子等の有機充填剤等が挙げられる。これらの充填剤は単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。 Examples of the filler include talc, asbestos, silica, diatomaceous earth, smectite, bentonite, calcium carbonate, magnesium carbonate, alumina, montmorillonite, zinc oxide, iron oxide, magnesium oxide, tin oxide, titanium oxide, magnesium hydroxide, water Inorganic fillers such as aluminum oxide, glass beads, silicon nitride, barium sulfate, gypsum, calcium silicate, sericite activated clay, aluminum nitride, polyester fine particles, polyurethane fine particles, vinyl polymer fine particles, acrylic polymer fine particles, core shell acrylate Examples thereof include organic fillers such as polymer fine particles. These fillers may be used alone or in combination of two or more.

上記充填剤の含有量は、液晶滴下工法用シール剤全体に対して、好ましい下限が5重量%、好ましい上限が70重量%である。上記充填剤の含有量が5重量%未満であると、接着性の改善等の効果が充分に発揮されないことがある。上記充填剤の含有量が70重量%を超えると、得られる液晶滴下工法用シール剤の粘度が高くなり、塗布性が悪くなることがある。上記充填剤の含有量のより好ましい下限は10重量%、より好ましい上限は60重量%である。 The content of the filler is preferably 5% by weight and preferably 70% by weight with respect to the whole sealing agent for liquid crystal dropping method. When the content of the filler is less than 5% by weight, effects such as improvement in adhesiveness may not be sufficiently exhibited. When content of the said filler exceeds 70 weight%, the viscosity of the sealing compound for liquid crystal dropping methods obtained will become high, and applicability | paintability may worsen. The more preferable lower limit of the content of the filler is 10% by weight, and the more preferable upper limit is 60% by weight.

本発明の液晶滴下工法用シール剤は、シランカップリング剤を含有することが好ましい。上記シランカップリング剤は、主にシール剤と基板等とを良好に接着するための接着助剤としての役割を有する。 The sealing agent for liquid crystal dropping method of the present invention preferably contains a silane coupling agent. The silane coupling agent mainly has a role as an adhesion assistant for favorably bonding the sealing agent and the substrate.

上記シランカップリング剤としては、基板等との接着性を向上させる効果に優れ、硬化性樹脂と化学結合することにより液晶中への硬化性樹脂の流出を抑制することができることから、例えば、N−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−イソシアネートプロピルトリメトキシシラン等が好適に用いられる。これらのシランカップリング剤は単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。 As said silane coupling agent, since it is excellent in the effect which improves adhesiveness with a board | substrate etc. and it can suppress the outflow of curable resin in a liquid crystal by chemically bonding with curable resin, it is N, for example. -Phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-isocyanatopropyltrimethoxysilane, etc. are preferably used. . These silane coupling agents may be used alone or in combination of two or more.

上記シランカップリング剤の含有量は、本発明の液晶滴下工法用シール剤全体に対して、好ましい下限が0.1重量%、好ましい上限が20重量%である。上記シランカップリング剤の含有量が0.1重量%未満であると、シランカップリング剤を配合することによる効果が充分に発揮されないことがある。上記シランカップリング剤の含有量が20重量%を超えると、得られる液晶滴下工法用シール剤が液晶汚染を引き起こすことがある。上記シランカップリング剤の含有量のより好ましい下限は0.5重量%、より好ましい上限は10重量%である。 With respect to the content of the silane coupling agent, the preferable lower limit is 0.1% by weight and the preferable upper limit is 20% by weight with respect to the whole liquid crystal dropping method sealing agent of the present invention. If the content of the silane coupling agent is less than 0.1% by weight, the effect of blending the silane coupling agent may not be sufficiently exhibited. When content of the said silane coupling agent exceeds 20 weight%, the sealing compound for liquid crystal dropping methods obtained may cause liquid-crystal contamination. The more preferable lower limit of the content of the silane coupling agent is 0.5% by weight, and the more preferable upper limit is 10% by weight.

本発明の液晶滴下工法用シール剤は、遮光剤を含有してもよい。上記遮光剤を含有することにより、本発明の液晶滴下工法用シール剤は、遮光シール剤として好適に用いることができる。 The sealing agent for liquid crystal dropping method of the present invention may contain a light shielding agent. By containing the said light shielding agent, the sealing compound for liquid crystal dropping methods of this invention can be used suitably as a light shielding sealing agent.

上記遮光剤としては、例えば、酸化鉄、チタンブラック、アニリンブラック、シアニンブラック、フラーレン、カーボンブラック、樹脂被覆型カーボンブラック等が挙げられる。なかでも、チタンブラックが好ましい。 Examples of the light-shielding agent include iron oxide, titanium black, aniline black, cyanine black, fullerene, carbon black, and resin-coated carbon black. Of these, titanium black is preferable.

上記チタンブラックは、波長300〜800nmの光に対する平均透過率と比較して、紫外線領域付近、特に波長370〜450nmの光に対する透過率が高くなる物質である。即ち、上記チタンブラックは、可視光領域の波長の光を充分に遮蔽することで本発明の液晶滴下工法用シール剤に遮光性を付与する一方、紫外線領域付近の波長の光は透過させる性質を有する遮光剤である。従って、上記光ラジカル重合開始剤として、上記チタンブラックの透過率の高くなる波長(370〜450nm)の光によって反応を開始可能なものを用いることで、本発明の液晶滴下工法用シール剤の光硬化性をより増大させることができる。また一方で、本発明の液晶滴下工法用シール剤に含有される遮光剤としては、絶縁性の高い物質が好ましく、絶縁性の高い遮光剤としてもチタンブラックが好適である。
上記チタンブラックは、1μmあたりの光学濃度(OD値)が、3以上であることが好ましく、4以上であることがより好ましい。上記チタンブラックの遮光性は高ければ高いほどよく、上記チタンブラックのOD値に好ましい上限は特にないが、通常は5以下となる。
The titanium black is a substance having a higher transmittance in the vicinity of the ultraviolet region, particularly for light with a wavelength of 370 to 450 nm, compared to the average transmittance for light with a wavelength of 300 to 800 nm. That is, the above-described titanium black sufficiently shields light having a wavelength in the visible light region, thereby providing light shielding properties to the sealing agent for liquid crystal dropping method of the present invention, while transmitting light having a wavelength in the vicinity of the ultraviolet region. A shading agent. Therefore, by using the photo radical polymerization initiator that can start the reaction with light having a wavelength (370 to 450 nm) that increases the transmittance of the titanium black, the light of the sealing agent for liquid crystal dropping method of the present invention is used. Curability can be further increased. On the other hand, the light shielding agent contained in the liquid crystal dropping method sealing agent of the present invention is preferably a highly insulating material, and titanium black is also suitable as the highly insulating light shielding agent.
The titanium black preferably has an optical density (OD value) per μm of 3 or more, more preferably 4 or more. The higher the light-shielding property of the titanium black, the better. The OD value of the titanium black is not particularly limited, but is usually 5 or less.

上記チタンブラックは、表面処理されていないものでも充分な効果を発揮するが、表面がカップリング剤等の有機成分で処理されているものや、酸化ケイ素、酸化チタン、酸化ゲルマニウム、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化マグネシウム等の無機成分で被覆されているもの等、表面処理されたチタンブラックを用いることもできる。なかでも、有機成分で処理されているものは、より絶縁性を向上できる点で好ましい。
また、遮光剤として上記チタンブラックを含有する本発明の液晶滴下工法用シール剤を用いて製造した液晶表示素子は、充分な遮光性を有するため、光の漏れ出しがなく高いコントラストを有し、優れた画像表示品質を有する液晶表示素子を実現することができる。
The above-mentioned titanium black exhibits a sufficient effect even if it is not surface-treated, but the surface is treated with an organic component such as a coupling agent, silicon oxide, titanium oxide, germanium oxide, aluminum oxide, oxidized Surface-treated titanium black such as those coated with an inorganic component such as zirconium or magnesium oxide can also be used. Especially, what is processed with the organic component is preferable at the point which can improve insulation more.
In addition, the liquid crystal display device manufactured using the sealing agent for liquid crystal dropping method of the present invention containing the above-described titanium black as a light-shielding agent has a sufficient light-shielding property, and thus has a high contrast without light leakage. A liquid crystal display element having excellent image display quality can be realized.

上記チタンブラックのうち市販されているものとしては、例えば、12S、13M、13M−C、13R−N(いずれも三菱マテリアル社製)、ティラックD(赤穂化成社製)等が挙げられる。 Examples of commercially available titanium black include 12S, 13M, 13M-C, 13R-N (all manufactured by Mitsubishi Materials Corporation), Tilak D (manufactured by Ako Kasei Co., Ltd.), and the like.

上記チタンブラックの比表面積の好ましい下限は13m/g、好ましい上限は30m/gであり、より好ましい下限は15m/g、より好ましい上限は25m/gである。
また、上記チタンブラックの体積抵抗の好ましい下限は0.5Ω・cm、好ましい上限は3Ω・cmであり、より好ましい下限は1Ω・cm、より好ましい上限は2.5Ω・cmである。
The preferable lower limit of the specific surface area of the titanium black is 13 m 2 / g, the preferable upper limit is 30 m 2 / g, the more preferable lower limit is 15 m 2 / g, and the more preferable upper limit is 25 m 2 / g.
Further, the preferred lower limit of the volume resistance of the titanium black is 0.5 Ω · cm, the preferred upper limit is 3 Ω · cm, the more preferred lower limit is 1 Ω · cm, and the more preferred upper limit is 2.5 Ω · cm.

上記遮光剤の一次粒子径は、液晶表示素子の基板間の距離以下であれば特に限定されないが、好ましい下限は1nm、好ましい上限は5μmである。上記遮光剤の一次粒子径が1nm未満であると、得られる液晶滴下工法用シール剤の粘度やチクソトロピーが大きく増大してしまい、作業性が悪くなることがある。上記遮光剤の一次粒子径が5μmを超えると、得られる液晶滴下工法用シール剤の基板への塗布性が悪くなることがある。上記遮光剤の一次粒子径のより好ましい下限は5nm、より好ましい上限は200nm、更に好ましい下限は10nm、更に好ましい上限は100nmである。 The primary particle diameter of the light-shielding agent is not particularly limited as long as it is not more than the distance between the substrates of the liquid crystal display element, but the preferred lower limit is 1 nm and the preferred upper limit is 5 μm. When the primary particle diameter of the light-shielding agent is less than 1 nm, the viscosity and thixotropy of the obtained liquid crystal dropping method sealing agent are greatly increased, and workability may be deteriorated. When the primary particle diameter of the light-shielding agent exceeds 5 μm, the coating property of the obtained liquid crystal dropping method sealing agent on the substrate may be deteriorated. The more preferable lower limit of the primary particle diameter of the light shielding agent is 5 nm, the more preferable upper limit is 200 nm, the still more preferable lower limit is 10 nm, and the still more preferable upper limit is 100 nm.

上記遮光剤の含有量は、液晶滴下工法用シール剤全体に対して、好ましい下限が5重量%、好ましい上限が80重量%である。上記遮光剤の含有量が5重量%未満であると、充分な遮光性が得られないことがある。上記遮光剤の含有量が80重量%を超えると、得られる液晶滴下工法用シール剤の基板に対する密着性や硬化後の強度が低下したり、描画性が低下したりすることがある。上記遮光剤の含有量のより好ましい下限は10重量%、より好ましい上限は70重量%であり、更に好ましい下限は30重量%、更に好ましい上限は60重量%である。 The content of the light-shielding agent is preferably 5% by weight and preferably 80% by weight with respect to the whole liquid crystal dropping method sealing agent. If the content of the light shielding agent is less than 5% by weight, sufficient light shielding properties may not be obtained. When the content of the light-shielding agent is more than 80% by weight, the adhesion of the obtained sealing agent for liquid crystal dropping method to the substrate and the strength after curing may be lowered, or the drawing property may be lowered. The more preferable lower limit of the content of the light-shielding agent is 10% by weight, the more preferable upper limit is 70% by weight, the still more preferable lower limit is 30% by weight, and the still more preferable upper limit is 60% by weight.

本発明の液晶滴下工法用シール剤は、更に、必要に応じて、粘度調整の為の反応性希釈剤、パネルギャップ調整の為のポリマービーズ等のスペーサー、3−P−クロロフェニル−1,1−ジメチル尿素、イソシアヌルカルボン酸等の硬化促進剤、消泡剤、レベリング剤、重合禁止剤、その他のカップリング剤等の添加剤を含有してもよい。 The liquid crystal dropping method sealing agent of the present invention further includes a reactive diluent for adjusting the viscosity, a spacer such as polymer beads for adjusting the panel gap, and 3-P-chlorophenyl-1,1- You may contain additives, such as hardening accelerators, such as a dimethyl urea and isocyanuric carboxylic acid, an antifoamer, a leveling agent, a polymerization inhibitor, and another coupling agent.

本発明の液晶滴下工法用シール剤を製造する方法は特に限定されず、例えば、ホモディスパー、ホモミキサー、万能ミキサー、プラネタリウムミキサー、ニーダー、3本ロール等の混合機を用いて、硬化性樹脂と、重合開始剤及び/又は熱硬化剤と、中空粒子と、必要に応じて添加するシランカップリング剤等の添加剤とを混合する方法等が挙げられる。 The method for producing the sealant for the liquid crystal dropping method of the present invention is not particularly limited. For example, using a mixer such as a homodisper, a homomixer, a universal mixer, a planetarium mixer, a kneader, or a three roll, And a method of mixing a polymerization initiator and / or a thermosetting agent, hollow particles, and an additive such as a silane coupling agent added as necessary.

本発明の液晶滴下工法用シール剤における、E型粘度計を用いて25℃、1rpmの条件で測定した粘度の好ましい下限は5万Pa・s、好ましい上限は50万Pa・sである。上記粘度が5万Pa・s未満であったり、50万Pa・sを超えたりすると、液晶滴下工法用シール剤を基板等に塗布する際の作業性が悪くなることがある。上記粘度のより好ましい上限は40万Pa・sである。 In the sealing agent for liquid crystal dropping method of the present invention, the preferred lower limit of the viscosity measured at 25 ° C. and 1 rpm using an E-type viscometer is 50,000 Pa · s, and the preferred upper limit is 500,000 Pa · s. When the viscosity is less than 50,000 Pa · s or exceeds 500,000 Pa · s, workability when applying the liquid crystal dropping method sealing agent to a substrate or the like may be deteriorated. A more preferable upper limit of the viscosity is 400,000 Pa · s.

本発明の液晶滴下工法用シール剤に導電性微粒子を配合することにより、上下導通材料を製造することができる。このような本発明の液晶滴下工法用シール剤と導電性微粒子とを含有する上下導通材料もまた、本発明の1つである。 A vertical conduction material can be manufactured by mix | blending electroconductive fine particles with the sealing compound for liquid crystal dropping methods of this invention. Such a vertical conduction material containing the sealing agent for liquid crystal dropping method of the present invention and conductive fine particles is also one aspect of the present invention.

上記導電性微粒子としては、例えば、金属ボール、樹脂微粒子の表面に導電金属層を形成したもの等を用いることができる。なかでも、樹脂微粒子の表面に導電金属層を形成したものは、樹脂微粒子の優れた弾性により、透明基板等を損傷することなく導電接続が可能であることから好適である。 As said electroconductive fine particles, what formed the conductive metal layer on the surface of a metal ball | bowl, resin fine particle, etc. can be used, for example. Among them, the one in which the conductive metal layer is formed on the surface of the resin fine particles is preferable because the conductive connection is possible without damaging the transparent substrate due to the excellent elasticity of the resin fine particles.

本発明の液晶滴下工法用シール剤又は本発明の上下導通材料を用いてなる液晶表示素子もまた、本発明の1つである。 The liquid crystal display element using the sealing agent for liquid crystal dropping method of the present invention or the vertical conduction material of the present invention is also one aspect of the present invention.

本発明の液晶表示素子を製造する方法としては、例えば、ITO薄膜等の電極付きのガラス基板やポリエチレンテレフタレート基板等の2枚の透明基板の一方に、本発明の液晶滴下工法用シール剤等をスクリーン印刷、ディスペンサー塗布等により長方形状のシールパターンを形成する工程、本発明の液晶滴下工法用シール剤等が未硬化の状態で液晶の微小滴を透明基板の枠内全面に滴下塗布し、すぐに別の基板を重ね合わせる工程、及び、本発明の液晶滴下工法用シール剤を加熱して硬化させる工程を有する方法等が挙げられる。また、本発明の液晶滴下工法用シール剤を加熱して硬化させる工程の前に、シールパターン部分に紫外線等の光を照射してシール剤を仮硬化させる工程を行なってもよい。 As a method for producing the liquid crystal display element of the present invention, for example, the sealing agent for the liquid crystal dropping method of the present invention is applied to one of two transparent substrates such as a glass substrate with electrodes such as an ITO thin film or a polyethylene terephthalate substrate. The process of forming a rectangular seal pattern by screen printing, dispenser application, etc., the liquid crystal drop method sealing agent of the present invention is uncured, and liquid crystal microdrops are dropped on the entire surface of the transparent substrate and applied immediately. And a method of superposing another substrate and a step of heating and curing the sealing agent for liquid crystal dropping method of the present invention. Moreover, you may perform the process of irradiating light, such as an ultraviolet-ray, to a seal pattern part, and preliminarily hardening a sealing agent before the process of heating and hardening the sealing compound for liquid crystal dropping methods of this invention.

本発明によれば、シール形状保持性に優れる液晶滴下工法用シール剤液晶滴下工法用シール剤を提供することができる。また、本発明によれば、該液晶滴下工法用シール剤を用いて製造される上下導通材料及び液晶表示素子を提供することができる。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the sealing compound for liquid crystal dropping methods excellent in seal shape retention property can be provided. Moreover, according to this invention, the vertical conduction material and liquid crystal display element which are manufactured using this sealing compound for liquid crystal dropping methods can be provided.

以下に実施例を掲げて本発明を更に詳しく説明するが、本発明はこれら実施例のみに限定されない。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples. However, the present invention is not limited to these examples.

(実施例1)
硬化性樹脂としてビスフェノールA型エポキシアクリレート(ダイセル・サイテック社製、「EBECRYL3700」)70重量部及びビスフェノールF型エポキシ樹脂(三菱化学社製、「エピコート806」)30重量部と、熱ラジカル重合開始剤として高分子アゾ開始剤(和光純薬工業社製、「VPE−0201」)7重量部と、熱硬化剤としてセバシン酸ジヒドラジド(大塚化学社製、「SDH」)8重量部と、中空粒子としてマツモトマイクロスフェアーMHB−R(松本油脂製薬社製、平均粒子径15μm)30重量部と、充填剤としてシリカ(アドマテックス社製、「アドマファインSO−C2」)10重量部と、シランカップリング剤として3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン(信越シリコーン社製、「KBM−403」)1重量部とを配合し、遊星式攪拌装置(シンキー社製、「あわとり練太郎」)にて攪拌した後、セラミック3本ロールにて均一に混合して液晶滴下工法用シール剤を得た。
Example 1
70 parts by weight of bisphenol A type epoxy acrylate (manufactured by Daicel-Cytec, “EBECRYL3700”) and 30 parts by weight of bisphenol F type epoxy resin (manufactured by Mitsubishi Chemical, “Epicoat 806”) as a curable resin, and a thermal radical polymerization initiator 7 parts by weight of a polymer azo initiator (“VPE-0201” manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.), 8 parts by weight of sebacic acid dihydrazide (“SDH” manufactured by Otsuka Chemical Co., Ltd.) as a thermosetting agent, and Matsumoto Microsphere MHB-R (manufactured by Matsumoto Yushi Seiyaku Co., Ltd., average particle size 15 μm), 30 parts by weight of silica (manufactured by Admatechs, “Admafine SO-C2”) as a filler, and silane coupling 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Silicone, “KBM- 03 ") and 1 part by weight, and after stirring with a planetary stirrer (" Shinky "manufactured by Awatori Nertaro)), the mixture is uniformly mixed with three ceramic rolls and a sealing agent for liquid crystal dropping method Got.

(実施例2)
硬化性樹脂としてビスフェノールA型エポキシアクリレート(ダイセル・サイテック社製、「EBECRYL3700」)70重量部及びビスフェノールF型エポキシ樹脂(三菱化学社製、「エピコート806」)30重量部と、熱硬化剤としてセバシン酸ジヒドラジド(大塚化学社製、「SDH」)8重量部と、中空粒子としてマツモトマイクロスフェアーMHB−R(松本油脂製薬社製、平均粒子径15μm)30重量部と、充填剤としてシリカ(アドマテックス社製、「アドマファインSO−C2」)10重量部と、シランカップリング剤として3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン(信越シリコーン社製、「KBM−403」)1重量部とを配合し、遊星式攪拌装置(シンキー社製、「あわとり練太郎」)にて攪拌した後、セラミック3本ロールにて均一に混合して液晶滴下工法用シール剤を得た。
(Example 2)
70 parts by weight of bisphenol A type epoxy acrylate (manufactured by Daicel-Cytec, “EBECRYL 3700”) and 30 parts by weight of bisphenol F type epoxy resin (manufactured by Mitsubishi Chemical, “Epicoat 806”) as a curable resin, and sebacin as a thermosetting agent 8 parts by weight of acid dihydrazide (manufactured by Otsuka Chemical Co., Ltd., “SDH”), 30 parts by weight of Matsumoto Microsphere MHB-R (manufactured by Matsumoto Yushi Seiyaku Co., Ltd., average particle size 15 μm) as hollow particles, and silica (Ad 10 parts by weight of Matex, “Admafine SO-C2”) and 1 part by weight of 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane (“KBM-403”, manufactured by Shin-Etsu Silicone) as a silane coupling agent After stirring with a planetary stirrer (Shinky, “Awatori Nertaro”), To obtain a liquid crystal dropping process sealant was uniformly mixed ceramic three rolls.

(実施例3)
硬化性樹脂としてビスフェノールA型エポキシアクリレート(ダイセル・サイテック社製、「EBECRYL3700」)70重量部及びビスフェノールF型エポキシ樹脂(三菱化学社製、「エピコート806」)30重量部と、熱ラジカル重合開始剤として高分子アゾ開始剤(和光純薬工業社製、「VPE−0201」)7重量部と、熱硬化剤としてセバシン酸ジヒドラジド(大塚化学社製、「SDH」)8重量部と、中空粒子としてマツモトマイクロスフェアーMHB−R(松本油脂製薬社製、平均粒子径15μm)15重量部と、充填剤としてシリカ(アドマテックス社製、「アドマファインSO−C2」)10重量部と、シランカップリング剤として3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン(信越シリコーン社製、「KBM−403」)1重量部とを配合し、遊星式攪拌装置(シンキー社製、「あわとり練太郎」)にて攪拌した後、セラミック3本ロールにて均一に混合して液晶滴下工法用シール剤を得た。
(Example 3)
70 parts by weight of bisphenol A type epoxy acrylate (manufactured by Daicel-Cytec, “EBECRYL3700”) and 30 parts by weight of bisphenol F type epoxy resin (manufactured by Mitsubishi Chemical, “Epicoat 806”) as a curable resin, and a thermal radical polymerization initiator 7 parts by weight of a polymer azo initiator (“VPE-0201” manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.), 8 parts by weight of sebacic acid dihydrazide (“SDH” manufactured by Otsuka Chemical Co., Ltd.) as a thermosetting agent, and Matsumoto Microsphere MHB-R (manufactured by Matsumoto Yushi Seiyaku Co., Ltd., average particle size 15 μm), 15 parts by weight of silica (manufactured by Admatechs, “Admafine SO-C2”), and silane coupling 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Silicone, “KBM- 03 ") and 1 part by weight, and after stirring with a planetary stirrer (" Shinky "manufactured by Awatori Nertaro)), the mixture is uniformly mixed with three ceramic rolls and a sealing agent for liquid crystal dropping method Got.

(比較例1)
硬化性樹脂としてビスフェノールA型エポキシアクリレート(ダイセル・サイテック社製、「EBECRYL3700」)70重量部及びビスフェノールF型エポキシ樹脂(三菱化学社製、「エピコート806」)30重量部と、熱ラジカル重合開始剤として高分子アゾ開始剤(和光純薬工業社製、「VPE−0201」)7重量部と、熱硬化剤としてセバシン酸ジヒドラジド(大塚化学社製、「SDH」)8重量部と、充填剤としてシリカ(アドマテックス社製、「アドマファインSO−C2」)10重量部と、シランカップリング剤として3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン(信越シリコーン社製、「KBM−403」)1重量部とを配合し、遊星式攪拌装置(シンキー社製、「あわとり練太郎」)にて攪拌した後、セラミック3本ロールにて均一に混合して液晶滴下工法用シール剤を得た。
(Comparative Example 1)
70 parts by weight of bisphenol A type epoxy acrylate (manufactured by Daicel-Cytec, “EBECRYL3700”) and 30 parts by weight of bisphenol F type epoxy resin (manufactured by Mitsubishi Chemical, “Epicoat 806”) as a curable resin, and a thermal radical polymerization initiator 7 parts by weight of a polymeric azo initiator (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, “VPE-0201”), 8 parts by weight of sebacic acid dihydrazide (manufactured by Otsuka Chemical Co., “SDH”) as a thermosetting agent, and a filler 10 parts by weight of silica (manufactured by Admatechs, “Admafine SO-C2”) and 1 part by weight of 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Silicone, “KBM-403”) as a silane coupling agent; After mixing with a planetary stirrer (Shinky Co., “Awatori Nertaro”), Uniformly mixed by three rolls to obtain a liquid crystal dropping process sealant.

(比較例2)
硬化性樹脂としてビスフェノールA型エポキシアクリレート(ダイセル・サイテック社製、「EBECRYL3700」)70重量部及びビスフェノールF型エポキシ樹脂(三菱化学社製、「エピコート806」)30重量部と、熱ラジカル重合開始剤として高分子アゾ開始剤(和光純薬工業社製、「VPE−0201」)7重量部と、熱硬化剤としてセバシン酸ジヒドラジド(大塚化学社製、「SDH」)8重量部と、充填剤としてシリカ(アドマテックス社製、「アドマファインSO−C2」)30重量部と、シランカップリング剤として3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン(信越シリコーン社製、「KBM−403」)1重量部とを配合し、遊星式攪拌装置(シンキー社製、「あわとり練太郎」)にて攪拌した後、セラミック3本ロールにて均一に混合して液晶滴下工法用シール剤を得た。
(Comparative Example 2)
70 parts by weight of bisphenol A type epoxy acrylate (manufactured by Daicel-Cytec, “EBECRYL3700”) and 30 parts by weight of bisphenol F type epoxy resin (manufactured by Mitsubishi Chemical, “Epicoat 806”) as a curable resin, and a thermal radical polymerization initiator 7 parts by weight of a polymeric azo initiator (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, “VPE-0201”), 8 parts by weight of sebacic acid dihydrazide (manufactured by Otsuka Chemical Co., “SDH”) as a thermosetting agent, and a filler 30 parts by weight of silica (manufactured by Admatechs, “Admafine SO-C2”) and 1 part by weight of 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Silicone, “KBM-403”) as a silane coupling agent After mixing with a planetary stirrer (Shinky Co., “Awatori Nertaro”), Uniformly mixed by three rolls to obtain a liquid crystal dropping process sealant.

<評価>
実施例及び比較例で得られた液晶滴下工法用シール剤について以下の評価を行った。結果を表1に示した。
<Evaluation>
The following evaluation was performed about the sealing agent for liquid crystal dropping methods obtained by the Example and the comparative example. The results are shown in Table 1.

(シール形状保持性)
各実施例及び各比較例で得られた液晶滴下工法用シール剤100重量部に対して、平均粒子径5μmのスペーサー粒子(積水化学工業社製、「ミクロパールSP−2050」)1重量部を遊星式攪拌装置によって均一に分散させ、得られたシール剤をディスペンス用のシリンジ(武蔵エンジニアリング社製、「PSY−10E」)に充填し、脱泡処理を行ってから、ディスペンサー(武蔵エンジニアリング社製、「SHOTMASTER300」)にてITO薄膜付きの2枚の透明電極基板の一方に長方形の枠を描く様にシール剤を塗布した。続いて、TN液晶(チッソ社製、「JC−5001LA」)の微小滴を液晶滴下装置にて滴下塗布し、他方の透明基板を、真空貼り合わせ装置にて5Paの真空下にて貼り合わせた。貼り合わせた後のセルを120℃で1時間加熱してシール剤を熱硬化させ、液晶表示素子を得た。
得られた液晶表示素子について、シール部の形状保持性を目視にて観察し、シール形状が全く崩れていなかった場合を「◎」、シール形状崩れがほとんどなかった場合を「○」、内部の液晶に押されシールの形状が崩れたが、液晶がシールを突き破るまでには至らなかった場合を「△」、内部の液晶に押されシールの形状が崩れた、液晶がシールを突き破ってしまった場合を「×」としてシール形状保持性を評価した。
(Seal shape retention)
1 part by weight of spacer particles having an average particle diameter of 5 μm (manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd., “Micropearl SP-2050”) with respect to 100 parts by weight of the sealing agent for liquid crystal dropping method obtained in each example and each comparative example. It is uniformly dispersed by a planetary stirrer, and the resulting sealant is filled in a dispensing syringe (manufactured by Musashi Engineering, "PSY-10E"), defoamed, and then dispenser (manufactured by Musashi Engineering). , “SHOTMASTER 300”), a sealing agent was applied on one of the two transparent electrode substrates with an ITO thin film so as to draw a rectangular frame. Subsequently, fine droplets of TN liquid crystal (manufactured by Chisso Corporation, “JC-5001LA”) were applied dropwise with a liquid crystal dropping device, and the other transparent substrate was bonded under a vacuum of 5 Pa with a vacuum bonding device. . The cell after bonding was heated at 120 ° C. for 1 hour to thermally cure the sealing agent, and a liquid crystal display element was obtained.
About the obtained liquid crystal display element, the shape retaining property of the seal part was visually observed. When the seal shape was not broken at all, “◎”, when the seal shape was hardly broken, “○”, When the liquid crystal was pushed by the liquid crystal, the shape of the seal collapsed, but when the liquid crystal did not break through the seal, “△”, the shape of the seal was broken by the liquid crystal inside, and the liquid crystal broke through the seal The case was evaluated as “×” to evaluate the seal shape retention.

Figure 0006266902
Figure 0006266902

本発明によれば、シール形状保持性に優れる液晶滴下工法用シール剤を提供することができる。また、本発明によれば、該液晶滴下工法用シール剤を用いて製造される上下導通材料及び液晶表示素子を提供することができる。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the sealing compound for liquid crystal dropping methods which is excellent in seal shape retention property can be provided. Moreover, according to this invention, the vertical conduction material and liquid crystal display element which are manufactured using this sealing compound for liquid crystal dropping methods can be provided.

Claims (6)

液晶滴下工法による液晶表示素子の製造に用いる液晶滴下工法用シール剤であって、
硬化性樹脂と、重合開始剤及び/又は熱硬化剤と、中空粒子とを含有し、
前記中空粒子は、平均粒子径が液晶表示素子のセルギャップの100%以上であることを特徴とする液晶滴下工法用シール剤。
A liquid crystal dropping method sealing agent used for manufacturing a liquid crystal display element by a liquid crystal dropping method,
Containing a curable resin, a polymerization initiator and / or a thermosetting agent, and hollow particles,
The hollow particles, the liquid crystal dropping process sealant you, wherein the average particle diameter is more than 100% of the cell gap of the liquid crystal display device.
液晶滴下工法による液晶表示素子の製造に用いる液晶滴下工法用シール剤であって、
硬化性樹脂と、重合開始剤及び/又は熱硬化剤と、中空粒子とを含有し、
前記中空粒子は、中空率が20〜80%であることを特徴とする液晶滴下工法用シール剤。
A liquid crystal dropping method sealing agent used for manufacturing a liquid crystal display element by a liquid crystal dropping method,
Containing a curable resin, a polymerization initiator and / or a thermosetting agent, and hollow particles,
The hollow particles, the liquid crystal dropping process sealant you being a hollow ratio of 20% to 80%.
硬化性樹脂は、(メタ)アクリル樹脂を含有し、かつ、重合開始剤としてラジカル重合開始剤を含有することを特徴とする請求項1又は2記載の液晶滴下工法用シール剤。 The sealing agent for liquid crystal dropping method according to claim 1 or 2 , wherein the curable resin contains a (meth) acrylic resin and a radical polymerization initiator as a polymerization initiator. 遮光剤を含有することを特徴とする請求項1、2又は3記載の液晶滴下工法用シール剤。 4. The sealing agent for liquid crystal dropping method according to claim 1, 2 or 3, further comprising a light shielding agent. 請求項1、2、3又は4記載の液晶滴下工法用シール剤と、導電性微粒子とを含有することを特徴とする上下導通材料。 A vertical conduction material comprising the sealing agent for liquid crystal dropping method according to claim 1, 2, 3, or 4 , and conductive fine particles. 請求項1、2、3若しくは4記載の液晶滴下工法用シール剤又は請求項5記載の上下導通材料を用いて製造されることを特徴とする液晶表示素子。
A liquid crystal display element produced by using the sealing agent for liquid crystal dropping method according to claim 1, 2, 3, or 4 , or the vertical conduction material according to claim 5 .
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