JP6262972B2 - 化合物、及びその製造方法、並びにボリコナゾールの製造方法 - Google Patents
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Description
<1> 下記一般式(1)で表される化合物を下記一般式(2)で表される化合物に転化する工程と、
前記一般式(2)で表される化合物を下記一般式(3)で表される化合物に転化する工程と、
前記一般式(3)で表される化合物をボリコナゾールに転化する工程とを含むことを特徴とするボリコナゾールの製造方法である。
下記一般式(1)で表される化合物を前記一般式(2)で表される化合物に転化する工程を含むことを特徴とする化合物の製造方法である。
<3> 下記一般式(3)で表される化合物の製造方法であって、
下記一般式(2)で表される化合物を前記一般式(3)で表される化合物に転化する工程を含むことを特徴とする化合物の製造方法である。
下記一般式(3)で表される化合物をボリコナゾールに転化する工程を含むことを特徴とするボリコナゾールの製造方法である。
<6> 下記一般式(3)で表されることを特徴とする化合物である。
本発明の化合物は、下記一般式(2)で表される。
前記水酸基の保護基としては、例えば、アラルキル基、トリアルキルシリル基、アルコキシアルキル基、アルカノイル基、アリールカルボニル基、トリフェニルメチル基(トリチル基)、パラメトキシフェニル基、tert−ブトキシカルボニル基などが挙げられる。前記水酸基の保護基におけるアリール環(ベンゼン環など)が置換基を有する場合には、前記置換基としては、例えば、ハロゲン原子、アルコキシ基などが挙げられる。
前記アラルキル基としては、例えば、ベンジル基、p−メトキシベンジル基、p−アミノベンジル基などが挙げられる。
前記トリアルキルシリル基としては、例えば、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、tert−ブチルジメチルシリル基などが挙げられる。前記トリアルキルシリル基のアルキル基としては、例えば、炭素数1〜4のアルキル基などが挙げられる。
前記アルコキシアルキル基としては、例えば、メトキシメチル基、エトキシメチル基などが挙げられる。
前記アルカノイル基としては、例えば、アセチル基、トリフルオロアセチル基などが挙げられる。
前記アリールカルボニル基としては、例えば、ベンゾイル基、置換フェニルカルボニル基などが挙げられる。
これらの中でも、前記R1及びR2における水酸基の保護基は、収率に優れる点、エナンチオ選択性に優れる点、及び温和な条件で脱保護が可能な点から、トリアルキルシリル基が好ましく、トリメチルシリル基がより好ましい。
前記一般式(2−1)において、前記R5のハロゲン原子としては、原料の価格が安い点、原料の入手が容易な点、及び反応性が優れている点から、塩素原子が好ましい。
本発明の化合物は、下記一般式(3)で表される。
本発明の一般式(2)で表される化合物の製造方法は、下記一般式(1)で表される化合物を下記一般式(2)で表される化合物に転化する工程(転化工程)を含む。
前記一般式(2)で表される化合物の製造方法における前記転化工程においては、例えば、前記一般式(1)で表される化合物と、下記一般式(A)で表される化合物とを、アルキルリチウムの存在下で反応させること(反応A)により、前記一般式(2)で表される化合物を合成することができる。前記反応Aにおいては、主に、前記一般式(2)中のR3及びR4のいずれかが水酸基の保護基である化合物が得られる。
前記一般式(2)で表される化合物の製造方法における前記転化工程においては、例えば、前記反応Aの後に、前記水酸基の保護基の脱保護(反応B)を行うことにより、前記一般式(2)中のR3及びR4が水素原子である化合物が合成される。
本発明の一般式(3)で表される化合物の製造方法は、下記一般式(2)で表される化合物を下記一般式(3)で表される化合物に転化する工程(転化工程)を含む。
本発明のボリコナゾールの製造方法(その1)は、下記一般式(3)で表される化合物をボリコナゾールに転化する工程(転化工程)を含む。
(1)下記構造式Bの化合物を下記構造式Cの化合物へ転化する工程と、
前記構造式Cの化合物を下記構造式Dの化合物へ転化する工程と、
前記構造式Dの化合物を下記構造式Eの化合物へ転化する工程と、
前記構造式Eの化合物をボリコナゾールへ転化する工程とを含む工程。
(2)下記構造式Cの化合物を下記構造式Dの化合物へ転化する工程と、
前記構造式Dの化合物を下記構造式Eの化合物へ転化する工程と、
前記構造式Eの化合物をボリコナゾールへ転化する工程とを含む工程。
(3)下記構造式Dの化合物を下記構造式Eの化合物へ転化する工程と、
前記構造式Eの化合物をボリコナゾールへ転化する工程とを含む工程。
(3)下記構造式Eの化合物をボリコナゾールへ転化する工程を含む工程。
前記構造式Cの化合物としては、下記構造式C−1の化合物が好ましい。
前記構造式Dの化合物としては、下記構造式D−1の化合物が好ましい。
前記構造式Eの化合物としては、下記構造式E−1の化合物が好ましい。
前記構造式Bの化合物を前記構造式Cの化合物へ転化する方法としては、例えば、水酸基をカルボニル基へ酸化する方法などが挙げられる。前記酸化は、例えば、コーリー・キム酸化などにより行うことができる。また、前記酸化は、コーリー・キム酸化においてジメチルスルフィドをドデシルメチルスルフィドに代えて行ってもよい。
前記構造式Cの化合物を前記構造式Dの化合物へ転化する方法としては、例えば、Wittig試薬を用いたWittig反応などが挙げられる。前記Wittig反応において用いられるホスホニウムイリドとしては、例えば、Ph3P+MeBr−(Phはフェニル基を表す。Meはメチル基を表す。)などが挙げられる。
前記構造式Dの化合物は結晶で得られるため、精製が容易である。
前記構造式Dの化合物を前記構造式Eの化合物へ転化する方法としては、例えば、アルケンのアルカンへの還元反応などが挙げられる。前記還元反応は、例えば、ヒドラジン系化合物を用いて行うことができる。前記ヒドラジン系化合物としては、例えば、2,4,6−トリイソプロピルベンゼンスルホニルヒドラジドなどが挙げられる。前記還元反応は、金属を用いることなく、また副生成物が窒素のみのため、環境にやさしい工程である。
前記構造式Eの化合物をボリコナゾールへ転化する方法は、例えば、1,2,4−トリアゾールを用いて行うことができる。
本発明のボリコナゾールの製造方法(その2)は、
下記一般式(1)で表される化合物を下記一般式(2)で表される化合物に転化する工程(第1の転化工程)と、
前記一般式(2)で表される化合物を下記一般式(3)で表される化合物に転化する工程と(第2の転化工程)、
前記一般式(3)で表される化合物を下記一般式(3)で表される化合物をボリコナゾールに転化する工程を含む。
上記各工程は、それぞれ、本発明の前記一般式(2)で表される化合物の製造方法、本発明の前記一般式(3)で表される化合物の製造方法、及び本発明の前記ボリコナゾールの製造方法(その1)で詳述した工程と同様である。好ましい態様も同様である。
なお、前記第1の転化工程で得られた前記一般式(2)で表される化合物は、精製及び単離をして前記第2の転化工程に用いてもよいし、精製及び単離をせずに前記第2の転化工程に用いてもよい。
なお、以下の実施例において、「TMS」は「トリメチルシリル基」を表す。「n−Bu」は「ノルマルブチル基」を表す。「Et」は、「エチル基」を表す。「TBAF」は「テトラブチルアンモニウムフロリド」を表す。「AcOH」は「酢酸」を表す。「THF」は「テトラヒドロフラン」を表す。「NCS」は「N−クロロスクシンイミド」を表す。「Ph」は「フェニル基」を表す。
磁気撹拌子を入れて加熱乾燥した10mLの試験管をAr雰囲気下にしたのち、ジエチルエーテル0.2mLを入れ、2.69Mノルマルブチルリチウムのヘキサン溶液(0.19mL,0.52mmol)を−78℃にて加えた。4−ブロモ−5−フルオロピリミジン(91.3mg,0.52mmol、米国公開第2012−071461号公報に従って合成)をジエチルエーテル0.7mLに溶かした溶液を加え、その温度にて10分間撹拌した。ヨウ化亜鉛(165mg,0.52mmol)を加え、20分間撹拌したのち、文献(Oraganic Letters., 2005, 7, 2527)に記載の方法で得た下記構造式3のアルデヒド(137mg,0.47mmol)をジエチルエーテル1.0mLに溶かした溶液を加え、その温度にて30分間撹拌した。反応液に蒸留水と酢酸エチルを加えて分液し、水層を酢酸エチルで2回分液後、集めた有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥して濾過した。濾液を減圧濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン:酢酸エチル=4:1(体積比))にて精製して(1R,2S)−3−クロロ−2−(2,4−ジフルオロフェニル)−1−(5−フルオロピリミジン−4−イル)−2−((トリメチルシリル)オキシ)プロパン−1−オール38mg(収率21%)(ジアステレオ選択性=93:7)(下記構造式4の化合物)を得た。
1H NMR(400MHz, CDCl3) δ8.95(d, J=2.8Hz, 1H), 8.22(d, J=0.92Hz, 1H), 6.96−6.90(m, 1H), 6.83−6.78(m, 1H), 6.71−6.66(m, 1H), 5.32(d, J=9.7Hz, 1H), 4.56(d, J=12.6Hz, 1H), 4.45(d, J=9.7Hz, 1H), 4.42(d, J=12.6 Hz, 1H), 0.250(s, 9H)
磁気撹拌子を入れて加熱乾燥した10mLの試験管をAr雰囲気下にしたのち、ジエチルエーテル0.2mLを入れ、2.69Mノルマルブチルリチウムのヘキサン溶液(0.21mL,0.56mmol)を−78℃にて加えた。4−ブロモ−5−フルオロピリミジン(99.3mg,0.56mmol、米国公開第2012−071461号公報に従って合成)をジエチルエーテル0.8mLに溶かした溶液を加え、その温度にて10分間撹拌した。文献(Oraganic Letters., 2005, 7, 2527)に記載の方法で得た下記構造式3のアルデヒド(117mg,0.40mmol)をジエチルエーテル1.0mLに溶かした溶液を加え、その温度にて30分間撹拌した。反応液に蒸留水と酢酸エチルを加えて分液し、水層を酢酸エチルで2回分液後、集めた有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥して濾過した。濾液を減圧濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン:酢酸エチル=4:1(体積比))にて精製して(1R,2S)−3−クロロ−2−(2,4−ジフルオロフェニル)−1−(5−フルオロピリミジン−4−イル)−1−((トリメチルシリル)オキシ)プロパン−2−オール77mg(収率49%)(ジアステレオ選択性=72:28)(下記構造式5の化合物)を得た。
1H NMR(400MHz,CDCl3) δ8.87(d, J=2.5Hz, 1H), 8.38(d, J=1.8Hz, 1H), 7.35−7.28(m, 1H), 6.77−6.71(m, 1H), 6.69−6.64(m, 1H), 5.51(s, 1H), 4.62(s, 1H), 4.27(d, J=11.2Hz, 1H), 4.11(dd, J=11.2, 1.2Hz, 1H), 0.046(s, 9H)
実施例2で得られた化合物64mgをテトラヒドロフラン326μLに溶解し、室温にて、0.01N塩酸326μLを加え、3時間攪拌した。反応液を減圧濃縮して得られた残渣を分取用薄層クロマトグラフィー(クロロホルム:メタノール=10:1(体積比))にて精製して(1R,2S)−3−クロロ−2−(2,4−ジフルオロフェニル)−1−(5−フルオロピリミジン−4−イル)プロパン−1,2−ジオール46mg(収率88%)(下記構造式6)を得た。
1H NMR(400MHz,CDCl3) δ8.93(d, J=2.5Hz, 1H), 8.36(d, J=1.4Hz, 1H), 7.26−7.20(m, 1H), 6.81−6.69(m, 2H), 5.50(d, J=10.6Hz, 1H), 4.41(d, J=11.4Hz, 1H), 4.26(d, J=11.4Hz, 1H), 4.09(d, J=10.6Hz, 1H), 4.02(s, 1H)
磁気撹拌子を入れて加熱乾燥した10mLの試験管をAr雰囲気下にしたのち、ジエチルエーテル0.3mLを入れ、2.65Mノルマルブチルリチウムのヘキサン溶液(0.23mL,0.60mmol)を−78℃にて加えた。4−ブロモ−5−フルオロピリミジン(106mg,0.60mmol、米国公開第2012−071461号公報に従って合成)をジエチルエーテル0.8mLに溶かした溶液を加え、その温度にて10分間撹拌した。文献(Oraganic Letters., 2005, 7, 2527)に記載の方法で得た下記構造式3のアルデヒド(117mg,0.40mmol)をジエチルエーテル0.9mLに溶かした溶液を加え、その温度にて30分間撹拌した。シリカゲル348mgを加え、室温にて30分間攪拌したのち、氷冷下、酢酸(50μL,0.88mmol)と1Mテトラブチルアンモニウムフロリドのテトラヒドロフラン溶液(1.8mL,1.8mmol)を加え、室温にて8時間攪拌した。リン酸バッファーを加えて濾過し、濾液に飽和重層水と酢酸エチルを加えて分液し、有機層を飽和重層水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥して濾過した。濾液を減圧濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン:酢酸エチル=4:1(体積比))にて精製して(R)−((R−2−(2,4−ジフルオロフェニル)オキシラン−2−イル)(5−フルオロピリミジン−4−イル)メタノール55.2mg(収率49%、ジアステレオ選択性=85:15)(下記構造式7の化合物)を得た。
<major isomer>
1H NMR(400MHz,CDCl3) δ8.96(d, J=2.8Hz, 1H), 8.45(s, 1H), 7.17−7.11(m, 1H), 6.76−6.67(m, 2H), 5.34(d, J=9.6Hz, 1H), 4.02(d, J=9.6Hz, 1H), 3.44(d, J=5.3Hz, 1H), 2.81(d, J=5.3Hz, 1H)
1H NMR(400MHz,CDCl3) δ8.97(d, J=2.8Hz, 1H), 8.55(d, J=1.2Hz,1H), 7.27−7.21(m, 1H), 6.83−6.78(m, 1H), 6.75−6.69(m, 1H), 5.31(d, J=7.4Hz, 1H), 3.82(d, J=7.4Hz, 1H), 3.20(d, J=4.6Hz, 1H), 2.93(d, J=4.6Hz, 1H)
磁気撹拌子を入れた200mLのナスフラスコをAr雰囲気下にしたのち、N−クロロスクシンイミド(2.2g,16mmol)とテトラヒドロフラン33mLを加え、氷冷下、ドデシルメチルスルフィド(4.9mL,19mmol、東京化成工業株式会社製)を加え、10分間撹拌した。反応液を−30℃に冷却したのち、テトラヒドロフラン40mLに溶解させた、実施例4で得られた化合物(1.5g,5.4mmol、構造式7の化合物)を加え、1時間撹拌した。トリエチルアミン(4.6mL,33mmol)を加え、−30℃にて2時間撹拌した。反応液に蒸留水と酢酸エチルを加えて分液し、有機層を蒸留水で2回洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥して濾過した。濾液を減圧濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン:酢酸エチル=7:3(体積比))にて精製して(R)−(2−(2,4−ジフルオロフェニル)オキシラン−2−イル)(5−フルオロピリミジン−4−イル)メタノン1.5g(収率97%)(下記構造式8の化合物)を得た。
1H NMR(400MHz,CDCl3) δ9.00(d, J=2.8Hz, 1H), 8.73(d, J=1.4Hz, 1H), 7.48−7.42(m, 1H), 6.93−6.89(m, 1H), 6.86−6.80(m, 1H), 3.73(d, J=5.5Hz, 1H), 3.32(d, J=5.5Hz, 1H)
磁気撹拌子を入れた50mLのナスフラスコをAr雰囲気下にしたのち、メチルトリフェニルホスホニウムブロミド(640mg,1.8mmol、東京化成工業株式会社製)、t−ブトキシカリウム(201mg,1.8mmol)とトルエン2mLを加え、120℃にて1時間撹拌した。反応液を室温まで冷却したのち、氷冷下にて、トルエン7mLに溶解させた、実施例5で得られた化合物(251mg,0.90mmol、構造式8の化合物)を加え、室温にて3時間撹拌した。反応液に蒸留水と酢酸エチルを加えて分液し、有機層を蒸留水で2回洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥して濾過した。濾液をトルエン5mLに溶解し、塩化マグネシウム(512mg,5.4mmol)を加え、65℃にて1時間撹拌した。反応液を濾過後、濾液を減圧濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン:酢酸エチル=7:3(体積比))にて精製して(R)−4−(1−(2−(2,4−ジフルオロフェニル)オキシラン−2−イル)ビニル)−5−フルオロピリミジン 212mg(収率85%)(下記構造式9の化合物)を得た。
1H NMR(400MHz,CDCl3) δ8.92(d, J=3.0Hz, 1H), 8.50(d, J=3.2Hz, 1H), 7.55−7.49(m, 1H), 6.80−6.76(m, 1H), 6.73−6.68(m, 1H), 6.20(br s, 1H), 6.16(s, 1H), 3.33(d, J=5.3Hz, 1H), 3.17(d, J=5.3Hz, 1H)
磁気撹拌子を入れた10mLの試験管に実施例6で得られた化合物(23.5mg,0.085mmol、構造式9の化合物)を加え、メタノール85μLに溶解させた。反応液に炭酸水素ナトリウム(9.2mg,0.110mmol)と2,4,6−トリイソプロピルベンゼンスルホニルヒドラジド(30mg,0.101mmol、東京化成工業株式会社製)を加え、室温にて、18時間撹拌した。反応液に蒸留水と酢酸エチルを加えて分液し、水層を酢酸エチルで2回分液したのち、集めた有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥して濾過した。濾液を減圧濃縮して得られた残渣を分取用薄層クロマトグラフィー(ヘキサン:酢酸エチル=1:1(体積比))にて精製して4−((S)−1−((R)−2−(2,4−ジフルオロフェニル)オキシラン−2−イル)エチル)5−フルオロピリミジン 19mg(収率80%)(ジアステレオ選択性=69:31)(下記構造式10の化合物)を得た。さらに、得られたジアステレオ混合物を分取用薄層クロマトグラフィー(ヘキサン:ジイソプロピルエーテル=1:4(体積比))にて精製して、下記構造式10の化合物を単一のジアステレオマーとして、13mg(収率57%)を得た。
1H NMR(400MHz,CDCl3) δ8.92(d, J=2.8Hz, 1H), 8.44(d, J=1.8Hz, 1H), 7.16−7.10(m, 1H), 6.77−6.69(m, 2H), 3.90(q, J=7.3Hz, 1H), 3.07(d, J=4.8Hz, 1H), 2.86(d, J=4.8Hz, 1H), 1.34(d, J=7.3Hz, 3H)
磁気撹拌子を入れた10mLの試験管に実施例7で得られた化合物(122mg,0.436mmol、構造式10の化合物)を加え、エタノール245μLと酢酸245μLの混合溶媒に溶解させた。反応液に1,2,4−トリアゾール(904mg,13mmol、東京化成工業株式会社製)を加え、80℃にて、12時間撹拌した。反応液に蒸留水と酢酸エチルを加えて分液し、水層を酢酸エチルで2回分液したのち、集めた有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥して濾過した。濾液を減圧濃縮して得られた残渣を分取用薄層クロマトグラフィー(クロロホルム:メタノール=1:1(体積比))にて精製して(2R、3S)−2−(2,4−ジフルオロフェニル)−3−(5−フルオロピリミジン−4−イル)−1−(1H−1,2,4−トリアゾール−1−イル)ブタン−2−オール 76mg(収率50%、エナンチオ過剰率80%)(ボリコナゾール)を得た。これをイソプロパノールとヘキサンに65℃で溶解させ、氷冷下撹拌した。得られたスラリーを吸引濾過し、白色結晶を減圧乾燥することでボリコナゾールをエナンチオ過剰率99%以上で得た。
1H NMR(400MHz,CDCl3) δ8.91(d, J=2.5Hz, 1H), 8.59(d, J=1.4Hz, 1H), 7.94(s, 1H), 7.61−7.55(m, 1H), 7.52(s, 1H), 6.84−6.77(m, 2H), 6.46(s, 1H), 4.69(d, J=14.2Hz, 1H), 4.29(d, J=14.2Hz, 1H), 4.11(q, J=7.1Hz, 1H), 1.08(d, J=7.1Hz, 3H)
<1> 下記一般式(1)で表される化合物を下記一般式(2)で表される化合物に転化する工程と、
前記一般式(2)で表される化合物を下記一般式(3)で表される化合物に転化する工程と、
前記一般式(3)で表される化合物をボリコナゾールに転化する工程とを含むことを特徴とするボリコナゾールの製造方法である。
下記一般式(1)で表される化合物を前記一般式(2)で表される化合物に転化する工程を含むことを特徴とする化合物の製造方法である。
<3> 下記一般式(3)で表される化合物の製造方法であって、
下記一般式(2)で表される化合物を前記一般式(3)で表される化合物に転化する工程を含むことを特徴とする化合物の製造方法である。
下記一般式(3)で表される化合物をボリコナゾールに転化する工程を含むことを特徴とするボリコナゾールの製造方法である。
<6> 下記一般式(3)で表されることを特徴とする化合物である。
本発明の前記一般式(2)で表される化合物、及び前記一般式(3)で表される化合物は、ボリコナゾールの工業的製造に好適に用いることができる。
Claims (6)
- 下記一般式(1−1)で表される化合物と、下記一般式(A)で表される化合物とを反応させ、下記一般式(2−1−1)で表される化合物、下記一般式(2−1−2)で表される化合物、又はそれらの混合物を得、更に、水酸基の保護基を脱保護して、下記一般式(2−1−3)で表される化合物を得る工程と、
前記一般式(2−1−3)で表される化合物を下記構造式B−1で表される化合物に転化する工程と、
前記構造式B−1で表される化合物を下記構造式C−1で表される化合物に転化する工程と、
前記構造式C−1で表される化合物を下記構造式D−1で表される化合物に転化する工程と、
前記構造式D−1で表される化合物を下記構造式E−1で表される化合物に転化する工程と、
前記構造式E−1で表される化合物と、1,2,4−トリアゾールとを反応させ、ボリコナゾールを得る工程とを含むことを特徴とするボリコナゾールの製造方法。
前記一般式(A)中、R 10 は、塩素原子、臭素原子、及びヨウ素原子のいずれかを表す。
前記一般式(2−1−1)中、R 3 は、前記一般式(1−1)におけるR 1 と同じであり、R 4 は、水素原子を表し、R 5 は、前記一般式(1−1)におけるR 2 と同じである。
前記一般式(2−1−2)中、R 3 は、水素原子を表し、R 4 は、前記一般式(1−1)におけるR 1 と同じであり、R 5 は、前記一般式(1−1)におけるR 2 と同じである。
前記一般式(2−1−3)中、R 5 は、前記一般式(1−1)におけるR 2 と同じである。 - 下記一般式(2−1−3)で表される化合物の製造方法であって、
下記一般式(1−1)で表される化合物と、下記一般式(A)で表される化合物とを反応させ、下記一般式(2−1−1)で表される化合物、下記一般式(2−1−2)で表される化合物、又はそれらの混合物を得、更に、水酸基の保護基を脱保護して、下記一般式(2−1−3)で表される化合物を得る工程を含むことを特徴とする化合物の製造方法。
前記一般式(A)中、R 10 は、塩素原子、臭素原子、及びヨウ素原子のいずれかを表す。
前記一般式(2−1−1)中、R 3 は、前記一般式(1−1)におけるR 1 と同じであり、R 4 は、水素原子を表し、R 5 は、前記一般式(1−1)におけるR 2 と同じである。
前記一般式(2−1−2)中、R 3 は、水素原子を表し、R 4 は、前記一般式(1−1)におけるR 1 と同じであり、R 5 は、前記一般式(1−1)におけるR 2 と同じである。
前記一般式(2−1−3)中、R 5 は、前記一般式(1−1)におけるR 2 と同じである。 - 下記構造式B−1で表される化合物の製造方法であって、
下記一般式(2−1−3)で表される化合物を前記構造式B−1で表される化合物に転化する工程を含むことを特徴とする化合物の製造方法。
- ボリコナゾールの製造方法であって、
下記構造式D−1で表される化合物を下記構造式E−1で表される化合物に転化する工程と、
前記構造式E−1で表される化合物と、1,2,4−トリアゾールとを反応させ、ボリコナゾールを得る工程とを含むことを特徴とするボリコナゾールの製造方法。
- 下記一般式(2−1)で表されることを特徴とする化合物。
- 下記一般式(3−1)で表されることを特徴とする化合物。
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