JP6249651B2 - 画像記録装置、画像記録方法およびプログラム - Google Patents
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Description
以下に本発明の第1の実施形態を詳細に説明する。
図14は記録許容画素の単位内の記録許容画素の数の平均が9のマスクパターンを各記録走査にて適用して記録した際の画像表面を示す図である。なお、全ての画素にインクを吐出した際に形成される画像(以下、ベタ画像と称する)を示している。
第1の実施形態では、単位領域を記録する複数回の記録走査にそれぞれ対応する複数のマスクパターンのすべてにおいて、マスクパターン内の記録走査の境界部に相当する領域の記録許容画素の単位内の記録許容画素の数が相対的に多くなる形態について記載した。
Claims (14)
- インクを吐出するための複数の吐出口が配列方向に配列された吐出口列を有する記録ヘッドと、
前記吐出口列を分割してなる複数の分割部分のうちそれぞれ異なる分割部分が複数回の走査それぞれで記録媒体上の単位領域と対面するように、前記記録ヘッドを前記単位領域に対して前記配列方向と交差する走査方向に相対的に複数回走査させる走査手段と、
記録の許容を定める記録許容画素と記録の非許容を定める非記録許容画素が配置された複数のマスクパターンであって、前記複数の分割部分に対応する複数のマスクパターンに基づいて、前記単位領域に対応する画像のデータから、前記単位領域に対する前記記録ヘッドの複数回の走査それぞれにおいて前記複数の分割部分それぞれからの吐出にて使用する記録データを生成する生成手段と、
前記記録データに基づいて前記記録ヘッドから前記単位領域にインクを吐出させる制御手段と、を有する画像記録装置であって、
前記複数のマスクパターンのうちの所定のマスクパターンは、第1の領域と、前記第1の領域よりも前記配列方向に相当する方向において前記所定のマスクパターンの端部側に位置する第2の領域と、を含み、
前記第1の領域に配置された非記録許容画素に対する記録許容画素の割合は、前記第2の領域に配置された非記録許容画素に対する記録許容画素の割合とほぼ等しく、
前記第1の領域において互いに隣接して配置された記録許容画素の数の平均は、前記第2の領域において互いに隣接して配置された記録許容画素の数の平均よりも少ないことを特徴とする画像記録装置。 - 前記複数のマスクパターンのうちの前記所定のマスクパターンと異なる第2のマスクパターンは、第3の領域と、前記第3の領域よりも前記配列方向に相当する方向において前記第2のマスクパターンの端部側に位置する第4の領域と、を含み、
前記第3の領域において互いに隣接して配置された記録許容画素の数の平均は、前記第4の領域において互いに隣接して配置された記録許容画素の数の平均よりも少ないことを特徴とする請求項1に記載の画像記録装置。 - 前記所定のマスクパターンは、前記第1の領域よりも前記配列方向に相当する方向において前記第2の領域側と反対の端部側に位置する第5の領域を更に含み、
前記第1の領域において互いに隣接して配置された記録許容画素の数の平均は、前記第5の領域において互いに隣接して配置された記録許容画素の数の平均よりも少ないことを特徴とする請求項1または2に記載の画像記録装置。 - 前記第2の領域は前記所定のマスクパターン内の前記配列方向に相当する方向における一方の端部に位置し、前記第5の領域は前記所定のマスクパターン内の前記配列方向に相当する方向における他方の端部に位置することを特徴とする請求項3に記載の画像記録装置。
- 前記第1の領域は前記所定のマスクパターン内の前記配列方向に相当する方向における中央部に位置することを特徴とする請求項1から4のいずれか1項に記載の画像記録装置。
- インクを吐出するための複数の吐出口が配列方向に配列された吐出口列を有する記録ヘッドと、
前記吐出口列を分割してなる複数の分割部分のうちそれぞれ異なる分割部分が複数回の走査それぞれで記録媒体上の単位領域と対面するように、前記記録ヘッドを前記単位領域に対して前記配列方向と交差する走査方向に相対的に複数回走査させる走査手段と、
記録の許容を定める記録許容画素と記録の非許容を定める非記録許容画素が配置された複数のマスクパターンであって、前記複数の分割部分に対応する複数のマスクパターンに基づいて、前記単位領域に対応する画像のデータから、前記単位領域に対する前記記録ヘッドの複数回の走査それぞれにおいて前記複数の分割部分それぞれからの吐出にて使用する記録データを生成する生成手段と、
前記記録データに基づいて前記記録ヘッドから前記単位領域にインクを吐出させる制御手段と、を有する画像記録装置であって、
前記複数のマスクパターンのうちの所定のマスクパターンは、第1の領域と、前記第1の領域よりも前記配列方向に相当する方向において前記所定のマスクパターンの端部側に位置する第2の領域と、前記第1の領域よりも前記配列方向に相当する方向において前記第2の領域側と反対の端部側に位置する第3の領域と、を含み、
前記第1の領域において互いに隣接して配置された記録許容画素の数の平均は、前記第2の領域において互いに隣接して配置された記録許容画素の数の平均よりも少なく、且つ、前記第3の領域において互いに隣接して配置された記録許容画素の数の平均よりも少ないことを特徴とする画像記録装置。 - 前記記録媒体を加熱する加熱手段を更に備えることを特徴とする請求項1から6のいずれか1項に記載の画像記録装置。
- 前記インクは、樹脂エマルジョンを含有することを特徴とする請求項1から7のいずれか1項に記載の画像記録装置。
- 前記記録媒体は、基材と、前記基材上に塩化ビニルにより形成された層を有することを特徴とする請求項1から8のいずれか1項に記載の画像記録装置。
- 前記記録媒体上に形成された前記インクの層における臨界表面張力は、前記記録媒体における臨界表面張力と異なることを特徴とする請求項1から9のいずれか1項に記載の画像記録装置。
- 前記複数のマスクパターンは、互いに排他的且つ補完的な位置に記録許容画素が配置されていることを特徴とする請求項1から10のいずれか1項に記載の画像記録装置。
- インクを吐出するための複数の吐出口が配列方向に配列された吐出口列を有する記録ヘッドを用いて記録を行う画像記録方法であって、
前記吐出口列を分割してなる複数の分割部分のうちそれぞれ異なる分割部分が複数回の走査それぞれで記録媒体上の単位領域と対面するように、前記記録ヘッドを前記単位領域に対して前記配列方向と交差する走査方向に相対的に複数回走査させる走査工程と、
記録の許容を定める記録許容画素と記録の非許容を定める非記録許容画素が配置された複数のマスクパターンであって、前記複数の分割部分に対応する複数のマスクパターンに基づいて、前記単位領域に対応する画像のデータから、前記単位領域に対する前記記録ヘッドの複数回の走査それぞれにおいて前記複数の分割部分それぞれからの吐出にて使用する記録データを生成する生成工程と、
前記記録データに基づいて前記記録ヘッドから前記単位領域にインクを吐出させる制御工程と、を有し、
前記複数のマスクパターンのうちの所定のマスクパターンは、第1の領域と、前記第1の領域よりも前記配列方向に相当する方向において前記所定のマスクパターンの端部側に位置する第2の領域と、を含み、
前記第1の領域に配置された非記録許容画素に対する記録許容画素の割合は、前記第2の領域に配置された非記録許容画素に対する記録許容画素の割合とほぼ等しく、
前記第1の領域において互いに隣接して配置された記録許容画素の数の平均は、前記第2の領域において互いに隣接して配置された記録許容画素の数の平均よりも少ないことを特徴とする画像記録方法。 - インクを吐出するための複数の吐出口が配列方向に配列された吐出口列を有する記録ヘッドを用いて記録を行う画像記録方法であって、
前記吐出口列を分割してなる複数の分割部分のうちそれぞれ異なる分割部分が複数回の走査それぞれで記録媒体上の単位領域と対面するように、前記記録ヘッドを前記単位領域に対して前記配列方向と交差する走査方向に相対的に複数回走査させる走査工程と、
記録の許容を定める記録許容画素と記録の非許容を定める非記録許容画素が配置された複数のマスクパターンであって、前記複数の分割部分に対応する複数のマスクパターンに基づいて、前記単位領域に対応する画像のデータから、前記単位領域に対する前記記録ヘッドの複数回の走査それぞれにおいて前記複数の分割部分それぞれからの吐出にて使用する記録データを生成する生成工程と、
前記記録データに基づいて前記記録ヘッドから前記単位領域にインクを吐出させる制御工程と、を有し、
前記複数のマスクパターンのうちの所定のマスクパターンは、第1の領域と、前記第1の領域よりも前記配列方向に相当する方向において前記所定のマスクパターンの端部側に位置する第2の領域と、前記第1の領域よりも前記配列方向に相当する方向において前記第2の領域側と反対の端部側に位置する第3の領域と、を含み、
前記第1の領域において互いに隣接して配置された記録許容画素の数の平均は、前記第2の領域において互いに隣接して配置された記録許容画素の数の平均よりも少なく、且つ、前記第3の領域において互いに隣接して配置された記録許容画素の数の平均よりも少ないことを特徴とする画像記録方法。 - 請求項12または13に記載の画像記録方法を実行するために、画像記録装置のコンピュータを機能させるプログラム。
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