JP6235388B2 - 撮像装置 - Google Patents

Description

本発明は、防振（像振れ補正）機構を備えた撮像装置に関する。

近年、デジタルスチルカメラ、デジタルビデオカメラ等の主として撮影を目的とした携帯電子機器や、カメラ付き携帯電話機や携帯情報端末といった付随的に撮影機能を備えた携帯電子機器が広く普及しており、こうした携帯電子機器に搭載される撮像ユニットの小型化が求められている。撮像ユニットの小型化の手段として、プリズムやミラーなどの反射要素の反射面を用いて光束を反射（屈曲）させる屈曲光学系によって撮像用の光学系を構成したものが知られている。屈曲光学系を用いることによって、特に被写体からの入射光の進行方向における撮像ユニットの薄型化を実現することができる。

また撮像ユニットには、手振れなどの振動を起因とする像面上での像振れを軽減させるための、いわゆる防振機構の搭載が求められる傾向にある。屈曲光学系の撮像ユニットで防振機構を備えたものとして、撮像センサを像面と直交する方向に移動させて防振を行う第１のタイプ（特許文献１、２）、反射面を有する反射要素の後方（像面側）に配置したレンズを光軸直交方向に移動させて防振を行う第２のタイプ（特許文献３、４）、反射要素（反射面）と反射要素に隣接するレンズの角度を変化させて防振を行う第３のタイプ（特許文献５、６、７、８）、撮像ユニット全体を傾動させて防振を行う第４のタイプ（特許文献９、１０）が知られている。

本発明の出願人は、屈曲光学系を有する撮像装置において、反射素子とその物体側に位置する前方レンズを含み光学系全体の物体側に配される前方レンズ群のうち、前方レンズのみを光軸と直交する平面に沿って移動させる防振機構を提案した（特許文献１１）。

特許文献１２には、屈曲光学系ではなくストレートな光軸を有する主レンズ系において、最も物体側に位置する第１レンズまたはその次に位置する第２レンズを、光軸上の回動中心を中心として回動させることによって防振を行うことが記載されている。

特開２００９-８６３１９号公報 特開２００８-２６８７００号公報 特開２０１０-１２８３８４号公報 特許第４７８９６５５号 特開２００７-２２８００５号公報 特開２０１０-２０４３４１号公報 特開２００６-３３０４３９号公報 特許第４７１７５２９号 特開２００６-１６６２０２号公報 特開２００６-２５９２４７号公報 特開２０１３-２３８８４８号公報 特開平９-２５１１２７号公報

撮像装置の用途として静止画だけでなく動作の撮影が一般化していること等を背景として、撮像装置における防振性能をさらに向上させることが求められている。但し、防振用の光学要素の移動は収差等の光学性能に影響を及ぼし、かつその移動量に応じたスペースを必要とするため、防振性能の向上を図る際には、これらの条件ができるだけ損なわれないように（すなわち、防振機構をできるだけコンパクトに構成し、かつ防振動作による光学性能の低下を抑えるように）考慮する必要がある。

第１のタイプの防振機構は、撮像センサに接続する基板が撮像センサに追随して移動されるため、撮像センサのみならず周囲の電装系の部品も可動対応の構成にする必要があり、構成が複雑でコスト高になりやすい。また撮像センサの撮像面周りは防塵構造であることが求められるが、携帯電話機や携帯情報端末への搭載を意図した小型の撮像ユニットでは、撮像センサの防塵構造を維持しながら防振用の動作を行わせるだけの十分なスペースをハウジング内に確保しにくい。

第２のタイプの防振機構は、防振動作時のレンズの移動方向が撮像ユニットの厚み方向（被写体の方向を前方とした場合の前後方向）になるため、薄型の撮像ユニット内に防振機構を設けることがスペース的に難しいという問題がある。逆に言えば、このタイプの防振機構を用いると撮像ユニットの薄型化が制約されてしまう。レンズではなく撮像センサを撮像ユニットの厚み方向に移動させるタイプの防振機構でも同様の問題がある。

第３のタイプの防振機構は、反射要素とレンズを傾動させるために広いスペースが必要であり、撮像ユニットが大型化しやすい。撮像ユニット全体を傾動させる第４のタイプの防振機構ではさらに大型化が避けられない。

特許文献１１の防振機構は、前方レンズ群のうち反射素子の前方に位置する前方レンズを光軸直交面内で動作させることにより、前方レンズの光軸に沿う方向において撮像装置を小型化（薄型化）する効果が得られる。しかし最近では、防振機構を備えた撮像装置における小型化と防振性能の向上をより高レベルに両立させることが求められてきている。

特許文献１２は、第１レンズや第２レンズの概念的な回動中心を光軸上（光路上）に設定しているが、これを実現するには、光束を遮らないように光路から外れた位置に第１レンズや第２レンズの回動支持手段を配置する必要があり、防振機構をコンパクトに構成しにくい。

従って本発明は、小型で防振性能に優れる撮像装置を提供することを目的とする。

本発明は、撮像光学系を構成する前方レンズ群と後方レンズ群を有し、前方レンズ群が物体側から順に、少なくとも一つの前方レンズと、この前方レンズから出射された光束を異なる方向に反射する反射面を備えた反射素子とを有し、撮像光学系に加わる振れに応じて前方レンズ群のうち前方レンズを動作させて像面上での像振れを抑制する撮像装置であって、前方レンズを保持する可動枠と、少なくとも反射素子を保持し、前方レンズによる像振れ抑制を行わない基準状態の光軸に対して移動しない支持部材と、支持部材に対して可動枠を、基準状態における前方レンズの光軸を反射素子の反射面の裏側まで延長した軸上の支点を中心とする球心揺動可能に支持する支持機構と、撮像光学系に加わる振れに応じて可動枠に駆動力を与えて球心揺動を行わせるアクチュエータとを備える。アクチュエータは、永久磁石とコイルを含むボイスコイルモータからなり、支持部材に対して相対移動しない固定部に永久磁石とコイルの一方が保持され、可動枠に永久磁石とコイルの他方が保持される。永久磁石は、球心揺動の支点を中心とする球体の第１の接平面と平行な方向に平面的な広がりを有して該第１の接平面に沿う扁平形状をなす。コイルは、球心揺動の支点を中心とする球体の第２の接平面と平行な方向に巻回され、第２の接平面と平行な方向に平面的な広がりを有して該第２の接平面に沿う扁平コイルとする。そして、第１の接平面の法線を、前方レンズの光軸と非平行で、該前方レンズの光軸またはその延長線と交差する関係とさせる。第１の接平面の法線の傾きは、該法線と前方レンズの光軸またはその延長線との交差の交点を始点としたとき、この始点から法線と平行に第１の接平面へ延びる半直線が、物体側に進むにつれて前方レンズの光軸から離れるように設定する。

この構成によると、可動枠を球心揺動させたときに、アクチュエータを構成する永久磁石とコイルの間隔変化が少なく、安定して精度が高い像振れ補正を行わせることができる。また、球心揺動の支点よりも物体側の前方レンズ周辺にスペース効率良くアクチュエータを配置することができる。

より具体的には、上記の始点から前方レンズの光軸と平行に物体側に延びる半直線に対する、上記の始点から上記法線と平行に第１の接平面へ延びる半直線の傾き角を４０°以上かつ８０°以下に設定することが好ましい。

また、それぞれが扁平形状をなす永久磁石とコイルは、第１の接平面と第２の接平面を略平行にして配置することが好ましい。

可動枠の球心揺動の支点を中心とする球体で、前方レンズの光軸及びその延長線と交差する位置を極点とし、その両極点を結ぶ球面上の円弧を経線、該経線と直交する関係の球面上の円弧を緯線とした場合、永久磁石の配置について以下の条件を満たすことが好ましい。

第１の条件として、永久磁石の外形中心を通り第１の接平面の法線に平行な直線と第１の接平面との交点をα１とし、該交点α１を通り上記球体の経線に沿う平面上での、球体と第１の接平面との接点をβ１とし、第１の接平面に沿う交点α１と接点β１の距離をγ１とし、第１の接平面に沿う永久磁石の大きさをδ１としたとき、０≦γ１＜δ１×０．２とする。

第２の条件として、永久磁石の外形中心を通り第１の接平面の法線に平行な直線と第１の接平面との交点をα２とし、該交点α２を通り上記球体の緯線に沿う平面上での、球体と第１の接平面との接点をβ２とし、第１の接平面に沿う交点α２と接点β２の距離をγ２とし、第１の接平面に沿う永久磁石の大きさをδ２としたとき、０≦γ２＜δ２×０．２とする。

これらの条件を満たす永久磁石とすることで、可動枠の球心揺動の安定性や精度を向上させると共に、コイル等の周囲の要素に対するギャップ変動を抑制する効果が得られる。γ１＝０やγ２＝０では永久磁石の外形中心が上記球体に接する配置となり、より高い効果が得られる。

本発明は、永久磁石が可動枠に保持されるムービングマグネットタイプと、コイルが可動枠に保持されるムービングコイルタイプのいずれにも適用が可能である。ムービングマグネットタイプでは、永久磁石をコイルよりも球心揺動の支点を中心とする径方向の内側に位置させるとよい。また、球心揺動の支点を中心とする径方向で、該球心揺動の支点から近い内側から順に、磁界の変化を検知して可動枠の位置情報を得るセンサ、永久磁石、コイルを配置するとよい。

実用上は、前方レンズの光軸を中心とする円に沿う方向に位置を異ならせて２つの永久磁石を備えることが好ましい。

また、前方レンズの光軸と平行に見たとき、永久磁石の両極の境界を形成する磁極境界線が前方レンズの光軸を中心とする円に接することが好ましい。

本発明によれば、屈曲光学系を構成する前方レンズ群のうち反射素子の前方に位置する前方レンズを球心揺動させて防振動作を行うことにより、物体側を前方とする前後方向に薄型で防振性能に優れた撮像装置を得ることができる。球心揺動の中心は、前方レンズの光軸を反射素子の反射面の裏側まで延長した位置に設定されるため、前方レンズを保持する可動枠の支持機構をスペース効率良く構成することができる。また、前方レンズの球心揺動を行わせるアクチュエータに関して、駆動の精度及び安定性、スペース効率等に優れた構成を実現できる。従って、小型で防振性能に優れる撮像装置が得られる。

本発明を適用した撮像ユニットの外観を示す斜視図である。 図１の撮像ユニットを、第１光軸、第２光軸及び第３光軸を含む断面に沿って切断した状態の斜視図である。 撮像ユニットの内部構造を示す斜視図である。 図３の撮像ユニットの内部構造を、第１光軸、第２光軸及び第３光軸を含む断面に沿って切断した状態の斜視図である。 撮像ユニットを構成する本体モジュールと１群ブロックを分割した状態の斜視図である。 図５の本体モジュールと１群ブロックを、第１光軸、第２光軸及び第３光軸を含む断面に沿って切断した状態の斜視図である。 撮像ユニットを第１光軸、第２光軸及び第３光軸を含む断面に沿って示した断面図である。 撮像ユニットを構成する１群ブロックの分解斜視図である。 １群ブロックを構成するセンサホルダの斜視図である。 センサホルダを被写体側から見た正面図である。 １群ブロックにおける第１レンズの支持機構の要部を、第１光軸と第２光軸を含む断面に沿って切断した状態の斜視図である。 １群ブロックを被写体側から見た正面図である。 図１２のXIII-XIII線及びXIII'-XIII'線に沿う１群ブロックの断面図である。 図１２のXIV-XIV線に沿う１群ブロックの断面図である。 第１レンズ枠に球心揺動を行わせた状態における、図１２のXIV-XIV線に沿う１群ブロックの断面図である。 図１２のXVI-XVI線に沿う１群ブロックの断面図である。 第１レンズ枠に球心揺動を行わせた状態における、図１２のXVI-XVI線に沿う１群ブロックの断面図である。 第１レンズ枠に図１７と逆方向への球心揺動を行わせた状態における、図１２のXVI-XVI線に沿う１群ブロックの断面図である。 撮像ユニットにおける光学系の実施例１のワイド端とテレ端のズーム軌跡を示す図である。 撮像ユニットにおける光学系の実施例２のワイド端とテレ端のズーム軌跡を示す図である。 撮像ユニットにおける光学系の実施例３のワイド端とテレ端のズーム軌跡を示す図である。 図１２からコイルを除いた１群ブロックの正面図である。 図１２のXIII-XIII線及びXIII'-XIII'線に沿う断面位置での第１レンズ、第１プリズム及びアクチュエータの関係を示す断面図である。 永久磁石とコイルの断面形状を異ならせた第２の実施形態で、図１２のXIII-XIII線及びXIII'-XIII'線に沿う１群ブロックの断面図である。 永久磁石を基準の位置からオフセットさせた第３の実施形態で、第１レンズ、第１プリズム及び永久磁石の関係を図１２のXIII-XIII線に沿う断面位置で示した断面図である。 永久磁石を基準の位置からオフセットさせた第４の実施形態で、第１レンズと永久磁石の関係を被写体側から見た正面図である。 第４の実施形態の２つの永久磁石を、永久磁石の外形中心を通り第１光軸と垂直な断面として概念的に示した図である。

以下、添付図面を参照しながら本発明の一実施形態に係る撮像ユニット（撮像装置）１０について説明する。なお以下の説明における前後、左右、及び、上下の各方向は図中に記載した矢線方向を基準としており、被写体（物体）側が前方となる。図１に外観形状を示すように、撮像ユニット１０は前後方向に薄く左右方向に長い横長形状をなしている。

図２、図４、図６、図７に示すように、撮像ユニット１０の撮像光学系は、第１群（前方レンズ群）Ｇ１、第２群（後方レンズ群）Ｇ２、第３群（後方レンズ群）Ｇ３、第４群（後方レンズ群）Ｇ４を有し、第１群Ｇ１に含まれる第１プリズム（反射素子）Ｌ１１と第４群Ｇ４の右方（像側）に位置する第２プリズムＬ１２でそれぞれ略直角に光束を反射させる屈曲光学系となっている。図２、図４、図６ないし図８、図１３、図１６ないし図１８に示すように、第１群Ｇ１は、第１プリズムＬ１１の入射面Ｌ１１−ａの前方（被写体側）に位置する第１レンズ（前方レンズ）Ｌ１と、第１プリズムＬ１１と、第１プリズムＬ１１の出射面Ｌ１１−ｂの右方（像側）に位置する第２レンズＬ２とから構成される。第１レンズＬ１は、入射面Ｌ１−ａを物体側に向け、出射面Ｌ１−ｂを第１プリズムＬ１１の入射面Ｌ１１−ａに向けた単レンズである。第２群Ｇ２から第４群Ｇ４はそれぞれ、プリズムなどの反射素子を含まないレンズ群である。

図７に示すように、前方から後方に向かう第１光軸Ｏ１に沿って第１レンズＬ１に入射した被写体からの光束は、入射面Ｌ１１−ａを通して第１プリズムＬ１１に入り、第１プリズムＬ１１の反射面Ｌ１１−ｃによって第２光軸Ｏ２に沿う方向（左方から右方）に反射されて出射面Ｌ１１−ｂから出射される。続いて光束は、第２光軸Ｏ２上に位置する第２レンズＬ２と第２群Ｇ２から第４群Ｇ４までの各レンズを通り、入射面Ｌ１２−ａを通して第２プリズムＬ１２に入り、第２プリズムＬ１２の反射面Ｌ１２−ｃによって第３光軸Ｏ３に沿う方向（後方から前方に向かう方向）に反射されて出射面Ｌ１２−ｂから出射され、撮像センサ（撮像素子）１４の撮像面上に結像される。第１光軸Ｏ１と第３光軸Ｏ３は略平行であり、第２光軸Ｏ２と共に同一の平面内に位置する。撮像ユニット１０は第２光軸Ｏ２に沿う方向に長い形状をなしており、第１群Ｇ１は撮像ユニット１０の長手方向の一端部（左側の端部）に近い位置に寄せて配置されている。

第１光軸Ｏ１と第２光軸Ｏ２と第３光軸Ｏ３を含む仮想の平面を基準平面Ｐ１（図１０、図１２、図１４、図１５）とし、この基準平面Ｐ１に直交して第１光軸Ｏ１を含む仮想の平面を基準平面Ｐ２（図７、図１０、図１２、図１６ないし図１８）とする。また、図１２のように基準平面Ｐ１と基準平面Ｐ２で分けられる４つの象限Ｖ１、Ｖ２、Ｖ３及びＶ４を設定すると、第１プリズムＬ１１によって偏向された第２光軸Ｏ２に沿う光束の進行方向側に第１象限Ｖ１と第４象限Ｖ４が位置し、第２光軸Ｏ２が延びる側と反対側に第２象限Ｖ２と第３象限Ｖ３が位置する。

図５及び図６に示すように、撮像ユニット１０は第２群Ｇ２、第３群Ｇ３、第４群Ｇ４、第２プリズムＬ１２及び撮像センサ（撮像素子）１４を保持する本体モジュール１１と、第１群Ｇ１を保持する１群ブロック１２を備えている。本体モジュール１１は、左右方向に長く前後方向の厚みが薄い箱状体のハウジング１３を有しており、ハウジング１３の長手方向の一端部（左方の端部）に１群ブロック１２が取り付けられ、ハウジング１３の長手方向の他端部（右方の端部）側には第４群Ｇ４と第２プリズムＬ１２が固定的に保持されている。ハウジング１３にはさらに、撮像センサ１４を支持する撮像センサ基板１５が第２プリズムＬ１２の前方に固定されている。

図３及び図４に示すように、第２群Ｇ２を保持する２群枠２０と第３群Ｇ３を保持する３群枠２１は、ハウジング１３内に設けたロッド２２、２３を介して第２光軸Ｏ２に沿って移動可能に支持されている。ハウジング１３には第１モータＭ１（図１、図３、図５）と第２モータＭ２（図４）が支持され、第１モータＭ１から突出する送りネジシャフトＭ１ａを回転駆動させると、２群枠２０に駆動力が伝達されて該２群枠２０がロッド２２、２３に沿って移動され、第２モータＭ２から突出する送りネジシャフトＭ２ａを回転駆動させると、３群枠２１に駆動力が伝達されて該３群枠２１がロッド２２、２３に沿って移動される。撮像ユニット１０の撮像光学系は焦点距離可変であり、第２光軸Ｏ２に沿う第２群Ｇ２と第３群Ｇ３の移動によってズーミング（変倍）動作が行われる。また、第２光軸Ｏ２に沿う第３群Ｇ３の移動によってフォーカシング動作が行われる。

撮像ユニット１０は、手振れなどの振動を原因とする像面上での像振れを軽減させる防振（像振れ補正）機構を備えている。この防振機構は、第１群Ｇ１中の第１レンズＬ１を、第１光軸Ｏ１を延長した軸上の点である揺動中心Ａ１（図１３、図１６ないし図１８）を中心（支点）とする仮想の球面に沿って揺動させるものである。この第１レンズＬ１における揺動動作を球心揺動と呼ぶ。図中における第１光軸Ｏ１は、防振動作を行なっていない光学設計上の基準状態（球心揺動の中心位置）での第１レンズＬ１の光軸を示している。以下では、この第１レンズＬ１の基準状態を防振初期位置と呼ぶ。防振初期位置からの球心揺動を行った状態での第１レンズＬ１の光軸を、図１５、図１７及び図１８にＯ１’で示した。また、揺動中心Ａ１を通り第１光軸Ｏ１に対して垂直な基準平面Ｐ３を図１３ないし図１８、図２３に示した。

第１レンズＬ１は、被写体側を向く入射面Ｌ１−ａと第１プリズムＬ１１に向く出射面Ｌ１−ｂを有しており、図１２に示すように、第１象限Ｖ１と第４象限Ｖ４に位置する周縁部の一部を基準平面Ｐ２に沿う方向に切り欠いたＤカット形状をなしている。第１レンズＬ１の形状に関する具体的条件については後述する。

図８に示すように、１群ブロック１２は、第１レンズＬ１を保持する第１レンズ枠（可動枠）３０、第１プリズムＬ１１を保持するベース部材（支持部材）３１、第１レンズ枠３０とベース部材３１を前方から覆うカバー部材（支持部材）３２、コイル接続基板３３、センサホルダ（支持部材）３４、センサ支持基板３５、板バネ３６、センサ固定版３７、第２レンズＬ２を保持する第２レンズ枠３８、ピボットガイド３９を有している。また、第１レンズ枠３０（第１レンズＬ１）を駆動させる電磁アクチュエータを構成する一対の永久磁石８１、８２と一対のコイル８３、８４を有し、この電磁アクチュエータにより制御される第１レンズ枠３０（第１レンズＬ１）の位置を検出する一対のホールセンサ８５、８６を有している。なお、図１３と図２３はいずれも、永久磁石８１とコイル８３を通る図１２のXIII-XIII線に沿う断面位置と、永久磁石８２とコイル８４を通る図１２のXIII'-XIII'線に沿う断面位置の両方をまとめて示しており、XIII'-XIII'線に沿う断面位置に含まれる要素を括弧書きの符号で表して区別している。図１３や図２３から分かる通り、これらの２つの断面位置は基準平面Ｐ１に関して略対称の構造となっている。

図８、図１２、図１３、図２２及び図２３に示すように、永久磁石８１と永久磁石８２はそれぞれ扁平な直方体であり、互いの形状及び大きさは略同一である。図８、図１２、図１３及び図２３に示すように、コイル８３は、略平行な一対の長辺部８３ａと該一対の長辺部８３ａを接続する一対の湾曲部８３ｂを有する細長形状の空芯コイルであり、一対の長辺部８３ａが延びる長手方向の大きさや、一対の長辺部８３ａを横断する横幅方向の大きさに比して、空芯部分が貫通する方向の厚みが小さい薄型の扁平コイルとなっている。コイル８４も同様に、略平行な一対の長辺部８４ａと該一対の長辺部８４ａを接続する一対の湾曲部８４ｂを有する細長形状の空芯コイルであり、一対の長辺部８４ａが延びる長手方向の大きさや、一対の長辺部８４ａを横断する横幅方向の大きさに比して、空芯部分が貫通する方向の厚みが小さい薄型の扁平コイルとなっている。コイル８３とコイル８４の互いの形状及び大きさは略同一である。

第１レンズ枠３０は、第１レンズＬ１を内部に嵌合固定させる枠状のレンズ保持部４０と、レンズ保持部４０から後方に向けて延設される支持部４１と、レンズ保持部４０の外周部に接続する一対の磁石保持部４２、４３とを有している。レンズ保持部４０は、第１レンズＬ１の外形形状に対応して、第１象限Ｖ１と第４象限Ｖ４に位置する周縁部の一部を基準平面Ｐ２に沿う方向に切り欠いた直線状カット部４０ａとし、それ以外の領域を円形枠部４０ｂとした不完全円形の枠体となっている。

図１４及び図１５に示すように、第１レンズ枠３０の支持部４１は、上下方向に離間する一対の脚部４１ａをレンズ保持部４０の円形枠部４０ｂから後方に向けて突出させ、この一対の脚部４１ａの端部を上下方向に延びる接続部４１ｂで接続している。図１６ないし図１８に示すように、脚部４１ａや接続部４１ｂは、基準平面Ｐ２に関して第２光軸Ｏ２が延びる側と反対側（左側）に位置しており、接続部４１ｂから基準平面Ｐ２(第１光軸Ｏ１)に接近する方向に向けて片持状のピボットアーム４１ｃが突出している。ピボットアーム４１ｃの先端にはピボット凸部（支持機構）４４が形成されている。図１１、図１３、図１６ないし図１８に示すように、ピボット凸部４４は後方に進むにつれて径を小さくする先細の円錐状体であり、先端が滑らかな円球状になっている。

ピボットガイド３９は、円柱状の基部３９ａの端部に球形状のガイド突起３９ｂを有し、基部３９ａとガイド突起３９ｂの間に大径のフランジ３９ｃを有している。図１１、図１４ないし図１８に示すように、第１レンズ枠３０の支持部４１における接続部４１ｂに形成した孔部に対して、後方からピボットガイド３９の基部３９ａが挿入され、フランジ３９ｃを接続部４１ｂに当接させて基部３９ａの挿入位置が決まる。この状態でガイド突起３９ｂが後方に向けて突出する。

図１３に示すように、第１レンズ枠３０の磁石保持部４２と磁石保持部４３はそれぞれ、円形枠部４０ｂから斜め後方に向けて突出形成されており、円形枠部４０ｂから先端側に向かうにつれて第１光軸Ｏ１からの距離を大きくするように傾斜している。第１レンズ枠３０が防振初期位置にある状態では、磁石保持部４２と磁石保持部４３が基準平面Ｐ１を挟んで略対称に第２象限Ｖ２と第３象限Ｖ３に配置される。磁石保持部４２に形成した凹部に永久磁石８１が嵌合保持され、磁石保持部４３に形成した凹部に永久磁石８２が嵌合保持される。つまり、図１２や図２２に示すように、永久磁石８１が第２象限Ｖ２に位置し、永久磁石８２が第３象限Ｖ３に位置する。

ベース部材３１は正面（前方）から見て概ね矩形の外形形状を持つ枠状体であり、ベース部材３１の左端部を構成する固定部５０から右側に向けて、上下方向に離間する一対の側壁５１を突出させており、この一対の側壁５１の右端部の前面側を接続する前方橋絡部５２と、一対の側壁５１の中間部分を接続するプリズム保持壁５３とを有している。図１１、図１３、図１６ないし図１８に示すように、プリズム保持壁５３は第１プリズムＬ１１の反射面Ｌ１１−ｃに沿う形状をなしており、第２レンズＬ２が位置する１群ブロック１２の右端側から固定部５０が設けられている左端側に進むにつれて徐々に前方に突出する傾斜壁部を構成している。図１３ないし図１８に示すように、ベース部材３１内には、プリズム保持壁５３の前側に光路用空間５４が形成され、プリズム保持壁５３の後側に裏側空間５５が形成される。また、固定部５０とプリズム保持壁５３の間には裏側空間５５に連通する側方空間５６が形成される。光路用空間５４は、前方橋絡部５２を境界としてベース部材３１の前面側と右端側に開口している。

ベース部材３１の光路用空間５４内に第１プリズムＬ１１が嵌合固定される。第１プリズムＬ１１は、入射面Ｌ１１−ａと出射面Ｌ１１−ｂに対して約４５度の角度で斜設される反射面Ｌ１１−ｃと、入射面Ｌ１１−ａ及び出射面Ｌ１１−ｂに対して略直交する一対の側面Ｌ１１−ｄ（図８に片側のみを示す）を備えており、反射面Ｌ１１−ｃの裏側をプリズム保持壁５３に支持され、一対の側面Ｌ１１−ｄが一対の側壁５１に挟まれることによって光路用空間５４内での位置が決まる。この第１プリズムＬ１１の支持状態で、入射面Ｌ１１−ａがＯ１上に位置して前方を向き、出射面Ｌ１１−ｂが第２光軸Ｏ２上に位置し右方を向く。ベース部材３１の光路用空間５４内にはさらに、第２レンズＬ２を保持する第２レンズ枠３８が第１プリズムＬ１１の右方（前方橋絡部５２の後方）に固定される。

ベース部材３１のプリズム保持壁５３の後面側には、センサホルダ３４の取り付け部位として、上下方向に位置を異ならせて一対の円筒状の支持座５７（図８）が形成されている。各支持座５７内には、後方に向けて開口するネジ孔（不図示）が形成されている。ベース部材３１にはさらに、板バネ３６の取り付け部位として、バネ支持部５８がプリズム保持壁５３の左端側に形成されている。

図１３、図１６ないし図１８に示すように、ベース部材３１のプリズム保持壁５３の後方に沿って板バネ３６が配置される。板バネ３６は、貫通孔が形成された取付板部３６ａと、取付板部３６ａから片持ち状に延設される弾性腕部３６ｂを有しており、バネ支持部５８に設けた突起に対して取付板部３６ａの貫通孔を嵌合させることでベース部材３１に支持される。この板バネ３６の支持状態で、弾性腕部３６ｂはプリズム保持壁５３後方の裏側空間５５内で前後方向へ弾性変形可能となる。

図９と図１０に示すように、センサホルダ３４は、ベース板部６０と、ベース板部６０に対して立壁状に突出形成された一対のセンサ支持突起６１、６２と、センサ支持突起６１とセンサ支持突起６２の間に突設した基板支持突起６３とを有している。センサ支持突起６１とセンサ支持突起６２はそれぞれ、１群ブロック１２の完成状態で図１３のように第１レンズ枠３０の磁石保持部４２と磁石保持部４３に対向するように、ベース部材６０に対して斜め前方に向けて突設されている。センサ支持突起６１とセンサ支持突起６２にはセンサ挿入凹部６４が形成されている。基板支持突起６３は、センサ支持突起６１、６２よりもベース板部６０からの突出量が小さい（低い）突起として形成されている。

センサ支持基板３５はフレキシブル基板からなり、図８に示すように、細長の帯状部３５ａの端部に平板状の支持面部３５ｂを有し、支持面部３５ｂの一部を曲げ起こした形態をなす一対のセンサ支持片３５ｃ、３５ｄを帯状部３５ａの両側位置に有している。センサ支持片３５ｃにホールセンサ８５が支持され、センサ支持片３５ｄにホールセンサ８６が支持されている。センサ支持基板３５は、支持面部３５ｂを基板支持突起６３に支持させ（図７、図１１、図１６ないし図１８）、センサ支持片３５ｃ、３５ｄ上のホールセンサ８５とホールセンサ８６をそれぞれセンサ支持突起６１とセンサ支持突起６２のセンサ挿入凹部６４に挿入させて（図１３）、センサ固定版３７を用いてセンサホルダ３４に固定される。センサ支持基板３５の帯状部３５ａは撮像ユニット１０を制御する制御回路（図示略）と電気的に接続され、センサ支持基板３５を通じて制御回路にホールセンサ８５とホールセンサ８６の出力情報が伝えられる。

図９と図１０に示すように、センサホルダ３４のベース板部６０には、ベース部材３１の一対の支持座５７の端部に当接する一対の環状の当付部６５と、各当付部６５の中央に形成したネジ挿通孔６６と、一対の当付部６５の間に位置するピボット凹部（支持機構）６７と回転規制孔６８が形成されている。図９ないし図１１、図１３、図１６ないし図１８に示すように、ピボット凹部６７は、ピボット凸部４４を嵌入させることが可能な擂鉢状内面を有する凹部であり、最も深い底部は、ピボット凸部４４の先端形状に対応する球面形状になっている。回転規制孔６８は、ピボット凹部６７に対して偏心した位置に、該ピボット凹部６７の径方向に長手方向を向けて形成された長孔であり、後述するようにピボットガイド３９のガイド突起３９ｂを挿入させることができる。回転規制孔６８の溝幅はガイド突起３９ｂの径に対応しており、挿入状態で溝幅方向へのガイド突起３９ｂの移動を許さない。一方、回転規制孔６８は長手方向にはガイド突起３９ｂの径よりも大きく、挿入状態で長手方向へのガイド突起３９ｂの移動を許す。

センサホルダ３４は、センサ支持基板３５を組み付けた状態で、センサ支持突起６１とセンサ支持突起６２を側方空間５６に挿入させ（図１３）、一対の当付部６５を一対の支持座５７に当接させ、各当付部６５のネジ挿通孔６６に挿通した固定ネジ６９（図８）を支持座５７内のネジ孔に螺合させることによってベース部材３１に固定される。この固定状態で、センサホルダ３４のベース板部６０がベース部材３１の裏側空間５５の後方を塞ぎ、ベース板部６０上に形成したピボット凹部６７の中心が第１光軸Ｏ１の延長上に位置する（図１３、図１６ないし図１８）。また、回転規制孔６８は、基準平面Ｐ１に沿って長手方向を向けてピボット凹部６７の左方に位置する（図１２）。

ベース部材３１に板バネ３６を支持させ、続いて第１レンズ枠３０をベース部材３１に対して所定の位置に配置し、センサホルダ３４をベース部材３１に固定する。この状態で第１レンズ枠３０は、ピボットアーム４１ｃを裏側空間５５内に挿入してピボット凸部４４をピボット凹部６７に嵌入させると共に、ピボットガイド３９のガイド突起３９ｂを回転規制孔６８に挿入させて支持される。図７、図１１、図１３、図１６ないし図１８に示すように、裏側空間５５に挿入したピボットアーム４１ｃは、板バネ３６の弾性腕部３６ｂの先端付近に当接して前方へ向けて弾性変形させ、弾性腕部３６ｂが撓みを解消しようとする力によってピボット凸部４４の先端がピボット凹部６７の底部に押し付けられる。この第１レンズ枠３０の支持状態で、レンズ保持部４０は光路用空間５４の前方開口部分に位置し、第１レンズＬ１が第１プリズムＬ１１の入射面Ｌ１１−ａの前方に位置する。図１３に示すように磁石保持部４２と磁石保持部４３はベース部材３１の側方空間５６に挿入されて、磁石保持部４２がセンサホルダ３４のセンサ支持突起６１に隣接し、磁石保持部４３がセンサホルダ３４のセンサ支持突起６２に隣接して位置する。

カバー部材３２は、ベース部材３１の一対の側壁５１の外側に嵌る形状をなす一対の側壁７０と、一対の側壁７０の前側を覆う前面部７１と、前面部７１の左方の端部に形成した段部７２を有しており、前面部７１をベース部材３１の前面側に当て付け、ベース部材３１の側壁５１の側面に形成した係合突起５１ａを側壁７０の係合孔７０ａに係合させて、ベース部材３１に組み付けられる。前面部７１には第１レンズＬ１を露出させる撮影開口７５が形成されている。

図１３に示すように、カバー部材３２の前面部７１と段部７２の境界部分の裏面側には凹状のコイル保持部７３、７４が形成されており、コイル保持部７３にコイル８３が嵌合保持され、コイル保持部７４にコイル８４が嵌合保持される。ベース部材３１に対してカバー部材３２を組み付けると、コイル８３が永久磁石８１に対向し、コイル８４が永久磁石８２に対向して位置する。コイル８３、８４に対してコイル接続基板３３を通じて駆動電流が送られる。コイル接続基板３３はフレキシブル基板からなり、細長の帯状部３３ａと、段部７２に支持されるコイル接続部３３ｂを有しており、コイル接続部３３ｂがコイル保持部７３、７４内のコイル８３、８４に対して電気的に接続する。

以上のようにして１群ブロック１２が構成され、図５及び図６に示すように、この１群ブロック１２が本体モジュール１１と組み合わされる。本体モジュール１１を構成するハウジング１３には、１群ブロック１２のベース部材３１の後面側が嵌合支持されるブロック支持部１３ａが設けられている。ブロック支持部１３ａの左端にはネジ孔１３ｂと一対の位置決めピン１３ｃが形成されており、ベース部材３１の固定部５０には、ネジ孔１３ｂに重なるネジ挿通孔５０ａと、一対の位置決めピン１３ｃに嵌合する一対の位置決め孔５０ｂが形成されている。各位置決め孔５０ｂに位置決めピン１３ｃを嵌合させながらブロック支持部１３ａ上に１群ブロック１２を支持させ、ネジ挿通孔５０ａを通してネジ孔１３ｂに固定ネジ１６を螺合させることで、本体モジュール１１と１２が結合して撮像ユニット１０が完成する。

前述のように、１群ブロック１２では、ハウジング１３に対して固定関係となるベース部材３１とセンサホルダ３４の結合体に対して、ピボット凸部４４とピボット凹部６７の嵌合部分を介して第１レンズ枠３０が支持される。ピボット凹部６７は、センサホルダ３４のベース板部６０の前面側に開口し、深くなるにつれて徐々に径を小さくする円錐状内面を有する擂鉢状の凹部であり、最も深くなる底部は凹状球面になっている。この凹状球面は、揺動中心Ａ１を中心とする球面の一部である。ピボット凸部４４は、先端側に進むにつれて徐々に径を小さくする円錐状外面を有する凸部であり、先端部分は凸状球面になっている。この凸状球面は、揺動中心Ａ１を中心とする球面の一部である。板バネ３６はピボット凸部４４の先端をピボット凹部６７の底部に押し付ける力を付与しており、ピボット凸部４４とピボット凹部６７の当接部分の案内を受けることによって（ピボット凸部４４をピボット凹部６７に対して傾動させることによって）、第１レンズ枠３０は揺動中心Ａ１を中心とする球心揺動が可能に支持される。ピボット凸部４４の先端が揺動中心Ａ１を中心とする球面の一部となっているため、この球心揺動は、揺動中心Ａ１の位置を変化させずに、ピボット凸部４４とピボット凹部６７の接点位置を変化させながら行われる。図１１などから分かるように、ピボット凹部６７の円錐状内面部分は、ピボット凸部４４の円錐状外面部分よりも中心角を大きくした円錐状に形成されており、第１レンズ枠３０の球心揺動を妨げることなく実行させることができる。また、ピボット凸部４４とピボット凹部６７の当接部分を揺動中心Ａ１を中心とする球面の一部（前述の凸状球面と凹状球面）としたことにより、第１レンズ枠３０が球心揺動する際に板バネ３６の弾性腕部３６ｂが前後方向に変位せず、板バネ３６のバネ荷重が変化しない（前後方向に一定の荷重を付与し、かつ前後方向以外の方向に余分な荷重を発生させない）。これにより、電磁アクチュエータによる第１レンズ枠３０の駆動制御に悪影響を及ぼさず、高い精度で安定した防振制御を実現できる。

図７、図１３、図１６ないし図１８に示すように、揺動中心Ａ１は、第１光軸Ｏ１を第１プリズムＬ１１の反射面Ｌ１１−ｃの裏側まで延長した軸上の点であり、第１レンズＬ１の出射面Ｌ１-ｂは、この揺動中心Ａ１側に向く凹面である。図７、図１２、図１３、図１４及び図１６は、第１レンズ枠３０（第１レンズＬ１）が球心揺動範囲の中央に位置する防振初期位置を示しており、図１５、図１７及び図１８はそれぞれ第１レンズ枠３０（第１レンズＬ１）を防振初期位置から球心揺動させた状態を示している。図１５は撮像ユニット１０の上方側に第１レンズ枠３０を傾けた状態、図１７は撮像ユニット１０の左方側に第１レンズ枠３０を傾けた状態、図１８は撮像ユニット１０の右方側に第１レンズ枠３０を傾けた状態を示している。

ピボットガイド３９と回転規制孔６８は、第１レンズ枠３０の球心揺動を許しつつ、第１レンズＬ１の光軸（防振初期位置での第１光軸Ｏ１、防振初期位置からの球心揺動を行った状態での光軸Ｏ１’のいずれも含む）を中心とする第１レンズ枠３０の回転を規制する回転規制手段である。回転規制孔６８は、撮像ユニット１０の完成状態で、第１光軸Ｏ１を延長した仮想線を中心とする半径方向へ長手方向を向ける長孔として形成されている。より詳しくは、図９ないし図１２、図１４ないし図１８に示すように、回転規制孔６８は、一対の平行な平面である対向面６８ａと、この一対の対向面６８ａを接続する一対の端部６８ｂを有しており、一対の対向面６８ａの間隔によって規定される幅よりも、一対の端部６８ｂを結ぶ方向の長さの方が大きい長孔となっている。回転規制孔６８は、第２象限Ｖ２と第３象限Ｖ３の境界に位置し、一対の対向面６８ａが、基準平面Ｐ１と略平行にかつ基準平面Ｐ１に関して略対称に配されている。図１１、図１６ないし図１８に示すように、撮像ユニット１０の前後方向においては、回転規制孔６８はピボット凹部６７とほぼ同じ位置（すなわち基準平面Ｐ３上）に設けられている。このように配置された回転規制孔６８に対して挿入されたピボットガイド３９のガイド突起３９ｂは、回転規制孔６８の幅（一対の対向面６８ａの間隔）と略同じ直径を有する球状体であり、一対の対向面６８ａに対して球面状の外面を接触（点接触）させる。第１レンズ枠３０の防振初期位置では、このガイド突起３９ｂと回転規制孔６８の対向面６８ａとの接触箇所は、基準平面Ｐ３上に位置している（図１４、図１６）。そして、ガイド突起３９ｂが一対の対向面６８ａに挟まれて回転規制孔６８の幅方向への移動が規制されることによって、第１レンズＬ１の光軸を中心とする第１レンズ枠３０の回転が規制される。第１レンズ枠３０が防振初期位置にあるときには、第１レンズＬ１の光軸が図中の第１光軸Ｏ１と一致するため、ガイド突起３９ｂと回転規制孔６８は、第１光軸Ｏ１を中心とする第１レンズ枠３０の回転を規制する。一方、球心揺動によって第１レンズ枠３０が防振初期位置から傾いた状態にあるときは、傾いた第１レンズＬ１の光軸Ｏ１’（図１５、図１７及び図１８）を中心とする第１レンズ枠３０の回転が、ガイド突起３９ｂと回転規制孔６８によって規制される。

図１２から分かるように、回転規制孔６８は一対の端部６８ｂを結ぶ長手方向（撮像ユニット１０の左右方向）にはガイド突起３９ｂの直径よりも大きいサイズを有しているため、ガイド突起３９ｂは一対の対向面６８ａに沿って回転規制孔６８の長手方向へ摺動可能である。また、図１１や図１４ないし図１８から分かるように、回転規制孔６８は、その深さ方向（撮像ユニット１０の前後方向）にもガイド突起３９ｂの摺動を許すサイズを有している。さらに、球状の外面によって一対の対向面６８ａに点接触するガイド突起３９ｂは、回転規制孔６８に対して、球体部分の中心（以下、球面中心とする）Ｂ１（図１２、図１４ないし図１８）を中心（支点）とした揺動（傾動）を行うことができる。つまり、対向面６８ａや基準平面Ｐ１と平行な平面として第１の平面を定義すると、図１６ないし図１８に示すように、ガイド突起３９ｂは回転規制孔６８に対して、この第１の平面に沿って、一対の対向面６８ａの面積の範囲内で撮像ユニット１０の前後及び左右方向に摺動可能である。また、対向面６８ａや基準平面Ｐ１に対して垂直で第１光軸Ｏ１と平行な平面（基準平面Ｐ２と平行な平面）を第２の平面と定義すると、この第２の平面内では、ガイド突起３９ｂは回転規制孔６８に対して、第１光軸Ｏ１に沿う前後方向の摺動と、球面中心Ｂ１を中心とする揺動（図１５）を行うことができる。これらの動きにより、ピボットガイド３９と回転規制孔６８は、図１５、図１７及び図１８に示すような揺動中心Ａ１を中心とする第１レンズ枠３０の球心揺動を妨げずに、第１レンズＬ１の光軸を中心とする第１レンズ枠３０の回転を規制することができる。

第１レンズ枠３０の揺動中心Ａ１とガイド突起３９ｂの球面中心Ｂ１は共に基準平面Ｐ１内に位置する（図１２）。そのため、図１４に示す防振初期位置から、上記の第２の平面（基準平面Ｐ２と平行な平面）に沿って第１レンズ枠３０を揺動させたときには、図１５に示すように、ピボットガイド３９は、ガイド突起３９ｂの球面中心Ｂ１の位置を変化させずに該球面中心Ｂ１を中心とする揺動を行う。そのため図１５の状態では、回転規制孔６８の一対の対向面６８ａに対するガイド突起３９ｂの接触箇所は、防振初期位置と同様に基準平面Ｐ３上に位置する。図１５は第１レンズ枠３０を撮像ユニット１０の上側に傾けた状態を示しているが、第１レンズ枠３０を下側に傾けた場合は、図１５と左右対称の形態になる。これに対し、図１６ないし図１８から分かるように、上記の第１の平面（基準平面Ｐ１と平行な平面）に沿って第１レンズ枠３０を揺動させたときには、ピボットガイド３９は、回転規制孔６８の対向面６８ａの案内を受けて揺動中心Ａ１を中心とする揺動方向の移動を行い、ガイド突起３９ｂの球面中心Ｂ１の位置が変化する。すなわち、回転規制孔６８の一対の対向面６８ａに対するガイド突起３９ｂの接触箇所が、基準平面Ｐ３に対して前後方向に変化し、かつ一対の対向面６８ａに沿って左右方向にも変化する。回転規制孔６８は、このときのピボットガイド３９の前後方向移動によってガイド突起３９ｂが脱落しないように前後方向の深さが設定されている。なお、図１４ないし図１８は基準平面Ｐ１、Ｐ２に平行な第１と第２の平面に沿う方向での第１レンズ枠３０の揺動を示しているが、第１レンズ枠３０は、この２つの平面に沿う方向だけでなく、第１光軸Ｏ１を含む無数の平面に沿って揺動することができる。

第１レンズ枠３０を球心揺動させる駆動手段は、第２象限Ｖ２に配した永久磁石８１とコイル８３、第３象限Ｖ３に配した永久磁石８２とコイル８４の２つのボイスコイルモータからなる電磁アクチュエータである。図１３や図２３に示すように、永久磁石８１、８２はそれぞれ、揺動中心Ａ１を中心とする共通の仮想球面Ｊ１の接平面（第１の接平面）Ｔ１、Ｔ２（図２３）と平行な方向に平面的な広がりを有し、この平面方向の縦横サイズに比して接平面Ｔ１、Ｔ２と垂直な方向（接平面Ｔ１、Ｔ２の法線方向）への厚みを小さくした扁平形状となっており、永久磁石８１は接平面Ｔ１に沿って配置され、永久磁石８２は接平面Ｔ２に沿って配置されている。永久磁石８１、８２の外形中心は、接平面Ｔ１、Ｔ２に沿う平面方向での中心であり、かつ接平面Ｔ１、Ｔ２と垂直な厚み方向の中心でもある。永久磁石８１の外形中心と永久磁石８２の外形中心はそれぞれ仮想球面Ｊ１上に位置する。

図１２、図１３、図２２及び図２３に示すように、この扁平な永久磁石８１の外形中心を通り接平面Ｔ１の法線に平行な直線Ｋ１（永久磁石８１の外形中心を通る接平面Ｔ１の法線）を設定すると、直線Ｋ１は第１光軸Ｏ１（または球心揺動させたときの第１レンズＬ１の光軸Ｏ１’。以下、括弧内に符号Ｏ１’のみ示す）とは非平行であり、かつ永久磁石８１と直線Ｋ１の交差位置が第２象限Ｖ２内で基準平面Ｐ３よりも前方（被写体側）に位置する。すなわち、第１光軸Ｏ１（Ｏ１’）または第１光軸Ｏ１（Ｏ１’）を延長した線と、接平面Ｔ１の法線とは、互いに非直交の関係で交差する。直線Ｋ１を例に説明すると、直線Ｋ１が第１光軸Ｏ１（Ｏ１’）の延長線と交差する交点Ｃ１（図１２、図１３、図２２及び図２３）は揺動中心Ａ１と一致しており、交点Ｃ１を始点として直線Ｋ１に沿って（法線と平行に）接平面Ｔ１へ延びる半直線は、物体側に進むにつれて第１光軸Ｏ１（Ｏ１’）から離れる傾きを有している。別言すると、交点Ｃ１を始点として物体側に第１光軸Ｏ１（Ｏ１’）と平行に延びる半直線に対する、交点Ｃ１を始点として直線Ｋ１に沿って（法線と平行に）接平面Ｔ１へ延びる半直線の傾き角をＤ１とすると、０°＜Ｄ１＜９０°である。ここでは接平面Ｔ１の法線として直線Ｋ１を例示したが、接平面Ｔ１の法線であれば直線Ｋ１に限らず上記の傾き角Ｄ１を満たす。接平面Ｔ１の法線のうち直線Ｋ１以外は、交点Ｃ１が揺動中心Ａ１と非一致となる。

同様に、永久磁石８２の外形中心を通り接平面Ｔ２の法線に平行な直線Ｋ２（永久磁石８２の外形中心を通る接平面Ｔ２の法線）を設定すると、直線Ｋ２は第１光軸Ｏ１（Ｏ１’）とは非平行であり、かつ永久磁石８２と直線Ｋ２の交差位置が第３象限Ｖ３内で基準平面Ｐ３よりも前方（被写体側）に位置する。すなわち、第１光軸Ｏ１（Ｏ１’）または第１光軸Ｏ１（Ｏ１’）を延長した線と、接平面Ｔ２の法線とは、互いに非直交の関係で交差する。直線Ｋ２を例に説明すると、直線Ｋ２が第１光軸Ｏ１（Ｏ１’）の延長線と交差する交点Ｃ２（図１２、図１３、図２２及び図２３）は揺動中心Ａ１と一致しており、交点Ｃ２を始点として直線Ｋ２に沿って（法線と平行に）接平面Ｔ２へ延びる半直線は、物体側に進むにつれて第１光軸Ｏ１（Ｏ１’）から離れる傾きを有している。別言すると、交点Ｃ２を始点として物体側に第１光軸Ｏ１（Ｏ１’）と平行に延びる半直線に対する、交点Ｃ２を始点として直線Ｋ２に沿って（法線と平行に）接平面Ｔ２へ延びる半直線の傾き角をＤ２とすると、０°＜Ｄ２＜９０°である。ここでは接平面Ｔ２の法線として直線Ｋ２を例示したが、接平面Ｔ２の法線であれば直線Ｋ２に限らず上記の傾き角Ｄ２を満たす。接平面Ｔ２の法線のうち直線Ｋ２以外は、交点Ｃ２が揺動中心Ａ１と非一致となる。

永久磁石８１、８２の配置について以上の条件（法線の傾き角Ｄ１、Ｄ２で定義される接平面Ｔ１、Ｔ２の配置）を満たすことで、第１レンズ枠３０が球心揺動を行う際に永久磁石８１、８２とコイル８３、８４の間隔の変化を抑えて、安定した制御が可能となる。第１レンズＬ１に対するアクチュエータの干渉防止や撮像ユニット１０の小型化、アクチュエータによる第１レンズ枠３０の防振駆動精度や位置分解能等を考慮すると、４０°≦Ｄ１≦８０°、４０°≦Ｄ２≦８０°がより好ましい値となる。

本実施形態ではＤ１＝５５°、Ｄ２＝５５°である。そして、仮想球面Ｊ１を第１光軸Ｏ１及びその延長線との交点位置を極点とする球体とし、その両極点を結ぶ球面上の円弧を経線、該経線と直交する関係の球面上の円弧を緯線とみなした場合、永久磁石８１の外形中心と永久磁石８２の外形中心は仮想球面Ｊ１の同一緯線上（第１光軸Ｏ１を中心とする同一円上）に位置する（図２２、図２３参照）。永久磁石８１、８２はそれぞれ、図８と図２２に示す磁極境界線Ｑ１、Ｑ２を挟んでＮ極とＳ極を有している。図２２のように第１光軸Ｏ１と平行に見たとき、磁極境界線Ｑ１、Ｑ２はそれぞれ、第１光軸Ｏ１を中心とする共通の仮想円Ｈ１（仮想球面Ｊ１上の緯線）に接する。このように２つの永久磁石８１、８２を配置すると重量バランスが良い。

また、図１２及び図２２に示すように、直線Ｋ１を含み第１光軸Ｏ１と平行な推力作用平面Ｐ４と、直線Ｋ２を含み第１光軸Ｏ１と平行な推力作用平面Ｐ５は、基準平面Ｐ１に関して面対称の関係（基準平面Ｐ１を対称面とする関係）にあり、基準平面Ｐ１に対して正逆に約３０°の関係で交差している。すなわち推力作用平面Ｐ４と推力作用平面Ｐ５の交差角Ｄ３が約６０°となっている。

コイル８３とホールセンサ８５は永久磁石８１と共に第２象限Ｖ２内に位置し、コイル８４とホールセンサ８６は永久磁石８２と共に第３象限Ｖ３内に位置する。図１２、図１３及び図２３に示すように、コイル８３の外形中心とホールセンサ８５は直線Ｋ１上に位置しており、揺動中心Ａ１に近い内径側から順にホールセンサ８５、永久磁石８１、コイル８３が直線Ｋ１上に並び、永久磁石８１の磁界中にコイル８３とホールセンサ８５が位置する。コイル８４の外形中心とホールセンサ８６は直線Ｋ２上に位置しており、揺動中心Ａ１に近い内径側から順にホールセンサ８６、永久磁石８２、コイル８４が直線Ｋ２上に並び、永久磁石８２の磁界中にコイル８４とホールセンサ８６が位置する。

図１３及び図２３に示すように、コイル８３とコイル８４は、仮想球面Ｊ１よりも大径で揺動中心Ａ１を中心とする仮想球面Ｊ２上に位置している。コイル８３は、直線Ｋ１と直交する仮想球面Ｊ２の接平面（第２の接平面）Ｔ３（図２３）と平行な方向に導線を巻き回して形成され、接平面Ｔ３に沿って平面的な広がりを有し、この平面方向の縦横サイズに比して直線Ｋ１に沿う方向（接平面Ｔ１の法線方向）の厚みが小さい扁平コイルである。コイル８４は、直線Ｋ２と直交する仮想球面Ｊ２の接平面（第２の接平面）Ｔ４（図２３）と平行な方向に導線を巻き回して形成され、接平面Ｔ４に沿って平面的な広がりを有し、この平面方向の縦横サイズに比して直線Ｋ２に沿う方向（接平面Ｔ２の法線方向）の厚みが小さい扁平コイルである。接平面Ｔ３は接平面Ｔ１と平行な平面であり、接平面Ｔ４は接平面Ｔ２と平行な平面である。つまり、それぞれが扁平な形状をなす永久磁石８１とコイル８３は、その平面的な広がりを持つ方向（接平面Ｔ１と接平面Ｔ３）を略平行として、互いの平行な平面部分を直線Ｋ１に沿う方向で対向させている。同様に、それぞれが扁平な形状をなす永久磁石８２とコイル８４は、その平面的な広がりを持つ方向（接平面Ｔ２と接平面Ｔ４）を略平行として、互いの平行な平面部分を直線Ｋ２に沿う方向で対向させている。本実施形態では、コイル８３の外形中心とコイル８４の外形中心が共通の仮想球面Ｊ２上に位置している。

仮想球面Ｊ２を第１光軸Ｏ１及びその延長線との交点位置を極点とする球体とし、その両極点を結ぶ球面上の円弧を経線、該経線と直交する関係の球面上の円弧を緯線とみなした場合、コイル８３の外形中心とコイル８４の外形中心は仮想球面Ｊ２の同一緯線上（第１光軸Ｏ１を中心とする同一円上）に位置する。そして、図１２のように第１光軸Ｏ１と平行に見たとき、一対の長辺部８３ａ、８４ａの延設方向と平行で該一対の長辺部８３ａ、８４ａの中央を通るコイル８３、８４の長軸Ｑ３、Ｑ４（図８、図１２）はそれぞれ、第１光軸Ｏ１を中心とする共通の仮想円Ｈ２（仮想球面Ｊ２上の緯線）に接する。

図１２や図２２に示すように、磁極境界線Ｑ１、Ｑ２に沿う永久磁石８１、８２の長さＷ１、すなわち仮想球面Ｊ１の緯線に沿う平面上での、接平面Ｔ１に沿う永久磁石８１の大きさや、接平面Ｔ２に沿う永久磁石８２の大きさは、長軸Ｑ３、Ｑ４に沿うコイル８３、８４の長さＵ１、すなわち仮想球面Ｊ２の緯線に沿う平面上での、接平面Ｔ３に沿うコイル８３の大きさや、接平面Ｔ４に沿うコイル８４の大きさよりも小さい。一方、図２３に示すように、一対の長辺部８３ａ、８４ａを横断する方向のコイル８３、８４の横幅Ｕ２、すなわち仮想球面Ｊ２の経線に沿う平面上での、接平面Ｔ３に沿うコイル８３の大きさや、接平面Ｔ４に沿うコイル８４の大きさよりも、磁極境界線Ｑ１、Ｑ２の両側のＮ極部分とＳ極部分を横断する方向の永久磁石８１、８２の横幅Ｗ２、すなわち仮想球面Ｊ１の経線に沿う平面上での、接平面Ｔ１に沿う永久磁石８１の大きさや、接平面Ｔ２に沿う永久磁石８２の大きさの方が大きい。これによって、第１レンズ枠３０の防振初期位置を中心とする所定の球心揺動範囲においては、コイル８３、８４の一対の長辺部８３ａ、８４ａが永久磁石８１、８２に対向する状態を保つことができる。

以上のように、永久磁石８１と永久磁石８２は、揺動中心Ａ１を含む基準平面Ｐ３よりも前方の位置で、揺動中心Ａ１を中心とする仮想球面Ｊ１に沿って第２象限Ｖ２と第３象限Ｖ３に略対称に配置されている。コイル８３とコイル８４は、基準平面Ｐ３よりも前方の位置で、揺動中心Ａ１を中心とする仮想球面Ｊ２に沿って第２象限Ｖ２と第３象限Ｖ３に略対称に配置されている。さらにホールセンサ８５とホールセンサ８６も、基準平面Ｐ３よりも前方の位置で、仮想球面Ｊ１よりも小径で揺動中心Ａ１を中心とする仮想球面に沿って第２象限Ｖ２と第３象限Ｖ３に略対称に配置されている。

永久磁石８１、８２の磁界内に位置するコイル８３、８４に通電すると、フレミングの左手の法則によって各コイル８３、８４の長辺部８３ａ、８４ａと垂直な方向への推力が生じる。図１２、図１３、図２２及び図２３に、永久磁石８１、８２の外形中心を通る推力作用平面Ｐ４、Ｐ５上における各アクチュエータの推力の作用方向を、両矢印の推力軸Ｅ１と推力軸Ｅ２として示した。図１２と図２２では、基準平面Ｐ３に対する推力軸Ｅ１、Ｅ２の傾きを示すべく推力軸Ｅ１、Ｅ２の両側の矢尻部分の大きさを異ならせており、大きい側の矢尻が被写体に近づく斜め前方への推力を示し、小さい側の矢尻が被写体から離れる斜め後方への推力を示している。コイル８３、８４はカバー部材３２を介して撮像ユニット１０の本体部分に対して固定的に支持されており、永久磁石８１、８２は可動の第１レンズ枠３０に支持されているため、各コイル８３、８４の通電で生じた推力は、第１レンズ枠３０を仮想球面Ｊ１の経線方向に移動させる力として作用する。永久磁石８１とコイル８３のセットと、永久磁石８２とコイル８４のセットは、仮想球面Ｊ１、Ｊ２上の緯線方向で異なる位置（推力作用平面Ｐ４と推力作用平面Ｐ５の交差角Ｄ３が約６０°の関係）に配置されているため、この２組のアクチュエータの通電制御の組み合わせによって、第１レンズ枠３０を自在な方向に球心揺動させることができる。前述の通り、球心揺動に際して第１レンズＬ１の光軸を中心とする第１レンズ枠３０の回転動作はピボットガイド３９と回転規制孔６８の嵌合によって規制されるため、永久磁石８１とコイル８３、永久磁石８２とコイル８４がそれぞれ対向しなくなるような第１レンズ枠３０の逸脱動作は防止され、常にボイスコイルモータによって第１レンズ枠３０の位置を制御することができる。

第１レンズ枠３０の球心揺動に応じて永久磁石８１の位置が変化すると、永久磁石８１に対向して位置するホールセンサ８５の出力が変化し、永久磁石８２の位置が変化すると、永久磁石８２に対向して位置するホールセンサ８６の出力が変化する。この２つのホールセンサ８５、８６の出力変化によって、第１レンズ枠３０の駆動位置を検出することができる。

以上の構成からなる撮像ユニット１０を前方に位置する被写体に向けると、該被写体の反射光（撮影光）は第１レンズＬ１を透過した後に入射面Ｌ１１−ａから第１プリズムＬ１１の内部に入り、第１プリズムＬ１１の反射面Ｌ１１−ｃによって出射面Ｌ１１−ｂ側に向けて進行方向を略垂直に変換される。第１プリズムＬ１１の出射面Ｌ１１−ｂを出た該反射光は、第２レンズＬ２と第２群Ｇ２と第３群Ｇ３と第４群Ｇ４を透過した後に入射面Ｌ１２−ａから第２プリズムＬ１２の内部に入り、第２プリズムＬ１２の反射面Ｌ１２−ｃによって出射面Ｌ１２−ｂ側に向けて進行方向を略垂直に変換され、撮像センサ１４の撮像面によって撮像（受光）される。第１モータＭ１と第２モータＭ２を利用して第２群Ｇ２や第３群Ｇ３をロッド２２、２３に沿って進退させることにより、撮像光学系にズーミング（変倍）動作及びフォーカシング動作を行わせることができる。

さらに撮像ユニット１０では、第１群Ｇ１のうち第１プリズムＬ１１の前方に位置する第１レンズＬ１を用いて防振（像振れ補正）動作を行う。前述の通り防振機構は、ハウジング１３に対して固定関係にある支持部材（ベース部材３１、カバー部材３２、センサホルダ３４）に対して第１レンズ枠３０を動作させるものである。第１レンズＬ１を防振用の光学要素として選択することの利点として、防振機構を備えつつ撮像ユニット１０を前後方向に薄型に構成することができる。例えば本実施形態と異なり、第２群Ｇ２や第３群Ｇ３を第２光軸Ｏ２と直交する方向に移動させる防振機構を想定した場合、２群枠２０や３群枠２１の移動用のスペースを確保したり、２群枠２０や３群枠２１の駆動手段を配置したりすることによって、ハウジング１３内に必要とされる前後方向のスペースが図示実施形態よりも広くなり、撮像ユニット１０の厚みが増してしまう。また本実施形態の構成では、防振制御に際して駆動されるのが第１群Ｇ１の全体ではなく第１レンズＬ１のみであるから、可動部がコンパクトで駆動負荷が小さくて済むという利点もある。一般的な防振機構ではレンズ群全体を駆動させるが、本実施形態の第１群Ｇ１では、パワーを有する第１レンズＬ１と第２レンズＬ２の間に、光束の反射のみを行う第１プリズムＬ１１が配されているため、第１レンズＬ１と第２レンズＬ２の間の距離が大きくなっており、第１レンズＬ１を単独で移動させて防振制御を行なっても収差劣化が少ない。つまり、撮像光学系としては第１レンズＬ１から第２レンズＬ２までの第１群Ｇ１全体で収差が管理されるが、防振に関しては、第１プリズムＬ１１を挟んで光軸方向間隔が大きくなっている第１レンズＬ１と第２レンズＬ２を実質的に別のレンズ群であるように扱っても光学性能を確保できることに着眼して、第１レンズＬ１のみを防振用の光学要素に設定している。

第１レンズＬ１が防振動作を行う際に行う球心揺動は、第１光軸Ｏ１に直交する平面に沿うシフト動作に比べて、第１光軸Ｏ１に沿って撮像ユニット１０を正面視したときに小さいスペースで第１レンズＬ１を大きく動作させることができる。そのため、撮像ユニット１０を前後方向のみならず上下左右方向（撮像ユニット１０の正面視）においてもコンパクトに構成しながら、防振対応可能な角度を大きくさせて防振性能を向上させることができる。

特に撮像ユニット１０では、第１レンズＬ１の背後に第１プリズムＬ１１を配した屈曲光学系であることに着目して、第１レンズ枠３０を球心揺動させる際の揺動中心Ａ１（第１光軸Ｏ１を延長した軸上の点）の位置を、第１プリズムＬ１１の反射面Ｌ１１−ｃの後方の裏側空間５５に設定している。これにより、第１プリズムＬ１１の裏側を第１レンズ枠３０の支持機構の収容スペースとして有効活用し、スペース効率に優れた構成で球心揺動を実現している。具体的には、図１３ないし図１８に示すように、ピボット凸部４４（ピボットアーム４１ｃ）、ピボット凹部６７（センサホルダ３４）、板バネ３６、ピボットガイド３９（接続部４１ｂ）、回転規制孔６８（センサホルダ３４）といった第１レンズ枠３０の支持に関係する部位が裏側空間５５に集約して収められている。

撮像ユニット１０のコンパクト化を実現しつつ収差変動を抑えて球心揺動の効果を得るための光学的条件として、以下の式（１）、（２）を満たすことが好ましい。
（１）-0.6<(SC-R2)/f1<0.4
（２）SF<-0.5
但し、
R1：前方レンズ（第１レンズＬ１）の最も物体側の面（入射面Ｌ１−ａ）の曲率半径
R2：前方レンズ（第１レンズＬ１）の最も像側の面（出射面Ｌ１−ｂ）の曲率半径
SC：前方レンズ（第１レンズＬ１）の最も像側の面（出射面Ｌ１−ｂ）から球心揺動中心（Ａ１）までの光軸上の距離
f1：前方レンズ（第１レンズＬ１）の焦点距離
SF=(R2+R1)/(R2-R1)
とする。各記号の符号は物体側から像側に向かう方向を正(+)とする。

式（１）は、第１レンズＬ１の焦点距離に基づいて規格化した揺動中心Ａ１の位置に関する条件である。式（１）の下限を超えると（-0.6以下）、第１レンズＬ１からの揺動中心Ａ１の距離が大きくなりすぎて、撮像ユニット１０の前後方向の小型化が困難になると共に、収差変動が大きくなってしまう。また、式（１）の上限を超えると（0.4以上）、揺動中心Ａ１が第１レンズＬ１に近づきすぎて第１レンズＬ１の駆動時の光軸偏角が小さくなり（像変位が小さくなり）、有効な防振効果が得られなくなる。

式（２）は、第１レンズＬ１の形状に関する条件である。式（２）の範囲を外れると、揺動中心Ａ１を式（１）の範囲に設定した場合でも収差変動が大きくなってしまい、球心揺動の効果が得られなくなる。

以上の各条件を満たす撮像光学系の具体例として表１に実施例１ないし実施例３を示す。図１９、図２０、図２１はそれぞれ、実施例１、実施例２及び実施例３の撮像光学系のワイド端とテレ端のズーム軌跡を示したものである。

実施例１は、入射面Ｌ１−ａを凸面、出射面Ｌ１−ｂを凹面とした凹メニスカスレンズ（SF<-1）として第１レンズＬ１を構成したタイプである。実施例２は、入射面Ｌ１−ａを平面、出射面Ｌ１−ｂを凹面とした平凹レンズ（SF=-1）として第１レンズＬ１を構成したタイプである。実施例３は、入射面Ｌ１−ａと出射面Ｌ１−ｂをいずれも凹面とした両凹レンズ（SF>-1）として第１レンズＬ１を構成したタイプである。

これらの実施例のように、防振動作を行う前方レンズ（第１レンズＬ１）の最も像側の面（出射面Ｌ１−ｂ）は凹面であることが好ましい。特に、前方レンズの最も像側の面を、揺動中心Ａ１を中心とする曲面の一部として形成すると、この面は揺動中心Ａ１を中心とした球心揺動では常に偏角方向に正対する面となり、球心揺動によるこの面のコマ収差の発生を防ぐことができる。

また、実施例２のように入射面Ｌ１−ａが平面である場合も含めて、防振動作を行う前方レンズ（第１レンズＬ１）の最も物体側の面（入射面Ｌ１−ａ）は最も像側の面（出射面Ｌ１−ｂ）よりもパワーが弱く（屈折力が小さく）なるように設定することが好ましい。

なお、防振動作を行う前方レンズとして、第１レンズＬ１のような単レンズではなく、貼り合わせレンズや、複数枚のレンズを選択することも可能である。前方レンズを複数枚のレンズとする場合は、光学性能の低下を防ぐために、防振動作に際して複数枚のレンズを一体的に移動させることが好ましい。また、先の条件式（１）、（２）については、R1を「複数の前方レンズのうち最も物体側のレンズにおける最も物体側の面の曲率半径」、R2を「複数の前方レンズのうち最も像側のレンズにおける最も像側の面の曲率半径」、SCを「複数の前方レンズのうち最も像側のレンズにおける最も像側の面から球心揺動中心までの光軸上の距離」、f1を「複数の前方レンズの合成焦点距離」と読み替えるものとする。

第１レンズ枠３０を防振駆動させる手段の配置については、永久磁石８１、８２とコイル８３、８４をそれぞれ、第１レンズ枠３０の揺動中心Ａ１を中心とする仮想球面Ｊ１、Ｊ２上に配置したことにより、揺動中心Ａ１を中心として第１レンズ枠３０を球心揺動させたときに、永久磁石８１とコイル８３の間隔や永久磁石８２とコイル８４の間隔に変化が少なく、安定して高精度な駆動制御が可能となっている。

また、防振駆動手段としてボイスコイルモータを用いる場合、永久磁石とコイルの一方が第１レンズ枠３０と共に移動する可動要素となり、他方が移動しない固定要素となる。本実施形態の撮像ユニット１０では、可動の第１レンズ枠３０に永久磁石８１、８２を保持させたムービングマグネットタイプのボイスコイルモータを用いており、これに適したスペース効率の良い部材配置を実現している。まず、可動要素である永久磁石８１、８２は、その設置位置が揺動中心Ａ１から遠くなるほど、第１レンズ枠３０の球心揺動時の移動量が大きくなり、移動量が大きくなるにつれて第１レンズ枠３０を囲む固定部材（ベース部材３１、カバー部材３２、センサホルダ３４やその他の部材）とのクリアランスも大きく必要になる。そこで、可動要素である永久磁石８１、８２を、そのサイズ（主として、磁極境界線Ｑ１、Ｑ２に沿う長さＷ１と、磁極境界線Ｑ１、Ｑ２に垂直な横幅Ｗ２で定義される平面方向のサイズ）の制約内で許される範囲で、可能な限り揺動中心Ａ１に近づけて配置している。

磁極境界線Ｑ１、Ｑ２に沿う永久磁石８１、８２の長さＷ１に比して、長軸Ｑ３、Ｑ４に沿うコイル８３、８４の長さＵ１が大きいという条件等から、永久磁石８１、８２よりも揺動中心Ａ１に近い内側位置にコイル８３、８４を設置することが難しい。そこでコイル８３、８４は、直線Ｋ１、Ｋ２に沿う方向で永久磁石８１、８２よりも揺動中心Ａ１から遠い径方向の外側に配置している。永久磁石８１、８２と異なり、コイル８３、８４は球心揺動時に動かない固定要素であるため、コイル８３、８４の動作分を考慮したクリアランスを周囲の部材との間に確保する必要がなく、永久磁石８１、８２の外側に配置した場合でも撮像ユニット１０を大型化させにくい。

また、ホールセンサ８５、８６は、永久磁石８１、８２とコイル８３、８４のいずれよりも小型であることに着目して、直線Ｋ１、Ｋ２に沿う方向で永久磁石８１、８２よりも揺動中心Ａ１に近い内側位置に配置している。図１３から分かるように、小型のホールセンサ８５、８６を支持するセンサ支持突起６１、６２は、第１レンズ枠３０のレンズ保持部４０（円形枠部４０ｂ）と磁石保持部４２、４３と、ベース部材３１のバネ支持部５８とに囲まれる狭い空間に挿入することが可能であり、ホールセンサ８５、８６が効率的に配置されている。また、ホールセンサ８５、８６は永久磁石８１、８２の内側に隣接する位置にあるので、例えばコイル８３、８４の外側にホールセンサ８５、８６を設けるような構成に比して、スペース効率に加えて検出精度の点でも有利である。

このように、ボイスコイルモータにおける可動要素と固定要素を、揺動中心Ａ１を中心とする径方向（直線Ｋ１、Ｋ２に沿う方向）において、それぞれの条件に適した合理的な順序でスペース効率良く配置したことで、撮像ユニット１０のコンパクト化に寄与している。

また、永久磁石８１、８２、コイル８３、８４、ホールセンサ８５、８６は、ベース部材３１における側方空間５６（第２象限Ｖ２、第３象限Ｖ３）内に収められている。この側方空間５６は、第１プリズムＬ１１により偏向された光束の進行方向（第２光軸Ｏ２の進行方向）と逆側の領域であり、撮像光学系を構成する光学要素のうち第１プリズムＬ１１から先の光学要素が配置されていないため、スペース的な制約を受けにくい。例えば、永久磁石８１、８２やコイル８３、８４を基準平面第１象限Ｖ１と第４象限Ｖ４を含む第２の領域内に配置しても、第１レンズＬ１を駆動させることは可能である。しかし、第１象限Ｖ１と第４象限Ｖ４には、第１プリズムＬ１１の出射面Ｌ１１−ｂに隣接する位置に第２レンズＬ２が位置しており、第２レンズＬ２と干渉させずに電磁アクチュエータの全体を配置するスペースを確保することが難しいという問題がある。これに対して、第２象限Ｖ２と第３象限Ｖ３への配置にはこのような制約がない。

また、第１プリズムＬ１１から先の光路上には、第２光軸Ｏ２に沿って可動の第２群Ｇ２や第３群Ｇ３が設けられており、第２群Ｇ２や第３群Ｇ３の駆動機構を構成する第１モータＭ１と第２モータＭ２には金属部分が含まれ、ロッド２２、２３も金属製の部品である。このような金属部品が磁性体金属からなる場合、電磁アクチュエータに接近していると防振駆動に影響を及ぼすおそれがある。特に、可動の第１レンズ枠３０上に永久磁石８１、８２を支持したムービングマグネットタイプの電磁アクチュエータでは、高精度な駆動制御を行わせるために、永久磁石８１、８２の磁界に対する外部の磁性体からの影響を排除することが求められる。第２象限Ｖ２と第３象限Ｖ３に配置した永久磁石８１、８２やコイル８３、８４は、第１象限Ｖ１や第４象限Ｖ４に配置した場合に比べて各モータＭ１、Ｍ２や各ロッド２２、２３からの距離が大きいため、これらの部材が磁性体金属を含んでいる場合も電磁アクチュエータの駆動に影響が及びにくい。

さらに、アクチュエータを構成する永久磁石８１、８２やコイル８３、８４は、揺動中心Ａ１を中心とする仮想球面Ｊ１、Ｊ２の接平面Ｔ１、Ｔ２、Ｔ３及びＴ４に沿って平面的な広がりを持つ形状及び配置になっている。図１２、図１３、図２２及び図２３に示す推力軸Ｅ１、Ｅ２から分かるように、各アクチュエータの推力は永久磁石８１、８２が位置する接平面Ｔ１、Ｔ２に沿う力として第１レンズ枠３０に作用するため、仮想球面Ｊ１の中心に揺動中心Ａ１を位置させる第１レンズ枠３０をスムーズかつ高精度に球心揺動させることができる。

また、永久磁石８１、８２やコイル８３、８４が平面的な広がりを持って配置される仮想球面Ｊ１の接平面Ｔ１、Ｔ２や仮想球面Ｊ２の接平面Ｔ３、Ｔ４は、第１光軸Ｏ１に平行な面と、第１光軸Ｏ１と垂直な面（基準平面Ｐ３）のいずれに対しても非平行であり、前述のように、接平面Ｔ１、Ｔ２、Ｔ３及びＴ４の法線方向の直線Ｋ１、Ｋ２（厳密には、交点Ｃ１、Ｃ２を始点として直線Ｋ１、Ｋ２に沿って接平面Ｔ１、Ｔ２、Ｔ３及びＴ４に向かう半直線）が第１レンズＬ１の光軸（厳密には、交点Ｃ１、Ｃ２を始点として物体側に第１光軸Ｏ１（Ｏ１’）と平行に延びる半直線）に対してなす傾き角Ｄ１、Ｄ２は、０°＜Ｄ１＜９０°、０°＜Ｄ２＜９０°（図２３参照）となっている。

直線Ｋ１、Ｋ２の傾き角Ｄ１、Ｄ２が０°ということは、基準平面Ｐ３と平行に平面的な広がりを有する永久磁石やコイルを用いる構成になる。この構成は、第１光軸Ｏ１に沿って見たときに、扁平な永久磁石やコイルの正面投影形状が最も大きく表れる配置であるため、このようなアクチュエータを第１レンズＬ１の周囲に配すると、第１光軸Ｏ１と直交する方向における撮像ユニットの大型化を招く。直線Ｋ１、Ｋ２の傾き角Ｄ１、Ｄ２が９０°ということは、基準平面Ｐ３と垂直な平面に沿って平面的な広がりを有する永久磁石やコイルを用いる構成になる。この構成は、第１光軸Ｏ１に沿って見たときに、扁平な永久磁石やコイルの薄い側面部分（厚み部分）を見ることになるため、アクチュエータ自体の正面投影形状自体は小さいものの、基準平面Ｐ３に沿う方向での揺動中心Ａ１からのアクチュエータの距離が大きくなってしまう。傾き角Ｄ１、Ｄ２が９０°の場合を本実施形態の構成に当てはめると、図１３や図２３における基準平面Ｐ３と仮想球面Ｊ１の交点上（もしくはその前後位置）に永久磁石８１、８２が位置するので、永久磁石８１とコイル８３が図１２に示す位置よりも左上方向に突出し、永久磁石８２とコイル８４が図１２に示す位置よりも左下方向に突出することになる。その結果、本実施形態に比して撮像ユニットが大型化してしまう。また、直線Ｋ１、Ｋ２の傾き角Ｄ１、Ｄ２が９０°を超えるということは、アクチュエータを構成する磁石やコイルが、第１光軸Ｏ１に沿う前後方向において基準平面Ｐ３よりも後方に位置する構成になる。アクチュエータを基準平面Ｐ３よりも後方に配すると、撮像ユニット１０の前後方向サイズが大きくなってしまう。特に、第１レンズＬ１とアクチュエータの前後方向の距離が大きくなってしまうため、第１レンズ枠３０が非常に大きくなってしまい、スペース効率の点で不利となる。

これらの比較例と異なり、本実施形態では直線Ｋ１、Ｋ２の傾き角Ｄ１、Ｄ２を０°より大きく９０°より小さくすることで、アクチュエータの正面投影形状を抑え、かつ第１光軸Ｏ１に沿う方向でのアクチュエータの突出も抑え、スペース効率に優れたコンパクトな防振駆動手段を得ることができる。

直線Ｋ１、Ｋ２の傾き角Ｄ１、Ｄ２のより好ましい条件として先に４０°以上、８０°以下を挙げた。第１レンズＬ１の径や永久磁石８１、８２の大きさにもよるが、傾き角Ｄ１、Ｄ２を４０°以上にすることで、第１レンズＬ１と干渉させずに該第１レンズＬ１に近い位置に永久磁石８１、８２を配置することができる。例えば本実施形態では、図１３や図２３に示すように、永久磁石８１、８２の縁部と第１レンズＬ１の縁部が近接しており、第１レンズＬ１と永久磁石８１、８２が仮想球面Ｊ１に沿う形でスペース効率良く配されている。ここで傾き角Ｄ１、Ｄ２を３０°等に設定すると、永久磁石８１、８２が第１レンズＬ１の設置領域と重なってしまうため、配置が困難となる。逆に、傾き角Ｄ１、Ｄ２を８０°よりも大きくすると、先に述べた９０°の場合に近い条件となり、基準平面Ｐ３に沿う方向での撮像ユニットの小型化の効果が弱くなってくる。

アクチュエータを構成する永久磁石やコイルの形状は、以上に述べた実施形態（第１の実施形態とする）に限定されるものではない。例えば、第１の実施形態の永久磁石８１、８２は、コイル８３、８４に対向する面とホールセンサ８５、８６側を向く面をいずれも接平面Ｔ１、Ｔ２と平行な平面とした直方体となっている。これに対して図２４に示す第２の実施形態の永久磁石１８１、１８２は、コイル１８３、１８４に対向する面が凸状に湾曲し、ホールセンサ８５、８６側を向く面が凹状に湾曲した非直方体である。永久磁石１８１、１８２のこれらの湾曲面は、概ね仮想球面Ｊ１、Ｊ２と同心の球状面となっている。コイル１８３、１８４は、永久磁石１８１、１８２に対向する側の面が、永久磁石１８１、１８２の凸状の湾曲面に対応する凹状の湾曲面（概ね仮想球面Ｊ１、Ｊ２と同心の球状面）として形成されている。このような湾曲面を有する永久磁石１８１、１８２とコイル１８３、１８４を備えたアクチュエータによれば、第１レンズ枠３０が球心揺動するときに永久磁石１８１、１８２とコイル１８３、１８４の湾曲面に沿った動作となり、永久磁石１８１とコイル１８３の間隔変化や、永久磁石１８２とコイル１８４の間隔変化を極めて小さくさせることができる。

なお、永久磁石とコイルの互いの対向面や、永久磁石のうちホールセンサ側を向く面を非平面にする場合、仮想球面Ｊ１、Ｊ２の経線に沿う断面上では図２４に示すような湾曲面とし、これに垂直な（仮想球面Ｊ１、Ｊ２の緯線に沿う）方向には一定断面形状が続く、円筒状の湾曲面などを選択することも可能である。

第１の実施形態の撮像ユニット１０は、永久磁石８１、８２の外形中心を通り接平面Ｔ１、Ｔ２の法線に平行な直線Ｋ１、Ｋ２がいずれも、第１光軸Ｏ１（Ｏ１’）を延長した線に対して揺動中心Ａ１上で交差している（交点Ｃ１、Ｃ２が揺動中心Ａ１と一致する）。第２の実施形態の永久磁石１８１、１８２についても同様の配置となっている。このように配置すると、駆動方向の違いによる推力差や、永久磁石８１（１８１）や永久磁石８２（１８２）とホールセンサ８５、８６のギャップ変動を抑制しやすく、安定した球心揺動の実現に有効である。但し、第１や第２の実現形態を基準として永久磁石の配置を多少ずらしても、第１レンズ枠３０の球心揺動を支障なく行わせることが可能である。そのような変形例を、図２５における第３の実施形態と、図２６における第４の実施形態として示す。

図２５に示す第３の実施形態は、接平面Ｔ１に関する条件（接平面Ｔ１の法線の傾き角Ｄ１）を第１の実施形態と共通とした上で、第１光軸Ｏ１と垂直かつ接平面Ｔ１と平行に見たときの、永久磁石２８１の配置を第１の実施形態の永久磁石８１と異ならせたものである。より詳しくは、仮想球面Ｊ１（図２５では後述する仮想円Ｈ３として表している）を第１光軸Ｏ１（Ｏ１’）及びその延長線との交点位置を極点とする球体とみなした場合、その球体の経線に沿う平面内での接平面Ｔ１に沿う方向の永久磁石２８１の位置が永久磁石８１の位置と異なっている。永久磁石２８１は、永久磁石８１と同じく接平面Ｔ１と平行な方向に広がりを有する扁平形状の直方体であり、図２５の断面位置における横幅Ｗ２は、図２３の断面位置における永久磁石８１の横幅Ｗ２と共通している。永久磁石２８１の外形中心を通り接平面Ｔ１の法線と平行な直線Ｋ１１を設定すると、直線Ｋ１１は、第１の実施形態の直線Ｋ１に対して、物体側と反対方向（撮像ユニット１０の後方）にオフセットしている。つまり、永久磁石２８１は、接平面Ｔ１上で永久磁石８１よりも第１レンズＬ１から離れる方向にずらして位置されている。これに応じて、直線Ｋ１１と第１光軸Ｏ１（Ｏ１’）を延長した線との交点Ｃ１１は、揺動中心Ａ１と非一致となる。先の直線Ｋ１１と接平面Ｔ１との交点をα１とする（この実施形態では交点α１は永久磁石２８１の外形中心に一致する）。図２５は、この交点α１を通り仮想球面Ｊ１の経線に沿う平面（断面）上での配置を示したものであり、接平面Ｔ１に接する仮想球面Ｊ１の経線を仮想円Ｈ３として示している。図２５から分かるように、永久磁石２８１をオフセットさせた結果、交点α１が仮想円Ｈ３に接していない。なお、図１３や図２３に示す基準の位置で永久磁石８１が第１レンズＬ１に近接しているが、永久磁石とその周囲の構成要素が干渉しないという条件下であれば、図２５とは逆に、揺動中心Ａ１に対して直線Ｋ１１（交点Ｃ１１）を物体側に向けてオフセットさせることも可能である。

図２５のように、接平面Ｔ１の法線と平行で永久磁石２８１の外形中心を通る直線Ｋ１１（交点Ｃ１１）を、第１の実施形態の直線Ｋ１（揺動中心Ａ１）に対して、仮想球面Ｊ１の経線に沿う平面内で接平面Ｔ１に沿って（別言すると仮想円Ｈ３の接線に沿って）オフセットさせる場合、同平面内で接平面Ｔ１に沿う方向での永久磁石２８１の大きさ（横幅Ｗ２）に比してオフセット量が大き過ぎると、第１レンズ枠３０の球心揺動の安定性や精度、コイルやホールセンサに対する永久磁石２８１のギャップ変動といった要素に無視できない影響を及ぼすおそれがある。そのため、第３の実施形態を含む全てのケースで、次に示す条件（３）を満たすことが好ましい。
（３）０≦γ１＜δ１×０．２
γ１は、各実施形態における、図２３や図２５のような仮想球面Ｊ１の経線（仮想円Ｈ３）に沿う平面上での、交点α１と接点β１との距離である。永久磁石２８１に関して先に説明したように、交点α１は、同平面上での、各永久磁石が沿う接平面（Ｔ１、Ｔ２）と、該接平面の法線に平行で各永久磁石の外形中心を通る直線（Ｋ１、Ｋ２、Ｋ１１）との交差位置である。接点β１は、同平面上での、仮想球面Ｊ１（仮想円Ｈ３）と接平面（Ｔ１、Ｔ２）が接する位置である。δ１は、距離γ１と同様に、仮想球面Ｊ１の経線（仮想円Ｈ３）に沿う平面上での、接平面（Ｔ１、Ｔ２）に沿う各永久磁石の大きさであり、図２３に示す永久磁石８１（８２）の横幅Ｗ２や図２５に示す永久磁石２８１の横幅Ｗ２に相当する。永久磁石８１（１８１）、８２（１８２）の外形中心を通り接平面Ｔ１、Ｔ２の法線に平行な直線Ｋ１、Ｋ２が揺動中心Ａ１を通る（交点Ｃ１、Ｃ２が揺動中心Ａ１と一致する）第１の実施形態や第２の実施形態では、図２３のようにα１とβ１が一致してγ１＝０となる。

なお、図２５では一方の永久磁石２８１の配置のみを示しているが、他方の永久磁石（第１の実施形態の永久磁石８２に対応するもの）の配置については、永久磁石２８１と同様にオフセットさせてもよいし、永久磁石８２のようにオフセットしないものとしてもよい。

図２６及び図２７に示す第４の実施形態は、接平面Ｔ２（図２３）に関する条件（接平面Ｔ２の法線の傾き角Ｄ２）を第１の実施形態と共通とした上で、第１光軸Ｏ１（Ｏ１’）と平行に見たときの、永久磁石３８２の配置を第１の実施形態の永久磁石８２と異ならせたものである。より詳しくは、仮想球面Ｊ１（図２６と図２７では後述する仮想円Ｈ４として示している）を第１光軸Ｏ１（Ｏ１’）及びその延長線との交点位置を極点とする球体とみなした場合、その球体の緯線に沿う平面内での接平面Ｔ２に沿う方向の永久磁石３８２の位置が永久磁石８２の位置と異なっている。なお、図２６と図２７には各永久磁石８１、３８２の平面方向の広がりを示す接平面Ｔ１、Ｔ２を面として図示していないが、図２７の断面位置における永久磁石８１の磁極境界線Ｑ１が接平面Ｔ１に含まれる位置にあり、同断面位置における永久磁石３８２の磁極境界線Ｑ２が接平面Ｔ２に含まれる位置にあるので、図２７で磁極境界線を示す符号Ｑ１、Ｑ２の後に括弧書きで接平面を示す符号Ｔ１、Ｔ２を加えている。永久磁石３８２は、永久磁石８２と同じく接平面Ｔ２と平行な方向に広がりを有する扁平形状の直方体であり、図２７の断面位置における磁極境界線Ｑ２に沿う方向の長さＷ１は、永久磁石８２の長さＷ１と共通している。永久磁石３８２の外形中心を通り接平面Ｔ２の法線と平行な直線Ｋ２２（図２６、図２７）を設定すると、直線Ｋ２２は、第１の実施形態の直線Ｋ２に対して、第１光軸Ｏ１（Ｏ１’）及び揺動中心Ａ１から離れる方向にオフセットしている。つまり、永久磁石３８２は、接平面Ｔ２上で永久磁石８２よりも基準平面Ｐ１から離れる方向にずらして位置されている。これに応じて、直線Ｋ２２は、第１光軸Ｏ１（Ｏ１’）及びその延長線とは交差しなくなる。図２６と図２７では、永久磁石８１の磁極境界線Ｑ１と永久磁石３８２の磁極境界線Ｑ２に接する仮想球面Ｊ１の緯線を仮想円Ｈ４として示している。永久磁石３８２をオフセットさせた結果、永久磁石３８２の外形中心を通り接平面Ｔ２の法線に平行な直線Ｋ２２と接平面Ｔ２との交点α２（この実施形態では交点α２は永久磁石３８２の外形中心に一致する）が仮想円Ｈ４に接していない。なお、永久磁石とその周囲の構成要素が干渉しないという条件下であれば、第１光軸Ｏ１（Ｏ１’）及び揺動中心Ａ１に対して直線Ｋ２２を図２６及び図２７とは逆方向にオフセットさせることも可能である。

図２６や図２７のように、接平面Ｔ２の法線と平行で永久磁石３８２の外形中心を通る直線Ｋ２２を、第１の実施形態の直線Ｋ２に対して、仮想球面Ｊ１の緯線に沿う平面内で接平面Ｔ２に沿って（別言すると仮想円Ｈ４の接線に沿って）オフセットさせる場合、同平面内で接平面Ｔ２に沿う方向での永久磁石３８２の大きさ（長さＷ１）に比してオフセット量が大き過ぎると、第１レンズ枠３０の球心揺動の安定性や精度、コイルやホールセンサに対する永久磁石３８２のギャップ変動といった要素に無視できない影響を及ぼすおそれがある。そのため、第４の実施形態を含む全てのケースで、次に示す条件（４）を満たすことが好ましい。
（４）０≦γ２＜δ２×０．２
γ２は、各実施形態における、図２２、図２６及び図２７のような仮想球面Ｊ１の緯線（仮想円Ｈ４）に沿う平面上での、交点α２と接点β２との距離である。永久磁石３８２に関して先に説明したように、交点α２は、同平面上での、各永久磁石が沿う接平面（Ｔ１、Ｔ２）と、該接平面の法線に平行で各永久磁石の外形中心を通る直線（Ｋ１、Ｋ２、Ｋ１１、Ｋ２２）との交差位置である。接点β２は、同平面上での、仮想球面Ｊ１（仮想円Ｈ４）と接平面（Ｔ１、Ｔ２）が接する位置である。δ２は、距離γ２と同様に、仮想球面Ｊ１の緯線（仮想円Ｈ４）に沿う平面上での、接平面（Ｔ１、Ｔ２）に沿う（磁極境界線Ｑ１、Ｑ２に沿う）各永久磁石の大きさであり、図２２、図２６及び図２７に示す永久磁石８１（８２）の長さＷ１や図２６に示す永久磁石３８２の長さＷ１に相当する。永久磁石８１（１８１、２８１）、８２（１８２）の外形中心を通り接平面Ｔ１、Ｔ２の法線に平行な直線Ｋ１（Ｋ１１）、Ｋ２が第１光軸Ｏ１（Ｏ１’）の延長線と交差する第１ないし第３の実施形態では、γ２＝０である。

なお、図２６及び図２７では一方の永久磁石３８２の位置をオフセットさせるものとしたが、他方の永久磁石８１の配置についても、永久磁石３８２のようにオフセットさせてもよい。

第３の実施形態と第４の実施形態はそれぞれ１つの永久磁石が１つの方向にオフセットする例を示したが、第３の実施形態に示すオフセットと第４の実施形態に示すオフセットの両方を１つの永久磁石に設定することも可能である。

第３と第４の実施形態では、アクチュエータを構成する永久磁石のオフセットについて説明したが、永久磁石のオフセットの有無と組み合わせて、コイルとホールセンサについてもオフセットの有無を選択することができる。

第１の組み合わせとして、永久磁石とコイルのそれぞれの外形中心から接平面の法線と平行に延びる直線を揺動中心Ａ１との交差位置からオフセットさせ（以下、単に磁石、コイル、ホールセンサのオフセットと呼ぶ）、ホールセンサについてはオフセットさせない構成が可能である。この構成は、球心揺動の位置精度管理については、全ての要素をオフセットさせない基準構成とほぼ同等のレベルで行うことができる。一方、永久磁石とコイルの間のギャップ変動抑制や、永久磁石とホールセンサの間のギャップ変動抑制については基準構成の方が有利である。

第２の組み合わせとして、永久磁石とコイルをオフセットさせず、ホールセンサのみをオフセットさせる構成が可能である。この構成は、永久磁石とホールセンサの間でのギャップ変動は基準構成と同程度に抑制できる。一方、球心揺動の位置精度管理や、永久磁石とホールセンサの間のギャップ変動抑制については基準構成の方が有利である。

第３の組み合わせとして、永久磁石、コイル、ホールセンサの全てを同等にオフセットさせる構成が可能である。球心揺動の位置精度管理、永久磁石とコイルの間のギャップ変動抑制、永久磁石とホールセンサの間のギャップ変動抑制の全てにおいて、この第３の組み合わせよりも基準構成が有利となる。

以上、図示実施形態に基づいて本発明を説明したが、本発明はこれらの実施形態に限定されるものではなく、発明の要旨を逸脱しない範囲で改変することができる。例えば、図示実施形態の撮像光学系は、光路を屈曲させる反射素子としてプリズムを用いているが、プリズムに代えてミラーなどを反射素子として用いてもよい。さらに、撮像光学系に第２プリズムＬ１２を含まず光路をＬ字状としたタイプの撮像装置にも適用が可能である。あるいは、第１プリズムＬ１１と第２プリズムＬ１２に加えてさらに別の反射素子を有する屈曲光学系の撮像装置も適用対象となる。いずれの場合も反射素子による光軸の屈曲角度（反射角）は９０°以外の値であってもよい。

また、先に述べたように、反射素子（実施形態の第１プリズムＬ１１に相当する）の物体側に位置して防振動作を行う前方レンズについては、複数枚のレンズで構成する等の変更を加えることが可能である。

図示実施形態の第１レンズＬ１は周縁の一部を切り欠いたＤカット形状をなしており、第２光軸Ｏ２に沿う方向における１群ブロック１２の小型化に寄与している。しかし、本発明における前方レンズの正面形状はこれに限定されるものではなく、正面視してＤカット以外の形状をなす（例えば円形の）前方レンズを備えた撮像装置にも適用が可能である。

図示実施形態では、第１レンズ枠３０を球心揺動可能に支持する支持部材として、ベース部材３１とカバー部材３２とセンサホルダ３４の結合体を用いている。この構成は組立作業性に関して優れた効果が得られるが、ベース部材３１やセンサホルダ３４等を一体的に構成した支持部材を用いることも可能である。また、図示実施形態の撮像ユニット１０と異なり、撮像センサ１４や第２プリズムＬ１２等を保持するハウジング１３と第１プリズムＬ１１を保持するベース部材３１を一体に形成して、この一体の支持部材に対して第１レンズ枠３０を支持させる構成にすることも可能である。

図示実施形態では、各アクチュエータの構成要素について、対向関係にある永久磁石８１（１８１、２８１）とコイル８３（１８３）の平面方向の広がりを示す接平面Ｔ１と接平面Ｔ３を互いに平行とし、対向関係にある永久磁石８２（１８２、３８２）とコイル８４（１８４）の平面方向の広がりを示す接平面Ｔ２と接平面Ｔ４を互いに平行としている。この構成は、第１レンズ枠３０の球心揺動を行う際の永久磁石とコイルの間のギャップ変動の抑制に有効であるが、本発明は、接平面Ｔ１と接平面Ｔ３、または接平面Ｔ２と接平面Ｔ４が互いに非平行な構成にも適用が可能である。永久磁石の平面方向とコイルの平面方向が相対的に傾いていても、その傾きが所定の範囲内であれば、実効的に球心揺動を行わせることができる。

図示実施形態では、第１レンズ枠３０を球心揺動させるアクチュエータとして、可動の第１レンズ枠３０に永久磁石８１（１８１、２８１）、８２（１８２、３８２）を保持し、固定のカバー部材３２にコイル８３（１８３）、８４（１８４）を保持したムービングマグネットタイプのボイスコイルモータを用いている。これと異なり、可動枠である第１レンズ枠３０側にコイルを保持し、第１レンズ枠３０を球心揺動可能に支持する支持部材（ベース部材３１、カバー部材３２、センサホルダ３４等）側に永久磁石を保持したムービングコイルタイプのボイスコイルモータを採用することも可能である。この場合、第１レンズ枠３０の位置を検出するホールセンサは可動の第１レンズ枠３０側に保持するとよい。

第１の実施形態では、防振駆動用の２つのアクチュエータ（永久磁石８１とコイル８３、永久磁石８２とコイル８４）は、推力作用平面Ｐ４と推力作用平面Ｐ５の互いの交差角Ｄ３が約６０°という関係で配置されている（図１２、図２２参照）。２つのアクチュエータの推力作用平面を基準平面Ｐ１に近づけるほど（２つの推力作用平面の交差角が小さくなるほど）、撮像ユニット１０の上下方向の小型化に有利となる。しかし、２つの推力作用平面の交差角をあまり小さくすると、第１レンズ枠３０の高精度で安定した防振制御を行わせることが難しくなる。図１２及び図２２に示す構成は、防振制御の安定性や精度を損なわない範囲で撮像ユニット１０を上下方向にコンパクトにするべく、２つのアクチュエータの推力作用平面Ｐ４、Ｐ５の交差角Ｄ３を約６０°に設定している。但し、第１光軸Ｏ１を中心とする周方向（仮想球面Ｊ１、Ｊ２の緯線に沿う方向）における２つのアクチュエータの配置はこれに限定されるものではなく、第１レンズ枠３０の球心揺動を確実に行わせることができる関係を満たしていれば、任意の配置にすることができる。例えば、図１２や図２２と同様に第１光軸Ｏ１と平行に見たとき、２つのアクチュエータの推力作用平面の交差角を約９０°に設定すると、１群ブロック１２の上下方向の小型化は若干制約されるが、防振制御の安定性や精度の点で有利となる。

図２２、図２６及び図２７に示す、２つの永久磁石８１、８２（３８２）の磁極境界線Ｑ１、Ｑ２が、第１光軸Ｏ１を中心とする共通の仮想円Ｈ１、Ｈ４（仮想球面Ｊ１の緯線）に接する配置は、重量バランスの点で好ましい。しかし、２つの永久磁石の磁極境界線が第１レンズＬ１の光軸を中心とする共通の円に接しない構成であっても、第１レンズ枠３０の駆動及び位置検出が可能であり、本発明はこのような構成を除外するものではない。

１０ 撮像ユニット
１１ 本体モジュール
１２ １群ブロック
１３ ハウジング
１３ａ ブロック支持部
１３ｂ ネジ孔
１３ｃ 位置決めピン
１４ 撮像センサ
１５ 撮像センサ基板
１６ 固定ネジ
２０ ２群枠
２１ ３群枠
２２ ２３ ロッド
３０ 第１レンズ枠（可動枠）
３１ ベース部材（支持部材）
３２ カバー部材（支持部材）
３３ コイル接続基板
３３ａ 帯状部
３３ｂ コイル接続部
３４ センサホルダ（支持部材）
３５ センサ支持基板
３５ａ 帯状部
３５ｂ 支持面部
３５ｃ ３５ｄ センサ支持片
３６ 板バネ
３６ａ 取付板部
３６ｂ 弾性腕部
３７ センサ固定版
３８ 第２レンズ枠
３９ ピボットガイド
３９ａ 基部
３９ｂ ガイド突起
３９ｃ フランジ
４０ レンズ保持部
４０ａ 直線状カット部
４０ｂ 円形枠部
４１ 支持部
４１ａ 脚部
４１ｂ 接続部
４１ｃ ピボットアーム
４２ ４３ 磁石保持部
４４ ピボット凸部（支持機構）
５０ 固定部
５０ａ ネジ挿通孔
５０ｂ 位置決め孔
５１ 側壁
５１ａ 係合突起
５２ 前方橋絡部
５３ プリズム保持壁
５４ 光路用空間
５５ 裏側空間
５６ 側方空間
５７ 支持座
５８ バネ支持部
６０ ベース板部
６１ ６２ センサ支持突起
６３ 基板支持突起
６４ センサ挿入凹部
６５ 当付部
６６ ネジ挿通孔
６７ ピボット凹部（支持機構）
６８ 回転規制孔
６８ａ 対向面
６８ｂ 端部
６９ 固定ネジ
７０ 側壁
７０ａ 係合孔
７１ 前面部
７２ 段部
７３ ７４ コイル保持部
８１ ８２ １８１ １８２ ２８１ ３８２ 永久磁石（アクチュエータ）
８３ ８４ １８３ １８４ コイル（アクチュエータ）
８３ａ ８４ａ 長辺部
８３ｂ ８４ｂ 湾曲部
８５ ８６ ホールセンサ
Ａ１ 揺動中心
Ｂ１ ピボットガイドのガイド突起の中心
Ｃ１ Ｃ２ Ｃ１１ 永久磁石の外形中心を通り仮想球面の接平面の法線に平行な直線と第１レンズの光軸の延長線との交点
Ｄ１ Ｄ２ 仮想球面の接平面の法線が第１レンズの光軸に対してなす傾き角
Ｄ３ Ｄ４ ２つのアクチュエータの推力作用平面の交差角
Ｅ１ Ｅ２ ボイスコイルモータの推力軸
Ｇ１ 第１群（前方レンズ群）
Ｇ２ 第２群（後方レンズ群）
Ｇ３ 第３群（後方レンズ群）
Ｇ４ 第４群（後方レンズ群）
Ｈ１ Ｈ４ 接平面上に永久磁石が配される仮想球面の緯線を表す仮想円
Ｈ２ 接平面上にコイルが配される仮想球面の緯線を表す仮想円
Ｈ３ 接平面上に永久磁石が配される仮想球面の経線を表す仮想円
Ｊ１ 接平面上に永久磁石が配される仮想球面（球心揺動の支点を中心とする球体）
Ｊ２ 接平面上にコイルが配される仮想球面（球心揺動の支点を中心とする球体）
Ｋ１ Ｋ２ 永久磁石の外形中心を通り仮想球面の接平面の法線に平行な直線
Ｋ１１ Ｋ２２ 永久磁石の外形中心を通り仮想球面の接平面の法線に平行な直線
Ｌ１ 第１レンズ（前方レンズ）
Ｌ１−ａ 入射面
Ｌ１−ｂ 出射面
Ｌ２ 第２レンズ
Ｌ１１ 第１プリズム（反射素子）
Ｌ１１−ａ 入射面
Ｌ１１−ｂ 出射面
Ｌ１１−ｃ 反射面
Ｌ１１−ｄ 側面
Ｌ１２ 第２プリズム
Ｌ１２−ａ 入射面
Ｌ１２−ｂ 出射面
Ｌ１２−ｃ 反射面
Ｍ１ 第１モータ
Ｍ２ 第２モータ
Ｏ１ 第１光軸（防振初期位置での第１レンズの光軸）
Ｏ１’ 球心揺動時の第１レンズの光軸
Ｏ２ 第２光軸
Ｏ３ 第３光軸
Ｐ１ Ｐ２ Ｐ３ 基準平面
Ｐ４ Ｐ５ 推力作用平面
Ｑ１ Ｑ２ 永久磁石の磁極境界線
Ｑ３ Ｑ４ コイルの長軸
Ｔ１ Ｔ２ 仮想球面の接平面（第１の接平面）
Ｔ３ Ｔ４ 仮想球面の接平面（第２の接平面）
Ｕ１ コイルの長軸方向の長さ
Ｕ２ コイルの長軸と垂直な方向の横幅
Ｖ１ 第１象限
Ｖ２ 第２象限
Ｖ３ 第３象限
Ｖ４ 第４象限
Ｗ１ 永久磁石の磁極境界線に沿う方向の長さ
Ｗ２ 永久磁石の磁極境界線と垂直な方向の横幅
α１ α２ 永久磁石の外形中心を通り仮想球面の接平面の法線に平行な直線と接平面との交点
β１ β２ 永久磁石が配される接平面と仮想球面との接点

Claims (11)

1. 撮像光学系を構成し、物体側から順に、少なくとも一つの前方レンズと、上記前方レンズから出射された光束を異なる方向に反射する反射面を備えた反射素子とを有する前方レンズ群；
   上記撮像光学系を構成し、上記前方レンズ群よりも像面側に位置する少なくとも一つの後方レンズ群；
   を備え、上記撮像光学系に加わる振れに応じて上記前方レンズを動作させて像面上での像振れを抑制する撮像装置であって、
   上記前方レンズを保持する可動枠；
   少なくとも上記反射素子を保持し、上記前方レンズによる上記像振れ抑制を行わない基準状態の光軸に対して移動しない支持部材；
   上記支持部材に対して上記可動枠を、上記基準状態における上記前方レンズの光軸を上記反射素子の上記反射面の裏側まで延長した軸上の支点を中心とする球心揺動可能に支持する支持機構；及び
   上記撮像光学系に加わる振れに応じて上記可動枠に駆動力を与えて上記球心揺動を行わせるアクチュエータ；
   を備え、
   上記アクチュエータは、永久磁石とコイルを含むボイスコイルモータからなり、上記支持部材に対して相対移動しない固定部と上記可動枠に上記永久磁石と上記コイルの一方と他方が保持されること；
   上記永久磁石は、上記球心揺動の支点を中心とする球体の第１の接平面と平行な方向に平面的な広がりを有して該第１の接平面に沿う扁平形状をなすこと；
   上記コイルは、上記球心揺動の支点を中心とする球体の第２の接平面と平行な方向に巻回され、該第２の接平面と平行な方向に平面的な広がりを有して該第２の接平面に沿う扁平コイルであること；及び
   上記第１の接平面の法線は上記前方レンズの光軸と非平行で該前方レンズの光軸またはその延長線と交差し、該交差の交点を始点として上記法線と平行に上記第１の接平面へ延びる半直線は、物体側に進むにつれて上記前方レンズの光軸から離れる傾きを有すること；
   を特徴とする撮像装置。
2. 請求項１記載の撮像装置において、上記交点を始点として上記前方レンズの光軸と平行に物体側に延びる半直線に対する、上記第１の接平面の法線と平行な上記半直線の傾き角は、４０°以上かつ８０°以下である撮像装置。
3. 請求項１または２記載の撮像装置において、上記第１の接平面と上記第２の接平面は略平行である撮像装置。
4. 請求項１ないし３のいずれか１項記載の撮像装置において、
   上記球心揺動の支点を中心とする球体で、上記前方レンズの光軸及びその延長線と交差する位置を極点とし、その両極点を結ぶ球面上の円弧を経線、該経線と直交する関係の上記球面上の円弧を緯線とし、
   上記永久磁石の外形中心を通り上記第１の接平面の法線に平行な直線と上記第１の接平面との交点をα１とし、該交点α１を通り上記経線に沿う平面上での、上記球体と上記第１の接平面との接点をβ１とし、上記第１の接平面に沿う上記交点α１と上記接点β１の距離をγ１とし、上記第１の接平面に沿う上記永久磁石の大きさをδ１としたとき、下記条件を満たす撮像装置。
   ０≦γ１＜δ１×０．２
5. 請求項４記載の撮像装置において、γ１＝０である撮像装置。
6. 請求項１ないし３のいずれか１項記載の撮像装置において、
   上記球心揺動の支点を中心とする球体で、上記前方レンズの光軸及びその延長線と交差する位置を極点とし、その両極点を結ぶ球面上の円弧を経線、該経線と直交する関係の上記球面上の円弧を緯線とし、
   上記永久磁石の外形中心を通り上記第１の接平面の法線に平行な直線と上記第１の接平面との交点をα２とし、該交点α２を通り上記緯線に沿う平面上での、上記球体と上記第１の接平面との接点をβ２とし、上記第１の接平面に沿う上記交点α２と上記接点β２の距離をγ２とし、上記第１の接平面に沿う上記永久磁石の大きさをδ２としたとき、下記条件を満たす撮像装置。
   ０≦γ２＜δ２×０．２
7. 請求項６記載の撮像装置において、γ２＝０である撮像装置。
8. 請求項１ないし７のいずれか１項記載の撮像装置において、上記永久磁石が上記可動枠に保持され、上記コイルが上記支持部材に保持されており、上記永久磁石が上記コイルよりも上記球心揺動の支点を中心とする径方向の内側に位置する撮像装置。
9. 請求項８記載の撮像装置において、上記球心揺動の支点を中心とする径方向で、該球心揺動の支点から近い内側から順に、磁界の変化を検知して上記可動枠の位置情報を得るセンサ、上記永久磁石、上記コイルを配置した撮像装置。
10. 請求項１ないし９のいずれか１項記載の撮像装置において、上記前方レンズの光軸を中心とする円に沿う方向に位置を異ならせて２つの永久磁石を備えている撮像装置。
11. 請求項１ないし１０のいずれか１項記載の撮像装置において、上記前方レンズの光軸と平行に見たとき、上記永久磁石の磁極境界線が上記前方レンズの光軸を中心とする円に接する撮像装置。

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