JP6233689B2 - タッチパネルセンサ、タッチパネルセンサの製造方法およびタッチ位置検出機能付き表示装置 - Google Patents

Description

本発明は、タッチパネルセンサおよびタッチパネルセンサの製造方法に関する。また本発明は、タッチパネルセンサと表示装置とを組み合わせることによって得られるタッチ位置検出機能付き表示装置に関する。

今日、入力手段として、タッチパネル装置が広く用いられている。タッチパネル装置は、タッチパネルセンサ、タッチパネルセンサ上への接触位置を検出する制御回路、配線およびＦＰＣ（フレキシブルプリント基板）を含んでいる。タッチパネル装置は、多くの場合、液晶ディスプレイやプラズマディスプレイ等の表示装置が組み込まれた種々の装置等（例えば、券売機、ＡＴＭ装置、携帯電話、ゲーム機）に対する入力手段として、表示装置とともに用いられている。このような装置においては、タッチパネルセンサが表示装置の表示面上に配置されており、これによって、表示装置に対する極めて直接的な入力が可能になっている。タッチパネルセンサのうち表示装置の表示領域に対面する領域は透明になっており、タッチパネルセンサのこの領域が、接触位置（接近位置）を検出し得るアクティブエリアを構成するようになる。

タッチパネル装置は、タッチパネルセンサ上への接触位置（接近位置）を検出する原理に基づいて、種々の形式に区別される。昨今では、光学的に明るいこと、意匠性があること、構造が容易であること、機能的にも優れていること等の理由から、容量結合方式のタッチパネル装置が注目されている。容量結合方式のタッチパネル装置においては、位置を検知されるべき外部導体（典型的には、指）が誘電体を介してタッチパネルセンサに接触（接近）する際、新たに奇生容量が発生する。この奇生容量に起因する静電容量の変化に基づいて、タッチパネルセンサ上における対象物の位置が検出される。容量結合方式には表面型と投影型とがあるが、マルチタッチの認識（多点認識）への対応に適していることから、投影型が注目を浴びている。

投影型容量結合方式のタッチパネルセンサは、誘電体と、誘電体のうち上述のアクティブエリア内に形成された透明導電パターンと、誘電体のうちアクティブエリアの外側の非アクティブエリア（いわゆる額縁領域）に形成された取出パターンと、を有している。取出パターンは、透明導電パターンからの信号をタッチパネルセンサの外部に設けられた制御回路に伝達するためのものであり、一般に、金属などの高い導電率を有する材料から形成される。一方、透明導電パターンは、透光性および導電層を有する材料、例えば金属酸化物から形成される。

上述のように、非アクティブエリアには一般に、取出パターンなどの、透光性を有さないパターンが配置されている。この場合、観察者側に位置するユーザーから取出パターンなどが見えないようにし、これによって意匠性を向上させるため、取出パターンよりも観察者側の位置で非アクティブエリアに加飾層を設けることが知られている（例えば特許文献１参照）。

特許第４９６５００６号公報

取出パターンなどがユーザーから視認されることを十分に防ぐためには、加飾層の光透過率が十分に低くなるように加飾層を構成することが好ましい。しかしながら、加飾層の光透過率を低くしようとすると、加飾層の厚みが大きくなってしまい、この結果、加飾層とその周辺の部分との間に大きな段差が生じてしまう。このような大きな段差が存在していると、搬送工程や表示装置との組合せ工程など、タッチパネルの製造工程の後に実施される様々な工程における生産性や作業性が低下してしまうことが考えられる。また、アクティブエリアおよび非アクティブエリアの両者に跨って延びる配線が存在する場合、配線がそのような大きな段差を跨ぐことになり、この結果、配線の断線が段差の部分で生じやすくなってしまうことも考えられる。

また近年は、タッチパネルセンサが、スマートフォンやタブレットＰＣなどの意匠性が重要視される分野で多く使用されている。このような分野においては、加飾層の色として、従来の黒色だけでなく、黒色以外の色、例えば白色、桃色や水色なども採用されている。しかしながら、黒色以外の色を呈する加飾層の光透過率は一般に、黒色を呈する加飾層の光透過率よりも大きくなっている。このため、黒色以外の加飾層が採用される場合、取出パターンなどをユーザーから十分に遮蔽するためには、より大きな厚みを有する加飾層が必要になる。この結果、加飾層とその周辺の部分との間に生じる段差がさらに大きくなってしまうことが考えられる。

本発明は、このような課題を効果的に解決し得るタッチパネルセンサおよびタッチ位置検出機能付き表示装置を提供することを目的とする。

本発明は、タッチパネルセンサであって、タッチ位置を検出され得る領域に対応するアクティブエリアと、アクティブエリアの周辺に位置する非アクティブエリアと、を含む基材と、前記基材の前記アクティブエリアに配置された透明導電パターンと、前記基材の前記非アクティブエリアに配置され、所定の色を呈するよう構成された加飾層と、前記加飾層上に設けられ、金属材料を含む反射層と、前記反射層上に設けられたオーバーコート層であって、オーバーコート層の内縁は、前記加飾層の内縁に沿って延びている、オーバーコート層と、前記透明導電パターンに電気的に接続されるとともに、前記オーバーコート層上に設けられた取出パターンと、を備え、前記加飾層は、前記加飾層の内縁を含む内側部分を有し、前記内側部分の厚みは、前記加飾層の平均厚みの０．７倍以下になっており、前記反射層は、その内縁が前記加飾層の前記内側部分上に位置するよう構成されている、タッチパネルセンサである。

本発明によるタッチパネルセンサにおいて、前記加飾層の前記内側部分は、前記アクティブエリアに向かうにつれてその厚みが減少するテーパ部分として構成されていてもよい。

本発明によるタッチパネルセンサにおいて、前記加飾層は、黒色以外の色を呈するよう構成されていてもよい。

本発明によるタッチパネルセンサにおいて、前記加飾層は、所定の色を呈するための着色剤と、感光剤とを少なくとも含んでいてもよい。

本発明によるタッチパネルセンサにおいて、前記オーバーコート層は、その内縁が前記加飾部の内縁と前記反射層の内縁との間に位置するよう、構成されていてもよい。

本発明によるタッチパネルセンサにおいて、前記反射層の内縁と前記加飾層の内縁との間の距離は、好ましくは５μｍ以下になっている。

本発明によるタッチパネルセンサにおいて、前記基材は、表示装置用の保護板として機能するものであってもよい。この場合、前記透明導電パターン、前記加飾層、前記反射層、前記オーバーコート層および前記取出パターンはいずれも、前記基材の面のうち表示装置側の面に設けられている。

本発明は、タッチパネルセンサの製造方法であって、タッチ位置を検出され得る領域に対応するアクティブエリアと、アクティブエリアの周辺に位置する非アクティブエリアと、を含む基材を準備する工程と、所定の色を呈する加飾層を前記基材の前記非アクティブエリアに形成する加飾層形成工程と、金属材料を含む反射層を前記加飾層上に形成する反射層形成工程と、オーバーコート層を前記反射層上に形成するオーバーコート層形成工程であって、前記オーバーコート層の内縁は、前記加飾層の内縁に沿って延びている、オーバーコート層形成工程と、透明導電パターンを前記基材の前記アクティブエリアに形成する工程と、取出パターンを、前記取出パターンが前記透明導電パターンに電気的に接続されるよう、前記オーバーコート層上に形成する工程と、を備え、前記加飾層は、前記加飾層の内縁を含む内側部分を有し、前記内側部分の厚みは、前記加飾層の平均厚みの０．７倍以下になっており、前記反射層形成工程において、前記反射層は、その内縁が前記加飾層の前記内側部分上に位置するよう形成される、タッチパネルセンサの製造方法である。

本発明によるタッチパネルセンサの製造方法において、前記加飾層は、所定の色を呈するための着色剤と、感光剤とを少なくとも含み、前記加飾層形成工程と同時に、前記加飾層を構成する材料と同一の材料を用いてアライメントマークを形成する工程が実施されてもよい。

本発明は、表示装置と、前記表示装置の表示面上に配置されたタッチパネルセンサと、を備え、前記タッチパネルセンサは、タッチ位置を検出され得る領域に対応するアクティブエリアと、アクティブエリアの周辺に位置する非アクティブエリアと、を含む基材と、前記基材の前記アクティブエリアに配置された透明導電パターンと、前記基材の前記非アクティブエリアに配置され、所定の色を呈するよう構成された加飾層と、前記加飾層上に設けられ、金属材料を含む反射層と、前記反射層上に設けられたオーバーコート層であって、オーバーコート層の内縁は、前記加飾層の内縁に沿って延びている、オーバーコート層と、前記透明導電パターンに電気的に接続されるとともに、前記オーバーコート層上に設けられた取出パターンと、を備え、前記加飾層は、前記加飾層の内縁を含む内側部分を有し、前記内側部分の厚みは、前記加飾層の平均厚みの０．７倍以下になっており、前記反射層は、その内縁が前記加飾層の前記内側部分上に位置するよう構成されている、タッチ位置検出機能付き表示装置である。

本発明によれば、基材の非アクティブエリアには、所定の色を呈するよう構成された加飾層と、金属材料を含む反射層と、オーバーコート層とが順に積層されている。このうち加飾層は、加飾層の内縁を含む内側部分を有しており、この内側部分の厚みは、加飾層の平均厚みの０．７倍以下になっている。そして反射層は、その内縁が加飾層の内側部分上に位置するよう構成されている。このような反射層を設けることにより、観察者側から加飾層に入射した後、加飾層を透過した光を、観察者側に戻すことができる。このため、加飾層を透過した後に反射層によって反射された光を利用して、加飾層の発色性を向上させることができる。このことにより、加飾層の光遮蔽性に関する要求を従来よりも低くすることができ、従って、加飾層の厚みを従来よりも小さくすることができる。このことにより、加飾層とその周辺の部分との間に段差が生じることを抑制することができる。

図１は、本発明の実施の形態におけるタッチ位置検出機能付き表示装置を示す展開図。 図２は、図１のタッチ位置検出機能付き表示装置におけるタッチパネルセンサを示す平面図。 図３は、図２のタッチパネルセンサの、III線に沿った断面図。 図４は、図２のタッチパネルセンサの、IV線に沿った断面図。 図５は、図２のタッチパネルセンサの、Ｖ線に沿った断面図。 図６は、図４に示すタッチパネルセンサの加飾層を拡大して示す断面図。 図７は、複数のタッチパネルセンサが割り付けられた多面付け基板を示す平面図。 図８Ａは、タッチパネルセンサの製造方法を説明するための図。 図８Ｂは、タッチパネルセンサの製造方法を説明するための図。 図８Ｃは、タッチパネルセンサの製造方法を説明するための図。 図８Ｄは、タッチパネルセンサの製造方法を説明するための図。 図８Ｅは、タッチパネルセンサの製造方法を説明するための図。 図８Ｆは、タッチパネルセンサの製造方法を説明するための図。 図８Ｇは、タッチパネルセンサの製造方法を説明するための図。 図９は、タッチパネルセンサの一変形例を示す断面図。

以下、図１乃至図８Ｇを参照して、本発明の実施の形態について説明する。なお、本明細書に添付する図面においては、図示と理解のしやすさの便宜上、適宜縮尺および縦横の寸法比等を、実物のそれらから変更し誇張してある。

タッチパネル装置およびタッチ位置検出機能付き表示装置
はじめに図１を参照して、タッチパネルセンサ３０を備えたタッチ位置検出機能付き表示装置１０について説明する。図１に示すように、タッチ位置検出機能付き表示装置１０は、タッチパネルセンサ３０と表示装置（例えば液晶表示装置）１５とを組み合わせることによって構成されている。図示された表示装置１５は、フラットパネルディスプレイとして構成されている。表示装置１５は、表示面１６ａを有した表示パネル１６と、表示パネル１６に接続された表示制御部（図示せず）と、を有している。表示パネル１６は、映像を表示することができるアクティブエリアＡ１と、アクティブエリアＡ１を取り囲むようにしてアクティブエリアＡ１の外側に配置された非アクティブエリア（額縁領域とも呼ばれる）Ａ２と、を含んでいる。表示制御部は、表示されるべき映像に関する情報を処理し、映像情報に基づいて表示パネル１６を駆動する。表示パネル１６は、表示制御部の制御信号に基づいて、所定の映像を表示面１６ａに表示する。すなわち、表示装置１５は、文字や図等の情報を映像として出力する出力装置としての役割を担っている。

図１に示すように、タッチパネルセンサ３０は、表示装置１５の表示面１６ａ上に配置されている。このタッチパネルセンサ３０は例えば、表示装置１５の表示面１６ａ上に接着層（図示せず）を介して接着されている。

なお本実施の形態において、タッチパネルセンサ３０は、タッチ位置検出機能をもたらすだけでなく、表示装置を保護する役割をも果たすよう構成されている。具体的には、タッチパネルセンサ３０の基材３２は、表示装置用の保護板として機能するよう構成されている。この場合、基材３２の観察者側の面３２ｂが、タッチ位置検出機能付き表示装置１０のうち最も観察者側に位置する面を構成している。またタッチパネルセンサ３０の各構成要素、例えば後述する透明導電パターン４１，４２や取出パターン４３はいずれも、基材３２の表示装置側の面３２ａに設けられている。また基材３２は、表示装置１５を保護する上で十分な強度を有する材料から構成されている。

タッチパネルセンサ
次に図２を参照して、タッチパネルセンサ３０について説明する。図２は、タッチパネルセンサ３０を示す平面図である。

図２に示されたタッチパネルセンサ３０は、投影型の静電容量結合方式として構成され、タッチパネルセンサ３０への外部導体（例えば、人間の指）の接触位置（タッチ位置とも称する）を検出可能に構成されている。なお、静電容量結合方式のタッチパネルセンサ３０の検出感度が優れている場合には、外部導体がタッチパネルセンサ３０に接近しただけで当該外部導体がタッチパネル装置のどの領域に接近しているかを検出することができる。従って、ここで用いる「接触位置」とは、実際には接触していないが位置を検出され得る接近位置を含む概念とする。なお、「容量結合」方式は、タッチパネルの技術分野において「静電容量」方式や「静電容量結合」方式等とも呼ばれており、本件では、これらの「静電容量」方式や「静電容量結合」方式等と同義の用語として取り扱う。

図２に示すように、タッチパネルセンサ３０は、タッチ位置を検出され得る領域に対応するアクティブエリアＡａ１と、アクティブエリアＡａ１の周辺に位置する非アクティブエリアＡａ２と、を含む基材３２と、基材３２のアクティブエリアＡａ１に配置された複数の透明導電パターン４１，４２と、対応する透明導電パターン４１，４２に接続されるとともに、基材３２の非アクティブエリアＡａ２に配置された複数の取出パターン４３と、対応する取出パターン４３に接続された複数の端子部４４と、を備えている。基材３２のアクティブエリアＡａ１および非アクティブエリアＡａ２はそれぞれ、表示パネル１６のアクティブエリアＡ１および非アクティブエリアＡ２に対応して区画されたものである。

基材３２は、タッチパネルセンサ３０において誘電体として機能するものである。また上述のように、基材３２は、表示装置用の保護板としても機能するものである。基材３２は例えば、十分な強度を有するよう、ガラスなどを用いて構成されている。

透明導電パターン４１，４２は、図２に示すように、第１方向に沿って、例えば図２のｘ方向に沿って延びる複数の第１透明導電パターン４１と、第１方向に直交する第２方向に沿って、例えば図２のｙ方向に沿って延びる複数の第２透明導電パターン４２と、を有している。第１透明導電パターン４１は、ｘ方向に沿って直線状に延びる第１ライン部４１ａと、第１ライン部４１ａから膨出した第１膨出部４１ｂと、を有していてもよい。第１膨出部４１ｂとは、基材３２の表面に沿って第１ライン部４１ａから膨らみ出ている部分のことである。同様に第２透明導電パターン４２は、ｙ方向に沿って延びる第２ライン部４２ａと、第２ライン部４２ａから膨出した第２膨出部４２ｂと、を有していてもよい。

取出パターン４３は、対応する透明導電パターン４１，４２によって検出された信号を端子部４４まで伝達するために非アクティブエリアＡａ２に設けられたものである。図２に示すように、各取出パターン４３は、所定の間隔を空けて非アクティブエリアＡａ２に並べられている。
例えば、第２透明導電パターン４２に接続された複数の取出パターン４３は、図２における下側の非アクティブエリアＡａ２まで信号を伝達するためにｙ方向に沿って延びる部分と、信号を端子部４４まで伝達するためにｘ方向に沿って延びる部分とをそれぞれ有している。複数の取出パターン４３において、ｙ方向に沿って延びる部分は各々、ｘ方向において所定の間隔を空けて並べられており、またｘ方向に沿って延びる部分は各々、ｙ方向において所定の間隔を空けて並べられている。
取出パターン４３によって端子部４４まで伝達された信号は、端子部４４に取り付けられたフレキシブル基板（図示せず）などを介して検出制御部へ伝達される。

上述のように、タッチパネルセンサ３０の非アクティブエリアＡａ２には一般に、取出パターン４３や端子部４４をユーザーから見えないようにするための加飾層が、アクティブエリアＡａ１を取り囲むように設けられている。図２においては便宜上、加飾層の外縁４６ｃおよび内縁４６ｄがそれぞれ一点鎖線で示されている。しかしながら、上述のように、加飾層の厚みには上限がある。このため、加飾層の上に直接的に取出パターン４３や端子部４４が設けられている場合、観察者側から加飾層を透過して取出パターン４３や端子部４４に到達し、その後、取出パターン４３や端子部４４によって反射されて観察者側に戻る、という光が少なからず存在することが考えられる。また、表示装置１５から放射された後、取出パターン４３や端子部４４が設けられていない領域を通って加飾層に入射し、そして加飾層を透過して観察者側に至る、という光も存在することが考えられる。この場合、取出パターン４３や端子部４４が観察者側に居るユーザーによって視認されてしまう可能性がある。また、ユーザーによって視認される非アクティブエリアＡａ２の色が、外光や表示装置からの光に含まれる色や、取出パターン４３の色などの影響を受けてしまう可能性もある。すなわち、ユーザーによって視認される非アクティブエリアＡａ２の色が、加飾層によって呈される色、例えば加飾層に含まれる着色剤の色からずれてしまう可能性がある。また、このような色のずれが部分的に生じる場合、非アクティブエリアＡａ２の色が不均一なものとして視認されてしまうことになる。

このような課題を考慮して、本実施の形態においてタッチパネルセンサ３０は、後述するように、加飾層と取出パターン４３および端子部４４との間に介在された反射層をさらに有している。この反射層を設けることにより、後述するように、加飾層の厚みをさほど大きくすることなく、非アクティブエリアＡａ２における所望の色彩を実現することができる。以下、図３乃至図５を参照して、このような反射層を含むタッチパネルセンサ３０の層構成について説明する。図３乃至図５はそれぞれ、図２のタッチパネルセンサ３０のIII線乃至Ｖ線に沿った断面図である。

はじめにアクティブエリアＡａ１に配置される構成要素の層構成について説明する。図３乃至図５に示すように、第１ライン部４１ａ、第１膨出部４１ｂおよび第２膨出部４２ｂは、同一平面上に形成されたものであってもよい。この場合、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）などの透明導電性材料からなる透明導電層５１をパターニングすることによって、第１ライン部４１ａ、第１膨出部４１ｂおよび第２膨出部４２ｂを同時に形成することが可能である。

図３乃至図５に示すように、第１ライン部４１ａおよび第２ライン部４２ａは、基材３２の法線方向から見た場合に互いに部分的に重なるよう形成されている。この場合、第１ライン部４１ａと第２ライン部４２ａとの間に絶縁層４９を介在させることにより、第１ライン部４１ａと第２ライン部４２ａとの間が導通することを防ぐことができる。なお図示はしないが、絶縁層４９は、第１ライン部４１ａと第２ライン部４２ａとの間だけでなく、第１膨出部４１ｂ上や第２膨出部４２ｂ上にも設けられていてもよい。

第２ライン部４２ａが導電性を有する限りにおいて、第２ライン部４２ａを構成する材料が特に限られることはない。例えば第２ライン部４２ａは、第１ライン部４１ａ、第１膨出部４１ｂおよび第２膨出部４２ｂと同様にインジウム錫酸化物（ＩＴＯ）などの透明導電性材料から構成されていてもよく、若しくは、金属材料から構成されていてもよい。本実施の形態においては、第２ライン部４２ａが、取出パターン４３および端子部４４にも含まれる金属層５２によって構成されている例が示されている。

（加飾層）
次に非アクティブエリアＡａ２に配置される構成要素の層構成について説明する。図３乃至図５に示すように、基材３２の非アクティブエリアＡａ２のうち表示装置側の面３２ａ上には、所定の色を呈するよう構成された加飾層４６が配置されている。図３において、加飾層４６の外縁が符号４６ｃで表され、加飾層４６の内縁が符号４６ｄで表されている。ここで内縁４６ｄとは、加飾層４６の縁部のうちアクティブエリアＡａ１側に位置する縁部のことであり、外縁４６ｃとは、加飾層４６の縁部のうちアクティブエリアＡａ１から遠い側に位置する縁部のことである。

加飾層４６の色は、タッチパネルセンサ３０およびタッチ位置検出機能付き表示装置１０に対して求められる意匠性に応じて選択される。ここでは、加飾層４６が、黒色以外の色を呈するよう構成されている場合について説明する。黒色以外の色の例としては、例えば、白色、水色、桃色、緑色などを挙げることができる。加飾層４６を構成する材料は、選択された色に応じて決定されるが、例えば白色が求められる場合、加飾層４６は、白色を呈するための着色剤として用いられる酸化チタンが分散された樹脂材料から構成される。

加飾層４６は、所定の色を呈するための着色剤に加えて、光が照射されることによってその物性を変化させる感光剤をさらに含んでいてもよい。加飾層４６が感光剤を含むことにより、後述するように、加飾層４６を所望の形状にパターニングするための方法として、露光処理および現像処理を含むフォトリソグラフィー法を用いることが可能になる。加飾層４６に含まれる感光剤は、光硬化型のものであってもよく、光溶解型のものであってもよいが、ここでは、光硬化型のものが用いられる例について説明する。

（反射層）
図３乃至図５に示すように、加飾層４６の面のうち表示装置側の面上には、上述の反射層４７が設けられている。この反射層４７は、光を反射することができるよう構成されており、具体的には反射層４７は金属材料を含んでいる。このため、観察者側から加飾層４６に入射して酸化チタンなどの着色剤（呈色成分）によって反射された後に反射層４７に到達した光は、反射層４７によって反射されて観察者側に戻ることになる。また反射層４７は、表示装置１５から放射された光が加飾層４６および基材３２を透過して観察者側に到達することを防ぐという役割も果たす。このため、加飾層４６によって呈される色をユーザーに鮮明に認識させることができる。すなわち、加飾層４６の発色性を向上させることができる。

（オーバーコート層）
ところで図３乃至図５に示すように、反射層４７の表示装置側には、上述の取出パターン４３が設けられる。反射層４７を介してこれらの取出パターン４３が互いに導通してしまうことを防ぐため、図３乃至図５に示すように、タッチパネルセンサ３０は、反射層４７の面のうち表示装置側の面上に設けられたオーバーコート層４８をさらに備えている。このオーバーコート層４８は、取出パターン４３および端子部４４が互いに導通するのを防ぐという機能だけでなく、加飾層４６および反射層４７を保護するという機能を有していてもよい。またオーバーコート層４８は、タッチパネルセンサ３０やタッチ位置検出機能付き表示装置１０の製造工程において加飾層４６から排出されるアウトガスを遮蔽するという機能を有していてもよい。オーバーコート層４８の材料としては、例えばアクリル樹脂などが用いられ得る。なおオーバーコート層４８の形成工程においてフォトリソグラフィー法が用いられる場合、オーバーコート層４８は、加飾層４６の場合と同様に、感光剤をさらに含んでいてもよい。後述するオーバーコート層形成工程においては、オーバーコート層４８に光硬化型の感光剤が含まれている場合について説明する。

（取出パターンおよび端子部）
図３および図５に示すように、オーバーコート層４８の面のうち表示装置１５側の面上には、複数の取出パターン４３がそれぞれ所定の間隔を空けて配置されている。これら取出パターン４３は、遮光性および導電性を有する金属層５２を含んでいる。なお図示はしないが、取出パターン４３と同様に端子部４４も、オーバーコート層４８の面のうち表示装置１５側の面上に配置されている。また端子部４４も、遮光性および導電性を有する金属層５２を含んでいる。金属層５２を構成する材料としては、上述の反射層４７の場合と同様に、例えばアルミニウム、モリブデン、銀、銅またはこれらの合金等を挙げることができる。

なお取出パターン４３および端子部４４は、金属層５２以外の層を含んでいてもよい。例えば図３および図５に示すように、取出パターン４３は、オーバーコート層４８と金属層５２との間に設けられた透明導電層５１をさらに含んでいてもよい。この透明導電層５１は、上述のように第１ライン部４１ａ、第１膨出部４１ｂおよび第２膨出部４２ｂを構成するものである。

図３および図５において最もアクティブエリアＡａ１側に位置している取出パターン４３において、透明導電層５１は、アクティブエリアＡａ１および非アクティブエリアＡａ２の両者を跨いで延びており、これによって、取出パターン４３とこれに対応する透明導電パターンとが電気的に接続されている。この場合、透明導電層５１は、加飾層４６による段差を跨いで延びることになる。なお図示はしないが、図３および図５において最もアクティブエリアＡａ１側に位置している取出パターン４３において、金属層５２が、アクティブエリアＡａ１および非アクティブエリアＡａ２の両者を跨いで、すなわち加飾層４６による段差を跨いで延びていてもよい。

加飾層４６の表示装置側に取出パターン４３が設けられる場合、上述のように、取出パターン４３を構成する層のうちの少なくとも１つは、加飾層４６による段差を跨いで延びることになる。従って、加飾層４６の厚みが大きい場合、取出パターン４３が断線してしまうリスクが高くなってしまう。ここで本実施の形態によれば、上述のように、加飾層４６の表示装置側に、加飾層４６を透過した光を反射することができる反射層４７が設けられている。このため、このような反射層４７が設けられていない場合に比べて、加飾層４６の発色性を向上させることができる。従って、加飾層４６の厚みをさほど大きくすることなく、非アクティブエリアＡａ２における所望の色彩を実現することができる。例えば、従来のタッチパネルセンサにおいては、黒色以外の色を呈する非アクティブエリアＡａ２を実現するためには数十μｍ以上の厚みを有する加飾層が必要であった。一方、本実施の形態によれば、５〜２０μｍの範囲内、例えば１０μｍ程度の厚みを有する加飾層４６を用いて、黒色以外の色を呈する非アクティブエリアＡａ２を実現することができる。このため、加飾層４６とその周辺の部分との間に大きな段差が生じることを抑制することができ、これによって、取出パターン４３の断線が生じるリスクを低減することができる。なおここで言う加飾層４６の厚みとは、加飾層４６全体の平均厚みのことである。

なお上述の段差の高さとしては、厳密には、加飾層４６の厚みだけでなく反射層４７の厚みおよびオーバーコート層４８の厚みを考慮する必要がある。一方、反射層４７は、上述のように光を反射するために設けられるものであり、従って反射層４７の厚みは、０．１〜０．５μｍ程度、例えば０．２μｍで十分である。またオーバーコート層４８は、取出パターン４３および端子部４４と反射層４７との間が導通することを防ぐために設けられるものであり、従ってオーバーコート層４８の厚みは、１〜２μｍ程度で十分である。このように反射層４７およびオーバーコート層４８の厚みは、加飾層４６の厚みに比べて十分に小さい。従って、上述の段差の高さは、加飾層４６によってほぼ決定されると言える。そして本実施の形態によれば、上述のように加飾層４６の厚みを小さくすることができるので、加飾層４６とその周辺の部分との間に大きな段差が生じることを抑制することができる。

（加飾層、反射層およびオーバーコート層の断面構造）
次に図６を参照して、加飾層４６の内縁４６ｄ近傍における加飾層４６、反射層４７およびオーバーコート層４８の断面構造について詳細に説明する。図６は、図４に示す加飾層４６を拡大して示す断面図である。

（加飾層の断面構造）
図６に示すように、加飾層４６は、内側部分４６ｂと、内側部分４６ｂよりも加飾層４６の外縁４６ｃ側に位置する平坦部分４６ａと、を有している。内側部分４６ｂは、加飾層４６の内縁４６ｄを含む部分であり、加飾層４６のうち最もアクティブエリアＡａ１側に位置する部分のことである。

また本実施の形態において、内側部分４６ｂは、加飾層４６の平均厚みよりも小さい厚みを有する部分として定義される。例えば、加飾層４６の平均厚みをｔ０とする場合、内側部分４６ｂは、その厚みが、加飾層４６の平均厚みｔ０の０．７倍以下になっている部分として定義される。図６において、符号ｔ２が付された矢印は、加飾層４６の平均厚みｔ０の０．７倍の厚みを表している。従って、上記の定義が採用される場合、矢印ｔ２を境界として、それよりもアクティブエリアＡａ１側に位置する部分が、加飾層４６の内側部分４６ｂとなっている。
図６において、符号ｄ１が付された矢印は、加飾層４６の内縁４６ｄから矢印ｔ２の部分までの距離を表している。すなわち距離ｄ１は、上記の定義が採用される場合の内側部分４６ｂの幅を表している。距離ｄ１の具体的な数値は、加飾層４６の形成方法などに応じて決まるが、例えば１０μｍ以上になっている。

図６に示すように、内側部分４６ｂは、アクティブエリアＡａ１に向かうにつれてその厚みが減少するテーパ部分４６ｅとして構成されていてもよい。図６に示す例においては、その厚みが平均厚みｔ０の０．７倍以下になる内側部分４６ｂが、テーパ部分４６ｅの一部として構成されており、またテーパ部分４６ｅの外側には平坦部分４６ａが存在している。

一方、平坦部分４６ａは、加飾層４６のうちほぼ一様な厚みを有する部分のことである。図６において、平坦部分４６ａの厚みが符号ｔ１で表されている。なお一般に、加飾層４６の幅（加飾層４６の外縁４６ｃと内縁４６ｄとの間の距離）は数ｍｍ以上となっており、一方、内縁４６ｄ近傍に形成される上述のテーパ部分４６ｅや内側部分４６ｂの幅は、数十μｍ以下となっている。また、外縁４６ｃ側に関しても、加飾層４６の厚みは、内縁４６ｄ近傍と同様に、外縁４６ｃ近傍までほぼ平坦なものとなっている。すなわち平坦部分４６ａは、加飾層４６の外縁４６ｃ近傍まで続いている。このように加飾層４６の大部分は、ほぼ一様な厚みを有する部分、すなわち平坦部分４６ａによって構成されている。従って、平坦部分４６ａの厚みｔ１は、加飾層４６の平均厚みｔ０と実質的に同一であると考えてもよい。

ところで、加飾層４６の内縁４６ｄは、アクティブエリアＡａ１にまで加飾層４６が達しないように加飾層４６を基材３２の面３２ａ上に形成することによって出現するものである。このような内縁４６ｄを含む加飾層４６を形成する方法としては、加飾層４６用の材料を含む塗布液を所定のパターンで基材３２の面３２ａ上に塗布することができるスクリーン印刷法や、感光剤を含む加飾層４６を広域にわたって設けた後、当該加飾層４６を露光・現像してアクティブエリアＡａ１上の加飾層４６を除去し、これによって非アクティブエリアＡａ２内にのみ加飾層４６を得るフォトリソグラフィー法などが挙げられるが、いずれの方法を用いた場合であっても、加飾層４６のうち内縁４６ｄ近傍の部分には、アクティブエリアＡａ１に向かうにつれて厚みが小さくなる上述のテーパ部分４６ｅが形成される。なおフォトリソグラフィー法は、スクリーン印刷法に比べて、テーパ部分４６ｅの傾きをより急峻なものとすることができる。すなわち、加飾層４６の内縁４６ｄ近傍でのエッジ形状をより鋭いものとすることができ、この結果、テーパ部分４６ｅの幅や内側部分４６ｂの幅をより小さくすることができる。

（反射層の断面構造）
反射層４７は、図示はしないが、その外縁が加飾層４６の外縁４６ｃにほぼ一致するように構成されている。また図６に示すように、反射層４７は、その内縁４７ｄが加飾層４６の内側部分４６ｂ上に位置するように構成されている。例えば、加飾層４６の内縁４６ｄから反射層４７の内縁４７ｄまでの距離ｄ２が２〜５μｍの範囲内になるよう、反射層４７が構成されている。以下、このように反射層４７を構成することの利点について説明する。

上述のように反射層４７は、加飾層４６を透過した光を反射して観察者側に戻すために設けられるものである。ところで加飾層４６における光遮蔽性は一般に、その厚みが小さくなるにつれて低下する。従って、加飾層４６の内側部分４６ｂにおける光遮蔽性は、平坦部分４６ａにおける光遮蔽性よりも低い。すなわち、内側部分４６ｂは、平坦部分４６ａに比べて光を透過させやすいものとなっている。ここで本実施の形態によれば、反射層４７を加飾層４６の内側部分４６ｂにまで達するように設けることにより、すなわち加飾層４６の内縁４６ｄから反射層４７の内縁４７ｄまでの距離ｄ２を５μｍ以下とすることにより、平坦部分４６ａだけでなく内側部分４６ｂの発色性も高めることができる。このことにより、アクティブエリアＡａ１と非アクティブエリアＡａ２との間の境界近傍においても、加飾層４６によって呈される色をユーザーにより鮮明に認識させることができる。

一方、反射層４７は金属材料を含んでおり、従って反射層４７は光遮蔽性を有している。このため、仮に反射層４７がアクティブエリアＡａ１内にまで延びてしまうと、アクティブエリアＡａ１の視認性が反射層４７によって阻害されることになる。また、透明導電パターンと反射層４７とが導通してしまうことも懸念される。ここで本実施の形態によれば、加飾層４６の内縁４６ｄから反射層４７の内縁４７ｄまでの距離ｄ２を２μｍ以上とすることにより、製造公差などに起因して反射層４７の内縁４７ｄの位置が設計からずれてしまった場合であっても、反射層４７がアクティブエリアＡａ１内にまで延びてしまうことを防ぐことができる。

（オーバーコート層の断面構造）
オーバーコート層４８は、図示はしないが、その外縁が加飾層４６の外縁４６ｃにほぼ一致するように構成されている。また図６に示すように、オーバーコート層４８は、その内縁４８ｄが加飾層４６の内縁４６ｄよりもアクティブエリアＡａ１側に位置するよう構成されている。このようにオーバーコート層４８を構成することにより、加飾層４６および反射層４７を十分に保護することができる。またオーバーコート層４８は、反射層４７に比べればその程度は小さいが、加飾層４６を透過してオーバーコート層４８に到達した光を反射させて観察者側に戻すという機能を発揮することもできる。従って、内縁４６ｄ近傍において加飾層４６の内側部分４６ｂの発色性を向上させるという効果も期待される。なお、オーバーコート層４８に到達した光を反射させて観察者側に戻すという機能は、オーバーコート層４８が透明なものではなく所定の色を呈するよう構成されたものである場合に、より高くなることが期待される。この観点からは、例えばオーバーコート層４８を、灰色や青色を呈するものとして構成することが考えられる。

加飾層４６の内縁４６ｄからオーバーコート層４８の内縁４８ｄまでの距離ｄ３は、アクティブエリアＡａ１における視認性がオーバーコート層４８によって過剰に阻害されない限り特には限定されないが、例えば２μｍ以上となっている。

またオーバーコート層４８は、加飾層４６が呈する色とは異なる色を呈することができる着色剤を含んでいてもよい。この場合、基材３２の法線方向から見て加飾層４６および反射層４７と重なる領域は、加飾層４６が呈する色の領域として視認される。一方、基材３２の法線方向から見て加飾層４６とは重ならずオーバーコート層４８とのみ重なる領域は、オーバーコート層４８が呈する色の領域として視認される。従って、タッチパネルセンサ３０の非アクティブエリアＡａ２を、その大部分は加飾層４６が呈する色の領域として視認させ、アクティブエリアＡａ１との境界近傍の部分のみオーバーコート層４８が呈する色の領域として視認させる、ということが可能になる。これによって、タッチパネルセンサ３０の意匠性のバリエーションを広げることができる。なお基材３２の法線方向から見て反射層４７とは重ならないが加飾層４６およびオーバーコート層４８の両方と重なる領域は、加飾層４６が呈する色およびオーバーコート層４８が呈する色が混じった色の領域として視認されることが予想される。

タッチパネルセンサの製造方法
次に、以上のような構成からなるタッチパネルセンサ３０を製造する方法について説明する。ここでは図７に示すように、タッチパネルセンサ３０が、複数のタッチパネルセンサ３０が割り付けられた多面付け基板６０を切り出すことによって得られるものとする。図７に示すように、多面付け基板６０のうちタッチパネルセンサ３０が割り付けられていない部分には、製造工程における位置決めのために利用されるアライメントマーク６１が形成されていてもよい。

以下、タッチパネルセンサ３０を製造する方法について、図８Ａ〜図８Ｇを参照して説明する。図８Ａ〜図８Ｇは、図２のタッチパネルセンサ３０のIV線に沿った位置において、タッチパネルセンサ３０の製造方法の各工程における層構成を示す図である。

はじめに基材３２を準備する。上述のように、基材３２は、表示装置用の保護板としても機能することができるものである。

（加飾層形成工程）
次に図８Ａに示すように、基材３２の表示装置側の面３２ａ上に、その全域にわたって加飾層４６を設ける。このとき加飾層４６は、多面付け基板６０においてタッチパネルセンサ３０となるべき領域だけでなくそれ以外の領域にも設けられてもよい。

基材３２の表示装置側の面３２ａ上に加飾層４６を設ける方法が特に限られることはなく、様々な方法が用いられ得る。例えば、加飾層４６を構成するための樹脂材料および着色剤を含む塗布液を、ダイコート法やスピンコート法を用いて面３２ａ上に塗布してもよい。なおダイコート法は、一様な厚みを有する加飾層４６を基材３２の寸法に依らず形成することができるので、好ましく用いられ得る。

次に加飾層４６に露光処理および現像処理を施すことによって、図８Ｂに示すように、加飾層４６のうちアクティブエリアＡａ１に位置する部分を除去する。例えば加飾層４６に光硬化型の感光剤が含まれている場合、加飾層４６のうち非アクティブエリアＡａ２に対応する部分に露光光を照射する露光処理を実施し、その後、加飾層４６に現像処理を施す。このようにフォトリソグラフィー法を用いて加飾層４６をパターニングすることにより、上述の平坦部分４６ａおよび内側部分４６ｂを有する加飾層４６を、高い位置精度で非アクティブエリアＡａ２に形成することができる。

ところで、フォトリソグラフィー法を用いる場合のパターニングの位置精度は、一般に、層の厚みが大きいほど低下する。なぜなら、層の厚みが大きいほど、露光光を層の厚み方向の全域にわたって十分に層に到達させることが困難になり、この結果、得られるパターンの位置が設計位置からずれやすくなるからである。ここで本実施の形態によれば、上述のように、反射層４７を設けることによって、加飾層４６の厚みを従来よりも小さくすることが可能になっている。従って、露光光を加飾層４６の厚み方向の全域にわたって十分に加飾層４６に到達させることができ、これによって、高い位置精度で加飾層４６のパターニングを実施することができる。

なお、上述の加飾層形成工程と同時に、加飾層４６を構成する材料と同一の材料を用いてアライメントマーク６１を形成してもよい。例えば、加飾層４６のうち非アクティブエリアＡａ２に対応する部分だけでなくアライメントマーク６１に対応する部分にも露光光を照射し、これによって、加飾層４６を構成する材料と同一の材料から構成されたアライメントマーク６１を同時に得るようにしてもよい。このことにより、アライメントマーク６１を構成する工程を別途実施する場合に比べて、タッチパネルセンサ３０を製造するために要する工数やコストを削減することができる。

（反射層形成工程）
次に図８Ｃに示すように、加飾層４６上および基材３２上に反射層４７を設ける。反射層４７を設ける方法としては、例えばスパッタリング法などが用いられ得る。その後、図８Ｄに示すように、反射層４７上にレジスト層５５を設ける。レジスト層５５は、形成されるべき反射層４７のパターンと同一のパターンを有するよう、反射層４７上に設けられる。その後、レジスト層５５をマスクとして反射層４７をエッチングする。これによって、図８Ｅに示すように、その内縁４７ｄが加飾層４６の内側部分４６ｂ上に位置する反射層４７を得ることができる。

（オーバーコート層形成工程）
次に図８Ｆに示すように、反射層４７、加飾層４６および基材３２上にオーバーコート層４８を設ける。オーバーコート層４８を設ける方法としては、加飾層４６の場合と同様に、ダイコート法やスピンコート法用いることができる。

次にオーバーコート層４８を露光・現像することによって、図８Ｇに示すように、加飾層４６の場合と同様にして、オーバーコート層４８のうちアクティブエリアＡａ１に位置する部分を除去する。これによって、その内縁４８ｄが加飾層４６の内縁４６ｄよりもアクティブエリアＡａ１側に位置するオーバーコート層４８を得ることができる。

その後、透明導電パターン４１，４２を基材３２のアクティブエリアＡａ１に形成する透明導電パターン形成工程を実施する。また、取出パターン４３をオーバーコート層４８上に形成する取出パターン工程を実施する。これら透明導電パターン形成工程および取出パターン工程としては、公知の方法、例えば特開２０１１−８６１２２号公報に記載されている方法を用いることができる。このようにして、複数のタッチパネルセンサ３０が割り付けられた多面付け基板６０を得ることができる。その後、多面付け基板６０からタッチパネルセンサ３０を切り出すことによって、タッチパネルセンサ３０を得ることができる。その後、タッチパネルセンサ３０と表示装置１５と組み合わせることによって、タッチ位置検出機能付き表示装置１０を得ることができる。

ここで本実施の形態によれば、基材３２の非アクティブエリアＡａ２には、所定の色を呈するよう構成された加飾層４６と、金属材料を含む反射層４７と、オーバーコート層４８とが順に積層されている。このうち加飾層４６は、加飾層４６の内縁４６ｄを含む内側部分４６ｂを有しており、この内側部分４６ｂの厚みは、加飾層４６の平均厚みの０．７倍以下になっている。そして反射層４７は、その内縁４７ｄが加飾層４６の内側部分４６ｂ上に位置するよう構成されている。このような反射層４７を設けることにより、観察者側から加飾層４６に入射した後、加飾層４６を透過した光を、観察者側に戻すことができ、このことにより、加飾層４６の発色性を向上させることができる。このため、加飾層４６の光遮蔽性に関する要求を従来よりも低くすることができ、従って、加飾層４６の厚みを従来よりも小さくすることができる。このことにより、加飾層４６とその周辺の部分との間に段差が生じることを抑制することができ、これによって、取出パターン４３の断線が生じるリスクを低減することができる。

なお、上述した実施の形態に対して様々な変更を加えることが可能である。以下、図面を参照しながら、いくつかの変形例について説明する。以下の説明および以下の説明で用いる図面では、上述した実施の形態と同様に構成され得る部分について、上述の実施の形態における対応する部分に対して用いた符号と同一の符号を用いることとし、重複する説明を省略する。

オーバーコート層の変形例
上述の本実施の形態において、オーバーコート層４８の内縁４８ｄが、加飾層４６の内縁４６ｄよりもアクティブエリアＡａ１側に位置している例を示した。しかしながら、これに限られることはなく、図９に示すように、オーバーコート層４８は、その内縁４８ｄが加飾層４６の内縁４６ｄと反射層４７の内縁４７ｄとの間に位置するよう、構成されていてもよい。

本変形例においては、図９に示すように、基材３２の法線方向から見た場合にオーバーコート層４８がその全域にわたって加飾層４６と重なるようになる。従って、タッチパネルセンサ３０の非アクティブエリアＡａ２を、アクティブエリアＡａ１との境界近傍においても、加飾層４６が呈する色の領域として視認させることができる。すなわち、非アクティブエリアＡａ２をその全域にわたって均一な色の領域として視認させることができる。このため、非アクティブエリアＡａ２の色の統一感、ひいてはタッチパネルセンサ３０のデザインの統一感を高めることができる。

加飾層４６の内縁４６ｄからオーバーコート層４８の内縁４８ｄまでの距離ｄ４は、加飾層４６の内縁４６ｄ近傍における加飾層４６の厚みやオーバーコート層４８の厚み、並びに製造公差などに応じて定められるが、例えば２〜５μｍの範囲内となっている。

１０ タッチ位置検出機能付き表示装置
１５ 表示装置
１６ 表示パネル
１６ａ 表示面
３０ タッチパネルセンサ
３２ 基材
４１ 第１透明導電パターン
４２ 第２透明導電パターン
４３ 取出パターン
４４ 端子部
４６ 加飾層
４６ａ 平坦部分
４６ｂ 内側部分
４６ｃ 外縁
４６ｄ 内縁
４６ｅ テーパ部分
４７ 反射層
４７ｄ 内縁
４８ オーバーコート層
４８ｄ 内縁
４９ 絶縁層
５１ 透明導電層
５２ 金属層
５５ レジスト層
６０ 多面付け基板
６１ アライメントマーク

Claims (9)

1. タッチパネルセンサであって、
   タッチ位置を検出され得る領域に対応するアクティブエリアと、アクティブエリアの周辺に位置する非アクティブエリアと、を含む基材と、
   前記基材の前記アクティブエリアに配置された透明導電パターンと、
   前記基材の前記非アクティブエリアに配置され、所定の色を呈するよう構成された加飾層と、
   前記加飾層上に設けられ、金属材料を含む反射層と、
   前記反射層上に設けられたオーバーコート層であって、オーバーコート層の内縁は、前記加飾層の内縁に沿って延びている、オーバーコート層と、
   前記透明導電パターンに電気的に接続されるとともに、前記オーバーコート層上に設けられた取出パターンと、を備え、
   前記加飾層は、前記加飾層の内縁を含む内側部分を有し、前記内側部分の厚みは、前記加飾層の平均厚みの０．７倍以下になっており、
   前記反射層は、その内縁が前記加飾層の前記内側部分上に位置するよう構成されており、
   前記オーバーコート層は、その内縁が前記加飾層の内縁と前記反射層の内縁との間に位置するよう、構成されている、タッチパネルセンサ。
2. 前記加飾層の前記内側部分は、前記アクティブエリアに向かうにつれてその厚みが減少するテーパ部分として構成されている、請求項１に記載のタッチパネルセンサ。
3. 前記加飾層は、黒色以外の色を呈するよう構成されている、請求項１または２に記載のタッチパネルセンサ。
4. 前記加飾層は、所定の色を呈するための着色剤と、感光剤とを少なくとも含む、請求項１乃至３のいずれか一項に記載のタッチパネルセンサ。
5. 前記反射層の内縁と前記加飾層の内縁との間の距離が、５μｍ以下になっている、請求項１乃至４のいずれか一項に記載のタッチパネルセンサ。
6. 前記基材は、表示装置用の保護板として機能するものであり、
   前記透明導電パターン、前記加飾層、前記反射層、前記オーバーコート層および前記取出パターンはいずれも、前記基材の面のうち表示装置側の面に設けられている、請求項１乃至５のいずれか一項に記載のタッチパネルセンサ。
7. タッチパネルセンサの製造方法であって、
   タッチ位置を検出され得る領域に対応するアクティブエリアと、アクティブエリアの周辺に位置する非アクティブエリアと、を含む基材を準備する工程と、
   所定の色を呈する加飾層を前記基材の前記非アクティブエリアに形成する加飾層形成工程と、
   金属材料を含む反射層を前記加飾層上に形成する反射層形成工程と、
   オーバーコート層を前記反射層上に形成するオーバーコート層形成工程であって、前記オーバーコート層の内縁は、前記加飾層の内縁に沿って延びている、オーバーコート層形成工程と、
   透明導電パターンを前記基材の前記アクティブエリアに形成する工程と、
   取出パターンを、前記取出パターンが前記透明導電パターンに電気的に接続されるよう、前記オーバーコート層上に形成する工程と、を備え、
   前記加飾層は、前記加飾層の内縁を含む内側部分を有し、前記内側部分の厚みは、前記加飾層の平均厚みの０．７倍以下になっており、
   前記反射層形成工程において、前記反射層は、その内縁が前記加飾層の前記内側部分上に位置するよう形成され、
   前記オーバーコート層形成工程において、前記オーバーコート層は、その内縁が前記加飾層の内縁と前記反射層の内縁との間に位置するよう形成される、タッチパネルセンサの製造方法。
8. 前記加飾層は、所定の色を呈するための着色剤と、感光剤とを少なくとも含み、
   前記加飾層形成工程と同時に、前記加飾層を構成する材料と同一の材料を用いてアライメントマークを形成する工程が実施される、請求項７に記載のタッチパネルセンサの製造方法。
9. 表示装置と、
   前記表示装置の表示面上に配置されたタッチパネルセンサと、を備え、
   前記タッチパネルセンサは、
   タッチ位置を検出され得る領域に対応するアクティブエリアと、アクティブエリアの周辺に位置する非アクティブエリアと、を含む基材と、
   前記基材の前記アクティブエリアに配置された透明導電パターンと、
   前記基材の前記非アクティブエリアに配置され、所定の色を呈するよう構成された加飾層と、
   前記加飾層上に設けられ、金属材料を含む反射層と、
   前記反射層上に設けられたオーバーコート層であって、オーバーコート層の内縁は、前記加飾層の内縁に沿って延びている、オーバーコート層と、
   前記透明導電パターンに電気的に接続されるとともに、前記オーバーコート層上に設けられた取出パターンと、を備え、
   前記加飾層は、前記加飾層の内縁を含む内側部分を有し、前記内側部分の厚みは、前記加飾層の平均厚みの０．７倍以下になっており、
   前記反射層は、その内縁が前記加飾層の前記内側部分上に位置するよう構成されており、
   前記オーバーコート層は、その内縁が前記加飾層の内縁と前記反射層の内縁との間に位置するよう、構成されている、タッチ位置検出機能付き表示装置。