JP6226865B2 - マイクロチャネルプレートの製造方法 - Google Patents
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- 還元処理前に絶縁性を呈する一方、還元処理後に導電性を呈する鉛ガラスからなる本体を備えたマイクロチャネルプレートの製造方法であって、
それぞれが、所定方向に沿って延びるとともに特定の酸に対して可溶性を有するコア部、前記コア部の外周面を取り囲むとともに前記特定の酸に対して不溶性を有する第1クラッド部、および、前記クラッド部の外周面を取り囲むとともに前記特定の酸に対して不溶性を有する第2クラッド部により構成された複数のチャネルファイバを用意する工程と、
それぞれの側面を当接させた状態で前記複数のチャネルファイバを加熱することにより一体化された、前記複数のチャネルファイバを含む母材を製造する工程と、
前記母材を、前記所定方向に沿って所定の厚さで、かつ、前記所定方向に対して所定角度でスライスすることにより、前記本体となるべき板材を作製する工程と、
作製された前記板材を前記特定の酸の溶液に浸漬することにより、前記板材に含まれる前記複数のチャネルファイバそれぞれの前記コア部を除去する工程と、
前記コア部が除去された前記板材に対して、前記板材を水素雰囲気中で加熱することにより還元処理を行う工程と、を備え、
還元処理前の比較において、前記第1クラッド部は、前記第2クラッド部の耐酸性よりも高い耐酸性を有することを特徴とするマイクロチャネルプレートの製造方法。 - 塩酸、硝酸、硫酸、リン酸、およびこれらの混合液のうちのいずれかに対する耐性として、前記第1クラッド部の還元処理前の耐酸性は、前記第2クラッド部の還元処理前の耐酸性よりも高いことを特徴とする請求項1に記載のマイクロチャネルプレートの製造方法。
- 前記第2クラッド部の鉛含有量は、前記第1クラッド部の鉛含有量よりも多いことを特徴とする請求項1または2に記載のマイクロチャネルプレートの製造方法。
- 還元処理前の前記第1クラッド部は、重量比20.0%以上48.0%未満の酸化鉛を含み、還元処理前の前記第2クラッド部は、重量比48.0%以上65.0%未満の酸化鉛を含むことを特徴とする請求項1〜3の何れか一項に記載のマイクロチャネルプレートの製造方法。
- 還元処理前の前記第1クラッド部は、重量比40.0%以上65.0%未満の二酸化珪素を含み、還元処理前の前記第2クラッド部は、重量比20.0%以上40.0%未満の二酸化珪素を含むことを特徴とする請求項1〜4の何れか一項に記載のマイクロチャネルプレートの製造方法。
- 前記第1クラッド部は、還元処理前において酸化ジルコニウムを含むことを特徴とする請求項1〜5の何れか一項に記載のマイクロチャネルプレートの製造方法。
- 前記所定方向に直交する前記本体の断面において、前記第1クラッド部の外周が六角形に変形することにより、前記第2クラッド部がハニカム構造を構成していることを特徴とする請求項1〜6の何れか一項に記載のマイクロチャネルプレートの製造方法。
- 前記所定方向に直交する前記本体の断面において、前記断面に占める前記第1クラッド部の面積比は、前記断面に占める前記第2クラッド部の面積比よりも小さいことを特徴とする請求項1〜7の何れか一項に記載のマイクロチャネルプレートの製造方法。
- 前記所定方向に直交する前記本体の断面において、前記断面に占める前記第2クラッド部の面積比は、25%以上であることを特徴とする請求項1〜8の何れか一項に記載のマイクロチャネルプレートの製造方法。
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