JP6226322B2 - 放射性医薬組成物の製造方法 - Google Patents
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Description
合成工程は、具体的には、以下の[18F]フッ素化工程と、脱保護工程とを含む。
([18F]フッ素化工程):標識前駆体と[18F]フッ化物イオンとを反応させて、下記式(4)で表される、2,2−ジメチル−5−[2−(2−ニトロ−1H−イミダゾール−1−イル)メチル]−5−([18F]フルオロメチル)−1,3−ジオキサン([18F]HIC101保護体)を得る。
(脱保護工程):酸存在下に[18F]HIC101保護体からアセトナイド保護基を除去して[18F]HIC101の粗生成物を得る。
精製工程では、合成工程で粗生成物として得られた[18F]HIC101の精製を行う。具体的には、オクタデシルシリル化シリカゲルを固定相とし、水とエタノールとの混液を溶離液として用いたクロマトグラフィーにより、[18F]HIC101とトシル酸との分離を実行する。そして、[18F]HIC101の画分を回収して、[18F]HIC101溶液を得る。これにより、トシル酸とともにOH体が除去された放射性医薬組成物を得ることができる。また、[18F]HIC101とトシル酸との分離度をさらに高めることにより、ロット間のばらつきなく安定して、OH体、トシル酸及びその他の非放射性不純物を除去することができる。
調製工程では、精製工程で得られた[18F]HIC101溶液の濃縮を行い、クロマトグラフィーで使用したエタノール及び水などの溶媒を蒸散させる。本発明の放射性医薬組成物を注射剤として調製する場合は、濃縮後の残渣に、注射用水や生理食塩水を加えて[18F]HIC101の放射能濃度を調整してもよい。その後、メンブレンフィルターで滅菌濾過を行うことにより、[18F]HIC101を注射剤として得ることができる。
上記の製造方法を用いることにより、[18F]HIC101を有効成分として含有し、トシル酸を実質的に含有しない、放射性医薬組成物を提供することができる。
・カラム:オクタデシルシリル化シリカゲル(内径4.6mm×長さ150mm,粒子径5μm)
・溶離液:50mmol/L炭酸アンモニウム水溶液/アセトニトリル=9/1
・流速:1mL/分
・検出器:紫外可視吸光光度計(波長220nm)
・トシル酸の保持時間:6〜7分
また、トシル酸は、和光純薬株式会社製のものを使用した。
実施例中、各化合物のNMRスペクトルによる分子構造は、NMRスペクトルは、NMR装置として、JNM−ECP−500(日本電子株式会社製)を使用して得た。共鳴周波数は、1H−NMRでは500MHz、19F−NMRでは470MHzとした。溶媒は重クロロホルム又は重水を用い、重クロロホルムの場合はテトラメチルシランのシグナルδ0.00を参照として使用した。全ての化学シフトはデルタスケール(δ)上のppmであり、そしてシグナルの微細***については、略号(s:シングレット、d:ダブレット、m:マルチプレット)を用いて示した。
HIC101は、図1に示すスキームに従い合成した。
化合物1(100mg,0.235mmol)をテトラヒドロフラン(3.5mL)に溶解し、テトラブチルアンモニウムフロリド・テトラフラン溶液(1.0mol/L溶液,0.24mL,0.24mmol)と、フッ化カリウム(17mg,0.293mmol)とを加え、加熱還流下で2時間撹拌した。反応終了後、溶媒を留去し、得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶離液:ヘキサン/酢酸エチル=2/1(v/v))にて精製を行い化合物2(57mg,収率89%)を得た。
ステップ1−1で得た化合物2(57mg,0.209mmol)をメタノール(2mL)に溶解し、1mol/L塩酸(2mL)を加え、80℃で2時間加熱した。反応終了後、反応液を室温(25℃)まで冷却した後、溶媒を留去し、得られた粗生成物を酢酸エチルで洗浄することでHIC101(44mg,収率90%)を得た。
HIC101は、図2に示すスキームに従い合成した。
化合物3(50mg,0.184mmol)をメタノール(2mL)に溶解し、1mol/L塩酸(2mL)を加え、80℃で2時間加熱した。反応終了後、反応液を室温(25℃)まで冷却した後、溶媒を留去し、得られた粗生成物を酢酸エチルで洗浄することでOH体(56mg,定量)を得た。
OH体の1H−NMR(溶媒:重水):δ 7.50(d,J=1.4Hz,1H),7.20(d,J=1.4Hz,1H),4.76(s,2H),3.59(s,6H)。
製造例1で合成したHIC101、製造例2で合成したOH体、及びトシル酸を用い、以下の条件で、HPLCによる精製条件を検討した。
カラム:XBrigdeC18(内径3.0mm×長さ50mm,2.5μm)
カラム温度:25℃付近の一定温度(室温)
溶離液:水/エタノール混液。体積比は表1に示す。
流速: 3mL/分
検出波長:220nm、325nm
注入量:100μg/mL
HPLC装置:e2695型(セパレーションモジュール,ウォーターズ社製),2489型(UV検出器,ウォーターズ社製)
なお、比較のため、特許文献1の実施例9に示す精製条件の結果も併せて示した。
炭酸カリウム水溶液(7mg/mL、0.3mL)及びクリプトフィックス222(商品名、メルク社製)のアセトニトリル溶液(20mg/mL,0.7mL)を混合した。これをアルゴンガスの通気下110℃7.5分加熱して水を蒸発させた後、アセトニトリル(0.5mL×2)を加えて共沸、乾固した。ここに標識前駆体化合物(5mg,11.4μmol)を溶解したアセトニトリル溶液(0.3mL)を加え、110℃で10分加熱した。反応終了後、1mol/L塩酸(0.6mL)を加え、85℃で3分間加熱した。反応終了後、1mol/L酢酸ナトリウム水溶液(0.6mL)を加えた後、製造例1で合成したHIC101(1mg)を加え、実施例1のNo.2の条件下でHPLCを実行した。
サイクロトロン(製品名HM‐18,住友重機械社製,照射条件25μA,20分)から取り出した[18F]フッ化物イオン含有[18O]水を、陰イオン交換カラム(Sep―Pak(登録商標) Accell Plus QMA Plus Light(商品名),日本ウォーターズ株式会社製)を炭酸カリウム水溶液で前処理したものに通液し、[18F]フッ化物イオンを吸着捕集した。次いで、該カラムに炭酸カリウム水溶液(7mg/mL、0.2mL)及びクリプトフィックス222(商品名、メルク社製)のアセトニトリル溶液(20mg/mL,0.7mL)を通液して、[18F]フッ化物イオンを溶出した。これを窒素の通気下120℃1分、140℃1分×3加熱して水を蒸発させた後、アセトニトリル(0.3mL×2)を加えて共沸、乾固した。ここに標識前駆体化合物(5mg,11.4μmol)を溶解したアセトニトリル溶液(0.9mL)を加え、110℃で10分加熱した。85℃で1分加熱して濃縮した後、1mol/L塩酸(0.6mL)加え、85℃で1分間加熱した。反応終了後、1mol/L酢酸ナトリウム水溶液(1.5mL)を加えた後、95℃で1分間加熱した。得られた残渣を用い、実施例1のNo.2の条件下(ただし、カラムは、XBrigdeC18のサイズが内径10mm×長さ250mm,粒子径が5μmのものを使用し、検出は、UV220nm、及び、放射線検出器(OKEN社製)を用いた。)でHPLC精製を行い、図4に示す保持時間11分のピークを[18F]HIC101画分として分取した。当該画分にアスコルビン酸水溶液(製品名ビタシミン注射液500mg(武田薬品社製、以下、「ビタシミン注射液」と省略することもある。)、0.4mL、アスコルビン酸100mg相当)を加えた後、濃縮し、残渣を生理食塩水で希釈して、[18F]HIC101製剤を放射能量2.05GBq,放射能濃度268MBq/mL,製造時間65分で得た。
・カラム:XBrigdeC18(内径10mm×長さ250mm,2.5μm)
・溶離液:50mmol/L炭酸アンモニウム水溶液/アセトニトリル=9/1
・流速:0.5mL/分
・検出器:紫外可視吸光光度計(波長220nm,製品名SPD-10ATvp,島津製作所社製),放射線検出器(製品名RLC−700,アロカ社製)
実施例3と同様な方法で、[18F]フッ素化反応及び脱保護反応を行った。反応終了後、1mol/L酢酸ナトリウム水溶液(1.5mL)を加えた後、95℃で1分間加熱した。得られた残渣を用い、実施例1のNo.4の条件下(ただし、カラムは、XBrigdeC18のサイズが内径10mm×長さ250mm,粒子径が5μmのものを使用し、検出は、UV325nm、及び、放射線検出器(製品名RLC−700,アロカ社製)で行った。)でHPLC精製を行い、図6に示す保持時間25分の[18F]HIC101画分を分取した。次いで、陰イオン交換カラム(Sep―Pak(登録商標) Accell Plus QMA Plus Light(商品名),日本ウォーターズ株式会社製)を炭酸カリウム水溶液で前処理したものに通液し、溶出液にアスコルビン酸水溶液(ビタシミン注射液500mg(武田薬品社製)、0.4mL、アスコルビン酸100mg相当)を加えた後、濃縮し、残渣を生理食塩水で希釈して、[18F]HIC101製剤を放射能量3.70GBq,放射能濃度334.8MBq/mL,製造時間70分で得た。
実施例3と同様に製造した[18F]HIC101製剤(ロットA)、アスコルビン酸水溶液に代えてマンニトール水溶液(製品名マンニットT注15%(テルモ社製))を用いる以外は実施例3と同様にして製造した[18F]HIC101製剤(ロットB)、アスコルビン酸水溶液を添加しない以外は実施例3と同様にして製造した[18F]HIC101製剤(ロットC)をそれぞれ用意した。そして、実施例3と同様なHPLC条件で、製造直後及び製造2時間後の放射化学的純度を分析した。結果を表2に示す。
Claims (6)
- 下記一般式(1)で表される放射性フッ素標識化合物又はその塩を有効成分として含有する放射性医薬組成物の製造方法であって、
下記式(2)で表される標識前駆体化合物から前記放射性フッ素標識化合物の粗生成物を得る合成工程と、
前記放射性フッ素標識化合物を精製する精製工程と、
を含み、
前記精製工程において、オクタデシルシリル化シリカゲルを固定相とし、水とエタノールとの混液を溶離液として用いたクロマトグラフィーにより、前記放射性フッ素標識化合物とトシル酸との分離を実行する、放射性医薬組成物の製造方法。
- 前記溶離液中の前記エタノールの含有率が8体積%以下である、請求項1に記載の放射性医薬組成物の製造方法。
- 前記溶離液中の前記エタノールの含有率が3〜5体積%である、請求項1又は2に記載の放射性医薬組成物の製造方法。
- 前記精製工程は、前記クロマトグラフィーの実行後に前記放射性フッ素標識化合物の溶液を陰イオン交換樹脂に通液する二次精製工程を含む、請求項1乃至3いずれか一項に記載の放射性医薬組成物の製造方法。
- 前記放射性フッ素標識化合物と、アスコルビン酸又はマンニトールとを混合する安定化工程を更に含む、請求項1乃至4いずれか一項に記載の放射性医薬組成物の製造方法。
- 前記安定化工程は、前記精製工程の後に実行する、請求項5に記載の放射性医薬組成物の製造方法。
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