JP6219320B2 - ウェーハなどのターゲットを処理するためのリソグラフィシステム及び方法 - Google Patents
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Description
出願当初の特許請求の範囲に記載された発明を以下に付記する。
[1]チャック(13)上のターゲット(23)を処理するためのターゲット処理システムを動作させる方法であって、前記チャック(13)上に少なくとも第1のチャック位置マーク(27)と第2のチャック位置マーク(28)とを与えることと、前記第1及び第2のチャック位置マーク(27,28)を検出するために配置され、少なくとも第1のアライメントセンサ(61)と第2のアライメントセンサ(62)とを有するアライメント感知システム(17)を与えることと、前記アライメント感知システム(17)の少なくとも1回の測定に基づいて前記チャック(13)を第1の位置に移動させることと、前記チャックの前記第1の位置と関連付けられた少なくとも1つの値を測定することとを具備する方法。
[2]前記第2のチャック位置マーク(28)に対する前記第1のチャック位置マーク(27)の相対位置は、前記第2のアライメントセンサ(62)に対する前記第1のアライメントセンサ(61)の相対位置とほぼ同じである[1]の方法。
[3]前記アライメント感知システム(17)は、ほぼ水平方向(x,y方向)で前記チャック位置マークを測定するために配置される[1]又は[2]の方法。
[4]前記ターゲット(23)上にパターニングビーム(18)を投影するために配置される最終投影システム(11)を与えることをさらに具備し、前記第1のアライメントセンサ(61)は、第1の方向(y軸)に前記最終投影システム(11)から間隔を空けて配置され、前記第2のアライメントセンサ(62)は、第2の方向(x軸)に前記最終投影システム(11)から間隔を空けて配置される[1]ないし[3]のいずれか1の方法。
[5]前記ターゲット上にビームグリッド(60)を形成するために、前記ターゲット上にパターニングビーム(18)を投影することをさらに具備し、前記第1のアライメントセンサ(61)は、前記第1の方向(y軸)で前記ビームグリッド(60)から間隔を空けた位置マークを検出するために配置され、前記第2のアライメントセンサ(62)は、前記第2の方向(x軸)で前記ビームグリッド(60)から間隔を空けた位置マーク(77)を検出するために配置される[1]ないし[4]のいずれか1の方法。
[6]前記ターゲット上にビームグリッド(60)を形成するために、前記ターゲット上にパターニングビーム(18)を投影することをさらに具備し、前記アライメント感知システム(17)は、前記ビームグリッド(60)から間隔を空けた位置マークを検出するために配置される1以上のアライメントセンサ(61,62)を有し、この方法は、前記1以上のアライメントセンサと前記ビームグリッド(60)との空間的関係を決定することをさらに具備する[1]ないし[5]のいずれか1の方法。
[7]前記アライメント感知システム(17)は、前記ターゲットと前記チャックとの少なくとも一方の表面上の位置マークを検出するための少なくとも1つのアライメントセンサを有し、前記アライメントセンサは、アライメント光ビームを与えるために配置される光源と、前記表面による前記アライメント光ビームの反射によって発生された反射アライメント光ビームの光強度を決定するために配置される光強度検出器と、前記表面上に前記アライメント光ビームを合焦させるために、及び、前記反射アライメント光ビームを前記光強度検出器にガイドするために配置される光学系とを有する[1]ないし[6]のいずれか1の方法。
[8]前記チャックの前記第1の位置と関連付けられた少なくとも1つの値を測定することは、前記チャック位置マーク(27,28)を前記アライメントセンサ(61,62)とアライメントするために前記チャック(13)を移動させることと、前記チャック(13)の現在位置と関連付けられた少なくとも1つの値を測定することとを含む[1]ないし[7]のいずれか1の方法。
[9]前記チャック位置マーク(27,28)を前記アライメントセンサ(61,62)とアライメントすることは、前記第1のチャック位置マーク(27)を前記第1のアライメントセンサ(61)とアライメントすることと、前記第2のチャック位置マーク(28)を前記第2のアライメントセンサ(62)とアライメントすることとを含む[8]の方法。
[10]前記チャック位置マーク(27,28)を前記アライメントセンサ(61,62)とアライメントすることは、第1のアライメントセンサと第1のチャック位置マークとを、及び第2のアライメントセンサと第2のチャック位置マークとをアライメントするための最小二乗法を実行することを含む[9]の方法。
[11]前記チャック位置マーク(27,28)を前記アライメントセンサ(61,62)とアライメントするために前記チャック(13)を移動させることは、前記アライメントを達成するために、必要に応じて、2つの水平軸(x,y軸)に前記チャックを移動させることと、垂直軸(Rz方向)のまわりに前記チャックを回転させることとを含む[9]又は[10]の方法。
[12]少なくとも2つの干渉計(15)を有するチャック位置測定システムを与えることをさらに具備し、前記チャックの前記第1の位置と関連付けられた少なくとも1つの値を測定することは、前記干渉計の出力を測定することを含む[1]ないし[11]のいずれか1の方法。
[13]前記第1の位置に位置された前記チャック(13)に対して前記干渉計(15)を初期化することをさらに具備する[12]の方法。
[14]複数のレベルセンサ(57,58,59)を有するレベル感知システム(19)を与えることと、前記チャック(13)上に基準面(26)を与えて、前記レベルセンサに対して前記基準面(26)の向きと関連付けられた少なくとも1つの値を測定することとをさらに具備する[1]ないし[13]のいずれか1の方法。
[15]前記ビームグリッド(60)の向きに関連付けて少なくとも1つの値を測定する前に、前記レベルセンサ(57,58,59)の前記基準面(26)をレベルセンサ平面とアライメントするために前記チャック(13)を移動させることをさらに具備する[14]の方法。
[16]前記基準面(26)を前記レベルセンサ(57,58,59)のレベルセンサ平面とアライメントするために前記チャック(13)を移動させることは、前記第1のレベルセンサ(57)から前記基準面(26)までの距離を測定して、前記第2のレベルセンサ(58)から前記基準面(26)までの距離を測定することと、前記基準面(26)が前記レベルセンサ平面と一致するように、必要に応じて前記チャックを移動させることとを具備する[15]の方法。
[17]前記レベル感知システム(19)は、少なくとも、第1の方向(y軸)に前記最終投影システム(11)から間隔を空けて配置される第1のレベルセンサ(57)と、第2の方向(x軸)に前記最終投影システム(11)から間隔を空けて配置される第2のレベルセンサ(58)とを有する[14]ないし[16]のいずれか1の方法。
[18]前記アライメントセンサの少なくとも1つは、第1の点で前記表面(12)上の位置マークを検出するために配置され、前記レベルセンサの少なくとも1つは、前記第1の点で、又は前記第1の点の近くで、前記表面(12)への距離を測定するために配置される[14]ないし[17]のいずれか1の方法。
[19]前記アライメント感知システム(17)に対して前記チャック(13)に直接又は間接的に載置されたターゲットに対する公称ターゲット中心位置を測定することをさらに具備する[1]ないし[18]のいずれか1の方法。
[20]前記チャックの前記第1の位置と関連付けられた測定値に少なくとも部分的に基づいて第2の位置に前記チャック(13)を移動させることと、前記チャックの前記第2の位置と関連付けられた少なくとも1つの値を測定することとをさらに具備する[1]ないし[19]のいずれか1の方法。
[21]中心位置にターゲット位置マーク(81)を有する基準ターゲット(80)を与えることと、前記中心位置を前記アライメントセンサ(61,62)の少なくとも1つとアライメントするために前記チャック(13)を移動させることと、前記チャック(13)の現在位置を測定することとを具備する[1]ないし[20]のいずれか1の方法。
[22]前記アライメントセンサ(61,62)の各々に対して前記基準ターゲットの前記中心位置の相対位置を決定することをさらに具備する[21]の方法。
[23]チャック(13)上のターゲット(23)を処理するためのターゲット処理システムであって、少なくとも第1のチャック位置マーク(27)と第2のチャック位置マーク(28)とを含む移動可能なチャック(13)と、前記第1及び第2のチャック位置マーク(27,28)を検出するために配置され、少なくとも第1のアライメントセンサ(61)と第2のアライメントセンサ(62)とを有するアライメント感知システム(17)と、前記アライメント感知システム(17)の少なくとも1回の測定に基づいて前記チャック(13)を第1の位置に移動させるために配置されたアクチュエータシステムと、前記チャック(13)の前記第1の位置と関連付けられた少なくとも1つの値を測定するために配置された測定システム(10)とを具備するシステム。
[24]前記第2のチャック位置マーク(28)に対する前記第1のチャック位置マーク(27)の相対位置は、前記第2のアライメントセンサ(62)に対する前記第1のアライメントセンサ(61)の相対位置とほぼ同じである[23]のシステム。
[25]前記アライメント感知システム(17)は、ほぼ水平方向(x,y方向)で前記チャック位置マークを測定するために配置されている[23]又は[24]のシステム。
[26]前記ターゲット(23)上にパターニングビーム(18)を投影するために配置された最終投影システム(11)をさらに具備し、前記第1のアライメントセンサ(61)は、第1の方向(y軸)に前記最終投影システム(11)から間隔を空けて配置され、前記第2のアライメントセンサ(62)は、第2の方向(x軸)に前記最終投影システム(11)から間隔を空けて配置されている[23]ないし[25]のいずれか1のシステム。
[27]前記ターゲット上にビームグリッド(60)を形成するために、前記ターゲット上にパターニングビーム(18)を投影するための最終投影システム(11)をさらに具備し、前記第1のアライメントセンサ(61)は、前記第1の方向(y軸)で前記ビームグリッド(60)から間隔を空けた位置マークを検出するために配置され、前記第2のアライメントセンサ(62)は、前記第2の方向(x軸)で前記ビームグリッド(60)から間隔を空けた位置マーク(77)を検出するために配置されている[23]ないし[26]のいずれか1のシステム。
[28]前記ターゲット上にビームグリッド(60)を形成するために、前記ターゲット上にパターニングビーム(18)を投影するための最終投影システム(11)をさらに具備し、前記アライメント感知システム(17)は、前記ビームグリッド(60)から間隔を空けた位置マークを検出するために配置された1以上のアライメントセンサ(61,62)を有し、このシステムは、前記1以上のアライメントセンサと前記ビームグリッド(60)との空間的関係を決定するための測定システム(10)をさらに具備する[23]ないし[27]のいずれか1のシステム。
[29]前記測定システム(10)は、ほぼ水平方向(x,y方向)で前記ビームグリッド(60)に対する前記アライメントセンサの位置を記述する各アライメントセンサに対するベクトルを決定することによって、前記1以上のアライメントセンサと前記ビームグリッド(60)との間の空間的関係を決定するために配置されている[28]のシステム。
[30]前記アライメント感知システム(17)は、前記ターゲットと前記チャックとの少なくとも一方の表面上の位置マークを検出するための少なくとも1つのアライメントセンサを有し、前記アライメントセンサは、アライメント光ビームを与えるために配置された光源と、前記表面による前記アライメント光ビームの反射によって発生された反射アライメント光ビームの光強度を決定するために配置された光強度検出器と、前記表面上に前記アライメント光ビームを合焦させるために、及び、前記反射アライメント光ビームを前記光強度検出器にガイドするために配置された光学系とを有する[23]ないし[29]のいずれか1のシステム。
[31]前記チャックの前記第1の位置と関連付けられた少なくとも1つの値を測定するために、前記アクチュエータシステムは、前記チャック位置マーク(27,28)を前記アライメントセンサ(61,62)とアライメントするために前記チャック(13)を移動させるために配置され、前記測定システム(10)は、前記チャック(13)の現在位置と関連付けられた少なくとも1つの値を測定するために配置されている[23]ないし[30]のいずれか1のシステム。
[32]前記チャック位置マーク(27,28)を前記アライメントセンサ(61,62)とアライメントするために前記チャック(13)を移動させるために、前記アクチュエータシステムは、アライメントを達成するために、必要に応じて、2つの水平軸(x,y軸)に前記チャックを移動させるために、及び垂直軸(Rz方向)のまわりに前記チャックを回転させるために配置されている[31]のシステム。
[33]前記チャック位置マーク(27,28)を前記アライメントセンサ(61,62)とアライメントするために、前記測定システム(10)は、第1のアライメントセンサと第1のチャック位置を、及び第2のアライメントセンサと第2のチャック位置マークをアライメントするための最小二乗法を実行するために配置されている[32]のシステム。
[34]少なくとも2つの干渉計(15)を有するチャック位置測定システムをさらに具備し、前記チャックの前記第1の位置と関連付けられた少なくとも1つの値を測定することは、前記干渉計の出力を測定することを含む[23]ないし[33]のいずれか1のシステム。
[35]複数のレベルセンサ(57,58,59)を有するレベル感知システム(19)と、前記チャック(13)上の基準面(26)とを具備し、前記レベルセンサに対して前記基準面(26)の向きと関連付けられた少なくとも1つの値を測定する[23]ないし[34]のいずれか1のシステム。
Claims (13)
- チャック(13)上のターゲット(23)を処理するためのターゲット処理システムを動作させる方法であって、該方法は、
前記チャック(13)上に少なくとも第1のチャック位置マーク(27)と第2のチャック位置マーク(28)とを与えることと、
それぞれ、前記第1及び第2のチャック位置マーク(27,28)を検出するために配置された少なくとも第1のアライメントセンサ(61)と第2のアライメントセンサ(62)とを有するアライメント感知システム(17)を与えることと、
前記ターゲット処理システムの最終投影システムに対する前記チャックの位置を測定するように配置された少なくとも2つの微分干渉計を有するチャック位置測定システムを与えることと、
複数のレベルセンサ(57,58,59)を有するレベル感知システム(19)を与え、前記チャック(13)上に基準面(26)を与えることと、
前記アライメント感知システム(17)の少なくとも1回の測定に基づいて前記チャック(13)を第1の位置に移動させることと、ここで、前記チャックの移動は、前記第1及び第2のチャック位置マークを前記第1及び第2のアライメントセンサとアライメントさせるために前記チャック(13)を移動させること、及び前記第1及び第2のアライメントセンサにより前記第1及び第2のチャック位置マークを読み取ることを含み、
前記複数のレベルセンサに対して前記基準面(26)の向きと関連付けられた少なくとも1つの値を測定すること、及び前記第1の位置において、前記第1及び第2のチャック位置マークが前記第1及び第2のアライメントセンサとアライメントされ、前記基準面がレベルセンサ平面とアライメントされるように、前記基準面を前記複数のレベルセンサの前記レベルセンサ平面とアライメントさせるために前記チャックを移動させることと、
前記チャックの前記第1の位置と関連付けられた少なくとも1つの値を測定することと、ここで、前記測定は、前記複数の微分干渉計の各々の出力を測定することを含み、
前記チャックの前記第1の位置に関連付けられた前記少なくとも1つの値の測定に基づいて、前記第1の位置に位置された前記チャック(13)に対して前記少なくとも2つの微分干渉計(15)を初期化することと、を具備する方法。 - 前記第2のチャック位置マーク(28)に対する前記第1のチャック位置マーク(27)の相対位置は、前記第2のアライメントセンサ(62)に対する前記第1のアライメントセンサ(61)の相対位置とほぼ同じである請求項1の方法。
- 前記ターゲット(23)上にパターニングビーム(18)を投影するために配置される最終投影システム(11)を与えることをさらに具備し、
前記第1のアライメントセンサ(61)は、第1の方向(y軸)に前記最終投影システム(11)から間隔を空けて配置され、前記第2のアライメントセンサ(62)は、第2の方向(x軸)に前記最終投影システム(11)から間隔を空けて配置される請求項1又は2の方法。 - 前記ターゲット上にビームグリッド(60)を形成するために、前記ターゲット上にパターニングビーム(18)を投影することをさらに具備し、
前記第1のアライメントセンサ(61)は、第1の方向(y軸)で前記ビームグリッド(60)から間隔を空けた位置マークを検出するために配置され、前記第2のアライメントセンサ(62)は、第2の方向(x軸)で前記ビームグリッド(60)から間隔を空けた位置マーク(77)を検出するために配置される請求項1ないし3のいずれか1の方法。 - 前記第1及び第2のチャック位置マーク(27,28)を前記第1及び第2のアライメントセンサ(61,62)とアライメントするために前記チャック(13)を移動させることは、2つの水平軸(x,y軸)に前記チャックを移動させることと、垂直軸(Rz方向)のまわりに前記チャックを回転させることとを含む、請求項1ないし4のいずれか1項に記載の方法。
- 前記ビームグリッド(60)の向きに関連付けて少なくとも1つの値を測定する前に、前記複数のレベルセンサ(57,58,59)の前記基準面(26)をレベルセンサ平面とアライメントするために前記チャック(13)を移動させることをさらに具備する、請求項4に記載の方法。
- 前記レベル感知システム(19)は、少なくとも、第1の方向(y軸)に前記最終投影システム(11)から間隔を空けて配置される第1のレベルセンサ(57)と、第2の方向(x軸)に前記最終投影システム(11)から間隔を空けて配置される第2のレベルセンサ(58)と、前記最終投影システムの底面に配置されたレベルセンサ(59)との1つ又は両方を有する、請求項3、又は請求項3に従属する請求項4ないし6のいずれか1項に記載の方法。
- チャック(13)上のターゲット(23)を処理するためのターゲット処理システムであって、
前記ターゲット(23)上にパターニングビーム(18)を投影するために配置された最終投影システム(11)と、
前記チャックの表面に設けられた少なくとも第1のチャック位置マーク(27)及び第2のチャック位置マーク(28)を含む移動可能なチャック(13)と、
それぞれ、前記第1及び第2のチャック位置マーク(27,28)を検出するために配置された少なくとも第1のアライメントセンサ(61)と第2のアライメントセンサ(62)とを有するアライメント感知システム(17)と、
前記チャック(13)を移動させるために配置されたアクチュエータシステムと、
前記最終投影システム(11)の底面に配置された複数のレベルセンサを有するレベル感知システム(19)と、
前記チャック上に設けられた基準面(26)と、ここで、前記レベル感知システム(19)は、前記複数のレベルセンサに対する前記基準面の距離、及び/又は向きに関連した少なくとも1つの値を測定するために配置されており、
前記チャック(13)の位置を測定するために配置されたチャック位置測定システム(10)とを具備し、
前記チャック位置測定システムは、前記最終投影システムに対する前記チャックの位置を測定するために配置された少なくとも2つの微分干渉計(15)を有するターゲット処理システム。 - 前記第2のチャック位置マーク(28)に対する前記第1のチャック位置マーク(27)の相対位置は、前記第2のアライメントセンサ(62)に対する前記第1のアライメントセンサ(61)の相対位置とほぼ同じである、請求項8に記載のターゲット処理システム。
- 前記第1のアライメントセンサ(61)は、第1の方向(y軸)に前記最終投影システム(11)から間隔を空けて配置され、前記第2のアライメントセンサ(62)は、第2の方向(x軸)に前記最終投影システム(11)から間隔を空けて配置されている、請求項8又は9に記載のターゲット処理システム。
- 前記チャックの第1の位置と関連付けられた少なくとも1つの値を測定するために、前記アクチュエータシステムは、前記第1及び第2のチャック位置マーク(27,28)を、それぞれ、前記第1及び第2のアライメントセンサ(61,62)とアライメントさせるべく前記チャック(13)を移動させるために、及び前記基準面がレベルセンサ平面と一致するように前記チャックを移動させるために配置されており、前記チャック位置測定システム(10)は、前記チャック(13)の前記第1の位置と関連付けられた少なくとも1つの値を測定するために配置されている、請求項8ないし10のいずれか1項に記載のターゲット処理システム。
- 前記チャック(13)が、前記チャックの第1の位置に関連付けた前記少なくとも1つの値に基づいて第1の位置に位置されているときに、前記少なくとも2つの微分干渉計(15)を初期化するように構成されている、請求項11に記載のターゲット処理システム。
- 前記レベル感知システム(19)は、少なくとも、第1の方向(y軸)に前記最終投影システム(11)から間隔を空けて配置される第1のレベルセンサ(57)と、第2の方向(x軸)に前記最終投影システム(11)から間隔を空けて配置される第2のレベルセンサ(58)とをさらに有する、請求項8ないし12のいずれか1項に記載のターゲット処理システム。
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