JP6217044B2 - 皮膚レーザー治療用装置及び方法 - Google Patents
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Description
少なくとも1つのレーザーエネルギー源;
レーザービームを生成する時刻制御装置;
前記表皮部位にレーザービームを向けるよう指示され且つ配置されたレーザーエネルギー集束システム;を備え、
そこで、前記制御装置は、基礎周波数で放射された複数の合成パルスを備え、各合成パルスが前記基礎周波数より高い周波数の一連のサブパルスを備えるレーザービームを生成する。
特に、合成パルスは、連続的なプレパルス放射の第一の間隔及び第二の一連のサブパルスの放射期間を備え、前記一連のサブパルスは少なくとも一つのサブパルスを備えている。
‐パルス・レーザービームを生成する少なくとも1つのレーザーエネルギー源と、
‐前記表皮部位にレーザービームを向けるよう指示され且つ配置されたレーザーエネルギー集束システムと、
‐高周波電流を適用するための少なくとも1つの電極を備えた高周波電流源と、
‐適時協調的なやり方で前記レーザービーム及び前記高周波電流を放射するようレーザーエネルギー源及び高周波電流源を制御する少なくとも1台の制御装置と、を備えている。
以下、典型的な実施形態の詳細な記述は添付の図面を参照する。異なる図面における同様の符号番号は同一か或いは類似の要素を識別するものである。さらに、図面は必ずしも同一寸法ではない。また、以下の詳細な記述は発明を制限するものではない。さらに正確に言えば、発明の範囲は添付の特許請求の範囲によって定義されている。説明全体で「1つの実施形態」或いは「その実施形態」或いは「幾つかの実施形態」を参照して、実施形態に関して記述された特別の特徴、構造或いは要素は、記述された発明の要旨の少なくとも1つの実施形態を包含するということを意味する。従って、説明全体にわたる様々な地点で「1つの実施形態において」或いは「その実施形態において」或いは「幾つかの実施形態において」は必ずしも同一の実施形態或いは複数の実施形態を参照するものではない。また、特別の特徴、構造或いは要素は1つ以上の実施形態中の任意の適切な方法で組み合わせることができる。
レーザー光線のパルスの特別な形状つまりパルス・レーザー光線の特別な経時的傾向が発見され、それは本発明の重要な要素であり、先行技術によるシステムと比較して、組織上に得られる生物学的作用を非常に大きくする。またある場合に、本発明によって形作られたレーザーパルスが高周波電流との組み合わせで相乗効果を持っていることが発見されている。以下に説明されるように、本発明によるパルスの形状は特に皮膚組織を若返らせて引き締める治療でより効率的な治療及びより速い治癒を可能にする。
一層特に、合成パルスは、連続的なプレパルス放射(プレパルスPi)の第一の間隔及び第二の後続のサブパルスの放射期間を備え、前記後続のサブパルスはレーザー持続時間SiのサブパルスSiのトレインを備えている。
図6及び7を参照して説明すると、レーザー源によって生成された光学放射は、少なくとも1つの電極を介して高周波電流の適用と組み合わせることができる。好ましくは、電極はレーザー・エミッタが配置されるのと同じハンドピースに一体型である。例えばレーザービームの入射ゾーンに位置し治療されようとする組織ゾーンに集中電流を得るために、治療が施される患者の四肢に関わって置かれる電極として第一の電極から距離を置いて適用され電気回路を閉じるための第二の電極が設けられているけれども、2つの電極がそれぞれ近接して置かれて使用するのが望ましく、好ましくはレーザー・エミッタを担持する同じハンドピースに両方担持される。幾つかの実施形態では、図6で示されるように、電極はレーザー源によって照射されたゾーンに隣接する。
上記された新しいレーザーパルスの形状の影響を評価するために、先行技術におけるそれらの多数の改良の態様を強調するために別々に或いは高周波電流の適用との組み合わせで多数の臨床研究が行なわれてきた。
そこで:
δはmで表現された標準透過度
π=3.14
FはHzで周波数
μはメーター当たりヘンリーで表される透磁率
σはメーター当たりシーメンスで表される電気伝導率
BV:血管
WS:湿った皮膚
F :脂肪組織
DS:乾燥皮膚
平均パルス・パワ‐:30W
ピーク電力:250W
40のサブパルスSiが続く60マイクロセカンドのプレパルスPiを備えたDパルス;40のサブパルスを備えたSパルス
スタック1(1合成パルス)
休止時間1ms
パルス当りのエネルギー0.75mJ
高周波エネルギー:500kHzで3秒間30W。
SP:SPパルス単独レーザー
DP:DPパルス単独レーザー
SP+RF:高周波電流との組み合わせによるSPパルス・レーザー
DP+RF:高周波電流との組み合わせによるDPパルス・レーザー
図8及び図9:縦軸がピーク電力/横軸が滞留時間
図11(A)(B)及び図12(A)(B):パルスS/真皮乳頭層/真皮網状層
図12(C):レーザーアブレーション腔/プラズマアブレーション腔/表皮/充血血管/プラズマ熱波/レーザー熱波
図13:伝導性/周波数
図14:時間
図15:収縮
図16:日数
図17:プラズマ形成
図18:デルタは非常に高いため真皮中電流密度は非常に低い/表皮伝導性/真皮伝導性/プラズマ&気体/レーザーパルス/気体/滲出物及びプラグ/乏血/充血
3 基礎
5 レーザー源
7 波導管
9;13;109 ハンドピース
21 走査ミラー
23 アクチュエータ
25 オプティク
110 高周波発生器
113 電極
114 ケース
115 光導管
117 押しボタン
118 接触
116 スポンジ
120 バネ
E 表皮部分
F 地点
T 期間
Pi ハイパー・エネルギー・プレパルス
Si ハイポ・エネルギー・サブパルス
Claims (22)
- 表皮部位を治療するためのシステムであって、
‐少なくとも1つのレーザーエネルギー源;
‐レーザービームを生成する時間制御装置;
‐前記表皮部位にレーザービームを向けるようにされ且つ配置されたレーザーエネルギー集束システム;
を有し、
前記制御装置が、基礎周波数(1/T)で放射された複数の合成パルス(DP)から成るレーザービームを発生し、
各合成パルス(DP)が、前記基礎周波数(1/T)より高い周波数の一連のサブパルス(Si)を備え、
各合成パルス(DP)が、連続的なプレパルス放射の第一の間隔を備え、
この第一の間隔中に、連続したプレパルス(Pi)が発生され、
この連続したプレパルス(Pi)の後に、一連のサブパルスの放射期間が続き、
前記一連のサブパルスの放射期間中に、前記一連のサブパルス(Si)が放射され、
前記一連のサブパルス(Si)が、連続したプレパルス(Pi)の後に続くサブパルス(Si)のトレインから成り、
前記連続したプレパルス放射の第一の間隔の持続時間が前記後に続くサブパルス(Si)の各々より長いこと
を特徴とする表皮部位の治療システム。 - 前記基礎周波数が1〜1000Hzの間で構成されることを特徴とする請求項1に記載のシステム。
- 前記合成パルスが、前記サブパルスより高い単位表面当りのエネルギーをもつプレパルスを有することを特徴とする請求項1又は請求項2に記載のシステム。
- 前記プレパルスのピーク電力が後続するサブパルスのピーク電力より高いことを特徴とする請求項1又は請求項2又は請求項3に記載のシステム。
- レーザーエネルギー集束システムが、パターンに従って分配された表皮の連続するボリュームを治療するよう配置され且つ制御され、治療された各ボリュームの中心部が前記ボリュームを治療するために使用されたレーザービームの軸線上に本質的に位置決めされ、前記連続するボリュームを治療するために使用されるレーザービームの軸線が分配されることを特徴とする請求項1〜4の何れか一項に記載のシステム。
- 前記集束システムが、それぞれ50マイクロメートルから1000マイクロメートル、好ましくは90から550マイクロメートルまで一定間隔で配置されたピッチに従って1つ以上のレーザービームを向けるようにされ且つ配置されていることを特徴とする請求項5に記載のシステム。
- 高周波電流を印加するための高周波電流源及び少なくとも1つの電極を備えることを特徴とする請求項1〜6の何れか一項に記載のシステム。
- 高周波電流を印加するための2つの電極を備えることを特徴とする請求項7に記載のシステム。
- 前記高周波電流源及び前記レーザー源が、前記レーザービームの印加に合わせて前記高周波電流源によって発生した高周波電流を印加するように制御されることを特徴とする請求項7又は請求項8に記載のシステム。
- 前記高周波電流源及び前記レーザー源が、前記レーザービームの印加と少なくとも部分的に同時に及び/又は連続して高周波電流を印加するように制御されることを特徴とする請求項9に記載のシステム。
- 前記高周波電流源が、前記レーザービームの印加と組合わさって前記表皮部位に1〜10秒の間、好ましくは2〜5秒の間高周波電流を印加するように制御されることを特徴とする請求項7〜請求項10の何れか一項に記載のシステム。
- 前記高周波電流源が、好ましくは50から1000kHzの間、好ましくは100から700kHzの間、さらに好ましくは400から600kHzの間、より好ましくは450から550kHzの間の周波数で電流を生成することを特徴とする請求項7〜請求項11の何れか一項に記載のシステム。
- 前記高周波電流源が、5から100Wの間、好ましくは10から50Wの間で構成される電力を印加することを特徴とする請求項7〜請求項12の何れか一項に記載のシステム。
- 前記高周波電流源が、レーザー放射の開始から0.1から1.5秒の時間遅延で放射を開始するように制御されることを特徴とする請求項7〜請求項13の何れか一項に記載のシステム。
- 前記少なくとも1つの電極が治療されようとする組織と電極との間で放電の形成を減らす或いは阻止する手段を備えることを特徴とする請求項7〜請求項14の何れか一項に記載のシステム。
- 前記レーザーエネルギー源が、532から13,000nmの間の波長を構成することを特徴とする請求項1〜請求項15の何れか一項に記載のシステム。
- 前記レーザーエネルギー源が、10,600nmで放射するCO2レーザーであることを特徴とする請求項16に記載のシステム。
- 互いに離間して配置され、治療されようとする表皮の一部の多地点に前記レーザービームを向ける走査装置を備えることを特徴とする請求項1〜請求項16の何れか一項に記載のシステム。
- 前記少なくとも1つのエネルギー源からアプリケータ・ハンドピースに向けてレーザーエネルギーを伝達するために導光路を備えることを特徴とする請求項1〜請求項18の何れか一項に記載のシステム。
- 前記走査装置が、前記アプリケータ・ハンドピースに収容されることを特徴とする請求項18と請求項19に記載のシステム。
- 高周波電流を印加する前記少なくとも1つの電極が、前記ハンドピースに担持されることを特徴とする少なくとも請求項7と請求項19に記載のシステム。
- 前記ハンドピースが、高周波電流を印加する前記2つの電極を担持することを特徴とする少なくとも請求項8と請求項19に記載のシステム。
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