JP6214910B2 - エポキシ樹脂、これを含むエポキシ樹脂組成物及びこれを利用した放熱回路基板 - Google Patents

エポキシ樹脂、これを含むエポキシ樹脂組成物及びこれを利用した放熱回路基板 Download PDF

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Description

本発明は、エポキシ樹脂に関し、より詳しくは、エポキシ樹脂、これを含むエポキシ樹脂組成物及びこれを絶縁層で使用する放熱回路基板に関する。
回路基板(Circuit Board)は、絶縁層上に形成された回路パターンを含み、回路基板上には多様な電子部品が搭載できる。
回路基板上に搭載される電子部品は、例えば、発熱素子である。発熱素子が放出する熱は回路基板の性能を落とす。電子部品の高集積化及び高容量化によって、回路基板の放熱問題に対する関心が一層大きくなっている。
電気絶縁性であると共に優秀な熱伝導性を有する絶縁層を得るために、ビスフェノールA型またはビスフェノールF型などのエポキシ樹脂を含むエポキシ樹脂組成物が使われている。
しかし、このようなエポキシ樹脂組成物は、要求される水準の熱伝導性を満足させることができない問題がある。そして、ビスフェノールA型またはビスフェノールF型のエポキシ樹脂は、粘度が低くて硬化性、機械的強度、靭性などが不足であり、常温で液状なので取り扱いの困る問題がある。
大韓民国特許公開第2010-0008771号公報
したがって、前記のような従来の諸問題点を解消するために提案されたものであって、本発明の目的は、結晶性が高いエポキシ樹脂、これを含むエポキシ樹脂組成物及びこれを利用した放熱回路基板を提供することにある。
本発明の実施例によるエポキシ樹脂は、下記化学式1のようである。
Figure 0006214910
ここで、nは、1乃至3であり、mは、1乃至3であり、Rは、1個乃至3個のアリール基であり、Rは、1個乃至3個のアリール基であり、R、R、R、R、R及びRは、独立的に水素または炭素数が1個乃至30個であるアルキル基、ハロゲン、アリール基、アルコキシ基、アミノ基、ヘテロアリール基及びカルボキシル基で構成されたグループから選択される。
本発明の実施例によるエポキシ樹脂組成物は、エポキシ樹脂、硬化剤及び無機充填材を含み、前記エポキシ樹脂は、前記化学式1のエポキシ樹脂を含む。
本発明の実施例による放熱回路基板は、金属プレートと、前記金属プレート上に形成される絶縁層と、前記絶縁層上に形成される回路パターンと、を含み、前記絶縁層は、前記エポキシ樹脂組成物を硬化して形成される。
本発明の実施例によれば、結晶性を高めるメゾゲン構造を含むエポキシ樹脂を得ることができる。また、このようなエポキシ樹脂を含むエポキシ樹脂組成物を得ることができる。これを利用して熱伝導性が高い絶縁層を得ることができ、回路基板の放熱性能を高めることができる。
このようなエポキシ樹脂組成物は、低吸水性、低熱膨脹性及び高耐熱性が優れるので、多様な電子部品の絶縁材としても適用できる。
図1は、本発明の実施例による放熱回路基板の断面図である。
以下、添付した図面を参照して本発明の実施例について本発明が属する技術分野において通常の知識を有した者が容易に実施できるように詳しく説明する。しかし、発明は多様な形態で具現することができ、ここで説明する実施例に限定されないものではない。
明細書全体において、ある部分がある構成要素を『含んで』いるとの用語は、特別に反対される記載がない限り、他の構成要素を除外することではなくて他の構成要素をさらに含むことができることを意味する。
そして、図面において、本発明を明確に説明するために説明と関係ない部分は省略して示し、多くの層及び領域を明確に表現するために厚さを拡大して示し、明細書全体を通じて類似な部分に対しては類似な図面符号を付与した。
層、膜、領域、板などの部分が他の部分『上に』あるとの用語は、他の部分の『真上に』ある場合だけでなくその中間にまた他の部分がある場合も含む。反対に、ある部分が他の部分の『真上に』あるとの用語は、中間に他の部分がないことを意味する。
以下、添付した図面を参照して実施例を詳細に説明するが、図面符号に関係なく同一であるか対応する構成要素には同一な参照番号を付与し、これに対する重複説明は省略する。
本明細書において、wt%は、重量部に取り替えることができる。
本発明の実施例では、結晶性及び熱伝導性が高いエポキシ樹脂組成物を提供する。
以下、本発明の実施例によるエポキシ樹脂組成物は、メゾゲン(mesogen)構造を含むエポキシ樹脂、硬化剤及び無機充填材を含む。ここで、メゾゲンは、液晶(liquid crystal)の基本単位であり、剛性(rigid) 構造を含む。メゾゲンは、例えば、ビフェニル(biphenyl)のような剛性構造を含むことができる。
本発明の一実施例によるエポキシ樹脂組成物は、全体エポキシ樹脂組成物に対して3乃至60wt%のエポキシ樹脂を含むことができる。エポキシ樹脂が全体エポキシ樹脂組成物の3wt%以上で含有された場合、密着性がよくなる。エポキシ樹脂が全体エポキシ樹脂組成物の60wt%以下で含有された場合、厚さ調節が容易になる。
この時、エポキシ樹脂組成物は、全体エポキシ樹脂に対して12wt%以上の結晶性エポキシ樹脂を含むことができる。結晶性エポキシ樹脂が全体エポキシ樹脂の12wt%以上含まれる場合、結晶化が容易であり、熱伝導効果が高くなる。
ここで、結晶性エポキシ樹脂は、下記化学式1のような化合物である。
Figure 0006214910
ここで、nは、1乃至3であり、mは、1乃至3であり、Rは、1個乃至3個のアリール基であり、Rは、1個乃至3個のアリール基であり、R、R、R、R、R及びRは、独立的に水素または炭素数が1個乃至30個であるアルキル基、ハロゲン、アリール基、アルコキシ基、アミノ基、ヘテロアリール基及びカルボキシル基で構成されたグループから選択される。
より詳しくは、アルキル基は、メチル基またはエチル基から選択できる。ハロゲンは、フッ素または塩素から選択できる。アリール基は、ベンゼンまたはナフタリンから選択できる。
より詳しくは、nは、1であり、mは、1である。また、R及びRは、1個のアリール基である。また、R、R、R、R、R及びRは、独立的に水素またはメチル基から選択できる。より詳しくは、R及びRは、水素であり、R、R、R及びRは、独立的に水素またはメチル基から選択できる。
結晶性エポキシ樹脂は、下記化学式2のように示すことができる。
Figure 0006214910
ここで、nは、1乃至3であり、mは、1乃至3であり、R、R10、R11、R12、R13、R14、R15、R16、R17、R18、R19、R20、R21及びR22は、独立的に水素、炭素数が1個乃至30個であるアルキル基、ハロゲン、アリール基、アルコキシ基、アミノ基、ヘテロアリール基及びカルボキシル基で構成されたグループから選択される。
より詳しくは、アルキル基は、メチル基またはエチル基から選択できる。ハロゲンは、フッ素または塩素から選択できる。アリール基は、ベンゼンまたはナフタリンから選択できる。
より詳しくは、nは、1であり、mは、1である。また、R乃至R22は、独立的に、水素またはメチル基から選択できる。より詳しくは、R21及びR22は、水素であり、R乃至R20は、独立的に水素またはメチル基から選択できる。
乃至R22が水素である場合、結晶性エポキシ樹脂は、下記化学式3のように示すことができる。
Figure 0006214910
化学式3の結晶性エポキシ樹脂(以下、bis(oxiran−2−ylmethyl)4,4’−(1,4−phenylenebis(azan−1−yl−1−ylidene))bis(methan−1−yl−1−ylidene)dibenzoateと名付ける)は、融点が158℃であり、H−NMR(水素の核磁気共鳴値)の結果は、δ=8.58(s, 2H)、δ=8.17−8.19(d, 4H)、δ=7.99−8.01(d, 4H)、δ=7.33(s, 4H)、δ=4.69−4.72(d, 1H)、δ=4.18−4.22(m, 1H)、δ=3.36−3.40(m, 1H)、δ=2.92−294(m, 1H)及びδ=2.74−2.77(m, 1H)である。融点は、時差注射熱量分析装置(TA社製DSC Q100)を使用して昇温速度も10℃/分で測定した。NMRは、CDCL3−d6に溶解させた後、H−NMR測定した。
化学式3の結晶性エポキシ樹脂は、次のメカニズムを通じて合成できる。
Figure 0006214910
Figure 0006214910
すなわち、1段階では、4−carboxybenzaldehyde 3gをメタノールに溶かして、強く掻き混ぜながらp−phenylenediamine 1.08gを一滴ずつ落とした後、24時間の間維持する。黄色い固体が沈澱されると、フィルタリングしてメタノールで数回精製して40℃の真空で乾燥する。
1段階を通じて91%以上の収率(yield)で中間体(AE2−1)を得ることができる。
次に、2段階では、1段階で合成された中間体5gとDMAc 50mlを入れて加熱しながら撹拌して、常温でEpichlorohydrin 52.7mlと触媒剤でTBAB 0.22gを入れて、混合物を110℃まで加熱して6時間の間撹拌する。
反応した混合物の温度を常温にゆっくり低めてメタノールに入れる。黄色い固体がフィルタリングされて残れば、メタノールで数回洗った後、真空で40℃で乾燥する。
2段階を通じて65%以上の収率で化学式3のエポキシ樹脂化合物を得ることができる。
本発明の実施例において、結晶性エポキシ樹脂は、下記化学式4のように示すことができる。
Figure 0006214910
ここで、nは、1乃至3であり、mは、1乃至3であり、R23、R24、R25、R26、R27、R28、R29、R30、R31、R32、R33、R34、R35、R36、R37、R38、R39、R40、R41、R42、R43及びR44は、独立的に、水素、炭素数が1個乃至30個であるアルキル基、ハロゲン、アリール基、アルコキシ基、アミノ基、ヘテロアリール基及びカルボキシル基で構成されたグループから選択される。
より詳しくは、アルキル基は、メチル基またはエチル基から選択できる。ハロゲンは、フッ素または塩素から選択できる。アリール基は、ベンゼンまたはナフタリンから選択できる。
より詳しくは、nは、1であり、mは、1である。また、R23乃至R44は、独立的に、水素またはメチル基から選択できる。より詳しくは、R23及びR24は、水素であり、R25乃至R44は、独立的に、水素またはメチル基から選択できる。
一方、化学式1乃至化学式4の中でいずれの一つによるエポキシ樹脂は、結晶性が強くて熱伝導特性は高いが、常温安全性が不足である。このような問題を改善するために、本発明の実施例によるエポキシ樹脂組成物は、化学式1乃至化学式4の中でいずれの一つによる結晶性エポキシ樹脂の以外に、分子中にエポキシ基を2個以上有する通常の他の非結晶性エポキシ樹脂をさらに含むことができる。
例えば、ビスフェノールA、ビスフェノールF、3,3',5,5'−テトラメチル−4,4'−ジヒドロキシジフェニルメタン、4,4'−ジヒドロキシジフェニルスルホン、4,4'−ジヒドロキシジフェニルスルフィド、4,4'−ジヒドロキシジフェニルケトン、フルオレンビスフェノール、4,4'−ビフェノール、3,3',5,5'−テトラメチル−4,4'−ジヒドロキシビフェニル、2,2'−ビフェノール、レゾルシン、カテコール、t−ブチルカテコール、ヒドロキノン、t−ブチルヒドロキノン、1,2−ジヒドロキシナフタレン、1,3−ジヒドロキシナフタレ、1,4−ジヒドロキシナフタレン、1,5−ジヒドロキシナフタレン、1,6−ジヒドロキシナフタレン、1,7−ジヒドロキシナフタレン、1,8−ジヒドロキシナフタレン、2,3−ジヒドロキシナフタレン、2,4−ジヒドロキシナフタレン、2,5−ジヒドロキシナフタレン、2,6−ジヒドロキシナフタレン、2,7−ジヒドロキシナフタレン、2,8−ジヒドロキシナフタレン、前記−ジヒドロキシナフタレンのアリール化物またはポリアリール化物、アリール化ビスフェノールA、アリール化ビスフェノールF、アリール化フェノールノボラックなどの2価のフェノール類、あるいはフェノールノボラック、ビスフェノールAノボラック、o−クレゾールノボラック、m−クレゾールノボラック、p−クレゾールノボラック、キシレノールノボラック、ポリ−p−ヒドロキシスチレン、トリス−(4−ヒドロキシフェニル)メタン、1,1,2,2−テトラキス(4−ヒドロキシフェニル)エタン、フルオログリシノール、ピロガロール、t−ブチルピロガロール、アリール化ピロガロール、ポリアリール化ピロガロール、1,2,4−トリヒドロキシベンゼン、2,3,4−トリヒドロキシベンゾフェノン、フェノールアラルキル樹脂、ナプトルアラルキル樹脂、ジシクロペンタジエン系樹脂などの3価以上のフェノール類、テトラブロモビスフェノールAなどのハロゲン化ビスフェノール類から誘導されるグリシジルエテル化物及びこれらから選択された混合物の中で一つである。
本発明の実施例によるエポキシ樹脂組成物は、全体エポキシ樹脂組成物に対して0.5wt%乃至5wt%の硬化剤を含むる。硬化剤が全体エポキシ樹脂組成物の0.5wt%以上含有された場合、密着性が良好になる。そして、硬化剤が全体エポキシ樹脂組成物の5wt%以下含有された場合、厚さ調節が容易である。硬化剤は、一般的にエポキシ樹脂硬化剤として知られているものであればいずれも使用できるが、望ましくは、フェノール系硬化剤を使用する。
フェノール系硬化剤は、フェノール性化合物の中で単一化合物としてフェノール化合物の以外にフェノール樹脂が含まれる。
フェノール系硬化剤の具体的な例としては、ビスフェノールA、ビスフェノールF、4,4'−ジヒドロキシジフェニルメタン、4,4'−ジヒドロキシジフェニルエテル、1,4−ビス(4−ヒドロキシフェノキシ)ベンゼン、1,3−ビス(4−ヒドロキシフェノキシ)ベンゼン、4,4'−ジヒドロキシジフェニルスルフィド、4,4'ジヒドロキシジフェニルケトン、4,4'−ジヒドロキシジフェニルスルホン、4,4'−ジヒドロキシビフェニル、2,2'−ジヒドロキシビフェニル、10−(2,5−ジヒドロキシフェニル)−10H−9−オキサ−10−ホスファフェナントレン−10−オキサイド、フェノールノボラック、ビスフェノールAノボラック、o−クレゾールノボラック、m−クレゾールノボラック、p−クレゾールノボラック、キシレノールノボラック、ポリ−p−ヒドロキシスチレン、ヒドロキノン、レゾルシン、カテコール、t−ブチルカテコール、t−ブチルヒドロキノン、フルオログリシノール、ピロガロール、t−ブチルピロガロール、アリール化ピロガロール、ポリアリール化ピロガロール、1,2,4−トリヒドロキシベンゼン、2,3,4−トリヒドロキシベンゾフェノン、1,2−ジヒドロキシナフタレン、1,3−ジヒドロキシナフタレ、1,4−ジヒドロキシナフタレン、1,5−ジヒドロキシナフタレン、1,6−ジヒドロキシナフタレン、1,7−ジヒドロキシナフタレン、1,8−ジヒドロキシナフタレン、2,3−ジヒドロキシナフタレン、2,4−ジヒドロキシナフタレン、2,5−ジヒドロキシナフタレン、2,6−ジヒドロキシナフタレン、2,7−ジヒドロキシナフタレン、2,8−ジヒドロキシナフタレン、前記ジヒドロキシナフタレンのアリール化物またはポリアリール化物、アリール化ビスフェノールA、アリール化ビスフェノールF、アリール化フェノールノボラック、アリール化ピロガロールなどを挙げることができる。
硬化剤は、2種類以上の硬化剤を混合して使用してもよい。
一方、フェノール系硬化剤の以外に、一般的に知られている硬化剤を使用することもできる。例えば、アミン系硬化剤、酸無水物系硬化剤、ポリメルカプタン系硬化剤、ポリアミノアミド系硬化剤、イソシアネート系硬化剤、ブロックイソシアネイト系硬化剤などを含むことができる。これら硬化剤の配合量は、配合する硬化剤の種類や得られる熱伝導性エポキシ樹脂成形体の物性を考慮して適当に設定することができる。
アミン系硬化剤の具体例としては、脂肪族アミン類、ポリエーテルポリアミン類、脂環アミン類、芳香族アミン類などが挙げられ、脂肪族アミン類としては、エチレンジアミン、1,3−ジアミノプロパン、1,4−ジアミノプロパン、ヘキサメチレンジアミン、2,5‐ジメチルヘキサメチレンジアミン、トリメチルヘキサメチレンジアミン、ジエチレントリアミン、イミノビスプロピルアミン、ビス(ヘキサメチレン)トリアミン、トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミン、ペンタエチレンヘキサミン、N‐ヒドロキシエチルエチレンジアミン、テトラ(ヒドロキシエチル)エチレンジアミン等が挙げられる。ポリエーテルポリアミン類としては、トリエチレングリコールジアミン、テトラエチレングリコールジアミン、ジエチレングリコールビス(プロピルアミン)、ポリオキシプロピレンジアミン、ポリオキシプロピレントリアミン類等が挙げられる。脂環式アミン類としては、イソホロンジアミン、メタセンジアミン、N‐アミノエチルピペラジン、ビス(4−アミノ−3−メチルジシクロヘキシル)メタン、ビス(アミノメチル)シクロヘキサン、3,9−ビス(3−アミノプロピル)2,4,8,10−テトラオキサスピロ(5,5)ウンデカン、ノルボルネンジアミン等が挙げられる。芳香族アミン類としては、テトラクロロ−p−キシレンジアミン、m‐キシレンジアミン、p−キシレンジアミン、m−フェニレンジアミン、o−フェニレンジアミン、p−フェニレンジアミン、2,4−ジアミノアニゾール、2,4−トルエンジアミン、2,4−ジアミノジフェニルメタン、4,4'−ジアミノジフェニルメタン、4,4'−ジアミノ−1,2−ジフェニルエタン、2,4−ジアミノジフェニルスルホン、4,4'−ジアミノジフェニルスルホン、m‐アミノフェノール、m−アミノベンジルアミン、ベンジルジメチルアミン、2−(ジメチルアミノメチル)フェノール、トリエタノールアミン、メチルベンジルアミン、α−(m−アミノフェニル)エチルアミン、α−(p−アミノフェニル)エチルアミン、ジアミノジエチルジメチルジフェニルメタン、α,α'−ビス(4−アミノフェニル)−p−ジイソプロピルベンゼン等が挙げられる。
酸無水物系硬化剤の具体例としては、ドデセニル無水コハク酸、ポリアジピン酸無水物、ポリアゼライン酸無水物、ポリセバシン酸無水物、ポリ(エチルオクタデカン二酸)無水物、ポリ(フェニルヘキサデカン二酸)無水物、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、無水メチルハイミック酸、テトラヒドロ無水フタル酸、トリアルキルテトラヒドロ無水フタル酸、メチルシクロヘキセンジカルボン酸無水物、メチルシクロヘキセンテトラカルボン酸無水物、無水フタル酸、無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸、ベンゾフェノンテトラカルボン酸無水物、エチレングリコールビストリメリテート、無水ヘット酸、無水ナジック酸、無水メチルナジック酸、5−(2,5−ジオキソテトラヒドロ−3−フラニル)−3−メチル−3−シクロヘキサン−1,2−ジカルボン酸無水物、3,4−ジカルボキシ−1,2,3,4−テトラヒドロ−1−ナフタレンコハク酸二無水物、1−メチル−ジカルボキシ−1,2,3,4−テトラヒドロ−1−ナフタレンコハク酸二無水物等が挙げられる。
本発明の実施例によるエポキシ樹脂組成物は、エポキシ樹脂組成物全体に対して40 乃至97wt%の無機充填材を含む。
無機充填材がエポキシ樹脂組成物全体の40wt%以上含有されると、高熱伝導性、低熱膨脹性、高耐熱性のなどの効果が十分に発揮される。これらの効果は、無機充填材の添加量が多いほどよいが、その体積分率に応じて向上するものではなく、特定の添加量から飛躍的に向上する。これらの物性は、高分子状態での高次構造が制御された効果によるものであり、この高次構造が主に無機充填材表面で達成されることから、特定量の無機充填材を必要とする。但し、無機充填材の添加量がエポキシ樹脂組成物全体の97wt%より多いと粘度が高くなり、成形性が悪化する。
本発明に用いる無機充填材は球状である。球状の無機充填材では、断面が楕円上であるものも含めて球状であれば特に限定されるものではないが、流動性改善の観点からは、極力真球状に近いものであることが特に好ましい。
無機充填材は、アルミナ、窒化アルミニウム、窒化珪素、窒化ホウ素または結晶シリカ等が好適に使用され、お互いに異なる2個以上の無機充填材を混合して使用することができる。
無機充填材の平均粒径は30μm以下であることが好ましい。平均粒径がこれより大きいとエポキシ樹脂組成物の流動性が損なわれ、また強度も低下するため好ましくな。
本発明の実施例によるエポキシ樹脂組成物は、公知の硬化促進剤をさらに含むことができる。硬化促進剤は、例えば、アミン類、イミダゾール類、有機ホスフィン類、ルイス酸等があり、具体的には、1,8−ジアザビシクロ(5,4,0)ウンデセン−7、トリエチレンジアミン、ベンジルジメチルアミン、トリエタノールアミン、ジメチルアミノエタノール、トリス(ジメチルアミノメチル)フェノールなどの三級アミン、2−メチルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール、2−フェニル−4−メチルイミダゾール、2−へプタデシルイミダゾールなどのイミダゾール類、トリブチルホスフィン、メチルジフェニルホスフイン、トリフェニルホスフィン、ジフェニルホスフィン、フェニルホスフィンなどの有機ホスフィン類、テトラフェニルホスホニウム・テトラフェニルボレート、テトラフェニルホスホニウム・エチルトリフェニルボレート、テトラブチルホスホニウム・テトラブチルボレートなどのテトラ置換ホスホニウム・テトラ置換ボレート、2−エチル−4−メチルイミダゾール・テトラフェニルポレート、N−メチルモルホリン・テトラフェニルポレートなどのテトラフェニルボロン塩などがある。
本発明の実施例によるエポキシ樹脂組成物は、離型剤をさらに含むことができる。エポキシ樹脂組成物に一般的に用いられる離型剤であるワックスは、例えば、ステアリン酸、モンタン酸、モンタン酸エステル、リン酸エステルなどである。
本発明の実施例によるエポキシ樹脂組成物は、 無機充填材と樹脂成分の接着力を向上させるため、 カップリング剤をさらに含むことができる。 カップリング剤としては、例えば、エポキシシランが使用可能である。
本発明の実施例によるエポキシ樹脂組成物を得るために、エポキシ樹脂、硬化剤及び カップリング剤以外のその他の成分を溶媒、例えば、アセトン、MEK、MIBK、IPA、ブタノールまたはトルエンに溶かした後、熱を加えながら撹拌して、無機充填材を投入してミキサーなどによって均一に混合する。その後、カップリング剤を添加し、加熱ロール、ニーダー等によって混練して製造する。これらの成分の配合順序には特に制限はない。
この時、前記溶媒は、エポキシ樹脂組成物全体の総重量に対して10乃至20wt%を満たす。
本発明の実施例によるエポキシ樹脂組成物は、図1のように、放熱回路基板に適用することができる。
図1を参考すれば、放熱回路基板100は、金属プレート110と、前記金属プレート110上に形成される絶縁層120と、絶縁層120上に形成される回路パターン130と、を含む。
金属プレート110は、熱伝導度が良い銅、アルミニウム、ニッケル、金または白金などを含む合金の中でのいずれの一つである。
金属プレート110は、発熱素子150を実装する 実装パッドを構成する金属突起(図示せず)を含むことができる。
金属突起は、金属プレート110から延長されて垂直に突き出されており、上面の一部が発熱素子150を実装する実装パッドとして機能し、金属突起の上面にソルダーが位置するように所定の幅を有する。
金属プレート110上には絶縁層120が形成されている。
絶縁層120は、複数の絶縁層で形成することができ、金属プレート110と絶縁層120上の回路パターン130の間を絶縁する。
絶縁層120は、本発明の実施例によるエポキシ樹脂組成物を硬化して形成することができ、絶縁層120内には無機充填材125が均一に分散されている。
絶縁層120上には、複数の回路パターン130を形成することができる。
絶縁層120を本発明の実施例によるエポキシ樹脂組成物を利用して形成することで、熱伝導性が向上して発熱素子150からの熱を下部の金属プレート110に伝達することができる。
以下、実施例及び比較例を利用してより具体的に説明する。
<実施例>
(実施例1)
ビスフェノールA型エポキシ樹脂12.5wt%、o−クレゾールノボラック エポキシ樹脂2.3wt%、化学式3の結晶性エポキシ樹脂1.7wt%、NC−3000エポキシ樹脂 5wt%、バイフェノール硬化剤2wt%、2−メチルイミダゾール硬化促進剤0.2wt%とBYK−W980添加剤1wt%を全部混合して40℃で10分間撹拌した後、アルミナ無機充填材75.4wt%を投入して常温で20乃至30分間撹拌して、実施例1のエポキシ樹脂組成物を得た。
(実施例2)
o−クレゾールノボラックエポキシ樹脂 4.2wt%、前記化学式3の結晶性エポキシ樹脂2.5wt%、NC−3000エポキシ樹脂8.5wt% とバイフェノール硬化剤2.2wt%、2−メチルイミダゾール硬化促進剤0.1wt%とBYK−W980添加剤0.5wt%を全部混合して40℃で10分間撹拌した後、アルミナ無機充填材82wt%を投入して常温で20乃至30分間撹拌して、実施例2のエポキシ樹脂組成物を得た。
(実施例3)
ビスフェノールA型エポキシ樹脂2wt%、化学式3の結晶性エポキシ樹脂8wt%、NC−3000エポキシ樹脂4.5wt%、バイフェノール硬化剤1.3wt%、2−メチルイミダゾール硬化促進剤0.2wt%とBYK−W980添加剤1wt%を全部混合して40℃で10分間撹拌した後、アルミナ無機充填材83wt%を投入して常温で20乃至30分間撹拌して、実施例3のエポキシ樹脂組成物を得た。
(実施例4)
ビスフェノールA型エポキシ樹脂3wt%、化学式3の結晶性エポキシ樹脂12wt%、NC−3000エポキシ樹脂3wt%、バイフェノール硬化剤1.1wt%、2−メチルイミダゾール硬化促進剤0.1wt%とBYK−W980添加剤0.8wt%を全部混合して40℃で10分間撹拌した後、アルミナ無機充填材80wt%を投入して常温で20乃至30分間撹拌して、実施例4のエポキシ樹脂組成物を得た。
(実施例5)
ビスフェノールA型エポキシ樹脂4.6wt%、化学式3の結晶性エポキシ樹脂6.1wt%、NC−3000エポキシ樹脂1.5wt%、バイフェノール硬化剤1.2wt%、2−メチルイミダゾール硬化促進剤0.1wt%とBYK−W980添加剤1wt%を全部混合して40℃で10分間撹拌した後、アルミナ無機充填材85.5wt%を投入して常温で20乃至30分間撹拌して、実施例5のエポキシ樹脂組成物を得た。
<比較例>
(比較例1)
ビスフェノールA型エポキシ樹脂17.1wt%、ビスフェノールF型エポキシ樹脂2.7wt%、o−クレゾールノボラックエポキシ樹脂2.7wt%、NC−3000エポキシ樹脂5.5wt% に、フェノール硬化剤2.1wt%、2−メチルイミダゾール硬化促進剤0.7wt%とBYK−W980添加剤0.7wt%を全部混合して、40℃で10分間撹拌した後、アルミナ無機充填材68.5wt%を投入して常温で20乃至30分間撹拌して、比較例1のエポキシ樹脂組成物を得た。
(比較例2)
ビスフェノールA型エポキシ樹脂11.8wt%、ビスフェノールF型エポキシ樹脂3.57wt%、o−クレゾールノボラックエポキシ樹脂3.5wt%、NC−3000エポキシ樹脂7.1wt% に、フェノール硬化剤2.5wt%、2−メチルイミダゾール硬化促進剤0.5wt%とBYK−W980添加剤0.6wt%を全部混合して、40℃で10分間撹拌した後、アルミナ無機充填材70.6wt%を投入して常温で20乃至30分間撹拌して、比較例2のエポキシ樹脂組成物を得た。
(比較例3)
ビスフェノールA型エポキシ樹脂10.7wt%、ビスフェノールF型エポキシ樹脂1.8wt%、o−クレゾールノボラックエポキシ樹脂1.8wt%、NC−3000エポキシ樹脂3.6wt% に、フェノール硬化剤1.3wt%、2−メチルイミダゾール硬化促進剤0.4wt%とBYK−W980添加剤0.4wt%を全部混合して、40℃で10分間撹拌した後、アルミナ無機充填材80.0wt%を投入して常温で20乃至30分間撹拌して、比較例3のエポキシ樹脂組成物を得た。
<実験例>
(熱伝導度の測定)
NETZSCH社製LFA447型熱伝導率計を用いて非定常熱線法により各実施例及び比較例の熱伝導度を測定して、表1に記載した。
(ガラス転移温度)
ガラス転移温度は、TA社製DSC Q100熱機械測定装置を用いて昇温速度10℃/分で測定して、表1に記載した。
Figure 0006214910
表1のように、化学式3のエポキシ樹脂を含むエポキシ樹脂組成物(実施例3乃至実施例5)の熱伝導度及びガラス転移温度は、化学式3のエポキシ樹脂を含まないエポキシ樹脂組成物(比較例1乃至比較例3)の熱伝導度及びガラス転移温度に比べて高いことが分かる。特に、同一量の無機充填材を含む実施例4と比較例3の熱伝導度を見れば、実施例4の熱伝導度が2倍以上高いことが分かる。
また、実施例1のように、全体エポキシ樹脂に対して化学式3のエポキシ樹脂の含量が低い場合(すなわち、12wt%以下)、比較例1乃至比較例3に比べて熱伝導度は高くないが、ガラス転移温度が130℃に高いことが分かる。
以上、添付した図面を参照して本発明の実施例について説明したが、本発明が属する技術の分野における通常の知識を有する者であれば、本発明の技術的思想を逸脱しない範囲内で、様々な置換、変形及び変更が可能であるので、上述した実施例及び添付された図面に限定されるものではない。
100:放熱回路基板
150:発熱素子

Claims (11)

  1. エポキシ樹脂、硬化剤及び無機充填材を含み、
    前記エポキシ樹脂は、下記化学式のエポキシ樹脂を含むことを特徴とするエポキシ樹脂組成物。
    Figure 0006214910
    ここで、nは、1乃至3であり、mは、1乃至3であり、R 23 、R 24 、R 25 、R 26 、R 27 、R 28 、R 29 、R 30 、R 31 、R 32 、R 33 、R 34 、R 35 、R 36 、R 37 、R 38 、R 39 、R 40 、R 41 、R 42 、R 43 及びR 44 は、独立的に、水素、炭素数が1個乃至30個であるアルキル基、ハロゲン、アリール基、アルコキシ基、アミノ基、ヘテロアリール基及びカルボキシル基で構成されたグループから選択される。
  2. 前記無機充填材は、前記エポキシ樹脂組成物の全体重量に対して40乃至97wt%で含まれることを特徴とする請求項1に記載のエポキシ樹脂組成物。
  3. 前記無機充填材は、アルミナ、窒化ホウ素、窒化アルミニウム、結晶シリカ及び窒化珪素の中で少なくとも一つであることを特徴とする請求項1に記載のエポキシ樹脂組成物。
  4. 前記エポキシ樹脂は、前記エポキシ樹脂組成物の全体重量に対して3乃至60wt%で含まれることを特徴とする請求項1に記載のエポキシ樹脂組成物。
  5. 前記エポキシ樹脂は、少なくとも一つの非結晶性エポキシ樹脂をさらに含むことを特徴とする請求項1に記載のエポキシ樹脂組成物。
  6. 前記化学式のエポキシ樹脂は、全体エポキシ樹脂の12wt%以上で含まれることを特徴とする請求項1に記載のエポキシ樹脂組成物。
  7. 金属プレート110と、
    前記金属プレート110上に形成される絶縁層120と、
    前記絶縁層120上に形成される回路パターン130と、
    を含み、
    前記絶縁層120は、請求項1によるエポキシ樹脂組成物を硬化して形成されることを特徴とする放熱回路基板。
  8. 前記無機充填材は、前記エポキシ樹脂組成物の全体重量に対して40乃至97wt%で含まれることを特徴とする請求項に記載の放熱回路基板。
  9. 前記無機充填材は、アルミナ、窒化ホウ素、窒化アルミニウム、結晶シリカ及び窒化珪素の中で少なくとも一つであることを特徴とする請求項に記載の放熱回路基板。
  10. 前記化学式のエポキシ樹脂は、全体エポキシ樹脂の12wt%以上で含まれることを特徴とする請求項に記載の放熱回路基板。
  11. 下記化学式のエポキシ樹脂。
    Figure 0006214910
    ここで、nは、1乃至3であり、mは、1乃至3であり、R 23 、R 24 、R 25 、R 26 、R 27 、R 28 、R 29 、R 30 、R 31 、R 32 、R 33 、R 34 、R 35 、R 36 、R 37 、R 38 、R 39 、R 40 、R 41 、R 42 、R 43 及びR 44 は、独立的に、水素、炭素数が1個乃至30個であるアルキル基、ハロゲン、アリール基、アルコキシ基、アミノ基、ヘテロアリール基及びカルボキシル基で構成されたグループから選択される。
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