JP6212467B2 - 液面計及び液体原料気化供給装置 - Google Patents

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Description

本発明は、液面計及び液体原料気化供給装置に係り、詳しくは、液面レベルを検知する液面計、及び、該液面計を備えた液体原料気化供給装置に関する。
従来、例えば有機金属気相成長法(MOCVD: Metal Organic Chemical Vapor Deposition)が用いられる半導体製造装置に、原料流体を供給する液体原料気化供給装置が提案されている(例えば特許文献1〜3)。
この種の液体原料気化供給装置は、TEOS(Tetraethyl orthosilicate)等の液体原料を気化チャンバ内で加熱して気化させ、気化させたガスを流量制御装置により所定流量に制御して半導体製造装置に供給する。そして、液体原料を気化させることによる液体原料の減少を補うため、液体原料の液面を検出し、減少分を供給することにより、液面を制御することが必要となる。
液体原料の液面を検出する方法として、例えば、気化器内の圧力減少をモニターすることで気化器内の液体原料が気化により減少したことを検出する圧力検知式液面検出装置(特許文献2等)や、液相と気相とで熱放散定数が異なることを利用した熱式液面検出装置(特許文献4〜6等)が知られている。
この種の熱式液面検出装置では、図15に示すように、それぞれに白金等の測温抵抗体R1、R2を封入した2本の保護管3を容器21内に鉛直方向に挿入して、一方の測温抵抗体R1には測温抵抗体R1を自己発熱により周囲温度より高温に保つために比較的大きな定電流I1(加熱電流)を流し、他方の測温抵抗体R2には周囲温度を測定できる程度で発熱が無視できる大きさの微小な定電流I2(周囲温度測定用電流)を流す。
そうすると、大きな電流I1を流した測温抵抗体R1は発熱するが、このとき、測温抵抗体が液相L中にある場合の熱放散定数は、気相V中にある場合の熱放散定数よりも大きいために、気相V中にある場合の測温抵抗体の温度は、液相中にある場合と比べると高くなる。
そしてこのことは、気相中の測温抵抗体は、液相中の測温抵抗体よりも抵抗値が高いことを意味するため、大きな電流を流した測温抵抗体R1の電圧出力と、微小な電流を流した測温抵抗体R2の電圧出力との差分を見ることで、測温抵抗体が液面の上方か下方かを判別することが可能となる。即ち、差分が小さい場合には測温抵抗体は液面よりも下方にあり、差分が大きい場合には測温抵抗体は液面よりも上方にあると判断することができる。
図16は、液面検知回路の一例であり、測温抵抗体R1,R2には、定電流回路S1、S2を介して電源Vccから定電流を供給される。測温抵抗体R2には、周囲温度を測定できる程度で発熱が無視できる大きさの微小な電流が流れ、測温抵抗体R1には、測温抵抗体R2より大きな電流値の電流であって測温抵抗体R1を高温に加熱するために比較的大きな電流が流れるように、定電流回路S1には定電流回路S2より大きな電流が流れるように設定されている。測温抵抗体R1の端子電圧V1と測温抵抗体R2の端子電圧V2とが差動増幅回路Dの反転入力及び非反転入力に其々入力され、差動増幅回路Dから、端子電圧V1,V2の差電圧(V1−V2)に相当する電圧信号が比較器Cに入力される。比較器Cは、分圧抵抗器R3,R4により設定された基準電圧V3を、前記差電圧と比較する。
測温抵抗体R1が液相中にあるときは、測温抵抗体R1は周囲温度に対する温度上昇は気相中の温度上昇より小さい。その結果、同じく液相中にある測温抵抗体R2から発せられる周囲温度に対応した大きさの電圧信号との差に相当する作動増幅回路Dからの出力電圧が基準電圧より小さくなり、比較器Cの出力はローレベルになる。一方、液面が下がり、測温抵抗体R1が気相中に露出すると、周囲温度に対する温度上昇が気相中の温度上昇になるから、同じく気相中にある測温抵抗体R2から発せられる周囲温度に対応した大きさの電圧信号との差に相当する差動増幅回路Dの出力電圧が基準電圧より大きくなり、比較器Cの出力はハイレベルとなる。比較器Cの出力がハイレベルの時は測温抵抗体R1,R2が気相中にあり、比較器Cの出力がローレベルの時は測温抵抗体R1,R2が液相中にあると判別される。
端子電圧V1,V2を測定すれば、電流値I1、I2からオームの法則により、測温抵抗体R1,R2の抵抗値を求めることができ、測温抵抗体R1,R2の抵抗値が分かれば、測温抵抗体R1,R2の温度に対する抵抗変化率が既知であれば、測温抵抗体R1,R2の温度を導き出すことができる。したがって、液面計知回路では、測温抵抗体R1、R2の電圧出力の比較に代えて、測温抵抗体R1,R2の抵抗値を比較することによっても判別可能であるし、あるいは、測温抵抗体R1,R2の温度に対する抵抗変化率を利用して各々の抵抗値から測温抵抗体R1,R2の温度を測定してそれらの温度を比較することによっても、判別可能である。なお、白金の場合、0℃で100Ωであり、1℃上昇するごとに抵抗値が0.39Ω上昇する。
特開2009−252760号公報 特開2010−180429号公報 特開2013−77710号公報 特許第3009809号公報 特許第5400816号公報 特開2001−99692号公報
上記圧力検知式液面検出装置では、気化器内の圧力減少を検出したときには気化器内の液体原料は殆ど無くなっており、空焚き状態で液体原料を供給すると流量制御不良を招来することがある。
一方、熱式液面検出装置は、設定した液面高さを検知できるので、所望高さの液面を検知してその高さに液面を保持するように給液を制御することで、上記圧力検知式液面検出装置のような問題を解消し得る。
しかしながら、従来の熱式液面検出装置は、検知に比較的長い時間が掛るため、検知反応が遅いという問題があった。また、従来の熱式液面検出装置は、流量制御装置と組み合わせて使用した場合、液相から気相への切り替わりの検知時間に流量依存性があり、正確な検知が困難であるという問題もあった。
本発明は、従来の熱式液面検出装置における上記問題点を解決し得る熱式液面計、及び該液面計を備える液体原料気化供給装置を提供することを主たる目的とする。
上記目的を達成するため、本発明に係る液面計は、液面検知部材と温度測定部材とを有し、液体を貯留するチャンバ内に設けられた液面計であって、前記液面検知部材が、測温抵抗体を収容した保護管を備え、前記チャンバ内に水平に配置されている。
前記液面検知部材の保護管は、前記チャンバの側壁に水平方向に挿入されて固定され得る。
前記温度測定部材が、測温抵抗体が収容された保護管を備え、前記チャンバ内に水平に配置され得る。
前記温度測定部材が、熱電対、サーミスタ、又は赤外温度計が収容された保護管を備え得る。
前記温度測定部材と前記液面検知部材とは、同じ水平高さに配置され得る。
前記液面検知部材の測温抵抗体に温度測定用電流より大きな電流値の電流(加熱電流)を流して該液面検知部材により測定された検知温度を、前記温度測定部材により測定された温度と比較することにより前記液面検知部材が液相部内に存在するか気相部内に存在するかを検知するように構成され得る。
前記温度測定部材の測温抵抗体に温度測定用の第1の電流を流すとともに、前記液面検知部材の測温抵抗体に前記第1の電流より大きい第2の電流(加熱電流)を流し、前記各測温抵抗体の抵抗値を比較することにより前記液面検知部材が液相部内に存在するか気相部内に存在するかを検知するように構成され得る。
前記温度測定部材が予め設定された下限液位より下方に配置され、前記液面検知部材が前記下限液位及び予め設定された上限液位の少なくとも一方の液位に配置され得る。
また、本発明に係る液面計は、液体原料を貯留するチャンバ内に水平に配置され、測温抵抗体が収容された1つの保護管を備え、前記測温抵抗体に温度測定用の第1の電流値の電流と該第1の電流値より大きい第2の電流値の電流(加熱電流)とを交互に流し、各々の電流値に対する前記測温抵抗体の抵抗値を比較することにより、前記保護管が液相部内に存在するか気相部内に存在するかを検知するように構成され得る。
また、本発明に係る液面計は、液体を貯留するチャンバ内に水平に配置され、測温抵抗体が収容された1つの保護管を備え、前記測温抵抗体に温度測定用電流より大きな所定の電流値の電流(加熱電流)を流し、前記保護管が液相部内にあるときと気相部内にあるときとの抵抗値変化に基づいて、前記保護管が液相部内にあるか気相部内にあるかを検知するように構成され得る。
少なくとも1つ以上の保護管に不動態処理が施され得る。
また、本発明に係る液体原料気化供給装置は、液体原料を貯留し気化させるチャンバと、前記チャンバ内に配置された液面検知部材と、前記チャンバ内の温度を測定する温度測定部材と、前記チャンバ内で気化された原料ガスの流量を制御する流量制御装置と、を備え、前記液面検知部材が、測温抵抗体を収容した保護管を備え、前記チャンバ内に水平に配置されている。
本発明に係る液体原料気化供給装置は、前記保護管が前記チャンバの側壁に水平方向に挿入されて固定されており、前記保護管が前記チャンバの側壁に固定するためのフランジを備え、該フランジと前記チャンバ側壁の外側面との間に該保護管の周囲を囲む金属ガスケットが介在され、該フランジと前記チャンバ側壁の外側面の各々に形成されて前記金属ガスケットを収容するガスケット用凹部と、該ガスケット用凹部の其々に形成されたガスケット押え用環状突起と、を備え得る。
また、本発明に係る液体原料気化供給装置は、前記保護管が前記チャンバにねじ込み固定され得る。
また、本発明に係る液体原料気化供給装置は、前記温度測定部材が、測温抵抗体又は熱電対を収容した保護管を備え、前記チャンバ内に水平に配置されており、前記液面検知部材と前記温度測定部材とが、同じ水平高さに配置され得る。
また、本発明に係る液体原料気化供給装置は、前記保護管の下方に、液体原料から上昇する蒸気を遮るための蒸気遮板が設けられ得る。前記蒸気遮板は傾斜状に延び得る。
本発明に係る液面計よれば、液面検知部材の保護管をチャンバ内に水平に配置したことにより、検知時間を短縮し得る。また、本発明に係る液体原料気化供給装置によれば、液面検知部材の保護管をチャンバ内に水平に配置したことにより、液相から気相への切り替わりの検知時間に流量依存性を殆どなくすことができる。
本発明に係る液面計を備えた液体原料気化供給装置の第1実施形態を示す部分断面側面図である。 図1のチャンバの内部を透視した概略斜視図である。 図1の保護管に固定されたフランジを拡大して示す平面図である。 図3のIII−III線に沿う断面図である。 図1の保護管の固定構造を拡大して示す要部縦断面図である。 本発明の実施例1の評価試験結果を示すグラフである。 比較例1の評価試験結果を示すグラフである。 本発明の実施例2の評価試験結果を示すグラフである。 比較例1〜3の評価試験結果を示すグラフである。 本発明に係る液面計を備えた液体原料気化供給装置の第2実施形態を示す部分断面側面図である。 図10のチャンバの内部を透視した概略斜視図である。 本発明に係る液面計を備えた液体原料気化供給装置の第3実施形態を示す部分断面側面図である。 図12の第3実施形態の変更態様を示す、保護管と蒸気遮板の縦断面図である。 図12のチャンバの内部を透視した概略斜視図である。 従来の液面計を示す概略構成図である。 従来の液面計の液面検知回路の一例を示す回路図である。
本発明に係る液面計を備えた液体原料気化供給装置の実施形態について、以下に図面を参照しつつ説明する。なお、全図及び全実施形態を通じて、同一又は類似の構成部分には同符号を付した。
図1は、本発明の第1実施形態を示す部分断面側面図である。図1に示すように、本発明に係る液面計を備えた液体原料気化供給装置1は、液体原料Lを貯留し気化させる気化チャンバ2と、気化チャンバ2内の液面L1を検知するための測温抵抗体(付図示)を封入した保護管3と、気化チャンバ2で気化したガスの流量を制御して供給する流量制御装置4と、を備え、2本(図2参照。)の保護管3、3が、気化チャンバ2の側壁2aに水平方向に同じ高さ位置で挿入されて固定されている。
保護管3に封入される測温抵抗体としては、白金測温抵抗体を好適に用いることができるが、他の公知の測温抵抗体も用い得る。測温抵抗体を用いた液面検知回路は上記した従来回路と同様の原理のものを採用し得るので詳細な説明は省略する。2本の保護管3,3は、何れも同じ外径を有し、細長い棒状部分の先端部に測温抵抗体を収容している。
其々の保護管3,3には、同じ測温抵抗体が収容されている。一方の保護管3及びそこに収容された測温抵抗体は、その測温抵抗体に温度測定用の電流、即ち、周囲温度を測定できる程度で測温抵抗体の自己発熱が無視できる大きさの微小な定電流が流され、周囲温度測定のために用いられる温度測定部材を構成する。他方の保護管3とそこに収容された測温抵抗体は、その測温抵抗体を自己発熱により周囲温度より高温に保つために比較的大きな定電流(加熱電流)が流され、上記のような液面検知回路を通じ、液相中にあるか気相中にあるかを判別するための液面検知部材を構成する。
気化チャンバ2は、液体原料の供給口2b及び気化したガスの排出口2cを上部に備えた箱型で、ステンレス等の金属で形成されている。液体原料の供給口は、図示例に限らず、気化チャンバ2の上壁に供給管を挿して該供給管の下端を気化チャンバ2の内部下部まで延ばすことによりに気化チャンバ2の内部下部に設けることもできるし、あるいは、気化チャンバ2の側壁や気化チャンバ2の底壁に設けることも可能である。
気化チャンバは、チャンバ壁の外面を囲むようにして取り付けられたヒータ(図示せず)によって加熱され得る。気化チャンバ2を加熱するヒータは、図示しないが、気化チャンバ2を形成する金属壁に凹部や孔を設けてそこに埋設することもできる。
気化チャンバ2は、図示例では一室で形成されているが、チャンバ内を区画壁(図示せず)で複数の部屋に区画し、それら区画壁の各々には気化したガスを通す孔を形成してもよい。この場合。一端側の区画された部屋には液体原料を供給する供給口が設けられ、他端側の区画された部屋に気化したガスを排出する排出口が形成される。
排出口2cは、ガス流路5に連通接続されている。ガス流路5は、配管又はブロック内に形成された孔によって構成されている。ガス流路5には、流量制御装置4が介在されている。図示例の流量制御装置4は、公知のいわゆる圧力式流量制御装置を採用することができ、これは、ガス流路5に介在したオリフィス板6の少なくとも上流側のガス圧力を圧力検出器7によって検出し、検出した圧力信号に基づいて圧電駆動素子によりガス流路5に介在された金属製ダイヤフラム弁体を開閉させて流量制御する。すなわち、オリフィス板6の上流側の絶対圧力がオリフィス板6の下流側の絶対圧力の約2倍以上(臨界膨張条件)になるとオリフィスを通過するガスが音速となり、それ以上にならないことから、その流量はオリフィス上流側の圧力のみに依存し、流量は圧力に比例するという原理を利用している。なお、図示しないが、オリフィス下流側の圧力を検出して、オリフィスの上流側と下流側の差圧に基づいて流量制御することも可能である。
ガス通路5には、空気圧駆動式の開閉弁8が介在されている。開閉弁8は、気化チャンバ3と流量制御装置4との間のガス通路5に介在されているが、流量制御装置4の下流側のガス通路に設けることもできるし、あるいは、省略することもできる。
保護管3は、ステンレス鋼等の耐腐食性金属材料で形成され、細長い鞘部3aの先端部内に測温抵抗体が収容されている。ステンレス鋼の不動態被膜は比較的薄いため、保護管3に更に不動態処理を施して耐食性を高めることが好ましい。
保護管3を気化チャンバ2に水平に挿すため、気化チャンバ2内の高温の液体原料が漏れ出ないようなシール構造にして固定することが必要となる。
図3〜図5を参照して、保護管3は、同じくステンレス鋼製のフランジ9に形成された孔9aに嵌入され、溶接により固定フランジ9に固定されている。固定フランジ9は、孔9aの他に、複数のボルト孔9bと、固定フランジ9の一方の側面で孔9aの周囲に形成された第1ガスケット用凹部9cと、を有している。第1ガスケット用凹部9cには、ガスケット押え用第1環状突起9dが形成されている。
気化チャンバ2の一側面には、固定フランジ9のボルト孔9bに一致する有底の雌螺子孔2dと、保護管3を通す通孔2eと、気化チャンバ2の外側側面で通孔2eの周囲に形成された第2ガスケット用凹部2fと、を備えている。第2ガスケット用凹部2fには、ガスケット押え用第2環状突起2gが形成されている。
保護管3を、円環状の金属ガスケット10及び気化チャンバ2の通孔2eに通し、固定フランジ9のボルト孔9bに通した雄螺子11を気化チャンバ2の雌螺子孔2dに螺締することにより、ガスケット押え用第1環状突起9d及びガスケット押え用第2環状突起2gが金属ガスケット10の両側面に食い込み、気化チャンバ2の通孔2eを密封状態とする。金属ガスケット10は、ステンレス鋼で形成することができる。
本発明に係る液面計を備えた液体原料気化供給装置の実施例と、白金抵抗体を収容した保護管を気化器に鉛直方向(縦向き)に挿入した従来の液面計(図15参照)を備えた液体原料気化供給装置の比較例とで、液相から気相へ変化の検出性能を評価した。
図6が実施例1の結果で、図7が比較例1の結果である。実施例1と比較例1とは、ともに、一方の白金測温抵抗体には1mAの定電流を流し、他方の白金測温抵抗体には30mAの定電流を流した。白金抵抗体は、0℃で100Ω、0.39Ω/℃の温度特性(例えば、10℃の時に103.9Ω)のものを用いた。評価試験の評価条件として、液体原料にTEOSを用い、気化チャンバ2の温度を200℃、ガス制御流量を53.17%(6.7g/分)とし、気化チャンバ内部を排気して真空状態にしてから液体原料を保護管が水没するまで供給し、流量制御装置のバルブを閉じるとともに気化チャンバの液体原料供給管に介在させたバルブも閉じて10分間封止状態とした後、流量制御装置を作動させて気化したガスを所定流量で流した。
図6、図7において、線T1は30mAを流した白金測温抵抗体の温度の時間変化を示すグラフであり、線T2は1mAを流した白金測温抵抗体の温度の時間変化を示すグラフである。白金測温抵抗体の温度は、白金測温抵抗体の温度特性から計算により算出した。図6,図7において、ΔT=T1−T2が大きいところが、液相から気相へ移行していることを示している。
図6、図7に示されているように、図6に示す実施例1では、液相から気相へ移行したことを30秒以下で検知することができたが、図7の比較例1では検知に3分程度を要した。このように、比較例1の検知時間が実施例1に比較して長いのは、実施例1では液体原料が蒸発して液相から気相に移行する迄の間、保護管は水平に設置されているため全長に亘って水没しているのに対して、比較例では、図15を参照すれば、保護管が縦方向に設置されているため徐々に液相から露出して、液体への放熱が低下し、自己発熱量が増加していることに起因しているものと考えられる。
次に、実施例1より制御流量を低く設定した実施例2と、比較例1より制御流量を低くした比較例2、比較例3とで、実施例1と同様の評価試験を行った結果を図8、図9に示す。図8が実施例2であり、実施例2は、制御流量を3.0g/分とした。図9は、比較例1,2,3のΔT=T1−T2を示しており、線C1が比較例1、線C2が比較例2、線C3が比較例3を示す。比較例1の制御流量は6.7g/分、比較例2の制御流量は3.0g/分、比較例3の制御流量は1.0g/分であった。
図8と図9とを比較すると、実施例1と実施例2とは、制御流量が6.7g/分から3.0g/分に変化しても液相から気相への変化の検知時間に大きな差は認められなかったが、比較例1〜3では、制御流量が低くなるに従って液相から気相への変化の検知時間が長くなり、比較例1で約3分、比較例2で約5.5分、比較例3で約9.1分であった。このように液相から気相への変化の検知時間に関して実施例と比較例で異なるのは、保護管が水没状態から露出状態へ変化するのにかかる時間の差に起因しているものと考えられる。
上記第1実施形態では2本の測温抵抗体を使用し、一方の測温抵抗体に流す電流を他方の測温抵抗体に流す電流を大きくすることにより、液相から気相(又は気相から液相)への液面の移行を検知するようにしているが、測温抵抗体を1本にして、その一本の測温抵抗体に所定の大きさの大小の電流(温度測定用電流と加熱電流)を所定時間毎(例えば10〜15秒毎)に交互に流すことにより、液相から気相(又は気相から液相)への液面の移行を検知することもできる。
図10は、本発明に係る液面計を備えた液体原料気化供給装置の第2実施形態を示す部分断面側面図である。第2実施形態では、測温抵抗体を収容した保護管3が、上下に2段、気化チャンバ2に取り付けられている。なお、図11を参照して、測温抵抗体を収容した保護管3は上段の同じ高さに2本(液面検知部材と温度測定部材)、下段にも同じ高さに2本(液面検知部材と温度測定部材)取り付けられている。1対の保護管を上下2段とすることで、気化チャンバ2内の液体原料の上限液位と下限液位とを設定することができる。上段の温度測定部材を構成する測温抵抗体入り保護管を省略することもでき、この場合、下段の温度測定部材と上段の液面検知部材とにより上限液位を検知することができる。
図12は、本発明に係る液面計を備えた液体原料気化供給装置の第3実施形態を示す部分断面側面図である。第3実施形態においては、保護管3の下方に、液体原料から上昇する蒸気を遮るための蒸気遮板12が設けられている。蒸気遮板12は、好ましくは基部から先端部にかけて下方又は上方へ(図示例では下方)傾斜して延びるように配設されている。蒸気遮板12は、平坦な板状とすることができるが、図13、図14に示すような断面山形の板状としてもよい。蒸気遮板12を設けることにより、液体原料の蒸気による誤動作を減らすことができる。蒸気遮板12の幅寸法や長さは適宜設計され得るが、好ましくは、幅寸法が保護管3の外径の1.5〜2倍であり、長さ寸法が保護管3の長さの1〜1.3倍程度である。
上記実施形態では、温度測定部材の保護管3に測温抵抗体を収容した例について説明したが、温度測定部材は、周囲温度を測定できればよく、測温抵抗体に代えて、その他の温度センサー、例えば、熱電対、サーミスタ、又は、赤外温度計を保護管に収容してもよい。
また、上記実施形態では、温度測定部材の保護管と液面検知部材の保護管を同じ水平高さに配置した例を示したが、温度測定部材の保護管を予め設定された下限液位より下方に配置して常に液中にあるようにしておいて、液面検知部材の保護管を下限液位及び又は上限液位に配置する構成としてもよい。
また、保護管のチャンバへの取り付けは上記実施形態に限らず、例えば、チャンバの壁に螺子孔を形成して保護管の外周に雄螺子を形成し、保護管をチャンバにねじ込む形式により固定することもできる。
また、上記実施形態では、密閉型の気化チャンバのについて説明したが、チャンバは上部が開放されたタンクでも使用可能である。
また、検知する液面は、半導体製造装置に用いられる液体原料に限らず、各種薬液等に対しても使用可能である。
1 液体原料気化供給装置
2 気化チャンバ
3 保護管
4 流量制御装置
L 液体原料
L1 液面
9 フランジ
10 金属ガスケット
9c、2f ガスケット用凹部
9d、2g ガスケット押え用環状突起
12 蒸気遮板

Claims (18)

  1. 液面検知部材と温度測定部材とを有し、液体を貯留するチャンバ内に設けられる液面計であって、前記液面検知部材が、測温抵抗体を収容した保護管を備え、前記チャンバ内に水平に配置されており、
    前記保護管が前記チャンバの側壁に水平方向に挿入されて固定されており、前記保護管が前記チャンバの側壁に固定するためのフランジを備え、該フランジと前記チャンバ側壁の外側面との間に該保護管の周囲を囲む金属ガスケットが介在され、該フランジと前記チャンバ側壁の外側面の各々に形成されて前記金属ガスケットを収容するガスケット用凹部が備えられていることを特徴とする前記液面計。
  2. 前記温度測定部材が、測温抵抗体が収容された保護管を備え、前記チャンバ内に水平に配置されていることを特徴とする請求項1に記載の液面計。
  3. 前記液面検知部材の保護管に備えられた前記フランジに前記温度測定部材の保護管が取り付けられて前記液面検知部材の保護管と前記温度測定部材の保護管とが一体化されていることを特徴とする請求項2に記載の液面計。
  4. 前記温度測定部材が、熱電対、サーミスタ、又は赤外温度計が収容された保護管を備えていることを特徴とする請求項1又は2に記載の液面計。
  5. 前記温度測定部材と前記液面検知部材とが同じ水平高さに配置されていることを特徴とする請求項2又は3に記載の液面計。
  6. 前記液面検知部材の測温抵抗体に温度測定用電流より大きな電流値の電流を流して該液面検知部材により測定された検知温度を、前記温度測定部材により測定された温度と比較することにより前記液面検知部材が液相部内に存在するか気相部内に存在するかを検知するように構成されている、請求項1に記載の液面計。
  7. 前記温度測定部材の測温抵抗体に温度測定用の第1の電流を流すとともに、前記液面検知部材の測温抵抗体に前記第1の電流より大きい第2の電流を流し、前記各測温抵抗体の抵抗値を比較することにより前記液面検知部材が液相部内に存在するか気相部内に存在するかを検知するように構成されている、請求項に記載の液面計。
  8. 前記温度測定部材が予め設定された下限液位より下方に配置され、前記液面検知部材が前記下限液位及び予め設定された上限液位の少なくとも一方の液位に配置されていることを特徴とする請求項7に記載の液面計。
  9. 液体原料を貯留するチャンバ内に水平に配置され、測温抵抗体が収容された1つの保護管を備え、
    前記保護管が前記チャンバの側壁に水平方向に挿入されて固定されており、前記保護管が前記チャンバの側壁に固定するためのフランジを備え、該フランジと前記チャンバ側壁の外側面との間に該保護管の周囲を囲む金属ガスケットが介在され、該フランジと前記チャンバ側壁の外側面の各々に形成されて前記金属ガスケットを収容するガスケット用凹部が備えられ、
    前記測温抵抗体に温度測定用の第1の電流値の電流と該第1の電流値より大きい第2の電流値の電流とを交互に流し、各々の電流値に対する前記測温抵抗体の抵抗値を比較することにより、前記保護管が液相部内に存在するか気相部内に存在するかを検知するように構成されている液面計。
  10. 液体を貯留するチャンバ内に水平に配置され、測温抵抗体が収容された1つの保護管を備え、
    前記保護管が前記チャンバの側壁に水平方向に挿入されて固定されており、前記保護管が前記チャンバの側壁に固定するためのフランジを備え、該フランジと前記チャンバ側壁の外側面との間に該保護管の周囲を囲む金属ガスケットが介在され、該フランジと前記チャンバ側壁の外側面の各々に形成されて前記金属ガスケットを収容するガスケット用凹部が備えられ、
    前記測温抵抗体に温度測定用電流より大きな所定の電流値の電流を流し、前記保護管が液相部内にあるときと気相部内にあるときとの抵抗値変化に基づいて、前記保護管が液相部内にあるか気相部内にあるかを検知するように構成されている液面計。
  11. 前記保護管に不動態処理が施されていることを特徴とする請求項1〜10の何れかに記載の液面計。
  12. 液体原料を貯留し気化させるチャンバと、前記チャンバ内に配置された液面検知部材と、前記チャンバ内の温度を測定する温度測定部材と、前記チャンバ内で気化された原料ガスの流量を制御する流量制御装置と、を備え、前記液面検知部材が、測温抵抗体を収容した保護管を備え、前記チャンバ内に水平に配置されており、
    前記保護管が前記チャンバの側壁に水平方向に挿入されて固定されており、前記保護管が前記チャンバの側壁に固定するためのフランジを備え、該フランジと前記チャンバ側壁の外側面との間に該保護管の周囲を囲む金属ガスケットが介在され、該フランジと前記チャンバ側壁の外側面の各々に形成されて前記金属ガスケットを収容するガスケット用凹部が備えられていることを特徴とする、液体原料気化供給装置。
  13. 該フランジと前記チャンバ側壁の外側面の各々に形成された前記ガスケット用凹部の其々にガスケット押え用環状突起が形成されていることを特徴とする請求項12に記載の液体原料気化供給装置。
  14. 前記温度測定部材が、測温抵抗体又は熱電対を収容した保護管を備え、前記チャンバ内に水平に配置されており、
    前記液面検知部材と前記温度測定部材とが、同じ水平高さに配置されていることを特徴とする請求項12に記載の液面計を備えた液体原料気化供給装置。
  15. 前記保護管の下方に、液体原料から上昇する蒸気を遮るための蒸気遮板が設けられていることを特徴とする請求項12に記載の液体原料気化供給装置。
  16. 前記蒸気遮板が傾斜状に延びていることを特徴とする請求項1に記載の液面計を備えた液体原料気化供給装置。
  17. 前記液面検知部材の保護管に備えられた前記フランジに前記温度測定部材の保護管が取り付けられて前記液面検知部材の保護管と前記温度測定部材の保護管とが一体化されていることを特徴とする請求項14に記載の液体原料気化供給装置。
  18. 該フランジと前記チャンバ側壁の外側面の各々に形成された前記ガスケット用凹部の其々にガスケット押え用環状突起が形成されていることを特徴とする請求項1または9または10に記載の液面計
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KR1020177003066A KR101930303B1 (ko) 2014-11-13 2015-11-02 액면계 및 액체 원료 기화 공급 장치
US15/525,479 US10604840B2 (en) 2014-11-13 2015-11-02 Liquid level indicator and liquid raw material vaporization feeder
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Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6212467B2 (ja) * 2014-11-13 2017-10-11 株式会社フジキン 液面計及び液体原料気化供給装置
JP6704809B2 (ja) * 2016-07-05 2020-06-03 東京エレクトロン株式会社 基板処理装置、基板処理方法および記憶媒体
KR102225059B1 (ko) * 2016-12-27 2021-03-09 가부시키가이샤 후지킨 액면계, 그것을 구비한 기화기, 및 액면 검지 방법
JP7137921B2 (ja) * 2017-11-07 2022-09-15 株式会社堀場エステック 気化システム及び気化システム用プログラム
CN109489764A (zh) * 2018-12-18 2019-03-19 中国矿业大学(北京) 一种实验室规模气体体积自动计量装置及方法
CN112843756A (zh) * 2020-12-29 2021-05-28 东华理工大学 液体蒸发气体发生器及其控制方法
KR102347205B1 (ko) * 2021-02-26 2022-01-06 (주)지오엘리먼트 전구체의 레벨 측정 기능을 구비한 기화기 시스템
JP2024008209A (ja) * 2022-07-07 2024-01-19 大陽日酸株式会社 固体材料容器、固体材料供給装置、及び固体材料供給方法

Family Cites Families (24)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3181557A (en) * 1962-11-02 1965-05-04 Jr James E Lannan Liquid interface sensor
US3905243A (en) * 1973-09-11 1975-09-16 Us Energy Liquid-level sensing device
US3983751A (en) * 1974-07-17 1976-10-05 Atlantic Richfield Company Method of measuring the level of elevated temperature particulate material
JPS6446716U (ja) * 1987-09-17 1989-03-22
JPS6446717U (ja) * 1987-09-17 1989-03-22
JPH039809A (ja) 1989-06-06 1991-01-17 Daietsu:Kk 水分計測方法
JPH0651834U (ja) * 1992-12-18 1994-07-15 ティーディーケイ株式会社 液面及び異常過熱検出装置
JP3009809B2 (ja) * 1993-08-26 2000-02-14 株式会社鷺宮製作所 半導体加工用液体原料収容容器における液面検出装置
JP3009809U (ja) * 1994-10-03 1995-04-11 タックメディカル株式会社 趾間部保護シート
JP2951954B1 (ja) * 1998-09-17 1999-09-20 ムサシノ機器株式会社 気圧式液面計
JP3869169B2 (ja) 1999-09-29 2007-01-17 株式会社鷺宮製作所 液面検出装置
JP3826072B2 (ja) * 2002-06-03 2006-09-27 アドバンスド エナジー ジャパン株式会社 液体材料気化供給装置
JP4405315B2 (ja) * 2004-05-28 2010-01-27 シャープ株式会社 蒸気調理器
JP4999605B2 (ja) * 2007-08-23 2012-08-15 日本エア・リキード株式会社 液化ガスの気化方法、気化装置およびこれを用いた液化ガス供給装置
JP5461786B2 (ja) 2008-04-01 2014-04-02 株式会社フジキン 気化器を備えたガス供給装置
JP5350824B2 (ja) 2009-02-03 2013-11-27 株式会社フジキン 液体材料の気化供給システム
US8438919B2 (en) * 2010-07-23 2013-05-14 Rosemount Aerospace Inc. Systems and methods for liquid level sensing having a differentiating output
JP5400816B2 (ja) 2011-01-31 2014-01-29 株式会社トリケミカル研究所 液面レベルセンサー
JP5913888B2 (ja) 2011-09-30 2016-04-27 国立大学法人東北大学 気化器
US9357881B2 (en) * 2012-03-31 2016-06-07 Pitco Frialator, Inc. Oil level detection system for deep fat fryer
JP2014211345A (ja) 2013-04-18 2014-11-13 株式会社八洲測器 液面検出装置
US20150323938A1 (en) * 2014-05-09 2015-11-12 Honeywell International Inc. Temperature-based level detection and control method and apparatus
EP2995913B1 (en) * 2014-09-10 2020-06-17 Bruker Switzerland AG Robust dynamical method for detecting the level of a liquid using resistance temperature detectors
JP6212467B2 (ja) * 2014-11-13 2017-10-11 株式会社フジキン 液面計及び液体原料気化供給装置

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