JP6199013B2 - 洗浄剤及び洗浄方法 - Google Patents
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Description
すなわち、本発明は、以下のとおりである。
二塩基酸エステル、水、及び式(1)で表されるグリコールエーテルを含み、
R1O−(R2O)n−R3 (1)
(式中、R1は炭素数1〜6のアルキル基又は炭素数3〜6のシクロアルキル基であり、R2は炭素数2〜5のアルキレン基であり、R3は水素、炭素数1〜6のアルキル基、又は炭素数3〜6のシクロアルキル基であり、nは1〜4の整数を示す。)
前記二塩基酸エステルの含有量が、4.99〜95質量%であり、
前記水の含有量が、0.01〜30質量%であり、
前記グリコールエーテルの含有量が、4.99〜95質量%であり、
イオウ含有量が12ppm以下であり、
ニッケルメッキを施しているスクリーン版用ステンレス製メッシュの洗浄用である、洗浄剤。
〔2〕
前記二塩基酸エステルが、アジピン酸ジメチル、グルタル酸ジメチル、及びコハク酸ジメチルからなる群から選ばれる1種以上である、〔1〕に記載の洗浄剤。
〔3〕
前記二塩基酸エステルが、下記(a)、(b)、及び(c)の混合物を含む、〔1〕又は〔2〕に記載の洗浄剤。
(a)アジピン酸ジメチル 1〜60質量%
(b)グルタル酸ジメチル 10〜80質量%
(c)コハク酸ジメチル 5〜40質量%
〔4〕
前記二塩基酸エステルの含有量が、30〜60質量%であり、
前記水の含有量が、5〜15質量%であり、
前記グリコールエーテルの含有量が、30〜60質量%である、〔1〕〜〔3〕のいずれか1項に記載の洗浄剤。
〔5〕
ニッケルメッキを施したスクリーン版用ステンレス製メッシュを〔1〕〜〔4〕のいずれか1項に記載の洗浄剤で洗浄する、洗浄方法。
本実施形態の洗浄剤は、二塩基酸エステルを含み、イオウ含有量が12ppm以下である。
イオウ含有量が12ppm以下であることにより、洗浄物のシミ、発生を抑制できる。二塩基酸エステルを含む洗浄剤中のイオウ含有量は、好ましくは6ppm以下、より好ましくは2ppm以下である。また、イオウ含有量の下限値は特に制限されないが、少ないほど好ましく、より好ましくは0.01ppmである。なお、洗浄剤中のイオウ含有量は、燃焼−イオンクロマトグラフィーによって硫酸イオンとして検出し、測定できる。より詳細には、実施例に記載の方法により測定することができる。
本実施形態に用いる二塩基酸エステルとしては、特に限定されないが、具体的には、アジピン酸、グルタル酸、コハク酸等の二塩基酸のアルキルエステルであることが好ましい。アルキル基の具体例としては、特に限定されないが、具体的には、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、sec−ブチル、t−ブチル、ペンチル、ヘキシル、シクロヘキシル等の炭素数1〜6のアルキル基が挙げられる。このなかでも、炭素数4以下のアルキル基が好ましく、メチル基がさらに好ましい。二塩基酸エステルとしてはアジピン酸ジメチル、グルタル酸ジメチル、及びコハク酸ジメチルからなる群から選ばれる1種以上であることがより好ましい。このような二塩基酸エステルであれば、より優れた洗浄力を有する洗浄剤となる。
本実施形態の洗浄剤中のイオウ含有量が、二塩基酸エステルに不純物として含まれるイオウ化合物に由来している場合、二塩基酸エステルに含まれるイオウ含有量は、好ましくは20ppm以下、より好ましくは15ppm以下、さらに好ましくは10ppm以下である。
二塩基酸エステル中に不純物としてイオウ化合物が含まれる場合、公知の精製法を用いて精製することにより、二塩基酸エステル中のイオウ含有量を20ppm以下に調整することができる。例えば、二塩基酸エステルと水を混合、攪拌した後、分層して有機層を取り出し、有機層を蒸留することにより、二塩基酸エステル中のイオウ含有量を20ppm以下に調整することができる。二塩基酸エステルのイオウ含有量は、燃焼−イオンクロマトグラフィーによって硫酸イオンとして検出し、測定できる。
(a)アジピン酸ジメチル 1〜60質量%
(b)グルタル酸ジメチル 10〜80質量%
(c)コハク酸ジメチル 5〜40質量%
が好ましく、
(a)アジピン酸ジメチル 5〜50質量%
(b)グルタル酸ジメチル 20〜75質量%
(c)コハク酸ジメチル 10〜30質量%
がより好ましく、
(a)アジピン酸ジメチル 10〜40質量%
(b)グルタル酸ジメチル 40〜65質量%
(c)コハク酸ジメチル 15〜25質量%
がさらに好ましい。このような混合物であることにより、より優れた洗浄力を有する洗浄剤となる。
本実施形態の洗浄剤は、水溶性汚れの溶解性向上、引火点を無くすため等の目的で水を含むことが好ましい。水の含有量としては、洗浄用途によって調整されるが好ましくは0.01〜30質量%であり、より好ましくは1〜25質量%であり、さらに好ましくは5〜15質量%である。上記好ましい範囲であることにより、水溶性汚れに対しより優れた洗浄力を有し、また、引火点が高い若しくは引火点を有さない洗浄剤となる。また、このように水が含まれたとしても、本実施形態の洗浄剤は、洗浄物にシミ、変色が発生しない高度な仕上がりを可能とする。
また、本実施形態の洗浄剤は、汚れに対する洗浄性向上のため、式(1)のグリコールエーテルを含むことが好ましい。
R1O−(R2O)n−R3 (1)
(式中、R1は炭素数1〜6のアルキル基又は炭素数3〜6のシクロアルキル基であり、R2は炭素数2〜5のアルキレン基であり、R3は水素、炭素数1〜6のアルキル基、又は炭素数3〜6のシクロアルキル基であり、nは1〜4の整数を示す。)
本洗浄剤には、その他公知の添加剤として、界面活性剤、防錆剤、安定剤、酸化防止剤等を、必要に応じて添加することも可能である。界面活性剤としては、公知の界面活性剤を使用できる。このような界面活性剤としては、特に限定されないが、具体的には、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル、ポリオキシエチレン−ポリオキシプロピレンアルキルエーテル等を挙げることができるが、これに限定されるものではない。
本実施形態の洗浄剤は、上記各成分を公知の方法により混合することにより製造することができる。
本実施形態の洗浄剤は、スクリーン版印刷等に付着したインキ、ペースト除去用の洗浄剤に用いることができる。本実施形態の洗浄剤は、インキ、ペーストに含まれる樹脂成分、溶剤成分を溶解、分散し、効率良くインキ、ペースト汚れを除去することができる。インキ、ペースト用の洗浄剤は、必要に応じて、水、グリコールエーテル、及びモノエステルからなる群から選ばれる少なくとも1種以上を含んでもよい。この場合水の好ましい割合としては、0.01〜30質量%、グリコールエーテルの好ましい割合としては4.99〜95質量%、モノエステルの好ましい割合としては40〜70質量%である。モノエステルとしては、特に限定されないが、具体的には、γ−ブチロラクトン、3−メトキシ−3−メチルアセテート、グリコールエーテルアセテート、酢酸アルキルエステル、乳酸アルキルエステル等が挙げられる。
本実施形態の洗浄方法は、上記洗浄剤を用いる。以下に本実施形態の洗浄剤を用いる洗浄方法について説明する。なお、本実施形態の洗浄剤を用いる洗浄方法は、公知の洗浄用の用具、洗浄機を用いて行うことができる。
ディスペンサー洗浄の場合は、樹脂混合タンク内に洗浄液を注入し、ディスペンサー自身の攪拌翼で攪拌して樹脂混合タンク内を洗浄し、洗浄後、洗浄液を樹脂混合タンク内から排液する方法も挙げられる。
表1に示す二塩基酸エステル1〜36を調製した。表1中、アジピン酸ジメチル(インビスタジャパン株式会社製;DBE−6)をDMA、グルタル酸ジメチル(インビスタジャパン株式会社製;DBE−5)をDMG、コハク酸ジメチル(インビスタジャパン株式会社製;DBE−4)をDMSと略する。調整はDMA、DMG、DMSの単体及びDMA、DMG、DMSの混合物(インビスタジャパン株式会社製;DBE)を適宜測量して行った。表1中の各成分の数値は、二塩基酸エステル全体に対する質量%を示した。
洗浄剤中、及び二塩基酸エステル中のイオウ含有量は、燃焼−イオンクロマトグラフィーによって硫酸イオンとして検出し、測定した。
400メッシュのスクリーン版用ステンレス製ニッケルメッキメッシュに表2、表3、表4に示す洗浄剤を塗布し、80℃で熱風乾燥した。乾燥後のメッシュ表面を目視観察し、メッシュ表面の外観変化を下記基準で判定した。シミ、変色の区別は、外観変化部分をエタノールで拭き取り、消失した場合をシミ、残留した場合を変色と判断した。
◎:シミ無し ◎:変色無し
○:ほとんどシミ無し ○:ほとんど変色無し
×:明らかにシミ有り ×:明らかに変色有り
フラックス成分であるロジン(和光純薬工業株式会社製;ロジン)約0.1gを溶融塗布したガラスエポキシ製基板を表2の洗浄剤に浸漬した。浸漬中、5分間、周波数40kHz、温度50℃の条件で超音波洗浄を行い、次いで1分間超音波仕上げ洗浄を行った。その後に、エアブローで液を切り、乾燥後の基板表面のロジン残渣を目視観察し、下記基準で洗浄性を判定した。
◎:ロジン残渣無し
○:ほとんどロジン残渣無し
×:明らかにロジン残渣有り
インキ(太陽インキ製;S−100Y)約0.1gを200メッシュのステンレス製メッシュに付着させ、表3の洗浄剤に浸漬した。浸漬中、5分間、周波数40kHz、温度35℃の条件で超音波洗浄を行い、次いで1分間超音波仕上げ洗浄を行った。その後に、エアブローで液を切り、80℃の温風で10分間乾燥後のメッシュ表面のインキ残渣を目視観察し、下記基準で洗浄性を判定した。
◎:インキ残渣無し
○:ほとんどインキ残渣無し
×:明らかにインキ残渣有り
内径0.3mmのディスペンサーノズルに、シール剤(協立化学産業株式会社製;熱硬化型シール剤ワールドロック780P)を塗布し、表4の洗浄剤に浸漬した。浸漬中、周波数28kHz、温度30〜40℃の条件で30分間超音波洗浄を行い、次いで30分間超音波仕上げ洗浄を行った後に、エアブローで液を切り、乾燥後のノズルのシール剤残渣を目視観察し、下記基準で洗浄性を判定した。
◎:シール剤残渣無し
○:ほとんどシール剤残渣無し
×:明らかにシール剤残渣有り
Claims (5)
- 二塩基酸エステル、水、及び式(1)で表されるグリコールエーテルを含み、
R1O−(R2O)n−R3 (1)
(式中、R1は炭素数1〜6のアルキル基又は炭素数3〜6のシクロアルキル基であり、R2は炭素数2〜5のアルキレン基であり、R3は水素、炭素数1〜6のアルキル基、又は炭素数3〜6のシクロアルキル基であり、nは1〜4の整数を示す。)
前記二塩基酸エステルの含有量が、4.99〜95質量%であり、
前記水の含有量が、0.01〜30質量%であり、
前記グリコールエーテルの含有量が、4.99〜95質量%であり、
イオウ含有量が12ppm以下であり、
ニッケルメッキを施しているスクリーン版用ステンレス製メッシュの洗浄用である、洗浄剤。 - 前記二塩基酸エステルが、アジピン酸ジメチル、グルタル酸ジメチル、及びコハク酸ジメチルからなる群から選ばれる1種以上である、請求項1に記載の洗浄剤。
- 前記二塩基酸エステルが、下記(a)、(b)、及び(c)の混合物を含む、請求項1又は2に記載の洗浄剤。
(a)アジピン酸ジメチル 1〜60質量%
(b)グルタル酸ジメチル 10〜80質量%
(c)コハク酸ジメチル 5〜40質量% - 前記二塩基酸エステルの含有量が、30〜60質量%であり、
前記水の含有量が、5〜15質量%であり、
前記グリコールエーテルの含有量が、30〜60質量%である、請求項1〜3のいずれか1項に記載の洗浄剤。 - ニッケルメッキを施したスクリーン版用ステンレス製メッシュを請求項1〜4のいずれか1項に記載の洗浄剤で洗浄する、洗浄方法。
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