JP6197573B2 - スイッチング素子検査方法及び電子回路ユニット - Google Patents

スイッチング素子検査方法及び電子回路ユニット Download PDF

Info

Publication number
JP6197573B2
JP6197573B2 JP2013220063A JP2013220063A JP6197573B2 JP 6197573 B2 JP6197573 B2 JP 6197573B2 JP 2013220063 A JP2013220063 A JP 2013220063A JP 2013220063 A JP2013220063 A JP 2013220063A JP 6197573 B2 JP6197573 B2 JP 6197573B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
switching element
inspection
test
test voltage
voltage
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2013220063A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2015081848A (ja
Inventor
健司 中尾
健司 中尾
武志 岡村
武志 岡村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toyota Motor Corp
Original Assignee
Toyota Motor Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toyota Motor Corp filed Critical Toyota Motor Corp
Priority to JP2013220063A priority Critical patent/JP6197573B2/ja
Priority to PCT/JP2014/004832 priority patent/WO2015059867A1/ja
Publication of JP2015081848A publication Critical patent/JP2015081848A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6197573B2 publication Critical patent/JP6197573B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R31/00Arrangements for testing electric properties; Arrangements for locating electric faults; Arrangements for electrical testing characterised by what is being tested not provided for elsewhere
    • G01R31/327Testing of circuit interrupters, switches or circuit-breakers
    • G01R31/3277Testing of circuit interrupters, switches or circuit-breakers of low voltage devices, e.g. domestic or industrial devices, such as motor protections, relays, rotation switches

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Testing Of Individual Semiconductor Devices (AREA)
  • Tests Of Electronic Circuits (AREA)

Description

本発明は、スイッチング素子検査方法及び電子回路ユニットに関し、特に並列接続されたスイッチング素子を含む電子回路ユニットのスイッチング素子検査方法に関する。
負荷回路と電源との間に電源スイッチを設け、負荷への電源供給を制御することが行われている。近年、負荷回路の消費電力が増加したことに伴い、この電源スイッチにも高い電流供給能力が要求されている。そこで、電源スイッチの電流供給能力を向上させる手段の1つとして、スイッチング素子を並列接続することが行われている。
また、このような並列接続されたスイッチング素子を有する電子回路ユニットについても、電子回路ユニットに搭載されたスイッチング素子が正しく機能していることを保証するテストを行うことが、他の電子回路ユニット同様に求められる。そこで、並列接続された回路素子をテストする方法が特許文献1に開示されている。
特許文献1では、並列接続された複数のインバータを有し、当該複数のインバータを構成する複数のトランジスタを個別に制御する信号をデコーダにより生成することで、複数のトランジスタを個別にテストする。
特開2012−208037号公報
しかしながら、電流供給能力を向上させるために並列接続された複数のスイッチング素子は、通常一括して制御される。そのため、特許文献1に記載の技術のように、並列接続された複数のスイッチング素子を個別にテストするためにデコーダ等の通常の状態とは異なる信号状態を生成する回路を設けることは、回路素子の増加、或いは、回路の実装面積の増加を招くため問題である。
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、テストのために追加される回路を少なくしながら、並列接続された複数のスイッチング素子を有する電子回路ユニットにおいてスイッチング素子を個別に検査することで信頼性を向上させることを目的とするものである。
本発明にかかるスイッチング素子検査方法の一態様は、並列に接続された複数のスイッチング素子を含む電子回路ユニットを検査するスイッチング素子検査方法であって、前記スイッチング素子の第1の端子と第2の端子に、それぞれ第1の検査用端子と第2の検査用端子を設置するステップと、前記複数のスイッチング素子から選択した1つの検査対象スイッチング素子の制御端子に検査信号を与える検査信号入力端子を設置するステップと、前記検査信号として前記検査対象スイッチング素子の閾値電圧よりも大きな第1のテスト電圧を印加するステップと、前記第1の検査用端子と、前記第2の検査用端子と、の間の電圧差を検査するステップと、を有する。
本発明にかかる電子回路ユニットの一態様は、電源供給端子と出力端子との間に並列に接続される複数のスイッチング素子と、前記複数のスイッチング素子を制御する制御信号を前記複数のスイッチング素子に一括して与える制御信号生成回路と、前記制御信号生成回路と前記複数のスイッチング素子との間に設けられ、前記複数のスイッチング素子毎に制御端子に電圧を与える複数のテストパッドを備えるテスト電圧生成回路と、を有し、前記テスト電圧生成回路は、テスト対象の検査対象スイッチング素子に対応するテストパッドに与えられる第1のテスト電圧から、前記複数のスイッチング素子の閾値電圧よりも小さな第2のテスト電圧を生成し、検査対象スイッチング素子以外の非検査対象スイッチング素子に前記第2のテスト電圧を与える。
本発明によれば、並列接続された複数のスイッチング素子を有する電子回路ユニットの信頼性を向上させることができる。
実施の形態1にかかる電子回路ユニットのブロック図である。 実施の形態1にかかるスイッチング素子検査方法を説明するフローチャートである。 実施の形態1にかかる電子回路ユニットの比較例となる電子回路ユニットのブロック図である。 実施の形態2にかかる電子回路ユニットのブロック図である。 実施の形態2にかかるスイッチング素子検査方法を説明するフローチャートである。
以下、図面を参照して本発明の実施の形態について説明する。まず、本発明にかかるスイッチング素子検査方法において検査対象となる電子回路ユニットについて説明する。そこで、図1に実施の形態1にかかる電子回路ユニット1のブロック図を示す。この電子回路ユニットは、例えば、PCB(Printed Circuit Board)基板の上にスイッチング素子、スイッチング素子を制御する制御回路(例えば、ゲート駆動回路)、及び、その他付随する回路素子が実装されたものである。また、電子回路ユニットには、スイッチング素子に供給する電源と、制御回路等のその他回路素子に供給される電源とが個別に供給されるものとする。なお、制御回路等のスイッチング素子以外の素子に対する電源供給は、スイッチング素子に供給される電源からPCB基板上に搭載される電源回路を用いて行っても良い。また、以下の説明では、スイッチング素子以外の回路素子に対する電源供給経路については説明を省略する。
図1に示すように、実施の形態1にかかる電子回路ユニット1は、制御回路(例えば、ゲート駆動回路10)、スイッチング素子(例えば、スイッチングトランジスタM1、M2)、電源供給端子VCC、出力端子OUT、ドレインパッドPADd、ソースパッドPADs、テストパッドPAD1、PAD2を有する。
ゲート駆動回路10は、複数のスイッチング素子(例えば、スイッチングトランジスタM1、M2)を制御する制御信号をスイッチングトランジスタM1、M2に一括して与える。また、ゲート駆動回路10は、ゲート制御信号生成回路11及びテスト電圧生成回路12を有する。ゲート駆動回路10では、スイッチングトランジスタM1、M2の制御端子(例えば、ゲート端子)に一括で与える制御信号をゲート制御信号生成回路11で生成する。また、ゲート駆動回路10では、ゲート制御信号生成回路11で生成された制御信号の電圧を、テスト電圧生成回路12を用いてスイッチングトランジスタM1、M2の制御に適した電圧に変換する。
テスト電圧生成回路12は、上記したように、通常動作において制御信号の電圧をスイッチングトランジスタM1、M2の制御に適した電圧に変換するものではある。しかし、実施の形態1では、テスト電圧生成回路12が、テスト時にゲート駆動回路10内に設けられるテストパッドPAD1、PAD2に与えられる検査信号からスイッチングトランジスタM1、M2のゲートに与える電圧を生成するものであるため、説明のために、テスト電圧生成回路と称した。つまり、テスト電圧生成回路12は、ゲート駆動回路10において通常動作で用いられものであり、テストのために新たに設けられるものではない。このテスト電圧生成回路12の詳細は後述する。
ゲート制御信号生成回路11は、例えば、電源電圧VCCを昇圧した電圧をスイッチングトランジスタM1、M2を導通状態とする制御信号として出力する。また、ゲート制御信号生成回路11は、図示しない他の回路からの指示に基づき制御信号をハイレベル(例えば、昇圧電圧)とするかロウレベルとするかを切り替える。
スイッチングトランジスタM1、M2は、電源電圧VCCが与えられる電源端子と出力端子OUTとの間に並列接続される。スイッチングトランジスタM1、M2の制御端子(例えば、ゲート)には、通常使用モードでは、ゲート制御信号生成回路11から同じ論理レベルの制御信号が与えられる。また、スイッチングトランジスタM1、M2のゲートには、テストモードにおいては異なる論理レベルの電圧が印加される。このテストモード時の動作の詳細は後述する。
また、実施の形態1にかかる電子回路ユニット1の出力端子OUTと接地電圧GNDが与えられる接地端子との間には、負荷回路を擬似的に再現した負荷抵抗RLが接続される。また、電子回路ユニット1では、スイッチングトランジスタM1、M2の第1の端子(例えば、ドレイン端子)にドレインパッドPADdが設けられる。電子回路ユニット1では、スイッチングトランジスタM1、M2の第2の端子(例えば、ソース端子)にソースパッドPADsが設けられる。
続いて、テスト電圧生成回路の詳細について説明する。ここでは、特に、テスト時を想定したテスト電圧生成回路12の構成について説明する。テスト電圧生成回路12は、ゲート制御信号生成回路11とスイッチングトランジスタM1、M2との間に設けられ、第1のテスト電圧から第2のテスト電圧を生成する。また、テスト電圧生成回路12は、複数のスイッチング素子毎にスイッチング素子のゲートに電圧を与える複数のテストパッドを備える。テスト電圧生成回路12は、第2のテスト電圧により、第1のテスト電圧がゲートに与えられる検査対象スイッチングトランジスタ以外の非検査対象スイッチングトランジスタを遮断状態とする。
また、テスト電圧生成回路12は、スイッチング素子毎に、ゲート制御信号生成回路11とスイッチングトランジスタのゲートとを接続する配線上に挿入される第1の抵抗と、第1の抵抗とスイッチングトランジスタのゲートとを接続する配線と接地端子との間に設けられる第2の抵抗と、を有する。図1に示す例では、抵抗R11がスイッチングトランジスタM1に対応して設けられる第1の抵抗であり、抵抗R12がスイッチングトランジスタM1に対応して設けられる第2の抵抗である。また、抵抗R21がスイッチングトランジスタM2に対応して設けられる第1の抵抗であり、抵抗R22がスイッチングトランジスタM2に対応して設けられる第2の抵抗である。
より具体的には、抵抗R11は、ゲート制御信号生成回路11とスイッチングトランジスタM1のゲートとの間に設けられる。抵抗R12は、抵抗R11とスイッチングトランジスタM1のゲートとを接続する配線と接地端子との間に設けられる。そして、テスト電圧生成回路12では、抵抗R11とスイッチングトランジスタM1のゲートとを接続する配線にテストパッドPAD1が設けられる。また、抵抗R21は、ゲート制御信号生成回路11とスイッチングトランジスタM2のゲートとの間に設けられる。抵抗R22は、抵抗R21とスイッチングトランジスタM2のゲートとを接続する配線と接地端子との間に設けられる。そして、テスト電圧生成回路12では、抵抗R21とスイッチングトランジスタM2のゲートとを接続する配線にテストパッドPAD2が設けられる。つまり、テスト電圧生成回路12は、第1の抵抗とスイッチングトランジスタのゲートとを接続する配線にテスト電圧が印加される。テスト電圧は、図示していない検査装置から出力されるものである。
ここで、テスト電圧生成回路12に印加される第1のテスト電圧と、テスト電圧生成回路12が生成する第2のテスト電圧との関係について説明する。この第1のテスト電圧は、電子回路ユニット1のテストモードにおいて図示していない検査装置から検査信号として与えられる物である。
実施の形態1にかかるスイッチング素子の検査方法では、電子回路ユニット1をテストモードとした場合、ゲート制御信号生成回路11の出力を遮断状態とする。そして、検査装置からテストの対象となる検査対象スイッチングトランジスタのゲートに接続されるテストパッドに第1のテスト電圧を印加すると共に、テスト電圧生成回路12により第2のテスト電圧を生成する。これにより、検査対象スイッチングトランジスタが導通状態となり、検査対象スイッチングトランジスタ以外の非検査対象スイッチングトランジスタを遮断状態とする。
第1のテスト電圧と第2のテスト電圧との関係は、スイッチングトランジスタM1を検査対象とした場合、(1)式のような関係となる。この(1)式において、Vg1は、第1のテスト電圧であって、テストパッドPAD1に印加されるものである。Vg2は、第2のテスト電圧であって、スイッチングトランジスタM2のゲートに印加されるものである。Vth2は、非検査対象スイッチングトランジスタであるスイッチングトランジスタM2の閾値電圧である。また、R11、R21、R22はそれぞれ抵抗R11、R21、R22の抵抗値でる。
Figure 0006197573
なお、第1の抵抗と第2の抵抗との関係が上記(1)式を満たせない場合、第2のテスト電圧として、非検査対象スイッチングトランジスタのゲートに接地電圧GNDを与えても良い。
続いて、実施の形態1にかかるスイッチング素子検査方法について詳細に説明する。そこで、実施の形態1にかかるスイッチング素子検査方法の手順を示すフローチャートを図2に示す。
図2に示すように、実施の形態1にかかるスイッチング素子検査方法では、まず電子回路ユニット1のドレインパッドPADd及びソースパッドPADsに検査装置の第1の検査用端子及び第2の検査用端子を設置すると共に、テストパッドPAD1、PAD2に制御信号入力端子を設置する(ステップS1)。なお、以下の説明では、第1の検査用端子、第2の検査用端子及び検査信号入力端子をプローブピンと称す。
続いて、実施の形態1にかかるスイッチング素子検査方法では、スイッチングトランジスタM1、M2に電源電圧VCCを印加する(ステップS2)。このステップS2では、テストパッドPAD1、PAD2には電圧が印加されおらず、かつ、ゲート制御信号生成回路11がオフ又は出力が遮断状態となっているため、ドレインパッドPADdが電源電圧VCCとなり、ソースパッドPADsが接地電圧GNDとなる。
続いて、実施の形態1にかかるスイッチング素子検査方法では、テストパッドPAD1に検査信号として第1のテスト電圧Vg1を印加して、検査対象のスイッチングトランジスタM1のゲートに第1のテスト電圧Vg1を印加すると共に、非検査対象のスイッチングトランジスタM2のゲートに印加する第2のテスト電圧Vg2を生成する(ステップS3)。この第1のテスト電圧Vg1は、検査対象のスイッチングトランジスタM1を導通状態とするのに十分な電圧である。また、第2のテスト電圧Vg2は、(1)式で算出される電圧であり、スイッチングトランジスタM2を遮断状態とするのに十分な電圧である。
続いて、実施の形態1にかかるスイッチング素子検査方法では、ドレインパッドPADdの電圧とソースパッドPADsの電圧とを測定して、検査対象のスイッチングトランジスタM1のドレイン・ソース間電圧が規定電圧Vpassよりも小さいか否かを判定する(ステップS4)。そして、ドレイン・ソース間電圧が規定電圧Vpassよりも大きいと判断された場合、スイッチングトランジスタM1の実装状態或いは素子特性に不具合があると判断して測定を終了する。一方、ドレイン・ソース間電圧が規定電圧Vpass以下であると判断された場合、スイッチングトランジスタM1の実装状態或いは素子特性は正しい状態であると判断してスイッチングトランジスタM1の測定を終了する。
続いて、実施の形態1にかかるスイッチング素子検査方法では、テストパッドPAD2に第1のテスト電圧Vg1を印加して、検査対象のスイッチングトランジスタM2のゲートに第1のテスト電圧Vg1を印加すると共に、非検査対象のスイッチングトランジスタM1のゲートに印加する第2のテスト電圧Vg2を生成する(ステップS5)。この第1のテスト電圧Vg1は、検査対象のスイッチングトランジスタM2を導通状態とするのに十分な電圧である。また、第2のテスト電圧Vg2は、(1)式で算出される電圧であり、スイッチングトランジスタM1を遮断状態とするのに十分な電圧である。
続いて、実施の形態1にかかるスイッチング素子検査方法では、ドレインパッドPADdの電圧とソースパッドPADsの電圧とを測定して、検査対象のスイッチングトランジスタM2のドレイン・ソース間電圧が規定電圧Vpassよりも小さいか否かを判定する(ステップS6)。そして、ドレイン・ソース間電圧が規定電圧Vpassよりも大きいと判断された場合、スイッチングトランジスタM2の実装状態或いは素子特性に不具合があると判断して測定を終了する。一方、ドレイン・ソース間電圧が規定電圧Vpass以下であると判断された場合、スイッチングトランジスタM2の実装状態或いは素子特性は正しい状態であると判断して測定を終了する。
続いて、実施の形態1にかかるスイッチング素子検査方法では、電子回路ユニット1のテストパッドから検査装置のプローブピンから外して測定を終了する(ステップS7)。
なお、上記フローチャートにおける規定電圧Vpassは、スイッチングトランジスタのオン抵抗と、負荷抵抗RLに流れる電流として想定される出力電流値との積に基づき設定されるものである。
上記説明より、実施の形態1にかかるスイッチング素子検査方法及び電子回路ユニットによれば、並列接続されたスイッチングトランジスタのゲートに個別に電圧を印加するテストパッドにより、複数のスイッチングトランジスタを個別に導通状態とすることができる。また、実施の形態1にかかるスイッチング素子検査方法では、テスト電圧生成回路12により検査対象のスイッチングトランジスタを導通状態とする第1のテスト電圧から非検査対象のスイッチングトランジスタを遮断状態とする第2のテスト電圧を生成することができる。そのため、実施の形態1にかかるスイッチング素子検査方法及び電子回路ユニット1を用いることで、1つの電圧出力と2つの電圧観測のみを行う検査装置により、1つの制御信号により一括して制御され、かつ、並列接続された複数のスイッチングトランジスタを個別に検査することができる。
また、実施の形態1にかかるスイッチング素子検査方法及び電子回路ユニット1によれば、テスト電圧生成回路12は、ゲート駆動回路10において通常使われる回路であり、上記動作を実現するために別途回路を追加する必要がない。
ここで、上記効果をさらに説明するために、1つの電圧出力と2つの電圧観測のみを行う検査装置により、1つの制御信号により一括して制御され、かつ、並列接続された複数のスイッチングトランジスタを個別に検査する場合の電子回路ユニット100のブロック図を図3に示す。図3に示す例では、1つの電圧を印加することで2つのスイッチングトランジスタを導通状態とするために、ゲート制御信号生成回路11の出力にテストパッドPADgが設けられる。この図3に示す電子回路ユニット100は、テストパッドPADgにテスト電圧を印加することで、スイッチングトランジスタM1、M2の両方を一度の検査することができる。しかしながら、電子回路ユニット100では、スイッチングトランジスタM1、M2のいずれか一方の不具合があった場合であっても正常なスイッチングトランジスタにより、正常と判断されうるドレイン・ソース間電圧が測定されてしまう、誤判定が生じる可能性がある。
しかしながら、実施の形態1にかかるスイッチング素子検査方法及び電子回路ユニット1では、個別にスイッチングトランジスタを検査できるため、上記のような誤判定は発生しない。また、実施の形態1にかかるスイッチング素子検査方法及び電子回路ユニット1は、スイッチングトランジスタの誤判定が防止できることで、電子回路ユニット1の信頼性を向上させることができる。
なお、上記説明では、検査処理中は、ゲート制御信号生成回路11をオフ状態又は出力が遮断された状態とするとした。しかし、検査処理中にゲート制御信号生成回路11の出力をロウレベルとしてもよい。検査処理中にゲート制御信号生成回路11の出力をロウレベルとした場合、第1の抵抗と第2の抵抗の抵抗値に関わらず非検査対象のスイッチングトランジスタを遮断状態とすることができる。また、この場合、ゲート制御信号生成回路11の第2の抵抗は削除することもできる。
なお、実施の形態1にかかる電子回路ユニット1では、テスト電圧生成回路12が第1の抵抗及び第2の抵抗を有することで、ゲート制御信号生成回路11が設けられていない状態、或いは、ゲート制御信号生成回路11が確実に測定に影響しない状態とした状態で検査を実施出来る点で有利である。
実施の形態2
実施の形態2では、実施の形態1にかかる電子回路ユニット1のスイッチングトランジスタの並列数をさらに多くした場合のスイッチング素子検査方法について説明する。そこで、実施の形態2にかかる電子回路ユニット2のブロック図を図4に示す。なお、実施の形態2の説明では、実施の形態1で説明した構成要素と同じ構成要素については、実施の形態1と同じ符号を付して説明を省略する。
図4に示すように、実施の形態2にかかる電子回路ユニット2は、n個のスイッチングトランジスタが並列接続される。また、電子回路ユニット2は、n個のスイッチングトランジスタに制御信号を伝達する配線に、それぞれ、第1の抵抗(図4の抵抗R11〜Rn1)と第2の抵抗(図4の抵抗R12〜Rn2)とを有する。第1の抵抗は、制御信号を伝達する配線に直列に設けられるものであり、第2の抵抗は、制御信号を伝達する配線と接地端子との間に設けられるものである。また、図4では、抵抗R11〜Rn1と、抵抗12〜Rn2とを有する回路として、テスト電圧生成回路21を示した。また、テスト電圧生成回路11に変えてテスト電圧生成回路21を有するゲート駆動回路の符号を20とした。
また、テスト電圧生成回路21は、n個のスイッチングトランジスタのそれぞれに対応した複数のテストパッドPAD1〜PADnを有する。テストパッドPAD1〜PADnのうち検査対象として選択されたスイッチングトランジスタに対応するテストパッドには、スイッチングトランジスタを導通状態とする第1のテスト電圧が印加される。
続いて、実施の形態2にかかるスイッチング素子検査方法の手順について説明する。そこで、図5に実施の形態2にかかるスイッチング素子検査方法の手順を示すフローチャートを示す。
図5に示すように、実施の形態2にかかるスイッチング素子検査方法では、まず電子回路ユニット1のテストパッド(例えば、ドレインパッドPADd、ソースパッドPADs、テストパッドPAD1〜PADn)に検査装置のプローブピンを接続する(ステップS11)。
続いて、実施の形態2にかかるスイッチング素子検査方法では、スイッチングトランジスタM1〜Mnに電源電圧VCCを印加する(ステップS12)。このステップS12では、テストパッドPAD1〜PADnには電圧が印加されおらず、かつ、ゲート制御信号生成回路11がオフ又は出力が遮断状態となっているため、ドレインパッドPADdが電源電圧VCCとなり、ソースパッドPADsが接地電圧GNDとなる。
続いて、実施の形態2にかかるスイッチング素子検査方法では、検査対象のスイッチングトランジスタの番号をiとした場合、検査装置にて、選択するスイッチングトランジスタを1番目(つまり、i=1)に設定する(ステップS13)。その後、テストパッドPADiに第1のテスト電圧Vg1を印加して、検査対象のスイッチングトランジスタMiのゲートに第1のテスト電圧Vg1を印加すると共に、非検査対象のスイッチングトランジスタMjのゲートに印加する第2のテスト電圧Vg2を生成する(ステップS14)。なお、jはi以外の数字を示すものであり、n個のスイッチングトランジスタがある場合、i以外の1〜nの整数を示す。また、この第1のテスト電圧Vg1は、検査対象のスイッチングトランジスタMiを導通状態とするのに十分な電圧である。また、第2のテスト電圧Vg2は、(1)式で算出される電圧であり、スイッチングトランジスタMjを遮断状態とするのに十分な電圧である。
続いて、実施の形態2にかかるスイッチング素子検査方法では、ドレインパッドPADdの電圧とソースパッドPADsの電圧とを測定して、検査対象のスイッチングトランジスタMiのドレイン・ソース間電圧が規定電圧Vpassよりも小さいか否かを判定する(ステップS15)。そして、ドレイン・ソース間電圧が規定電圧Vpassよりも大きいと判断された場合、スイッチングトランジスタMiの実装状態或いは素子特性に不具合があると判断して測定を終了する。一方、ドレイン・ソース間電圧が規定電圧Vpass以下であると判断された場合、スイッチングトランジスタMiの実装状態或いは素子特性は正しい状態であると判断する。
続いて、実施の形態2にかかるスイッチング素子検査方法では、検査対象のスイッチングトランジスタの番号を示すiがn以上の値であるかを判断し(ステップS16)、iがnより小さい場合は、iを1つ増加させて(ステップS17)、ステップS14〜S15の処理を繰り返す。一方、ステップS16で検査対象のスイッチングトランジスタの番号を示すiがn以上の値であると判断された場合、電子回路ユニット2のテストパッドから検査装置のプローブピンから外して測定を終了する(ステップS18)。
上記説明より、実施の形態2にかかるスイッチング素子検査方法及び電子回路ユニット2においても、テスト電圧生成回路21を備えることで、1つの制御信号により一括して制御され、かつ、並列接続された複数のスイッチングトランジスタを個別に検査することができる。また、実施の形態2にかかるスイッチング素子検査方法及び電子回路ユニット2においても電子回路ユニット2の信頼性を高めることができる。また、実施の形態2においても、第2のテスト電圧Vg2を生成するために新たに追加する回路は必要ない。
上記説明は、本発明者によってなされた発明を実施の形態に基づき具体的に説明したが、本発明は既に述べた実施の形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲において種々の変更が可能であることはいうまでもない。例えば、上記実施の形態では、スイッチング素子として、MOS(Metal Oxide Semiconductor)型トランジスタを採用した例について説明したが、バイポーラ型トランジスタをスイッチング素子として利用することもできる。この場合、第1の端子はバイポーラトランジスタのコレクタ端子に相当し、第2の端子はバイポーラトランジスタのエミッタ端子に相当し、制御端子はバイポーラトランジスタのベース端子となる。
1、2 電子回路ユニット
10、20 ゲート駆動回路
11 ゲート制御信号生成回路
12、21 テスト電圧生成回路
PADd ドレインパッド
PADs ソースパッド
PAD1、PAD2、PADm、PADn テストパッド

Claims (10)

  1. 並列に接続された複数のスイッチング素子を含む電子回路ユニットを検査するスイッチング素子検査方法であって、
    前記電子回路ユニットは、
    前記複数のスイッチング素子を制御する制御信号を前記複数のスイッチング素子に一括して与える制御信号生成回路と、
    前記制御信号生成回路と前記複数のスイッチング素子との間に設けられ、検査対象スイッチング素子の閾値電圧よりも大きな第1のテスト電圧から前記検査対象スイッチング素子以外の非検査対象スイッチング素子の制御端子に印加する第2のテスト電圧を生成するテスト電圧生成回路と、を有し、
    前記テスト電圧生成回路は、前記スイッチング素子毎に、
    前記制御信号生成回路と前記スイッチング素子の制御端子とを接続する配線上に挿入される第1の抵抗と、
    前記第1の抵抗と前記スイッチング素子の制御端子とを接続する配線と接地端子との間に設けられる第2の抵抗と、を有し、
    前記第1の抵抗と前記スイッチング素子の制御端子とを接続する配線に前記第1のテスト電圧が印加され、
    前記スイッチング素子の第1の端子と第2の端子に、それぞれ第1の検査用端子と第2の検査用端子を設置するステップと、
    前記複数のスイッチング素子から選択した1つの検査対象スイッチング素子の制御端子に検査信号を与える検査信号入力端子を設置するステップと、
    前記検査信号として前記第1のテスト電圧を印加するステップと、
    前記第1の検査用端子と、前記第2の検査用端子と、の間の電圧差を検査するステップと、
    を有するスイッチング素子検査方法。
  2. 前記第1のテスト電圧を、前記検査対象スイッチング素子を切り替えながら印加する請求項1に記載のスイッチング素子検査方法。
  3. 前記第2のテスト電圧は、
    前記検査対象スイッチング素子の制御端子に接続される前記第1の抵抗と、前記検査対象スイッチング素子以外の非検査対象スイッチング素子の制御端子に接続される前記第1の抵抗及び前記第2の抵抗と、から算出される第1の合成抵抗と、前記非検査対象スイッチング素子の制御端子に接続される前記第2の抵抗と、の抵抗比と、前記第1のテスト電圧と、の積が、前記非検査対象スイッチング素子の閾値電圧よりも小さくなるように設定される請求項に記載のスイッチング素子検査方法。
  4. 前記テスト電圧生成回路は、
    前記第1の抵抗と前記スイッチング素子の制御端子とを接続する配線に設けられ、前記第1のテスト電圧が印加されるテストパッドが設けられる請求項に記載のスイッチング素子検査方法。
  5. 前記テスト電圧生成回路は、前記制御信号生成回路を含むゲート駆動回路内において前記ゲート駆動回路の出力に設けられる請求項乃至のいずれか1項に記載のスイッチング素子検査方法。
  6. 前記第1のテスト電圧を前記検査対象スイッチング素子の制御端子に印加する期間に、前記検査対象スイッチング素子以外の非検査対象スイッチング素子の制御端子に接地電圧を印加する請求項1乃至のいずれか1項に記載のスイッチング素子検査方法。
  7. 電源供給端子と出力端子との間に並列に接続される複数のスイッチング素子と、
    前記複数のスイッチング素子を制御する制御信号を前記複数のスイッチング素子に一括して与える制御信号生成回路と、
    前記制御信号生成回路と前記複数のスイッチング素子との間に設けられ、前記複数のスイッチング素子毎に制御端子に電圧を与える複数のテストパッドを備えるテスト電圧生成回路と、を有し、
    前記テスト電圧生成回路は、
    テスト対象の検査対象スイッチング素子に対応するテストパッドに与えられる第1のテスト電圧から、前記複数のスイッチング素子の閾値電圧よりも小さな第2のテスト電圧を生成し、
    検査対象スイッチング素子以外の非検査対象スイッチング素子に前記第2のテスト電圧を与える電子回路ユニット。
  8. 前記テスト電圧生成回路は、前記複数のスイッチング素子毎に、
    前記制御信号生成回路と前記スイッチング素子の制御端子とを接続する配線上に挿入される第1の抵抗と、
    前記第1の抵抗と前記スイッチング素子の制御端子とを接続する配線と接地端子との間に設けられる第2の抵抗と、を有し、
    前記第1の抵抗と前記スイッチング素子の制御端子とを接続する配線に前記テストパッドが設けられる請求項に記載の電子回路ユニット。
  9. 前記第1の抵抗及び前記第2の抵抗の抵抗値は、
    前記第1の抵抗と前記第2の抵抗とから算出される合成抵抗と前記第1のテスト電圧との積が前記非検査対象スイッチング素子の閾値電圧よりも小さくなるように設定され、
    前記合成抵抗は、前記検査対象スイッチング素子の制御端子に接続される第1の抵抗値と、前記検査対象スイッチング素子以外の非検査対象スイッチング素子の制御端子に接続される前記第1の抵抗及び前記第2の抵抗と、を合計した合計抵抗と、前記非検査対象スイッチング素子の制御端子に接続される前記第2の抵抗と、の抵抗比により算出される請求項に記載の電子回路ユニット。
  10. 前記テスト電圧生成回路は、前記制御信号生成回路を含むゲート駆動回路内において前記ゲート駆動回路の出力に設けられる請求項乃至のいずれか1項に記載の電子回路ユニット。
JP2013220063A 2013-10-23 2013-10-23 スイッチング素子検査方法及び電子回路ユニット Expired - Fee Related JP6197573B2 (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013220063A JP6197573B2 (ja) 2013-10-23 2013-10-23 スイッチング素子検査方法及び電子回路ユニット
PCT/JP2014/004832 WO2015059867A1 (ja) 2013-10-23 2014-09-22 スイッチング素子検査方法及び電子回路ユニット

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013220063A JP6197573B2 (ja) 2013-10-23 2013-10-23 スイッチング素子検査方法及び電子回路ユニット

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2015081848A JP2015081848A (ja) 2015-04-27
JP6197573B2 true JP6197573B2 (ja) 2017-09-20

Family

ID=52992490

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2013220063A Expired - Fee Related JP6197573B2 (ja) 2013-10-23 2013-10-23 スイッチング素子検査方法及び電子回路ユニット

Country Status (2)

Country Link
JP (1) JP6197573B2 (ja)
WO (1) WO2015059867A1 (ja)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN113092999A (zh) * 2021-04-02 2021-07-09 中国第一汽车股份有限公司 一种开关量输入诊断装置及诊断方法

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS58111763A (ja) * 1981-12-25 1983-07-02 Fujitsu Ltd トランジスタ試験回路
JP2002222920A (ja) * 2001-01-24 2002-08-09 Mitsubishi Heavy Ind Ltd 並列接続mosfetの保護装置

Also Published As

Publication number Publication date
WO2015059867A1 (ja) 2015-04-30
JP2015081848A (ja) 2015-04-27

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US9952280B2 (en) Electronic device with chip-on-film package
JP2010249802A (ja) 集積回路における外部端子の開放/短絡検査方法及び集積回路における外部端子の開放/短絡検査装置
JP6197573B2 (ja) スイッチング素子検査方法及び電子回路ユニット
US8648617B2 (en) Semiconductor device and method of testing semiconductor device
JP2007315789A (ja) 半導体集積回路およびその実装検査方法
US7564254B2 (en) Semiconductor device and test method thereof
JP5326898B2 (ja) 集積回路における外部端子の開放/短絡検査方法及び集積回路における外部端子の開放/短絡検査装置
JP6242183B2 (ja) 半導体集積回路及び該半導体集積回路の試験方法並びに該半導体集積回路におけるラッシュカレントの抑制方法
JP2010272825A (ja) 半導体集積回路装置
JP2009288064A (ja) 半導体試験装置及び方法
CN111220887A (zh) 半导体装置及其操作方法
TWI471576B (zh) The inspection apparatus, the inspection system, the inspection method, and the inspection method of the semiconductor device of the semiconductor device
JP2014163851A (ja) オープン検出端子付き半導体集積回路
JP2010204058A (ja) 回路部品の試験装置および方法
US8030958B2 (en) System for providing a reference voltage to a semiconductor integrated circuit
US20070229106A1 (en) Measuring and identifying analog characteristics of a microelectronic component at a wafer level and a platform level
JP2010223791A (ja) 半導体装置及びその検査方法
JP2008309741A (ja) 半導体デバイスの評価方法および半導体デバイス
JP2007278767A (ja) Ic実装済み電子部品実装基板及びそのリーク電流試験方法
KR100916763B1 (ko) 반도체 디바이스 테스트 시스템
JP2007064645A (ja) 半導体検査方法
JP2009065037A (ja) 半導体集積回路とその検査装置
US7940059B2 (en) Method for testing H-bridge
JP2004257921A (ja) 半導体装置の検査装置および半導体装置の検査方法
JP5614354B2 (ja) 半導体装置及び出力回路

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20160324

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20170110

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20170216

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20170725

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20170807

R151 Written notification of patent or utility model registration

Ref document number: 6197573

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees