JP6187018B2 - Transparent conductive laminate, touch panel and intermediate laminate for touch panel - Google Patents

Transparent conductive laminate, touch panel and intermediate laminate for touch panel Download PDF

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Description

本発明は、透明導電性積層体、タッチパネル及びタッチパネル用中間積層体に関する。 The present invention relates to a transparent conductive laminate, a touch panel, and an intermediate laminate for a touch panel.

従来、光透過性基材上に導電膜が形成された透明導電性積層体は、液晶表示装置やエレクトロルミネッセンス（ＥＬ）ディスプレイ等のようなフラットパネルディスプレイや、タッチパネルの透明電極など、電気、電子分野の用途に広く使用されている。特に、近年、タッチパネルを搭載した携帯情報端末やタッチパネル付きノートパソコンの普及により、透明導電性積層体の需要が高まっている。 Conventionally, a transparent conductive laminate in which a conductive film is formed on a light-transmitting substrate is a flat panel display such as a liquid crystal display device or an electroluminescence (EL) display, a transparent electrode of a touch panel, or the like. Widely used in field applications. In particular, in recent years, the demand for transparent conductive laminates has increased due to the spread of portable information terminals equipped with touch panels and notebook computers with touch panels.

タッチパネルに用いられる透明導電性積層体としては、高分子材料からなる光透過性基材上に、ＩＴＯ等の導電性金属酸化物からなる導電膜が形成された構成が知られているが、更に、光透過性基材からのオリゴマー等の低分子量成分の析出による透明性の悪化を防止する観点から、光透過性基材と導電層との間に、低分子量成分の拡散防止の目的で硬化樹脂層（アンダーコート層）を形成することが知られている（例えば、特許文献１等参照）。 As a transparent conductive laminate used for a touch panel, a structure in which a conductive film made of a conductive metal oxide such as ITO is formed on a light transmissive substrate made of a polymer material is known. From the viewpoint of preventing deterioration of transparency due to precipitation of low molecular weight components such as oligomers from the light transmissive substrate, curing is performed between the light transmissive substrate and the conductive layer for the purpose of preventing diffusion of low molecular weight components. It is known to form a resin layer (undercoat layer) (see, for example, Patent Document 1).

ところが、このようなタッチパネルに搭載される透明導電性積層体は、光透過性基材上にアンダーコート層及び導電層等を積層してなる多層構造であるため、例えば、光透過性基材とアンダーコート層との界面の反射光とアンダーコート層表面の反射光とが干渉して、膜厚のムラに起因して干渉縞と呼ばれるムラ模様が現れ、外観が損なわれるという問題があった。 However, since the transparent conductive laminate mounted on such a touch panel has a multilayer structure in which an undercoat layer and a conductive layer are laminated on a light transmissive substrate, for example, a light transmissive substrate and The reflected light from the interface with the undercoat layer interferes with the reflected light from the surface of the undercoat layer, resulting in a problem that unevenness patterns called interference fringes appear due to unevenness in film thickness, and the appearance is impaired.

特開２００２−１０３５０４号公報JP 2002-103504 A

本発明は、上記現状に鑑みて、透明性に優れるとともに、干渉縞の発生を充分に抑制することができる透明導電性積層体、該透明導電性積層体を用いてなるタッチパネル、及び、タッチパネル用中間積層体を提供することを目的とするものである。 In view of the above situation, the present invention is excellent in transparency and can sufficiently suppress the generation of interference fringes, a transparent conductive laminate, a touch panel using the transparent conductive laminate, and a touch panel The object is to provide an intermediate laminate.

本発明は、光透過性基材上に、アンダーコート層及び導電層がこの順に積層された透明導電性積層体であって、上記導電層は、表面に凹凸形状を有し、該凹凸形状は、凹凸部の平均傾斜角をθａとし、凹凸の最大山高さをＲｐとし、凹凸の最大谷深さをＲｖとしたとき、ＲｐとＲｖの比が１．５以下であり、上記θａが以下の式を満たすことを特徴とする透明導電性積層体である。
０．０１°≦θａ≦０．１０° The present invention is a transparent conductive laminate in which an undercoat layer and a conductive layer are laminated in this order on a light-transmitting substrate, and the conductive layer has a concavo-convex shape on the surface, When the average inclination angle of the concavo-convex part is θa, the maximum peak height of the concavo-convex is Rp, and the maximum valley depth of the concavo-convex is Rv, the ratio of Rp and Rv is 1.5 or less, and the θa is A transparent conductive laminate characterized by satisfying the formula.
0.01 ° ≦ θa ≦ 0.10 °

本発明の透明導電性積層体において、上記導電層の凹凸形状は、凹凸の算術平均粗さをＲａとしたとき、以下の式を満たすことが好ましい。
０．０２μｍ≦Ｒａ≦０．１０μｍ
また、上記導電層の凹凸形状は、λａ＝２π×（Ｒａ／ｔａｎ（θａ））にて表される平均波長λａが下記式を満たすことが好ましい。
２００μｍ≦λａ≦８００μｍ
上記アンダーコート層と導電層との間に、高屈折率層が積層されていることが好ましい。
また、上記アンダーコート層と導電層との間に、高屈折率層及び低屈折率層が積層されていることが好ましい。
また、上記アンダーコート層は、無機酸化物微粒子及びバインダー樹脂を含有することが好ましい。
上記無機酸化物微粒子は、疎水化処理無機酸化物微粒子であることが好ましい。
上記無機酸化物微粒子は、凝集体を形成してアンダーコート層に含有されており、上記凝集体の平均粒子径が１００ｎｍ〜２．０μｍであることが好ましい。
また、本発明の透明導電性積層体は、上記光透過性基材のアンダーコート層側と反対側面上に、別のアンダーコート層を有することが好ましい。 In the transparent conductive laminate of the present invention, the concavo-convex shape of the conductive layer preferably satisfies the following formula when the arithmetic average roughness of the concavo-convex is Ra.
0.02 μm ≦ Ra ≦ 0.10 μm
Moreover, as for the uneven | corrugated shape of the said conductive layer, it is preferable that the average wavelength (lambda) a represented by (lambda) = 2 (pi) * (Ra / tan ((theta) a)) satisfy | fills a following formula.
200 μm ≦ λa ≦ 800 μm
A high refractive index layer is preferably laminated between the undercoat layer and the conductive layer.
Moreover, it is preferable that a high refractive index layer and a low refractive index layer are laminated between the undercoat layer and the conductive layer.
The undercoat layer preferably contains inorganic oxide fine particles and a binder resin.
The inorganic oxide fine particles are preferably hydrophobized inorganic oxide fine particles.
The inorganic oxide fine particles form an aggregate and are contained in the undercoat layer, and the average particle diameter of the aggregate is preferably 100 nm to 2.0 μm.
Moreover, it is preferable that the transparent conductive laminated body of this invention has another undercoat layer on the side surface on the opposite side to the undercoat layer side of the said transparent base material.

本発明はまた、光透過性基材上に、アンダーコート層及び高屈折率層がこの順に積層された透明導電性積層体であって、上記高屈折率層は、表面に凹凸形状を有し、該凹凸形状は、凹凸部の平均傾斜角をθａとし、凹凸の最大山高さをＲｐとし、凹凸の最大谷深さをＲｖとしたとき、ＲｐとＲｖの比が１．５以下であり、上記θａが以下の式を満たすことを特徴とする透明導電性積層体でもある。
０．０１°≦θａ≦０．１０°
上記高屈折率層のアンダーコート層側と反対側面上に、低屈折率層を有することが好ましい。
本発明はまた、上記本発明の透明導電性積層体を用いてなることを特徴とするタッチパネルでもある。
本発明はまた、光透過性基材上に、アンダーコート層が積層され、パターニングされた導電層を支持するためのタッチパネル用中間積層体であって、上記アンダーコート層は、表面に凹凸形状を有し、該凹凸形状は、凹凸部の平均傾斜角をθａとし、凹凸の最大山高さをＲｐとし、凹凸の最大谷深さをＲｖとしたとき、ＲｐとＲｖの比が１．５以下であり、上記θａが以下の式を満たすことを特徴とするタッチパネル用中間積層体でもある。
０．０１°≦θａ≦０．１０°
以下に、本発明を詳細に説明する。 The present invention is also a transparent conductive laminate in which an undercoat layer and a high refractive index layer are laminated in this order on a light transmissive substrate, and the high refractive index layer has an uneven shape on the surface. The uneven shape has a ratio of Rp to Rv of 1.5 or less when the average inclination angle of the uneven portion is θa, the maximum peak height of the unevenness is Rp, and the maximum valley depth of the unevenness is Rv. The transparent conductive laminate is characterized in that the θa satisfies the following formula.
0.01 ° ≦ θa ≦ 0.10 °
It is preferable to have a low refractive index layer on the side opposite to the undercoat layer side of the high refractive index layer.
The present invention is also a touch panel using the transparent conductive laminate of the present invention.
The present invention is also a touch panel intermediate laminate for supporting a patterned conductive layer in which an undercoat layer is laminated on a light-transmitting substrate, and the undercoat layer has an uneven shape on the surface. The concavo-convex shape has an average inclination angle of the concavo-convex portion of θa, the maximum peak height of the concavo-convex portion as Rp, and the maximum valley depth of the concavo-convex portion as Rv, and the ratio of Rp to Rv is 1.5 or less. There is also an intermediate laminate for a touch panel, wherein the θa satisfies the following formula.
0.01 ° ≦ θa ≦ 0.10 °
The present invention is described in detail below.

本発明者らは、光透過性基材の一方の面上にアンダーコート層と、導電層又は高屈折率層とがこの順で積層され、タッチパネルに用いられる透明導電性積層体について、鋭意検討した結果、上記導電層又は高屈折率層の表面に所定の凹凸形状を形成することで、透明性を損なうことなく優れた干渉縞防止性能を有する透明導電性積層体を得ることができることを見出し、本発明を完成するに至った。 The inventors of the present invention have made extensive studies on a transparent conductive laminate used in a touch panel in which an undercoat layer and a conductive layer or a high refractive index layer are laminated in this order on one surface of a light-transmitting substrate. As a result, it has been found that by forming a predetermined uneven shape on the surface of the conductive layer or the high refractive index layer, a transparent conductive laminate having excellent interference fringe prevention performance can be obtained without impairing transparency. The present invention has been completed.

ここで、従来、タッチパネルの透明導電性積層体は、成形加工時の生産性向上等の観点より、巻き取ってロールとされるが、従来のアンダーコート層は、表面平滑性が高いため、巻取ロールにしたときに、重なったフィルム同士がくっついてしまう現象（いわゆるブロッキング）が発生してしまうという問題があった。このようなブロッキングが発生すると、ロールからフィルムを滑らかに繰り出すことができなくなり、次工程において、フィルムにシワが発生したり、フィルムが蛇行したりする要因となる。また、ひどいブロッキングの場合は、ブロッキングした所にムラができて製造した透明導電性積層体の透明性やヘイズ、更には光学的均一性を損なう結果となることもあった。
このような問題に対し、例えば、特開平１０−３２３９３１号公報や特開２０１２−２０６５０２号公報等に、アンダーコート層中に微粒子を含有させて表面に凹凸を形成し、耐ブロッキング性や易滑性の向上を図る方法が従来から提案されている。
しかしながら、従来の透明導電性積層体は、アンダーコート層表面の凹凸形状が耐ブロッキング性や易滑性の向上のみを目的として形成されたものであったため、干渉縞の発生を充分に抑制することができるものではなかった。
これは、従来のアンダーコート層に微粒子を添加して耐ブロッキング性や易滑性の向上を図った透明導電性積層体は、該アンダーコート層の透明性や色調を維持する必要性から、上記微粒子の添加量をかなり少なくすることで、アンダーコート層の表面に、耐ブロッキング性や易滑性を発揮し得る最低限度の凹凸形状を形成していたためである。すなわち、上記アンダーコート層の表面は、平面部分の面積が凹凸部分の面積よりも非常に大きなほぼ平坦な状態であり、このため、干渉縞防止のためのアンダーコート層の膜厚のムラの制御ができず、その結果、干渉縞の発生を充分に抑制できなかった。
すなわち、従来の耐ブロッキング性や易滑性の向上を目的として形成されたアンダーコート層の表面凹凸形状と、本願発明者らが見出した干渉縞の発生を充分に抑制できる導電層又は高屈折率層表面の凹凸形状とは、その形状が全く異なるものである。 Here, conventionally, the transparent conductive laminate of the touch panel is taken up and rolled from the viewpoint of productivity improvement at the time of molding, but the conventional undercoat layer has a high surface smoothness. There was a problem that a phenomenon (so-called blocking) in which the overlapped films were adhered to each other occurred when the rolls were taken. When such blocking occurs, the film cannot be smoothly fed out from the roll, and in the next step, the film is wrinkled or the film meanders. Further, in the case of severe blocking, unevenness may occur at the blocked location, and the transparency and haze of the produced transparent conductive laminate, and further optical uniformity may be impaired.
In order to deal with such problems, for example, in Japanese Patent Application Laid-Open No. 10-323931 and Japanese Patent Application Laid-Open No. 2012-206502, fine particles are included in the undercoat layer to form irregularities on the surface, thereby blocking resistance and easy slipping. Conventionally, methods for improving the performance have been proposed.
However, in the conventional transparent conductive laminate, the uneven shape on the surface of the undercoat layer was formed only for the purpose of improving the blocking resistance and easy slipperiness, so that the occurrence of interference fringes is sufficiently suppressed. It was not something that could be done.
This is because the transparent conductive laminate in which fine particles are added to the conventional undercoat layer to improve the blocking resistance and the slipperiness is necessary to maintain the transparency and color tone of the undercoat layer. This is because the minimum uneven shape capable of exhibiting blocking resistance and easy slipping was formed on the surface of the undercoat layer by considerably reducing the amount of fine particles added. That is, the surface of the undercoat layer is in a substantially flat state in which the area of the planar portion is much larger than the area of the concavo-convex portion. As a result, the generation of interference fringes could not be sufficiently suppressed.
In other words, the surface irregularity shape of the undercoat layer formed for the purpose of improving the conventional blocking resistance and slipperiness, and the conductive layer or high refractive index that can sufficiently suppress the occurrence of interference fringes found by the present inventors. The shape of the irregularities on the surface of the layer is completely different.

本発明の透明導電性積層体は、光透過性基材上に、アンダーコート層及び導電層がこの順に積層されている。
上記光透過性基材としては特に限定されず、例えば、ポリエステル系樹脂、アセテート系樹脂、ポリエーテルスルホン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ塩化ビニリデン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリアリレート系樹脂、ポリフェニレンサルファイド系樹脂等が挙げられる。なかでも、ポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリオレフィン系樹脂が好適に用いられる。 In the transparent conductive laminate of the present invention, an undercoat layer and a conductive layer are laminated in this order on a light-transmitting substrate.
The light-transmitting substrate is not particularly limited, and examples thereof include polyester resins, acetate resins, polyethersulfone resins, polycarbonate resins, polyamide resins, polyimide resins, polyolefin resins, and (meth) acrylic resins. Examples include resins, polyvinyl chloride resins, polyvinylidene chloride resins, polystyrene resins, polyvinyl alcohol resins, polyarylate resins, polyphenylene sulfide resins, and the like. Of these, polyester resins, polycarbonate resins, and polyolefin resins are preferably used.

その他、上記光透過性基材としては、脂環構造を有した非晶質オレフィンポリマー（Ｃｙｃｌｏ−Ｏｌｅｆｉｎ−Ｐｏｌｙｍｅｒ：ＣＯＰ）フィルムを挙げられる。これは、ノルボルネン系重合体、単環の環状オレフィン系重合体、環状共役ジエン系重合体、ビニル脂環式炭化水素系重合体等が用いられる基材で、例えば、日本ゼオン社製のゼオネックスやゼオノア（ノルボルネン系樹脂）、住友ベークライト社製のスミライトＦＳ−１７００、ＪＳＲ社製のアートン（変性ノルボルネン系樹脂）、三井化学社製のアペル（環状オレフィン共重合体）、Ｔｉｃｏｎａ社製のＴｏｐａｓ（環状オレフィン共重合体）、日立化成社製のオプトレッツＯＺ−１０００シリーズ（脂環式アクリル樹脂）等が挙げられる。
また、トリアセチルセルロースの代替基材として旭化成ケミカルズ社製のＦＶシリーズ（低複屈折率、低光弾性率フィルム）も好ましい。 In addition, examples of the light transmissive substrate include an amorphous olefin polymer (Cyclo-Olefin-Polymer: COP) film having an alicyclic structure. This is a base material in which a norbornene polymer, a monocyclic olefin polymer, a cyclic conjugated diene polymer, a vinyl alicyclic hydrocarbon polymer, and the like are used. Zeonoa (norbornene-based resin), Sumitrite FS-1700 manufactured by Sumitomo Bakelite, Arton (modified norbornene-based resin) manufactured by JSR, Appel (cyclic olefin copolymer) manufactured by Mitsui Chemicals, Topas (cyclic) manufactured by Ticona Olefin copolymer), Optretz OZ-1000 series (alicyclic acrylic resin) manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd., and the like.
Further, the FV series (low birefringence, low photoelastic modulus film) manufactured by Asahi Kasei Chemicals is also preferable as an alternative base material for triacetylcellulose.

上記光透過性基材の厚さとしては、２〜２００μｍであることが好ましい。２μｍ未満であると、光透過性基材の機械的強度が不足し、本発明の透明導電性積層体を製造する際に、光透過性基材をロール状にして導電層を連続的に形成する操作が困難になる場合がある。一方、２００μｍを超えると、後述する導電層の耐擦傷性やタッチパネル用としての打点特性の向上が図れないことがある。上記光透過性基材の厚みは、より好ましくは２〜１００μｍである。 The thickness of the light transmissive substrate is preferably 2 to 200 μm. When the thickness is less than 2 μm, the mechanical strength of the light-transmitting substrate is insufficient, and when manufacturing the transparent conductive laminate of the present invention, the light-transmitting substrate is rolled to continuously form a conductive layer. Operation may be difficult. On the other hand, if it exceeds 200 μm, the scratch resistance of the conductive layer, which will be described later, and the dot characteristics for touch panels may not be improved. The thickness of the light transmissive substrate is more preferably 2 to 100 μm.

上記光透過性基材は、表面に予めスパッタリング、コロナ放電、紫外線照射、電子線照射、化成、酸化等のエッチング処理や下塗り処理が施されていてもよい。これらの処理が予め施されていることで、上記光透過性基材上に形成されるアンダーコート層との密着性を向上させることができる。また、アンダーコート層や導電層を形成する前に、必要に応じて溶剤洗浄や超音波洗浄等により、光透過性基材表面は、除塵、清浄化されていてもよい。 The light-transmitting substrate may be subjected to an etching treatment or undercoating treatment such as sputtering, corona discharge, ultraviolet irradiation, electron beam irradiation, chemical conversion, oxidation, etc. on the surface in advance. By performing these treatments in advance, the adhesion with the undercoat layer formed on the light-transmitting substrate can be improved. Moreover, before forming an undercoat layer or a conductive layer, the surface of the light-transmitting substrate may be dust-removed or cleaned by solvent cleaning, ultrasonic cleaning, or the like as necessary.

本発明の透明導電性積層体において上記アンダーコート層は、上記光透過性基材上に形成されており、表面に凹凸形状を有するものである。
本発明の透明導電性積層体は、上記アンダーコート層上に積層された導電層の表面に所定の凹凸形状が形成されているが、該導電層の表面の凹凸形状は、上記アンダーコート層の表面に形成された凹凸形状に追随して形成されており、上記導電層は、上記アンダーコート層の表面の凹凸形状をほぼ維持していることが好ましい。上記「アンダーコート層の表面の凹凸形状をほぼ維持している」とは、上記アンダーコート層の表面の凹凸形状を表すパラメータと、上記導電層の表面の凹凸形状を表すパラメータとが、ほぼ同じ値であることを意味する。従って、上記アンダーコート層の表面には、上記導電層の表面の凹凸形状と、透明性及び干渉縞防止性等の光学的な性能が同等となる凹凸形状が形成されている。
よって、上記アンダーコート層の表面の凹凸形状は、上記導電層の表面の凹凸形状が上述した所定のパラメータを満たすよう適宜調整される。
上記導電層の表面に形成された凹凸形状は、凹凸部の平均傾斜角をθａとし、凹凸の最大山高さをＲｐとし、凹凸の最大谷深さをＲｖとしたとき、ＲｐとＲｖの比が１．５以下であり、上記θａが以下の式を満たすものである。
０．０１°≦θａ≦０．１０° In the transparent conductive laminate of the present invention, the undercoat layer is formed on the light-transmitting substrate and has an uneven shape on the surface.
In the transparent conductive laminate of the present invention, a predetermined uneven shape is formed on the surface of the conductive layer laminated on the undercoat layer. The uneven shape on the surface of the conductive layer is the same as that of the undercoat layer. Preferably, the conductive layer is formed following the uneven shape formed on the surface, and the conductive layer substantially maintains the uneven shape on the surface of the undercoat layer. The above-mentioned “maintaining the uneven shape on the surface of the undercoat layer” means that the parameter indicating the uneven shape on the surface of the undercoat layer is substantially the same as the parameter indicating the uneven shape on the surface of the conductive layer. Means value. Therefore, the surface of the undercoat layer is formed with a concavo-convex shape that is equivalent to the concavo-convex shape of the surface of the conductive layer and optical performance such as transparency and interference fringe prevention.
Therefore, the uneven shape on the surface of the undercoat layer is appropriately adjusted so that the uneven shape on the surface of the conductive layer satisfies the predetermined parameter described above.
The concavo-convex shape formed on the surface of the conductive layer has a ratio of Rp and Rv where the average inclination angle of the concavo-convex part is θa, the maximum peak height of the concavo-convex part is Rp, and the maximum valley depth of the concavo-convex part is Rv. 1.5 or less, and the above θa satisfies the following formula.
0.01 ° ≦ θa ≦ 0.10 °

上記導電層の表面に形成された上記凹凸形状により、干渉縞が防止できる理由は、導電層の表面の微小面積当たりの光学膜厚が、該表面で反射する光の拡散は検知されないが、可視光の干渉を防ぐ凹凸形状となるように制御されているためである。その結果、本発明の透明導電性積層体は、上記導電層の表面での反射光の拡散を生じることなく干渉縞の発生を防止し、更に、後述するように耐ブロッキング性や易滑性を向上させている。上記導電層は、凹凸表面に傾斜があることが必要であり、その指標が凹凸部の平均傾斜角θａである。
本発明の透明導電性積層体において、上記凹凸部の平均傾斜角θａの下限は０．０１°である。０．０１°未満であると、傾斜が充分でなく、干渉縞を防止することができない。また、耐ブロッキング性や易滑性が低下して、本発明の透明導電性積層体の製造時に巻き取ってロールとされたときにブロッキングが発生してしまう。上記θａの好ましい下限は０．０３°であり、より好ましい下限は０．０４°である。また、上記凹凸部の平均傾斜角θａの上限は０．１０°である。０．１０°を超えると、上記凹凸部の傾斜角度が過度に大きいため、外光の拡散反射による白濁感の問題が生じる。好ましい上限は０．０９°であり、より好ましい上限は０．０８°である。 The reason why the interference fringes can be prevented by the uneven shape formed on the surface of the conductive layer is that the optical film thickness per minute area of the surface of the conductive layer is not detected although the diffusion of light reflected on the surface is not detected. This is because it is controlled to have an uneven shape that prevents light interference. As a result, the transparent conductive laminate of the present invention prevents the generation of interference fringes without causing the diffusion of reflected light on the surface of the conductive layer, and further has blocking resistance and slipperiness as described later. It is improving. The conductive layer needs to be inclined on the uneven surface, and the index is the average inclination angle θa of the uneven portion.
In the transparent conductive laminate of the present invention, the lower limit of the average inclination angle θa of the uneven portion is 0.01 °. If it is less than 0.01 °, the inclination is not sufficient and interference fringes cannot be prevented. Moreover, blocking resistance and slipperiness fall and blocking will generate | occur | produce when it rolls up at the time of manufacture of the transparent conductive laminated body of this invention, and is set as a roll. A preferable lower limit of the θa is 0.03 °, and a more preferable lower limit is 0.04 °. The upper limit of the average inclination angle θa of the uneven portion is 0.10 °. If it exceeds 0.10 °, the angle of inclination of the concavo-convex portion is excessively large, which causes a problem of cloudiness due to diffuse reflection of external light. A preferable upper limit is 0.09 °, and a more preferable upper limit is 0.08 °.

また、本発明においては上記凹凸の最大山高さをＲｐ、上記凹凸の最大谷深さをＲｖとしたとき、ＲｐとＲｖの比が１．５以下である。なお、上記ＲｐとＲｖとの比は、Ｒｐ＞ＲｖのときはＲｐ／Ｒｖとして、Ｒｖ＞Ｒｐのときは、Ｒｖ／Ｒｐとして求められる。
上記ＲｐとＲｖとの比は、その値が大きいほど、山高さと谷深さの差が大きいことを示している。このとき、高さが大きくて急峻な山部分と深さが小さくてなだらかな谷部分が存在することとなり、上記平均傾斜角θａが上記範囲を満たしていても、その傾斜角分布に偏りが生じていることを示している。すなわち、山部分は傾斜角が大きくなり、谷部分は傾斜角が小さくなる。このような場合、傾斜角が大きい部分では、光の拡散が過度に大きくなり白濁感の問題が生じる恐れがある一方、傾斜角が小さい部分では、好適に干渉縞が防止できない恐れがある。上記ＲｐとＲｖとの比が１．５以下であれば、山と谷の高さの差が少ないため、傾斜角分布の偏りが適度に抑えられ、干渉縞を好適に防止することができると同時に白濁感も抑えることができる。上記ＲｐとＲｖとの比は、好ましくは１．３以下であり、より好ましくは１．２以下である。 In the present invention, when the maximum peak height of the unevenness is Rp and the maximum valley depth of the unevenness is Rv, the ratio of Rp to Rv is 1.5 or less. The ratio of Rp and Rv is obtained as Rp / Rv when Rp> Rv, and as Rv / Rp when Rv> Rp.
The ratio of Rp and Rv indicates that the larger the value, the greater the difference between the peak height and the valley depth. At this time, there are a large and steep mountain portion and a small and gentle valley portion, and even if the average inclination angle θa satisfies the above range, the inclination angle distribution is biased. It shows that. That is, the mountain portion has a large inclination angle, and the valley portion has a small inclination angle. In such a case, in a portion where the inclination angle is large, light diffusion is excessively increased, and there is a possibility that a cloudiness problem may occur. On the other hand, in a portion where the inclination angle is small, interference fringes may not be suitably prevented. If the ratio of Rp and Rv is 1.5 or less, the difference in height between peaks and valleys is small, so that the bias in the inclination angle distribution can be moderately suppressed, and interference fringes can be suitably prevented. At the same time, the cloudiness can be suppressed. The ratio of Rp to Rv is preferably 1.3 or less, and more preferably 1.2 or less.

また、本発明においては、上記導電層の凹凸形状の凹凸の算術平均粗さをＲａとしたとき、以下の式を満たすことが好ましい。
０．０２μｍ≦Ｒａ≦０．１０μｍ
本発明においては、上記導電層の凹凸形状の各凸部の大きさ（高さ）を制御することが好ましいが、その指標が算術平均粗さＲａである。
上記凹凸の算術平均粗さＲａの好ましい下限は０．０２μｍである。上記Ｒａが０．０２μｍ未満であると、光の波長に対し各凸部の大きさ（高さ）が小さすぎることになり、拡散効果が得られないことがあり、干渉縞の発生を充分に抑制できないことがある。また、耐ブロッキング性や易滑性が低下してしまうことがある。上記Ｒａのより好ましい下限は０．０３μｍであり、更に好ましい下限は０．０４μｍである。また、上記Ｒａの好ましい上限は０．１０μｍである。Ｒａが０．１０μｍ超過であると、各凸部が大きくなりすぎ、透過光をゆがませるため、鮮明な画像が得られなくなることがある。より好ましい上限は０．０９μｍであり、更に好ましい上限は０．０８μｍである。 Moreover, in this invention, when the arithmetic mean roughness of the unevenness | corrugation of the said uneven | corrugated shape of the said conductive layer is set to Ra, it is preferable to satisfy | fill the following formula | equation.
0.02 μm ≦ Ra ≦ 0.10 μm
In the present invention, it is preferable to control the size (height) of each convex portion of the concavo-convex shape of the conductive layer, but the index is the arithmetic average roughness Ra.
The minimum with preferable arithmetic mean roughness Ra of the said unevenness | corrugation is 0.02 micrometer. When the Ra is less than 0.02 μm, the size (height) of each convex portion is too small with respect to the wavelength of light, and a diffusion effect may not be obtained, and interference fringes are sufficiently generated. It may not be possible to suppress. Moreover, blocking resistance and slipperiness may fall. A more preferable lower limit of Ra is 0.03 μm, and a more preferable lower limit is 0.04 μm. The preferable upper limit of Ra is 0.10 μm. When Ra is more than 0.10 μm, each convex portion becomes too large and the transmitted light is distorted, so that a clear image may not be obtained. A more preferred upper limit is 0.09 μm, and a still more preferred upper limit is 0.08 μm.

また、本発明においては、λａ＝２π×（Ｒａ／ｔａｎ（θａ））で表される平均波長λａが２００μｍ以上８００μｍ以下であることが好ましい。
上記平均波長λａは、上記導電層の表面の凹凸形状の凹凸の平均的な間隔を示すパラメータである。上記平均波長λａが２００μｍ未満であると、上記導電層の表面の凹凸形状の凹凸が小さすぎて干渉縞が防止できないか、あるいは、凹凸平面での傾斜角の変化が大きすぎて、白濁感が見られる恐れがある。上記平均波長λａが８００μｍ超過であると、上記導電層の表面における凹凸平面での傾斜角の変化が少なくなり、好適に干渉縞を防止できない恐れがある。上記平均波長λａのより好ましい下限は３００μｍ、より好ましい上限は６００μｍである。 In the present invention, the average wavelength λa represented by λa = 2π × (Ra / tan (θa)) is preferably 200 μm or more and 800 μm or less.
The average wavelength λa is a parameter indicating an average interval of the unevenness on the surface of the conductive layer. When the average wavelength λa is less than 200 μm, the unevenness on the surface of the conductive layer is too small to prevent interference fringes, or the change in the inclination angle on the uneven surface is too large, resulting in white turbidity. There is a risk of being seen. If the average wavelength λa exceeds 800 μm, the change in the inclination angle on the uneven surface on the surface of the conductive layer is reduced, and there is a possibility that interference fringes cannot be prevented suitably. A more preferable lower limit of the average wavelength λa is 300 μm, and a more preferable upper limit is 600 μm.

また、上記導電層の表面に形成された凹凸形状の十点平均粗さ（Ｒｚ）は、０．５μｍ未満であることが好ましく、より好ましい上限は０．３μｍである。上記Ｒｚが０．５μｍ以上であると、上記導電層の表面に形成された凹凸形状の凹凸が大きすぎて白濁感が見られる恐れがある。上記Ｒｚの下限は特に限定されず、拡散効果が得られる範囲で適宜調整される。 Moreover, it is preferable that the ten-point average roughness (Rz) of the uneven | corrugated shape formed in the surface of the said conductive layer is less than 0.5 micrometer, and a more preferable upper limit is 0.3 micrometer. When the Rz is 0.5 μm or more, the unevenness formed on the surface of the conductive layer is too large, and a cloudiness may be observed. The lower limit of Rz is not particularly limited, and is appropriately adjusted within a range where a diffusion effect can be obtained.

なお、本明細書において、上記のθａ、Ｒｐ、Ｒｖ、Ｒａ及びＲｚは、ＪＩＳ Ｂ ０６０１−１９９４に準拠する方法で得られた粗さ曲線から基準長さ毎に求められる値である。Ｒａ及びＲｚはＪＩＳ Ｂ ０６０１−１９９４に定義された値であり、θａは、表面粗さ測定器：ＳＥ−３４００ 取り扱い説明書（１９９５．０７．２０改訂）（株式会社小坂研究所）に記載の定義による値であり、図１に示すように、基準長さＬに存在する凸部高さの和（ｈ１＋ｈ２＋ｈ３＋・・・＋ｈｎ）のアークタンジェントθａ＝ｔａｎ−１｛（ｈ１＋ｈ２＋ｈ３＋・・・＋ｈｎ）／Ｌ｝で求めることができる。
また、上記Ｒｐは、基準長さにおける粗さ曲線の、平均線からの山高さの最大値であり、上記Ｒｖは、基準長さにおける粗さ曲線の、平均線からの谷深さの最大値である。
このようなθａ、Ｒｐ、Ｒｖ、Ｒａ及びＲｚは、例えば、表面粗さ測定器：ＳＥ−３４００／株式会社小坂研究所製を用いて、ＪＩＳ Ｂ ０６０１−１９９４に準拠し、かつ、以下の条件にて粗さ曲線を測定して求めることができる。
（１）表面粗さ検出部の触針：
型番／ＳＥ２５５５Ｎ（２μ触針）、株式会社小坂研究所製
（先端曲率半径２μｍ／頂角：９０度／材質：ダイヤモンド）
（２）表面粗さ測定器の測定条件：
基準長さ（粗さ曲線のカットオフ値λｃ）：２．５ｍｍ
評価長さ（基準長さ（カットオフ値λｃ）×５）：１２．５ｍｍ
触針の送り速さ：０．５ｍｍ／ｓ
予備長さ：（カットオフ値λｃ）×２
縦倍率：２０００倍
横倍率：１０倍 In the present specification, the above θa, Rp, Rv, Ra, and Rz are values obtained for each reference length from a roughness curve obtained by a method according to JIS B 0601-1994. Ra and Rz are values defined in JIS B 0601-1994, and θa is described in a surface roughness measuring instrument: SE-3400 instruction manual (revised 1995.07.20) (Kosaka Laboratory Ltd.) As shown in FIG. 1, the arc tangent θa = tan −1 {(the sum (h 1 + h 2 + h 3 +... + H n ) of the heights of the convex portions existing in the reference length L. h 1 + h 2 + h 3 +... + h n ) / L}.
Rp is the maximum value of the peak height from the average line of the roughness curve at the reference length, and Rv is the maximum value of the valley depth from the average line of the roughness curve at the reference length. It is.
Such θa, Rp, Rv, Ra, and Rz are based on, for example, surface roughness measuring instrument: SE-3400 / manufactured by Kosaka Laboratory Ltd., in accordance with JIS B 0601-1994, and the following conditions: Can be obtained by measuring the roughness curve.
(1) The stylus of the surface roughness detector:
Model No./SE2555N (2μ stylus), manufactured by Kosaka Laboratory Ltd. (tip radius of curvature 2μm / vertical angle: 90 degrees / material: diamond)
(2) Measurement conditions of surface roughness measuring instrument:
Reference length (cutoff value λc of roughness curve): 2.5 mm
Evaluation length (reference length (cutoff value λc) × 5): 12.5 mm
Feeding speed of stylus: 0.5 mm / s
Preliminary length: (cutoff value λc) × 2
Vertical magnification: 2000 times Horizontal magnification: 10 times

上記アンダーコート層は、無機酸化物微粒子を含有していることが好ましい。
上記無機酸化物微粒子は、上記アンダーコート層の表面の凹凸形状を形成する材料であり、本発明の透明導電性積層体では、上記無機酸化物微粒子は、凝集体を形成して上記アンダーコート層中に含有され、該無機酸化物微粒子の凝集体により上記アンダーコート層の表面の凹凸形状が形成されていることが好ましい。
上記無機酸化物粒子としては、例えば、シリカ微粒子、アルミナ微粒子、ジルコニア微粒子、チタニア微粒子、酸化スズ微粒子、ＡＴＯ粒子、酸化亜鉛微粒子等が挙げられる。 The undercoat layer preferably contains inorganic oxide fine particles.
The inorganic oxide fine particle is a material that forms the uneven shape of the surface of the undercoat layer. In the transparent conductive laminate of the present invention, the inorganic oxide fine particle forms an aggregate to form the undercoat layer. It is preferable that the uneven shape of the surface of the said undercoat layer is formed by the aggregate of the inorganic oxide fine particles contained therein.
Examples of the inorganic oxide particles include silica fine particles, alumina fine particles, zirconia fine particles, titania fine particles, tin oxide fine particles, ATO particles, and zinc oxide fine particles.

また、上記無機酸化物微粒子は、表面処理されていることが好ましい。上記無機酸化物微粒子が表面処理されていることで、該無機酸化物微粒子の凝集体の上記アンダーコート層中での分布を好適に制御することができ、また、無機酸化物微粒子自体の耐薬品性及び耐ケン化性の向上を図ることもできる。 The inorganic oxide fine particles are preferably surface-treated. Since the inorganic oxide fine particles are surface-treated, the distribution of the aggregates of the inorganic oxide fine particles in the undercoat layer can be suitably controlled, and the chemical resistance of the inorganic oxide fine particles themselves can be controlled. And improvement of saponification resistance.

上記表面処理としては、疎水化処理が好ましく、例えば、上記無機酸化物微粒子を、メチル基あるいはオクチル基を有するシラン化合物で処理する方法等が挙げられる。
ここで、通常、上記無機酸化物微粒子の表面には水酸基が存在しているが、上記表面処理がされることで上記無機酸化物微粒子表面の水酸基が少なくなり、上記無機酸化物微粒子のＢＥＴ法により測定される比表面積が小さくなるとともに、上記無機酸化物微粒子が過度に凝集することを防止でき、上記導電層の表面の凹凸形状が上述した特定の範囲となる凹凸形状をアンダーコート層の表面に形成することができる。 The surface treatment is preferably a hydrophobizing treatment, and examples thereof include a method of treating the inorganic oxide fine particles with a silane compound having a methyl group or an octyl group.
Here, a hydroxyl group is usually present on the surface of the inorganic oxide fine particle, but the surface treatment reduces the hydroxyl group on the surface of the inorganic oxide fine particle, and the BET method of the inorganic oxide fine particle. The surface area of the undercoat layer can be reduced by reducing the specific surface area measured by the above, and preventing the inorganic oxide fine particles from agglomerating excessively. Can be formed.

また、上記無機酸化物微粒子は、非晶質であることが好ましい。上記無機酸化物微粒子が結晶性である場合、その結晶構造中に含まれる格子欠陥により、無機酸化物微粒子のルイス酸性が強くなってしまい、無機酸化物微粒子の過度の凝集を制御できなくなることがある。 The inorganic oxide fine particles are preferably amorphous. If the inorganic oxide fine particles are crystalline, the Lewis acidity of the inorganic oxide fine particles becomes strong due to lattice defects contained in the crystal structure, and excessive aggregation of the inorganic oxide fine particles cannot be controlled. is there.

このような無機酸化物微粒子としては、それ自身が凝集しやすく後述する凝集体を形成しやすいことから、例えば、フュームドシリカが好適に用いられる。ここで、上記フュームドシリカとは、乾式法で作製された２００ｎｍ以下の粒径を有する非晶質のシリカをいい、ケイ素を含む揮発性化合物を気相で反応させることにより得られる。具体的には、例えば、ケイ素化合物、例えば、ＳｉＣｌ４を酸素と水素の炎中で加水分解して生成されたもの等が挙げられる。具体的には、例えば、ＡＥＲＯＳＩＬ Ｒ８０５（日本アエロジル社製）等が挙げられる。 As such inorganic oxide fine particles, for example, fumed silica is preferably used because it tends to aggregate itself and easily form an aggregate described later. Here, the fumed silica refers to amorphous silica having a particle size of 200 nm or less prepared by a dry method, and is obtained by reacting a volatile compound containing silicon in a gas phase. Specifically, for example, a silicon compound, for example, one produced by hydrolyzing SiCl 4 in a flame of oxygen and hydrogen can be used. Specifically, AEROSIL R805 (made by Nippon Aerosil Co., Ltd.) etc. are mentioned, for example.

上記無機酸化物微粒子の含有量としては特に限定されないが、上記アンダーコート層中０．１〜５．０質量％であることが好ましい。０．１質量％未満であると、上述した特定の凹凸形状を導電層の表面に形成できず、干渉縞が防止できないことがあり、５．０質量％を超えると、凝集体が過度に生じ、内部拡散及び／又はアンダーコート層に大きな表面凹凸が生じるため、白濁感の問題が生じることがある。より好ましい下限は０．５質量％、より好ましい上限は３．０質量％である。 Although it does not specifically limit as content of the said inorganic oxide fine particle, It is preferable that it is 0.1-5.0 mass% in the said undercoat layer. When the amount is less than 0.1% by mass, the above-described specific uneven shape cannot be formed on the surface of the conductive layer, and interference fringes may not be prevented. When the amount exceeds 5.0% by mass, aggregates are excessively generated. In addition, since large surface irregularities are generated in the internal diffusion and / or undercoat layer, a problem of cloudiness may occur. A more preferable lower limit is 0.5% by mass, and a more preferable upper limit is 3.0% by mass.

上記無機酸化物微粒子は、平均１次粒子径が１〜１００ｎｍであることが好ましい。１ｎｍ未満であると、上述した特定の凹凸形状を導電層の表面に形成できないことがあり、１００ｎｍを超えると、無機酸化物微粒子により光が拡散され、本発明の透明導電性積層体を用いたタッチパネルの暗室コントラストが劣ることがある。より好ましい下限は５ｎｍ、より好ましい上限は５０ｎｍである。
なお、上記無機酸化物微粒子の平均１次粒子径は、断面電子顕微鏡（ＴＥＭ、ＳＴＥＭ等の透過型で倍率は５万倍以上が好ましい）の画像から、画像処理ソフトウェアーを用いて測定される値である。 The inorganic oxide fine particles preferably have an average primary particle diameter of 1 to 100 nm. When the thickness is less than 1 nm, the above-described specific uneven shape may not be formed on the surface of the conductive layer. When the thickness exceeds 100 nm, light is diffused by the inorganic oxide fine particles, and the transparent conductive laminate of the present invention is used. The dark room contrast of the touch panel may be inferior. A more preferred lower limit is 5 nm, and a more preferred upper limit is 50 nm.
In addition, the average primary particle diameter of the inorganic oxide fine particles is measured using an image processing software from an image of a cross-sectional electron microscope (a transmission type such as TEM or STEM and preferably a magnification of 50,000 times or more). Value.

上記無機酸化物微粒子は、単粒子状態での形状が球状であることが好ましい。上記無機酸化物微粒子の単粒子がこのような球状であることで、本発明の透明導電性積層体をタッチパネルに適用した場合、高コントラストの表示画像を得ることができる。
なお、上記「球状」とは、例えば、真球状、楕円球状等が挙げられ、いわゆる不定形を除く意味である。 The inorganic oxide fine particles preferably have a spherical shape in a single particle state. When the single particle of the inorganic oxide fine particles has such a spherical shape, a high-contrast display image can be obtained when the transparent conductive laminate of the present invention is applied to a touch panel.
In addition, the above “spherical” includes, for example, a true spherical shape, an elliptical spherical shape and the like, and has a meaning excluding so-called indefinite shape.

また、本発明において、上記無機酸化物微粒子の凝集体は、上記アンダーコート層中で上述した無機酸化物微粒子が数珠状（真珠のネックレス状）に連なった構造を形成していることが好ましい。
上記アンダーコート層中で上記無機酸化物微粒子が数珠状に連なった凝集体を形成していることで、無機酸化物微粒子がゆるやかに集まった状態となり、該凝集体に基づく凸部が傾斜の小さいなだらかな形状となるため、上記導電層の表面凹凸形状を上述した特定の凹凸形状とすることが容易になる。
なお、上記無機酸化物微粒子が数珠状に連なった構造とは、例えば、上記無機酸化物微粒子が直線状に連続して連なった構造（直鎖構造）、該直鎖構造が複数絡み合った構造、上記直鎖構造に無機酸化物微粒子が複数連続して形成された側鎖を１又は２以上有する分岐構造等、任意の構造が挙げられる。 In the present invention, the aggregate of the inorganic oxide fine particles preferably has a structure in which the inorganic oxide fine particles described above are connected in a bead shape (pearl necklace shape) in the undercoat layer.
By forming the aggregate in which the inorganic oxide fine particles are arranged in a bead shape in the undercoat layer, the inorganic oxide fine particles are gathered gently, and the convex portion based on the aggregate has a small inclination. Since it becomes a gentle shape, it becomes easy to make the surface uneven | corrugated shape of the said conductive layer into the specific uneven | corrugated shape mentioned above.
The structure in which the inorganic oxide fine particles are connected in a bead shape is, for example, a structure in which the inorganic oxide fine particles are continuously connected in a straight line (linear structure), a structure in which a plurality of the linear structures are entangled, Any structure such as a branched structure having one or two or more side chains in which a plurality of inorganic oxide fine particles are continuously formed in the linear structure is mentioned.

また、上記無機酸化物微粒子の凝集体は、平均粒子径が１００ｎｍ〜２．０μｍであることが好ましい。１００ｎｍ未満であると、上述した特定の凹凸形状を導電層の表面に形成できないことがあり、２．０μｍを超えると、上記無機酸化物微粒子の凝集体により光が拡散され、本発明の透明導電性積層体を用いたタッチパネルの暗室コントラストが劣ることがある。上記凝集体の平均粒子径のより好ましい下限は２００ｎｍ、より好ましい上限は１．５μｍである。
なお、上記無機酸化物微粒子の凝集体の平均粒子径は、断面電子顕微鏡による観察（１万〜２万倍程度）から無機酸化物微粒子の凝集体が多く含まれる５μｍ四方の領域を選び、その領域中の無機酸化物微粒子の凝集体の粒子径を測定し、上位１０個の無機酸化物微粒子の凝集体の粒子径を平均したものである。なお、上記「無機酸化物微粒子の凝集体の粒子径」は、無機酸化物微粒子の凝集体の断面を任意の平行な２本の直線で挟んだとき、該２本の直線間距離が最大となるような２本の直線の組み合わせにおける直線間距離として測定される。また、上記無機酸化物微粒子の凝集体の粒子径は、画像解析ソフトを用いて算出してもよい。 In addition, the aggregate of the inorganic oxide fine particles preferably has an average particle diameter of 100 nm to 2.0 μm. When the thickness is less than 100 nm, the above-described specific uneven shape may not be formed on the surface of the conductive layer. When the thickness exceeds 2.0 μm, light is diffused by the aggregate of the inorganic oxide fine particles, and the transparent conductive material of the present invention. The dark room contrast of the touch panel using the conductive laminate may be inferior. The more preferable lower limit of the average particle diameter of the aggregate is 200 nm, and the more preferable upper limit is 1.5 μm.
The average particle diameter of the aggregates of the inorganic oxide fine particles is selected from a 5 μm square region containing a large amount of aggregates of inorganic oxide fine particles from observation with a cross-sectional electron microscope (about 10,000 to 20,000 times). The particle diameters of the aggregates of the inorganic oxide fine particles in the region are measured, and the particle diameters of the aggregates of the top 10 inorganic oxide fine particles are averaged. The “particle diameter of the aggregate of the inorganic oxide fine particles” is the maximum distance between the two straight lines when the cross section of the aggregate of the inorganic oxide fine particles is sandwiched between any two parallel straight lines. It is measured as the distance between straight lines in a combination of two straight lines. The particle diameter of the aggregate of the inorganic oxide fine particles may be calculated using image analysis software.

本発明の透明導電性積層体において、上記アンダーコート層は、例えば、硬度が、ＪＩＳ Ｋ５６００−５−４（１９９９）による鉛筆硬度試験（荷重４．９Ｎ）において、ＨＢ以上であることが好ましく、Ｈ以上であることがより好ましい。
上記アンダーコート層の厚さとしては、０．５〜８．０μｍであることが好ましい。０．５μｍ未満であると、上記光透過性基材からのオリゴマー等の低分子量成分の析出を充分に防止できず、また、アンダーコート層表面が傷付きやすくなることがあり、８．０μｍを超えると、アンダーコート層の薄膜化を図れないだけでなく、アンダーコート層が割れやすくなったりすることがある。上記アンダーコート層の厚さのより好ましい範囲は１．０〜５．０μｍである。なお、上記アンダーコート層の厚さは、断面顕微鏡観察により測定することができる。 In the transparent conductive laminate of the present invention, for example, the undercoat layer preferably has a hardness of HB or more in a pencil hardness test (load 4.9 N) according to JIS K5600-5-4 (1999). More preferably, it is H or more.
The thickness of the undercoat layer is preferably 0.5 to 8.0 μm. If the thickness is less than 0.5 μm, precipitation of low molecular weight components such as oligomers from the light-transmitting substrate cannot be sufficiently prevented, and the surface of the undercoat layer may be easily damaged, and 8.0 μm If it exceeds, not only the undercoat layer cannot be made thin, but the undercoat layer may be easily broken. A more preferable range of the thickness of the undercoat layer is 1.0 to 5.0 μm. In addition, the thickness of the said undercoat layer can be measured by cross-sectional microscope observation.

上記アンダーコート層は、上記無機酸化物微粒子がバインダー樹脂中に分散されていることが好ましい。
上記バインダー樹脂としては、上記疎水化処理した無機酸化物微粒子の疎水性に応じて、極性が調整されていることが好ましい。バインダー樹脂の極性を調整する方法としては、例えば、バインダー樹脂の水酸基価を調整することが挙げられる。バインダー樹脂の極性を好適にすることで、上記無機酸化物微粒子の凝集・分散性を好適に制御し、上述した特定の凹凸形状を形成させやすくなる。 In the undercoat layer, the inorganic oxide fine particles are preferably dispersed in a binder resin.
The binder resin preferably has a polarity adjusted according to the hydrophobicity of the hydrophobized inorganic oxide fine particles. Examples of the method for adjusting the polarity of the binder resin include adjusting the hydroxyl value of the binder resin. By optimizing the polarity of the binder resin, the aggregation / dispersibility of the inorganic oxide fine particles is suitably controlled, and the above-described specific uneven shape can be easily formed.

上記バインダー樹脂としては、透明性のものが好ましく、例えば、紫外線又は電子線により硬化する樹脂である電離放射線硬化型樹脂が紫外線又は電子線の照射により硬化したものであることが好ましい。
なお、本明細書において、「樹脂」とは、特に言及しない限り、モノマー、オリゴマー、ポリマー等も包含する概念である。 As said binder resin, a transparent thing is preferable, for example, it is preferable that the ionizing radiation hardening type resin which is resin hardened | cured by an ultraviolet-ray or an electron beam hardens | cures by irradiation of an ultraviolet-ray or an electron beam.
In the present specification, “resin” is a concept including monomers, oligomers, polymers and the like unless otherwise specified.

上記電離放射線硬化型樹脂としては、例えば、アクリレート系等の官能基を有する化合物等の１又は２以上の不飽和結合を有する化合物が挙げられる。１の不飽和結合を有する化合物としては、例えば、エチル（メタ）アクリレート、エチルヘキシル（メタ）アクリレート、スチレン、メチルスチレン、Ｎ−ビニルピロリドン等を挙げることができる。２以上の不飽和結合を有する化合物としては、例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールオクタ（メタ）アクリレート、テトラペンタエリスリトールデカ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸トリ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸ジ（メタ）アクリレート、ポリエステルトリ（メタ）アクリレート、ポリエステルジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールジ（メタ）アクリレート、ジグリセリンテトラ（メタ）アクリレート、アダマンチルジ（メタ）アクリレート、イソボロニルジ（メタ）アクリレート、ジシクロペンタンジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート等の多官能化合物等を挙げることができる。なかでも、ペンタエリスリトールテトラアクリレート（ＰＥＴＴＡ）が好適に用いられる。なお、本明細書において「（メタ）アクリレート」は、メタクリレート及びアクリレートを指すものである。また、本発明では、上記電離放射線硬化型樹脂として、上述した化合物をＰＯ、ＥＯ等で変性したものも使用できる。 Examples of the ionizing radiation curable resin include compounds having one or more unsaturated bonds such as compounds having functional groups such as acrylates. Examples of the compound having one unsaturated bond include ethyl (meth) acrylate, ethylhexyl (meth) acrylate, styrene, methylstyrene, N-vinylpyrrolidone and the like. Examples of the compound having two or more unsaturated bonds include trimethylolpropane tri (meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, dipropylene glycol di (meth) acrylate, and pentaerythritol. Tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) ) Acrylate, ditrimethylolpropane tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, tripentaerythritol octa (meth) acrylate Rate, tetrapentaerythritol deca (meth) acrylate, isocyanuric acid tri (meth) acrylate, isocyanuric acid di (meth) acrylate, polyester tri (meth) acrylate, polyester di (meth) acrylate, bisphenol di (meth) acrylate, diglycerin Polyfunctional compounds such as tetra (meth) acrylate, adamantyl di (meth) acrylate, isoboronyl di (meth) acrylate, dicyclopentane di (meth) acrylate, tricyclodecane di (meth) acrylate, ditrimethylolpropane tetra (meth) acrylate Etc. Of these, pentaerythritol tetraacrylate (PETTA) is preferably used. In the present specification, “(meth) acrylate” refers to methacrylate and acrylate. In the present invention, as the ionizing radiation curable resin, a compound obtained by modifying the above-described compound with PO, EO or the like can also be used.

上記化合物のほかに、不飽和二重結合を有する比較的低分子量のポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂等も上記電離放射線硬化型樹脂として使用することができる。 In addition to the above compounds, relatively low molecular weight polyester resins having unsaturated double bonds, polyether resins, acrylic resins, epoxy resins, urethane resins, alkyd resins, spiroacetal resins, polybutadiene resins, polythiol polyene resins, etc. It can be used as an ionizing radiation curable resin.

上記電離放射線硬化型樹脂は、溶剤乾燥型樹脂（熱可塑性樹脂等、塗工時に固形分を調整するために添加した溶剤を乾燥させるだけで、被膜となるような樹脂）と併用して使用することもできる。溶剤乾燥型樹脂を併用することによって、アンダーコート層を形成する際に、塗液の塗布面の被膜欠陥を有効に防止することができる。
上記電離放射線硬化型樹脂と併用して使用することができる溶剤乾燥型樹脂としては特に限定されず、一般に、熱可塑性樹脂を使用することができる。
上記熱可塑性樹脂としては特に限定されず、例えば、スチレン系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、酢酸ビニル系樹脂、ビニルエーテル系樹脂、ハロゲン含有樹脂、脂環式オレフィン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、セルロース誘導体、シリコーン系樹脂及びゴム又はエラストマー等を挙げることができる。上記熱可塑性樹脂は、非結晶性で、かつ有機溶媒（特に複数のポリマーや硬化性化合物を溶解可能な共通溶媒）に可溶であることが好ましい。特に、透明性や耐候性という観点から、スチレン系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、脂環式オレフィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、セルロース誘導体（セルロースエステル類等）等が好ましい。 The ionizing radiation curable resin is used in combination with a solvent-drying resin (a thermoplastic resin or the like, which is a resin that forms a film only by drying the solvent added to adjust the solid content during coating). You can also. By using the solvent-drying resin in combination, film defects on the coated surface of the coating liquid can be effectively prevented when the undercoat layer is formed.
The solvent-drying resin that can be used in combination with the ionizing radiation curable resin is not particularly limited, and a thermoplastic resin can be generally used.
The thermoplastic resin is not particularly limited. For example, a styrene resin, a (meth) acrylic resin, a vinyl acetate resin, a vinyl ether resin, a halogen-containing resin, an alicyclic olefin resin, a polycarbonate resin, or a polyester resin. Examples thereof include resins, polyamide-based resins, cellulose derivatives, silicone-based resins, rubbers, and elastomers. The thermoplastic resin is preferably amorphous and soluble in an organic solvent (particularly a common solvent capable of dissolving a plurality of polymers and curable compounds). In particular, from the viewpoint of transparency and weather resistance, styrene resins, (meth) acrylic resins, alicyclic olefin resins, polyester resins, cellulose derivatives (cellulose esters, etc.) and the like are preferable.

また、上記アンダーコート層は、熱硬化性樹脂を含有していてもよい。
上記熱硬化性樹脂としては特に限定されず、例えば、フェノール樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、メラミン樹脂、グアナミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、アミノアルキッド樹脂、メラミン−尿素共縮合樹脂、ケイ素樹脂、ポリシロキサン樹脂等を挙げることができる。 The undercoat layer may contain a thermosetting resin.
The thermosetting resin is not particularly limited. For example, phenol resin, urea resin, diallyl phthalate resin, melamine resin, guanamine resin, unsaturated polyester resin, polyurethane resin, epoxy resin, aminoalkyd resin, melamine-urea cocondensation Examples thereof include resins, silicon resins, polysiloxane resins, and the like.

上記無機酸化物微粒子及びバインダー樹脂を含有するアンダーコート層は、例えば、上述した無機酸化物微粒子、バインダー樹脂のモノマー成分及び溶剤を含有するアンダーコート層用組成物を、光透過性基材上に塗布し、乾燥させて形成した塗膜を電離放射線照射等により硬化させることで形成することができる。 The undercoat layer containing the inorganic oxide fine particles and the binder resin is prepared by, for example, applying the composition for an undercoat layer containing the above-described inorganic oxide fine particles, a monomer component of the binder resin, and a solvent on a light-transmitting substrate. The coating film formed by applying and drying can be formed by curing by ionizing radiation irradiation or the like.

上記アンダーコート層用組成物に含まれる溶剤としては、例えば、アルコール（例、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、ｓ−ブタノール、ｔ−ブタノール、ベンジルアルコール、ＰＧＭＥ、エチレングリコール）、ケトン類（アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等）、エーテル類（ジオキサン、テトラヒドロフラン等）、脂肪族炭化水素類（ヘキサン等）、脂環式炭化水素類（シクロヘキサン等）、芳香族炭化水素類（トルエン、キシレン等）、ハロゲン化炭素類（ジクロロメタン、ジクロロエタン等）、エステル類（酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等）、セロソルブ類（メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等）、セロソルブアセテート類、スルホキシド類（ジメチルスルホキシド等）、アミド類（ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等）等が例示でき、これらの混合物であってもよい。 Examples of the solvent contained in the composition for the undercoat layer include alcohols (eg, methanol, ethanol, propanol, isopropanol, n-butanol, s-butanol, t-butanol, benzyl alcohol, PGME, ethylene glycol), ketones (Acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, etc.), ethers (dioxane, tetrahydrofuran, etc.), aliphatic hydrocarbons (hexane, etc.), alicyclic hydrocarbons (cyclohexane, etc.), aromatic hydrocarbons ( Toluene, xylene, etc.), halogenated carbons (dichloromethane, dichloroethane, etc.), esters (methyl acetate, ethyl acetate, butyl acetate, etc.), cellosolves (methyl cellosolve, ethyl cellosolve, etc.), cellosolve acetates, sulfur Kishido compound (dimethylsulfoxide), amides (dimethylformamide, dimethylacetamide, etc.) and the like can be exemplified, or a mixture thereof.

上記アンダーコート層用組成物は、更に光重合開始剤を含有することが好ましい。
上記光重合開始剤としては特に限定されず、公知のものを用いることができ、具体例には、例えば、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーベンゾイルベンゾエート、α−アミロキシムエステル、チオキサントン類、プロピオフェノン類、ベンジル類、ベンゾイン類、アシルホスフィンオキシド類が挙げられる。また、光増感剤を混合して用いることが好ましく、その具体例としては、例えば、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、ポリ−ｎ−ブチルホスフィン等が挙げられる。 The undercoat layer composition preferably further contains a photopolymerization initiator.
The photopolymerization initiator is not particularly limited, and known ones can be used. Specific examples include, for example, acetophenones, benzophenones, Michler benzoylbenzoate, α-amyloxime ester, thioxanthones, propio Examples include phenones, benzyls, benzoins, and acylphosphine oxides. In addition, it is preferable to use a mixture of photosensitizers, and specific examples thereof include n-butylamine, triethylamine, poly-n-butylphosphine, and the like.

上記光重合開始剤としては、上記バインダー樹脂がラジカル重合性不飽和基を有する樹脂系の場合は、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、チオキサントン類、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル等を単独又は混合して用いることが好ましい。また、上記バインダー樹脂がカチオン重合性官能基を有する樹脂系の場合は、上記光重合開始剤としては、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族スルホニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、メタロセン化合物、ベンゾインスルホン酸エステル等を単独又は混合物として用いることが好ましい。 As the photopolymerization initiator, when the binder resin is a resin system having a radical polymerizable unsaturated group, acetophenones, benzophenones, thioxanthones, benzoin, benzoin methyl ether, etc. may be used alone or in combination. preferable. When the binder resin is a resin system having a cationic polymerizable functional group, examples of the photopolymerization initiator include aromatic diazonium salts, aromatic sulfonium salts, aromatic iodonium salts, metallocene compounds, benzoin sulfonate esters, and the like. Are preferably used alone or as a mixture.

上記アンダーコート層用組成物における上記光重合開始剤の含有量は、上記バインダー樹脂１００質量部に対して、０．５〜１０．０質量部であることが好ましい。０．５質量部未満であると、形成するアンダーコート層のハードコート性能が不充分となることがあり、１０．０質量部を超えると、逆に硬化を阻害する可能性も出てくるため、好ましくない。 It is preferable that content of the said photoinitiator in the said composition for undercoat layers is 0.5-10.0 mass parts with respect to 100 mass parts of said binder resins. If it is less than 0.5 parts by mass, the hard coat performance of the undercoat layer to be formed may be insufficient, and if it exceeds 10.0 parts by mass, there is a possibility of inhibiting the curing. It is not preferable.

上記アンダーコート層用組成物中における原料の含有割合（固形分）としては特に限定されないが、通常は５〜７０質量％、特に２５〜６０質量％とすることが好ましい。 Although it does not specifically limit as a content rate (solid content) of the raw material in the said composition for undercoat layers, Usually, it is preferable to set it as 5-70 mass%, especially 25-60 mass%.

上記アンダーコート層用組成物には、アンダーコート層の硬度を高くする、硬化収縮を抑える、屈折率を制御する等の目的に応じて、従来公知の分散剤、界面活性剤、帯電防止剤、シランカップリング剤、増粘剤、着色防止剤、着色剤（顔料、染料）、消泡剤、レベリング剤、難燃剤、紫外線吸収剤、接着付与剤、重合禁止剤、酸化防止剤、表面改質剤、易滑剤等を添加していてもよい。
上記レベリング剤としては、例えば、シリコーンオイル、フッ素系界面活性剤等が、アンダーコート層がベナードセル構造となることを回避することから好ましい。溶剤を含む樹脂組成物を塗工し、乾燥する場合、塗膜内において塗膜表面と内面とに表面張力差等を生じ、それによって塗膜内に多数の対流が引き起こされる。この対流により生じる構造はベナードセル構造と呼ばれ、形成するアンダーコート層にゆず肌や塗工欠陥といった問題の原因となる。
また、上記ベナードセル構造は、アンダーコート層の表面の凹凸が大きくなりすぎて透明導電性積層体の外観を損なう恐れがある。前述のようなレベリング剤を用いると、この対流を防止することができるため、欠陥やムラのないアンダーコート層が得られるだけでなく、アンダーコート層表面の凹凸形状の調整も容易となる。 Depending on the purpose of increasing the hardness of the undercoat layer, suppressing curing shrinkage, controlling the refractive index, etc., the above-mentioned composition for undercoat layer may be a conventionally known dispersant, surfactant, antistatic agent, Silane coupling agent, thickener, anti-coloring agent, coloring agent (pigment, dye), antifoaming agent, leveling agent, flame retardant, UV absorber, adhesion-imparting agent, polymerization inhibitor, antioxidant, surface modification An agent, a lubricant, etc. may be added.
As the leveling agent, for example, silicone oil, fluorine-based surfactant, and the like are preferable because the undercoat layer is prevented from having a Benard cell structure. When a resin composition containing a solvent is applied and dried, a surface tension difference or the like is generated between the coating film surface and the inner surface in the coating film, thereby causing many convections in the coating film. The structure generated by this convection is called a Benard cell structure, and causes a problem such as the skin and coating defects in the formed undercoat layer.
Further, the Benard cell structure has a risk that the irregularity of the surface of the undercoat layer becomes too large and the appearance of the transparent conductive laminate is impaired. When the leveling agent as described above is used, this convection can be prevented, so that not only an undercoat layer free from defects and unevenness can be obtained, but also the uneven shape on the surface of the undercoat layer can be easily adjusted.

上記アンダーコート層用組成物の調製方法としては各成分を均一に混合できれば特に限定されず、例えば、ペイントシェーカー、ビーズミル、ニーダー、ミキサー等の公知の装置を使用して行うことができる。 The method for preparing the composition for the undercoat layer is not particularly limited as long as each component can be uniformly mixed. For example, the composition can be performed using a known apparatus such as a paint shaker, a bead mill, a kneader, or a mixer.

上記アンダーコート層用組成物を光透過性基材上に塗布する方法としては特に限定されず、例えば、スピンコート法、ディップ法、スプレー法、ダイコート法、バーコート法、ロールコーター法、メニスカスコーター法、フレキソ印刷法、スクリーン印刷法、ピードコーター法等の公知の方法を挙げることができる。
上記の方法のいずれかでアンダーコート層用組成物を塗布した後、形成した塗膜を乾燥させるために加熱されたゾーンに搬送され各種の公知の方法で塗膜を乾燥させ溶剤を蒸発させる。ここで溶剤相対蒸発速度、固形分濃度、塗布液温度、乾燥温度、乾燥風の風速、乾燥時間、乾燥ゾーンの溶剤雰囲気濃度等を選定することにより、無機酸化物微粒子の凝集体の分布状態を調整できる。
特に、乾燥条件の選定によって無機酸化物微粒子の凝集体の分布状態を調整する方法が簡便で好ましい。具体的な乾燥温度としては、３０〜１２０℃、乾燥風速では０．２〜５０ｍ／ｓであることが好ましく、この範囲内で適宜調整した乾燥処理を、１回又は複数回行うことで無機酸化物微粒子の凝集体の分布状態を所望の状態に調整することができる。 The method for applying the undercoat layer composition onto the light-transmitting substrate is not particularly limited. For example, spin coating, dipping, spraying, die coating, bar coating, roll coater, meniscus coater And publicly known methods such as a method, a flexographic printing method, a screen printing method, and a pea coater method.
After applying the composition for an undercoat layer by any of the above methods, it is transported to a heated zone to dry the formed coating film, and the coating film is dried by various known methods to evaporate the solvent. By selecting the solvent relative evaporation rate, solid content concentration, coating solution temperature, drying temperature, drying air velocity, drying time, solvent atmosphere concentration in the drying zone, etc., the distribution state of the aggregates of inorganic oxide fine particles can be determined. Can be adjusted.
In particular, a method of adjusting the distribution state of the aggregates of inorganic oxide fine particles by selecting drying conditions is simple and preferable. The specific drying temperature is preferably 30 to 120 ° C., and the drying wind speed is preferably 0.2 to 50 m / s, and the inorganic oxidation is performed by performing the drying treatment appropriately adjusted within this range once or a plurality of times. It is possible to adjust the distribution state of the aggregates of the product fine particles to a desired state.

また、上記乾燥後の塗膜を硬化させる際の電離放射線の照射方法としては、例えば、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク灯、ブラックライト蛍光灯、メタルハライドランプ灯等の光源を用いる方法が挙げられる。
また、紫外線の波長としては、１９０〜３８０ｎｍの波長域を使用することができる。電子線源の具体例としては、コッククロフトワルト型、バンデグラフト型、共振変圧器型、絶縁コア変圧器型、又は直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器が挙げられる。 In addition, as a method of irradiating ionizing radiation when curing the coating film after drying, for example, a light source such as an ultrahigh pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, a low pressure mercury lamp, a carbon arc lamp, a black light fluorescent lamp, or a metal halide lamp is used. A method is mentioned.
Moreover, as a wavelength of an ultraviolet-ray, the wavelength range of 190-380 nm can be used. Specific examples of the electron beam source include various electron beam accelerators such as a cockcroft-wald type, a bandegraft type, a resonant transformer type, an insulated core transformer type, a linear type, a dynamitron type, and a high frequency type.

本発明の透明導電性積層体は、上記光透過性基材のアンダーコート層側と反対側面上に、別のアンダーコート層を有することが好ましい。上記別のアンダーコート層を有することで、本発明の透明導電性積層体のカールの発生を抑制でき、また、製造過程における傷発生を低減させることができる。
また、上記別のアンダーコート層の光透過性基材側と反対側面上には、後述する機能層が積層されていることも好ましい。
更に、上記別のアンダーコート層は、上述したアンダーコート層と略同一な表面凹凸形状を有することが好ましい。 The transparent conductive laminate of the present invention preferably has another undercoat layer on the side surface opposite to the undercoat layer side of the light transmissive substrate. By having the other undercoat layer, the curling of the transparent conductive laminate of the present invention can be suppressed, and the generation of scratches in the production process can be reduced.
Moreover, it is also preferable that the functional layer mentioned later is laminated | stacked on the side opposite to the light transmissive base material side of said another undercoat layer.
Furthermore, it is preferable that the other undercoat layer has substantially the same surface asperity shape as the above-described undercoat layer.

上記別のアンダーコート層は、上述したアンダーコート層と同様の材料を用いて形成することができる。このようにして上記別のアンダーコート層を形成することで、本発明の透明導電性積層体の耐ブロッキング性や易滑性の効果を高めることができる。 The other undercoat layer can be formed using the same material as the above-described undercoat layer. By forming the other undercoat layer in this manner, the effects of blocking resistance and slipperiness of the transparent conductive laminate of the present invention can be enhanced.

また、本発明の透明導電性積層体は、上記アンダーコート層と導電層との間に、高屈折率層が積層されていてもよく、また、上記アンダーコート層と導電層との間に高屈折率層及び低屈折率層が積層されていてもよい。
本発明の透明導電性積層体は、後述するように所定のパターン化された導電層を有するものであるが、タッチパネルに用いられる部材であるため、上記パターン化された導電層の不可視化等の要求により、本発明の透明導電性積層体には厳密な光学特性が要求される。このため、上記高屈折率層及び低屈折率層には、厚みや屈折率の厳密な制御が要求される。具体的には、上記高屈折率層は、厚み１０〜１００ｎｍで、屈折率１．６０〜１．７０であることが好ましく、上記低屈折率層は、厚み１０〜１００ｎｍで、屈折率１．４０〜１．４９であることが好ましい。上記高屈折率層及び上記低屈折率層の厚みは、３０〜７０ｎｍであることがより好ましい。
なお、上記高屈折率層と上記低屈折率層との間に、厚み２００ｎｍ以下で、屈折率が１．５０〜１．７０の中屈折率層を有していてもよい。上記中屈折率層は、厚みが１０〜１００ｎｍで、屈折率１．５５〜１．６５であることが好ましく、厚みは３０〜７０ｎｍであることがより好ましい。
なお、本発明の透明導電性積層体は、更に、導電層直下に粘着層やバリアー層等の機能層を有していてもよい。 In the transparent conductive laminate of the present invention, a high refractive index layer may be laminated between the undercoat layer and the conductive layer, and a high refractive index layer may be provided between the undercoat layer and the conductive layer. A refractive index layer and a low refractive index layer may be laminated.
The transparent conductive laminate of the present invention has a predetermined patterned conductive layer as will be described later. However, since it is a member used for a touch panel, the patterned conductive layer is made invisible. According to demand, the transparent conductive laminate of the present invention requires strict optical characteristics. For this reason, the high refractive index layer and the low refractive index layer are required to strictly control the thickness and refractive index. Specifically, the high refractive index layer preferably has a thickness of 10 to 100 nm and a refractive index of 1.60 to 1.70, and the low refractive index layer has a thickness of 10 to 100 nm and a refractive index of 1. It is preferable that it is 40-1.49. The thickness of the high refractive index layer and the low refractive index layer is more preferably 30 to 70 nm.
Note that a medium refractive index layer having a thickness of 200 nm or less and a refractive index of 1.50 to 1.70 may be provided between the high refractive index layer and the low refractive index layer. The middle refractive index layer has a thickness of 10 to 100 nm, preferably a refractive index of 1.55 to 1.65, and more preferably 30 to 70 nm.
In addition, the transparent conductive laminated body of this invention may have functional layers, such as an adhesion layer and a barrier layer, directly under a conductive layer.

上記高屈折率層及び中屈折率層としては、例えば、バインダー樹脂と屈折率調整粒子を含有してなるものが挙げられる。
上記屈折率調整粒子としては、所望の屈折率を有する粒子を適宜選択すればよい。屈折率の比較的高い粒子としては、例えば、酸化亜鉛（１．９０）、酸化チタン（２．３〜２．７）、酸化セリウム（１．９５）、スズドープ酸化インジウム（１．９５〜２．００）、アンチモンドープ酸化スズ（１．７５〜１．８５）、酸化イットリウム（１．８７）、酸化ジルコニウム（２．１０）などが挙げられる。なお、上記かっこ内は、各粒子の材料の屈折率を示す。これら粒子の平均粒子径は、通常、１００ｎｍ以下である。 Examples of the high refractive index layer and the medium refractive index layer include those containing a binder resin and refractive index adjusting particles.
As the refractive index adjusting particles, particles having a desired refractive index may be appropriately selected. Examples of particles having a relatively high refractive index include zinc oxide (1.90), titanium oxide (2.3 to 2.7), cerium oxide (1.95), and tin-doped indium oxide (1.95 to 2.95). 00), antimony-doped tin oxide (1.75 to 1.85), yttrium oxide (1.87), zirconium oxide (2.10), and the like. In addition, the inside of the said parenthesis shows the refractive index of the material of each particle. The average particle diameter of these particles is usually 100 nm or less.

上記バインダー樹脂としては特に限定されず、例えば、熱可塑性樹脂を用いることもできるが、表面硬度を高くする観点から、熱硬化型樹脂組成物又は電離放射線硬化型樹脂組成物等の硬化型樹脂組成物から形成されてなるものが好ましく、なかでも、電離放射線硬化型樹脂組成物から形成されてなるものがより好ましい。
上記熱硬化型性樹脂組成物としては、例えば、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、フェノール樹脂、尿素メラミン樹脂、エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、シリコーン樹脂等の硬化型樹脂と、必要に応じて添加する硬化剤を含んでなるもの、あるいは、上記硬化型樹脂を構成するモノマーと、硬化剤とを含んでなるもの等が挙げられる。 The binder resin is not particularly limited. For example, a thermoplastic resin can be used, but from the viewpoint of increasing the surface hardness, a curable resin composition such as a thermosetting resin composition or an ionizing radiation curable resin composition. What is formed from the thing is preferable, and what is formed from the ionizing radiation curable resin composition is more preferable.
Examples of the thermosetting resin composition include curable resins such as acrylic resin, urethane resin, phenol resin, urea melamine resin, epoxy resin, unsaturated polyester resin, and silicone resin, and curing that is added as necessary. And the like, or those comprising a monomer constituting the curable resin and a curing agent.

上記電離放射線硬化型樹脂組成物の電離放射線硬化型樹脂としては、アクリレート系又はメタクリレート系の官能基を有する化合物等の１又は２以上の不飽和結合を有する化合物を挙げることができる。このような化合物としては、上記アンダーコート層のバインダー樹脂として説明した電離放射線硬化型樹脂と同様の化合物が挙げられる。 Examples of the ionizing radiation curable resin of the ionizing radiation curable resin composition include compounds having one or more unsaturated bonds, such as a compound having an acrylate or methacrylate functional group. Examples of such a compound include the same compounds as the ionizing radiation curable resin described as the binder resin for the undercoat layer.

また、これらの化合物は、芳香族環、フッ素以外のハロゲン原子、硫黄、窒素、リン原子等を導入して、屈折率を高く調整したものであってもよい。
さらに、上記化合物のほかに、不飽和二重結合を有する比較的低分子量のポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂等も電離放射線硬化型樹脂組成物として使用することができる。 In addition, these compounds may have a refractive index adjusted to be high by introducing an aromatic ring, a halogen atom other than fluorine, sulfur, nitrogen, phosphorus atoms, or the like.
In addition to the above compounds, relatively low molecular weight polyester resins having unsaturated double bonds, polyether resins, acrylic resins, epoxy resins, urethane resins, alkyd resins, spiroacetal resins, polybutadiene resins, polythiol polyene resins, etc. Can also be used as an ionizing radiation curable resin composition.

上記電離放射線硬化型樹脂組成物を紫外線照射によって硬化させる場合には、該組成物中に光重合開始剤や光重合促進剤等の添加剤を含むことが好ましい。
上記光重合開始剤としては、例えば、アセトフェノン、ベンゾフェノン、ミヒラーケトン、ベンゾイン、ベンジルメチルケタール、ベンゾイルベンゾエート、α−アシルオキシムエステル、α−ヒドロキシケトン、チオキサンソン類等が挙げられる。本発明では、高屈折率層及び低屈折率層の高硬度化の観点から、２−ヒドロキシ−１−｛４−［４−（２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオニル）ベンジル］フェニル｝−２−メチルプロパン−１−オンが好適である。
また、上記光重合促進剤は、硬化時の空気による重合障害を軽減させ硬化速度を速めることができるものであり、例えば、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸イソアミルエステル、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチルエステルなどが挙げられる。 When the ionizing radiation curable resin composition is cured by ultraviolet irradiation, it is preferable that the composition contains an additive such as a photopolymerization initiator or a photopolymerization accelerator.
Examples of the photopolymerization initiator include acetophenone, benzophenone, Michler ketone, benzoin, benzyl methyl ketal, benzoyl benzoate, α-acyl oxime ester, α-hydroxy ketone, and thioxanthone. In the present invention, from the viewpoint of increasing the hardness of the high refractive index layer and the low refractive index layer, 2-hydroxy-1- {4- [4- (2-hydroxy-2-methylpropionyl) benzyl] phenyl} -2- Methylpropan-1-one is preferred.
The photopolymerization accelerator is capable of reducing the polymerization obstacle due to air during curing and increasing the curing speed. For example, p-dimethylaminobenzoic acid isoamyl ester, p-dimethylaminobenzoic acid ethyl ester, etc. Is mentioned.

上記低屈折率層は、バインダー成分と屈折率調整粒子を含有してなるもの、あるいは低屈折率の材料単体からなるものが挙げられる。
上記バインダー成分としては、上記高屈折率層ないし中屈折率層で例示したバインダー樹脂を使用することができる。また、フッ素原子を導入した樹脂や、オルガノポリシロキサン等の屈折率の低い材料をバインダー成分として混合してもよい。
上記低屈折率層に用いる屈折率調整粒子としては、例えば、シリカ、フッ化マグネシウム、あるいはこれらの中空粒子等が挙げられる。これら粒子の平均粒子径は、通常、１００ｎｍ以下である。
上記低屈折率の材料単体から低屈折率層を形成する場合、例えば、フッ素原子を導入した樹脂や、オルガノポリシロキサン等の屈折率の低い材料を用いることができる。 Examples of the low refractive index layer include those comprising a binder component and refractive index adjusting particles, and those comprising a single material having a low refractive index.
As the binder component, the binder resins exemplified in the high refractive index layer to the medium refractive index layer can be used. Further, a resin having a low refractive index such as a resin into which fluorine atoms are introduced or organopolysiloxane may be mixed as a binder component.
Examples of the refractive index adjusting particles used in the low refractive index layer include silica, magnesium fluoride, and hollow particles thereof. The average particle diameter of these particles is usually 100 nm or less.
When the low refractive index layer is formed from a single material having a low refractive index, for example, a material having a low refractive index such as a resin into which fluorine atoms are introduced or organopolysiloxane can be used.

本発明の透明導電性積層体において、上記導電層を構成する材料としては特に限定されず、例えば、インジウム、スズ、亜鉛、ガリウム、アンチモン、チタン、珪素、ジルコニウム、マグネシウム、アルミニウム、金、銀、銅、パラジウム、タングステンからなる群より選択される少なくとも１種の金属元素を含む金属或いは金属酸化物が好適に用いられる。当該金属酸化物には、必要に応じて、更に上記群に示された金属原子を含んでいてもよい。例えば、酸化スズを含有する酸化インジウム（ＩＴＯ）、アンチモンを含有する酸化スズ（ＡＴＯ）等が好ましく用いられる。 In the transparent conductive laminate of the present invention, the material constituting the conductive layer is not particularly limited. For example, indium, tin, zinc, gallium, antimony, titanium, silicon, zirconium, magnesium, aluminum, gold, silver, A metal or metal oxide containing at least one metal element selected from the group consisting of copper, palladium, and tungsten is preferably used. The metal oxide may further contain a metal atom shown in the above group, if necessary. For example, indium oxide (ITO) containing tin oxide and tin oxide (ATO) containing antimony are preferably used.

上記導電層の厚みとしては特に限定されないが、その表面抵抗を１×１０３Ω／□以下の良好な導電性を確保する観点から、１０ｎｍ以上が好ましく、１５ｎｍ以上がより好ましく、２０ｎｍ以上が更に好ましい。一方、導電層の厚みが大きくなりすぎると、上述した高屈折率層及び低屈折率層による不可視化の効果が小さくなること、及び、透明性が低下するという不都合が生じることがあるので、導電層の厚みは、６０ｎｍ以下が好ましく、５０ｎｍ以下がより好ましく、４０ｎｍ以下が更に好ましい。 The thickness of the conductive layer is not particularly limited, but is preferably 10 nm or more, more preferably 15 nm or more, and even more preferably 20 nm or more from the viewpoint of ensuring good conductivity with a surface resistance of 1 × 10 3 Ω / □ or less. preferable. On the other hand, if the thickness of the conductive layer becomes too large, the above-described effect of invisibility by the high refractive index layer and the low refractive index layer may be reduced, and inconvenience that transparency may be reduced may occur. The thickness of the layer is preferably 60 nm or less, more preferably 50 nm or less, and still more preferably 40 nm or less.

上記導電層を構成する材料が上記金属材料である場合、該金属材料からなる導電層は、通常、遮光性を有するため、ベタ配線であると視認性の悪化を招くこととなる。このため、上記金属材料からなる導電層は、例えば、幅が数μｍ〜２０μｍ程度の導線による検出パターンで構成されることが好ましい。
また、このような導線による検出パターンは、網目状に配置されている場合、光の透過率が導線によって占められる領域とそれ以外の領域とで相違するため、本発明の透明導電性積層体をタッチパネルとした場合、表示品質の低下を招くこととなる。このため、上記金属材料からなる導電層を有する場合、従来公知の方法、例えば、上記導線による検出パターンと同一平面上にダミーパターンを適宜設ける等して、視認性の向上を図ることが好ましい。なお、この視認性の向上を図った導線による検出パターンとしては、例えば、特開２０１３−１４３０４５号公報に記載の方法等が挙げられ、この場合、導電層の厚さは、上記範囲でなくてもよい。 When the material constituting the conductive layer is the metal material, the conductive layer made of the metal material usually has a light shielding property, so that a solid wiring causes deterioration in visibility. For this reason, it is preferable that the conductive layer made of the metal material is configured with a detection pattern using a conductive wire having a width of about several μm to 20 μm, for example.
In addition, when the detection pattern by such a conductive wire is arranged in a mesh shape, the light transmittance is different between the region occupied by the conductive wire and the other region. When a touch panel is used, the display quality is degraded. For this reason, when it has a conductive layer made of the metal material, it is preferable to improve visibility by appropriately providing a dummy pattern on the same plane as the detection pattern using the conductive wire, for example. In addition, as a detection pattern by the conducting wire which improved this visibility, the method of Unexamined-Japanese-Patent No. 2013-143045 etc. are mentioned, for example, In this case, the thickness of a conductive layer is not in the said range. Also good.

本発明の透明導電性積層体において、上記導電層が上述した金属酸化物からなる場合、上記導電層の屈折率は、１．８１以上であることが好ましく、１．８５以上がより好ましく、１．９０以上が更に好ましい。上記導電膜の屈折率の上限は２．２０以下が好ましく、２．１０以下がより好ましい。 In the transparent conductive laminate of the present invention, when the conductive layer is made of the metal oxide described above, the refractive index of the conductive layer is preferably 1.81 or higher, more preferably 1.85 or higher. More preferably, 90 or more. The upper limit of the refractive index of the conductive film is preferably 2.20 or less, and more preferably 2.10 or less.

上記導電層の形成方法としては特に限定されず、従来公知の方法を用いることができる。具体的には、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等のドライプロセスを用いることができる。また、必要とする膜厚に応じて適宜の方法を採用することもできる。
なお、本発明の透明導電性積層体では、上記導電層は上記アンダーコート層上に積層されるが、該アンダーコート層の表面に形成された凹凸形状は、上述の通り、上記導電層の表面においても維持されている。例えば、上記導電層がスパッタリング法等のドライプロセスによって上記アンダーコート層上に形成されることで、形成される導電層の表面は、上記アンダーコート層表面の凹凸形状を同じ範囲で維持する。そのため、アンダーコート層上に形成された導電層表面に、耐ブロッキング性や易滑性を付与することができる。
また、上記アンダーコート層と導電層との間に高屈折率層及び低屈折率層が積層されている場合、上記高屈折率層及び低屈折率層は、上記アンダーコート層の表面の凹凸形状をほぼ維持していることが好ましく、この場合、該低屈折率層上に導電層がスパッタリング法等のドライプロセスによって形成されれば、上述した場合と同様に導電層表面にも、上記アンダーコート層の表面の凹凸形状を同じ範囲で維持した凹凸形状が形成され、該導電層表面に耐ブロッキング性や易滑性を付与することができる。 It does not specifically limit as a formation method of the said conductive layer, A conventionally well-known method can be used. Specifically, for example, a dry process such as a vacuum deposition method, a sputtering method, or an ion plating method can be used. In addition, an appropriate method can be adopted depending on the required film thickness.
In the transparent conductive laminate of the present invention, the conductive layer is laminated on the undercoat layer. The uneven shape formed on the surface of the undercoat layer is the surface of the conductive layer as described above. Is also maintained. For example, when the conductive layer is formed on the undercoat layer by a dry process such as a sputtering method, the surface of the formed conductive layer maintains the uneven shape of the surface of the undercoat layer in the same range. Therefore, blocking resistance and slipperiness can be imparted to the surface of the conductive layer formed on the undercoat layer.
In the case where a high refractive index layer and a low refractive index layer are laminated between the undercoat layer and the conductive layer, the high refractive index layer and the low refractive index layer are formed in an uneven shape on the surface of the undercoat layer. In this case, if the conductive layer is formed on the low refractive index layer by a dry process such as a sputtering method, the undercoat is also applied to the surface of the conductive layer as described above. An uneven shape in which the uneven shape on the surface of the layer is maintained in the same range is formed, and blocking resistance and easy slipperiness can be imparted to the surface of the conductive layer.

本発明の透明導電性積層体は、静電容量方式のタッチパネルに好適に用いられるため、上記導電層は、パターン化されていることが好ましい。このようなパターン化された導電層は、例えば、上述の方法で製膜した導電層をパターン化することで得ることができる。
なお、上記導電層のパターン化により、パターン部と非パターン部とが形成されるが、パターン部の形状としては、例えば、ストライプ状、格子状等が挙げられる。 Since the transparent conductive laminate of the present invention is suitably used for a capacitive touch panel, the conductive layer is preferably patterned. Such a patterned conductive layer can be obtained, for example, by patterning the conductive layer formed by the above-described method.
Note that pattern portions and non-pattern portions are formed by patterning the conductive layer. Examples of the shape of the pattern portion include a stripe shape and a lattice shape.

上記導電層のパターン化は、一般的にはエッチングによって行われる。例えば、導電層上にパターン状のエッチングレジスト膜を、フォトリソグラフィ法、レーザー露光法、あるいは印刷法により形成した後エッチング処理することにより、導電層がパターン化される。 The patterning of the conductive layer is generally performed by etching. For example, the conductive layer is patterned by forming a patterned etching resist film on the conductive layer by a photolithography method, a laser exposure method, or a printing method and then performing an etching process.

上記エッチング液としては、従来公知のものが用いられる。例えば、塩化水素、臭化水素、硫酸、硝酸又はリン酸等の無機酸、酢酸等の有機酸、又は、これらの混合物、ならびにそれらの水溶液等が用いられる。 A conventionally well-known thing is used as said etching liquid. For example, an inorganic acid such as hydrogen chloride, hydrogen bromide, sulfuric acid, nitric acid or phosphoric acid, an organic acid such as acetic acid, a mixture thereof, an aqueous solution thereof, or the like is used.

上記導電層は、必要に応じて、加熱アニール処理を施して結晶化することができる。
上記導電層を結晶化することで、導電層が低抵抗化されることに加えて、透明性及び耐久性が向上する。
なお、上述したエッチングにより導電層をパターン化する場合、先に導電層の結晶化を行うと、エッチングによるパターン化が困難となる場合がある。そのため、導電層の加熱アニール処理は、導電層をパターン化した後に行うことが好ましい。 The conductive layer can be crystallized by performing a heat annealing treatment as necessary.
By crystallizing the conductive layer, the resistance of the conductive layer is reduced, and transparency and durability are improved.
Note that when the conductive layer is patterned by the above-described etching, if the conductive layer is crystallized first, patterning by etching may be difficult. For this reason, the heat annealing treatment of the conductive layer is preferably performed after patterning the conductive layer.

ここで、本発明の透明導電性積層体は、上記導電層の表面に形成される凹凸は、上述した所定のパラメータを充足するものであるが、このようなパラメータを充足する凹凸形状は、従来の耐ブロッキング性や易滑性の向上を目的として形成されたアンダーコート層等の凹凸形状と比較して、凸部の傾斜が小さく非常になだらかな形状である。すなわち、上記アンダーコート層の表面の凹凸形状も凸部の傾斜が小さく非常になだらかな形状となる。
上記導電層は、このような非情になだらかな凹凸形状のアンダーコート上に形成されるため、該導電層の製膜時のムラが生じにくく、その結果、導電層の抵抗値の面内分布が良好となる。
なお、従来、防眩性付与を目的として、光学機能層の表面に凹凸形状を有する光学積層体（防眩性フィルム）が知られているが、本発明の透明導電性積層体は、このような防眩性フィルムとは異なるものである。すなわち、本発明の透明導電性積層体の導電層表面に形成された凹凸形状は、従来の防眩性フィルムの表面に形成された凹凸形状と比較して、凹凸の高さがより低く、更に、凹凸部の傾斜角度がよりなだらかである。従って、導電層にこのような凹凸形状が形成された本発明の透明導電性積層体では、従来の防眩性フィルムのような防眩性は得られない。一方で、本発明によると、防眩性フィルムで問題となる外光による白濁感の発生が生じず、コントラストに優れた映像を提供する透明導電性積層体を得ることができる。 Here, in the transparent conductive laminate of the present invention, the unevenness formed on the surface of the conductive layer satisfies the above-mentioned predetermined parameters, but the uneven shape satisfying such parameters is conventionally known. Compared with the concave and convex shape such as an undercoat layer formed for the purpose of improving the blocking resistance and the slipperiness, the convex portion has a small slope and a very gentle shape. That is, the uneven shape on the surface of the undercoat layer also has a very gentle shape with a small inclination of the convex portion.
Since the conductive layer is formed on such a concavo-convex gently uneven undercoat, unevenness during film formation of the conductive layer hardly occurs, and as a result, the in-plane distribution of the resistance value of the conductive layer is reduced. It becomes good.
Heretofore, for the purpose of imparting antiglare properties, an optical laminate (antiglare film) having a concavo-convex shape on the surface of the optical functional layer is known, but the transparent conductive laminate of the present invention is It is different from an antiglare film. That is, the uneven shape formed on the surface of the conductive layer of the transparent conductive laminate of the present invention has a lower uneven height than the uneven shape formed on the surface of the conventional antiglare film, The inclination angle of the concavo-convex part is gentler. Therefore, in the transparent conductive laminate of the present invention in which such a concavo-convex shape is formed in the conductive layer, the antiglare property as in the conventional antiglare film cannot be obtained. On the other hand, according to the present invention, it is possible to obtain a transparent conductive laminate that provides an image with excellent contrast without causing the occurrence of white turbidity due to external light, which is a problem with anti-glare films.

また、例えば、特開２００７−９０６５６号公報に記載のような、屈折率の異なる隣接２層を１組以上含み、上記隣接２層のうちの少なくとも１組の界面に所定の微細凹凸を設け、干渉縞の発生を防止する透光性物品も知られている。しかしながら、この透光性物品に設けられた微細凹凸は、いわゆるモスアイ構造であり、このようなモスアイ構造の微細凹凸は、本発明の透明導電性積層体における上記導電層の表面凹凸形状と比較して、凸部の傾斜がより急峻であり、上記θａの値がより大きなものとなる。
よって、従来のモスアイ構造の微細凹凸形状と、本願発明者らが見出した干渉縞の発生を充分に抑制できる上述した導電層表面の凹凸形状とは、その形状が全く異なるものである。 Further, for example, as described in JP 2007-90656 A, one or more adjacent two layers having different refractive indexes are included, and predetermined fine irregularities are provided on an interface of at least one of the adjacent two layers, Also known are translucent articles that prevent the occurrence of interference fringes. However, the fine irregularities provided in this translucent article have a so-called moth-eye structure, and the fine irregularities of such a moth-eye structure are compared with the surface irregularities of the conductive layer in the transparent conductive laminate of the present invention. Thus, the slope of the convex portion is steeper and the value of θa is larger.
Therefore, the shape of the conventional uneven shape of the moth-eye structure and the uneven shape of the surface of the conductive layer that can sufficiently suppress the occurrence of interference fringes found by the present inventors are completely different.

本発明の透明導電性積層体において、上記導電層は、上記光透過性基材の両側に設けられていてもよい。この場合、一方の導電層は、上述した表面に所定の凹凸形状を有するアンダーコート層を介して上記光透過性基材上に設けられるが、他方の導電層は、上記光透過性基材上に直接設けられていてもよく、上記別のアンダーコート層を介して上記光透過性基材上に設けられていてもよい。すなわち、上記他の導電層は、上記光透過性基材の上述した表面に所定の凹凸形状を有するアンダーコート層側とは反対側面上に直接設けられていてもよく、上述した別のアンダーコート層の上記光透過性基材と反対側面上に設けられていてもよい。
ここで、本発明の透明導電性積層体を、後述するような長尺シートがロール状に巻回された巻回体とした場合、上記一方の導電層と他方の導電層とが直に接触した状態となる。このように導電層同士が直に接触すると、従来のアンダーコート層に微粒子を添加して耐ブロッキング性や易滑性の向上を図った透明導電性積層体では、上述のようにアンダーコート層の表面がほぼ平坦な状態であったため、導電層同士の密着（ブロッキング性や易滑性）や、上記導電層が金属材料からなる場合、導電層の傷付きが問題となる。これに対して、本発明の透明導電性積層体では、上記アンダーコート層上の導電層の表面に所定の凹凸形状が形成され、優れた耐ブロッキング性及び易滑性が付与されているため、巻回体とした場合であっても、光透過性基材の両側に設けた導電層同士の密着（ブロッキング性や易滑性）が問題となることはなく、更に導電層の傷付きの問題も効果的に防止できる。 In the transparent conductive laminate of the present invention, the conductive layer may be provided on both sides of the light transmissive substrate. In this case, one conductive layer is provided on the light-transmitting substrate via an undercoat layer having a predetermined uneven shape on the surface described above, while the other conductive layer is formed on the light-transmitting substrate. It may be directly provided on the light-transmitting base material via the other undercoat layer. That is, the other conductive layer may be provided directly on the side opposite to the side of the undercoat layer having a predetermined concavo-convex shape on the above-described surface of the light-transmitting substrate. It may be provided on the side of the layer opposite to the light transmissive substrate.
Here, when the transparent conductive laminate of the present invention is a wound body in which a long sheet as described later is wound in a roll shape, the one conductive layer and the other conductive layer are in direct contact with each other. It will be in the state. Thus, when the conductive layers are in direct contact with each other, in the transparent conductive laminate in which fine particles are added to the conventional undercoat layer to improve the blocking resistance and the slipperiness, as described above, Since the surface was in a substantially flat state, adhesion between the conductive layers (blocking property and slipperiness), and when the conductive layer is made of a metal material, the conductive layer is damaged. On the other hand, in the transparent conductive laminate of the present invention, a predetermined uneven shape is formed on the surface of the conductive layer on the undercoat layer, and excellent blocking resistance and slipperiness are imparted. Even when it is a wound body, the adhesion (blocking property and easy slipperiness) between the conductive layers provided on both sides of the light-transmitting substrate does not become a problem, and the conductive layer is damaged. Can also be effectively prevented.

本発明の透明導電性積層体は、長尺シートがロール状に巻回された巻回体とすることができる。本発明の透明導電性積層体の長尺シートの巻回体は、光透過性基材として長尺シートのロール状巻回体を用い、上記アンダーコート層、高屈折率層、低屈折率層及び導電層を、いずれもロール・トゥ・ロール法により形成することができる。このような巻回体の形成にあたっては、透明導電性積層体の表面に、弱粘着層を備えた保護フィルムをセパレータとして貼り合わせた上で、ロール状に巻回してもよいが、本発明の透明導電性積層体は、耐ブロッキング性や易滑性が改善されているため、上記保護フィルムを用いることなく透明導電性積層体の長尺シートの巻回体を形成することができる。 The transparent conductive laminate of the present invention can be a wound body in which a long sheet is wound in a roll shape. The wound body of the long sheet of the transparent conductive laminate of the present invention uses a roll-shaped wound body of a long sheet as a light-transmitting substrate, and the undercoat layer, the high refractive index layer, and the low refractive index layer. The conductive layer can be formed by a roll-to-roll method. In forming such a wound body, a protective film provided with a weak adhesive layer may be bonded to the surface of the transparent conductive laminate as a separator and then wound in a roll shape. Since the transparent conductive laminate has improved blocking resistance and easy slipperiness, it is possible to form a roll of a long sheet of the transparent conductive laminate without using the protective film.

本発明の透明導電性積層体の構成としては特に限定されず、例えば、以下の構成が挙げられる。
上記光透過性基材上に、アンダーコート層及び導電層がこの順に積層された構成（１）。
上記構成（１）のアンダーコート層と導電層との間に、高屈折率層が設けられた構成（２）。
上記構成（１）のアンダーコート層と導電層との間に、高屈折率層及び低屈折率層がこの順に設けられた構成（３）。
上記構成（１）〜（３）のいずれかの光透過性基材のアンダーコート層が設けられた側と反対側に、別のアンダーコート層が設けられた構成（４）。
上記構成（１）〜（３）のいずれかの光透過性基材のアンダーコート層が設けられた側と反対側に、別のアンダーコート層が設けられ、該別のアンダーコート層の光透過性基材側と反対側に、高屈折率層が設けられた構成（５）。
上記構成（１）〜（３）のいずれかの光透過性基材のアンダーコート層が設けられた側と反対側に、別のアンダーコート層が設けられ、該別のアンダーコート層の光透過性基材側と反対側に、高屈折率層及び低屈折率層がこの順に設けられた構成（６）。 It does not specifically limit as a structure of the transparent conductive laminated body of this invention, For example, the following structures are mentioned.
A configuration (1) in which an undercoat layer and a conductive layer are laminated in this order on the light transmissive substrate.
A configuration (2) in which a high refractive index layer is provided between the undercoat layer and the conductive layer of the configuration (1).
A configuration (3) in which a high refractive index layer and a low refractive index layer are provided in this order between the undercoat layer and the conductive layer of the configuration (1).
The structure (4) in which another undercoat layer is provided on the side opposite to the side on which the undercoat layer of the light transmissive substrate of any one of the above structures (1) to (3) is provided.
Another undercoat layer is provided on the side opposite to the side on which the undercoat layer is provided of the light transmissive substrate of any one of the above configurations (1) to (3), and the light transmission of the other undercoat layer is achieved. The structure (5) by which the high refractive index layer was provided in the opposite side to the conductive base material side.
Another undercoat layer is provided on the side opposite to the side on which the undercoat layer is provided of the light transmissive substrate of any one of the above configurations (1) to (3), and the light transmission of the other undercoat layer is achieved. The high refractive index layer and the low refractive index layer are provided in this order on the side opposite to the conductive substrate side (6).

更に、別の態様に係る本発明としては、光透過性基材上に、アンダーコート層及び高屈折率層がこの順に積層された透明導電性積層体であって、上記高屈折率層は、表面に凹凸形状を有し、該凹凸形状は、凹凸部の平均傾斜角をθａとし、凹凸の最大山高さをＲｐとし、凹凸の最大谷深さをＲｖとしたとき、ＲｐとＲｖの比が１．５以下であり、前記θａが以下の式を満たすことを特徴とする透明導電性積層体が挙げられる。
０．０１°≦θａ≦０．１０° Furthermore, the present invention according to another aspect is a transparent conductive laminate in which an undercoat layer and a high refractive index layer are laminated in this order on a light-transmitting substrate, and the high refractive index layer includes: The surface has a concavo-convex shape, and the concavo-convex shape has a ratio of Rp to Rv where θa is the average inclination angle of the concavo-convex portion, Rp is the maximum peak height of the concavo-convex portion, and Rv is the maximum valley depth of the concavo-convex portion. The transparent conductive laminate is characterized in that it is 1.5 or less and the θa satisfies the following formula.
0.01 ° ≦ θa ≦ 0.10 °

上記別の態様に係る本発明の透明導電性積層体を構成する光透過性基材、アンダーコート層及び高屈折率層としては、上述した本発明の透明導電性積層体で説明した光透過性基材、アンダーコート層及び高屈折率層と同様のものが挙げられる。
また、上記別の態様に係る本発明の透明導電性積層体は、上記高屈折率層の上記アンダーコート層側と反対側面上に、低屈折率層を有することが好ましく、該低屈折率層としては、上述した本発明の透明導電性積層体において説明した低屈折率層と同様のものが挙げられる。なお、この場合、上記低屈折率層の表面に上記高屈折率層の表面凹凸形状を維持した凹凸形状が形成されていることが好ましい。すなわち、上記低屈折率層の表面に上記θａ及びＲｐとＲｖとの比を満たす凹凸形状が形成されていることが好ましい。 As the light-transmitting substrate, the undercoat layer, and the high refractive index layer constituting the transparent conductive laminate of the present invention according to another aspect, the light transmittance described in the above-described transparent conductive laminate of the present invention. The thing similar to a base material, an undercoat layer, and a high refractive index layer is mentioned.
The transparent conductive laminate of the present invention according to another aspect preferably has a low refractive index layer on the side opposite to the undercoat layer side of the high refractive index layer, and the low refractive index layer The same as the low refractive index layer described in the above-described transparent conductive laminate of the present invention. In this case, it is preferable that an uneven shape maintaining the surface uneven shape of the high refractive index layer is formed on the surface of the low refractive index layer. That is, it is preferable that an uneven shape satisfying the ratio of θa and Rp and Rv is formed on the surface of the low refractive index layer.

ここで、上記別の態様に係る透明導電性積層体の「導電性」とは、後述するようにタッチパネルを構成する部材として好適に用いられるものであるため、導電性を保持するための任意の構成が付与される部材であることを意味している。
なお、以下の説明では、上述した本発明の透明導電性積層体と別の態様に係る本発明の透明導電性積層体とをまとめて、本発明の透明導電性積層体と称する。 Here, the “conductive” of the transparent conductive laminate according to another aspect is suitably used as a member constituting the touch panel as described later, and therefore any conductivity for maintaining conductivity. It means that the member is provided with a configuration.
In the following description, the above-described transparent conductive laminate of the present invention and the transparent conductive laminate of the present invention according to another aspect are collectively referred to as the transparent conductive laminate of the present invention.

本発明の透明導電性積層体は、例えば、光学方式、超音波方式、静電容量方式、抵抗膜方式等のタッチパネルに適用できるが、なかでも、静電容量方式のタッチパネルに好適に適用できる。
このような、本発明の透明導電性積層体を用いてなるタッチパネルもまた、本発明の一つである。 The transparent conductive laminate of the present invention can be applied to, for example, an optical system, an ultrasonic system, a capacitive system, a resistive film type touch panel, etc., among which it can be suitably applied to a capacitive system touch panel.
Such a touch panel using the transparent conductive laminate of the present invention is also one aspect of the present invention.

本発明のタッチパネルの形成に際しては、本発明の透明導電性積層体の一方又は両方の主面に粘着層を介して、ガラスや高分子フィルム等の他の透明基体等を貼り合わせることができる。例えば、透明導電性積層体の導電層が形成されていない側の面に透明な粘着層を介して透明基体が貼り合わせられた積層体を形成してもよい。透明基体は、１枚の基体フィルムからなっていてもよく、２枚以上の基体フィルムの積層体（例えば透明な粘着層を介して積層したもの）であってもよい。また、透明導電性積層体に貼り合わせる透明基体の外表面にハードコート層を設けることもできる。 In forming the touch panel of the present invention, another transparent substrate such as glass or a polymer film can be bonded to one or both main surfaces of the transparent conductive laminate of the present invention via an adhesive layer. For example, you may form the laminated body by which the transparent base | substrate was bonded together through the transparent adhesion layer on the surface by which the conductive layer of the transparent conductive laminated body is not formed. The transparent substrate may be composed of a single substrate film, or may be a laminate of two or more substrate films (for example, laminated via a transparent adhesive layer). In addition, a hard coat layer can be provided on the outer surface of the transparent substrate to be bonded to the transparent conductive laminate.

透明導電性積層体と透明基体との貼り合わせに用いられる粘着層としては、透明性を有するものであれば特に限定されない。具体的には、例えば、アクリル系ポリマー、シリコーン系ポリマー、ポリエステル、ポリウレタン、ポリアミド、ポリビニルエーテル、酢酸ビニル／塩化ビニルコポリマー、変性ポリオレフィン、エポキシ系、フッ素系、天然ゴム、合成ゴム等のゴム系などのポリマーをベースポリマーとするものを適宜に選択して用いることができる。特に、光学的透明性に優れ、適度な濡れ性、凝集性及び接着性等の粘着特性を示し、耐候性や耐熱性等にも優れるという点からは、アクリル系粘着剤が好ましく用いられる。 The adhesive layer used for bonding the transparent conductive laminate and the transparent substrate is not particularly limited as long as it has transparency. Specifically, for example, acrylic polymers, silicone polymers, polyesters, polyurethanes, polyamides, polyvinyl ethers, vinyl acetate / vinyl chloride copolymers, modified polyolefins, epoxy systems, fluorine systems, natural rubbers, rubbers such as synthetic rubbers, etc. Those having the above polymer as a base polymer can be appropriately selected and used. In particular, an acrylic pressure-sensitive adhesive is preferably used from the viewpoint that it is excellent in optical transparency, exhibits adhesive properties such as appropriate wettability, cohesiveness and adhesiveness, and is excellent in weather resistance and heat resistance.

本発明の透明導電性積層体を用いてなるタッチパネルは、干渉縞の発生が充分に抑制されており、透明性及び視認性に優れたものとなる。また、本発明の透明導電性積層体は、上述したように耐ブロッキング性や易滑性に優れているため、ロール・トゥ・ロール法により効率よく製造できる。更に、本発明の透明導電性積層体におけるアンダーコート層は、表面の凹凸が非常に滑らかな形状であるため、その上に積層した導電層は、製膜時にムラが生じにくく、その結果、導電層の抵抗値の面内分布が良好となる。 In the touch panel using the transparent conductive laminate of the present invention, generation of interference fringes is sufficiently suppressed, and the touch panel is excellent in transparency and visibility. Moreover, since the transparent conductive laminate of the present invention is excellent in blocking resistance and slipperiness as described above, it can be efficiently produced by a roll-to-roll method. Furthermore, since the undercoat layer in the transparent conductive laminate of the present invention has a very smooth surface irregularity, the conductive layer laminated thereon is less likely to cause unevenness during film formation. The in-plane distribution of the resistance value of the layer is good.

本発明の透明導電性積層体は、上述した構成からなるものであるため、透明性に優れるとともに、干渉縞の発生を充分に抑制することができる。
このため、本発明の透明導電性積層体は、タッチパネル、特に静電容量方式のタッチパネルに好適に適用することができる。 Since the transparent conductive laminate of the present invention has the above-described configuration, it is excellent in transparency and can sufficiently suppress the generation of interference fringes.
For this reason, the transparent conductive laminated body of this invention can be applied suitably for a touch panel, especially a capacitive touch panel.

θａの測定方法の説明図である。It is explanatory drawing of the measuring method of (theta) a.

本発明の内容を下記の実施例により説明するが、本発明の内容はこれらの実施態様に限定して解釈されるものではない。 The contents of the present invention will be described with reference to the following examples, but the contents of the present invention should not be construed as being limited to these embodiments.

（実施例１）
厚み１００μｍの二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム（ＰＥＴフィルム）からなる光透過性基材を準備し、該光透過性基材の片面に、下記に示した組成のアンダーコート層用組成物を塗布し、塗膜を形成した。次いで、形成した塗膜に対して、０．２ｍ／ｓの流速で７０℃の乾燥空気を１５秒間流通させた後、さらに１０ｍ／ｓの流速で７０℃の乾燥空気を３０秒間流通させて乾燥させることにより塗膜中の溶剤を蒸発させ、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン社製、光源Ｈバルブ）を用いて、紫外線を窒素雰囲気（酸素濃度２００ｐｐｍ以下）下にて積算光量が１００ｍＪ／ｃｍ２になるように照射して塗膜を硬化させることにより、４μｍ厚み（硬化時）のアンダーコート層を形成した。
（アンダーコート層用組成物）
フュームドシリカ（オクチルシラン処理；平均粒子径１２ｎｍ、日本アエロジル社製）
１質量部
ペンタエリスリトールテトラアクリレート（ＰＥＴＴＡ）（製品名：ＰＥＴＡ、ダイセル・サイテック社製） ６０質量部
ウレタンアクリレート（製品名：ＵＶ１７００Ｂ、日本合成化学社製） ４０質量部
イルガキュア１８４（ＢＡＳＦジャパン社製） ５質量部
ポリエーテル変性シリコーン（ＴＳＦ４４６０、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製） ０．０２５質量部
トルエン １０５質量部
イソプロピルアルコール ３０質量部
シクロヘキサノン １５質量部
なお、フュームドシリカは、オクチル基を有するシラン化合物（例えば、オクチルシラン）により、シラノール基をオクチルシリル基で置換して疎水化処理されたものである。 Example 1
A light-transmitting substrate composed of a biaxially stretched polyethylene terephthalate film (PET film) having a thickness of 100 μm was prepared, and an undercoat layer composition having the composition shown below was applied to one side of the light-transmitting substrate, A coating film was formed. Next, 70 ° C. dry air was passed through the formed coating film at a flow rate of 0.2 m / s for 15 seconds, and then 70 ° C. dry air was passed through for 30 seconds at a flow rate of 10 m / s. By evaporating the solvent in the coating film, the integrated light quantity is 100 mJ / cm in a nitrogen atmosphere (oxygen concentration of 200 ppm or less) using an ultraviolet irradiation device (light source H bulb manufactured by Fusion UV System Japan Co., Ltd.). An undercoat layer having a thickness of 4 μm (at the time of curing) was formed by irradiating to 2 to cure the coating film.
(Composition for undercoat layer)
Fumed silica (octylsilane treatment; average particle size 12 nm, manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.)
1 part by mass pentaerythritol tetraacrylate (PETTA) (product name: PETA, manufactured by Daicel Cytec) 60 parts by mass urethane acrylate (product name: UV1700B, manufactured by Nippon Gosei Kagaku) 40 parts by mass Irgacure 184 (manufactured by BASF Japan) 5 parts by mass polyether-modified silicone (TSF4460, manufactured by Momentive Performance Materials) 0.025 parts by mass Toluene 105 parts by mass Isopropyl alcohol 30 parts by mass Cyclohexanone 15 parts by mass Fumed silica is a silane compound having an octyl group (For example, octylsilane) is used to hydrophobize a silanol group with an octylsilyl group.

次いで、下記組成の高屈折率層用組成物及び低屈折率層用組成物を用意し、上記アンダーコート層の形成後に巻き取ることなく連続的に、高屈折率層用組成物を塗布、乾燥、紫外線照射して厚さ５０ｎｍの高屈折率層を形成し、更に、連続して低屈折率層用組成物を塗布、乾燥、紫外線照射して厚さ４０ｎｍの低屈折率層を形成した。 Next, a composition for a high refractive index layer and a composition for a low refractive index layer having the following composition were prepared, and after the formation of the undercoat layer, the composition for a high refractive index layer was applied and dried continuously without winding. Then, a high refractive index layer having a thickness of 50 nm was formed by irradiating with ultraviolet rays, and a low refractive index layer having a thickness of 40 nm was formed by continuously applying the composition for low refractive index layer, drying and irradiating with ultraviolet rays.

（高屈折率層用組成物）
ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）（製品名：ＰＥＴＩＡ、ダイセル・サイテック社製） ０．８質量部
高屈折率ジルコニア粒子（製品名：ＭＺ−２３０Ｘ、住友大阪セメント社製） ４質量部
重合開始剤（イルガキュア１２７、ＢＡＳＦジャパン社製） ０．０５質量部
レベリング剤（大日精化工業社製、セイカビーム１０−２８（ＭＢ）） ０．０２質量部
メチルエチルケトン（ＭＥＫ） ３８質量部
メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ） ３８質量部
シクロヘキサノン ２０質量部 (Composition for high refractive index layer)
Pentaerythritol triacrylate (PETA) (Product name: PETIA, manufactured by Daicel Cytec) 0.8 parts by mass High refractive index zirconia particles (Product name: MZ-230X, manufactured by Sumitomo Osaka Cement) 4 parts by mass polymerization initiator ( Irgacure 127, manufactured by BASF Japan Ltd.) 0.05 parts by mass leveling agent (manufactured by Dainichi Seika Kogyo Co., Ltd., Seika Beam 10-28 (MB)) 0.02 parts by mass methyl ethyl ketone (MEK) 38 parts by mass methyl isobutyl ketone (MIBK) 38 20 parts by mass of cyclohexanone by mass

（低屈折率層用組成物）
ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）（製品名：ＰＥＴＩＡ、ダイセル・サイテック社製） ０．６質量部
低屈折率シリカ粒子（日産化学社製、ＭＩＢＫ−ＳＴ、固形分３０％） ２．０質量部
重合開始剤（イルガキュア１２７、ＢＡＳＦジャパン社製） ０．０８質量部
レベリング剤（大日精化工業社製、セイカビーム１０−２８（ＭＢ）） ０．０２質量部
メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ） ７６質量部
シクロヘキサノン ２０質量部 (Composition for low refractive index layer)
Pentaerythritol triacrylate (PETA) (Product name: PETIA, manufactured by Daicel-Cytec) 0.6 parts by mass Low refractive index silica particles (Nissan Chemical Co., Ltd., MIBK-ST, solid content 30%) 2.0 parts by mass polymerization Initiator (Irgacure 127, manufactured by BASF Japan) 0.08 mass part leveling agent (manufactured by Dainichi Seika Kogyo Co., Ltd., Seika Beam 10-28 (MB)) 0.02 mass parts methyl isobutyl ketone (MIBK) 76 mass parts cyclohexanone 20 Parts by mass

そして、形成した低屈折率層上に、アルゴンガス８０％と酸素ガス２０％とからなる０．５３Ｐａの雰囲気中で、酸化インジウム９０重量％−酸化スズ１０重量％からなる焼結体を用いたスパッタリング法により、厚み２５ｎｍの導電層（ＩＴＯ膜）を形成し、実施例１に係る透明導電性積層体を製造した。 Then, on the formed low refractive index layer, a sintered body composed of 90% by weight of indium oxide and 10% by weight of tin oxide was used in an atmosphere of 0.53 Pa composed of 80% argon gas and 20% oxygen gas. A conductive layer (ITO film) having a thickness of 25 nm was formed by sputtering, and a transparent conductive laminate according to Example 1 was manufactured.

（実施例２）
フュームドシリカの配合量を１．５質量部とした以外は実施例１と同様にしてアンダーコート層用組成物を調製し、該アンダーコート層用組成物を用いた以外は、実施例１と同様にして実施例２に係る透明導電性積層体を作製した。 (Example 2)
An undercoat layer composition was prepared in the same manner as in Example 1 except that the blended amount of fumed silica was 1.5 parts by mass. Except that the undercoat layer composition was used, Example 1 and Similarly, a transparent conductive laminate according to Example 2 was produced.

（実施例３）
フュームドシリカの配合量を０．５質量部とした以外は実施例１と同様にしてアンダーコート層用組成物を調製し、該アンダーコート層用組成物を用いた以外は、実施例１と同様にして実施例３に係る透明導電性積層体を作製した。 (Example 3)
An undercoat layer composition was prepared in the same manner as in Example 1 except that the amount of fumed silica was changed to 0.5 parts by mass. Except that the undercoat layer composition was used, Example 1 and Similarly, a transparent conductive laminate according to Example 3 was produced.

（実施例４）
フュームドシリカの配合量を２．５質量部とした以外は実施例１と同様にしてアンダーコート層用組成物を調製し、該アンダーコート層用組成物を用いた以外は、実施例１と同様にして実施例４に係る透明導電性積層体を作製した。 Example 4
An undercoat layer composition was prepared in the same manner as in Example 1 except that the amount of fumed silica was 2.5 parts by mass. Except that the undercoat layer composition was used, Example 1 and Similarly, a transparent conductive laminate according to Example 4 was produced.

（実施例５）
低屈折率層上に導電層を形成しなかった以外は、実施例１と同様にして実施例５に係る透明導電性積層体を作製した。 (Example 5)
A transparent conductive laminate according to Example 5 was produced in the same manner as in Example 1 except that the conductive layer was not formed on the low refractive index layer.

（実施例６）
低屈折率層上に導電層を形成しなかった以外は、実施例２と同様にして実施例６に係る透明導電性積層体を作製した。 (Example 6)
A transparent conductive laminate according to Example 6 was produced in the same manner as in Example 2 except that the conductive layer was not formed on the low refractive index layer.

（実施例７）
低屈折率層上に導電層を形成しなかった以外は、実施例３と同様にして実施例７に係る透明導電性積層体を作製した。 (Example 7)
A transparent conductive laminate according to Example 7 was produced in the same manner as in Example 3 except that the conductive layer was not formed on the low refractive index layer.

（実施例８）
低屈折率層上に導電層を形成しなかった以外は、実施例４と同様にして実施例８に係る透明導電性積層体を作製した。 (Example 8)
A transparent conductive laminate according to Example 8 was produced in the same manner as in Example 4 except that the conductive layer was not formed on the low refractive index layer.

（比較例１）
フュームドシリカを配合しなかった以外は実施例１と同様にしてアンダーコート層用組成物を調製し、該アンダーコート層用組成物を用いた以外は、実施例１と同様にして比較例１に係る透明導電性積層体を作製した。 (Comparative Example 1)
A composition for an undercoat layer was prepared in the same manner as in Example 1 except that no fumed silica was added, and Comparative Example 1 was made in the same manner as in Example 1 except that the composition for undercoat layer was used. A transparent conductive laminate was prepared.

（比較例２）
有機微粒子（親水化処理アクリル−スチレン共重合体粒子、平均粒子径２．０μｍ、屈折率１．５５、積水化成品工業社製）を３質量部加えた以外は、実施例１と同様にしてアンダーコート層用組成物を調製し、該アンダーコート層用組成物を用いた以外は、実施例１と同様にして比較例２に係る透明導電性積層体を作製した。 (Comparative Example 2)
Except for adding 3 parts by mass of organic fine particles (hydrophilic treatment acrylic-styrene copolymer particles, average particle size 2.0 μm, refractive index 1.55, manufactured by Sekisui Plastics Co., Ltd.), the same as Example 1 A transparent conductive laminate according to Comparative Example 2 was produced in the same manner as in Example 1 except that an undercoat layer composition was prepared and the undercoat layer composition was used.

（比較例３）
有機微粒子（親水化処理アクリル−スチレン共重合体粒子、平均粒子径２．０μｍ、屈折率１．５１５、積水化成品工業社製）を１．５質量部加えた以外は、実施例１と同様にしてアンダーコート層用組成物を調製し、該アンダーコート層用組成物を用いた以外は、実施例１と同様にして比較例３に係る透明導電性積層体を作製した。 (Comparative Example 3)
The same as in Example 1 except that 1.5 parts by mass of organic fine particles (hydrophilic treatment acrylic-styrene copolymer particles, average particle size 2.0 μm, refractive index 1.515, manufactured by Sekisui Plastics Co., Ltd.) was added. A transparent conductive laminate according to Comparative Example 3 was produced in the same manner as in Example 1 except that an undercoat layer composition was prepared and the undercoat layer composition was used.

（比較例４）
フュームドシリカの配合量を４質量部とした以外は実施例１と同様にしてアンダーコート層用組成物を調製し、該アンダーコート層用組成物を用いた以外は、実施例１と同様にして比較例４に係る透明導電性積層体を作製した。 (Comparative Example 4)
An undercoat layer composition was prepared in the same manner as in Example 1 except that the amount of fumed silica was changed to 4 parts by mass, and the same procedure as in Example 1 was performed except that the undercoat layer composition was used. Thus, a transparent conductive laminate according to Comparative Example 4 was produced.

（比較例５）
低屈折率層上に導電層を形成しなかった以外は、比較例１と同様にして比較例５に係る透明導電性積層体を作製した。 (Comparative Example 5)
A transparent conductive laminate according to Comparative Example 5 was produced in the same manner as Comparative Example 1 except that no conductive layer was formed on the low refractive index layer.

（比較例６）
低屈折率層上に導電層を形成しなかった以外は、比較例２と同様にして比較例６に係る透明導電性積層体を作製した。 (Comparative Example 6)
A transparent conductive laminate according to Comparative Example 6 was produced in the same manner as Comparative Example 2 except that no conductive layer was formed on the low refractive index layer.

（比較例７）
低屈折率層上に導電層を形成しなかった以外は、比較例３と同様にして比較例７に係る透明導電性積層体を作製した。 (Comparative Example 7)
A transparent conductive laminate according to Comparative Example 7 was produced in the same manner as Comparative Example 3 except that no conductive layer was formed on the low refractive index layer.

（比較例８）
低屈折率層上に導電層を形成しなかった以外は、比較例４と同様にして比較例８に係る透明導電性積層体を作製した。 (Comparative Example 8)
A transparent conductive laminate according to Comparative Example 8 was produced in the same manner as Comparative Example 4 except that no conductive layer was formed on the low refractive index layer.

得られた実施例及び比較例に係る透明導電性積層体を下記項目について評価した。
全ての結果を表１に示した。 The transparent conductive laminates according to the obtained Examples and Comparative Examples were evaluated for the following items.
All the results are shown in Table 1.

（凹凸部の平均傾斜角（θａ）、凹凸の最大山高さ（Ｒｐ）、凹凸の最大谷深さ（Ｒｖ）及び凹凸の算術平均粗さ（Ｒａ））
表面粗さ測定器：ＳＥ−３４００／株式会社小坂研究所製を用いて、ＪＩＳ Ｂ ０６０１−１９９４に準拠し、かつ、以下の条件にて粗さ曲線を測定して、θａ、Ｒｐ、Ｒｖ及びＲａを測定した。なお、Ｒｐ及びＲｖは断面曲線ではなく、粗さ曲線から求められたものである。
（１）表面粗さ検出部の触針：
型番／ＳＥ２５５５Ｎ（２μ触針）、株式会社小坂研究所製
（先端曲率半径２μｍ／頂角：９０度／材質：ダイヤモンド）
（２）表面粗さ測定器の測定条件：
基準長さ（粗さ曲線のカットオフ値λｃ）：２．５ｍｍ
評価長さ（基準長さ（カットオフ値λｃ）×５）：１２．５ｍｍ
触針の送り速さ：０．５ｍｍ／ｓ
予備長さ：（カットオフ値λｃ）×２
縦倍率：２０００倍
横倍率：１０倍
なお、通常カットオフ値は０．８ｍｍが使用されることが多いが、本発明においては、カットオフ値を２．５ｍｍに設定して測定を行った。
また、λａ＝２π×（Ｒａ／ｔａｎ（θａ））の式により、λａを算出した。 (Average inclination angle (θa) of uneven portion, maximum peak height (Rp) of uneven portion, maximum valley depth (Rv) of uneven portion, and arithmetic average roughness (Ra) of uneven portion)
Surface roughness measuring device: SE-3400 / manufactured by Kosaka Laboratory Co., Ltd. is used to measure the roughness curve in accordance with JIS B 0601-1994 and under the following conditions, and θa, Rp, Rv and Ra was measured. In addition, Rp and Rv are calculated | required from the roughness curve instead of a cross-sectional curve.
(1) The stylus of the surface roughness detector:
Model No./SE2555N (2μ stylus), manufactured by Kosaka Laboratory Ltd. (tip radius of curvature 2μm / vertical angle: 90 degrees / material: diamond)
(2) Measurement conditions of surface roughness measuring instrument:
Reference length (cutoff value λc of roughness curve): 2.5 mm
Evaluation length (reference length (cutoff value λc) × 5): 12.5 mm
Feeding speed of stylus: 0.5 mm / s
Preliminary length: (cutoff value λc) × 2
Longitudinal magnification: 2000 times Lateral magnification: 10 times Usually, a cutoff value of 0.8 mm is often used, but in the present invention, the measurement was performed with the cutoff value set to 2.5 mm.
In addition, λa was calculated by an equation of λa = 2π × (Ra / tan (θa)).

（干渉縞）
実施例及び比較例で得られた各透明導電性積層体のアンダーコート層と逆の面（光透過性基材面）を、透明粘着剤を介して、裏面反射を防止するための黒アクリル板に貼り、導電層の面から各透明導電性積層体にナトリウムランプを照射し、目視で観察し、干渉縞の発生の有無を以下の基準により評価した。
◎：干渉縞の発生は全くなかった。
○：干渉縞の発生が若干あるが、問題ないレベルであった。
×：干渉縞の発生があった。
（白濁感）
実施例及び比較例で得られた各透明導電性積層体のアンダーコート層と逆の面（光透過性基材面）を、透明粘着剤を介して、黒アクリル板に貼り、暗室にて卓上スタンド（３波長蛍光灯管）の下で、白濁感を観察し、以下の基準により評価した。
○：白さが観察されなかった。
×：白さが観察された。 (Interference fringes)
A black acrylic plate for preventing reflection of the back surface (light-transmitting substrate surface) of each transparent conductive laminate obtained in Examples and Comparative Examples through a transparent adhesive. Then, each transparent conductive laminate was irradiated with a sodium lamp from the surface of the conductive layer and visually observed, and the presence or absence of interference fringes was evaluated according to the following criteria.
A: No interference fringes were generated.
○: Some interference fringes were generated, but there was no problem.
X: Interference fringes were generated.
(Cloudiness)
The surface (light transmissive substrate surface) opposite to the undercoat layer of each transparent conductive laminate obtained in the examples and comparative examples was attached to a black acrylic plate via a transparent adhesive, and the table was placed in a dark room. The cloudiness was observed under a stand (3-wavelength fluorescent lamp tube) and evaluated according to the following criteria.
○: Whiteness was not observed.
X: Whiteness was observed.

（ブロッキング防止性評価）
実施例及び比較例で得られた透明導電性積層体の導電層同士を重ね合わせ、５ｃｍ×５ｃｍとした評価用サンプルを作製した。
作製した評価用サンプルについて、ブロッキング試験機を使用し、圧力条件３．０ｋｇｆ／ｃｍ２、試験面積３ｃｍφ、湿温度条件４０℃、９０％ＲＨ、３０時間で行い、評価は貼り付きの状態を、下記基準にて目視で判断した。
○：貼り付きなし。
×：貼り付きあり。 (Anti-blocking evaluation)
The conductive layers of the transparent conductive laminates obtained in the examples and comparative examples were overlapped to produce an evaluation sample having a size of 5 cm × 5 cm.
About the produced sample for evaluation, using a blocking tester, the pressure condition is 3.0 kgf / cm 2 , the test area is 3 cmφ, the wet temperature condition is 40 ° C., 90% RH, 30 hours. Judgment was made visually based on the following criteria.
○: No sticking.
X: There is sticking.

（易滑性評価）
実施例及び比較例で得られた透明導電性積層体の導電層同士を重ね合わせ、導電層が形成された面同士を面−面で擦り合わせて滑り性を確認することにより、下記の基準にて、易滑性を評価した。
○：滑り性が良好で、貼り付きがなく易滑性良好であった。
×：滑り性が不充分で、一部に貼り付きが発生し易滑性不良であった。 (Easy slip evaluation)
By superimposing the conductive layers of the transparent conductive laminates obtained in the examples and comparative examples, and rubbing the surfaces on which the conductive layers are formed surface-to-surface, and confirming slipperiness, the following criteria are satisfied: The slipperiness was evaluated.
○: Good slipperiness, no sticking, and good slipperiness.
X: The slipperiness was insufficient, sticking occurred in part, and the slipperiness was poor.

Figure 0006187018
Figure 0006187018

表１に示したように、実施例に係る透明導電性積層体は、干渉縞、白濁感、ブロッキング防止性及び易滑性の全ての評価において良好であった。
一方、比較例１、比較例５に係る透明導電性積層体は、導電層又は低屈折率層表面の平均傾斜角が小さすぎるため、干渉縞を防止することができず、また、ブロッキング防止性及び易滑性の評価にも劣っていた。比較例２〜４、６〜８に係る透明導電性積層体は、平均傾斜角、又は、ＲｐとＲｖの比の一方、もしくは両方が大きすぎ、白濁感に劣るものであった。 As shown in Table 1, the transparent conductive laminates according to the examples were good in all evaluations of interference fringes, white turbidity, anti-blocking properties, and slipperiness.
On the other hand, the transparent conductive laminates according to Comparative Example 1 and Comparative Example 5 cannot prevent interference fringes because the average inclination angle of the surface of the conductive layer or the low refractive index layer is too small. In addition, the evaluation of slipperiness was also inferior. The transparent conductive laminates according to Comparative Examples 2 to 4 and 6 to 8 were inferior in cloudiness because one or both of the average inclination angle and the ratio of Rp and Rv were too large.

アンダーコート層上に導電層のみを積層した以外は、実施例１〜４及び比較例１〜４に係る透明導電性積層体と同様にして製造した透明導電性積層体（上記構成（１））、並びに、アンダーコート層と導電層との間に高屈折率層のみを積層した以外は、実施例１〜４及び比較例１〜４に係る透明導電性積層体と同様にして製造した透明導電性積層体（上記構成（２））について、それぞれ上記と同様の評価を行ったところ、実施例１〜４及び比較例１〜４に係る透明導電性積層体とほぼ同様の結果であった。
更に、実施例１〜４及び比較例１〜４に係る透明導電性積層体、上記構成（１）の透明導電性積層体、並びに、上記構成（２）の透明導電性積層体の光透過性基材のアンダーコート層が設けられた側と反対側に、それぞれ上記アンダーコート層と同じ組成の別のアンダーコート層を設けた透明導電性積層体（上記構成（４））、上記別のアンダーコート層の光透過性基材側と反対側に、高屈折率層を設けた透明導電性積層体（上記構成（５））、及び、上記別のアンダーコート層の光透過性基材側と反対側に、高屈折率層及び低屈折率層をこの順に設けた透明導電性積層体（上記構成（６））についても、それぞれ上記と同様の評価を行ったところ、実施例１〜４及び比較例１〜４に係る透明導電性積層体とほぼ同様の結果であった。
また、導電層、高屈折率層及び低屈折率層を設けず、光透過性基材上にアンダーコート層のみを、各実施例及び比較例に係る透明導電性積層体のアンダーコート層と同様にして設けた積層体を製造したところ、該アンダーコート層の表面には、各実施例及び比較例と同等の凹凸形状が形成されていた。 A transparent conductive laminate produced in the same manner as the transparent conductive laminates according to Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 4 except that only the conductive layer was laminated on the undercoat layer (the above configuration (1)). In addition, the transparent conductive produced in the same manner as the transparent conductive laminates according to Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 4 except that only the high refractive index layer was laminated between the undercoat layer and the conductive layer. When the same evaluation as described above was performed on the conductive laminate (the above configuration (2)), the results were almost the same as those of the transparent conductive laminates according to Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 4.
Further, the transparent conductive laminates according to Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 4, the transparent conductive laminate of the above configuration (1), and the light transmittance of the transparent conductive laminate of the above configuration (2). A transparent conductive laminate (the above configuration (4)) in which another undercoat layer having the same composition as that of the undercoat layer is provided on the side opposite to the side on which the undercoat layer is provided, and the other undercoat A transparent conductive laminate (the above configuration (5)) provided with a high refractive index layer on the side opposite to the light-transmitting substrate side of the coat layer, and the light-transmitting substrate side of the other undercoat layer; For the transparent conductive laminate (the above configuration (6)) in which the high refractive index layer and the low refractive index layer were provided in this order on the opposite side, the same evaluation as described above was performed. The results were almost the same as those of the transparent conductive laminates according to Comparative Examples 1 to 4.
In addition, the conductive layer, the high refractive index layer and the low refractive index layer are not provided, and only the undercoat layer is formed on the light-transmitting substrate, similarly to the undercoat layer of the transparent conductive laminate according to each example and comparative example. When the laminated body provided as described above was manufactured, the surface of the undercoat layer had an uneven shape equivalent to that of each of the examples and comparative examples.

本発明の透明導電性積層体は、タッチパネル、特に静電容量方式のタッチパネルに好適に適用することができる。 The transparent conductive laminate of the present invention can be suitably applied to touch panels, particularly capacitive touch panels.

Claims (13)

光透過性基材上に、アンダーコート層及び導電層がこの順に積層された透明導電性積層体であって、
前記導電層は、表面に凹凸形状を有し、該凹凸形状は、凹凸部の平均傾斜角をθａとし、凹凸の最大山高さをＲｐとし、凹凸の最大谷深さをＲｖとしたとき、ＲｐとＲｖの比が１．５以下であり、前記θａが以下の式を満たす
ことを特徴とする透明導電性積層体。
０．０１°≦θａ≦０．１０° A transparent conductive laminate in which an undercoat layer and a conductive layer are laminated in this order on a light-transmitting substrate,
The conductive layer has a concavo-convex shape on the surface, and the concavo-convex shape is defined as Rp when the average inclination angle of the concavo-convex part is θa, the maximum peak height of the concavo-convex part is Rp, and the maximum valley depth of the concavo-convex part is Rv. The transparent conductive laminate is characterized in that the ratio of Rv to Rv is 1.5 or less, and the θa satisfies the following formula.
0.01 ° ≦ θa ≦ 0.10 ° 導電層の凹凸形状は、凹凸の算術平均粗さをＲａとしたとき、以下の式を満たす請求項１記載の透明導電性積層体。
０．０２μｍ≦Ｒａ≦０．１０μｍ The transparent conductive laminate according to claim 1, wherein the concavo-convex shape of the conductive layer satisfies the following formula when the arithmetic average roughness of the concavo-convex is Ra.
0.02 μm ≦ Ra ≦ 0.10 μm 導電層の凹凸形状は、λａ＝２π×（Ｒａ／ｔａｎ（θａ））にて表される平均波長λａが下記式を満たす請求項２記載の透明導電性積層体。
２００μｍ≦λａ≦８００μｍ 3. The transparent conductive laminate according to claim 2, wherein the uneven shape of the conductive layer is such that an average wavelength λa represented by λa = 2π × (Ra / tan (θa)) satisfies the following formula.
200 μm ≦ λa ≦ 800 μm アンダーコート層と導電層との間に、高屈折率層が積層されている請求項１、２又は３記載の透明導電性積層体。 The transparent conductive laminate according to claim 1, wherein a high refractive index layer is laminated between the undercoat layer and the conductive layer. アンダーコート層と導電層との間に、高屈折率層及び低屈折率層が積層されている請求項１、２、３又は４記載の透明導電性積層体。 The transparent conductive laminate according to claim 1, 2, 3, or 4, wherein a high refractive index layer and a low refractive index layer are laminated between the undercoat layer and the conductive layer. アンダーコート層は、無機酸化物微粒子及びバインダー樹脂を含有する請求項１、２、３、４又は５記載の透明導電性積層体。 The transparent conductive laminate according to claim 1, wherein the undercoat layer contains inorganic oxide fine particles and a binder resin. 無機酸化物微粒子は、疎水化処理無機酸化物微粒子である請求項６記載の透明導電性積層体。 The transparent conductive laminate according to claim 6, wherein the inorganic oxide fine particles are hydrophobized inorganic oxide fine particles. 無機酸化物微粒子は、凝集体を形成してアンダーコート層に含有されており、前記凝集体の平均粒子径が１００ｎｍ〜２．０μｍである請求項６又は７記載の透明導電性積層体。 The transparent conductive laminate according to claim 6 or 7, wherein the inorganic oxide fine particles form aggregates and are contained in the undercoat layer, and the average particle diameter of the aggregates is 100 nm to 2.0 µm. 光透過性基材のアンダーコート層側と反対側面上に、別のアンダーコート層を有する請求項１、２、３、４、５、６、７又は８記載の透明導電性積層体。 The transparent conductive laminate according to claim 1, further comprising another undercoat layer on the side opposite to the undercoat layer side of the light transmissive substrate. 光透過性基材上に、アンダーコート層及び高屈折率層がこの順に積層された透明導電性積層体であって、
前記高屈折率層は、表面に凹凸形状を有し、該凹凸形状は、凹凸部の平均傾斜角をθａとし、凹凸の最大山高さをＲｐとし、凹凸の最大谷深さをＲｖとしたとき、ＲｐとＲｖの比が１．５以下であり、前記θａが以下の式を満たす
ことを特徴とする透明導電性積層体。
０．０１°≦θａ≦０．１０° A transparent conductive laminate in which an undercoat layer and a high refractive index layer are laminated in this order on a light-transmitting substrate,
The high refractive index layer has a concavo-convex shape on the surface, and the concavo-convex shape has an average inclination angle of the concavo-convex portion as θa, a maximum peak height of the concavo-convex portion as Rp, and a maximum valley depth of the concavo-convex portion as Rv. The transparent conductive laminate is characterized in that the ratio of Rp and Rv is 1.5 or less, and the θa satisfies the following formula.
0.01 ° ≦ θa ≦ 0.10 ° 高屈折率層のアンダーコート層側と反対側面上に、低屈折率層を有する請求項１０記載の透明導電性積層体。 The transparent conductive laminate according to claim 10, further comprising a low refractive index layer on a side surface opposite to the undercoat layer side of the high refractive index layer. 請求項１、２、３、４、５、６、７、８、９、１０又は１１記載の透明導電性積層体を用いてなることを特徴とするタッチパネル。 A touch panel comprising the transparent conductive laminate according to claim 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 10, or 11. 光透過性基材上に、アンダーコート層が積層され、パターニングされた導電層を支持するためのタッチパネル用中間積層体であって、
前記アンダーコート層は、表面に凹凸形状を有し、該凹凸形状は、凹凸部の平均傾斜角をθａとし、凹凸の最大山高さをＲｐとし、凹凸の最大谷深さをＲｖとしたとき、ＲｐとＲｖの比が１．５以下であり、前記θａが以下の式を満たす
ことを特徴とするタッチパネル用中間積層体。
０．０１°≦θａ≦０．１０°
An intermediate laminate for a touch panel for supporting a patterned conductive layer in which an undercoat layer is laminated on a light-transmitting substrate,
The undercoat layer has a concavo-convex shape on the surface, and the concavo-convex shape has an average inclination angle of the concavo-convex portion as θa, a maximum peak height of the concavo-convex portion as Rp, and a maximum valley depth of the concavo-convex portion as Rv. An intermediate laminate for a touch panel, wherein the ratio of Rp to Rv is 1.5 or less, and the θa satisfies the following formula.
0.01 ° ≦ θa ≦ 0.10 °
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