JP6181383B2 - Anti-glare film - Google Patents

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Description

本発明は、防眩性に優れた防眩（アンチグレア）フィルムに関する。   The present invention relates to an antiglare film having excellent antiglare properties.

液晶ディスプレイやプラズマディスプレイパネル、ブラウン管（陰極線管：ＣＲＴ）ディスプレイ、有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）ディスプレイなどの画像表示装置は、その表示面に外光が映り込むと視認性が著しく損なわれてしまう。このような外光の映り込みを防止するために、画質を重視するテレビやパーソナルコンピュータ、外光の強い屋外で使用されるビデオカメラやデジタルカメラ、反射光を利用して表示を行う携帯電話などにおいては、従来から画像表示装置の表面に外光の映り込みを防止するために防眩フィルムが使用されている。   In an image display device such as a liquid crystal display, a plasma display panel, a cathode ray tube (CRT) display, an organic electroluminescence (EL) display, and the like, when external light is reflected on the display surface, visibility is significantly impaired. In order to prevent such reflection of external light, TVs and personal computers that emphasize image quality, video cameras and digital cameras used outdoors with strong external light, mobile phones that display using reflected light, etc. In the conventional art, an antiglare film has been used to prevent the reflection of external light on the surface of the image display device.

このような防眩フィルムとして、例えば、特許文献１（特開２００６−５３３７１号公報）には、基材を研磨し、サンドブラスト加工を施した後、無電解ニッケルめっきを施すことによって、表面に微細な凹凸を有するロールを製造し、かかるロールの凹凸面をＴＡＣフィルム上に形成された光硬化性樹脂層に押し付けながら硬化して作製された防眩フィルムが記載されている。すなわち、金型の凹凸面の形状を透明樹脂フィルムに転写した後、金型の凹凸面の形状が転写された透明樹脂フィルムを金型から剥がすことを含む防眩フィルムの製造方法が開示されている。   As such an antiglare film, for example, in Patent Document 1 (Japanese Patent Application Laid-Open No. 2006-53371), a substrate is polished, sandblasted, and then subjected to electroless nickel plating so that the surface is fine. An anti-glare film produced by producing a roll having unevenness and curing it while pressing the uneven surface of the roll against a photocurable resin layer formed on a TAC film is described. That is, a method for producing an antiglare film is disclosed that includes transferring the shape of the uneven surface of a mold to a transparent resin film, and then peeling the transparent resin film having the transferred shape of the uneven surface of the mold from the mold. Yes.

防眩フィルムには、防眩性、画像表示装置の表面に配置した際に良好なコントラストを発現すること、画像表示装置の表面に配置した際に散乱光によって表示面全体が白っぽくなり、表示が濁った色になる、いわゆる「白ちゃけ」の発生を抑制すること、及び、画像表示装置の表面に配置した際に画像表示装置の画素と防眩フィルムの表面凹凸形状とが干渉し、結果として輝度分布が発生して見えにくくなる、いわゆる「ギラツキ」の発生を抑制することが要望されている。   Anti-glare film has anti-glare properties, exhibits good contrast when placed on the surface of an image display device, and the entire display surface becomes whitish due to scattered light when placed on the surface of the image display device. Suppresses the occurrence of so-called “whitening” that becomes a cloudy color, and when arranged on the surface of the image display device, the pixel of the image display device and the surface uneven shape of the antiglare film interfere with each other. As described above, it is desired to suppress the occurrence of so-called “glare” that is difficult to see due to the occurrence of a luminance distribution.

しかし、特許文献１に開示された防眩フィルムは、サンドブラスト加工によって凹凸形状を形成した金型を使用して作製されるため、凹凸形状の精度の点で充分でなく、特に５０μｍ以上の周期を持つ比較的大きな凹凸形状を有する場合があるため、「ギラツキ」が発生しやすかった。   However, since the anti-glare film disclosed in Patent Document 1 is produced using a mold having a concavo-convex shape formed by sandblasting, it is not sufficient in terms of the accuracy of the concavo-convex shape, and in particular has a period of 50 μm or more. Since it may have a relatively large uneven shape, “glare” was likely to occur.

一方、特許文献２（特開２０１０−２２４４２７号公報）には、透明支持体上に、微細な凹凸表面を有する防眩層が形成されてなる防眩フィルムであって、微細凹凸表面の標高のパワースペクトルを制御することによって、防眩性能に優れた防眩フィルムが得られることが開示されている。また、パワースペクトルが制御されたパターンを用いて防眩フィルムを製造することが開示されている。   On the other hand, Patent Document 2 (Japanese Patent Laid-Open No. 2010-224427) discloses an antiglare film in which an antiglare layer having a fine uneven surface is formed on a transparent support, and the elevation of the fine uneven surface is It is disclosed that an antiglare film having excellent antiglare performance can be obtained by controlling the power spectrum. Moreover, manufacturing an anti-glare film using a pattern with a controlled power spectrum is disclosed.

具体的には、防眩フィルムの微細凹凸表面の標高の空間周波数０．０１μｍ−１におけるパワースペクトルＨ１ ２と、空間周波数０．０４μｍ−１におけるパワースペクトルＨ２ ２の比Ｈ１ ２／Ｈ２ ２を３〜１５の範囲内とすることによって十分な防眩性とギラツキの抑制などの優れた性能を有する防眩フィルムが得られることが開示されている。また、パワースペクトルが空間周波数０μｍ−１より大きく０．０４μｍ−１以下に極大値を持たないパターンを用いて防眩フィルムを製造する方法が開示されている。 Specifically, the power spectrum H 1 2 in a spatial frequency 0.01 [mu] m -1 elevation of the fine uneven surface antiglare film, the power spectrum H 2 2 ratio H 1 2 / H in a spatial frequency 0.04 .mu.m -1 antiglare film having excellent performance such as sufficient antiglare property and glare suppression by 2 2 in the range of 3 to 15 that is obtained is disclosed. Further, a method of manufacturing the anti-glare film using a pattern of the power spectrum has no maximum value in the following larger 0.04 .mu.m -1 than the spatial frequency 0 .mu.m -1 is disclosed.

特許文献２に開示された防眩フィルムは、その微細凹凸表面の標高のパワースペクトルの比Ｈ１ ２／Ｈ２ ２を３〜１５の範囲内とすることで、５０μｍ以上の周期を有する表面凹凸形状のうねりが減少し、効果的にギラツキを抑制することができている。 The antiglare film disclosed in Patent Document 2 has a surface unevenness having a period of 50 μm or more by setting the ratio H 1 2 / H 2 2 of the power spectrum of the altitude of the fine uneven surface to a range of 3-15. The waviness of the shape is reduced, and glare can be effectively suppressed.

しかしながら、防眩フィルムの光学特性の一つであるヘイズは、良好なコントラストの発現と白ちゃけの発生を抑制するためには、なるべく小さくすることが好ましい。このため、さらなるコントラストの向上と白ちゃけの発生の抑制のためにヘイズを低下させることが望まれるが、単にヘイズを低下させた場合には防眩性が低下してしまう。したがって、ヘイズを低下させることで防眩フィルムのコントラストを向上させ、白ちゃけの発生を抑制することと、防眩フィルムの防眩性を維持し、ギラツキの発生を抑制することとを、両立させることは困難であった。   However, the haze, which is one of the optical characteristics of the antiglare film, is preferably as small as possible in order to suppress the expression of good contrast and the occurrence of whitishness. For this reason, it is desired to reduce the haze for further improving the contrast and suppressing the occurrence of whitishness, but when the haze is simply reduced, the antiglare property is lowered. Therefore, it is possible to improve the contrast of the antiglare film by reducing the haze, suppress the occurrence of whitishness, maintain the antiglare property of the antiglare film, and suppress the occurrence of glare. It was difficult to do.

特許文献２に記載の防眩フィルムでは、防眩フィルムを低ヘイズ化した際の防眩性発現に寄与する１００μｍ付近の周期を有する表面凹凸形状のうねりまで減少してしまい、防眩性が不十分となると考えられる。   In the antiglare film described in Patent Document 2, the surface unevenness undulation having a period of about 100 μm that contributes to the antiglare property when the antiglare film is reduced in haze is reduced, and the antiglare property is not good. It will be enough.

なお、この防眩性の不足という問題を解決するためには、防眩層の上に反射防止層(例えば、透明支持体／防眩層／低屈折率層や透明支持体／防眩層／高屈折率層／低屈折率層などの構成が挙げられる)を形成し、反射率の低減によって防眩性の不足を補う方法が考えられる。しかし、防眩層の上に反射防止層を形成する場合には、均一な膜厚を有する反射防止層を形成する必要があるため、コスト高になる。また、反射防止層の膜厚の均一性が不十分な場合にはムラなどの品質上の不具合が発生するといった問題がある。   In order to solve this problem of insufficient antiglare property, an antireflection layer (for example, transparent support / antiglare layer / low refractive index layer or transparent support / antiglare layer / A method of making up for the lack of anti-glare property by reducing the reflectance can be considered. However, when the antireflection layer is formed on the antiglare layer, it is necessary to form the antireflection layer having a uniform film thickness, which increases the cost. Further, when the film thickness of the antireflection layer is insufficient, there is a problem that quality defects such as unevenness occur.

特開２００６−５３３７１号公報JP 2006-53371 A 特開２０１０−２２４４２７号公報JP 2010-224427 A

本発明は、低ヘイズであっても十分な防眩性とギラツキの抑制を達成することができる防眩フィルムを提供することを目的とする。   An object of this invention is to provide the anti-glare film which can achieve sufficient anti-glare property and glare suppression even if it is a low haze.

上記課題を解決するために鋭意検討を行った結果、本発明者らは、防眩フィルムの表面凹凸形状が、１００μｍ付近の周期のうねりを有しつつ、５０μｍ付近の周期のうねりを減少させたものであれば、低ヘイズ化した際に十分な防眩性を発現しつつ、ギラツキを抑制するものとなることを見出し、本発明に到達した。   As a result of intensive studies to solve the above-mentioned problems, the present inventors have reduced the undulation of the period near 50 μm while the surface irregularity shape of the antiglare film has the undulation of the period near 100 μm. If it is a thing, it discovered that it became what can suppress glare, expressing sufficient anti-glare property, when low haze was attained, and reached | attained this invention.

すなわち、本発明は、透明支持体と、該透明支持体上に形成された防眩層とを含み、全ヘイズが１％以下である防眩フィルムであって、
前記防眩層は、前記透明支持体と反対側に微細な凹凸を有する微細凹凸表面を備え、
前記微細凹凸表面の標高の一次元パワースペクトルＨ２（ｆ）の常用対数の空間周波数ｆに関する二次導関数ｄ２ｌｏｇＨ２（ｆ）／ｄｆ２が、空間周波数０．０１μｍ−１において０未満であり、空間周波数０．０２μｍ−１において０より大きく、
前記一次元パワースペクトルＨ ２ （ｆ）の常用対数ｌｏｇＨ ２ （ｆ）を空間周波数ｆの関数として表したときのグラフが、空間周波数０．０１μｍ −１ 以上０．０２μｍ −１ 以下の間で単調減少であることを特徴とする、防眩フィルムである。 That is, the present invention is an antiglare film comprising a transparent support and an antiglare layer formed on the transparent support, and having a total haze of 1% or less,
The antiglare layer comprises a fine uneven surface having fine unevenness on the side opposite to the transparent support,
The second derivative d 2 logH 2 (f) / df 2 with respect to the spatial frequency f of the common logarithm of the one-dimensional power spectrum H 2 (f) of the fine uneven surface is less than 0 at a spatial frequency of 0.01 μm −1 . , and the rather greater than 0 in the spatial frequency 0.02 [mu] m -1,
Graph when common logarithm logH 2 (f) is expressed as a function of spatial frequency f of the one-dimensional power spectrum H 2 (f) is monotonic between: spatial frequency 0.01 [mu] m -1 or 0.02 [mu] m -1 It is an anti-glare film characterized by being reduced .

前記微細凹凸表面のうち、傾斜角度が５°以上である微小面の割合が１％未満であることが好ましい。   It is preferable that the proportion of the minute surfaces having an inclination angle of 5 ° or more in the fine uneven surface is less than 1%.

前記微細凹凸表面の最大断面高さＲｔが０．３μｍ以上１μｍ以下であることが好ましい。   The maximum cross-sectional height Rt of the fine uneven surface is preferably 0.3 μm or more and 1 μm or less.

また、本発明は、金型用基材の表面に所定のパターンに基づいた表面形状を形成する工程を含み、
前記パターンの一次元パワースペクトルを空間周波数に対する強度として表したときのグラフが、空間周波数０．００７μｍ−１以上０．０１５μｍ−１以下において１つの極大値を有し、かつ、空間周波数０．０５μｍ−１以上０．１μｍ−１以下において１つの極大値を有し、
前記一次元パワースペクトルを空間周波数に対する強度として表したときのグラフが、空間周波数０．０１５μｍ −１ 以上０．０５μｍ −１ 以下の間で極大値を有しない形状であることを特徴とする、防眩フィルム製造用金型の製造方法にも関する。 Further, the present invention includes a step of forming a surface shape based on a predetermined pattern on the surface of the mold base,
Graph in representing the one-dimensional power spectrum of the pattern as the intensity with respect to spatial frequency, has one maximum value in the following spatial frequency 0.007 -1 or 0.015 .mu.m -1, and the spatial frequency 0.05μm -1 0.1 [mu] m -1 have a single maximum in the following,
A graph when the one-dimensional power spectrum is expressed as an intensity with respect to a spatial frequency is a shape having no maximum value between a spatial frequency of 0.015 μm −1 and 0.05 μm −1. The present invention also relates to a method for producing a mold for producing a dazzling film.

上記の防眩フィルム製造用金型の製造方法は、
金型用基材の表面に銅めっきを施す第１めっき工程と、
第１めっき工程によってめっきが施された前記金型用基材の表面を研磨する研磨工程と、
研磨された前記金型用基材の表面に感光性樹脂を塗布して感光性樹脂膜を形成する感光性樹脂膜形成工程と、
前記パターンを前記感光性樹脂膜上に露光する露光工程と、
前記パターンが露光された前記感光性樹脂膜を現像する現像工程と、
現像された前記感光性樹脂膜をマスクとしてエッチング処理を行い、前記金型用基材のめっきが施された表面に凹凸を形成する第１エッチング工程と、
エッチング処理後に感光性樹脂膜を剥離する感光性樹脂膜剥離工程と、
第１エッチング工程によって形成された凹凸面をエッチング処理によって鈍らせる第２エッチング工程と、
第２エッチング工程によって鈍らされた凹凸面にクロムめっきを施す第２めっき工程とを含むことが好ましい。 The manufacturing method of the mold for manufacturing the antiglare film is as follows.
A first plating step of copper plating on the surface of the mold base;
A polishing step of polishing the surface of the mold base material plated by the first plating step;
A photosensitive resin film forming step of forming a photosensitive resin film by applying a photosensitive resin to the polished surface of the mold base;
An exposure step of exposing the pattern on the photosensitive resin film;
A development step of developing the photosensitive resin film exposed to the pattern;
A first etching step of performing an etching process using the developed photosensitive resin film as a mask, and forming irregularities on the plated surface of the mold base;
A photosensitive resin film peeling step for peeling the photosensitive resin film after the etching treatment;
A second etching step of dulling the uneven surface formed by the first etching step by an etching process;
It is preferable to include a second plating step of performing chromium plating on the uneven surface that has been blunted by the second etching step.

また、本発明は、上記の方法により製造された金型の凹凸面の形状を透明樹脂フィルムに転写した後、金型の凹凸面の形状が転写された透明樹脂フィルムを金型から剥がすことを含む防眩フィルムの製造方法にも関する。   Further, the present invention is to transfer the shape of the concavo-convex surface of the mold manufactured by the above method to the transparent resin film, and then peel off the transparent resin film to which the shape of the concavo-convex surface of the mold is transferred from the mold. The present invention also relates to a method for producing an antiglare film.

本発明によれば、低ヘイズであっても十分な防眩性とギラツキの抑制を達成することが可能な防眩フィルムを提供することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, even if it is a low haze, the anti-glare film which can achieve sufficient anti-glare property and glare suppression can be provided.

また、本発明においては、防眩層の上に反射防止層等を別途形成する必要がないため、コスト高にならず、反射防止層等の膜厚の均一性が不十分な場合に生じるムラなどの品質上の不具合が抑制される。   Further, in the present invention, since it is not necessary to separately form an antireflection layer or the like on the antiglare layer, the cost does not increase, and unevenness that occurs when the thickness of the antireflection layer or the like is insufficient. Such as quality defects are suppressed.

本発明の防眩フィルムの一例を模式的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows typically an example of the anti-glare film of this invention. 本発明の防眩フィルムの一例を模式的に示す斜視図である。It is a perspective view which shows typically an example of the anti-glare film of this invention. 標高を表す関数ｈ（ｘ，ｙ）が離散的に得られる状態を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the state from which the function h (x, y) showing an altitude is obtained discretely. 本発明の防眩フィルムの微細凹凸表面の標高を二次元の離散関数ｈ（ｘ，ｙ）で表した図である。It is the figure which represented the altitude of the fine unevenness | corrugation surface of the anti-glare film of this invention with the two-dimensional discrete function h (x, y). 二次元パワースペクトルＨ２（ｆｘ，ｆｙ）を周波数空間における原点からの距離ｆで平均化する方法を説明する模式図である。Two-dimensional power spectrum H 2 (f x, f y ) is a schematic view for explaining a method of averaging the distance f from the origin in the frequency space. 図４に示した防眩フィルムの微細凹凸表面の標高を離散フーリエ変換して得られた一次元パワースペクトルの常用対数ｌｏｇＨ２（ｆ）を示す図である。The elevation of the fine uneven surface of the antiglare film shown in FIG. 4 is a diagram illustrating a discrete Fourier transform and one-dimensional power spectrum obtained by common logarithm logH 2 (f). 微細凹凸表面の傾斜角度の測定方法を説明するための模式図である。It is a schematic diagram for demonstrating the measuring method of the inclination-angle of the fine uneven | corrugated surface. 防眩フィルムの微細凹凸表面の微小面の傾斜角度分布のヒストグラムの一例を示すグラフである。It is a graph which shows an example of the histogram of the inclination angle distribution of the micro surface of the fine uneven surface of an anti-glare film. 本発明の防眩フィルムを作製するために用いたパターンである画像データを模式的に示す図である。It is a figure which shows typically the image data which is the pattern used in order to produce the anti-glare film of this invention. 図９に示したパターンを離散フーリエ変換して得られたパワースペクトルＧ２（ｆ）を示す図である。FIG. 10 is a diagram illustrating a power spectrum G 2 (f) obtained by subjecting the pattern illustrated in FIG. 9 to discrete Fourier transform. 本発明の防眩フィルムの製造に好ましく用いられる金型の製造方法の前半部分の好ましい一例を模式的に示す図である。It is a figure which shows typically a preferable example of the first half part of the manufacturing method of the metal mold | die preferably used for manufacture of the anti-glare film of this invention. 本発明の防眩フィルムの製造に好ましく用いられる金型の製造方法の後半部分の好ましい一例を模式的に示す図である。It is a figure which shows typically a preferable example of the second half part of the manufacturing method of the metal mold | die preferably used for manufacture of the anti-glare film of this invention. ギラツキ評価用パターンのユニットセルを示す平面図である。It is a top view which shows the unit cell of the pattern for glare evaluation. ギラツキ評価の状態を示す断面模式図である。It is a cross-sectional schematic diagram which shows the state of glare evaluation. 実施例２〜４の金型作製の際に使用したパターンを示す図である。It is a figure which shows the pattern used in the case of metal mold | die preparation of Examples 2-4. 実施例５の金型作製の際に使用したパターンを示す図である。It is a figure which shows the pattern used in the case of metal mold | die preparation of Example 5. FIG. 比較例１の金型作製の際に使用したパターンを示す図である。It is a figure which shows the pattern used in the case of metal mold | die preparation of the comparative example 1. 比較例２の金型作製の際に使用したパターンを示す図である。It is a figure which shows the pattern used in the case of metal mold | die preparation of the comparative example 2. FIG. 図１５〜１８に示したパターンの一次元パワースペクトルＧ２（ｆ）を示す図である。It is a diagram showing a one-dimensional power spectrum G 2 (f) of the pattern shown in FIG. 15-18. 実施例２〜４の防眩フィルムの標高より計算された一次元パワースペクトルの常用対数ｌｏｇＨ２（ｆ）を示す図である。It is a diagram illustrating a common logarithm logH 2 (f) of the one-dimensional power spectrum calculated from the elevation of the antiglare films of Examples 2-4. 実施例５および比較例１の防眩フィルムの標高より計算された一次元パワースペクトルの常用対数ｌｏｇＨ２（ｆ）を示す図である。It is a diagram illustrating a common logarithm logH 2 (f) of the one-dimensional power spectrum calculated from the elevation of the antiglare film of Example 5 and Comparative Example 1. 比較例２および比較例３の防眩フィルムの標高より計算された一次元パワースペクトルの常用対数ｌｏｇＨ２（ｆ）を示す図である。It is a diagram illustrating a common logarithm logH 2 (f) of the one-dimensional power spectrum calculated from the elevation of the antiglare films of Comparative Examples 2 and 3.

本発明の防眩フィルムは、透明支持体と、該透明支持体上に形成された防眩層とを含み、全ヘイズが１％以下である。ここで、防眩フィルムの全ヘイズは、次のようにして測定される。防眩層を透明支持体上に形成した後、透明支持体の防眩層が形成されていない側が接合面となるように、該防眩フィルムとガラス基板とを、透明粘着剤を用いて貼合し、ガラス基板側から光を入射してＪＩＳ Ｋ ７１３６に準拠してヘイズを測定する。このようにして測定されるヘイズは、防眩フィルムの全ヘイズに相当する。   The antiglare film of the present invention includes a transparent support and an antiglare layer formed on the transparent support, and has a total haze of 1% or less. Here, the total haze of the antiglare film is measured as follows. After the antiglare layer is formed on the transparent support, the antiglare film and the glass substrate are pasted using a transparent adhesive so that the side on which the antiglare layer of the transparent support is not formed becomes a bonding surface. Then, light is incident from the glass substrate side and haze is measured in accordance with JIS K 7136. The haze measured in this way corresponds to the total haze of the antiglare film.

本発明の防眩層は、透明支持体と反対側に微細な凹凸を有する微細凹凸表面を備え、
微細凹凸表面の標高の一次元パワースペクトルＨ２（ｆ）の常用対数の空間周波数ｆに関する二次導関数ｄ２ｌｏｇＨ２（ｆ）／ｄｆ２が、空間周波数０．０１μｍ−１において０未満であり、空間周波数０．０２μｍ−１において０より大きいことを特徴とする。 The antiglare layer of the present invention comprises a fine uneven surface having fine unevenness on the side opposite to the transparent support,
The second derivative d 2 logH 2 (f) / df 2 with respect to the spatial frequency f of the common logarithm of the one-dimensional power spectrum H 2 (f) of the elevation of the fine uneven surface is less than 0 at the spatial frequency of 0.01 μm −1 . Yes, characterized by being greater than 0 at a spatial frequency of 0.02 μm −1 .

（微細凹凸表面の標高のパワースペクトル）
以下、防眩フィルムの微細凹凸表面の標高のパワースペクトルについて説明する。図１は、本発明の防眩フィルムの表面を模式的に示す断面図である。図１に示されるように、本発明の防眩フィルム１は、透明支持体１０１とその上に形成された防眩層１０２とを有し、防眩層１０２は、透明支持体１０１と反対側に微細な凹凸２を有する微細凹凸表面を備える。 (Elevation power spectrum of fine uneven surface)
Hereinafter, the power spectrum of the altitude of the fine uneven surface of the antiglare film will be described. FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing the surface of the antiglare film of the present invention. As shown in FIG. 1, the antiglare film 1 of the present invention has a transparent support 101 and an antiglare layer 102 formed thereon, and the antiglare layer 102 is opposite to the transparent support 101. Are provided with a fine uneven surface having fine unevenness 2.

ここで、本発明でいう「微細凹凸表面の標高」とは、フィルム１表面の任意の点Ｐと、微細凹凸表面の平均高さにおいて当該高さを有する仮想的な平面１０３（標高は基準として０μｍ）とのフィルムの主法線方向５（上記仮想的な平面１０３における法線方向）における直線距離を意味する。   Here, the “elevation of the surface of the fine unevenness” as used in the present invention means an arbitrary point P on the surface of the film 1 and a virtual plane 103 having the height at the average height of the surface of the fine unevenness (the altitude is used as a reference). 0 μm) means a linear distance in the main normal direction 5 (normal direction in the virtual plane 103) of the film.

実際には防眩フィルムは図２に模式的に示したように、二次元平面上に微細な凹凸が形成された防眩層を有する。よって、微細凹凸表面の標高は図２に示すように、フィルム面内の直交座標を（ｘ，ｙ）で表示した際には、微細凹凸表面の標高は座標（ｘ，ｙ）の二次元関数ｈ（ｘ，ｙ）と表すことができる。   Actually, the antiglare film has an antiglare layer in which fine irregularities are formed on a two-dimensional plane as schematically shown in FIG. Therefore, as shown in FIG. 2, the elevation of the surface of the fine unevenness is expressed by a two-dimensional function of the coordinates (x, y) when the orthogonal coordinates in the film plane are represented by (x, y). It can be expressed as h (x, y).

微細凹凸表面の標高は、共焦点顕微鏡、干渉顕微鏡、原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）などの装置により測定される表面形状の三次元情報から求めることができる。測定機に要求される水平分解能は、少なくとも５μm以下、好ましくは２μｍ以下であり、また垂直分解能は、少なくとも０．１μｍ以下、好ましくは０．０１μm以下である。この測定に好適な非接触三次元表面形状・粗さ測定機としては、Ｎｅｗ Ｖｉｅｗ ５０００シリーズ（Ｚｙｇｏ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ社製、日本ではザイゴ（株）から入手可能）、三次元顕微鏡ＰＬμ２３００（Ｓｅｎｓｏｆａｒ社製）などを挙げることができる。測定面積は、標高のパワースペクトルの分解能が０．００５μｍ−１以下である必要があるため、少なくとも２００μｍ×２００μm以上とするのが好ましく、より好ましくは、５００μm×５００μm以上である。 The elevation of the surface of the fine irregularities can be obtained from three-dimensional information of the surface shape measured by an apparatus such as a confocal microscope, an interference microscope, an atomic force microscope (AFM). The horizontal resolution required for the measuring instrument is at least 5 μm or less, preferably 2 μm or less, and the vertical resolution is at least 0.1 μm or less, preferably 0.01 μm or less. Non-contact three-dimensional surface shape / roughness measuring instruments suitable for this measurement include New View 5000 series (manufactured by Zygo Corporation, available from Zygo Corporation in Japan), three-dimensional microscope PLμ2300 (manufactured by Sensofar), etc. Can be mentioned. Since the resolution of the power spectrum of the altitude needs to be 0.005 μm −1 or less, the measurement area is preferably at least 200 μm × 200 μm, more preferably 500 μm × 500 μm.

次に、二次元関数ｈ（ｘ，ｙ）より標高のパワースペクトルを求める方法について説明する。まず、二次元関数ｈ（ｘ，ｙ）より、式（１）で定義される二次元フーリエ変換によって二次元関数Ｈ（ｆｘ，ｆｙ）を求める。 Next, a method for obtaining an altitude power spectrum from a two-dimensional function h (x, y) will be described. First, a two-dimensional function H (f x , f y ) is obtained from the two-dimensional function h (x, y) by a two-dimensional Fourier transform defined by equation (1).

Figure 0006181383
Figure 0006181383

ここでｆｘおよびｆｙはそれぞれｘ方向およびｙ方向の周波数であり、長さの逆数の次元を持つ。また、式（１）中のπは円周率、ｉは虚数単位である。得られた二次元関数Ｈ（ｆｘ，ｆｙ）を二乗することによって、二次元パワースペクトルＨ２（ｆｘ，ｆｙ）を求めることができる。この二次元パワースペクトルＨ２（ｆｘ，ｆｙ）は防眩フィルムの微細凹凸表面の空間周波数分布を表している。 Where f x and f y is the frequency of the x and y directions, respectively, with the dimension of reciprocal length. Further, in Expression (1), π is a pi and i is an imaginary unit. By squaring the obtained two-dimensional function H (f x , f y ), the two-dimensional power spectrum H 2 (f x , f y ) can be obtained. This two-dimensional power spectrum H 2 (f x , f y ) represents the spatial frequency distribution of the fine uneven surface of the antiglare film.

以下、防眩フィルムの微細凹凸表面の標高の二次元パワースペクトルを求める方法をさらに具体的に説明する。上記の共焦点顕微鏡、干渉顕微鏡、原子間力顕微鏡などによって実際に測定される表面形状の三次元情報は一般的に離散的な値、すなわち、多数の測定点に対応する標高として得られる。図３は、標高を表す関数ｈ（ｘ，ｙ）が離散的に得られる状態を示す模式図である。図３のとおり、フィルム面内の直交座標を（ｘ，ｙ）で表示し、フィルム投影面３上にｘ軸方向にΔｘ毎に分割した線およびｙ軸方向にΔｙ毎に分割した線を破線で示すと、実際の測定では微細凹凸表面の標高はフィルム投影面３上の各破線の交点毎の離散的な標高値として得られる。   Hereinafter, a method for obtaining the two-dimensional power spectrum of the altitude of the fine uneven surface of the antiglare film will be described more specifically. The three-dimensional information of the surface shape actually measured by the above confocal microscope, interference microscope, atomic force microscope or the like is generally obtained as discrete values, that is, elevations corresponding to a large number of measurement points. FIG. 3 is a schematic diagram showing a state in which the function h (x, y) representing the altitude is obtained discretely. As shown in FIG. 3, the orthogonal coordinates in the film plane are represented by (x, y), and the lines divided on the film projection plane 3 by Δx in the x-axis direction and the lines divided by Δy in the y-axis direction are broken lines. In the actual measurement, the elevation of the surface of the fine irregularities is obtained as a discrete elevation value for each intersection of the broken lines on the film projection surface 3.

得られる標高値の数は測定範囲とΔｘおよびΔｙによって決まり、図３に示すようにｘ軸方向の測定範囲をＸ＝（Ｍ−１）Δｘとし、ｙ軸方向の測定範囲をＹ＝（Ｎ−１）Δｙとすると、得られる標高値の数はＭ×Ｎ個である。   The number of elevation values obtained is determined by the measurement range and Δx and Δy. As shown in FIG. 3, the measurement range in the x-axis direction is X = (M−1) Δx, and the measurement range in the y-axis direction is Y = (N -1) Assuming Δy, the number of obtained elevation values is M × N.

図３に示すようにフィルム投影面３上の着目点Ａの座標を（ｊΔｘ，ｋΔｙ）（ここでｊは０以上Ｍ−１以下であり、ｋは０以上Ｎ−１以下である。）とすると、着目点Ａに対応するフィルム面上の点Ｐの標高はｈ（ｊΔｘ，ｋΔｙ）と表すことができる。   As shown in FIG. 3, the coordinates of the point of interest A on the film projection surface 3 are (jΔx, kΔy) (where j is 0 or more and M−1 or less, and k is 0 or more and N−1 or less). Then, the altitude of the point P on the film surface corresponding to the point of interest A can be expressed as h (jΔx, kΔy).

ここで、測定間隔ΔｘおよびΔｙは測定機器の水平分解能に依存し、精度良く微細凹凸表面を評価するためには、上述したとおりΔｘおよびΔｙともに５μｍ以下であることが好ましく、２μｍ以下であることがより好ましい。また、測定範囲ＸおよびＹは上述したとおり、ともに２００μｍ以上が好ましく、ともに５００μｍ以上がより好ましい。   Here, the measurement intervals Δx and Δy depend on the horizontal resolution of the measuring device, and in order to accurately evaluate the fine uneven surface, both Δx and Δy are preferably 5 μm or less, as described above, and preferably 2 μm or less. Is more preferable. Further, as described above, the measurement ranges X and Y are both preferably 200 μm or more, and more preferably 500 μm or more.

このように実際の測定では、微細凹凸表面の標高を表す関数は、Ｍ×Ｎ個の値を持つ離散関数ｈ（ｘ，ｙ）として得られる。測定によって得られた離散関数ｈ（ｘ，ｙ）と式（２）で定義される離散フーリエ変換によって離散関数Ｈ（ｆｘ，ｆｙ）が求まり、離散関数Ｈ（ｆｘ，ｆｙ）を二乗することによって二次元パワースペクトルの離散関数Ｈ２（ｆｘ，ｆｙ）が求められる。式（２）中のｌは−Ｍ／２以上Ｍ／２以下の整数であり、ｍは−Ｎ／２以上Ｎ／２以下の整数である。また、ΔｆｘおよびΔｆｙはそれぞれｘ方向およびｙ方向の周波数間隔であり、式（３）および式（４）で定義される。 As described above, in actual measurement, the function representing the altitude of the fine uneven surface is obtained as a discrete function h (x, y) having M × N values. Obtained by measuring discrete function h (x, y) discrete by a discrete Fourier transform defined by equation (2) function H (f x, f y) is Motomari, discrete function H (f x, f y) a The discrete function H 2 (f x , f y ) of the two-dimensional power spectrum is obtained by squaring. In the formula (2), l is an integer of −M / 2 or more and M / 2 or less, and m is an integer of −N / 2 or more and N / 2 or less. Δf x and Δf y are frequency intervals in the x and y directions, respectively, and are defined by equations (3) and (4).

Figure 0006181383
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Figure 0006181383
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Figure 0006181383
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ここで、図４に示したように、本発明の防眩フィルムの微細凹凸表面は凹凸がランダムに形成されているため、周波数空間（空間周波数領域）における二次元パワースペクトルＨ２（ｆｘ，ｆｙ）は原点（ｆｘ＝０，ｆｙ＝０）を中心に対称となる。よって、二次元関数Ｈ２（ｆｘ，ｆｙ）は、周波数空間における原点からの距離ｆ（単位：μｍ−１）を変数とする一次元関数Ｈ２（ｆ）に変換することができる。本発明の防眩フィルムは、この一次元関数Ｈ２（ｆ）で表される一次元パワースペクトルが一定の特徴を有するものである。 Here, as shown in FIG. 4, the fine uneven surface of the antiglare film of the present invention, since the irregularities are formed at random, two-dimensional power spectrum H 2 in the frequency space (the spatial frequency domain) (f x, f y ) is symmetric about the origin (f x = 0, f y = 0). Therefore, the two-dimensional function H 2 (f x , f y ) can be converted into a one-dimensional function H 2 (f) having a variable f (unit: μm −1 ) from the origin in the frequency space. The antiglare film of the present invention has a characteristic that the one-dimensional power spectrum represented by the one-dimensional function H 2 (f) is constant.

具体的には、まず、図５に示すように周波数空間において、原点Ｏ（ｆｘ＝０，ｆｙ＝０）から（ｎ−１／２）Δｆ以上（ｎ＋１／２）Δｆ未満の距離に位置する全ての点（図５中の黒丸の点）の個数Ｎnを計算する。図５に示した例ではＮn＝１６個である。次に、原点Ｏから（ｎ−１／２）Δｆ以上（ｎ＋１／２）Δｆ未満の距離に位置する全ての点のＨ２（ｆｘ，ｆｙ）の合計値Ｈ２ｎ（図５中の黒丸の点におけるＨ２（ｆｘ，ｆｙ）の合計値）を計算し、式（５）に示すように、その合計値Ｈ２ｎを点の個数Ｎnで割ったものをＨ２（ｆ）の値とした。 Specifically, as shown in FIG. 5, first, in the frequency space, the distance from the origin O (f x = 0, f y = 0) is not less than (n−1 / 2) Δf and less than (n + 1/2) Δf. The number Nn of all the points (black dots in FIG. 5) located is calculated. In the example shown in FIG. 5, Nn = 16. Next, the total value H 2 n of H 2 (f x , f y ) of all points located at a distance of (n−1 / 2) Δf or more and less than (n + 1/2) Δf from the origin O (in FIG. 5) H 2 (total value of f x , f y ) at the black circle points of ( 2 ) is calculated, and the total value H 2 n divided by the number N n of points is calculated as H 2 ( It was set as the value of f).

Figure 0006181383
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ここで、Ｍ≧Ｎの場合、ｎは０以上Ｎ／２以下の整数であり、Ｍ＜Ｎの場合、ｎは０以上Ｍ／２以下の整数である。なお、ＭおよびＮは、図３に示されるように、それぞれｘ軸方向の測定点の数およびｙ軸方向の測定点の数を意味する。また、Δｆは（Δｆｘ＋Δｆｙ）／２とした。 Here, when M ≧ N, n is an integer of 0 or more and N / 2 or less, and when M <N, n is an integer of 0 or more and M / 2 or less. M and N mean the number of measurement points in the x-axis direction and the number of measurement points in the y-axis direction, respectively, as shown in FIG. Δf was set to (Δf x + Δf y ) / 2.

一般的に前記した方法によって求められる一次元パワースペクトルは測定の際の雑音を含んでいる。ここで一次元パワースペクトルを求めるのに際して、この雑音の影響を除くためには、防眩フィルム上の複数箇所の微細凹凸表面の標高を測定し、それぞれの微細凹凸表面の標高から求められる一次元パワースペクトルの平均値を一次元パワースペクトルＨ２（ｆ）として用いることが好ましい。防眩フィルム上の微細凹凸表面の標高を測定する箇所の数は３箇所以上が好ましく、より好ましくは５箇所以上である。 In general, the one-dimensional power spectrum obtained by the above-described method includes noise during measurement. To determine the one-dimensional power spectrum here, in order to eliminate the influence of this noise, the elevation of the surface of the fine irregularities at multiple locations on the antiglare film is measured, and the one-dimensionality obtained from the elevation of each fine irregular surface. It is preferable to use the average value of the power spectrum as the one-dimensional power spectrum H 2 (f). The number of locations for measuring the elevation of the fine uneven surface on the antiglare film is preferably 3 or more, more preferably 5 or more.

図６に、このようにして得られた微細凹凸表面の標高の一次元パワースペクトルの常用対数ｌｏｇＨ２（ｆ）を示す。図６の一次元パワースペクトルの常用対数ｌｏｇＨ２（ｆ）は防眩フィルム上の５箇所の異なる箇所の微細凹凸表面の標高から求められた一次元パワースペクトルを平均したものである。 FIG. 6 shows the common logarithm logH 2 (f) of the one-dimensional power spectrum of the elevation of the fine uneven surface obtained in this way. The common logarithm log H 2 (f) of the one-dimensional power spectrum in FIG. 6 is an average of the one-dimensional power spectra obtained from the elevations of the fine uneven surfaces at five different locations on the antiglare film.

微細凹凸表面の標高の一次元パワースペクトルの対数ｌｏｇＨ２（ｆ）の空間周波数ｆに関する二次導関数ｄ２ｌｏｇＨ２（ｆ）／ｄｆ２は、一次元パワースペクトルの常用対数ｌｏｇＨ２（ｆ）から計算することができる。具体的には、式（６）の差分法によって二次導関数を計算することができる。 The second derivative d 2 logH 2 (f) / df 2 with respect to the spatial frequency f of the logarithm logH 2 (f) of the one-dimensional power spectrum of the elevation of the fine uneven surface is the common logarithm logH 2 (f) of the one-dimensional power spectrum. Can be calculated from Specifically, the second derivative can be calculated by the difference method of Equation (6).

Figure 0006181383
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図６に示した標高の一次元パワースペクトルの常用対数ｌｏｇＨ２（ｆ）の空間周波数ｆに関する二次導関数ｄ２ｌｏｇＨ２（ｆ）／ｄｆ２は空間周波数０．０１μｍ−１において−１１８７８であり、空間周波数０．０２μｍ−１において８０８１であった。よって、図６から明らかなように標高の一次元パワースペクトルの常用対数ｌｏｇＨ２（ｆ）を空間周波数に対する強度として表したときのグラフは空間周波数０．０１μｍ−１において上に凸の形状を有し、空間周波数０．０２μｍ−１において下に凸の形状を有している。 The second derivative d 2 logH 2 (f) / df 2 with respect to the spatial frequency f of the common logarithm logH 2 (f) of the one-dimensional power spectrum of the elevation shown in FIG. 6 is −11878 at a spatial frequency of 0.01 μm −1 . Yes, and was 8081 at a spatial frequency of 0.02 μm −1. Therefore, as is apparent from FIG. 6, the graph obtained by expressing the common logarithm logH 2 (f) of the one-dimensional power spectrum at an altitude as the intensity with respect to the spatial frequency has a convex shape upward at the spatial frequency of 0.01 μm −1 . However, it has a downwardly convex shape at a spatial frequency of 0.02 μm −1 .

本発明の防眩フィルムは、微細凹凸表面の標高から計算される一次元パワースペクトルの常用対数ｌｏｇＨ２（ｆ）の空間周波数ｆに関する二次導関数ｄ２ｌｏｇＨ２（ｆ）／ｄｆ２が、空間周波数０．０１μｍ−１において０未満であり、空間周波数０．０２μｍ−１において０より大きいことを特徴とする。この結果、微細凹凸表面の標高から計算される一次元パワースペクトルの常用対数ｌｏｇＨ２（ｆ）を空間周波数ｆの関数として表したときのグラフが空間周波数０．０１μｍ−１において上に凸の形状を有し、空間周波数０．０２μｍ−１において下に凸の形状を有することとなり、防眩フィルムの表面凹凸形状は、低ヘイズ化した際に防眩効果に寄与する１００μｍ程度（空間周波数で０．０１μｍ−１に相当）の周期のうねりを効果的に有しつつ、５０μｍ付近（空間周波数で０．０２μｍ−１に相当）の周期のうねりを効果的に減少させたものとなる。 The antiglare film of the present invention has a second derivative d 2 logH 2 (f) / df 2 with respect to the spatial frequency f of the common logarithm log H 2 (f) of the one-dimensional power spectrum calculated from the elevation of the fine uneven surface, It is characterized by being less than 0 at a spatial frequency of 0.01 μm −1 and greater than 0 at a spatial frequency of 0.02 μm −1 . As a result, when the common logarithm logH 2 (f) of the one-dimensional power spectrum calculated from the altitude of the fine uneven surface is expressed as a function of the spatial frequency f, the graph is convex upward at the spatial frequency of 0.01 μm −1 . And having an upwardly convex shape at a spatial frequency of 0.02 μm −1 , and the uneven surface shape of the antiglare film is about 100 μm that contributes to the antiglare effect when the haze is reduced (0 at the spatial frequency). while having the waveform cycle equivalent) in .01Myuemu -1 effectively, and which effectively reduced the period of undulation in the vicinity of 50 [mu] m (corresponding to 0.02 [mu] m -1 at a spatial frequency).

（微細凹凸表面の傾斜角度）
また、本発明者らは、防眩フィルムにおいて、微細凹凸表面を構成する各微小面が特定の傾斜角度分布を示すようにすれば、優れた防眩性能を示しつつ、白ちゃけを効果的に防止するうえで一層有効であることを見出した。すなわち、本発明の防眩フィルムは、微細凹凸表面のうち、傾斜角度が５°以上である微小面の割合が１％未満であることが好ましい。微細凹凸表面のうち、傾斜角度が５°以上である微小面の割合が１％を上回ったりすると、凹凸表面の傾斜角度が急峻な微小面が多くなって、周囲からの光を集光し、表示面が全体的に白くなる白ちゃけが発生しやすくなる。このような集光効果を抑制し、白ちゃけを防止するためには、微細凹凸表面のうち、傾斜角度が５°以上である微小面の割合が小さければ小さいほどよく、０．５％未満であることが好ましく、０．１％未満であることがより好ましい。 (Inclination angle of fine uneven surface)
In addition, in the anti-glare film, the present inventors have shown that, if each minute surface constituting the fine uneven surface exhibits a specific inclination angle distribution, the anti-glare performance can be effectively achieved while exhibiting excellent anti-glare performance. It was found to be more effective in preventing the above. That is, in the antiglare film of the present invention, it is preferable that the proportion of minute surfaces having an inclination angle of 5 ° or more in the fine uneven surface is less than 1%. If the proportion of micro-surfaces with an inclination angle of 5 ° or more of the fine uneven surface exceeds 1%, the number of micro-surfaces with a steep inclination angle of the uneven surface increases, condensing light from the surroundings, It becomes easy to generate whitish that the display surface becomes white as a whole. In order to suppress such a condensing effect and prevent whitishness, the smaller the proportion of the micro-surfaces whose inclination angle is 5 ° or more among the fine uneven surfaces, the better, and less than 0.5% It is preferable that it is less than 0.1%.

ここで、本発明でいう「微細凹凸表面の微小面の傾斜角度」とは、図２に示す防眩フィルム１表面の任意の点Ｐにおいて、後述するような点Ｐを含む微小面の凹凸を加味した局所的な法線６とフィルムの主法線方向５とのなす角度θを意味する。微細凹凸表面の傾斜角度についても標高と同様に、共焦点顕微鏡、干渉顕微鏡、原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）などの装置により測定される表面形状の三次元情報から求めることができる。   Here, the “inclination angle of the minute surface on the surface of the fine unevenness” as used in the present invention means the unevenness of the minute surface including the point P as described later at an arbitrary point P on the surface of the antiglare film 1 shown in FIG. It means an angle θ between the local normal 6 added and the main normal direction 5 of the film. Similarly to the altitude, the inclination angle of the fine uneven surface can be obtained from three-dimensional information of the surface shape measured by an apparatus such as a confocal microscope, an interference microscope, an atomic force microscope (AFM).

図７は、微細凹凸表面の微小面の傾斜角度の測定方法を説明するための模式図である。具体的な傾斜角度の決定方法を説明すると、図７に示すように、点線で示される仮想的な平面ＦＧＨＩ上の着目点Ａを決定し、そこを通るｘ軸上の着目点Ａの近傍に、点Ａに対してほぼ対称に点ＢおよびＤを、また点Ａを通るｙ軸上の着目点Ａの近傍に、点Ａに対してほぼ対称に点ＣおよびＥをとり、これらの点Ｂ，Ｃ，Ｄ，Ｅに対応するフィルム面上の点Ｑ，Ｒ，Ｓ，Ｔを決定する。なお図７では、フィルム面内の直交座標を（ｘ，ｙ）で表示し、フィルム厚み方向の座標をｚで表示している。平面ＦＧＨＩは、ｙ軸上の点Ｃを通るｘ軸に平行な直線、および同じくｙ軸上の点Ｅを通るｘ軸に平行な直線と、ｘ軸上の点Ｂを通るｙ軸に平行な直線、および同じくｘ軸上の点Ｄを通るｙ軸に平行な直線とのそれぞれの交点Ｆ，Ｇ，Ｈ，Ｉによって形成される面である。また図７では、平面ＦＧＨＩに対して、実際のフィルム面の位置が上方にくるように描かれているが、着目点Ａのとる位置によって当然ながら、実際のフィルム面の位置が平面ＦＧＨＩの上方にくることもあるし、下方にくることもある。   FIG. 7 is a schematic diagram for explaining a method of measuring the inclination angle of the minute surface of the minute uneven surface. A specific method for determining the tilt angle will be described. As shown in FIG. 7, a point of interest A on a virtual plane FGHI indicated by a dotted line is determined, and the point of interest on the x-axis passing there passes in the vicinity. The points B and D are approximately symmetrical with respect to the point A, and the points C and E are approximately symmetrical with respect to the point A in the vicinity of the point of interest A on the y-axis passing through the point A. , C, D, and E, the points Q, R, S, and T on the film surface are determined. In FIG. 7, the orthogonal coordinates in the film plane are represented by (x, y), and the coordinates in the film thickness direction are represented by z. The plane FGHI is parallel to the x axis passing through the point C on the y axis and parallel to the x axis passing through the point E on the y axis and to the y axis passing through the point B on the x axis. It is a plane formed by the respective intersections F, G, H, and I with a straight line and a straight line passing through the point D on the x-axis and parallel to the y-axis. In FIG. 7, the position of the actual film surface is drawn above the plane FGHI. However, the position of the actual film surface is naturally above the plane FGHI depending on the position taken by the point of interest A. Sometimes it comes down, sometimes down.

そして、得られる表面形状データの傾斜角度は、着目点Ａに対応する実際のフィルム面上の点Ｐと、その近傍にとられた４点Ｂ，Ｃ，Ｄ，Ｅに対応する実際のフィルム面上の点Ｑ，Ｒ，Ｓ，Ｔの合計５点により張られるポリゴン４平面、すなわち、四つの三角形ＰＱＲ，ＰＲＳ，ＰＳＴ，ＰＴＱの各法線ベクトル６ａ，６ｂ，６ｃ，６ｄを平均して得られる局所的な法線（ベクトル）６の極角（図２において、フィルムの主法線方向５とのなす角度θ）を求めることにより、得ることができる。各測定点（微小面）について傾斜角度を求めた後、ヒストグラムが計算される。   The inclination angle of the obtained surface shape data is the actual film surface corresponding to the point P on the actual film surface corresponding to the point of interest A and the four points B, C, D, E taken in the vicinity thereof. Obtained by averaging four normal planes 6a, 6b, 6c, 6d of four polygons PQR, PRS, PST, PTQ spanned by a total of five points Q, R, S, T above. The polar angle of the local normal (vector) 6 to be obtained (in FIG. 2, the angle θ formed with the main normal direction 5 of the film) can be obtained. After obtaining the inclination angle for each measurement point (small surface), a histogram is calculated.

図８は、防眩フィルムの微細凹凸表面の微小面の傾斜角度分布のヒストグラムの一例を示すグラフである。図８に示すグラフにおいて、横軸は傾斜角度であって、０．５°刻みで分割してある。例えば、一番左の縦棒は、傾斜角度が０〜０．５°の範囲にある集合の分布を示し、以下、右へ行くにつれて角度が０．５°ずつ大きくなっている。図では、横軸の２目盛毎に値の上限値を表示しており、例えば、横軸で「１」とある部分は、傾斜角度が０．５〜１°の範囲にある微小面の集合の分布を示す。また、縦軸はその集合の全体に対する割合を表し、合計すれば１になる値である。この例では、傾斜角度が５°以上である微小面の割合は略０である。   FIG. 8 is a graph showing an example of a histogram of the inclination angle distribution of the minute surface of the minute uneven surface of the antiglare film. In the graph shown in FIG. 8, the horizontal axis is the inclination angle, and is divided in increments of 0.5 °. For example, the leftmost vertical bar shows the distribution of a set having an inclination angle in the range of 0 to 0.5 °, and the angle increases by 0.5 ° as going to the right. In the figure, the upper limit value is displayed for every two scales on the horizontal axis. For example, a portion with “1” on the horizontal axis is a set of minute surfaces whose inclination angle is in the range of 0.5 to 1 °. The distribution of. The vertical axis represents the ratio of the set to the whole, and is a value that becomes 1 when summed. In this example, the ratio of the minute surfaces whose inclination angle is 5 ° or more is substantially zero.

（微細凹凸表面の表面粗さパラメータ）
本発明の防眩フィルムの微細表面凹凸形状はＪＩＳ Ｂ ０６０１の規定に準拠した算術平均粗さＲａが０．０４μｍ以上０．１μｍ以下であることが好ましい。また、ＪＩＳ Ｂ ０６０１の規定に準拠した最大断面高さＲｔが０．３μｍ以上０．６μｍ以下であることが好ましい。また、ＪＩＳ Ｂ ０６０１の規定に準拠した平均長さＲＳｍが５０μｍ以上１３０μｍ以下であることが好ましい。 (Surface roughness parameter of fine uneven surface)
As for the fine surface unevenness | corrugation shape of the anti-glare film of this invention, it is preferable that arithmetic mean roughness Ra based on the prescription | regulation of JISB0601 is 0.04 micrometer or more and 0.1 micrometer or less. Moreover, it is preferable that the maximum cross-sectional height Rt based on JIS B 0601 is 0.3 μm or more and 0.6 μm or less. Moreover, it is preferable that average length RSm based on prescription | regulation of JISB0601 is 50 micrometers or more and 130 micrometers or less.

算術平均粗さＲａが０．０４μｍを下回る場合には、その凹凸形状を透明フィルムに転写して得られる防眩フィルムの防眩性が不十分となる可能性がある。一方、算術平均粗さＲａが０．１μｍを上回る場合には、その凹凸形状を透明フィルムに転写して得られる防眩フィルムに白ちゃけが発生する虞がある。   When the arithmetic average roughness Ra is less than 0.04 μm, the antiglare property of the antiglare film obtained by transferring the uneven shape to a transparent film may be insufficient. On the other hand, when the arithmetic average roughness Ra exceeds 0.1 μm, the antiglare film obtained by transferring the uneven shape to a transparent film may be whitened.

最大断面高さＲｔが０．３μｍを下回る場合には、その凹凸形状を透明フィルムに転写して得られる防眩フィルムの防眩性が不十分となる可能性がある。一方、最大断面高さＲｔが０．６μｍを上回る場合には、その凹凸形状を透明フィルムに転写して得られる防眩フィルムに白ちゃけが発生する虞があるし、表面凹凸形状の均一性が低下してギラツキが発生する可能性がある。   When the maximum cross-sectional height Rt is less than 0.3 μm, the anti-glare property of the anti-glare film obtained by transferring the uneven shape to a transparent film may be insufficient. On the other hand, when the maximum cross-sectional height Rt exceeds 0.6 μm, the antiglare film obtained by transferring the concavo-convex shape to a transparent film may be whitened, and the surface concavo-convex shape is uniform. It may decrease and cause glare.

また、平均長さＲＳｍが５０μｍを下回る場合には、その凹凸形状を透明フィルムに転写して得られる防眩フィルムの防眩性が不十分となる可能性がある。一方、平均長さＲｓｍが１３０μｍを上回る場合には、その凹凸形状を透明フィルムに転写して得られる防眩フィルムにギラツキが発生する虞がある。   Moreover, when average length RSm is less than 50 micrometers, the glare-proof property of the anti-glare film obtained by transferring the uneven | corrugated shape to a transparent film may become inadequate. On the other hand, when average length Rsm exceeds 130 micrometers, there exists a possibility that glare may generate | occur | produce in the glare-proof film obtained by transferring the uneven | corrugated shape to a transparent film.

＜防眩フィルムの製造方法＞
本発明の防眩フィルムは、所定のパターンに基づいた表面形状を金型基材の表面に形成する工程を含む方法で、防眩フィルム製造用金型を製造し、製造された金型の凹凸面の形状を透明樹脂フィルムに転写した後、金型の凹凸面の形状が転写された透明樹脂フィルムを金型から剥がすことを含む製造方法により、作製することができる。 <Method for producing antiglare film>
The anti-glare film of the present invention is a method including a step of forming a surface shape based on a predetermined pattern on the surface of a mold base, producing an anti-glare film production mold, and unevenness of the produced mold After the shape of the surface is transferred to the transparent resin film, it can be produced by a production method including peeling the transparent resin film having the shape of the uneven surface of the die transferred from the die.

上述のような特徴を有する防眩フィルムの微細凹凸表面を精度よく形成するために、上記所定のパターンの一次元パワースペクトルを空間周波数に対する強度として表したときのグラフが、空間周波数０．００７μｍ−１以上０．０１５μｍ−１以下において１つの極大値を有し、かつ、空間周波数０．０５μｍ−１以上０．１μｍ−１以下において１つの極大値を有することが好ましい。ここで、「パターン」とは、本発明の防眩フィルムの微細凹凸表面を形成するための画像データや透光部と遮光部を有するマスクなどを意味する。 In order to accurately form the fine uneven surface of the antiglare film having the above-described characteristics, a graph when the one-dimensional power spectrum of the predetermined pattern is expressed as an intensity with respect to the spatial frequency is a spatial frequency of 0.007 μm − has one maximum value in one or more 0.015 .mu.m -1 or less, and preferably has a single maximum value at a spatial frequency 0.05 .mu.m -1 or 0.1 [mu] m -1 or less. Here, the “pattern” means image data for forming the fine uneven surface of the antiglare film of the present invention, a mask having a light transmitting part and a light shielding part, and the like.

また、本発明の防眩フィルム製造用金型の製造方法に用いるパターンの空間周波数０．００７μｍ−１以上０．０１５μｍ−１以下の第一の極大値の強度は、空間周波数０．０５μｍ−１以上０．１μｍ−１以下の第二の極大値における強度より小さいことが好ましい。第一の極大値の強度が第二の極大値より大きい場合にはギラツキが強くなる傾向があるため好ましくない。 The intensity of the antiglare film is used to manufacture a mold manufacturing method of the pattern spatial frequencies 0.007 -1 or more 0.015 .mu.m -1 following the first maxima of the present invention, the spatial frequency 0.05 .mu.m -1 It is preferably smaller than the strength at the second maximum value of 0.1 μm −1 or less. If the intensity of the first maximum value is greater than the second maximum value, the glare tends to increase, which is not preferable.

パターンの二次元パワースペクトルは、たとえばパターンが画像データである場合、画像データを２階調の二値化画像データに変換した後、画像データの階調を二次元関数ｇ（ｘ，ｙ）で表し、得られた二次元関数ｇ（ｘ，ｙ）をフーリエ変換して二次元関数Ｇ（ｆｘ，ｆｙ）を計算し、得られた二次元関数Ｇ（ｆｘ，ｆｙ）を二乗することによって求められる。ここで、ｘおよびｙは画像データ面内の直交座標を表し、ｆｘおよびｆｙはｘ方向の周波数およびｙ方向の周波数を表している。 For example, when the pattern is image data, the two-dimensional power spectrum of the pattern is obtained by converting the image data into two-level binary image data, and then converting the gradation of the image data by a two-dimensional function g (x, y). represents, resulting two-dimensional function g (x, y) to Fourier transform two-dimensional function G (f x, f y) to calculate the resulting two-dimensional function G (f x, f y) square It is required by doing. Here, x and y represent orthogonal coordinates of the image data plane, f x and f y represent the frequency of the frequency and the y direction of the x-direction.

防眩層の微細凹凸表面の標高の二次元パワースペクトルを求める場合と同様に、パターンの二次元パワースペクトルを求める場合についても、階調の二次元関数ｇ（ｘ，ｙ）は離散関数として得られる場合が一般的である。その場合は、微細凹凸表面の標高の二次元パワースペクトルを求める場合と同様に、離散フーリエ変換によって、二次元パワースペクトルを計算すれば良い。パターンの一次元パワースペクトルは、パターンの二次元パワースペクトルから、微細凹凸表面の標高の一次元パワースペクトルと同様にして求められる。   Similarly to the case of obtaining the two-dimensional power spectrum of the altitude of the fine uneven surface of the antiglare layer, the two-dimensional function g (x, y) of the gradation is obtained as a discrete function when obtaining the two-dimensional power spectrum of the pattern. It is common to be done. In that case, the two-dimensional power spectrum may be calculated by discrete Fourier transform, similarly to the case of obtaining the two-dimensional power spectrum of the elevation of the fine uneven surface. The one-dimensional power spectrum of the pattern is obtained from the two-dimensional power spectrum of the pattern in the same manner as the one-dimensional power spectrum of the elevation of the fine uneven surface.

図９は、本発明の防眩フィルムを作製するために用いたパターンである画像データの一部を表わした図である。図９に示したパターンである画像データは３３ｍｍ×３３ｍｍの大きさで、１２８００ｄｐｉで作成した。   FIG. 9 is a diagram showing a part of image data which is a pattern used for producing the antiglare film of the present invention. The image data which is the pattern shown in FIG. 9 has a size of 33 mm × 33 mm and was created at 12800 dpi.

図１０は、図９に示した階調の二次元離散関数ｇ（ｘ，ｙ）を離散フーリエ変換して得られた二次元パワースペクトルＧ２（ｆｘ，ｆｙ）を微細凹凸表面の標高の一次元パワースペクトルと同様に原点からの距離ｆの関数として表した図である。これより図９に示したパターンは空間周波数０．００７μｍ−１以上０．０１５μｍ−１以下に第一の極大値を有し、空間周波数０．０５μｍ−１以上０．１μｍ−１以下に第二の極大値を有することが分かる。 FIG. 10 shows the two-dimensional power spectrum G 2 (f x , f y ) obtained by discrete Fourier transform of the two-dimensional discrete function g (x, y) having the gradation shown in FIG. It is the figure represented as a function of the distance f from the origin similarly to the one-dimensional power spectrum. From this pattern shown in FIG 9 has a first maximum value below the spatial frequency 0.007 -1 or 0.015 .mu.m -1, the second to the spatial frequency 0.05 .mu.m -1 or 0.1 [mu] m -1 or less It can be seen that it has a maximum value of.

防眩フィルム（防眩層）を作製するためのパターンの一次元パワースペクトルが空間周波数０．００７μｍ−１以上０．０１５μｍ−１以下に第一の極大値を有し、空間周波数０．０５μｍ−１以上０．１μｍ−１以下に第二の極大値を有することによって、微細凹凸表面の標高の一次元パワースペクトルの常用対数を空間周波数に対する強度として表した時のグラフが空間周波数０．０１μｍ−１において上に凸の形状を有し、空間周波数０．０２μｍ−１において下に凸の形状を有する防眩フィルムが得られる。 Antiglare film-dimensional power spectrum of the pattern for producing a (antiglare layer) has a first maximum value below the spatial frequency 0.007 -1 or 0.015 .mu.m -1, spatial frequency 0.05 .mu.m - By having the second maximum value in the range of 1 to 0.1 μm −1 and below, the graph when the common logarithm of the one-dimensional power spectrum of the elevation of the fine uneven surface is expressed as the intensity with respect to the spatial frequency is a spatial frequency of 0.01 μm − has a convex shape on the 1, an antiglare film is obtained having a shape protruding downward in the spatial frequency 0.02 [mu] m -1.

一次元パワースペクトルが空間周波数０．００７μｍ−１以上０．０１５μｍ−１以下に第一の極大値を有し、空間周波数０．０５μｍ−１以上０．１μｍ−１以下に第二の極大値を有するパターンを作成するためには、ドットをランダムに配置して作成したパターンや乱数もしくは計算機によって生成された疑似乱数により濃淡を決定したランダムな明度分布を有するパターンから、特定の空間周波数範囲の成分を除去するバンドパスフィルターを通過させればよい。 A one-dimensional power spectrum of the first maximum value below the spatial frequency 0.007 -1 or 0.015 .mu.m -1, a second maximum at a spatial frequency 0.05 .mu.m -1 or 0.1 [mu] m -1 or less In order to create a pattern that has a specific spatial frequency range component from a pattern that is created by randomly arranging dots or a pattern that has a random brightness distribution that is determined by random numbers or pseudo-random numbers generated by a computer What is necessary is just to pass the band pass filter which removes.

本発明の防眩フィルムにおいては、上述したように防眩層の微細凹凸表面の空間周波数分布を適切に形成することが好ましい。そこで、本発明の防眩フィルムは、上述したパターンを用いて微細凹凸表面を有する金型を製造し、製造された金型の凹凸面を透明支持体上の光硬化性樹脂層等に転写し、次いで凹凸面が転写された防眩層と透明支持体とを金型から剥がすエンボス法によって製造されることが好ましい。   In the antiglare film of the present invention, it is preferable to appropriately form the spatial frequency distribution of the fine uneven surface of the antiglare layer as described above. Therefore, the antiglare film of the present invention produces a mold having a fine uneven surface using the pattern described above, and transfers the uneven surface of the manufactured mold to a photocurable resin layer or the like on a transparent support. Then, it is preferably produced by an embossing method in which the antiglare layer to which the uneven surface is transferred and the transparent support are peeled off from the mold.

ここで、エンボス法としては、光硬化性樹脂を用いるＵＶエンボス法、熱可塑性樹脂を用いるホットエンボス法が例示され、中でも、生産性の観点から、ＵＶエンボス法が好ましい。   Here, examples of the embossing method include a UV embossing method using a photocurable resin and a hot embossing method using a thermoplastic resin. Among these, the UV embossing method is preferable from the viewpoint of productivity.

ＵＶエンボス法は、透明支持体の表面に光硬化性樹脂層を形成し、その光硬化性樹脂層を金型の凹凸面に押し付けながら硬化させることで、金型の凹凸面が光硬化性樹脂層に転写される方法である。具体的には、透明支持体上に紫外線硬化型樹脂を塗工し、塗工した紫外線硬化型樹脂を金型の凹凸面に密着させた状態で透明支持体側から紫外線を照射して紫外線硬化型樹脂を硬化させ、その後金型から、硬化後の紫外線硬化型樹脂層が形成された透明支持体を剥離することにより、金型の形状を紫外線硬化型樹脂に転写する。   The UV embossing method forms a photocurable resin layer on the surface of a transparent support, and cures the photocurable resin layer while pressing the photocurable resin layer against the uneven surface of the mold. It is a method of transferring to a layer. Specifically, an ultraviolet curable resin is coated on a transparent support, and the ultraviolet curable resin is irradiated with ultraviolet rays from the transparent support side in a state where the coated ultraviolet curable resin is in close contact with the uneven surface of the mold. The shape of the mold is transferred to the ultraviolet curable resin by curing the resin and then peeling the transparent support on which the cured ultraviolet curable resin layer is formed from the mold.

ＵＶエンボス法を用いる場合、透明支持体は、実質的に光学的に透明なフィルムであればよく、たとえばトリアセチルセルロースフィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリメチルメタクリレートフィルム、ポリカーボネートフィルム、ノルボルネン系化合物をモノマーとする非晶性環状ポリオレフィンなどの熱可塑性樹脂の溶剤キャストフィルムや押出フィルムなどの樹脂フィルムが挙げられる。   When the UV embossing method is used, the transparent support may be a substantially optically transparent film. For example, a triacetyl cellulose film, a polyethylene terephthalate film, a polymethyl methacrylate film, a polycarbonate film, and a norbornene compound are used as monomers. Examples thereof include a solvent cast film of thermoplastic resin such as amorphous cyclic polyolefin and a resin film such as extruded film.

また、ＵＶエンボス法を用いる場合における紫外線硬化型樹脂の種類は特に限定されないが、市販の適宜のものを用いることができる。また、紫外線硬化型樹脂に適宜選択された光開始剤を組み合わせて、紫外線より波長の長い可視光でも硬化が可能な樹脂を用いることも可能である。具体的には、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレートなどの多官能アクリレートをそれぞれ単独で、あるいはそれら２種以上を混合して用い、それと、イルガキュアー９０７、イルガキュアー１８４、ルシリンＴＰＯ（以上、いずれもＢＡＳＦ社製）などの光重合開始剤とを混合したものを好適に用いることができる。   Further, the type of the ultraviolet curable resin in the case of using the UV embossing method is not particularly limited, but a commercially available appropriate one can be used. It is also possible to use a resin that can be cured by visible light having a wavelength longer than that of ultraviolet rays by combining an ultraviolet curable resin with an appropriately selected photoinitiator. Specifically, polyfunctional acrylates such as trimethylolpropane triacrylate and pentaerythritol tetraacrylate are used singly or as a mixture of two or more thereof, Irgacure 907, Irgacure 184, Lucillin TPO (above , All of which are mixed with a photopolymerization initiator such as BASF).

一方、ホットエンボス法は、熱可塑性樹脂で形成された透明支持体を加熱状態で金型に押し付け、金型の表面形状を透明支持体に転写する方法である。ホットエンボス法に用いる透明支持体としては、実質的に透明なものであればいかなるものであってもよく、たとえば、ポリメチルメタクリレート、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート、トリアセチルセルロース、ノルボルネン系化合物をモノマーとする非晶性環状ポリオレフィンなどの熱可塑性樹脂の溶剤キャストフィルムや押出フィルムなどを用いることができる。これらの透明樹脂フィルムはまた、上で説明したＵＶエンボス法における紫外線硬化型樹脂を塗工するための透明支持体としても好適に用いることができる。   On the other hand, the hot embossing method is a method in which a transparent support formed of a thermoplastic resin is pressed against a mold in a heated state, and the surface shape of the mold is transferred to the transparent support. The transparent support used in the hot embossing method may be any material as long as it is substantially transparent. For example, polymethyl methacrylate, polycarbonate, polyethylene terephthalate, triacetyl cellulose, norbornene compounds are used as monomers. A solvent cast film or an extruded film of a thermoplastic resin such as amorphous cyclic polyolefin can be used. These transparent resin films can also be suitably used as a transparent support for coating the ultraviolet curable resin in the UV embossing method described above.

＜防眩フィルム製造用の金型の製造方法＞
以下では、本発明の防眩フィルムの製造に用いる金型を製造する方法について説明する。本発明の防眩フィルムの製造に用いる金型の製造方法については、上述したパターンを用いた所定の表面形状が得られる方法であれば、特に制限されないが、微細凹凸表面を精度よく、かつ、再現性よく製造するために、〔１〕第１めっき工程と、〔２〕研磨工程と、〔３〕感光性樹脂膜形成工程と、〔４〕露光工程と、〔５〕現像工程と、〔６〕第１エッチング工程と、〔７〕感光性樹脂膜剥離工程と、〔８〕第２エッチング工程と、〔９〕第２めっき工程とを基本的に含むことが好ましい。 <Method for producing mold for producing antiglare film>
Below, the method to manufacture the metal mold | die used for manufacture of the anti-glare film of this invention is demonstrated. The method for producing a mold used for producing the antiglare film of the present invention is not particularly limited as long as it is a method capable of obtaining a predetermined surface shape using the above-described pattern, and the fine uneven surface is accurately and In order to manufacture with good reproducibility, [1] first plating step, [2] polishing step, [3] photosensitive resin film forming step, [4] exposure step, [5] development step, [ 6) It is preferable to basically include a first etching step, [7] a photosensitive resin film peeling step, [8] a second etching step, and [9] a second plating step.

図１１は、本発明の防眩フィルムの製造に用いる金型の製造方法の前半部分の好ましい一例を模式的に示す図である。図１１には各工程での金型の断面を模式的に示している。以下、図１１を参照しながら、本発明の防眩フィルムの製造に用いる金型の製造方法の各工程について詳細に説明する。   FIG. 11: is a figure which shows typically a preferable example of the first half part of the manufacturing method of the metal mold | die used for manufacture of the anti-glare film of this invention. FIG. 11 schematically shows a cross section of the mold in each step. Hereafter, each process of the manufacturing method of the metal mold | die used for manufacture of the anti-glare film of this invention is demonstrated in detail, referring FIG.

〔１〕第１めっき工程
本発明の防眩フィルムの製造に用いる金型の製造方法では、まず、金型に用いる基材の表面に、銅めっきを施す。このように、金型用基材の表面に銅めっきを施すことにより、後の第２めっき工程におけるクロムめっきの密着性や光沢性を向上させることができる。これは、銅めっきは、被覆性が高く、また平滑化作用が強いことから、金型用基材の微小な凹凸や鬆などを埋めて平坦で光沢のある表面を形成するためである。これらの銅めっきの特性によって、後述する第２めっき工程においてクロムめっきを施したとしても、基材に存在していた微小な凹凸や鬆に起因すると思われるクロムめっき表面の荒れが解消され、また、銅めっきの被覆性の高さから、細かいクラックの発生が低減される。 [1] First Plating Step In the method for producing a mold used for producing the antiglare film of the present invention, first, copper plating is applied to the surface of a substrate used for the mold. Thus, by performing copper plating on the surface of the mold base, it is possible to improve the adhesion and gloss of chrome plating in the subsequent second plating step. This is because copper plating has a high covering property and a strong smoothing action, and therefore fills minute irregularities and voids of the mold base to form a flat and glossy surface. Due to these copper plating characteristics, even if chromium plating is applied in the second plating step described later, the roughness of the chromium plating surface that seems to be caused by minute irregularities and voids existing on the substrate is eliminated, The occurrence of fine cracks is reduced due to the high coverage of copper plating.

第１めっき工程において用いられる銅は、銅の純金属であることができるほか、銅を主体とする合金であってもよく、したがって、本明細書でいう「銅」は、銅および銅合金を含む意味である。銅めっきは、電解めっきで行っても無電解めっきで行ってもよいが、通常は電解めっきが採用される。   The copper used in the first plating step may be a pure copper metal or may be an alloy mainly composed of copper. Therefore, “copper” in this specification refers to copper and a copper alloy. Including meaning. Copper plating may be performed by electrolytic plating or electroless plating, but electrolytic plating is usually employed.

銅めっきを施す際には、めっき層が余り薄いと、下地表面の影響が排除しきれないことから、その厚みは５０μｍ以上であるのが好ましい。めっき層厚みの上限は臨界的でないが、コストなどとのからみから、一般的には５００μｍ程度までで十分である。   When copper plating is performed, if the plating layer is too thin, the influence of the underlying surface cannot be completely eliminated, so that the thickness is preferably 50 μm or more. Although the upper limit of the plating layer thickness is not critical, generally about 500 μm is sufficient from the viewpoint of cost and the like.

なお、本発明の金型の製造方法において、基材の形成に好適に用いられる金属材料としては、コストの観点からアルミニウム、鉄などが挙げられる。さらに取扱いの利便性から、軽量なアルミニウムがより好ましい。ここでいうアルミニウムや鉄も、それぞれ純金属であることができるほか、アルミニウムまたは鉄を主体とする合金であってもよい。   In the metal mold manufacturing method of the present invention, examples of the metal material suitably used for forming the base material include aluminum and iron from the viewpoint of cost. Furthermore, lightweight aluminum is more preferable from the convenience of handling. The aluminum and iron here may be pure metals, respectively, or may be an alloy mainly composed of aluminum or iron.

また、基材の形状は、当分野において従来より採用されている適宜の形状であれば特に制限されず、平板状であってもよいし、円柱状または円筒状のロールであってもよい。ロール状の基材を用いて金型を作製すれば、防眩フィルムを連続的なロール状で製造することができるという利点がある。   The shape of the substrate is not particularly limited as long as it is an appropriate shape that has been conventionally employed in this field, and may be a flat plate shape, or a columnar or cylindrical roll. If a mold is produced using a roll-shaped substrate, there is an advantage that the antiglare film can be produced in a continuous roll shape.

〔２〕研磨工程
続く研磨工程では、上述した第１めっき工程にて銅めっきが施された基材表面を研磨する。本発明の金型の製造方法では、当該工程を経て、基材表面を、鏡面に近い状態に研磨することが好ましい。これは、基材となる金属板や金属ロールは、所望の精度にするために、切削や研削などの機械加工が施されていることが多く、それにより基材表面に加工目が残っており、銅めっきが施された状態でも、それらの加工目が残ることがあるし、また、めっきした状態で、表面が完全に平滑になるとは限らないためである。すなわち、このような深い加工目などが残った表面に後述する工程を施したとしても、各工程を施した後に形成される凹凸よりも加工目などの凹凸の方が深いことがあり、加工目などの影響が残る可能性があり、そのような金型を用いて防眩フィルムを製造した場合には、光学特性に予期できない影響を及ぼすことがある。図１１（ａ）には、平板状の金型用基材７が、第１めっき工程において銅めっきをその表面に施され（当該工程で形成した銅めっきの層については図示せず）、さらに研磨工程によって鏡面研磨された表面８を有するようにされた状態を模式的に示している。 [2] Polishing Step In the subsequent polishing step, the surface of the substrate that has been subjected to copper plating in the first plating step described above is polished. In the mold manufacturing method of the present invention, it is preferable that the substrate surface is polished in a state close to a mirror surface through this step. This is because metal plates and metal rolls that serve as base materials are often subjected to machining such as cutting and grinding in order to achieve the desired accuracy, and as a result, machine marks remain on the base material surface. This is because even if the copper plating is applied, those processed eyes may remain, and the surface is not always completely smooth in the plated state. That is, even if a process described later is performed on the surface where such deep processed marks remain, unevenness such as processed marks may be deeper than the unevenness formed after each process is performed. Such effects may remain, and when an antiglare film is produced using such a mold, the optical characteristics may be unexpectedly affected. In FIG. 11 (a), a plate-shaped mold substrate 7 is subjected to copper plating on its surface in the first plating step (the copper plating layer formed in this step is not shown), and The state which was made to have the surface 8 mirror-polished by the grinding | polishing process is shown typically.

銅めっきが施された基材表面を研磨する方法については特に制限されるものではなく、機械研磨法、電解研磨法、化学研磨法のいずれも使用できる。機械研磨法としては、超仕上げ法、ラッピング、流体研磨法、バフ研磨法などが例示される。また、研磨工程においては、切削工具を用いて鏡面切削することにより、金型用基材７の表面８を鏡面としてもよい。その際の切削工具の材質や形状などは特に制限されるものではなく、超硬バイト、ＣＢＮバイト、セラミックバイト、ダイヤモンドバイトなどを使用することができるが、加工精度の観点からダイヤモンドバイトを用いることが好ましい。研磨後の表面粗度は、ＪＩＳ Ｂ ０６０１の規定に準拠した中心線平均粗さＲａが０．１μｍ以下であることが好ましく、０．０５μｍ以下であることがより好ましい。研磨後の中心線平均粗さＲａが０．１μｍより大きいと、最終的な金型表面の凹凸形状に研磨後の表面粗度の影響が残る可能性があるので好ましくない。また、中心線平均粗さＲａの下限については特に制限されず、加工時間や加工コストの観点から、おのずと限界があるので、特に指定する必要性はない。   The method for polishing the surface of the substrate on which the copper plating is applied is not particularly limited, and any of a mechanical polishing method, an electrolytic polishing method, and a chemical polishing method can be used. Examples of the mechanical polishing method include super finishing, lapping, fluid polishing, and buff polishing. Further, in the polishing step, the surface 8 of the mold base 7 may be made into a mirror surface by mirror-cutting using a cutting tool. The material and shape of the cutting tool at that time are not particularly limited, and carbide tools, CBN tools, ceramic tools, diamond tools, etc. can be used, but diamond tools should be used from the viewpoint of processing accuracy. Is preferred. As for the surface roughness after polishing, the center line average roughness Ra in accordance with the provisions of JIS B 0601 is preferably 0.1 μm or less, and more preferably 0.05 μm or less. If the center line average roughness Ra after polishing is greater than 0.1 μm, the final unevenness of the mold surface may be affected by the surface roughness after polishing, which is not preferable. In addition, the lower limit of the center line average roughness Ra is not particularly limited, and there is no limit in particular because there is a natural limit from the viewpoint of processing time and processing cost.

〔３〕感光性樹脂膜形成工程
続く感光性樹脂膜形成工程では、上述した研磨工程によって鏡面研磨を施した基材７の表面８に、感光性樹脂を溶媒に溶解した溶液として塗布し、加熱・乾燥することにより、感光性樹脂膜を形成する。図１１（ｂ）には、基材７の表面８に感光性樹脂膜９が形成された状態を模式的に示している。 [3] Photosensitive resin film forming step In the subsequent photosensitive resin film forming step, the photosensitive resin is applied as a solution in which the photosensitive resin is dissolved in a solvent to the surface 8 of the substrate 7 which has been mirror-polished by the above-described polishing step, and heated. -A photosensitive resin film is formed by drying. FIG. 11B schematically shows a state in which the photosensitive resin film 9 is formed on the surface 8 of the base material 7.

感光性樹脂としては従来公知の感光性樹脂を用いることができる。たとえば、感光部分が硬化する性質をもったネガ型の感光性樹脂としては分子中にアクリル基またはメタアクリル基を有するアクリル酸エステルの単量体やプレポリマー、ビスアジドとジエンゴムとの混合物、ポリビニルシンナマート系化合物などを用いることができる。また、現像により感光部分が溶出し、未感光部分だけが残る性質をもったポジ型の感光性樹脂としてはフェノール樹脂系やノボラック樹脂系などを用いることができる。また、感光性樹脂には、必要に応じて、増感剤、現像促進剤、密着性改質剤、塗布性改良剤などの各種添加剤を配合してもよい。   A conventionally known photosensitive resin can be used as the photosensitive resin. For example, a negative photosensitive resin having a property of curing the photosensitive part includes an acrylic ester monomer or prepolymer having an acrylic group or a methacrylic group in the molecule, a mixture of bisazide and diene rubber, polyvinyl thinner. Mart compounds and the like can be used. In addition, as a positive photosensitive resin having a property that a photosensitive portion is eluted by development and only an unexposed portion remains, a phenol resin type or a novolac resin type can be used. Moreover, you may mix | blend various additives, such as a sensitizer, a development accelerator, an adhesiveness modifier, and a coating property improving agent, with a photosensitive resin as needed.

これらの感光性樹脂を基材７の表面８に塗布する際には、良好な塗膜を形成するために、適当な溶媒に希釈して塗布することが好ましく、セロソルブ系溶媒、プロピレングリコール系溶媒、エステル系溶媒、アルコール系溶媒、ケトン系溶媒、高極性溶媒などを使用することができる。   When these photosensitive resins are applied to the surface 8 of the substrate 7, in order to form a good coating film, it is preferable to dilute and apply in an appropriate solvent. Cellosolve solvents, propylene glycol solvents An ester solvent, an alcohol solvent, a ketone solvent, a highly polar solvent, or the like can be used.

感光性樹脂溶液を塗布する方法としては、メニスカスコート、ファウンティンコート、ディップコート、回転塗布、ロール塗布、ワイヤーバー塗布、エアーナイフ塗布、ブレード塗布、カーテン塗布、リングコートなどの公知の方法を用いることができる。塗布膜の厚さは乾燥後で１〜１０μｍの範囲とすることが好ましい。   As a method for applying the photosensitive resin solution, known methods such as meniscus coating, fountain coating, dip coating, spin coating, roll coating, wire bar coating, air knife coating, blade coating, curtain coating, ring coating, etc. are used. be able to. The thickness of the coating film is preferably in the range of 1 to 10 μm after drying.

〔４〕露光工程
続く露光工程では、上記した一次元パワースペクトルを空間周波数に対する強度として表したときのグラフが、空間周波数０．００７μｍ−１以上０．０１５μｍ−１以下において１つの極大値を有し、かつ、空間周波数０．０５μｍ−１以上０．１μｍ−１以下において１つの極大値を有するパターンを、上述した感光性樹脂膜形成工程で形成された感光性樹脂膜９上に露光する。露光工程に用いる光源は塗布された感光性樹脂の感光波長や感度等に合わせて適宜選択すればよく、たとえば、高圧水銀灯のｇ線（波長：４３６ｎｍ）、高圧水銀灯のｈ線（波長：４０５ｎｍ）、高圧水銀灯のｉ線（波長：３６５ｎｍ）、半導体レーザ（波長：８３０ｎｍ、５３２ｎｍ、４８８ｎｍ、４０５ｎｍなど）、ＹＡＧレーザ（波長：１０６４ｎｍ）、ＫｒＦエキシマーレーザ（波長：２４８ｎｍ）、ＡｒＦエキシマーレーザ（波長：１９３ｎｍ）、Ｆ２エキシマーレーザ（波長：１５７ｎｍ）等を用いることができる。 [4] In the exposure step subsequent exposure step, chromatic graph in representing the one-dimensional power spectrum above as strength against spatial frequency, one maximum in the spatial frequency 0.007 -1 or 0.015 .mu.m -1 or less In addition, a pattern having one maximum value at a spatial frequency of 0.05 μm −1 or more and 0.1 μm −1 or less is exposed on the photosensitive resin film 9 formed in the above-described photosensitive resin film forming step. The light source used in the exposure process may be appropriately selected according to the photosensitive wavelength, sensitivity, etc. of the coated photosensitive resin. For example, g line (wavelength: 436 nm) of a high pressure mercury lamp, h line (wavelength: 405 nm) of a high pressure mercury lamp. , High pressure mercury lamp i-line (wavelength: 365 nm), semiconductor laser (wavelength: 830 nm, 532 nm, 488 nm, 405 nm, etc.), YAG laser (wavelength: 1064 nm), KrF excimer laser (wavelength: 248 nm), ArF excimer laser (wavelength: 193 nm), F 2 excimer laser (wavelength: 157 nm), or the like.

本発明の金型の製造方法において表面凹凸形状を精度良く形成するためには、露光工程において、上述したパターンを感光性樹脂膜上に精密に制御された状態で露光することが好ましい。本発明の金型の製造方法においては、上述したパターンを感光性樹脂膜上に精度良く露光するために、コンピュータ上でパターンを画像データとして作成し、その画像データに基づいたパターンを、コンピュータ制御されたレーザヘッドから発するレーザ光によって描画することが好ましい。レーザ描画を行うに際しては印刷版作成用のレーザ描画装置を使用することができる。このようなレーザ描画装置としては、たとえばＬａｓｅｒ Ｓｔｒｅａｍ ＦＸ（（株）シンク・ラボラトリー製）などが挙げられる。   In order to form the surface uneven shape with high accuracy in the mold manufacturing method of the present invention, it is preferable to expose the above-described pattern on the photosensitive resin film in a precisely controlled manner in the exposure step. In the mold manufacturing method of the present invention, in order to accurately expose the above-described pattern on the photosensitive resin film, the pattern is created as image data on the computer, and the pattern based on the image data is controlled by the computer. It is preferable to draw with a laser beam emitted from the laser head. When performing laser drawing, a laser drawing apparatus for making a printing plate can be used. An example of such a laser drawing apparatus is Laser Stream FX (manufactured by Sink Laboratories).

図１１（ｃ）には、感光性樹脂膜９にパターンが露光された状態を模式的に示している。感光性樹脂膜をネガ型の感光性樹脂で形成した場合には、露光された領域１０は露光によって樹脂の架橋反応が進行し、後述する現像液に対する溶解性が低下する。そのため、現像工程において露光されていない領域１１が現像液によって溶解され、露光された領域１０のみ基材表面上に残りマスクとなる。一方、感光性樹脂膜をポジ型の感光性樹脂で形成した場合には、露光された領域１０は露光によって樹脂の結合が切断され、後述する現像液に対する溶解性が増加する。そのため、現像工程において露光された領域１０が現像液によって溶解され、露光されていない領域１１のみ基材表面上に残りマスクとなる。   FIG. 11C schematically shows a state where the pattern is exposed to the photosensitive resin film 9. When the photosensitive resin film is formed of a negative photosensitive resin, the exposed region 10 undergoes a crosslinking reaction of the resin by exposure, and the solubility in a developing solution described later decreases. Therefore, the unexposed area 11 in the development process is dissolved by the developer, and only the exposed area 10 remains on the substrate surface as a mask. On the other hand, in the case where the photosensitive resin film is formed of a positive photosensitive resin, the exposed region 10 is cut by bonding of the resin by exposure, and the solubility in a developer described later increases. Therefore, the area 10 exposed in the developing process is dissolved by the developer, and only the unexposed area 11 becomes a remaining mask on the substrate surface.

〔５〕現像工程
続く現像工程においては、感光性樹脂膜９にネガ型の感光性樹脂を用いた場合には、露光されていない領域１１は現像液によって溶解され、露光された領域１０のみ金型用基材上に残存し、続く第１エッチング工程においてマスクとして作用する。一方、感光性樹脂膜９にポジ型の感光性樹脂を用いた場合には、露光された領域１０のみ現像液によって溶解され、露光されていない領域１１が金型用基材上に残存して、続く第１エッチング工程におけるマスクとして作用する。 [5] Development Step In the subsequent development step, when a negative photosensitive resin is used for the photosensitive resin film 9, the unexposed region 11 is dissolved by the developer, and only the exposed region 10 is gold. It remains on the mold substrate and acts as a mask in the subsequent first etching step. On the other hand, when a positive photosensitive resin is used for the photosensitive resin film 9, only the exposed region 10 is dissolved by the developer, and the unexposed region 11 remains on the mold substrate. It acts as a mask in the subsequent first etching step.

現像工程に用いる現像液については従来公知のものを使用することができる。たとえば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、ケイ酸ナトリウム、メタケイ酸ナトリウム、アンモニア水などの無機アルカリ類、エチルアミン、ｎ−プロピルアミンなどの第一アミン類、ジエチルアミン、ジ−ｎ−ブチルアミンなどの第二アミン類、トリエチルアミン、メチルジエチルアミンなどの第三アミン類、ジメチルエタノールアミン、トリエタノールアミンなどのアルコールアミン類、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、トリメチルヒドロキシエチルアンモニウムヒドロキシドなどの第四級アンモニウム塩、ピロール、ピヘリジンなどの環状アミン類などのアルカリ性水溶液、キシレン、トルエンなどの有機溶剤などを挙げることができる。   A conventionally well-known thing can be used about the developing solution used for a image development process. For example, inorganic alkalis such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium carbonate, sodium silicate, sodium metasilicate, aqueous ammonia, primary amines such as ethylamine and n-propylamine, diethylamine, di-n-butylamine, etc. Secondary amines, tertiary amines such as triethylamine and methyldiethylamine, alcohol amines such as dimethylethanolamine and triethanolamine, secondary amines such as tetramethylammonium hydroxide, tetraethylammonium hydroxide and trimethylhydroxyethylammonium hydroxide Examples include alkaline aqueous solutions such as quaternary ammonium salts, cyclic amines such as pyrrole and pihelidine, and organic solvents such as xylene and toluene.

現像工程における現像方法については特に制限されず、浸漬現像、スプレー現像、ブラシ現像、超音波現像などの方法を用いることができる。   The development method in the development step is not particularly limited, and methods such as immersion development, spray development, brush development, and ultrasonic development can be used.

図１１（ｄ）には、感光性樹脂膜９にネガ型の感光性樹脂を用いて、現像処理を行った状態を模式的に示している。図１１（ｃ）において、露光されていない領域１１が現像液によって溶解され、露光された領域１０のみ基材表面上に残りマスク１２となる。図１１（ｅ）には、感光性樹脂膜９にポジ型の感光性樹脂を用いて、現像処理を行った状態を模式的に示している。図１１（ｃ）において、露光された領域１０が現像液によって溶解され、露光されていない領域１１のみ基材表面上に残りマスク１２となる。   FIG. 11D schematically shows a state where development processing is performed using a negative photosensitive resin for the photosensitive resin film 9. In FIG. 11C, the unexposed area 11 is dissolved by the developer, and only the exposed area 10 becomes the remaining mask 12 on the substrate surface. FIG. 11E schematically shows a state where development processing is performed using a positive photosensitive resin for the photosensitive resin film 9. In FIG. 11C, the exposed region 10 is dissolved by the developer, and only the unexposed region 11 becomes the remaining mask 12 on the substrate surface.

〔６〕第１エッチング工程
続く第１エッチング工程では、上述した現像工程後に金型用基材表面上に残存した感光性樹脂膜をマスクとして用いて、主にマスクの無い箇所の金型用基材のめっきが施された表面をエッチングする。 [6] First Etching Step In the subsequent first etching step, the mold base is mainly used in a portion where there is no mask, using the photosensitive resin film remaining on the mold base surface after the development step as a mask. Etch the plated surface of the material.

図１２は、本発明の金型の製造方法の後半部分の好ましい一例を模式的に示す図である。図１２（ａ）には第１エッチング工程によって、主にマスクの無い領域１３の金型用基材７がエッチングされる状態を模式的に示している。マスク１２の下部の金型用基材７は金型用基材表面からはエッチングされないが、エッチングの進行とともにマスクの無い領域１３からのエッチングが進行する。よって、マスク１２とマスクの無い領域１３の境界付近では、マスク１２の下部の金型用基材７もエッチングされる。このようなマスク１２とマスクの無い領域１３の境界付近において、マスク１２の下部の金型用基材７もエッチングされることを、以下ではサイドエッチングと呼ぶ。   FIG. 12 is a view schematically showing a preferred example of the latter half of the mold manufacturing method of the present invention. FIG. 12A schematically shows a state in which the mold base 7 in the region 13 without the mask is mainly etched by the first etching step. The mold base 7 below the mask 12 is not etched from the mold base surface, but the etching from the region 13 without the mask proceeds with the progress of etching. Therefore, in the vicinity of the boundary between the mask 12 and the region 13 without the mask, the mold base 7 below the mask 12 is also etched. In the vicinity of the boundary between the mask 12 and the unmasked region 13, the etching of the mold base 7 below the mask 12 is hereinafter referred to as side etching.

第１エッチング工程におけるエッチング処理は、通常、塩化第二鉄（ＦｅＣｌ３）液、塩化第二銅（ＣｕＣｌ２）液、アルカリエッチング液（Ｃｕ（ＮＨ３）４Ｃｌ２）などを用いて、金属表面を腐食させることによって行われるが、塩酸や硫酸などの強酸を用いることもできるし、電解めっき時と逆の電位をかけることによる逆電解エッチングを用いることもできる。エッチング処理を施した際の金型用基材に形成される凹形状は、下地金属の種類、感光性樹脂膜の種類およびエッチング手法などによって異なるため、一概にはいえないが、エッチング量が１０μｍ以下である場合には、エッチング液に触れている金属表面から略等方的にエッチングされる。ここでいうエッチング量とは、エッチングにより削られる基材の厚みである。 The etching process in the first etching step is usually performed using a ferric chloride (FeCl 3 ) solution, a cupric chloride (CuCl 2 ) solution, an alkaline etching solution (Cu (NH 3 ) 4 Cl 2 ), etc. Although it is performed by corroding the surface, a strong acid such as hydrochloric acid or sulfuric acid can be used, or reverse electrolytic etching by applying a potential opposite to that at the time of electrolytic plating can also be used. The concave shape formed on the mold base material when the etching process is performed differs depending on the type of the base metal, the type of the photosensitive resin film, the etching technique, and the like. In the following cases, the etching is performed isotropically from the metal surface in contact with the etching solution. The etching amount here is the thickness of the base material to be cut by etching.

第１エッチング工程におけるエッチング量は好ましくは１〜５０μｍであり、より好ましくは２〜１０μｍである。エッチング量が１μｍ未満である場合には、金属表面に凹凸形状がほとんど形成されずに、ほぼ平坦な金型となってしまうので、防眩性を示さなくなってしまう。また、エッチング量が５０μｍを超える場合には、金属表面に形成される凹凸形状の高低差が大きくなり、得られた金型を使用して作製した防眩フィルムが白ちゃけることとなるため好ましくない。第１エッチング工程におけるエッチング処理は１回のエッチング処理によって行ってもよいし、エッチング処理を２回以上に分けて行ってもよい。ここでエッチング処理を２回以上に分けて行う場合には、２回以上のエッチング処理におけるエッチング量の合計が１〜５０μｍであることが好ましい。   The etching amount in the first etching step is preferably 1 to 50 μm, more preferably 2 to 10 μm. When the etching amount is less than 1 μm, the unevenness shape is hardly formed on the metal surface, and the die is almost flat, so that the antiglare property is not exhibited. Further, when the etching amount exceeds 50 μm, the height difference of the uneven shape formed on the metal surface is increased, and the antiglare film produced using the obtained mold is preferably whitened. Absent. The etching process in the first etching step may be performed by one etching process, or the etching process may be performed twice or more. Here, when the etching process is performed twice or more, the total etching amount in the two or more etching processes is preferably 1 to 50 μm.

〔７〕感光性樹脂膜剥離工程
続く感光性樹脂膜剥離工程では、第１エッチング工程でマスクとして使用した残存する感光性樹脂膜を完全に溶解し除去する。感光性樹脂膜剥離工程では剥離液を用いて感光性樹脂膜を溶解する。剥離液としては、上述した現像液と同様のものを用いることができて、ｐＨ、温度、濃度および浸漬時間などを変化させることによって、ネガ型の感光性樹脂膜を用いた場合には露光部の、ポジ型の感光性樹脂膜を用いた場合には非露光部の感光性樹脂膜を完全に溶解して除去する。感光性樹脂膜剥離工程における剥離方法についても特に制限されず、浸漬現像、スプレー現像、ブラシ現像、超音波現像などの方法を用いることができる。 [7] Photosensitive resin film peeling step In the subsequent photosensitive resin film peeling step, the remaining photosensitive resin film used as a mask in the first etching step is completely dissolved and removed. In the photosensitive resin film peeling step, the photosensitive resin film is dissolved using a peeling solution. As the stripper, the same developer as that described above can be used. When a negative photosensitive resin film is used by changing pH, temperature, concentration, immersion time, etc., the exposed portion is exposed. When the positive photosensitive resin film is used, the photosensitive resin film in the non-exposed portion is completely dissolved and removed. There is no particular limitation on the peeling method in the photosensitive resin film peeling step, and methods such as immersion development, spray development, brush development, and ultrasonic development can be used.

図１２（ｂ）は、感光性樹脂膜剥離工程によって、第１エッチング工程でマスクとして使用した感光性樹脂膜を完全に溶解し除去した状態を模式的に示している。感光性樹脂膜によるマスク１２とエッチングによって、第１の表面凹凸形状１５が金型用基材表面に形成される。   FIG. 12B schematically shows a state where the photosensitive resin film used as a mask in the first etching process is completely dissolved and removed by the photosensitive resin film peeling process. A first surface irregularity shape 15 is formed on the surface of the mold substrate by the mask 12 and etching using the photosensitive resin film.

〔８〕第２エッチング工程
第２エッチング工程では、感光性樹脂膜をマスクとして用いた第１エッチング工程によって形成された第１の表面凹凸形状１５を、エッチング処理によって鈍らせる。この第２エッチング処理によって、第１エッチング処理で形成された第１の表面凹凸形状１５における表面傾斜が急峻な部分がなくなり、得られた金型を用いて製造される防眩フィルムの光学特性が好ましい方向へと変化する。図１２（ｃ）には、第２エッチング処理によって金型用基材７の第１の表面凹凸形状１５が鈍化し、表面傾斜が急峻な部分が鈍らされ、緩やかな表面傾斜を有する第２の表面凹凸形状１６が形成された状態が示されている。 [8] Second Etching Step In the second etching step, the first surface uneven shape 15 formed by the first etching step using the photosensitive resin film as a mask is blunted by an etching process. By this second etching process, there is no portion with a steep surface inclination in the first surface irregularities 15 formed by the first etching process, and the optical characteristics of the antiglare film manufactured using the obtained mold are It changes in the preferred direction. In FIG. 12C, the first surface irregularity shape 15 of the mold base 7 is blunted by the second etching process, the portion having a steep surface inclination is blunted, and the second surface having a gentle surface inclination is shown. The state in which the surface irregularities 16 are formed is shown.

第２エッチング工程のエッチング処理も、第１エッチング工程と同様に、通常、塩化第二鉄（ＦｅＣｌ３）液、塩化第二銅（ＣｕＣｌ２）液、アルカリエッチング液（Ｃｕ（ＮＨ３）４Ｃｌ２）などを用い、表面を腐食させることによって行われるが、塩酸や硫酸などの強酸を用いることもできるし、電解めっき時と逆の電位をかけることによる逆電解エッチングを用いることもできる。エッチング処理を施した後の凹凸の鈍り具合は、下地金属の種類、エッチング手法、および第１エッチング工程により得られた凹凸のサイズと深さなどによって異なるため、一概にはいえないが、鈍り具合を制御する上で最も大きな因子は、エッチング量である。ここでいうエッチング量も、第１エッチング工程と同様に、エッチングにより削られる基材の厚みである。エッチング量が小さいと、第１エッチング工程により得られた凹凸の表面形状を鈍らせる効果が不十分であり、その凹凸形状を透明フィルムに転写して得られる防眩フィルムの光学特性があまり良くならない。一方で、エッチング量が大きすぎると、凹凸形状がほとんどなくなってしまい、ほぼ平坦な金型となってしまうので、防眩性を示さなくなってしまう。そこで、エッチング量は１〜５０μｍの範囲内であることが好ましく、４〜２０μｍの範囲内であることがより好ましい。第２エッチング工程におけるエッチング処理についても、第１エッチング工程と同様に、１回のエッチング処理によって行ってもよいし、エッチング処理を２回以上に分けて行ってもよい。ここでエッチング処理を２回以上に分けて行う場合には、２回以上のエッチング処理におけるエッチング量の合計が１〜５０μｍであることが好ましい。 Similarly to the first etching process, the etching process of the second etching process is usually ferric chloride (FeCl 3 ) liquid, cupric chloride (CuCl 2 ) liquid, alkaline etching liquid (Cu (NH 3 ) 4 Cl 2 ) or the like, and by corroding the surface, strong acid such as hydrochloric acid or sulfuric acid can be used, or reverse electrolytic etching by applying a potential opposite to that at the time of electrolytic plating can also be used. The bluntness of the unevenness after the etching process varies depending on the type of the underlying metal, the etching technique, and the size and depth of the unevenness obtained by the first etching process. The largest factor in controlling the amount is the etching amount. The etching amount here is also the thickness of the base material to be cut by etching, as in the first etching step. If the etching amount is small, the effect of dulling the surface shape of the unevenness obtained by the first etching step is insufficient, and the optical characteristics of the antiglare film obtained by transferring the uneven shape to a transparent film are not so good. . On the other hand, when the etching amount is too large, the uneven shape is almost lost and the die is almost flat, so that the antiglare property is not exhibited. Therefore, the etching amount is preferably in the range of 1 to 50 μm, and more preferably in the range of 4 to 20 μm. Similarly to the first etching process, the etching process in the second etching process may be performed by one etching process, or the etching process may be performed twice or more. Here, when the etching process is performed twice or more, the total etching amount in the two or more etching processes is preferably 1 to 50 μm.

〔９〕第２めっき工程
続いて、クロムめっきを施すことによって、第２の表面凹凸形状１６を鈍らせるとともに、金型表面を保護する。図１２（ｄ）には、上述したように第２エッチング工程のエッチング処理によって形成された第２の表面凹凸形状１６にクロムめっき層１７を形成し、クロムめっき層の表面１８を鈍らせた状態が示されている。 [9] Second plating step Subsequently, by performing chromium plating, the second surface irregularity shape 16 is blunted and the mold surface is protected. In FIG. 12D, as described above, the chromium plating layer 17 is formed on the second surface uneven shape 16 formed by the etching process of the second etching step, and the surface 18 of the chromium plating layer is blunted. It is shown.

本発明では、平板やロールなどの表面に、光沢があって、硬度が高く、摩擦係数が小さく、良好な離型性を与え得るクロムめっきを採用する。クロムめっきの種類は特に制限されないが、いわゆる光沢クロムめっきや装飾用クロムめっきなどと呼ばれる、良好な光沢を発現するクロムめっきを用いることが好ましい。クロムめっきは通常、電解によって行われ、そのめっき浴としては、無水クロム酸（ＣｒＯ３）と少量の硫酸を含む水溶液が用いられる。電流密度と電解時間を調節することにより、クロムめっきの厚みを制御することができる。 In the present invention, chrome plating is employed which has a glossy surface, a high hardness, a low coefficient of friction, and good release properties on the surface of a flat plate or a roll. The type of chrome plating is not particularly limited, but it is preferable to use a chrome plating that expresses a good gloss, so-called gloss chrome plating or decorative chrome plating. Chromium plating is usually performed by electrolysis, and an aqueous solution containing chromic anhydride (CrO 3 ) and a small amount of sulfuric acid is used as the plating bath. By adjusting the current density and electrolysis time, the thickness of the chromium plating can be controlled.

なお、第２めっき工程において、クロムめっき以外のめっきを施すことは好ましくない。何故なら、クロム以外のめっきでは、硬度や耐摩耗性が低くなるため、金型としての耐久性が低下し、使用中に凹凸が磨り減ったり、金型が損傷したりする。そのような金型から得られた防眩フィルムでは、十分な防眩機能が得られにくい可能性が高く、また、フィルム上に欠陥が発生する可能性も高くなる。クロムめっきで作製された金型から得られる防眩フィルムには、点状の凹凸に加え、線状の凸部または凹部が形成されることがある。点状の凹凸と線状の凸部または凹部が混在することで、微細な散乱が発生し、一層の防眩性の向上が期待される。このような線状の凸部または凹部が存在する場合でも、その割合は、全表面に対する面積比で２０％以下となるようにすることが好ましい。   In the second plating step, it is not preferable to perform plating other than chromium plating. This is because plating other than chromium has low hardness and wear resistance, so that the durability as a mold is lowered, and unevenness is worn away during use or the mold is damaged. In an antiglare film obtained from such a mold, there is a high possibility that a sufficient antiglare function cannot be obtained, and there is a high possibility that defects will occur on the film. An antiglare film obtained from a mold made by chrome plating may have a linear convex portion or concave portion in addition to the dotted irregularities. By mixing the dot-like irregularities and the linear convex portions or concave portions, fine scattering occurs, and further improvement in antiglare property is expected. Even when such linear convex portions or concave portions exist, the ratio is preferably 20% or less in terms of the area ratio to the entire surface.

また、めっき後の表面を研磨することも、やはり本発明では好ましくない。研磨することにより、最表面に平坦な部分が生じるため、光学特性の悪化を招く可能性があること、また、形状の制御因子が増えるため、再現性のよい形状制御が困難になることなどの理由による。   Further, polishing the surface after plating is also not preferable in the present invention. By polishing, a flat part is generated on the outermost surface, which may lead to deterioration of optical characteristics, and since shape control factors increase, shape control with good reproducibility becomes difficult. Depending on the reason.

このように本発明では、クロムめっきを施した後、表面を研磨せず、そのままクロムめっき面を金型の凹凸面として用いることが好ましい。微細表面凹凸形状が形成された表面にクロムめっきを施すことにより、凹凸形状が鈍らせられるとともに、その表面硬度が高められた金型が得られるためである。この際の凹凸の鈍り具合は、下地金属の種類、第１エッチング工程より得られた凹凸のサイズと深さ、まためっきの種類や厚みなどによって異なるため、一概にはいえないが、鈍り具合を制御するうえで最も大きな因子は、やはりめっき厚みである。クロムめっきの厚みが薄いと、クロムめっき加工前に得られた凹凸の表面形状を鈍らせる効果が不十分であり、その凹凸形状を透明フィルムに転写して得られる防眩フィルムの光学特性があまり良くならない。一方で、めっき厚みが厚すぎると、生産性が悪くなるうえに、ノジュールと呼ばれる突起状のめっき欠陥が発生してしまうため好ましくない。そこで、クロムめっきの厚みは１〜１０μｍの範囲内であるのが好ましく、３〜６μｍの範囲内であるのがより好ましい。   Thus, in the present invention, it is preferable to use the chrome plated surface as the uneven surface of the mold without polishing the surface after chrome plating. This is because, by applying chromium plating to the surface on which the fine surface irregularities are formed, a mold having an irregular surface that is dulled and whose surface hardness is increased can be obtained. The bluntness of the irregularities at this time varies depending on the type of the base metal, the size and depth of the irregularities obtained from the first etching process, and the type and thickness of the plating. The greatest factor in controlling is the plating thickness. If the thickness of the chrome plating is thin, the effect of dulling the surface shape of the unevenness obtained before the chrome plating process is insufficient, and the optical properties of the antiglare film obtained by transferring the uneven shape to a transparent film are not sufficient. It doesn't get better. On the other hand, when the plating thickness is too thick, productivity is deteriorated and a projection-like plating defect called a nodule is generated, which is not preferable. Therefore, the thickness of the chrome plating is preferably in the range of 1 to 10 μm, and more preferably in the range of 3 to 6 μm.

当該第２めっき工程で形成されるクロムめっき層は、ビッカース硬度が８００以上となるように形成されていることが好ましく、１０００以上となるように形成されていることがより好ましい。クロムめっき層のビッカース硬度が８００未満である場合には、金型使用時の耐久性が低下するうえに、クロムめっきで硬度が低下することはめっき処理時にめっき浴組成、電解条件などに異常が発生している可能性が高く、欠陥の発生状況についても好ましくない影響を与える可能性が高いためである。   The chromium plating layer formed in the second plating step is preferably formed to have a Vickers hardness of 800 or more, and more preferably 1000 or more. When the Vickers hardness of the chrome plating layer is less than 800, the durability when using the mold is reduced, and the decrease in hardness due to chrome plating is due to abnormalities in the plating bath composition, electrolysis conditions, etc. during the plating process. This is because the possibility of occurrence is high, and the possibility of undesirably affecting the occurrence of defects is also high.

以下に実施例を挙げて、本発明をさらに詳しく説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。例中、含有量ないし使用量を表す％および部は、特記ない限り重量基準である。また、以下の例における金型または防眩フィルムの評価方法は、次のとおりである。   EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples. However, the present invention is not limited to these examples. In the examples, “%” and “part” representing the content or amount used are based on weight unless otherwise specified. Moreover, the evaluation method of the metal mold | die or anti-glare film in the following examples is as follows.

〔１〕防眩フィルムの表面形状の測定
（表面の標高の測定）
三次元顕微鏡ＰＬμ２３００（Ｓｅｎｓｏｆａｒ社製）を用いて、防眩フィルムの表面の標高を測定した。サンプルの反りを防止するため、光学的に透明な粘着剤を用いて凹凸面が表面となるようにガラス基板に貼合してから、測定に供した。測定の際、対物レンズの倍率は１０倍として測定を行った。水平分解能ΔｘおよびΔｙはともに１．６６μｍであり、測定面積は１２７０μｍ×９５０μｍであった。 [1] Measurement of surface shape of antiglare film (Measurement of surface elevation)
The elevation of the surface of the antiglare film was measured using a three-dimensional microscope PLμ2300 (manufactured by Sensofar). In order to prevent the sample from warping, it was subjected to measurement after being bonded to a glass substrate using an optically transparent pressure-sensitive adhesive so that the uneven surface became the surface. During the measurement, the objective lens was measured at a magnification of 10 times. The horizontal resolutions Δx and Δy were both 1.66 μm and the measurement area was 1270 μm × 950 μm.

（微細表面凹凸の標高のパワースペクトル）
上で得られた測定データの中央部から５１２個×５１２個（測定面積で８５０μｍ×８５０μｍ）のデータをサンプリングし、防眩フィルムの微細凹凸表面の標高を二次元関数ｈ（ｘ，ｙ）として求めた。二次元関数ｈ（ｘ，ｙ）を離散フーリエ変換して二次元関数Ｈ（ｆｘ，ｆｙ）を求めた。二次元関数Ｈ（ｆｘ，ｆｙ）を二乗して二次元パワースペクトルの二次元関数Ｈ２（ｆｘ，ｆｙ）を計算し、原点からの距離ｆの関数である一次元パワースペクトルの一次元関数Ｈ２（ｆ）を計算した。各サンプルにつき５箇所の表面の標高を測定し、それらのデータから計算される一次元パワースペクトルの一次元関数Ｈ２（ｆ）の平均値を各サンプルの一次元パワースペクトルの一次元関数Ｈ２（ｆ）とした。 (Power spectrum of elevation of fine surface irregularities)
Sampling 512 × 512 data (850 μm × 850 μm in measurement area) from the center of the measurement data obtained above, and using the two-dimensional function h (x, y) as the elevation of the fine uneven surface of the antiglare film Asked. Two-dimensional function h (x, y) of the discrete Fourier transform to two-dimensional function H (f x, f y) was determined. The two-dimensional function H (f x , f y ) is squared to calculate a two-dimensional function H 2 (f x , f y ) of the two-dimensional power spectrum, and the one-dimensional power spectrum is a function of the distance f from the origin. A one-dimensional function H 2 (f) was calculated. The elevation of the surface of the five positions for each sample was measured, the one-dimensional power spectrum is calculated from these data one-dimensional function H 2 dimensional function of the average value of (f) one-dimensional power spectrum of each sample H 2 (F).

（微細凹凸表面の傾斜角度）
上で得られた測定データをもとに、前述のアルゴリズムに基づいて計算し、凹凸面の傾斜角度のヒストグラムを作成し、そこから傾斜角度毎の分布を求め、傾斜角度が５°以上である面の割合を計算した。 (Inclination angle of fine uneven surface)
Based on the measurement data obtained above, calculation is performed based on the above-described algorithm, a histogram of the inclination angle of the uneven surface is created, a distribution for each inclination angle is obtained therefrom, and the inclination angle is 5 ° or more. The percentage of the surface was calculated.

（微細凹凸表面の表面粗さパラメータ）
ＪＩＳ Ｂ ０６０１に準拠した（株）ミツトヨ製の表面粗さ測定機サーフテストＳＪ−３０１を用いて、防眩フィルムの表面粗さパラメータを測定した。サンプルの反りを防止するため、光学的に透明な粘着剤を用いて凹凸面が表面となるようにガラス基板に貼合してから、測定に供した。 (Surface roughness parameter of fine uneven surface)
The surface roughness parameter of the antiglare film was measured using a surface roughness measuring device Surf Test SJ-301 manufactured by Mitutoyo Corporation in accordance with JIS B 0601. In order to prevent the sample from warping, it was subjected to measurement after being bonded to a glass substrate using an optically transparent pressure-sensitive adhesive so that the uneven surface became the surface.

〔２〕防眩フィルムの光学特性の測定
（ヘイズ）
防眩フィルムの全ヘイズは、防眩フィルムを光学的に透明な粘着剤を用いて防眩層形成面とは反対側の面でガラス基板に貼合し、該ガラス基板に貼合された防眩フィルムについて、ガラス基板側から光を入射させ、ＪＩＳ Ｋ ７１３６に準拠した（株）村上色彩技術研究所製のヘイズメーター「ＨＭ−１５０」型を用いて測定した。 [2] Measurement of optical properties of antiglare film (haze)
The total haze of the antiglare film is obtained by bonding the antiglare film to a glass substrate on the side opposite to the antiglare layer forming surface using an optically transparent adhesive, and the antiglare film bonded to the glass substrate. The glare film was measured using a haze meter “HM-150” manufactured by Murakami Color Research Laboratory Co., Ltd. in accordance with JIS K 7136 with light incident from the glass substrate side.

（透過鮮明度）
ＪＩＳ Ｋ ７１０５に準拠したスガ試験機（株）製の写像性測定器「ＩＣＭ−１ＤＰ」を用いて、防眩フィルムの透過鮮明度を測定した。この場合も、サンプルの反りを防止するため、光学的に透明な粘着剤を用いて防眩層の微細な凹凸形状面が表面となるようにガラス基板に貼合してから、測定に供した。この状態でガラス側から光を入射させ、測定を行なった。ここでの測定値は、暗部と明部との幅がそれぞれ０．１２５ｍｍ、０．５ｍｍ、１．０ｍｍおよび２．０ｍｍである４種類の光学くしを用いて測定された値の合計値である。この場合の透過鮮明度の最大値は４００％となる。 (Transparency definition)
The transmission clarity of the antiglare film was measured using an image clarity measuring device “ICM-1DP” manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd. based on JIS K 7105. Also in this case, in order to prevent the sample from warping, it was subjected to measurement after being bonded to a glass substrate using an optically transparent adhesive so that the fine uneven surface of the antiglare layer was the surface. . In this state, light was incident from the glass side and measurement was performed. The measured value here is a total value of values measured using four types of optical combs in which the widths of the dark part and the bright part are 0.125 mm, 0.5 mm, 1.0 mm, and 2.0 mm, respectively. . In this case, the maximum value of the transmission clarity is 400%.

（反射鮮明度）
ＪＩＳ Ｋ ７１０５に準拠したスガ試験機（株）製の写像性測定器「ＩＣＭ−１ＤＰ」を用いて、防眩フィルムの反射鮮明度を測定した。この場合も、サンプルの反りを防止するため、光学的に透明な粘着剤を用いて防眩層の微細な凹凸形状面が表面となるように黒色アクリル基板に貼合してから、測定に供した。この状態で凹凸形状面側から光を４５°で入射させ、測定を行なった。ここでの測定値は、暗部と明部との幅がそれぞれ０．５ｍｍ、１．０ｍｍおよび２．０ｍｍである３種類の光学くしを用いて測定された値の合計値である。この場合の反射鮮明度の最大値は３００％となる。 (Reflection sharpness)
The reflection sharpness of the antiglare film was measured using an image measuring device “ICM-1DP” manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd. based on JIS K 7105. Also in this case, in order to prevent the sample from warping, it is used for measurement after being bonded to a black acrylic substrate using an optically transparent adhesive so that the fine uneven surface of the antiglare layer becomes the surface. did. In this state, light was incident at 45 ° from the concavo-convex surface side, and measurement was performed. The measured value here is a total value of values measured using three types of optical combs in which the widths of the dark part and the bright part are 0.5 mm, 1.0 mm, and 2.0 mm, respectively. In this case, the maximum value of the reflection definition is 300%.

〔３〕防眩フィルムの機械特性の測定
（鉛筆硬度）
防眩フィルムの鉛筆硬度は、ＪＩＳ Ｋ５６００−５−４に規定される方法で測定した。具体的には、この規格に準拠した電動鉛筆引っかき硬度試験機（（株）安田精機製作所製）を用いて荷重５００ｇで測定した。 [3] Measurement of mechanical properties of antiglare film (pencil hardness)
The pencil hardness of the antiglare film was measured by the method defined in JIS K5600-5-4. Specifically, the measurement was performed with a load of 500 g using an electric pencil scratch hardness tester (manufactured by Yasuda Seiki Seisakusho Co., Ltd.) compliant with this standard.

〔４〕防眩フィルムの防眩性能の評価
（映り込み、白ちゃけの目視評価）
防眩フィルムの裏面からの反射を防止するために、凹凸面が表面となるように黒色アクリル樹脂板に防眩フィルムを貼合し、蛍光灯のついた明るい室内で凹凸面側から目視で観察し、蛍光灯の映り込みの有無、白ちゃけの程度を目視で評価した。映り込みおよび白ちゃけは、それぞれ１から３の３段階で次の基準により評価した。 [4] Evaluation of anti-glare performance of anti-glare film (Visual evaluation of reflections and whitishness)
In order to prevent reflection from the back surface of the antiglare film, the antiglare film is bonded to the black acrylic resin plate so that the uneven surface becomes the surface, and visually observed from the uneven surface side in a bright room with a fluorescent lamp. Then, the presence or absence of reflection of a fluorescent lamp and the degree of whitening were visually evaluated. Reflection and whitishness were evaluated according to the following criteria in three stages of 1 to 3, respectively.

映り込み
１：映り込みが観察されない。
２：映り込みが少し観察される。
３：映り込みが明瞭に観察される。 Reflection 1: Reflection is not observed.
2: Reflection is slightly observed.
3: Reflection is clearly observed.

白ちゃけ
１：白ちゃけが観察されない。
２：白ちゃけが少し観察される。
３：白ちゃけが明瞭に観察される。 Whiteness 1: No whiteness is observed.
2: A little whitish is observed.
3: The whitish is clearly observed.

（ギラツキの評価）
ギラツキは、次の手順で評価した。すなわち、まず図１３に平面図で示すようなユニットセルのパターンを有するフォトマスクを用意した。この図において、ユニットセル４０は、透明な基板上に、線幅１０μｍでカギ形のクロム遮光パターン４１が形成され、そのクロム遮光パターン４１の形成されていない部分が開口部４２となっている。ここでは、ユニットセルの寸法が２１１μｍ×７０μｍ（図の縦×横）、したがって開口部の寸法が２０１μｍ×６０μｍ（図の縦×横）のものを用いた。図示するユニットセルが縦横に多数並んで、フォトマスクを形成する。 (Evaluation of glare)
The glare was evaluated by the following procedure. That is, first, a photomask having a unit cell pattern as shown in a plan view in FIG. 13 was prepared. In this figure, a unit cell 40 has a key-shaped chrome light shielding pattern 41 with a line width of 10 μm formed on a transparent substrate, and a portion where the chrome light shielding pattern 41 is not formed is an opening 42. Here, a unit cell having a size of 211 μm × 70 μm (vertical × horizontal in the figure) and an opening having a dimension of 201 μm × 60 μm (vertical × horizontal in the figure) was used. A large number of unit cells shown in the figure are arranged vertically and horizontally to form a photomask.

そして、図１４に模式的な断面図で示すように、フォトマスク４３のクロム遮光パターン４１を上にしてライトボックス４５に置き、ガラス板４７に粘着剤で防眩フィルム１をその凹凸面が表面となるように貼合したサンプルをフォトマスク４３上に置く。ライトボックス４５の中には、光源４６が配置されている。この状態で、サンプルから約３０ｃｍ離れた位置４９で目視観察することにより、ギラツキの程度を７段階で官能評価した。レベル１はギラツキが全く認められない状態、レベル７はひどくギラツキが観察される状態に該当し、レベル４はごくわずかにギラツキが観察される状態である。   Then, as shown in a schematic cross-sectional view in FIG. 14, the chrome light-shielding pattern 41 of the photomask 43 is placed on the light box 45, and the antiglare film 1 with the adhesive is applied to the glass plate 47 with the uneven surface on the surface. The sample bonded so as to become is placed on the photomask 43. A light source 46 is disposed in the light box 45. In this state, by visually observing at a position 49 about 30 cm away from the sample, the degree of glare was sensory evaluated in seven stages. Level 1 corresponds to a state where no glare is observed, level 7 corresponds to a state where severe glare is observed, and level 4 refers to a state where only slight glare is observed.

〔５〕防眩フィルム製造用のパターンの評価
作成したパターンデータを２階調の二値化画像データとし、階調を二次元の離散関数ｇ（ｘ，ｙ）で表した。離散関数ｇ（ｘ，ｙ）の水平分解能ΔｘおよびΔｙはともに２μｍとした。得られた二次元関数ｇ（ｘ，ｙ）を離散フーリエ変換して、二次元関数Ｇ（ｆｘ，ｆｙ）を求めた。二次元関数Ｇ（ｆｘ，ｆｙ）を二乗して二次元パワースペクトルの二次元関数Ｇ２（ｆｘ，ｆｙ）を計算し、原点からの距離ｆの関数である一次元パワースペクトルの一次元関数Ｇ２（ｆ）を計算した。 [5] Evaluation of pattern for production of anti-glare film The created pattern data was made into binary image data of two gradations, and the gradation was expressed by a two-dimensional discrete function g (x, y). The horizontal resolutions Δx and Δy of the discrete function g (x, y) are both 2 μm. The resulting two-dimensional function g (x, y) and by discrete Fourier transform, two-dimensional function G (f x, f y) was determined. The two-dimensional function G (f x , f y ) is squared to calculate a two-dimensional power spectrum two-dimensional function G 2 (f x , f y ), and the one-dimensional power spectrum is a function of the distance f from the origin. A one-dimensional function G 2 (f) was calculated.

＜実施例１＞
（防眩フィルム製造用の金型の作製）
直径２００ｍｍのアルミロール（ＪＩＳによるＡ５０５６）の表面に銅バラードめっきが施されたものを用意した。銅バラードめっきは、銅めっき層／薄い銀めっき層／表面銅めっき層からなるものであり、めっき層全体の厚みは、約２００μｍとなるように設定した。その銅めっき表面を鏡面研磨し、研磨された銅めっき表面に感光性樹脂を塗布、乾燥して感光性樹脂膜を形成した。ついで、図９に示すパターン(ランダムな明度分布を有するパターンから、特定の空間周波数範囲の成分を除去するバンドパスフィルターを通過させて作成した)を繰り返し並べたパターンを感光性樹脂膜上にレーザ光によって露光し、現像した。レーザ光による露光、および現像はＬａｓｅｒ Ｓｔｒｅａｍ ＦＸ（（株）シンク・ラボラトリー製）を用いて行った。感光性樹脂膜にはポジ型の感光性樹脂を使用した。 <Example 1>
(Production of molds for the production of anti-glare films)
An aluminum roll having a diameter of 200 mm (A5056 according to JIS) was prepared by applying copper ballad plating to the surface. Copper ballad plating consists of a copper plating layer / thin silver plating layer / surface copper plating layer, and the thickness of the entire plating layer was set to be about 200 μm. The copper plating surface was mirror-polished, and a photosensitive resin was applied to the polished copper plating surface and dried to form a photosensitive resin film. Next, a pattern in which the pattern shown in FIG. 9 (created by passing a bandpass filter that removes a component in a specific spatial frequency range from a pattern having a random brightness distribution) is repeatedly arranged on the photosensitive resin film is laser-bonded. It was exposed to light and developed. Laser light exposure and development were performed using Laser Stream FX (manufactured by Sink Laboratory Co., Ltd.). A positive photosensitive resin was used for the photosensitive resin film.

その後、塩化第二銅液で第１のエッチング処理を行った。その際のエッチング量は４μｍとなるように設定した。第１のエッチング処理後のロールから感光性樹脂膜を除去し、再度、塩化第二銅液で第２のエッチング処理を行った。その際のエッチング量は１１μｍとなるように設定した。その後、クロムめっき加工を行い、金型Ａを作製した。このとき、クロムめっき厚みが４μｍとなるように設定した。   Then, the 1st etching process was performed with the cupric chloride liquid. The etching amount at that time was set to 4 μm. The photosensitive resin film was removed from the roll after the first etching treatment, and the second etching treatment was performed again with cupric chloride solution. The etching amount at that time was set to 11 μm. Then, the chromium plating process was performed and the metal mold | die A was produced. At this time, the chromium plating thickness was set to 4 μm.

（防眩フィルムの形成）
以下の各成分が酢酸エチルに固形分濃度６０％で溶解されており、硬化後に１.５３の屈折率を示す紫外線硬化性樹脂組成物Ａを入手した。 (Formation of antiglare film)
The following components were dissolved in ethyl acetate at a solid content concentration of 60%, and an ultraviolet curable resin composition A having a refractive index of 1.53 after curing was obtained.

ペンタエリスリトールトリアクリレート ６０部
多官能ウレタン化アクリレート ４０部
（ヘキサメチレンジイソシアネートとペンタエリスリトールトリアクリレートの反応生成物）
ジフェニル（２，４，６−トリメトキシベンゾイル）ホスフィンオキシド ５部。 Pentaerythritol triacrylate 60 parts Multifunctional urethanated acrylate 40 parts (Reaction product of hexamethylene diisocyanate and pentaerythritol triacrylate)
Diphenyl (2,4,6-trimethoxybenzoyl) phosphine oxide 5 parts.

この紫外線硬化性樹脂組成物Ａを厚み６０μｍのトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルム上に、乾燥後の塗布厚みが７μｍとなるように塗布し、６０℃に設定した乾燥機中で３分間乾燥させた。乾燥後のフィルムを、先に得られた金型Ａの凹凸面に、光硬化性樹脂組成物層が金型側となるようにゴムロールで押し付けて密着させた。この状態でＴＡＣフィルム側より、強度２０ｍＷ／ｃｍ２の高圧水銀灯からの光をｈ線換算光量で２００ｍＪ／ｃｍ２となるように照射して、光硬化性樹脂組成物層を硬化させた。この後、ＴＡＣフィルムを硬化樹脂ごと金型から剥離して、表面に凹凸を有する硬化樹脂とＴＡＣフィルムとの積層体からなる、透明な防眩フィルムＡを作製した。 This ultraviolet curable resin composition A was applied onto a 60 μm-thick triacetyl cellulose (TAC) film so that the coating thickness after drying was 7 μm, and dried in a dryer set at 60 ° C. for 3 minutes. . The film after drying was brought into close contact with the concavo-convex surface of the mold A obtained previously with a rubber roll so that the photocurable resin composition layer was on the mold side. In this state, light from a high-pressure mercury lamp having an intensity of 20 mW / cm 2 was irradiated from the TAC film side so that the amount of light in terms of h-line was 200 mJ / cm 2 to cure the photocurable resin composition layer. Thereafter, the TAC film was peeled from the mold together with the cured resin, and a transparent anti-glare film A composed of a laminate of the cured resin having irregularities on the surface and the TAC film was produced.

＜実施例２＞
図１５に示すパターン(ランダムな明度分布を有するパターンから、特定の空間周波数範囲の成分を除去するバンドパスフィルターを通過させて作成した)を繰り返し並べたパターンを感光性樹脂膜上にレーザ光によって露光したこと以外は実施例１と同様にして金型Ｂを作製し、金型Ｂを使用したこと以外は実施例１と同様にして防眩フィルムＢを作製した。 <Example 2>
A pattern in which the pattern shown in FIG. 15 (created by passing a bandpass filter that removes a component in a specific spatial frequency range from a pattern having a random brightness distribution) is repeatedly arranged on the photosensitive resin film by laser light. A mold B was produced in the same manner as in Example 1 except that the exposure was performed, and an antiglare film B was produced in the same manner as in Example 1 except that the mold B was used.

＜実施例３＞
第２のエッチング処理のエッチング量を１０μｍとなるように設定したこと以外は実施例２と同様にして金型Ｃを作製し、金型Ｃを使用したこと以外は実施例２と同様にして防眩フィルムＣを作製した。 <Example 3>
A mold C was produced in the same manner as in Example 2 except that the etching amount of the second etching process was set to 10 μm, and the same as in Example 2 except that the mold C was used. A dazzling film C was prepared.

＜実施例４＞
第２のエッチング処理のエッチング量を１２μｍとなるように設定したこと以外は実施例２と同様にして金型Ｄを作製し、金型Ｄを使用したこと以外は実施例２と同様にして防眩フィルムＤを作製した。 <Example 4>
A mold D was prepared in the same manner as in Example 2 except that the etching amount of the second etching process was set to 12 μm, and the same as in Example 2 except that the mold D was used. A dazzling film D was prepared.

＜実施例５＞
図１６に示すパターン(ランダムな明度分布を有するパターンから、特定の空間周波数範囲の成分を除去するバンドパスフィルターを通過させて作成した)を繰り返し並べたパターンを感光性樹脂膜上にレーザ光によって露光し、第１のエッチング処理のエッチング量を３μｍとなるように設定し、第２のエッチング処理のエッチング量を１０μｍとなるように設定したこと以外は実施例１と同様にして金型Ｅを作製し、金型Ｅを使用したこと以外は実施例１と同様にして防眩フィルムＥを作製した。 <Example 5>
A pattern in which the pattern shown in FIG. 16 (created by passing a bandpass filter that removes a component in a specific spatial frequency range from a pattern having a random brightness distribution) is repeatedly arranged on the photosensitive resin film by laser light. The mold E was exposed in the same manner as in Example 1 except that the etching amount of the first etching process was set to 3 μm and the etching amount of the second etching process was set to 10 μm. An antiglare film E was produced in the same manner as in Example 1 except that the mold E was used.

＜比較例１＞
図１７に示すパターン(ランダムな明度分布を有するパターンから、特定の空間周波数範囲の成分を除去するバンドパスフィルターを通過させて作成した)を繰り返し並べたパターンを感光性樹脂膜上にレーザ光によって露光したこと以外は実施例１と同様にして金型Ｆを作製し、金型Ｆを使用したこと以外は実施例１と同様にして防眩フィルムＦを作製した。 <Comparative Example 1>
A pattern in which the pattern shown in FIG. 17 (created by passing a bandpass filter that removes a component in a specific spatial frequency range from a pattern having a random brightness distribution) is repeatedly arranged on the photosensitive resin film by laser light. A mold F was produced in the same manner as in Example 1 except that it was exposed, and an antiglare film F was produced in the same manner as in Example 1 except that the mold F was used.

＜比較例２＞
図１８に示すパターン(ランダムな明度分布を有するパターンから、特定の空間周波数範囲の成分を除去するバンドパスフィルターを通過させて作成した)を繰り返し並べたパターンを感光性樹脂膜上にレーザ光によって露光したこと以外は実施例５と同様にして金型Ｇを作製し、金型Ｇを使用したこと以外は実施例１と同様にして防眩フィルムＧを作製した。 <Comparative example 2>
A pattern in which the pattern shown in FIG. 18 (created by passing a bandpass filter that removes a component in a specific spatial frequency range from a pattern having a random brightness distribution) is repeatedly arranged on the photosensitive resin film by laser light. A mold G was produced in the same manner as in Example 5 except that the exposure was performed, and an antiglare film G was produced in the same manner as in Example 1 except that the mold G was used.

＜比較例３＞
直径３００ｍｍのアルミロール（ＪＩＳによるＡ５０５６）の表面を鏡面研磨し、研磨されたアルミ面に、ブラスト装置（（株）不二製作所製）を用いて、ジルコニアビーズＴＺ−ＳＸ−１７（東ソー（株）製、平均粒径：２０μｍ）を、ブラスト圧力０．１ＭＰａ（ゲージ圧、以下同じ）、ビーズ使用量８ｇ／ｃｍ２（ロールの表面積１ｃｍ２あたりの使用量、以下同じ）でブラストし、表面に凹凸をつけた。得られた凹凸つきアルミロールに対し、無電解ニッケルめっき加工を行い、金型Ｈを作製した。このとき、無電解ニッケルめっき厚みが１５μｍとなるように設定した。得られた金型Ｈを用いたこと以外は、実施例１と同様にして防眩フィルムＨを作製した。 <Comparative Example 3>
The surface of a 300 mm diameter aluminum roll (JIS A5056) is mirror-polished, and the polished aluminum surface is coated with zirconia beads TZ-SX-17 (Tosoh Corp.) using a blasting device (Fuji Seisakusho). ), Average particle size: 20 μm), and blasted at a blast pressure of 0.1 MPa (gauge pressure, the same applies below) and a bead usage of 8 g / cm 2 (a used amount per 1 cm 2 of surface area of the roll, the same applies hereinafter) The surface was uneven. The obtained uneven aluminum roll was subjected to electroless nickel plating to produce a mold H. At this time, the electroless nickel plating thickness was set to 15 μm. An antiglare film H was produced in the same manner as in Example 1 except that the obtained mold H was used.

［各金型の製造に用いたパターンの一次元パワースペクトル］
上記図１０は、防眩フィルムＡ（実施例１）の作製に使用した図９に示すパターンを離散フーリエ変換して得られたパワースペクトルＧ２（ｆ）を示す図に相当する。また、図１９は、防眩フィルムＢ〜Ｇ（実施例２〜４、５および比較例１、２）の作製に使用したパターンの一次元パワースペクトルＧ２（ｆ）を示す図である。 [One-dimensional power spectrum of the pattern used to manufacture each mold]
FIG. 10 corresponds to a diagram showing a power spectrum G 2 (f) obtained by performing a discrete Fourier transform on the pattern shown in FIG. 9 used for producing the antiglare film A (Example 1). Further, FIG. 19 is a diagram showing a one-dimensional power spectrum G 2 (f) of the pattern used to produce the antiglare film B to G (Example 2～4,5 and Comparative Examples 1 and 2).

図１０および図１９より、防眩フィルムＡ〜Ｅ（実施例１〜５）の作製に使用したパターンの一次元パワースペクトルを空間周波数に対する強度として表したときのグラフは、空間周波数０．００７μｍ−１以上０．０１５μｍ−１以下に第一の極大値を有し、空間周波数０．０５μｍ−１以上０．１μｍ−１以下に第二の極大値を有することが分かる。一方、防眩フィルムＦおよびＧ（比較例１および２）の作製に使用したパターンの一次元パワースペクトルを空間周波数に対する強度として表したときのグラフは、空間周波数０．００７μｍ−１以上０．０１５μｍ−１以下に極大値を有さないことが分かる。 From FIG. 10 and FIG. 19, the graph when the one-dimensional power spectrum of the pattern used for preparation of the anti-glare films A to E (Examples 1 to 5) is expressed as the intensity with respect to the spatial frequency is a spatial frequency of 0.007 μm −. 1 or 0.015 .mu.m -1 has a first maximum value in less found to have a second maximum value below the spatial frequency 0.05 .mu.m -1 or 0.1 [mu] m -1. On the other hand, the graph when the one-dimensional power spectrum of the pattern used for production of the antiglare films F and G (Comparative Examples 1 and 2) is expressed as the intensity with respect to the spatial frequency is a spatial frequency of 0.007 μm −1 or more and 0.015 μm. It can be seen that there is no maximum value below -1 .

［評価結果］
上記実施例および比較例について、上述の防眩フィルムの評価を行った結果を表１に示す。 [Evaluation results]
Table 1 shows the results of evaluating the above antiglare films for the above Examples and Comparative Examples.

また、図２０には、防眩フィルムＢ〜Ｄ（実施例２〜４）について、標高より計算された一次元パワースペクトルの常用対数ｌｏｇＨ２（ｆ）のグラフを示し、図２１には、防眩フィルムＥ（実施例５）および防眩フィルムＦ（比較例１）についてのｌｏｇＨ２（ｆ）のグラフを示し、図２２には、防眩フィルムＧ（比較例２）および防眩フィルムＨ（比較例３）についてのｌｏｇＨ２（ｆ）のグラフを示した。なお、上記図６は、防眩フィルムＡについて、標高より計算された一次元パワースペクトルの常用対数ｌｏｇＨ２（ｆ）を示す図に相当する。 20 shows a graph of the common logarithm log H 2 (f) of the one-dimensional power spectrum calculated from the altitude for the antiglare films B to D (Examples 2 to 4), and FIG. A graph of log H 2 (f) for glare film E (Example 5) and antiglare film F (Comparative Example 1) is shown, and FIG. 22 shows antiglare film G (Comparative Example 2) and antiglare film H ( A graph of log H 2 (f) for Comparative Example 3) is shown. Incidentally, FIG. 6, the anti-glare film A, which corresponds to a diagram showing a common logarithm logH 2 (f) of the one-dimensional power spectrum calculated from the elevation.

Figure 0006181383
Figure 0006181383

表１に示したように、防眩フィルムＡ〜Ｅ（実施例１〜５）について、標高のパワースペクトルの常用対数の空間周波数に関する二次導関数ｄ２ｌｏｇＨ２（ｆ）／ｄｆ２は、空間周波数０．０１μｍ−１において０未満であり、空間周波数０．０２μｍ−１において０より大きかった。 As shown in Table 1, for anti-glare films A to E (Examples 1 to 5), the second derivative d 2 logH 2 (f) / df 2 with respect to the spatial frequency of the common logarithm of the power spectrum of the altitude is It was less than 0 at a spatial frequency of 0.01 μm −1 and greater than 0 at a spatial frequency of 0.02 μm −1 .

表１に示す二次導関数ｄ２ｌｏｇＨ２（ｆ）／ｄｆ２の値に対応して、図６、図２０および図２１に示す、防眩フィルムＡ〜Ｅについて標高のパワースペクトルの常用対数を空間周波数に対する強度として表したグラフは、空間周波数０．０１μｍ−１において上に凸の形状を有し、空間周波数０．０２μｍ−１において下に凸の形状を有していた。 Corresponding to the value of the second derivative d 2 logH 2 (f) / df 2 shown in Table 1, the common logarithm of the power spectrum of the altitude for the antiglare films A to E shown in FIGS. Is expressed as an intensity with respect to the spatial frequency, and has a convex shape upward at the spatial frequency of 0.01 μm −1 and a convex shape downward at the spatial frequency of 0.02 μm −1 .

一方、防眩フィルムＦ（比較例１）について、表１に示す標高のパワースペクトルの常用対数の空間周波数に関する二次導関数ｄ２ｌｏｇＨ２（ｆ）／ｄｆ２は、空間周波数０．０１μｍ−１および空間周波数０．０２μｍ−１において０より大きかった。これに対応して、防眩フィルムＦ（比較例１）について、標高のパワースペクトルの常用対数を空間周波数に対する強度として表したグラフ（図２１）は、空間周波数０．０１μｍ−１および空間周波数０．０２μｍ−１において下に凸の形状を有していた。 On the other hand, for the antiglare film F (Comparative Example 1), the second derivative d 2 logH 2 (f) / df 2 related to the spatial frequency of the common logarithm of the power spectrum of the altitude shown in Table 1 is the spatial frequency 0.01 μm − 1 and greater than 0 at a spatial frequency of 0.02 μm −1 . Correspondingly, for the anti-glare film F (Comparative Example 1), a graph (FIG. 21) representing the common logarithm of the power spectrum of the altitude as the intensity with respect to the spatial frequency is the spatial frequency 0.01 μm −1 and the spatial frequency 0. 0.02 μm −1 had a downwardly convex shape.

また、防眩フィルムＧおよびＨ（比較例２および３）について、標高のパワースペクトルの常用対数の空間周波数に関する二次導関数ｄ２ｌｏｇＨ２（ｆ）／ｄｆ２は、空間周波数０．０１μｍ−１において０より大きく、空間周波数０．０２μｍ−１において０未満であった。これに対応して、防眩フィルムＧおよびＨ（比較例２および３）について、標高のパワースペクトルの常用対数を空間周波数に対する強度として表したグラフ（図２２）は、空間周波数０．０１μｍ−１において下に凸の形状を有し、空間周波数０．０２μｍ−１において上に凸の形状を有していた。 Further, for the antiglare films G and H (Comparative Examples 2 and 3), the second derivative d 2 logH 2 (f) / df 2 related to the spatial frequency of the common logarithm of the power spectrum at the altitude is 0.01 μm − greater than 0 in 1, was less than zero in the spatial frequency 0.02 [mu] m -1. Correspondingly, for anti-glare films G and H (Comparative Examples 2 and 3), a graph (FIG. 22) representing the common logarithm of the power spectrum of the altitude as the intensity with respect to the spatial frequency is a spatial frequency of 0.01 μm −1. 2 had a convex shape downward, and had a convex shape upward at a spatial frequency of 0.02 μm −1 .

本発明の要件を満たす防眩フィルムＡ〜Ｅ（実施例１〜５）は低ヘイズであるにも関わらず、必要十分な防眩性と優れたギラツキ抑制効果を発現した。一方、防眩フィルムＦ（比較例１）は標高のパワースペクトルの常用対数を空間周波数に対する強度として表したグラフが、空間周波数０．０１μｍ−１および空間周波数０．０２μｍ−１において下に凸の形状を有していたため、優れたギラツキ抑制効果は示したが、防眩性が不十分であった。また、標高のパワースペクトルの常用対数を空間周波数に対する強度として表したグラフが、空間周波数０．０２μｍ−１において上に凸の形状を有していた防眩フィルムＧおよびＨ（比較例２および３）はギラツキが強く観察された。 Anti-glare films A to E (Examples 1 to 5) satisfying the requirements of the present invention exhibited necessary and sufficient anti-glare properties and excellent glare-suppressing effects despite low haze. On the other hand, in the antiglare film F (Comparative Example 1), a graph expressing the common logarithm of the power spectrum of the altitude as the intensity with respect to the spatial frequency is convex downward at the spatial frequency of 0.01 μm −1 and the spatial frequency of 0.02 μm −1 . Since it had a shape, an excellent glare-suppressing effect was shown, but the antiglare property was insufficient. In addition, the graph showing the common logarithm of the power spectrum of the altitude as the intensity with respect to the spatial frequency is anti-glare films G and H having comparatively convex shapes at the spatial frequency of 0.02 μm −1 (Comparative Examples 2 and 3). ) Strongly observed glare.

なお、実施例１〜５および比較例１〜２で得られた防眩フィルムは、その光硬化性樹脂組成物の硬化物からなる凹凸面を光学顕微鏡で観察したところ、点状の凹凸に加え、線状の凸部が観察された。一方、比較例３で得られた防眩フィルムについては、点状凹凸のみで、線状の凸または凹は観察されなかった。   In addition, when the uneven surface which consists of the hardened | cured material of the photocurable resin composition was observed with the optical microscope, the anti-glare film obtained in Examples 1-5 and Comparative Examples 1-2 was added to the dotted | punctate unevenness | corrugation. A linear convex portion was observed. On the other hand, with respect to the antiglare film obtained in Comparative Example 3, only the point-like unevenness was observed, and no linear protrusions or depressions were observed.

１ 防眩フィルム、１０１ 透明支持体、１０２ 防眩層、１０３ 仮想的な平面、２ 微細な凹凸、３ フィルムの投影面、５ フィルムの主法線方向、６ 局所的な法線、６ａ〜６ｄ ポリゴン面の法線ベクトル、７ 金型用基材、８ 研磨工程によって研磨された基材の表面、９ 感光性樹脂膜、１０ 露光された領域、１１ 露光されていない領域、１２ マスク、１３ マスクの無い領域、１５ 第１の表面凹凸形状（第１エッチング工程後の金型用基材表面の凹凸形状）、１６ 第２の表面凹凸形状（第２エッチング工程後の金型用基材表面の凹凸形状）、１７ クロムめっき層、１８ クロムめっき層の表面、４０ フォトマスクのユニットセル、４１ フォトマスクのクロム遮光パターン、４２ フォトマスクの開口部、４３ フォトマスク、４５ ライトボックス、４６ 光源、４７ ガラス板、４９ ギラツキの観察位置、５０ 拡散板。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Anti-glare film, 101 Transparent support body, 102 Anti-glare layer, 103 Virtual plane, 2 Fine unevenness, 3 Projection surface, 5 Main normal direction of film, 6 Local normal, 6a-6d Polygon surface normal vector, 7 mold substrate, 8 substrate surface polished by polishing process, 9 photosensitive resin film, 10 exposed region, 11 unexposed region, 12 mask, 13 mask 15 1st surface uneven | corrugated shape (irregular shape of the base material surface for metal molds after the 1st etching process), 16 2nd surface uneven | corrugated shape (surface of the mold base material surface after the 2nd etching process) Concavity and convexity), 17 chrome plating layer, 18 chrome plating layer surface, 40 photomask unit cell, 41 chrome light shielding pattern of photomask, 42 photomask opening, 43 photomask 45 light box, 46 light source, 47 a glass plate, 49 glare of the observation position, 50 diffuser.

Claims (6)

透明支持体と、該透明支持体上に形成された防眩層とを含み、全ヘイズが１％以下である防眩フィルムであって、
前記防眩層は、前記透明支持体と反対側に微細な凹凸を有する微細凹凸表面を備え、
前記微細凹凸表面の標高の一次元パワースペクトルＨ２（ｆ）の常用対数の空間周波数ｆに関する二次導関数ｄ２ｌｏｇＨ２（ｆ）／ｄｆ２が、空間周波数０．０１μｍ−１において０未満であり、空間周波数０．０２μｍ−１において０より大きく、
前記一次元パワースペクトルＨ ２ （ｆ）の常用対数ｌｏｇＨ ２ （ｆ）を空間周波数ｆの関数として表したときのグラフが、空間周波数０．０１μｍ −１ 以上０．０２μｍ −１ 以下の間で単調減少であることを特徴とする、防眩フィルム。 An antiglare film comprising a transparent support and an antiglare layer formed on the transparent support, wherein the total haze is 1% or less,
The antiglare layer comprises a fine uneven surface having fine unevenness on the side opposite to the transparent support,
The second derivative d 2 logH 2 (f) / df 2 with respect to the spatial frequency f of the common logarithm of the one-dimensional power spectrum H 2 (f) of the fine uneven surface is less than 0 at a spatial frequency of 0.01 μm −1 . , and the rather greater than 0 in the spatial frequency 0.02 [mu] m -1,
Graph when common logarithm logH 2 (f) is expressed as a function of spatial frequency f of the one-dimensional power spectrum H 2 (f) is monotonic between: spatial frequency 0.01 [mu] m -1 or 0.02 [mu] m -1 An anti-glare film characterized by being reduced . 前記微細凹凸表面のうち、傾斜角度が５°以上である微小面の割合が１％未満である、請求項１に記載の防眩フィルム。   The anti-glare film according to claim 1, wherein a ratio of minute surfaces having an inclination angle of 5 ° or more of the fine uneven surface is less than 1%. 前記微細凹凸表面の最大断面高さＲｔが０．３μｍ以上１μｍ以下である、請求項１または２に記載の防眩フィルム。   The anti-glare film according to claim 1 or 2, wherein a maximum cross-sectional height Rt of the fine uneven surface is 0.3 µm or more and 1 µm or less. 金型用基材の表面に所定のパターンに基づいた表面形状を形成する工程を含み、
前記パターンの一次元パワースペクトルを空間周波数に対する強度として表したときのグラフが、空間周波数０．００７μｍ−１以上０．０１５μｍ−１以下において１つの極大値を有し、かつ、空間周波数０．０５μｍ−１以上０．１μｍ−１以下において１つの極大値を有し、
前記一次元パワースペクトルを空間周波数に対する強度として表したときのグラフが、空間周波数０．０１５μｍ −１ 以上０．０５μｍ −１ 以下の間で極大値を有しない形状であることを特徴とする、防眩フィルム製造用金型の製造方法。 Including a step of forming a surface shape based on a predetermined pattern on the surface of the mold base,
Graph in representing the one-dimensional power spectrum of the pattern as the intensity with respect to spatial frequency, has one maximum value in the following spatial frequency 0.007 -1 or 0.015 .mu.m -1, and the spatial frequency 0.05μm -1 0.1 [mu] m -1 have a single maximum in the following,
A graph when the one-dimensional power spectrum is expressed as an intensity with respect to a spatial frequency is a shape having no maximum value between a spatial frequency of 0.015 μm −1 and 0.05 μm −1. A method for producing a mold for producing a dazzling film. 金型用基材の表面に銅めっきを施す第１めっき工程と、
第１めっき工程によってめっきが施された前記金型用基材の表面を研磨する研磨工程と、
研磨された前記金型用基材の表面に感光性樹脂を塗布して感光性樹脂膜を形成する感光性樹脂膜形成工程と、
前記パターンを前記感光性樹脂膜上に露光する露光工程と、
前記パターンが露光された前記感光性樹脂膜を現像する現像工程と、
現像された前記感光性樹脂膜をマスクとしてエッチング処理を行い、前記金型用基材のめっきが施された表面に凹凸を形成する第１エッチング工程と、
エッチング処理後に感光性樹脂膜を剥離する感光性樹脂膜剥離工程と、
第１エッチング工程によって形成された凹凸面をエッチング処理によって鈍らせる第２エッチング工程と、
第２エッチング工程によって鈍らされた凹凸面にクロムめっきを施す第２めっき工程とを含む、請求項４に記載の防眩フィルム製造用金型の製造方法。 A first plating step of copper plating on the surface of the mold base;
A polishing step of polishing the surface of the mold base material plated by the first plating step;
A photosensitive resin film forming step of forming a photosensitive resin film by applying a photosensitive resin to the polished surface of the mold base;
An exposure step of exposing the pattern on the photosensitive resin film;
A development step of developing the photosensitive resin film exposed to the pattern;
A first etching step of performing an etching process using the developed photosensitive resin film as a mask, and forming irregularities on the plated surface of the mold base;
A photosensitive resin film peeling step for peeling the photosensitive resin film after the etching treatment;
A second etching step of dulling the uneven surface formed by the first etching step by an etching process;
The manufacturing method of the metal mold | die for glare-proof film manufacture of Claim 4 including the 2nd plating process of chromium-plating to the uneven surface blunted by the 2nd etching process. 請求項４または５に記載の方法により製造された金型の凹凸面の形状を透明樹脂フィルムに転写した後、金型の凹凸面の形状が転写された透明樹脂フィルムを金型から剥がすことを含む防眩フィルムの製造方法。   6. After transferring the shape of the concavo-convex surface of the mold produced by the method according to claim 4 or 5 to the transparent resin film, peeling off the transparent resin film having the shape of the concavo-convex surface of the mold transferred from the mold. A method for producing an antiglare film.
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