JP6172895B2 - カラーフィルタ基板及びその製造方法 - Google Patents
カラーフィルタ基板及びその製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6172895B2 JP6172895B2 JP2012115747A JP2012115747A JP6172895B2 JP 6172895 B2 JP6172895 B2 JP 6172895B2 JP 2012115747 A JP2012115747 A JP 2012115747A JP 2012115747 A JP2012115747 A JP 2012115747A JP 6172895 B2 JP6172895 B2 JP 6172895B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film layer
- color film
- color
- black matrix
- layer pattern
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
- G02F1/133509—Filters, e.g. light shielding masks
- G02F1/133514—Colour filters
- G02F1/133516—Methods for their manufacture, e.g. printing, electro-deposition or photolithography
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
- G02B5/201—Filters in the form of arrays
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
- G03F7/34—Imagewise removal by selective transfer, e.g. peeling away
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
- G02F1/133509—Filters, e.g. light shielding masks
- G02F1/133512—Light shielding layers, e.g. black matrix
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Nonlinear Science (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Mathematical Physics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
- Optical Filters (AREA)
Description
ステップbでは、図3に示すように、ブラックマトリックス3の間の格子点及びブラックマトリックス上に一層のカラーフィルム層を塗布し、カラーフィルム層が塗布されたパターンを正面露光し、そして、第一のカラーフィルム層パターン2を現像してエッチングする。
ステップcでは、図4及び図5に示すように、ステップbと同じ技術によって第二、第三のカラーフィルム層パターン2をブラックマトリックス3上の格子点6で形成する。
第一、第二及び第三のカラーフィルム層パターン2は異なる格子点6内に順に配列される。
ステップdでは、透明平坦層4及び透明導電層5を第一、第二及び第三のカラーフィルム層パターン2の表面に覆い、図1に示すようなカラーフィルタ基板を得る。
カラーフィルム層パターン2の表面に透明平坦層4を堆積したが、カラーフィルム層パターン2のコナー段差は相変わらず存在している。それは、カラーフィルタの品質を依然として影響し、カラーフィルタの表示品質をある程度低下させる。従来のカラーフィルタを製造することは、四つのマスクを用いて透明平坦層4を堆積する必要があるので、製造コストが向上される。
本発明の実施例では、図7〜10に示すように、以下のようなステップでカラーフィルタ基板を製造する。
一つの透明ベース基板1と、
透明ベース基板1上に設けられ、互いに間隔6がある複数のカラーフィルム層パターン2と、
前記カラーフィルム層パターン2の間の間隔に設けられ、隣接するカラーフィルム層2とそれぞれ密接するブラックマトリックス3と(即ち、ブラックマトリックス3は複数のカラーフィルム層パターン2の間の間隔6を完全に充填する)、を備える。
例えば、各カラーフィルム層パターン2は厚みが同じであって上表面が同一平面内にあり、各ブラックマトリックス3と各カラーフィルム層パターン2は厚みが同じであって上表面が同一平面内にある。
2 カラーフィルム層パターン
3 ブラックマトリックス
4 透明平坦層
5 透明導電層
6 間隔
7 突起部
8 マスク
9 画素開口部
10 第一の主表面
20 第二の主表面
Claims (6)
- 第一の主表面及び前記第一の主表面と対向する第二の主表面とを有する透明ベース基板を用意する工程と、
前記透明ベース基板の第一の主表面上にカラーフィルム層を形成し、前記透明ベース基板の第二の主表面側に設けられるマスクを介して前記透明ベース基板の第二の主表面側から光を照射することで前記カラーフィルム層を露光し、互いに間隔がある複数のカラーフィルム層パターンを形成するように露光後のカラーフィルム層をエッチングする工程であって、前記カラーフィルム層パターンの、前記透明ベース基板に垂直する方向に沿う断面が、逆立ちの二等辺台形の形状をなす工程と、
前記複数のカラーフィルム層パターンの間の間隔でブラックマトリックスを形成し、前記ブラックマトリックスを前記複数のカラーフィルム層パターンの間の間隔を完全に充填させる工程と、を備え、
前記ブラックマトリックスを形成する工程は、
前記複数のカラーフィルム層パターンが形成されたベース基板の第一の主表面上にブラックマトリックスを形成するための膜層を形成し、前記複数のカラーフィルム層パターンをマスクとして前記透明ベース基板の第二の主表面側から光を照射することで前記ブラックマトリックスを形成するための膜層を露光し、前記ブラックマトリックスを形成するように露光後の前記ブラックマトリックスを形成するための膜層をエッチングするステップを含むことを特徴とするカラーフィルタ基板の製造方法。 - 前記複数のカラーフィルム層パターンは、厚みが前記ブラックマトリックスの厚みと同じであり、前記複数のカラーフィルム層パターンは上表面が前記ブラックマトリックスの上表面と同一平面内にあることを特徴とする請求項1に記載のカラーフィルタ基板の製造方法。
- 前記複数のカラーフィルム層パターンは、第一色のカラーフィルム層パターンと、第二色のカラーフィルム層パターンと、第三色のカラーフィルム層パターンとを備えることを特徴とする請求項1に記載のカラーフィルタ基板の製造方法。
- 前記複数のカラーフィルム層パターンを形成する工程は、
前記透明ベース基板の第一の主表面上に第一色のカラーフィルム層を形成し、前記第一色のカラーフィルム層を露光するように前記透明ベース基板の第二の主表面側から光を照射し、第一色のカラーフィルム層パターンを形成するように露光後の前記第一色のカラーフィルム層をエッチングするステップと、
前記第一色のカラーフィルム層パターンが形成された前記透明ベース基板の第一主表面上に第二色のカラーフィルム層を形成し、前記第二色のカラーフィルム層を露光するように前記透明ベース基板の第二の主表面側から光を照射して、第二色のカラーフィルム層パターンを形成するように露光後の前記第二色のカラーフィルム層をエッチングするステップと、
前記第一色のカラーフィルム層パターン及び前記第二色のカラーフィルム層パターンが形成された前記透明ベース基板の第一の主表面上に第三色のカラーフィルム層を形成し、前記第三色のカラーフィルム層を露光するように前記透明ベース基板の第二の主表面側から光を照射し、第三色のカラーフィルム層パターンを形成するように露光後の前記第三色のカラーフィルム層をエッチングする工程と、を備えることを特徴とする請求項1に記載のカラーフィルタ基板の製造方法。 - 前記ブラックマトリックスは、材料が遮光樹脂またはクロムであることを特徴とする請求項1に記載のカラーフィルタ基板の製造方法。
- 前記複数のカラーフィルム層パターン及び前記ブラックマトリックスを形成した後、前記ブラックマトリックス及び前記複数のカラーフィルム層パターンの上表面上に一層の透明導電層をスパッタすることを特徴とする請求項1に記載のカラーフィルタ基板の製造方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201110130435.4 | 2011-05-19 | ||
CN2011101304354A CN102645690A (zh) | 2011-05-19 | 2011-05-19 | 一种彩色滤光片及其制造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012242840A JP2012242840A (ja) | 2012-12-10 |
JP6172895B2 true JP6172895B2 (ja) | 2017-08-02 |
Family
ID=46201395
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012115747A Expired - Fee Related JP6172895B2 (ja) | 2011-05-19 | 2012-05-21 | カラーフィルタ基板及びその製造方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20120293883A1 (ja) |
EP (1) | EP2525250B1 (ja) |
JP (1) | JP6172895B2 (ja) |
KR (1) | KR101453418B1 (ja) |
CN (1) | CN102645690A (ja) |
Families Citing this family (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102778714B (zh) * | 2011-06-02 | 2014-10-22 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种彩色滤光片及其制造方法 |
CN102981306B (zh) * | 2012-12-07 | 2016-03-30 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种彩色滤光片的制作方法 |
CN104062845A (zh) * | 2014-05-23 | 2014-09-24 | 京东方科技集团股份有限公司 | 下基板及其制造方法和液晶透镜 |
CN105388661B (zh) | 2015-12-21 | 2019-01-04 | 京东方科技集团股份有限公司 | 彩膜基板及其制作方法、显示装置 |
CN105629557B (zh) * | 2016-01-08 | 2018-12-21 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种彩膜基板及其制备方法、液晶显示器 |
CN105428245B (zh) | 2016-01-26 | 2019-03-01 | 京东方科技集团股份有限公司 | 像素结构及其制备方法、阵列基板和显示装置 |
CN105676332A (zh) * | 2016-04-26 | 2016-06-15 | 东旭(昆山)显示材料有限公司 | 彩色滤光片及其制造方法 |
CN106405923A (zh) * | 2016-10-28 | 2017-02-15 | 京东方科技集团股份有限公司 | 彩膜基板的制造方法、彩膜基板和显示装置 |
CN109272870B (zh) * | 2018-10-08 | 2021-08-31 | 惠科股份有限公司 | 一种显示面板和制作方法 |
CN110346960A (zh) * | 2019-07-02 | 2019-10-18 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 一种玻璃基板上的黑色矩阵的制备方法及其应用 |
Family Cites Families (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2587653B2 (ja) * | 1987-09-24 | 1997-03-05 | 富士写真フイルム株式会社 | カラーフィルターの製造方法 |
JPH0895024A (ja) * | 1994-09-28 | 1996-04-12 | Canon Inc | カラーフィルター、その製造方法、及び同カラーフィルターを組込んだ液晶表示パネル |
JPH08278497A (ja) * | 1995-04-07 | 1996-10-22 | Toshiba Corp | カラーフィルタおよびその製造方法 |
JP3564846B2 (ja) * | 1996-01-19 | 2004-09-15 | 凸版印刷株式会社 | カラーフィルタ及びその製造方法 |
KR100502365B1 (ko) * | 1996-08-02 | 2005-10-13 | 도판인사츠가부시키가이샤 | 흑색감광성수지조성물,이를이용한컬러필터및그제조방법 |
JP3374706B2 (ja) * | 1997-06-30 | 2003-02-10 | 凸版印刷株式会社 | 黒色感光性樹脂組成物およびそれを用いたカラーフィルタとその製造方法 |
KR100313248B1 (ko) * | 1999-12-14 | 2001-11-07 | 구본준, 론 위라하디락사 | 칼라필터 |
JP2001194521A (ja) * | 2000-01-12 | 2001-07-19 | Hitachi Ltd | カラーフィルタの製造方法、およびこのカラーフィルタを用いた液晶表示装置 |
JP2002072189A (ja) * | 2000-08-24 | 2002-03-12 | Toray Ind Inc | 分割配向用透明導電膜及びこれを用いた液晶表示装置 |
KR20030026735A (ko) * | 2001-09-28 | 2003-04-03 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 필름 전사법에 의한 액정표시장치용 컬러필터 기판 및그의 제조방법 |
JP2003177228A (ja) * | 2001-12-10 | 2003-06-27 | Toppan Printing Co Ltd | カラーフィルター用黒色感光性組成物、カラーフィルター及びカラーフィルターの製造方法 |
US7310124B2 (en) * | 2003-05-09 | 2007-12-18 | Sharp Kabushiki Kaisha | Color filter substrate, method of manufacturing the color filter and display device |
JP4413062B2 (ja) * | 2004-04-13 | 2010-02-10 | シャープ株式会社 | パターニングされた膜を有する基板の製造方法 |
JP4602058B2 (ja) * | 2004-11-30 | 2010-12-22 | 大日本印刷株式会社 | カラーフィルターの製造方法 |
JP2006267461A (ja) * | 2005-03-23 | 2006-10-05 | Toppan Printing Co Ltd | 転写用凹版とこの転写用凹版を用いた半透過型カラーフィルタの作製方法、およびこの作製方法からなる半透過型カラーフィルタ |
JP4772482B2 (ja) * | 2005-12-02 | 2011-09-14 | 富士フイルム株式会社 | カラーフィルタ及びその製造方法、並びにカラーフィルタを有する表示装置 |
JP4887873B2 (ja) * | 2006-04-05 | 2012-02-29 | 大日本印刷株式会社 | パターン形成体の製造方法 |
CN100465672C (zh) * | 2006-09-01 | 2009-03-04 | 北京京东方光电科技有限公司 | 一种彩色滤光片结构及其制造方法 |
JP5266867B2 (ja) * | 2008-05-14 | 2013-08-21 | 大日本印刷株式会社 | 半透過型液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法 |
-
2011
- 2011-05-19 CN CN2011101304354A patent/CN102645690A/zh active Pending
-
2012
- 2012-05-18 US US13/475,540 patent/US20120293883A1/en not_active Abandoned
- 2012-05-18 EP EP12168545.7A patent/EP2525250B1/en not_active Not-in-force
- 2012-05-18 KR KR1020120053314A patent/KR101453418B1/ko active IP Right Grant
- 2012-05-21 JP JP2012115747A patent/JP6172895B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20130130259A (ko) | 2013-12-02 |
EP2525250B1 (en) | 2015-02-18 |
EP2525250A1 (en) | 2012-11-21 |
KR101453418B1 (ko) | 2014-10-22 |
JP2012242840A (ja) | 2012-12-10 |
CN102645690A (zh) | 2012-08-22 |
US20120293883A1 (en) | 2012-11-22 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6172895B2 (ja) | カラーフィルタ基板及びその製造方法 | |
CN102681067B (zh) | 彩色滤光片及其制备方法 | |
WO2016095278A1 (zh) | 用于显示器的彩膜基板及其制造方法和彩膜基板的光罩 | |
JP4473253B2 (ja) | カラーフィルタ基板及びその製造方法 | |
WO2016187987A1 (zh) | 一种显示面板及其制作方法、显示装置 | |
CN102109714B (zh) | 取向层及其制备方法、包括该取向层的液晶显示装置 | |
JP4959631B2 (ja) | グレースケールマスク | |
WO2020224317A1 (zh) | 彩膜基板、液晶显示装置、彩膜基板的制备方法以及液晶显示装置的制备方法 | |
WO2014134886A1 (zh) | 彩膜基板及其制作方法、液晶显示屏 | |
CN108196421B (zh) | 灰阶掩膜版制作方法 | |
WO2010098093A1 (ja) | カラーフィルタ及びカラーフィルタの製造方法 | |
CN105093818B (zh) | 掩模图形的制造方法和掩模图形 | |
US20180210283A1 (en) | Color film substrate and manufacturing method thereof | |
CN108594512B (zh) | 彩膜基板的制作方法 | |
WO2020206779A1 (zh) | 彩膜基板以及显示面板 | |
CN102707565B (zh) | 一种黑矩阵的制作方法、彩色滤光片及显示装置 | |
JP5549233B2 (ja) | カラーフィルタ基板の露光方法 | |
JP2011145376A (ja) | フォトマスク、カラーフィルタ基板、画素電極基板、液晶表示装置、カラーフィルタ基板の製造方法及び画素電極基板の製造方法 | |
TW201407247A (zh) | 藍相液晶顯示面板及其電極製造方法 | |
US20160070039A1 (en) | Method of manufacturing a liquid crytal display panel and color filter, and equipment of manufacturing thereof | |
TW200424598A (en) | Photo mask and diffuse reflection sheet | |
CN110967849B (zh) | 一种节省掩膜成本的异形屏生产方法 | |
JP2011145378A (ja) | フォトマスク、カラーフィルタ基板、画素電極基板、液晶表示装置、カラーフィルタ基板の製造方法及び画素電極基板の製造方法 | |
JP2010175597A (ja) | フォトマスク、カラーフィルタの製造方法、カラーフィルタ、及び液晶表示装置 | |
JP2009282290A (ja) | フォトマスク、カラーフィルタ、液晶表示装置、及びカラーフィルタの製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20150424 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20151117 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20151120 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20160120 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20160704 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20161004 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20161202 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20170605 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20170704 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6172895 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |