JP5549233B2 - カラーフィルタ基板の露光方法 - Google Patents

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Description

本発明は、液晶表示装置等に用いられるカラーフィルタ基板の露光方法に関する。
近年の液晶表示装置の大型化に伴い、液晶表示装置に用いられるカラーフィルタも大型化している。カラーフィルタの製造工程では、フォトリソグラフィ法によって着色層をパターニングするが、大型の露光マスクは非常に高価であるため、カラーフィルタの製造コストが高くなるという問題がある。そこで、小型マスクを用いた新しい露光方法が種々検討されている。
小型マスクを用いた露光方法としては、基板の大きさより小さなフォトマスクを露光ヘッドに装着した露光機を用い、基板を搬送しながら、露光対象となる基板全面に対して繰り返し露光を行う方式（以下「小型マスク連続露光方式」という）がある。
図１０は、小型マスク連続露光方式における露光方法を示す平面図であり、図１１は、基板とフォトマスクとブラインドシャッターとの位置関係を示す側面図である。
図１０に示すように、フォトマスク１３０を基板１２０に対して配置する。フォトマスクには、例えば、ドット状の着色画素やフォトスペーサー（以下「ＰＳ」という）に対応する複数の開口１３１が設けられている。基板１２０を図の矢印方向に搬送しながら、基板１２０上の表示領域に開口１３１を通じて順次焼き付けを行い、着色画素やフォトスペーサー（図示せず）を形成する。
基板１２０は、着色画素が形成される表示領域１４０及び表示領域１４０の外周を取り囲む非表示領域１５０を有する。表示領域１４０に形成されるＰＳは、カラーフィルタ基板１１０と対向基板であるＴＦＴ基板との貼り合わせ時に両基板の間隔を一定に保つためのものである。ＰＳは非表示領域１５０にも設けられる場合がある（非表示領域１５０に設けられるＰＳを以下「ダミーＰＳ」という）。ダミーＰＳは、カラーフィルタ基板１１０とＴＦＴ基板との貼り合わせの際に、表示領域１４０の外側における両基板の間隔を一定に保持し、セルギャップ（液晶が入っているセルの間隙）を安定化させるために重要な役割を担う。
特開２００６−２９２９５５号公報
一般に、ＰＳ（ダミーＰＳを含む）はカラーフィルター基板内の全ての部分に配置されるわけではなく、ＴＦＴ配線との接触や基板の切り出し時の障害とならないように、部分的にダミーＰＳの形成されない領域が存在する。このダミーＰＳの形成されない領域は、カラーフィルタ基板とＴＦＴ基板との貼り合わせ時に基板が撓む要因となり、表示領域とその周辺とで貼り合わせ時の応力が異なる。そこで、カラーフィルタ基板とＴＦＴ基板との張り合わせ時に発生する応力の分布に合わせて、ダミーＰＳの配置密度、大きさ、高さが、表示領域内のＰＳとは別に調整される。また、カラーフィルタ基板の製造工程で必要なアラミメントマーク等との干渉を避ける目的で、ダミーＰＳは、非表示領域において不規則なピッチで配置される。
しかし、上述した小型マスク連続露光方式では、基板搬送方向に対して同一のパターンを繰り返し焼き付けるため、途中でパターンの形状やパターンの配列ピッチを切り替えることができない。また、図１０に示すように、１枚の基板１２０には複数のカラーフィルタ１１０が露光されるが、この時、基板搬送方向に並ぶ表示領域１４０で挟まれた部分には、表示領域１４０と同じフォトマスクで露光を行わない。そのため、図１１に示すように、基板と同期して移動するブラインドシャッターを設け、表示領域１４０間の領域を遮光する。これにより、非表示領域１５０において、基板搬送方向に直交する辺に沿う部分にはダミーＰＳを露光することができないという問題がある。
それ故に、本発明では、小型マスク連続露光方式を用いて、カラーフィルタ基板の表示領域の外側の非表示領域にダミーＰＳを効率的に形成できる露光方法を提供することを目的とする。
本発明は、第１の方向に延びる一対の辺と第１の方向と直交する第２の方向に延びる一対の辺とを有する矩形状の表示領域と、第１の方向の辺の各々に沿う一対の第１の非表示領域と、第２の方向の辺の各々に沿う一対の第２の非表示領域とを有し、表示領域に複数の着色画素及び複数のフォトスペーサー（ＰＳ）が設けられ、第１及び第２の非表示領域に複数のダミーフォトスペーサー（ダミーＰＳ）が設けられるカラーフィルタ基板の露光方法に関するものである。
本発明に係るカラーフィルタ基板の露光方法は、フォトレジストを塗布した基板を第１の方向に搬送しながら、間欠的に複数回の露光を行い、第１の非表示領域に第１のダミーＰＳを構成する第１のレイヤーを形成する工程と、フォトレジストを塗布した基板を第２の方向に搬送しながら、間欠的に複数回の露光を行い、第２の非表示領域に第２のダミーＰＳを構成する第２のレイヤーを形成する工程とを備える。第１のレイヤーを形成する工程と、第２のレイヤーを形成する工程とを任意の順序で行う。第１のレイヤーと第２のレイヤーとは、着色画素を形成する材料とは異なる材料により形成する。
本発明に係る他のカラーフィルタ基板の露光方法は、第１の色のフォトレジストを塗布した基板を第１の方向に搬送しながら、間欠的に複数回の露光を行い、表示領域内に第１の色の着色画素を形成すると共に、第１の非表示領域内に第１の色の着色画素を形成する材料と同一材料からなり、第１のダミーＰＳを構成する第１のレイヤーを形成する工程と、第２の色のフォトレジストを塗布した基板を第２の方向に搬送しながら、間欠的に複数回の露光を行い、表示領域内に第２の色の着色画素を形成すると共に、第２の非表示領域内に第２の色の着色画素を形成する材料と同一材料からなり、第２のダミーＰＳを構成する第２のレイヤーを形成する工程と、第３の色のフォトレジストを塗布した基板を第１または第２の方向に搬送しながら、間欠的に複数回の露光を行い、表示領域に第３の色の着色画素を形成する工程と、フォトレジストを塗布した基板に対して１回の露光を行い、第１の非表示領域内の第１のレイヤー上に第１のダミーＰＳを構成する第３のレイヤーを形成すると共に、第２の非表示領域内の第２のレイヤー上に第２のダミーＰＳを構成する第４のレイヤーを形成する工程とを備える。第１の色の着色画素及び第１のレイヤーを形成する工程と、第２の色の着色画素及び第２のレイヤーを形成する工程と、第３の色の着色画素を形成する工程とを任意の順序で行う。第３及び第４のレイヤーは、着色画素を形成する材料とは異なる材料により形成する。
また、本発明は、第１の方向に延びる一対の辺と第１の方向と直交する第２の方向に延びる一対の辺とを有する矩形状の表示領域と、第１の方向の辺の各々に沿う一対の第１の非表示領域と、第２の方向の辺の各々に沿う一対の第２の非表示領域とを有するカラーフィルタ基板に関するものである。
本発明に係るカラーフィルタ基板は、表示領域内に設けられる複数の着色画素と、表示領域内に設けられる複数のフォトスペーサーと、第１の非表示領域内に形成され、着色画素を形成する材料とは異なる材料から形成される第１のレイヤーからなる第１のダミーフォトスペーサーと、第２の非表示領域内に形成され、着色画素を形成する材料とは異なる材料から形成される第２のレイヤーからなる第２のダミーフォトスペーサーとを備える。
本発明の他のカラーフィルタ基板は、表示領域内に形成される着色画素と、表示領域内に形成されるフォトスペーサーと、第１の非表示領域に設けられ、第１の色の着色画素と同一材料から形成される第１のレイヤーと、第１のレイヤー上に積層され、着色画素とは異なる材料から形成される第３のレイヤーとからなる第１のダミーフォトスペーサーと、第２の非表示領域に設けられ、第２の色の着色画素と同一材料から形成される第２のレイヤーと、第２のレイヤー上に積層され、着色画素とは異なる材料から形成される第４のレイヤーとからなる第２のダミーＰＳとを備える。
本発明によると、小型マスク連続露光方式を用いて、カラーフィルタ基板の表示領域４辺の外側に位置する非表示領域の全域にダミーＰＳを露光することができる。
本発明の各実施形態に共通する基本的な露光方法を示す平面図 本発明の各実施形態に共通するフォトマスクの開口の配置例を示す平面図 本発明の各実施形態に共通する基本的な露光方法を示す平面図 本発明の各実施形態に共通するカラーフィルタの平面図 図４に示すＢ部分の拡大図 第１の実施形態に係るカラーフィルタ基板上のＰＳ及びダミーＰＳの断面図 第１の実施形態に係るカラーフィルタ基板の露光方法を示す平面図 第２の実施形態に係るカラーフィルタ基板上のＰＳ及びダミーＰＳの断面図 第２の実施形態に係るカラーフィルタ基板の露光方法を示す平面図 小型露光マスク連続露光方式による露光方法を示す平面図 基板とフォトマスクとブラインドシャッターとの位置関係を示す側面図
（基本構成）
図１は、本発明の各実施形態に共通する基本的な露光方法を示す平面図である。図２は、本発明の各実施形態に共通する基本的なフォトマスクの開口の配置を示す平面図であって、図１のＡ部分の拡大図である。図１において、右下がりのハッチングで示す領域は表示画素が配列される表示領域であり、右上がりのハッチングで示す領域は後述する第１の非表示領域である。また、以降の各図面においては、説明の便宜上、互いに直交するＸ方向及びＹ方向を用いて基板の向きを特定する。具体的には、Ｘ方向は、表示領域の対向する短辺に平行な方向であり、Ｙ方向は、表示領域の対向するに長辺に平行な方向である（以下の図においても同様である）。
図１に示すように、フォトマスク３０ａ〜３０ｌは、複数の露光ヘッドに夫々装着され、Ｘ方向に整列する２行に分けて配置されている。より詳細には、１行目（基板２０の投入側）には、所定間隔を空けてフォトマスク３０ａ、３０ｃ、３０ｅ、３０ｇ、３０ｉ、３０ｋが配置され、２行目には、１行目のフォトマスクの間隔部分に対応して、フォトマスク３０ｂ、３０ｄ、３０ｆ、３０ｈ、３０ｊ、３０ｌが相補的に配置されている。
フォトマスク３０ａ〜３０ｌには、表示領域４０における複数の着色画素、複数のＰＳに対応する開口が設けられており、更に、フォトマスク３０ａの左端、３０ｅの右端、３０ｆの左端及び３０ｋには、後述する第１の非表示領域５１に形成される複数のダミーＰＳに対応する開口が設けられる。
ここで、図２に示すように、フォトマスク３０ａには、開口の配列３１及び３２が２つの領域に分けて形成されている（図示は省略するが、他のフォトマスク３０ｂ〜３０ｌについても同様である）。これは、１枚のフォトマスクで２通りのパターンを形成可能とするためである。使用方法としては、Ｙ方向に基板２０を搬送する場合は開口３１を用いて露光を行い、後述するＸ方向に基板２０を搬送する場合は開口３２を用いて露光を行う。基板搬送方向をＸ及びＹ方向で切り替える際には、光源に対して開口の配列３１又は３２が選択的に対向するようにフォトマスクを上下にシフトさせ、使用する開口の配列を切り替える。
図１の例では、基板２０上に８つのカラーフィルタ基板１０が形成される。露光時には、図１に示すように配列したフォトマスク３０ａ〜３０ｌに対して、図１に示すように、基板２０のＹ方向と搬送方向を一致させ、所定の速度で基板２０を搬送しながら間欠的に複数回の露光を行い、基板２０上の表示領域４０に着色画素及びＰＳを順次パターニングし、表示領域４０のＹ方向の辺の各々に沿う一対の領域（以下「第１の非表示領域」という）５１にダミーＰＳを順次パターニングする。この過程において、基板搬送方向に隣接する表示領域４０間の領域は、ブラインドシャッターを用いて遮光される。
図３は、本発明の各実施形態に共通する基本的な露光方法を示す平面図であって、図１の露光方法と組み合わせて行われる露光方法を示す。図３において、右下がりハッチングで示す領域は表示領域であり、右上がりのハッチングで示す領域は後述する第２の非表示領域である。
Ｙ方向にスキャン露光を行った後には、第１の非表示領域５１の露光が終了した基板２０を、図１に示した状態から９０度回転させ、フォトマスク３０ａ〜３０ｌに対して図３に示すように設置する（基板の搬送方向と基板のＸ方向とが一致する）。図３に示す露光時には、基板２０の向きに応じて露光すべきパターンを変える必要があるが、フォトマスク毎換装する代わりに、フォトマスク３０ａ〜３０ｌの夫々に設けられた他方の開口の配列３２（図２参照）を用いることができる。また、フォトマスク３０ａ〜３０ｌには、表示領域４０における複数の着色画素、複数のＰＳに対抗する開口が設けられており、更に、フォトマスク３０ａの左端、３０ｃの右端、３０ｄの左端、３０ｆの右側、３０ｇの左端、３０ｉの右側、３０ｊの左側及び３０ｌの右側には第２の非表示領域５２に形成される複数のダミーＰＳに対応する開口が設けられる。
基板２０のＸ方向と搬送方向とを一致させ、所定の速度で基板２０を搬送しながら間欠的に複数回露光を行い、基板２０上の表示領域４０に着色画素及びＰＳを表示領域４０に順次パターニングし、表示領域４０におけるＸ方向の辺の各々に沿う一対の領域（以下「第２の非表示領域」という）５２にダミーＰＳを順次パターニングする。この過程において、基板搬送方向に隣接する表示領域４０間の領域は、ブラインドシャッターを用いて遮光される。
尚、表示領域４０内の同一色の着色画素及びＰＳを構成する同一色の層は、Ｘ方向またはＹ方向の一回のスキャンで露光しても良いし、Ｘ及びＹ方向の２回のスキャンに分けて露光しても良い。
図４は、露光後のカラーフィルタ基板の平面図であり、図５は、図４のＢ部分の拡大図である。
Ｘ及びＹ方向に小型マスク連続露光を行った後のカラーフィルタ基板１０は、表示領域４０に着色画素（図示せず）やＰＳ９０を有し、かつ、第１の非表示領域５１及び第２の非表示領域５２に複数のダミーＰＳ７１及び７２を有する。
以下、図６〜１３と共に図５を参照しながら、各実施形態に係る露光方法を説明する。
（第１の実施形態）
図６は、第１の実施形態に係るカラーフィルタ基板の一部の断面図であり、より特定的には、（ａ）は、図５のＩ−Ｉラインに沿う部分及びＩＩ―ＩＩに沿う部分に相当する断面図であり、（ｂ）は、図５のＩＩＩ−ＩＩＩラインに沿う部分に相当する断面図である。
図６（ａ）に示すように、第１の非表示領域５１及び第２の非表示領域５２においては、ブラックマトリクス６１及びＩＴＯ膜６３が積層された基板２０上に、ダミーＰＳ７１を構成する第１のレイヤー８１またはダミーＰＳ７２を構成する第２のレイヤー８２が形成されている。表示領域４０においては、（ｂ）に示すように、基板２０上にブラックマトリクス６１と着色層６２とＩＴＯ膜６３とが積層されている。そして、ブラックマトリクス６１の上層にあるＩＴＯ膜６３上に第１のＰＳ９０を構成するレイヤー９１が形成されている。本実施形態では、第１のレイヤー８１及びレイヤー９０は、例えば、着色画素を構成する着色層とは異なる絶縁樹脂により形成される。
図７は、第１の実施形態に係るカラーフィルタ基板の露光方法を示す平面図である。尚、説明の簡略化の為、基板全面のうち１つのカラーフィルタ基板に対応する領域のみを図示している。また、図７における上方向が基板の搬送方向である。
まず、公知の手法を用いて、基板２０上にブラックマトリクス６１と着色画素６２とを形成し、更にブラックマトリクス６１と着色画素６２とを覆うようにＩＴＯ膜６３を形成する。更に、基板２０上にフォトレジストを塗布する。
（ａ）に示すＹ方向に基板２０を搬送しながら、基板２０上の第１の非表示領域５１（右上がりのハッチングで示す領域）に第１のレイヤー８１を露光しながら、表示領域４０（右下がりハッチングで示す領域）にレイヤー９０を露光する。
次に、基板２０を９０度回転させて、（ｂ）に示すＸ方向に基板２０を搬送しながら、第２の非表示領域５２（右上がりのハッチングで示す領域）に第２のレイヤー８２を露光する。
このように、基板２０に対してＸ及びＹ方向に１回ずつ小型マスク連続露光を行うことで、所望の配置ピッチ及び形状にて、第１の非表示領域５１内に単層からなるダミーＰＳ７１を形成し、第２の非表示領域５２内に単層からなるダミーＰＳ７２を形成することができる。
（第２の実施形態）
図８は、第２の実施形態に係るカラーフィルタ基板上のＰＳ及びダミーＰＳの断面図である。より特定的には、（ａ）は、図５のＩ−Ｉラインに沿う部分に相当する断面図であり、（ｂ）は、図５のＩＩ―ＩＩに沿う部分に相当する断面図であり、（ｃ）は、図５のＩＩＩ−ＩＩＩラインに沿う部分に相当する断面図である。
図８（ａ）に示すように、第１の非表示領域５１においては、ブラックマトリクス６１が表面に形成された基板２０上に、ダミーＰＳ７１を構成する第１のレイヤー８１及び第３のレイヤー８３とが形成されている。第２の非表示領域５２においては、（ｂ）に示すように、ブラックマトリクス６１が表面に形成された基板２０上に、ダミーＰＳ７２を構成する第２のレイヤー８１及び第４のレイヤー８４とが形成されている。表示領域４０においては、（ｃ）に示すように、基板２０上にブラックマトリクス６１と着色層６２とが積層されている。ブラックマトリクス６１上の着色層６２には、ＰＳ９０を構成するレイヤー９１〜９３が積層されている。第３のレイヤー８３、第４のレイヤー８４及びレイヤー９３は、着色画素を構成する着色層とは異なる絶縁樹脂により形成される。
図９は、第２の実施形態に係るカラーフィルタ基板の露光方法を示す平面図である。図９においても、上方向が基板の搬送方向である。
まず、公知の手段を用いて、基板２０上にブラックマトリクス６１を形成する。更に、基板２０に赤色のフォトレジストを塗布して、（ａ）に示すＹ方向に基板２０を搬送しながら小型マスク連続露光を行うことで、表示領域４０内に赤色の着色層６２を形成し、第１の非表示領域５１内に第１のレイヤー８１を形成する。
次に、基板２０に緑色のフォトレジストを塗布し、（ｂ）に示すＸ方向に基板２０を搬送しながら小型マスク連続露光を行うことで、表示領域４０内に緑色の着色画素とレイヤー９１を形成し、第２の非表示領域５２内に第２のレイヤー８２を形成する。
次に、基板２０に青色のフォトレジストを塗布し、（ｃ）に示すＹ方向に基板２０を搬送しながら小型マスク連続露光を行うことで、表示領域４０内に青色の着色画素とレイヤー９２を形成する。尚、本工程では、Ｘ方向に基板２０を搬送しながら小型マスク連続露光を行っても良い。
次に、表示領域４０、第１の非表示領域５１及び第２の非表示領域５２を覆うように、ＩＴＯ膜６３を形成する。
最後に、絶縁樹脂よりなるフォトレジストを基板２０に塗布し、（ｄ）に示すように、基板２０に対して１回の露光を行い、第１の非表示領域５１内の第１のレイヤー８１上に第３のレイヤー８３を形成すると同時に、第２の表示領域５２内の第２のレイヤー８２上に第４のレイヤー８４を形成し、表示領域４０内のレイヤー９２上にレイヤー９３を形成する。この工程では、小型のマスクではなく、１枚のカラーフィルタ基板に対応する大きさの１枚のフォトマスクが使用される。
このように、第１〜３の色の着色画素と同一材料からなる１層のレイヤーと、絶縁樹脂よりなる１層のレイヤーとの積層体としてサブＰＳを形成した場合でも、第１の非表示領域及び第２の非表示領域及び表示領域を一括して露光することできる。また、積層構造とすることにより、ダミーＰＳを更に高く形成することができる。
尚、上記の第１の実施形態においては、基板のスキャン順序をＸ方向、Ｙ方向に特定しており、上記の第２の実施形態では、基板のスキャン順序をＸ方向、Ｙ方向、Ｘ方向に特定しているが、スキャン順序はこれらに限定されない。例えば、第１の実施形態においては、図７の（ａ）と（ｂ）とを逆の順番で行っても良い。更に、第２の実施形態においては、図９の（ａ）、（ｃ）、（ｂ）及び（ｄ）の順、または、図９の（ｂ）、（ａ）、（ｃ）及び（ｄ）の順、または、図９の（ｂ）、（ｃ）、（ａ）及び（ｄ）の順、図９の（ｃ）、（ａ）、（ｂ）及び（ｄ）の順、または、図９の（ｃ）、（ｂ）、（ａ）及び（ｄ）の順のいずれで行っても良い。
また、上記の第１及び２の実施形態においては、非表示領域のダミーＰＳを形成しながら表示領域のＰＳを形成しているが、必ずしもこれに限定されず、ＰＳは別の工程で作製しても良い。
更に、上記の第２の実施形態においては、着色層の色と形成順序を特定しているが、色や形成順序は第２の実施形態の例に限定されず、任意である。
本発明は、例えば、液晶表示装置や有機ＥＬに用いられるカラーフィルタ基板の露光方法に用いることができる。
１０ カラーフィルタ基板
２０ 基板
３０ フォトマスク
３１、３２ 開口の配列
４０ 表示領域
５１ 第１の非表示領域
５２ 第２の非表示領域
６１ ブラックマトリクス
６２ 着色層
６３ ＩＴＯ膜
７１、７２ ダミーＰＳ
８１ 第１のレイヤー
８２ 第２のレイヤー
８３ 第３のレイヤー
８４ 第４のレイヤー
９０ ＰＳ
９１〜９４ レイヤー

Claims (2)

  1. 第１の方向に延びる一対の辺と前記第１の方向と直交する第２の方向に延びる一対の辺とを有する矩形状の複数の表示領域と、前記第１の方向の辺の各々に沿う一対の第１の非表示領域と、前記第２の方向の辺の各々に沿う一対の第２の非表示領域とを有し、前記表示領域に複数の着色画素及び複数のフォトスペーサー（ＰＳ）が設けられ、前記第１及び第２の非表示領域の各々の、少なくとも前記複数の表示領域間の各領域に複数のダミーフォトスペーサー（ダミーＰＳ）が設けられるカラーフィルタ基板の露光方法であって、
    フォトレジストを塗布した基板を前記第１の方向に搬送しながら、間欠的に複数回の露光を行い、前記第１の非表示領域に第１のダミーＰＳを構成する第１のレイヤーを形成する工程と、
    フォトレジストを塗布した基板を前記第２の方向に搬送しながら、間欠的に複数回の露光を行い、前記第２の非表示領域に第２のダミーＰＳを構成する第２のレイヤーを形成する工程とを備え、
    前記第１のレイヤーを形成する工程と、前記第２のレイヤーを形成する工程とを任意の順序で行い、
    前記第１のレイヤーと前記第２のレイヤーとを、前記着色画素を形成する材料とは異なる材料により形成する、カラーフィルタ基板の露光方法。
  2. 第１の方向に延びる一対の辺と前記第１の方向と直交する第２の方向に延びる一対の辺とを有する矩形状の複数の表示領域と、前記第１の方向の辺の各々に沿う一対の第１の非表示領域と、前記第２の方向の辺の各々に沿う一対の第２の非表示領域とを有し、前記表示領域に複数の着色画素及び複数のフォトスペーサー（ＰＳ）が設けられ、前記第１及び第２の非表示領域の各々の、少なくとも前記複数の表示領域間の各領域に複数のダミーフォトスペーサー（ダミーＰＳ）が設けられるカラーフィルタ基板の露光方法であって、
    第１の色のフォトレジストを塗布した基板を前記第１の方向に搬送しながら、間欠的に複数回の露光を行い、前記表示領域内に第１の色の着色画素を形成すると共に、前記第１の非表示領域内に前記第１の色の着色画素を形成する材料と同一材料からなり、第１のダミーＰＳを構成する第１のレイヤーを形成する工程と、
    第２の色のフォトレジストを塗布した基板を前記第２の方向に搬送しながら、間欠的に複数回の露光を行い、前記表示領域内に第２の色の着色画素を形成すると共に、前記第２の非表示領域内に前記第２の色の着色画素を形成する材料と同一材料からなり、第２のダミーＰＳを構成する第２のレイヤーを形成する工程と、
    第３の色のフォトレジストを塗布した基板を前記第１または前記第２の方向に搬送しながら、間欠的に複数回の露光を行い、前記表示領域に第３の色の着色画素を形成する工程と、
    フォトレジストを塗布した基板に対して１回の露光を行い、前記第１の非表示領域内の第１のレイヤー上に前記第１のダミーＰＳを構成する第３のレイヤーを形成すると共に、前記第２の非表示領域内の第２のレイヤー上に前記第２のダミーＰＳを構成する第４のレイヤーを形成する工程とを備え、
    前記第１の色の着色画素及び前記第１のレイヤーを形成する工程と、前記第２の色の着色画素及び前記第２のレイヤーを形成する工程と、前記第３の色の着色画素を形成する工程とを任意の順序で行い、
    前記第３及び第４のレイヤーを、前記着色画素を形成する材料とは異なる材料により形成する、カラーフィルタ基板の露光方法。
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