JP6166855B1 - 操作用電磁弁取付構造及び流体制御弁 - Google Patents

Abstract

操作ポート（１３１Ａ）を備えるシリンダ（１３１）に、シリンダ（１３１）に供給する操作流体を制御する操作用電磁弁（６）を取り付ける操作用電磁弁取付構造において、操作用電磁弁（６）が取り付けられた取付ブロック（２）と、操作ポート（１３１Ａ）の雌ねじ（１３１Ｄ）に螺合されて取付ブロック（２）をシリンダ（１３１）に取り付ける取付ねじ（３）とを有し、取付ブロック（２）が、操作流体を操作用電磁弁（６）に供給する入力流路（２ｅ）と、操作用電磁弁（６）によって制御された操作流体が流れる出力流路（２ｆ）と、取付ねじ（３）が貫通されるものであって出力流路（２ｆ）に連通する貫通孔（２ｂ）とを形成し、取付ねじ（３）には、操作ポート（１３１Ａ）と出力流路（２ｆ）とを連通させる内部流路（３ｈ）を形成し、貫通孔（２ｂ）の内壁と取付ねじ（３）との間をシール部材（５）とシール部材（１０）によりシールする。

Description

本発明は、操作ポートを備えるシリンダと、シリンダに供給する操作流体を制御する操作用電磁弁とを備える操作用電磁弁取付構造及び流体制御弁に関する。

例えば半導体製造装置は、チャンバに設置したウエハにガス（制御流体の一例）を供給することにより、ウエハに膜を形成する。膜の品質は、ガスの供給量に左右される。そのため、チャンバには、ガスを制御する流体制御弁がガス供給口に配設される。

例えば、第１従来例の流体制御弁（例えば、特許文献１参照）は、操作用電磁弁により駆動される。操作用電磁弁は、チューブを介して流体制御弁に備えられた駆動部のシリンダに接続されている。チューブは、シリンダに螺合される継手を介してシリンダに接続されている。かかる流体制御弁は、操作用電磁弁が非通電の場合には、チューブからシリンダに操作流体が供給されず、弁閉状態になる。一方、流体制御弁は、操作用電磁弁に通電されると、操作流体がチューブからシリンダに供給され、駆動部が駆動して弁部を弁開状態にする。

ところで、半導体は、微細化、高密度化が進んでいる。それに伴い、半導体製造工程では、数ナノメートルの薄い膜でも正確に形成でき、アスペクト比の高い部分にも膜を形成できるＡＬＤ（原子層堆積）プロセスが用いられるようになった。ＡＬＤプロセスは、ガスの供給と排気を何度も繰り返すことで、ナノメートルスケールで膜厚を制御する。この場合、流体制御弁は、高頻度で弁開閉動作を行うことになる。また、１回当たりのガス供給量が少量になる。第１従来例の流体制御弁のように、操作用電磁弁とシリンダとをチューブでつなぐ場合、操作用電磁弁から操作ポートまでの流路が長く、弁開閉動作の応答性が悪かった。

図１２は、第２従来例の流体制御弁２０１（例えば、特許文献２参照）の断面図である。流体制御弁２０１は、操作用電磁弁２１１を取付ブロック２１０を介して駆動部２０３のシリンダ２０６の上端部２０６Ｃに取り付けられている。取付ブロック２１０は、出力流路２１０Ｂをシリンダ２０６の操作ポート２０６Ａに直接接続するようにシリンダ２０６に取り付けられている。

流体制御弁２０１は、操作用電磁弁２１１が非通電の場合には、操作流体が取付ブロック２１０の出力流路２１０Ｂに出力されない。この場合、ピストンプレート２１３Ａ，２１３Ｂがピストン軸２０９とステム２３１を介して復帰ばね２３２に押し下げられ、弁部２０２のダイアフラム２２１を弁座２２２に当接させる。これに対して、流体制御弁２０１は、操作用電磁弁２１１が通電されると、取付ブロック２１０の入力流路２１０Ａに入力した操作流体が操作用電磁弁２１１において供給量を制御され、取付ブロック２１０の出力流路２１０Ｂに出力される。操作流体は、シリンダ２０６に形成された操作ポート２０６Ａ、保持孔２０６Ｂ、ピストン軸２０９に形成された中央流路２０９Ａ、連通流路２０９Ｂ，２０９Ｃを介してシリンダ室２０７に供給され、固定プレート２１２の上下に配置されるピストンプレート２１３Ａ，２１３Ｂを弁座２２２と反対向きに加圧する。これにより、ピストンプレート２１３Ａ，２１３Ｂが復帰ばね２３２に抗してステム２３１を上昇させ、ダイアフラム２２１が自身の反力でステム２３１に当接する位置まで変位し、弁座２２２から離間する。

このような流体制御弁２０１は、操作用電磁弁とシリンダとをチューブでつなぐ流体制御弁と比べ、操作用電磁弁２１１が操作ポート２０６Ａの近くに取り付けられ、操作用電磁弁２１１から操作ポート２０６Ａまでの流路が短い。そのため、流体制御弁２０１は、応答性良く弁開閉動作を行うことができる。

特開２０１４−１０９３１４号公報 特許第５０５４９０４号公報

しかしながら、第２従来例の流体制御弁２０１は、以下の問題があった。流体制御弁２０１は、出力流路２１０Ｂと操作ポート２０６Ａを直接接続するように、取付ブロック２１０をシリンダ２０６に取り付けていた。そのため、例えば、操作ポートに継手を介してチューブを接続された流体制御弁がチャンバに既設されている場合に、操作用電磁弁を既設の流体制御弁のシリンダに直接取り付けることができないため、既設の流体制御弁を丸ごと交換する必要があった。また、流体制御弁２０１は、シリンダ２０６が取付ブロック２１０を取り付けるための専用形状となり、シリンダ２０６の製造コストが高くなってしまっていた。

本発明は、上記問題点を解決するためになされたものであり、操作用電磁弁を操作ポートの近くに後付けできる安価な操作用電磁弁取付構造及び流体制御弁を提供することを目的とする。

本発明の一態様は、次のような構成を有している。
（１）操作ポートを備えるシリンダに、前記シリンダに供給する操作流体を制御する操作用電磁弁を取り付ける操作用電磁弁取付構造において、前記操作ポートに雌ねじが形成されていること、前記操作用電磁弁が取り付けられた取付ブロックと、前記雌ねじに螺合されて前記取付ブロックを前記シリンダに取り付ける取付ねじとを有すること、前記取付ブロックが、前記操作流体を流入させ、前記操作用電磁弁に供給する入力流路と、前記操作用電磁弁によって制御された前記操作流体が流出する出力流路と、前記取付ねじが貫通されるものであって前記出力流路に連通する貫通孔と、を有すること、前記取付ねじが、前記操作ポートと前記出力流路とを連通させる内部流路を有すること、前記貫通孔の内壁と前記取付ねじとの間をシールするシール部材を有することを特徴とする。

上記構成では、操作ポートの雌ねじに螺合する取付ねじが貫通される貫通孔を取付ブロックに形成している。そのため、例えば、操作流体を供給するチューブが継手を介して操作ポートに接続されている場合には、継手を取り外して、操作用電磁弁が取り付けられた取付ブロックの貫通孔に取付ねじを貫き通し、その取付ねじを操作ポートに螺合して取付ブロックをシリンダに取り付ければ、操作用電磁弁を操作ポートの近くに後付けできる。

取付ブロックは、操作流体を入力して操作用電磁弁に供給する入力流路と、操作用電磁弁によって制御された操作流体が流れる出力流路と、取付ねじが貫通されるものであって出力流路に連通する貫通孔とを有する。そして、取付ねじが、操作ポートと出力流路とを連通させる内部流路を有する。そのため、操作流体は、取付ブロックの入力流路から操作用電磁弁に供給され、流量を制御されると、取付ブロックの出力流路、貫通孔、取付ねじの内部流路を介して操作ポートに出力される。

貫通孔の内壁と取付ねじとの間は、シール部材でシールされるので、操作流体は、操作用電磁弁により制御された流量で正確にシリンダに供給される。

よって、上記構成によれば、チューブを接続する継手と螺合する操作ポートの雌ねじを利用して、操作用電磁弁が取り付けられた取付ブロックをシリンダに取り付けるので、既設のシリンダに操作用電磁弁を後付けできる。また、チューブを使用する場合と取付ブロックを使用する場合とでシリンダを共用できるので、シリンダの製造コストを安価にできる。

（２）（１）に記載の構成において、前記取付ねじは、前記貫通孔に挿通される軸部を有し、前記軸部の外周面に凹部が環状に形成され、前記内部流路が前記凹部の壁面に開口していることが好ましい。

上記構成では、取付ねじの軸部の外周面に凹部が環状に形成され、内部流路が凹部の壁面に開口している。そのため、取付ブロックをどのような向きでシリンダに取り付けても、出力流路が凹部と貫通孔の内周面との間に形成される隙間を介して内部流路に連通し、操作流体を操作ポートに供給できる。よって、上記構成によれば、取付ブロックをシリンダに自由な向きに取り付けることができる。

（３）（１）又は（２）に記載する操作用電磁弁取付構造を備えることを特徴とする流体制御弁である。

上記構成では、上記（１）又は（２）の作用効果に加え、チューブで操作ポートに接続する場合より、操作用電磁弁と操作ポートとの間の流路が短く、操作ポートの間近で操作流体の供給量を制御する。そのため、上記構成の流体制御弁は、制御流体を小量ずつ高頻度で供給する場合でも、応答性良く、当該流体制御弁の開閉動作を行うことができる。この機能は、操作ポートに接続されていたチューブを、操作用電磁弁が取り付けられた取付ブロックに交換し、該チューブを取付ブロックに接続するだけで、簡単かつ安価に既設の流体制御弁に付加できる。また、上記構成では、既設の流体制御弁に操作用電磁弁を後付けする場合に、その周囲に設置される機器との関係で取付ブロックと操作用電磁弁の向きを自由に調整できるので、操作用電磁弁を後付けしやすい。

従って、本発明によれば、操作用電磁弁を操作ポートの近くに後付けできる安価な操作用電磁弁取付構造及び流体制御弁を提供することができる。

本発明の実施形態に係る流体制御弁の正面図である。 図１に示す流体制御弁の上面図である。 図１に示す流体制御弁の側面図である。 取付ブロックの上面図である。 図４に示す取付ブロックの図中右側面図である。 図４のＡＡ断面図である。 図４のＢＢ断面図である。 図４のＣＣ断面図である。 図６のＤＤ断面図である。 操作用電磁弁取付構造を示す図であって、操作流体の流れを示す。 近接センサを備える流体制御弁の上面図である。 従来の流体制御弁の断面図である。

以下に、本発明に係る操作用電磁弁取付構造及び流体制御弁の実施形態について図面に基づいて説明する。図１は、本発明の実施形態に係る流体制御弁１の正面図である。図２は、図１に示す流体制御弁１の上面図である。図３は、図１に示す流体制御弁１の側面図である。図４は、取付ブロック２の上面図である。図５は、図４に示す取付ブロック２の図中右側面図である。図６は、図４のＡＡ断面図である。図７は、図４のＢＢ断面図である。図８は、図４のＣＣ断面図である。図９は、図６のＤＤ断面図である。図１０は、操作用電磁弁取付構造を示す図であって、操作流体の流れを示す。図１１は、近接センサ１２を備える流体制御弁１Ａの上面図である。尚、図６は、出力流路２ｆと凹部３ｂと内部流路３ｈの関係を分かりやすく説明するために、取付ブロック２と共に取付ねじ３を記載している。しかし、図９では、取付ねじ３の記載を省略している。

図１に示すように、本実施形態の流体制御弁１は、例えば半導体製造工程で使用されるチャンバのガス供給口に配設され、チャンバに供給するガス（制御流体の一例）を制御する。流体制御弁１は、ガスを制御する弁部１０２と、操作流体（例えば圧縮エア等）の供給により駆動力を発生して弁部１０２に付与する駆動部１０３とを備える。弁部１０２の構成は、従来と別段変わるところはない。駆動部１０３は、操作用電磁弁６をシリンダ１３１に取り付ける構造を除いて、従来と別段変わるところはない。そこで、以下の説明では、操作用電磁弁取付構造を中心に説明する。

図１〜図３に示すように、操作用電磁弁６は、取付ブロック２を介して流体制御弁１のシリンダ１３１に取り付けられている。図３に示すように、操作用電磁弁６は、取付ブロック２の第３側面２ｄに２本の固定ねじ７で固定されている。

図１０に示すように、取付ブロック２は、シリンダ１３１の弁部１０２と反対側に位置する端部（以下「上端部」という。）１３１Ｃに形成された操作ポート１３１Ａの雌ねじ１３１ＡＸに、取付ブロック２に貫き通した取付ねじ３の先端部外周に形成された雄ねじ３ａを螺合することにより、シリンダ１３１に取り付けられている。図１及び図２に示すように、取付ブロック２は、操作流体を供給するチューブ１１（図１０参照）を接続するための継手４を備える。

次に、取付ブロック２と取付ねじ３について詳細に説明する。図４及び図５に示すように、取付ブロック２は、第１側面２ａと、第２側面２ｓと、第３側面２ｄと、第４側面２ｔと、第５側面２ｒと、第６側面２ｕを備え、対角位置にある角部を除去して欠部２ｍ，２ｎを設けた略直方体形状をなす。

図６に示すように、取付ブロック２は、貫通孔２ｂが第１側面２ａから第２側面２ｓへ貫通するように形成され、その貫通孔２ｂに取付ねじ３がねじ結合されることなく貫き通されるようになっている。また図４に示すように、取付ブロック２の第１側面２ａには、継手４が取り付けられる取付孔２ｊが袋状に開設されている。取付孔２ｊの内周面には、継手４に螺合する雌ねじ２ｃが形成されている。貫通孔２ｂと取付孔２ｊは、取付ブロック２をコンパクトにするために、欠部２ｍ、２ｎ近傍の対角位置に設けられている。

図５に示すように、取付ブロック２の第３側面２ｄには、操作用電磁弁６の供給ポートに接続される入力流路２ｅと、操作用電磁弁６の排出ポートに接続される出力流路２ｆが開口している。

図９に示すように、入力流路２ｅは、取付孔２ｊと、バイパス路２ｋと、連通路２ｌとで構成されている。図７及び図８に示すように、取付孔２ｊは、取付ブロック２の第１側面２ａに開口し、開口部内周面に継手４（図１参照）を螺合される雌ねじ２ｃが形成されている。図８及び図９に示すように、バイパス路２ｋは、第４側面２ｔから取付孔２ｊに直交する方向に形成され、取付孔２ｊに連通する横穴である。バイパス路２ｋの開口部は、封止部材となる鋼球９で封止されている。鋼球９は、取付ブロック２より硬い材料で形成され、操作流体の圧力で取付ブロック２から脱落しないように取付ブロック２に圧入して固定されている。本実施形態では、取付ブロック２は、アルミで形成され、鋼球９はステンレスで形成されている。図９に示すように、連通路２ｌは、第３側面２ｄからバイパス路２ｋに直交する方向に形成され、バイパス路２ｋに連通している。連通路２ｌは、第３側面２ｄに開口し、操作用電磁弁６の供給ポートに接続される。

図６に示すように、出力流路２ｆは、第３側面２ｄから貫通孔２ｂに直交する方向に形成され、貫通孔２ｂと連通している。取付ブロック２は、貫通孔２ｂに取付ねじ３を回転自在に挿通され、取付ねじ３を中心に向きを自由に変えられるようになっている。

取付ねじ３は、貫通孔２ｂに挿通される軸部３ｆの外周面に凹部３ｂが形成されている。凹部３ｂは、取付ねじ３が取付ブロック２をシリンダ１３１に取り付けた状態で出力流路２ｆに対応する位置に形成され、貫通孔２ｂの内壁との間に隙間Ｓを形成することにより操作流体が出力流路２ｆから貫通孔２ｂに流出しやすくしている。凹部３ｂは、軸部３ｆの外周面に沿って周方向に環状に形成され、取付ブロック２が取付ねじ３に対してどの方向に取り付けられても、出力流路２ｆに位置を合わせることができるようになっている。

取付ねじ３は、先端面（図６において上端面）から軸線方向に沿って孔部３ｄが有底筒状に形成されている。また、取付ねじ３は、軸部３ｆの外周面から軸線に対して直交する方向に連通部３ｃが形成されている。連通部３ｃは、凹部３ｂの壁面に開口している。よって、凹部３ｂに供給された操作流体は、連通部３ｃと孔部３ｄを通って、操作ポート１３１Ａ（図１０参照）に供給される。本実施形態では、取付ねじ３は、孔部３ｄと連通部３ｃにより、出力流路２ｆと操作ポート１３１Ａとを連通させるように形成された内部流路３ｈを構成する。

取付ねじ３は、凹部３ｂと頭部３ｇとの間に形成されたシール溝３ｅにシール部材１０が装着され、軸部３ｆと貫通孔２ｂの内周面との間がシールされている。また、取付ねじ３は、取付ブロック２から突出する部分に環状のシール部材５が装着されている。図１０に示すように、シール部材５は、取付ねじ３を操作ポート１３１Ａに螺合して取付ブロック２をシリンダ１３１に取り付ける際に取付ブロック２とシリンダ１３１との間で押し潰され、軸部３ｆと貫通孔２ｂの内周面との間をシールする。よって、取付ブロック２は、シール部材１０とシール部材５によって取付ねじ３に形成された凹部３ｂの両側をシールされ、操作流体が外部に漏れないようになっている。

ここで、流体制御弁１の全体構造を簡単に説明する。図１０に示すように、シリンダ１３１のシリンダ室１３２は、固定プレート１３６により上室と下室に区画されている。上室には、ピストンプレート１３５が摺動可能に装填されている。また、図１０に現れていないが、下室にも、ピストンプレート１３５が摺動可能に装填されている。これらのピストンプレート１３５は、それぞれ、ピストン軸１３４に連結されている。

シリンダ１３１の上端面中央には、操作ポート１３１Ａがシリンダ室１３２に連通するように貫通して設けられている。シリンダ室１３２の上端面内壁には、保持孔１３１Ｂが操作ポート１３１Ａと同軸上に設けられ、その保持孔１３１Ｂにピストン軸１３４の上端部が摺動可能に保持されている。ピストン軸１３４には、中央流路１３４Ａが上端面から軸線方向に沿って袋状に形成されている。連通流路１３４Ｂは、上側のピストンプレート１３５の弁座側に設けられた隙間に中央流路１３４Ａを連通させるように、ピストン軸１３４に直交するように設けられている。尚、ピストン軸１３４には、図１０に現れていないが、下側のピストンプレート１３５の弁座側に設けられた隙間を中央流路１３４Ａに連通させるための連通路も形成されている。

弁部１０２（図１参照）は、図示しない復帰ばねにより弁閉止力が付与され、シリンダ１３１に操作流体が供給されると、シリンダ室１３２の内圧と図示しない復帰ばねのバネ力とのバランスに応じて弁開する。

次に、例えば第１従来例のように、チューブ１１が継手を介して操作ポート１３１Ａに接続された既設の流体制御弁１に、操作用電磁弁６を後付けする手順を説明する。図１０に示すように、流体制御弁１は、シリンダ１３１の上端部１３１Ｃにピストン軸１３４を摺動可能に保持する保持孔１３１Ｂが形成されている。上端部１３１Ｃには、操作ポート１３１Ａが保持孔１３１Ｂと同軸上に形成されている。既設の流体制御弁１には、操作ポート１３１Ａに螺合する継手を介してチューブ１１が接続されている。この既設の流体制御弁１の操作ポート１３１Ａに結合されている継手は、既設の流体制御弁１に操作用電磁弁６を後付けする場合には、操作ポート１３１Ａから取り外される。

図１０に示すように、取付ねじ３の軸部３ｆは、上記のように取り外された継手と同じ直径で設けられている。取付ブロック２は、その取付ねじ３を貫通孔２ｂに貫き通され、取付ねじ３の先端部（図１０において下端部）にシール部材５が装着されている。そのため、取付ねじ３は、取付ブロック２から脱落しない。取付ブロック２は、固定ねじ７（本実施形態では２本の固定ねじ７）で操作用電磁弁６が固定されている。かかる取付ブロック２は、取付ねじ３の先端部（雄ねじ部３ａ）を操作ポート１３１Ａの雌ねじ１３１ＡＸにねじ込んで結合することにより、シリンダ１３１に取り付けられる。このとき、シール部材５が取付ブロック２とシリンダ１３１との間で押し潰され、貫通孔２ｂの図中下端開口部をシールする。尚、貫通孔２ｂの図中上端開口部は、シール部材１０でシールされている。それから、取付ブロック２の取付孔２ｊに、継手４を介してチューブ１１が接続される。尚、例えば、操作ポート１３１Ａの雌ねじ１３１ＡＸに結合されていた継手と取付孔２ｊとのサイズが合えば、当該継手を継手４として使用しても良い。また例えば、操作ポート１３１Ａの雌ねじ１３１ＡＸに結合されていた継手と取付孔２ｊとのサイズが合わない場合には、当該継手と別のものを継手４として使用しても良い。

シリンダ１３１に取り付けられた取付ブロック２では、出力流路２ｆが貫通孔２ｂの内周面と取付ねじ３の凹部３ｂとの間に形成される隙間Ｓに連通している。凹部３ｂが環状に設けられているので、取付ブロック２は、取付ねじ３に対して３６０度方向を変えても、出力流路２ｆを凹部３ｂに連通させることができる。隙間Ｓは、内部流路３ｈ（連通部３ｃ、孔部３ｄ）を介して操作ポート１３１Ａに連通している。

次に、操作用電磁弁６が取り付けられた流体制御弁１の動作を説明する。流体制御弁１は、操作流体がチューブ１１から継手４を介して取付ブロック２に供給される。操作流体は、取付ブロック２の入力流路２ｅ（取付孔２ｊ、バイパス路２ｋ、連通路２ｌ）を介して操作用電磁弁６の供給ポートに供給される。

操作用電磁弁６は、非通電のとき、供給ポートと排出ポートとの間を遮断し、出力流路２ｆに操作流体を供給しない。この場合には、流体制御弁１は、弁部１０２が弁閉状態になる。

一方、操作用電磁弁６は、通電されると、供給ポートと排出ポートとを連通させ、通電量に応じて操作流体の供給量を制御する。操作用電磁弁６で流量制御された操作流体は、出力流路２ｆ、隙間Ｓ（貫通孔２ｂ、凹部３ｂ）、内部流路３ｈ（連通部３ｃ、孔部３ｄ）を介して操作ポート１３１Ａに供給される。その後さらに、操作流体は、シリンダ１３１の保持孔１３１Ｂ、ピストン軸１３４の中央流路１３４Ａ、連通流路１３４Ｂを介してシリンダ室１３２に供給され、ピストンプレート１３５を弁部１０２と反対向き（弁部１０２から離れる方向）に加圧する。これにより、弁部１０２が弁開状態になってガスを制御する。

以上説明したように、本実施形態の操作用電磁弁取付構造では、操作ポート１３１Ａの雌ねじに螺合する取付ねじ３が貫通される貫通孔２ｂを取付ブロック２に形成している。そのため、例えば、第１従来例のように、操作流体を供給するチューブ１１が継手を介してシリンダ１３１の操作ポート１３１Ａに接続されている場合には、当該継手を取り外して、操作用電磁弁６が取り付けられた取付ブロック２の貫通孔２ｂに取付ねじ３を貫き通し、その取付ねじ３を操作ポート１３１Ａに螺合して取付ブロック２をシリンダ１３１に取り付ければ、操作用電磁弁６を操作ポート１３１Ａの近くに後付けできる。

取付ブロック２は、操作流体を入力して操作用電磁弁６に供給する入力流路２ｅと、操作用電磁弁６によって制御された操作流体が流れる出力流路２ｆと、取付ねじ３が貫通されるものであって出力流路２ｆに連通する貫通孔２ｂとを有する。そして、取付ねじ３が、操作ポート１３１Ａと出力流路２ｆとを連通させる内部流路３ｈを有する。そのため、操作流体は、取付ブロック２の入力流路２ｅから操作用電磁弁６に供給され、流量を制御されると、取付ブロック２の出力流路２ｆ、貫通孔２ｂ、取付ねじ３の内部流路３ｈを介して操作ポート１３１Ａに出力される。

貫通孔２ｂの内壁と取付ねじ３との間は、シール部材５とシール部材１０でシールされるので、操作流体は、操作用電磁弁６により制御された流量で正確にシリンダ１３１に供給される。

よって、本実施形態の操作用電磁弁取付構造によれば、チューブ１１を接続する継手と螺合する操作ポート１３１Ａの雌ねじを利用して、操作用電磁弁６が取り付けられた取付ブロック２をシリンダ１３１に取り付けるので、既設のシリンダ１３１に操作用電磁弁６を後付けできる。また、チューブ１１を使用する場合と取付ブロック２を使用する場合とでシリンダ１３１を共用できるので、シリンダ１３１の製造コストを安価にできる。

また、実施形態の操作用電磁弁取付構造では、取付ねじ３の軸部３ｆの外周面に凹部３ｂが環状に形成され、内部流路３ｈが凹部３ｂの壁面に開口している。そのため、取付ブロック２をどのような向きでシリンダ１３１に取り付けても、出力流路２ｆが凹部３ｂと貫通孔２ｂの内周面との間に形成される隙間Ｓを介して内部流路３ｈに連通し、操作流体を操作ポート１３１Ａに供給できる。よって、本実施形態の操作用電磁弁取付構造によれば、取付ブロック２をシリンダ１３１に対して、取付ねじ３を中心とする所望の向きに変更可能に取り付けることができる。

また、本実施形態の流体制御弁１は、上記操作用電磁弁取付構造の作用効果に加え、チューブ１１を介して操作ポート１３１Ａと操作用電磁弁６とを接続する場合より、操作用電磁弁６と操作ポート１３１Ａとの間の流路が短く、操作ポート１３１Ａの間近で操作流体の供給量を制御する。そのため、本実施形態の流体制御弁１は、ガスを小量ずつ高頻度で供給する場合でも、応答性良く、弁部１０２の弁の開閉動作を行うことができる。そのため、既設の流体制御弁１の操作ポート１３１Ａに接続するチューブ１１を取付ブロック２に交換し、該チューブ１１を取付ブロック２に接続するだけで、例えばガスの供給とガスの排気を短時間で繰り返し切り換えて膜を形成するＡＬＤプロセスに十分対応できる機能を既設の流体制御弁１に簡単かつ安価に付加できる。

また、本実施形態では、凹部３ｂが取付ねじ３に環状に設けられているので、既設の流体制御弁１に操作用電磁弁６を後付けする場合に、その周囲に設置される機器との関係で取付ブロック２と操作用電磁弁６の向きを自由に調整でき、操作用電磁弁６を後付けしやすい。

ところで、例えば図１１に示すように、操作ポート１３１Ａに螺合する取付ねじ３は、取付ブロック２の貫通孔２ｂに貫き通され、取付ブロック２に結合されていない。また、取付ブロック２は、対角位置に欠部２ｍ，２ｎが設けられ、シリンダ１３１の上端部１３１Ｃに対して径外方向にはみ出さないように取付方向を変えられる。これにより、例えば、図１１に示す流体制御弁１Ａのように、近接センサ１２が上端部１３１Ｃに取り付けられている場合に、近接センサ１２の位置に応じて取付ねじ３を中心に取付ブロック２を回転させ、操作用電磁弁６の向きを自由に変えることができる。

尚、本発明は、上記実施形態に限定されることなく、色々な応用が可能である。

（１）例えば、上記実施形態では、流体制御弁１に操作用電磁弁取付構造を適用したが、操作ポートを備える他の機器に操作用電磁弁取付構造を適用しても良い。

（２）例えば、上記実施形態では、取付ブロック２をアルミ、鋼球９をステンレスで形成したが、材質はこれに限定されず、例えば取付ブロック２を、鋼球９より硬度が低い樹脂で形成しても良い。また、鋼球９は取付ブロック２に溶接しても良い。更に、バイパス路２ｋの開口部は、ゴムや溶融金属を充填して封止しても良い。

（３）例えば、上記実施形態では、凹部３ｂはなくても良い。

（４）操作用電磁弁６を取付ブロック２に固定する固定ねじ７の数は、２本に限らず、１本又は３本以上でも良い。

１，１Ａ 流体制御弁
２ 取付ブロック
２ｂ 貫通孔
２ｅ 入力流路
２ｆ 出力流路
３ 取付ねじ
３ｂ 凹部
３ｈ 内部流路
５ シール部材
６ 操作用電磁弁
１０ シール部材
１３１ シリンダ
１３１Ａ 操作ポート
１３１ＡＸ 雌ねじ

Claims (3)

1. 操作ポートを備えるシリンダに、前記シリンダに供給する操作流体を制御する操作用電磁弁を取り付ける操作用電磁弁取付構造において、
   前記操作ポートに雌ねじが形成されていること、
   前記操作用電磁弁が取り付けられた取付ブロックと、前記雌ねじに螺合されて前記取付ブロックを前記シリンダに取り付ける取付ねじとを有すること、
   前記取付ブロックが、
   前記操作流体を流入させ、前記操作用電磁弁に供給する入力流路と、
   前記操作用電磁弁によって制御された前記操作流体が流出する出力流路と、
   前記取付ねじが貫通されるものであって前記出力流路に連通する貫通孔と、
   を有すること、
   前記取付ねじが、前記操作ポートと前記出力流路とを連通させる内部流路を有すること、
   前記貫通孔の内壁と前記取付ねじとの間をシールするシール部材を有すること
   を特徴とする操作用電磁弁取付構造。
2. 請求項１に記載する操作用電磁弁取付構造において、
   前記取付ねじは、前記貫通孔に挿通される軸部を有し、前記軸部の外周面に凹部が環状に形成され、前記内部流路が前記凹部の壁面に開口していること
   を特徴とする操作用電磁弁取付構造。
3. 請求項１又は請求項２に記載する操作用電磁弁取付構造を備えることを特徴とする流体制御弁。

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