JP6152340B2 - 円板形状の基板の製造方法、及び研削又は研磨用キャリア - Google Patents
円板形状の基板の製造方法、及び研削又は研磨用キャリア Download PDFInfo
- Publication number
- JP6152340B2 JP6152340B2 JP2013270005A JP2013270005A JP6152340B2 JP 6152340 B2 JP6152340 B2 JP 6152340B2 JP 2013270005 A JP2013270005 A JP 2013270005A JP 2013270005 A JP2013270005 A JP 2013270005A JP 6152340 B2 JP6152340 B2 JP 6152340B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- carrier
- polishing
- disk
- glass substrate
- glass
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims description 231
- 238000005498 polishing Methods 0.000 title claims description 81
- 238000000227 grinding Methods 0.000 title claims description 45
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 21
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 229
- 239000003365 glass fiber Substances 0.000 claims description 54
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims description 48
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 41
- 238000007517 polishing process Methods 0.000 claims description 28
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 26
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 24
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 24
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 19
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims description 15
- 239000000243 solution Substances 0.000 claims description 15
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims description 9
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 239000008151 electrolyte solution Substances 0.000 claims description 8
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 claims description 7
- DIZPMCHEQGEION-UHFFFAOYSA-H aluminium sulfate (anhydrous) Chemical compound [Al+3].[Al+3].[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O DIZPMCHEQGEION-UHFFFAOYSA-H 0.000 claims description 7
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 claims description 7
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- BNGXYYYYKUGPPF-UHFFFAOYSA-M (3-methylphenyl)methyl-triphenylphosphanium;chloride Chemical compound [Cl-].CC1=CC=CC(C[P+](C=2C=CC=CC=2)(C=2C=CC=CC=2)C=2C=CC=CC=2)=C1 BNGXYYYYKUGPPF-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 3
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 15
- 239000006061 abrasive grain Substances 0.000 description 8
- 238000003426 chemical strengthening reaction Methods 0.000 description 7
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 7
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 6
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 5
- -1 for example Substances 0.000 description 5
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 5
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 5
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 4
- 150000004645 aluminates Chemical class 0.000 description 4
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 3
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 2
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000005354 aluminosilicate glass Substances 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 2
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 2
- 239000011152 fibreglass Substances 0.000 description 2
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 2
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 2
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 2
- FGIUAXJPYTZDNR-UHFFFAOYSA-N potassium nitrate Chemical compound [K+].[O-][N+]([O-])=O FGIUAXJPYTZDNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 2
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 2
- 238000009941 weaving Methods 0.000 description 2
- DDFHBQSCUXNBSA-UHFFFAOYSA-N 5-(5-carboxythiophen-2-yl)thiophene-2-carboxylic acid Chemical compound S1C(C(=O)O)=CC=C1C1=CC=C(C(O)=O)S1 DDFHBQSCUXNBSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910017855 NH 4 F Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910002651 NO3 Inorganic materials 0.000 description 1
- PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L Sodium Sulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=O PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- LDDQLRUQCUTJBB-UHFFFAOYSA-O azanium;hydrofluoride Chemical compound [NH4+].F LDDQLRUQCUTJBB-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 239000005388 borosilicate glass Substances 0.000 description 1
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 239000005345 chemically strengthened glass Substances 0.000 description 1
- 239000008119 colloidal silica Substances 0.000 description 1
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 239000003599 detergent Substances 0.000 description 1
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005470 impregnation Methods 0.000 description 1
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N iron Substances [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- VUZPPFZMUPKLLV-UHFFFAOYSA-N methane;hydrate Chemical compound C.O VUZPPFZMUPKLLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006060 molten glass Substances 0.000 description 1
- QPJSUIGXIBEQAC-UHFFFAOYSA-N n-(2,4-dichloro-5-propan-2-yloxyphenyl)acetamide Chemical compound CC(C)OC1=CC(NC(C)=O)=C(Cl)C=C1Cl QPJSUIGXIBEQAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004323 potassium nitrate Substances 0.000 description 1
- 235000010333 potassium nitrate Nutrition 0.000 description 1
- 238000006748 scratching Methods 0.000 description 1
- 230000002393 scratching effect Effects 0.000 description 1
- 239000005361 soda-lime glass Substances 0.000 description 1
- 229910052938 sodium sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011152 sodium sulphate Nutrition 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
- Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
Description
アルミニウムを成分として含むガラス繊維からなる複数のガラスクロスおよび前記複数のガラスクロスに含浸された樹脂材料からなるガラス基板用キャリアに設けられたガラス基板保持孔に、ガラス基板を保持させた状態で、前記ガラス基板を上定盤と下定盤との間に保持させ、前記ガラス基板の主表面を研磨する研磨処理と、
前記研磨処理によってガラス基板用キャリアの主表面から露出したガラス繊維を、フッ酸を含むエッチング溶液によりエッチングするエッチング処理と、
を有することを特徴とする。
フッ化アルミン酸は、ガラスにアルミナ(酸化アルミニウム)が成分として含まれる場合、フッ酸を含むエッチング液でガラスのエッチング処理を行うと、エッチング液中のフッ素がアルミナと反応することで生成される。
ガラス繊維からなる複数のガラスクロスおよび前記複数のガラスクロスに含浸された樹脂材料からなるガラス基板用キャリアに設けられたガラス基板保持孔に、ガラス基板の外周端面を保持させた状態で、前記ガラス基板用キャリアおよび前記ガラス基板を上定盤と下定盤との間に保持させ、前記ガラス基板の主表面を研磨する研磨処理と、
前記研磨処理を複数回行う毎に、前記研磨処理を複数回行うことによってガラス基板用キャリアの主表面から露出したガラス繊維を、エッチング溶液によりエッチングするエッチング処理と、
を含むことを特徴とする。
まず、磁気ディスク用ガラス基板について説明する。磁気ディスク用ガラス基板は、円板形状であって、外周と同心の円形の中心孔がくり抜かれたリング状である。磁気ディスク用ガラス基板の両面に円環状の磁性層(記録領域)が形成されることで、磁気ディスクが形成される。
次に、磁気ディスク用ガラス基板の製造方法を説明する。先ず、一対の主表面を有する板状の磁気ディスク用ガラス基板の素材となるガラスブランクをプレス成形により作製する(プレス成形処理)。次に、作製されたガラスブランクの中心部分に円孔を形成しリング形状(円環状)のガラス基板とする(円孔形成処理)。次に、円孔を形成したガラス基板に対して形状加工を行う(形状加工処理)。これにより、ガラス基板が生成される。次に、形状加工されたガラス基板に対して端面研磨を行う(端面研磨処理)。端面研磨の行われたガラス基板に、固定砥粒による研削を行う(研削処理)。次に、ガラス基板の主表面に第1研磨を行う(第1研磨処理)。次に、ガラス基板に対して化学強化を行う(化学強化処理)。次に、化学強化されたガラス基板に対して第2研磨を行う(第2研磨処理)。以上の処理を経て、磁気ディスク用ガラス基板が得られる。以下、各処理について、詳細に説明する。
溶融ガラスの塊を一対の金型のプレス成形面の間に挟みこみ、プレスしてガラスブランクを成形する。所定時間プレスを行った後、金型を開いてガラスブランクが取り出される。
ガラスブランクに対してドリル等を用いて円孔を形成することにより円形状の孔があいたディスク状のガラス基板を得ることもできる。
次に、形状加工処理について説明する。形状加工処理では、円孔形成処理後のガラス基板の端部に対する面取り加工(外周側端面および内側端面の面取り加工)を含む。面取り加工は、円孔形成処理後のガラス基板の外周側端面および内側端面において、ダイヤモンド砥石により面取りを施す形状加工である。この形状加工により所定の形状をしたガラス基板が生成される。
次に、端面研磨処理を説明する。端面研磨では、ガラス基板の内側端面及び外周側端面に対して、ブラシ研磨により鏡面仕上げを行う。このとき、微粒子を遊離砥粒として含む砥粒スラリが用いられる。
研削処理では、遊星歯車機構を備えた両面研削装置を用いて、ガラス基板の主表面に対して研削加工を行う。具体的には、ガラスブランクから生成されたガラス基板の外周側端面を、両面研削装置の保持部材に設けられた保持孔内に保持しながらガラス基板の両側の主表面の研削を遊離砥粒または固定砥粒により行う。両面研削装置は、上下一対の定盤(上定盤および下定盤)を有しており、上定盤および下定盤の間にガラス基板が狭持される。そして、上定盤または下定盤のいずれか一方、または、双方を移動操作させ、ガラス基板と各定盤とを相対的に移動させることにより、ガラス基板の両主表面を研削することができる。
次に、研削のガラス基板の主表面に第1研磨が施される。第1研磨は、主表面加工処理の1つである。具体的には、ガラス基板の外周側端面を、両面研磨装置のガラス基板用キャリアに設けられた保持孔内に保持しながらガラス基板の両側の主表面の研磨が行われる。第1研磨は、研削処理後にガラス基板の主表面に残留したキズや歪みの除去、あるいは微小な表面凹凸(マイクロウェービネス、粗さ)の調整を目的とする。
次に、ガラス基板は化学強化される。化学強化液として、例えば硝酸カリウムと硫酸ナトリウムの混合溶融液等を用い、ガラス基板を化学強化液に浸漬する。なお、化学強化処理は行わなくてもよい。
次に、化学強化処理後のガラス基板に第2研磨が施される。第2研磨処理は、主表面の鏡面研磨を目的とする。第2研磨においても、第1研磨に用いる両面研磨装置と同様の構成を有する両面研磨装置が用いられる。具体的には、ガラス基板の外周側端面を、両面研磨装置のガラス基板用キャリアに設けられた保持孔内に保持しながらガラス基板の両側の主表面の研磨が行われる。第2研磨処理が第1研磨処理と異なる点は、遊離砥粒の種類及び粒子サイズが異なることと、樹脂ポリッシャの硬度が異なることである。
第2研磨処理は、必ずしも必須な処理ではないが、ガラス基板の主表面の表面凹凸のレベルをさらに良好なものとすることができる点で実施することが好ましい。第2研磨処理を実施することで、主表面の粗さ(Ra)を0.1nm以下とすることができる。このようにして、第2研磨の施されたガラス基板は、洗浄されて磁気ディスク用ガラス基板となる。
ここで、研削処理や研磨処理(第1研磨処理、第2研磨処理)において用いるガラス基板用キャリアについて説明する。
図1はガラス基板用キャリア10の平面図である。ガラス基板用キャリア10は、研削処理や研磨処理(第1研磨処理、第2研磨処理)において、研磨対象であるガラス基板を保持するものである。
ガラス基板用キャリア10には、図1に示すように、ガラス基板保持孔20と、ギヤ部30とが設けられている。ガラス基板保持孔20の内部に、研磨対象であるガラス基板が収納されることにより、ガラス基板保持孔20の内壁がガラス基板の外周側端面を保持する。
ギヤ部30はガラス基板用キャリア10の外周部に沿って設けられた複数の歯を有する。ガラス基板用キャリア10は、遊星歯車機構を備えた両面研磨装置の太陽歯車(sun gear)と内歯車(outer gear)との間に配置される遊星歯車(planetary gear)となる。
ガラス基板用キャリア10は、ガラス繊維からなるガラスクロス11と、ガラスクロス11に含浸した樹脂材料12とからなる樹脂含浸基板を用いて製造することができる。
ガラスクロス11には、ガラス繊維からなるガラス糸(JIS R3413:2012)を織り上げて製造したガラスクロス(JIS R3414:2012)を用いることができる。ガラス繊維はシリカ(SiO2)を主成分とし、耐風化性、耐久性を維持するために、アルミニウムを成分として含むことが好ましく、アルミナ(Al2O3)を1〜30重量%含むことが好ましい。
上述のガラスクロス11に樹脂材料12を含浸させた後、樹脂材料12を乾燥させることで得られるプリプレグを積層し、圧着させることで、ガラス基板用キャリア10の材料となる樹脂含浸基板が得られる。このような樹脂含浸基板として、例えば、ガラス繊維強化プラスチック(JIS K7051:1987)を用いることができる。
エッチング処理は、例えば、ガラス基板用キャリア10を所定の時間、エッチング液に浸漬することにより行う。エッチング液は、特に限定されないが、フッ酸を含むものが好ましく、フッ化アンモニウム(NH4F)やフッ化水素アンモニウム(NH5F2)等を含んでいてもよい。また、フッ酸と、硫酸、硝酸等の強酸を混合した混酸をエッチング液に用いてもよい。
なお、ガラス基板用キャリア10のガラスクロス11を構成するガラス繊維がアルミニウムを成分として含み、エッチング溶液がフッ酸を含む場合、ガラス繊維のエッチング処理を行うことで、フッ化アルミン酸塩の結晶がガラス基板用キャリア10の表面に析出するおそれがある。フッ化アルミン酸塩の結晶はエッチングによりガラス基板用キャリア10の表面に形成される凹部に詰まりやすく、除去が困難である。フッ化アルミン酸塩の結晶は鋭利な外形を有しており、この析出物が付着したままのガラス基板用キャリア10を研削や研磨の加工に用いると、この析出物が徐々に脱離し、ガラス基板に傷をつけるおそれがある。このため、あらかじめフッ化アルミン酸塩をガラス基板用キャリアから除去する除去処理を行うことが好ましい。以下、除去処理について説明する。
ここで、ガラス繊維のエッチング処理により生じるフッ化アルミン酸塩として、例えば、Li3AlF6、Na3AlF6、Li3Na3(AlF6)2等が挙げられる。
酸性の電解質溶液に含まれる金属以外のイオンは特に限定されないが、フッ化アルミン酸塩の溶解度の観点から、硫酸イオンや硝酸イオンであることが好ましい。特に、樹脂含浸基板の樹脂材料を溶解させないという点で、硫酸イオンであることが好ましい。
したがって、金属イオンを含む酸性の電解質溶液は、硫酸アルミニウム水溶液又は硝酸アルミニウム水溶液であることが好ましく、硫酸アルミニウム水溶液であることがより好ましい。
樹脂含浸基板として、フェノール樹脂およびエポキシ樹脂を混合してなる樹脂材料をガラスクロスに含浸させ、乾燥、硬化して得られるプリプレグを積層し、圧着して得られるガラス繊維強化プラスチック(JIS K7051:1987)を、ガラス基板用キャリアに用いた。
ガラス基板用キャリアを用いて1回1時間の研磨処理を100回行った後、研磨処理に用いたガラス基板用キャリアをフッ酸(HF)1wt%、硫酸2wt%のエッチング溶液に30分浸漬し、エッチング処理を行った。
エッチング処理を行った後のガラス基板用キャリアを水で洗浄した後、得られたガラス基板用キャリアのガラス基板保持孔に上記の第2研磨前まで実施したガラス基板を挿入し、ガラス基板用キャリアおよびガラス基板を両面研磨装置の上定盤および下定盤の間に狭持させ、第2研磨を実施した。上定盤と下定盤との間に遊離砥粒を供給しながら上定盤および下定盤とガラス基板とを相対的に移動させることにより、ガラス基板の両主表面を1時間研磨し、100枚のガラス基板をサンプルとして得た。
実施例1と同様にエッチング処理を行った後のガラス基板用キャリアを水で洗浄した後、硫酸アルミニウム水溶液に浸漬し、フッ化アルミン酸塩の除去処理を行った。その後、硫酸アルミニウム水溶液からガラス基板用キャリアを取り出し、水で洗浄した。
上記のガラス基板用キャリアを用いて、実施例1と同様に研磨処理を行い、100枚のガラス基板をサンプルとして得た。
1回1時間の研磨処理を100回行った後、研磨処理に用いたガラス基板用キャリアを用いて、実施例1と同様に研磨処理を行い、100枚のガラス基板をサンプルとして得た。
研磨処理後の100枚のガラス基板の主表面をレーザー式の表面欠陥検査装置を用いて検査し、スクラッチが存在するガラス基板の数を計測した。
結果を表1に示す。
11 ガラスクロス
12 樹脂材料
20 ガラス基板保持孔
21 凹部
30 ギヤ部
31 凹部
41 凹部
Claims (9)
- 円板形状の基板の製造方法であって、
ガラス繊維からなる複数のガラスクロスおよび前記複数のガラスクロスに含浸された樹脂材料からなる円板形状の基板用キャリアに設けられた基板保持孔に、円板形状の基板を保持させた状態で、前記円板形状の基板を上定盤と下定盤との間に保持させ、前記円板形状の基板の主表面を研削する研削処理又は前記主表面を研磨する研磨処理と、
前記研削処理又は研磨処理によって前記円板形状の基板用キャリアの主表面から露出したガラス繊維を、エッチング溶液によりエッチングするエッチング処理と、
を有する、円板形状の基板の製造方法。 - 前記ガラス繊維はアルミニウムを成分として含み、
前記エッチング溶液はフッ酸を含み、
前記エッチング処理により生じたフッ化アルミン酸塩を除去する除去処理をさらに有する、請求項1に記載の円板形状の基板の製造方法。 - 前記除去処理において、金属イオンを含む酸性の電解質溶液にフッ化アルミン酸塩を溶解させる、請求項2に記載の円板形状の基板の製造方法。
- 前記電解質溶液は、硫酸アルミニウム水溶液又は硝酸アルミニウム水溶液である、請求項3に記載の円板形状の基板の製造方法。
- 前記除去処理において、前記円板形状の基板用キャリアの表面を研磨することによりフッ化アルミン酸塩を除去する、請求項2に記載の円板形状の基板の製造方法。
- 円板形状の基板の製造方法であって、
ガラス繊維からなる複数のガラスクロスおよび前記複数のガラスクロスに含浸された樹脂材料からなる円板形状の基板用キャリアに設けられた基板保持孔に、円板形状の基板の外周端面を保持させた状態で、前記円板形状の基板用キャリアおよび前記円板形状の基板を上定盤と下定盤との間に保持させ、前記円板形状の基板の主表面を研削する研削処理又は前記主表面を研磨する研磨処理と、
前記研削処理又は研磨処理を複数回行う毎に、前記研削処理又は研磨処理を複数回行うことによって前記円板形状の基板用キャリアの主表面から露出したガラス繊維を、エッチング溶液によりエッチングするエッチング処理と、を含む、円板形状の基板の製造方法。 - 円板形状の基板の研削処理又は研磨処理に用いられるキャリアであって、
前記キャリアは、ガラス繊維からなる複数のガラスクロスおよび前記複数のガラスクロスに含浸された樹脂材料からなり、
前記キャリアには、前記円板形状の基板を保持する基板保持孔が設けられ、
前記キャリアの主表面には、前記キャリアの主表面において露出したガラス繊維がエッチングされてなる前記主表面の凹部が設けられている、ことを特徴とする研削又は研磨用キャリア。 - 前記基板保持孔の内壁面には、前記キャリアの内壁面において露出したガラス繊維がエッチングされてなる前記内壁面の凹部が設けられている、請求項7に記載の研削又は研磨用キャリア。
- 前記キャリアには、外周側の部分にギア部が形成され、
前記ギア部の外壁面には、前記キャリアの外壁面において露出したガラス繊維がエッチングされてなる前記外壁面の凹部が設けられている、請求項7又は8に記載の研削又は研磨用キャリア。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013270005A JP6152340B2 (ja) | 2013-12-26 | 2013-12-26 | 円板形状の基板の製造方法、及び研削又は研磨用キャリア |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013270005A JP6152340B2 (ja) | 2013-12-26 | 2013-12-26 | 円板形状の基板の製造方法、及び研削又は研磨用キャリア |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2015125788A JP2015125788A (ja) | 2015-07-06 |
JP2015125788A5 JP2015125788A5 (ja) | 2017-02-09 |
JP6152340B2 true JP6152340B2 (ja) | 2017-06-21 |
Family
ID=53536390
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013270005A Active JP6152340B2 (ja) | 2013-12-26 | 2013-12-26 | 円板形状の基板の製造方法、及び研削又は研磨用キャリア |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6152340B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN108349063B (zh) * | 2016-03-31 | 2020-10-27 | Hoya株式会社 | 载体及使用该载体的基板的制造方法 |
JP2023158771A (ja) * | 2022-04-19 | 2023-10-31 | 株式会社Sumco | 両面研磨用キャリア及びこれを用いたシリコンウェーハの両面研磨方法及び装置 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006088314A (ja) * | 2004-08-27 | 2006-04-06 | Showa Denko Kk | 磁気ディスク用基板および磁気ディスクの製造方法 |
JP5741157B2 (ja) * | 2011-04-07 | 2015-07-01 | 旭硝子株式会社 | 研磨用キャリア及び該キャリアを用いたガラス基板の研磨方法及びガラス基板の製造方法 |
CN103476725B (zh) * | 2011-05-02 | 2016-10-05 | Hoya株式会社 | 电子设备用覆盖玻璃的玻璃基板的制造方法及其制造装置、以及氟铝酸碱金属盐的除去方法及其装置 |
-
2013
- 2013-12-26 JP JP2013270005A patent/JP6152340B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2015125788A (ja) | 2015-07-06 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US8919150B2 (en) | Method of manufacturing an ion-exchanged glass article | |
JP5297549B2 (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法 | |
JP5305698B2 (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、磁気ディスク製造方法および磁気ディスク用ガラス基板 | |
WO2012001924A1 (ja) | 情報記録媒体用ガラス基板の製造方法 | |
US20100247978A1 (en) | Method of manufacturing a substrate for a magnetic disk | |
JP6152340B2 (ja) | 円板形状の基板の製造方法、及び研削又は研磨用キャリア | |
JP2010079948A (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 | |
JP2007102843A (ja) | 磁気記録媒体用ガラス基板および磁気ディスク | |
JP6208565B2 (ja) | 研磨用キャリアの製造方法、磁気ディスク用基板の製造方法、および磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 | |
JP6419578B2 (ja) | ハードディスク用ガラス基板の製造方法 | |
JP5102261B2 (ja) | 情報記録媒体用ガラス基板の製造方法 | |
WO2013118648A1 (ja) | ガラス製品の製造方法および磁気ディスクの製造方法 | |
JP5350853B2 (ja) | ガラス基板の製造方法、及び磁気記録媒体の製造方法 | |
JP4723341B2 (ja) | 磁気記録媒体用ガラス基板および磁気ディスクの製造方法 | |
JP2010238302A (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及びそれに用いる電着砥石 | |
JP2010238298A (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 | |
JP5265429B2 (ja) | ガラス基板の製造方法、及び磁気記録媒体の製造方法 | |
JP5859756B2 (ja) | Hdd用ガラス基板の製造方法 | |
JP2003187424A (ja) | 情報記録媒体用ガラス基板の製造方法及び情報記録媒体用ガラス基板 | |
WO2011121906A1 (ja) | 情報記録媒体用ガラス基板の製造方法及び情報記録媒体用ガラス基板 | |
JP2010238303A (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 | |
JP2013012280A (ja) | Hdd用ガラス基板の製造方法 | |
JP2011067901A (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 | |
WO2013099083A1 (ja) | Hdd用ガラス基板の製造方法 | |
JP2010080026A (ja) | 磁気ディスク用基板の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20161222 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20161228 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20170425 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20170523 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20170529 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6152340 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |