JP6146635B2 - Front plate and method for manufacturing front plate - Google Patents

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本発明は、ＬＣＤや有機ＥＬなどの表示部の観察者側に配置され、電子ペンで読み取り可能な複数のドットを含むコード化パターンが設けられた前面板に関する。また本発明は、前面板の製造方法に関する。   The present invention relates to a front plate provided on a viewer side of a display unit such as an LCD or an organic EL and provided with a coding pattern including a plurality of dots readable by an electronic pen. The present invention also relates to a method for manufacturing a front plate.

近年、ユーザによって描かれた文字や画像などの情報を電子化する電子ペンが開発されており、その代表的なものとしてスウェーデンのＡｎｏｔｏ社が開発した「アノトペン（Ａｎｏｔｏ ｐｅｎ）」が知られている。アノトペンは、コード化パターンを撮影するための小型カメラと、撮影したコード化パターンからアノトペンの位置座標を演算するプロセッサと、演算された位置座標等を外部機器へ送信するデータ通信ユニットとを備えている。コード化パターンが形成された専用紙の上に、ユーザがアノトペンを用いて文字や画像などを描くとき、アノトペンの小型カメラが専用紙上のコード化パターンを撮影する。撮影結果に基づいて、専用紙上で移動していたアノトペンの軌跡が算出され、この結果、ユーザによって描かれた文字や画像が認識される。   In recent years, electronic pens that digitize information such as letters and images drawn by users have been developed, and a representative example thereof is “Anot pen” developed by Swedish company Anoto. . The anotopen includes a small camera for photographing a coded pattern, a processor for calculating the position coordinates of the anotopen from the shot coded pattern, and a data communication unit for transmitting the calculated position coordinates and the like to an external device. Yes. When a user draws characters or images on the dedicated paper on which the coded pattern is formed using the anotopen, a small camera of the anotopen photographs the coded pattern on the dedicated paper. Based on the photographing result, the locus of the anotopen that has moved on the dedicated paper is calculated, and as a result, the characters and images drawn by the user are recognized.

また、複数のドットを含むコード化パターンをＬＣＤや有機ＥＬなどの表示部が組み込まれた表示装置に形成することも提案されている。例えば特許文献１において、複数のドットを含むコード化パターンを有するドットパターン形成層によって観察側の層を構成した表示装置が提案されている。   It has also been proposed to form a coded pattern including a plurality of dots in a display device in which a display unit such as an LCD or an organic EL is incorporated. For example, Patent Document 1 proposes a display device in which an observation-side layer is configured by a dot pattern forming layer having a coded pattern including a plurality of dots.

特開２０１２−１２８８２８号公報JP 2012-128828 A

特許文献１においては、従来の表示装置の観察側にドットパターン形成層をさらに設けることにより、電子ペンによる入力が可能な表示装置が実現されている。この場合、ドットパターン形成層を準備し、そして従来の表示装置の観察側に当該ドットパターン形成層を設ける分だけ、従来の表示装置に比べて工数およびコストが増加してしまうことが考えられる。また、表示装置の厚みについても、ドットパターン形成層の分だけ増加してしまうことが考えられる。   In Patent Document 1, a display device capable of inputting with an electronic pen is realized by further providing a dot pattern forming layer on the observation side of a conventional display device. In this case, it is conceivable that man-hours and costs are increased as compared with the conventional display device, because the dot pattern formation layer is prepared and the dot pattern formation layer is provided on the observation side of the conventional display device. Also, the thickness of the display device may be increased by the dot pattern forming layer.

本発明は、このような課題を効果的に解決し得る前面板および前面板の製造方法を提供することを目的とする。   An object of this invention is to provide the manufacturing method of the front plate and front plate which can solve such a subject effectively.

本発明は、表示領域と、前記表示領域の周辺に位置する非表示領域と、を含む前面板において、透明基板と、前記透明基板の表示領域に設けられ、電子ペンで読み取り可能な複数のドットを含むコード化パターンと、前記透明基板の非表示領域に設けられた加飾部と、を備え、前記コード化パターンの各ドットは、前記加飾部を構成する材料と同一の材料から構成されている、前面板である。   The present invention provides a front plate including a display area and a non-display area located around the display area, a transparent substrate, and a plurality of dots provided in the display area of the transparent substrate and readable by an electronic pen. And each of the dots of the coded pattern is made of the same material as that constituting the decorated portion. It is a front plate.

本発明による前面板において、前記加飾部は、光を遮蔽する遮光性材料を含む遮光層を有し、前記コード化パターンの各ドットは、前記遮光層の前記遮光性材料と同一の材料から構成されていてもよい。   In the front plate according to the present invention, the decorative portion has a light shielding layer containing a light shielding material that shields light, and each dot of the coded pattern is made of the same material as the light shielding material of the light shielding layer. It may be configured.

本発明による前面板において、前記加飾部は、光を部分的に透過させる半透光性材料を含む半透光層を有し、前記コード化パターンの各ドットは、前記半透光層の前記半透光性材料と同一の材料から構成されていてもよい。   In the front plate according to the present invention, the decorative portion has a semi-transparent layer containing a semi-transparent material that partially transmits light, and each dot of the coded pattern is formed by the semi-transparent layer. You may be comprised from the material same as the said semi-translucent material.

本発明による前面板において、前記半透光層の前記半透光性材料は、赤外光を透過させるとともに可視光を遮蔽する赤外光透光性材料であってもよい。   In the front plate according to the present invention, the translucent material of the semitranslucent layer may be an infrared translucent material that transmits infrared light and shields visible light.

本発明による前面板において、前記半透光層の前記半透光性材料は、可視光を透過させるとともに赤外光を遮蔽する赤外光遮光性材料であってもよい。   In the front plate according to the present invention, the semi-transparent material of the semi-transparent layer may be an infrared light shielding material that transmits visible light and shields infrared light.

本発明による前面板は、前記透明基板上および前記加飾部上に設けられた保護層と、前記保護層上に設けられたタッチパネルセンサと、をさらに備えていてもよい。   The front plate according to the present invention may further include a protective layer provided on the transparent substrate and the decorative portion, and a touch panel sensor provided on the protective layer.

本発明は、表示領域と、前記表示領域の周辺に位置する非表示領域と、を含む前面板の製造方法において、透明基板を準備する工程と、前記透明基板の非表示領域に加飾部を形成する加飾部形成工程と、を備え、前記加飾部形成工程と同時に、前記加飾部を構成する材料と同一の材料を用いて、電子ペンで読み取り可能なコード化パターンの複数のドットを前記透明基板の表示領域に形成する、前面板の製造方法である。   The present invention provides a method for producing a front plate including a display area and a non-display area located around the display area, a step of preparing a transparent substrate, and a decorative portion in the non-display area of the transparent substrate. A plurality of dots of a coded pattern that can be read with an electronic pen using the same material as the material constituting the decorating part at the same time as the decorating part forming process. Is formed in the display area of the transparent substrate.

本発明による前面板の製造方法において、前記加飾部形成工程は、光を遮蔽する遮光性材料を用いて前記透明基板の非表示領域に遮光層を形成する遮光層形成工程を有していてもよい。この場合、前記遮光層形成工程と同時に、前記遮光性材料を用いて、前記コード化パターンの複数のドットを前記透明基板の表示領域に形成してもよい。   In the method for manufacturing a front plate according to the present invention, the decoration portion forming step includes a light shielding layer forming step of forming a light shielding layer in a non-display area of the transparent substrate using a light shielding material that shields light. Also good. In this case, simultaneously with the light shielding layer forming step, a plurality of dots of the coded pattern may be formed in the display area of the transparent substrate using the light shielding material.

本発明による前面板の製造方法において、前記加飾部形成工程は、光を部分的に透過させる半透光性材料を用いて前記透明基板の非表示領域に半透光層を形成する半透光層形成工程を有していてもよい。この場合、前記半透光層形成工程と同時に、前記半透光性材料を用いて、前記コード化パターンの複数のドットを前記透明基板の表示領域に形成してもよい。   In the method for manufacturing a front plate according to the present invention, in the decoration portion forming step, a semi-transparent layer is formed in a non-display region of the transparent substrate using a semi-transparent material that partially transmits light. You may have an optical layer formation process. In this case, simultaneously with the semi-transparent layer forming step, a plurality of dots of the coded pattern may be formed in the display area of the transparent substrate using the semi-translucent material.

本発明による前面板の製造方法において、前記半透光層の前記半透光性材料は、赤外光を透過させるとともに可視光を遮蔽する赤外光透光性材料であってもよい。   In the method for manufacturing a front plate according to the present invention, the semi-transparent material of the semi-transparent layer may be an infrared light translucent material that transmits infrared light and shields visible light.

本発明による前面板の製造方法において、前記半透光層の前記半透光性材料は、可視光を透過させるとともに赤外光を遮蔽する赤外光遮光性材料であってもよい。   In the method for manufacturing a front plate according to the present invention, the semi-transparent material of the semi-transparent layer may be an infrared light shielding material that transmits visible light and shields infrared light.

本発明による前面板の製造方法は、前記透明基板上および前記加飾部上に保護層を形成する保護層形成工程と、前記保護層上にタッチパネルセンサを形成するタッチパネルセンサ形成工程と、をさらに備えていてもよい。   The method for manufacturing a front plate according to the present invention further includes a protective layer forming step of forming a protective layer on the transparent substrate and the decorative portion, and a touch panel sensor forming step of forming a touch panel sensor on the protective layer. You may have.

本発明によれば、コード化パターンの各ドットを、加飾部を構成する材料と同一の材料を用いて加飾部と同時に形成することができる。このため、コード化パターンを形成することによって工数、コストや厚みが増加することを抑制することができる。   According to the present invention, each dot of the coded pattern can be formed at the same time as the decorating part using the same material as that constituting the decorating part. For this reason, it can suppress that a man-hour, cost, and thickness increase by forming a coding pattern.

図１は、本発明の第１の実施の形態における表示装置を示す平面図。FIG. 1 is a plan view showing a display device according to a first embodiment of the present invention. 図２は、図１の表示装置をII−II方向から見た縦断面図。2 is a longitudinal sectional view of the display device of FIG. 1 as viewed from the II-II direction. 図３（ａ）〜（ｄ）は、本発明の第１の実施の形態において、前面板および表示装置の製造方法を示す図。FIGS. 3A to 3D are views showing a method for manufacturing a front plate and a display device in the first embodiment of the present invention. 図４は、本発明の第１の実施の形態において、電子ペンがコード化パターンを読み取る様子を示す図。FIG. 4 is a diagram showing a state in which the electronic pen reads the coded pattern in the first embodiment of the present invention. 図５は、本発明の第１の実施の形態の第１の変形例における表示装置の概略を示す平面図。FIG. 5 is a plan view showing an outline of a display device in a first modification of the first embodiment of the present invention. 図６（ａ）〜（ｅ）は、図５に示す表示装置の製造方法を示す図。6A to 6E are views showing a method for manufacturing the display device shown in FIG. 図７は、本発明の第１の実施の形態の第１の変形例による表示装置の一例を示す縦断面図。FIG. 7 is a longitudinal sectional view showing an example of a display device according to a first modification of the first embodiment of the present invention. 図８は、本発明の第１の実施の形態の第１の変形例による表示装置のその他の例を示す縦断面図。FIG. 8 is a longitudinal sectional view showing another example of the display device according to the first modification of the first embodiment of the present invention. 図９は、本発明の第１の実施の形態の第２の変形例による表示装置の一例を示す縦断面図。FIG. 9 is a longitudinal sectional view showing an example of a display device according to a second modification of the first embodiment of the present invention. 図１０は、本発明の第１の実施の形態の第２の変形例による表示装置のその他の例を示す縦断面図。FIG. 10 is a longitudinal sectional view showing another example of the display device according to the second modification of the first embodiment of the present invention. 図１１Ａは、本発明の第１の実施の形態の第２の変形例による前面板のタッチパネルセンサの一例を示す平面図。FIG. 11A is a plan view showing an example of a touch panel sensor of a front plate according to a second modification of the first embodiment of the present invention. 図１１Ｂは、図１１ＡのタッチパネルセンサをXIＢ−XIＢ方向から見た縦断面図。FIG. 11B is a longitudinal sectional view of the touch panel sensor of FIG. 11A viewed from the XIB-XIB direction. 図１１Ｃは、図１１ＡのタッチパネルセンサをXIＣ−XIＣ方向から見た縦断面図。11C is a longitudinal sectional view of the touch panel sensor of FIG. 11A as viewed from the XIC-XIC direction. 図１２（ａ）〜（ｆ）は、本発明の第１の実施の形態の第２の変形例において、前面板および表示装置の製造方法を示す図。12 (a) to 12 (f) are diagrams showing a method for manufacturing a front plate and a display device in a second modification of the first embodiment of the present invention. 図１３（ａ）〜（ｆ）は、本発明の第２の実施の形態において、前面板および表示装置の製造方法を示す図。FIGS. 13A to 13F are views showing a method for manufacturing a front plate and a display device in the second embodiment of the present invention. 図１４は、本発明の第２の実施の形態の変形例による前面板を示す縦断面図。FIG. 14 is a longitudinal sectional view showing a front plate according to a modification of the second embodiment of the present invention.

第１の実施の形態
以下、図１乃至図４を参照して、本発明の第１の実施の形態について説明する。なお、本件明細書に添付する図面においては、図示と理解のしやすさの便宜上、適宜縮尺および縦横の寸法比等を、実物のそれらから変更し誇張してある。
まず図１および図２により、本実施の形態における表示装置６０および前面板１０全体について説明する。 First Embodiment Hereinafter, a first embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. In the drawings attached to the present specification, for the sake of illustration and ease of understanding, the scale, the vertical / horizontal dimension ratio, and the like are appropriately changed and exaggerated from those of the actual product.
First, the display device 60 and the entire front plate 10 in the present embodiment will be described with reference to FIGS.

表示装置
図１は、表示装置６０を示す平面図であり、図２は、表示装置６０を図１のII−II方向から見た縦断面図である。図２に示すように、表示装置６０は、ＬＣＤ、ＰＤＰ、有機ＥＬなどの表示部２５と、表示部２５の観察者側に配置された前面板１０と、を備えている。図２に示すように、表示部２５と前面板１０との間に、透光性を有する接着層３０が介在されていてもよい。 Display Device FIG. 1 is a plan view showing a display device 60, and FIG. 2 is a longitudinal sectional view of the display device 60 viewed from the II-II direction of FIG. As shown in FIG. 2, the display device 60 includes a display unit 25 such as an LCD, a PDP, or an organic EL, and a front plate 10 disposed on the viewer side of the display unit 25. As shown in FIG. 2, an adhesive layer 30 having translucency may be interposed between the display unit 25 and the front plate 10.

また図１および図２に示すように、表示装置６０および前面板１０の法線方向から見た場合、表示装置６０および前面板１０は、映像を表示させるための表示領域Ａ１と、表示領域Ａ１の周辺に位置する非表示領域Ａ２とに区画されている。 As shown in FIGS. 1 and 2, when viewed from the normal direction of the display device 60 and the front plate 10, the display device 60 and the front plate 10 include a display area A 1 for displaying an image, and a display area. It is partitioned into a non-display area A 2 located around A 1 .

前面板
前面板１０は、表示部２５を保護するために設けられるものである。この前面板１０は、透明基板１１と、透明基板１１の表示部２５側であって表示領域Ａ１内に設けられたコード化パターン２０と、透明基板１１の表示部２５側であって非表示領域Ａ２内に設けられた加飾部１２と、を有している。 The front plate 10 is provided to protect the display unit 25. The front plate 10 includes a transparent substrate 11, a coded pattern 20 provided on the display section 25 side is a the display area A 1 of the transparent substrate 11, the non-display a display section 25 side of the transparent substrate 11 has a decorative portion 12 provided in the region a 2, a.

（透明基板）
透明基板１１の材料は、表示部２５からの光を外部に取り出すことができる限り特に限定されるものではない。例えば、透明基板１１の材料として、透光性や耐久性等を考慮して、ガラスやポリマー等が用いられる。ポリマーとしては、例えば、アクリル樹脂やポリカーボネートが用いられる。また、アクリル樹脂とポリカーボネートとを組み合わせることによって透明基板１１が構成されてもよい。例えば、ポリカーボネートからなる基板をアクリル樹脂からなる基板によって挟むことにより透明基板１１が構成されていてもよい。また、透明基板１１の表面には、擦り傷を防止するためのハードコート層が形成されていてもよい。ハードコート層は、例えば、アクリル系の多価モノマーから構成される。 (Transparent substrate)
The material of the transparent substrate 11 is not particularly limited as long as the light from the display unit 25 can be extracted to the outside. For example, glass, polymer, or the like is used as the material of the transparent substrate 11 in consideration of translucency and durability. As the polymer, for example, acrylic resin or polycarbonate is used. Moreover, the transparent substrate 11 may be comprised by combining an acrylic resin and a polycarbonate. For example, the transparent substrate 11 may be configured by sandwiching a substrate made of polycarbonate between substrates made of acrylic resin. In addition, a hard coat layer for preventing scratches may be formed on the surface of the transparent substrate 11. The hard coat layer is composed of, for example, an acrylic polyvalent monomer.

（加飾部）
加飾部１２は、前面板１０および表示装置６０の意匠性を高めるために設けられるものであり、例えば図１に示すように、表示装置６０の周縁部分を黒色で飾るよう形成された遮光部分１３を含んでいる。遮光部分１３は、後述するように、光を遮蔽する遮光性材料を含む遮光層から構成されている。また加飾部１２は、光を部分的に透過させる半透光部分１４をさらに含んでいてもよい。 (Decoration Department)
The decoration part 12 is provided in order to improve the designability of the front panel 10 and the display device 60. For example, as shown in FIG. 1, the light-shielding portion formed to decorate the peripheral portion of the display device 60 in black. 13 is included. As will be described later, the light shielding portion 13 is composed of a light shielding layer containing a light shielding material that shields light. Moreover, the decoration part 12 may further contain the semi-translucent part 14 which permeate | transmits light partially.

（コード化パターン）
コード化パターン２０は、後述する電子ペンで読み取り可能な複数のドット２１を含んでいる。各ドット２１は、電子ペンを用いて複数のドット２１を読み取ることによって各ドットの位置座標を算出することができるよう、所定の規則の下で配置されている。このようなコード化パターン２０の一例として、アノト社の方式によるコード化パターンが知られている。アノト社の方式によるコード化パターンにおいて、各ドット２１の位置は、仮想格子の基準位置から上下左右に、所定の規則に従って変位されている。このため、複数のドット２１の相対的な位置関係を読み取ることにより、各ドット２１の位置座標を算出することができるようになっている。各ドット２１間の平均間隔は、電子ペンを用いた入力に求められる分解能に応じて設定されるが、例えば約３００μｍとなっている。 (Coding pattern)
The coded pattern 20 includes a plurality of dots 21 that can be read by an electronic pen described later. Each dot 21 is arranged under a predetermined rule so that the position coordinates of each dot can be calculated by reading the plurality of dots 21 using an electronic pen. As an example of such a coding pattern 20, a coding pattern based on the system of Anoto is known. In the coding pattern according to the method of Anoto, the position of each dot 21 is displaced from the reference position of the virtual grid up, down, left, and right according to a predetermined rule. For this reason, the position coordinates of each dot 21 can be calculated by reading the relative positional relationship between the plurality of dots 21. The average interval between the dots 21 is set according to the resolution required for the input using the electronic pen, and is about 300 μm, for example.

コード化パターン２０の各ドット２１は、加飾部１２を構成する材料のいずれかと同一の材料から構成されている。例えば本実施の形態において、各ドット２１は、加飾部１２の遮光部分１３の遮光層１５に含まれる遮光性材料と同一の材料から構成されている。   Each dot 21 of the coded pattern 20 is made of the same material as any one of the materials constituting the decorative portion 12. For example, in this Embodiment, each dot 21 is comprised from the same material as the light-shielding material contained in the light shielding layer 15 of the light shielding part 13 of the decorating part 12. FIG.

次に、このような構成からなる本実施の形態の作用および効果について説明する。ここでは、はじめに、前面板１０および表示装置６０の製造方法について説明する。次に、電子ペンを用いて前面板１０のコード化パターン２０を読み取る方法について説明する。   Next, the operation and effect of the present embodiment having such a configuration will be described. Here, first, a method for manufacturing the front plate 10 and the display device 60 will be described. Next, a method for reading the coded pattern 20 on the front plate 10 using an electronic pen will be described.

前面板の製造方法
はじめに、透明基板１１を準備する。次に、透明基板１１の表示部２５側に加飾部１２を形成する加飾部形成工程を実施する。加飾部形成工程は、光を遮蔽する遮光性材料を用いて透明基板１１の非表示領域Ａ２に遮光層１５を形成する遮光層形成工程を有している。以下、遮光層形成工程について説明する。 First , a transparent substrate 11 is prepared. Next, the decoration part formation process which forms the decoration part 12 in the display part 25 side of the transparent substrate 11 is implemented. Decorative portion forming step includes a light-shielding layer forming step of forming a light shielding layer 15 in the non-display area A 2 of the transparent substrate 11 by using a light shielding material to block light. Hereinafter, the light shielding layer forming step will be described.

〔遮光性材料の塗布工程〕
初めに図３（ａ）に示すように、透明基板１１の表示部２５側に遮光層１５を設ける。例えば、遮光性材料を含む塗布液を透明基板１１の全域にわたって塗布し、その後、塗布液を乾燥させることによって、透明基板１１上に遮光層１５を設ける。塗布液を塗布するための方法が特に限られることはなく、ダイコート法、スピンコート法またはディップコート法などのウェット法や、スクリーン印刷法などの印刷法が適宜用いられる。遮光層１５の厚みｔ１は、例えば１．０〜２．５μｍの範囲内となっている。なお、厚みｔ１のこの範囲は、少なくとも塗布液を乾燥させた後の遮光層１５の厚みの範囲であり、例えば、最終的に前面板１０が得られた際の遮光層１５の厚みの範囲である。 [Light-shielding material application process]
First, as shown in FIG. 3A, the light shielding layer 15 is provided on the display unit 25 side of the transparent substrate 11. For example, the light shielding layer 15 is provided on the transparent substrate 11 by apply | coating the coating liquid containing a light-shielding material over the whole region of the transparent substrate 11, and drying a coating liquid after that. The method for applying the coating solution is not particularly limited, and a wet method such as a die coating method, a spin coating method or a dip coating method, or a printing method such as a screen printing method is appropriately used. The thickness t 1 of the light shielding layer 15 is in the range of 1.0 to 2.5 μm, for example. Note that this range of the thickness t 1 is at least the range of the thickness of the light shielding layer 15 after the coating liquid is dried. For example, the range of the thickness of the light shielding layer 15 when the front plate 10 is finally obtained. It is.

遮光層１５に含まれる遮光性材料は、その透過率が透明基板１１を構成する材料の透過率よりも低くなっている限りにおいて、特に限定されるものではない。遮光性材料としては、例えば、カーボンブラック、チタンブラック等の黒色着色材を含有する樹脂組成物が挙げられる。また遮光性材料は、感光性を有する感光性材料をさらに含んでいてもよい。遮光性材料に含まれる感光性材料としては、例えば、紫外線の照射により硬化する光硬化性樹脂が用いられる。   The light shielding material included in the light shielding layer 15 is not particularly limited as long as the transmittance is lower than the transmittance of the material constituting the transparent substrate 11. Examples of the light-shielding material include a resin composition containing a black coloring material such as carbon black and titanium black. The light shielding material may further include a photosensitive material having photosensitivity. As the photosensitive material included in the light-shielding material, for example, a photocurable resin that is cured by irradiation with ultraviolet rays is used.

〔遮光層のパターニング工程〕
次に、紫外線などの露光光を遮光層１５に所定パターンで照射する。例えば図３（ｂ）に示すように、露光光を透過させる開口領域１８ａと、露光光を遮蔽する遮光領域１８ｂと、を有する露光マスク１８を介して、露光光を遮光層１５に照射する。 [Light-shielding layer patterning process]
Next, the light shielding layer 15 is irradiated with exposure light such as ultraviolet rays in a predetermined pattern. For example, as shown in FIG. 3B, the light shielding layer 15 is irradiated with exposure light through an exposure mask 18 having an opening region 18a that transmits the exposure light and a light shielding region 18b that shields the exposure light.

露光マスク１８は、露光・現像処理の後に遮光層１５が非表示領域Ａ２に残るよう構成されている。例えば遮光性材料として光硬化性樹脂が用いられる場合、露光マスク１８は、遮光層１５のうち非表示領域Ａ２に存在している遮光層１５に露光光が照射されるよう、構成されている。 Exposure mask 18, the light-shielding layer 15 is configured to remain in the non-display area A 2 after the exposure and development process. For example, when the photocurable resin is used as the light-shielding material, the exposure mask 18, so that the exposure light is irradiated to the light-shielding layer 15 which is present in the non-display area A 2 of the light-shielding layer 15 is constituted .

その後、遮光層１５に対して現像処理を施す。これによって、図３（ｃ）に示すように、透明基板１１の非表示領域Ａ２に、遮光層１５を含む遮光部分１３を形成することができる。 Thereafter, the light shielding layer 15 is developed. As a result, as shown in FIG. 3C, the light shielding portion 13 including the light shielding layer 15 can be formed in the non-display area A 2 of the transparent substrate 11.

ところで本実施の形態において、露光マスク１８は、露光・現像処理の後に遮光層１５が、表示領域Ａ１のうちコード化パターン２０の各ドット２１が形成されるべき部分にも残るよう構成されている。例えば図３（ｂ）に示すように、露光マスク１８には、非表示領域Ａ２に対応する部分だけでなく表示領域Ａ１のうちドット２１に対応する部分にも、開口領域１８ａが形成されている。このため図３（ｃ）に示すように、上述の遮光層形成工程によって非表示領域Ａ２に遮光層１５を形成することと同時に、遮光性材料を用いて、コード化パターン２０の各ドット２１を透明基板１１の表示領域Ａ１に形成することができる。 Incidentally in this embodiment, the exposure mask 18, the light blocking layer 15 after the exposure and development process, is configured to be remaining in portions to each dot 21 is formed of a coding pattern 20 in the display area A 1 Yes. For example, as shown in FIG. 3 (b), the exposure mask 18, also in a portion corresponding to the dot 21 in the display area A 1 as well portion corresponding to the non-display area A 2, the aperture region 18a is formed ing. As shown in this order FIG. 3 (c), the same time as it forms a light-shielding layer 15 in the non-display area A 2 by the above-described light-shielding layer forming step, by using a light-shielding material, each dot code pattern 20 21 Can be formed in the display area A 1 of the transparent substrate 11.

このようにして、透明基板１１と、透明基板１１の表示領域Ａ１に設けられ、電子ペンで読み取り可能な複数のドット２１を含むコード化パターン２０と、透明基板１１の非表示領域Ａ２に設けられた加飾部１２と、を備えた前面板１０が得られる。 In this manner, the transparent substrate 11, the display area A 1 of the transparent substrate 11, the coded pattern 20 including a plurality of dots 21 readable by the electronic pen, and the non-display area A 2 of the transparent substrate 11 The front plate 10 provided with the decoration part 12 provided is obtained.

表示装置の製造方法
次に、前面板１０の表示部２５側に接着層３０を設ける。その後、前面板１０と表示部２５とを接着層３０を介して貼り合わせる。これによって、図３（ｄ）に示すように、前面板１０と表示部２５とを備えた表示装置６０が得られる。 Method for manufacturing a display device Next, an adhesive layer 30 on the display unit 25 side of the front plate 10. Thereafter, the front plate 10 and the display unit 25 are bonded together via the adhesive layer 30. As a result, as shown in FIG. 3D, a display device 60 including the front plate 10 and the display unit 25 is obtained.

コード化パターンの読み取り方法
次に、電子ペンを用いて前面板１０のコード化パターン２０を読み取る方法について、図４を参照して説明する。 Method for Reading Coded Pattern Next, a method for reading the coded pattern 20 on the front plate 10 using an electronic pen will be described with reference to FIG.

はじめに、コード化パターン２０を読み取るための電子ペン７０を準備する。電子ペン７０の筐体の内部には、前面板１０のコード化パターン２０の複数のドット２１を撮影する撮影部７２が設けられている。また電子ペン７０の筐体の内部には、前面板１０に向けて光を放射する発光部７１が必要に応じて設けられている。また電子ペン７０には、前面板１０上における電子ペン７０の位置をユーザが確認するためのペン先７３が設けられていてもよい。   First, an electronic pen 70 for reading the coded pattern 20 is prepared. Inside the housing of the electronic pen 70, a photographing unit 72 that photographs a plurality of dots 21 of the coded pattern 20 of the front plate 10 is provided. In addition, a light emitting unit 71 that emits light toward the front plate 10 is provided inside the housing of the electronic pen 70 as necessary. In addition, the electronic pen 70 may be provided with a pen tip 73 for the user to confirm the position of the electronic pen 70 on the front plate 10.

前面板１０のコード化パターン２０を撮影し、これによって、ドット２１が存在している部分とドット２１が存在していない部分とを識別することができる限りにおいて、撮影部７２および必要に応じて設けられる発光部７１の具体的な構成が特に限られることはない。発光部７１および撮影部７２は、コード化パターン２０の各ドット２１の光学特性に応じて適宜構成される。   As long as the coded pattern 20 of the front plate 10 is photographed so that a portion where the dots 21 are present can be distinguished from a portion where the dots 21 are not present, the photographing portion 72 and as necessary. The specific configuration of the light emitting unit 71 provided is not particularly limited. The light emitting unit 71 and the photographing unit 72 are appropriately configured according to the optical characteristics of each dot 21 of the coded pattern 20.

図４において、ドット２１から電子ペン７０の撮影部７２に向かう光が符号Ｌａで示されており、ドット２１の周囲から電子ペン７０の撮影部７２に向かう光が符号Ｌｂで示されている。光Ｌａ，Ｌｂは、発光部７１から放射された後に表示装置６０の構成要素によって反射された光、および／または表示装置６０に入射した後に表示装置６０の構成要素によって反射された外光、および／または表示部２５からの光などによって構成され得る。このうち光Ｌａの強度は、主に、ドット２１の反射率や透過率に基づいて決定される。一方、光Ｌｂの強度は、主に、ドット２１の周囲の部材の反射率や透過率、例えば透明基板１１の反射率や透過率に基づいて決定される。このように、光Ｌａの強度を決定する要因と、光Ｌｂの強度を決定する要因とは、互いに異なっている。従って、ドット２１を構成する材料、および、透明基板１１を構成する材料を適切に選択することにより、光Ｌａの強度と光Ｌｂとの間の強度に有意な差を生じさせることができる。電子ペン７０は、光Ｌａと光Ｌｂとの間の強度差、若しくは光Ｌａと光Ｌｂとの間の強度比に基づいて、コード化パターン２０の各ドット２１の位置関係を認識することができ、この情報に基づいて、前面板１０上における各ドット２１の位置情報を算出することができる。これによって、ユーザによって描かれた文字や画像などの情報を電子化することができる。なお、光Ｌａと光Ｌｂの大小関係が特に限られることはない。   In FIG. 4, light from the dot 21 toward the photographing unit 72 of the electronic pen 70 is indicated by symbol La, and light from the periphery of the dot 21 toward the photographing unit 72 of the electronic pen 70 is indicated by symbol Lb. The lights La and Lb are emitted from the light emitting unit 71 and then reflected by the components of the display device 60, and / or outside light reflected by the components of the display device 60 after entering the display device 60, and It may be configured by light from the display unit 25 or the like. Of these, the intensity of the light La is determined mainly based on the reflectance and transmittance of the dots 21. On the other hand, the intensity of the light Lb is mainly determined based on the reflectance and transmittance of the members around the dots 21, for example, the reflectance and transmittance of the transparent substrate 11. Thus, the factor that determines the intensity of the light La and the factor that determines the intensity of the light Lb are different from each other. Accordingly, by appropriately selecting the material constituting the dots 21 and the material constituting the transparent substrate 11, a significant difference can be produced in the intensity between the light La and the light Lb. The electronic pen 70 can recognize the positional relationship of the dots 21 of the coding pattern 20 based on the intensity difference between the light La and the light Lb or the intensity ratio between the light La and the light Lb. Based on this information, the position information of each dot 21 on the front plate 10 can be calculated. Thereby, information such as characters and images drawn by the user can be digitized. The magnitude relationship between the light La and the light Lb is not particularly limited.

なお、電子ペン７０の発光部７１から放射される光の波長域が、光Ｌａと光Ｌｂとの間の強度差や強度比がより大きくなるよう、ドット２１を構成する材料や透明基板１１を構成する材料に応じて調整されていてもよい。また、電子ペン７０の撮影部７２の感度波長域が、光Ｌａと光Ｌｂとの間の強度差や強度比がより大きくなるよう、ドット２１を構成する材料や透明基板１１を構成する材料に応じて調整されていてもよい。電子ペン７０の撮影部７２の感度波長域を調整する方法としては、例えば、特定波長の光のみを透過させるフィルタを電子ペン７０に設ける方法が考えられる。このように、発光部７１から放射される光の波長域や撮影部７２の感度波長域を適切に調整することにより、各ドット２１の位置関係をより正確に認識することができる。   Note that the material constituting the dots 21 and the transparent substrate 11 are set so that the wavelength range of the light emitted from the light emitting unit 71 of the electronic pen 70 is larger in intensity difference and intensity ratio between the light La and the light Lb. You may adjust according to the material to comprise. In addition, the sensitivity wavelength region of the photographing unit 72 of the electronic pen 70 is a material that constitutes the dot 21 or a material that constitutes the transparent substrate 11 so that the intensity difference or the intensity ratio between the light La and the light Lb becomes larger. It may be adjusted accordingly. As a method of adjusting the sensitivity wavelength range of the photographing unit 72 of the electronic pen 70, for example, a method of providing the electronic pen 70 with a filter that transmits only light of a specific wavelength is conceivable. As described above, by appropriately adjusting the wavelength range of the light emitted from the light emitting unit 71 and the sensitivity wavelength range of the photographing unit 72, the positional relationship between the dots 21 can be recognized more accurately.

また、光Ｌａと光Ｌｂとの間の強度差や強度比がより大きくなるよう、遮光層１５を構成する材料を選択することもできる。例えば、遮光層１５を構成する遮光性材料として、チタンブラックを用いることができる。この場合、ドット２１の表面における光の反射率を、ドット２１の周囲の透明基板１１の表面における光の反射率よりも十分に小さくすることができる。これによって、光Ｌａの強度を、光Ｌｂの強度に比べて十分に小さくすることができ、このことにより、各ドット２１の位置関係をより正確に認識することができる。   Moreover, the material which comprises the light shielding layer 15 can also be selected so that the intensity | strength difference and intensity ratio between the light La and the light Lb may become larger. For example, titanium black can be used as the light shielding material constituting the light shielding layer 15. In this case, the reflectance of light on the surface of the dot 21 can be made sufficiently smaller than the reflectance of light on the surface of the transparent substrate 11 around the dot 21. As a result, the intensity of the light La can be made sufficiently smaller than the intensity of the light Lb, whereby the positional relationship of the dots 21 can be recognized more accurately.

本実施の形態によれば、前面板１０に設けられるコード化パターン２０の各ドット２１を、加飾部１２の遮光層１５を構成する遮光性材料を用いて遮光層１５と同時に形成することができる。このため、従来の前面板１０を製造する場合とほぼ同等の工数およびコストで、コード化パターン２０を備えた前面板１０を製造することができる。また、コード化パターン２０を含む層を別途準備し、この層を前面板１０や表示装置６０に貼り合わせる場合に比べて、前面板１０および表示装置６０の厚みを小さくすることができる。   According to the present embodiment, each dot 21 of the coded pattern 20 provided on the front plate 10 can be formed simultaneously with the light shielding layer 15 using the light shielding material constituting the light shielding layer 15 of the decorative portion 12. it can. For this reason, the front plate 10 provided with the coding pattern 20 can be manufactured with substantially the same man-hour and cost as the case of manufacturing the conventional front plate 10. Further, the thickness of the front plate 10 and the display device 60 can be reduced as compared with the case where a layer including the coded pattern 20 is prepared separately and this layer is bonded to the front plate 10 or the display device 60.

なお図２および図３においては、遮光部分１３を構成する遮光層１５の厚みと、ドット２１を構成する遮光層１５の厚みとが同一である例を示したが、これに限られることはない。例えば露光マスク１８としてハーフトーンマスクなどを用いることにより、遮光部分１３を構成する遮光層１５の厚みと、ドット２１を構成する遮光層１５の厚みとが異なるようにしてもよい。例えば、ドット２１を構成する遮光層１５の厚みが、遮光部分１３を構成する遮光層１５の厚みよりも小さくなっていてもよい。   2 and 3 show examples in which the thickness of the light shielding layer 15 constituting the light shielding portion 13 and the thickness of the light shielding layer 15 constituting the dot 21 are the same, the present invention is not limited to this. . For example, by using a halftone mask or the like as the exposure mask 18, the thickness of the light shielding layer 15 constituting the light shielding portion 13 may be different from the thickness of the light shielding layer 15 constituting the dot 21. For example, the thickness of the light shielding layer 15 constituting the dot 21 may be smaller than the thickness of the light shielding layer 15 constituting the light shielding portion 13.

第１の変形例
なお、上述した実施の形態に対して様々な変更を加えることが可能である。はじめに、第１の変形例について図５および図６を参照して説明する。 First Modification Various changes can be made to the above-described embodiment. First, a first modification will be described with reference to FIGS. 5 and 6.

図１乃至図４に示す上述の実施の形態においては、コード化パターン２０の各ドット２１が、加飾部１２の遮光部分１３の遮光層１５に含まれる遮光性材料と同一の材料から構成される例を示した。しかしながら、これに限られることはなく、各ドット２１が、加飾部１２のその他の層に含まれる材料と同一の材料から構成されていてもよい。例えば図５に示すように、各ドット２１が、加飾部１２の半透光部分１４を構成するために設けられる半透光層（後述）に含まれる半透光性材料と同一の材料から構成されていてもよい。   In the above-described embodiment shown in FIG. 1 to FIG. 4, each dot 21 of the coded pattern 20 is made of the same material as the light shielding material included in the light shielding layer 15 of the light shielding portion 13 of the decorative portion 12. An example was given. However, it is not restricted to this, Each dot 21 may be comprised from the same material as the material contained in the other layer of the decorating part 12. FIG. For example, as shown in FIG. 5, each dot 21 is made of the same material as the semi-transparent material included in the semi-transparent layer (described later) provided to constitute the semi-translucent portion 14 of the decorative portion 12. It may be configured.

ここで半透光性材料は、光を部分的に透過させるよう構成された材料である。「部分的」とは、半透光性材料が、所定の波長域の光を透過させるとともに、その他の波長域の光を遮蔽するよう構成されていることを意味している。「遮蔽」とは、光を吸収および／または反射することによって、光の透過を妨げることである。このような半透光性材料を含む半透光層を前面板１０に設けることにより、前面板１０および表示装置６０に様々な機能を付加することが可能になる。   Here, the semi-transparent material is a material configured to partially transmit light. “Partial” means that the translucent material is configured to transmit light in a predetermined wavelength range and shield light in other wavelength ranges. “Shielding” is to prevent light transmission by absorbing and / or reflecting light. By providing the semi-transparent layer including such a semi-translucent material on the front plate 10, various functions can be added to the front plate 10 and the display device 60.

以下、本変形例における前面板１０および表示装置６０の製造方法について、図６（ａ）〜（ｆ）を参照して説明する。   Hereinafter, the manufacturing method of the front plate 10 and the display device 60 in this modification will be described with reference to FIGS.

前面板の製造方法
はじめに、透明基板１１を準備する。次に、透明基板１１の表示部２５側に加飾部１２を形成する加飾部形成工程を実施する。加飾部形成工程は、光を部分的に透過させる半透光性材料を用いて透明基板１１の非表示領域Ａ２に半透光層を形成する半透光層形成工程と、半透光層上に部分的に遮光層を形成する遮光層形成工程と、を有している。以下、半透光層形成工程および遮光層形成工程について説明する。 First , a transparent substrate 11 is prepared. Next, the decoration part formation process which forms the decoration part 12 in the display part 25 side of the transparent substrate 11 is implemented. Decorative portions forming step includes a semi-light-transmitting layer formation step of forming a semi-transmissive layer in the non-display area A 2 of the transparent substrate 11 by using a translucent material that transmits light partially, translucent A light shielding layer forming step of partially forming a light shielding layer on the layer. Hereinafter, the semi-transparent layer forming step and the light shielding layer forming step will be described.

〔半透光層形成工程〕
初めに図６（ａ）に示すように、透明基板１１の表示部２５側に半透光層１６を設ける。例えば、半透光性材料を含む塗布液を透明基板１１の全域にわたって塗布し、その後、塗布液を乾燥させることによって、透明基板１１上に半透光層１６を設ける。塗布液を塗布するための方法が特に限られることはなく、ダイコート法、スピンコート法またはディップコート法などのウェット法や、スクリーン印刷法などの印刷法が適宜用いられる。半透光層１６の厚みｔ２は、例えば１．０〜２．５μｍの範囲内となっている。なお、厚みｔ２のこの範囲は、少なくとも塗布液を乾燥させた後の半透光層１６の厚みの範囲であり、例えば、最終的に前面板１０が得られた際の半透光層１６の厚みの範囲である。 [Semi-transmissive layer forming process]
First, as shown in FIG. 6A, the semi-transparent layer 16 is provided on the display unit 25 side of the transparent substrate 11. For example, the semitranslucent layer 16 is provided on the transparent substrate 11 by applying a coating liquid containing a semitranslucent material over the entire area of the transparent substrate 11 and then drying the coating liquid. The method for applying the coating solution is not particularly limited, and a wet method such as a die coating method, a spin coating method or a dip coating method, or a printing method such as a screen printing method is appropriately used. The thickness t 2 of the semi-transmissive layer 16 is, eg, in the range of 1.0 to 2.5 [mu] m. Note that this range of the thickness t 2 is the range of the thickness of the semi-transmissive layer 16 after drying for at least the coating solution, for example, the semi-transmissive layer 16 when finally the front plate 10 is obtained This is the range of the thickness.

次に、紫外線などの露光光を半透光層１６に所定パターンで照射する。例えば図６（ｂ）に示すように、露光光を透過させる開口領域１８ａと、露光光を遮蔽する遮光領域１８ｂとを有する露光マスク１８を介して、露光光を半透光層１６に照射する。   Next, the semi-transparent layer 16 is irradiated with exposure light such as ultraviolet rays in a predetermined pattern. For example, as shown in FIG. 6B, the semi-transparent layer 16 is irradiated with exposure light through an exposure mask 18 having an opening region 18a that transmits the exposure light and a light shielding region 18b that blocks the exposure light. .

露光マスク１８は、露光・現像処理の後に半透光層１６が非表示領域Ａ２に残るよう構成されている。例えば半透光層１６として光硬化性樹脂が用いられる場合、露光マスク１８は、半透光層１６のうち非表示領域Ａ２に存在している半透光層１６に露光光が照射されるよう、構成されている。 Exposure mask 18, the semi-transmissive layer 16 is configured to remain in the non-display area A 2 after the exposure and development process. For example, when the photocurable resin is used as the semi-transmissive layer 16, the exposure mask 18, exposure light is irradiated to the semi-transmissive layer 16 existing in the non-display area A 2 of the semi-transmissive layer 16 It is configured as such.

その後、半透光層１６に対して現像処理を施す。これによって、図６（ｃ）に示すように、透明基板１１の非表示領域Ａ２に半透光層１６を設けることができる。 Thereafter, the semitranslucent layer 16 is developed. Thereby, as shown in FIG. 6C, the semi-transparent layer 16 can be provided in the non-display area A 2 of the transparent substrate 11.

〔遮光層形成工程〕
次に図６（ｄ）に示すように、非表示領域Ａ２に設けられた半透光層１６の上に遮光層１５を設ける。この際、遮光層１５は、非表示領域Ａ２の一部に遮光層１５が存在しない領域が形成されるよう、半透光層１６上に設けられる。以下の説明において、非表示領域Ａ２のうち遮光層１５が存在しない領域を開口部１５ａとも称する。このように開口部１５ａが存在するよう遮光層１５を半透光層１６上に設けることにより、光を部分的に透過させる半透光部分１４を形成することができる。また、非表示領域Ａ２のうち半透光層１６および遮光層１５の両方を含む部分は、光を遮蔽する部分、すなわち遮光部分１３として機能することができる。すなわち本変形例においては、半透光層１６および遮光層１５を所定のパターンで透明基板１１上に設けることにより、光を部分的に透過させる半透光部分１４と、光を遮蔽する遮光部分１３とを同時に非表示領域Ａ２に形成することができる。 [Shading layer forming step]
Next, as shown in FIG. 6 (d), providing a light shielding layer 15 on the semi-transmissive layer 16 provided on the non-display area A 2. At this time, the light blocking layer 15, so that the region where the light shielding layer 15 is not present in a part of the non-display area A 2 is formed, is provided on the semi-transmissive layer 16. In the following description, the region where the light shielding layer 15 is not present among the non-display area A 2 is also referred to as opening 15a. Thus, by providing the light shielding layer 15 on the semi-transparent layer 16 so that the opening 15a exists, the semi-transparent portion 14 that partially transmits light can be formed. Further, the portion including both the semi-transparent layer 16 and the light shielding layer 15 in the non-display area A 2 can function as a portion that shields light, that is, the light shielding portion 13. That is, in this modification, the semi-transparent layer 16 and the light-shielding layer 15 are provided on the transparent substrate 11 in a predetermined pattern, so that the semi-transparent part 14 that partially transmits light and the light-shielding part that shields light. 13 and can be formed at the same time in the non-display area a 2.

また本変形例によれば、遮光部分１３が遮光層１５に加えて半透光層１６をさらに含んでいる。このため、遮光部分１３が遮光層１５のみから構成される場合に比べて、遮光部分１３における光の遮光率を高めることや、遮光層１５における光の反射率を低減することができる。   Further, according to this modification, the light shielding portion 13 further includes the semi-transparent layer 16 in addition to the light shielding layer 15. For this reason, compared with the case where the light-shielding part 13 is comprised only from the light-shielding layer 15, the light-shielding rate of the light in the light-shielding part 13 can be raised, and the reflectance of the light in the light-shielding layer 15 can be reduced.

ところで本変形例において、露光マスク１８は、露光・現像処理の後に半透光層１６が、表示領域Ａ１のうちコード化パターン２０の各ドット２１が形成されるべき部分にも残るよう構成されている。例えば図６（ｂ）に示すように、露光マスク１８には、非表示領域Ａ２に対応する部分だけでなく表示領域Ａ１のうちドット２１に対応する部分にも、開口領域１８ａが形成されている。このため図６（ｃ）に示すように、上述の半透光層形成工程によって非表示領域Ａ２に半透光層１６を形成することと同時に、半透光性材料を用いて、コード化パターン２０の各ドット２１を透明基板１１の表示領域Ａ１に形成することができる。 Meanwhile in the present modification, the exposure mask 18, exposure and development the semi-transmissive layer 16 after the process is also configured to remain in a portion to each dot 21 is formed of a coding pattern 20 in the display area A 1 ing. For example, as shown in FIG. 6 (b), the exposure mask 18, also in a portion corresponding to the dot 21 in the display area A 1 as well portion corresponding to the non-display area A 2, the aperture region 18a is formed ing. Therefore, as shown in FIG. 6 (c), simultaneously with forming a non-display area A 2 in the semi-transmissive layer 16 by the above-mentioned translucent layer forming step, by using a translucent material, coded Each dot 21 of the pattern 20 can be formed in the display area A 1 of the transparent substrate 11.

このようにして、透明基板１１と、透明基板１１の表示領域Ａ１に設けられ、電子ペンで読み取り可能な複数のドット２１を含むコード化パターン２０と、透明基板１１の非表示領域Ａ２に設けられた加飾部１２と、を備えた前面板１０が得られる。 In this manner, the transparent substrate 11, the display area A 1 of the transparent substrate 11, the coded pattern 20 including a plurality of dots 21 readable by the electronic pen, and the non-display area A 2 of the transparent substrate 11 The front plate 10 provided with the decoration part 12 provided is obtained.

表示装置の製造方法
次に、前面板１０の表示部２５側に接着層３０を設ける。その後、前面板１０と表示部２５とを接着層３０を介して貼り合わせる。これによって、図６（ｅ）に示すように、前面板１０と表示部２５とを備えた表示装置６０が得られる。図６（ｅ）に示すように、表示部２５のうち前面板１０の半透光部分１４と対向する部分には、半透光部分１４と協働して所定の機能を発揮する光学素子２６が設けられている。光学素子２６の具体例については後述する。 Method for manufacturing a display device Next, an adhesive layer 30 on the display unit 25 side of the front plate 10. Thereafter, the front plate 10 and the display unit 25 are bonded together via the adhesive layer 30. As a result, as shown in FIG. 6E, a display device 60 including the front plate 10 and the display unit 25 is obtained. As shown in FIG. 6 (e), an optical element 26 that exhibits a predetermined function in cooperation with the semi-transparent portion 14 is provided in a portion of the display unit 25 that faces the semi-transparent portion 14 of the front panel 10. Is provided. A specific example of the optical element 26 will be described later.

次に、半透光層１６の半透光性材料の具体例、および半透光層１６を含む半透光部分１４によって前面板１０および表示装置６０にもたらされる機能の例について説明する。   Next, a specific example of the semi-transparent material of the semi-transparent layer 16 and an example of functions provided to the front plate 10 and the display device 60 by the semi-transparent portion 14 including the semi-transparent layer 16 will be described.

例えば、ユーザの接近を感知する機能を表示装置６０に設ける場合、図７に示すように、半透光層１６として、赤外光Ｌｉを透過させるとともに可視光Ｌｖを遮蔽する材料（以下、赤外光透光性材料とも称する）を含む赤外光透光層１６ａが透明基板１１上に設けられる。また、表示部２５のうち半透光部分１４と対向する部分には、光学素子２６の一例として、観察側に向けて赤外光Ｌｉを放射するとともに、入射してくる赤外光Ｌｉを検知する人感センサ２７が設けられている。この場合、人感センサ２７から放射された赤外光Ｌｉは、赤外光透光層１６ａを含む半透光部分１４を透過してユーザに到達する。ユーザに到達した赤外光Ｌｉは、ユーザによって反射されて半透光部分１４に戻り、そして、半透光部分１４を透過して人感センサ２７に到達する。また、半透光部分１４の赤外光透光層１６ａが可視光を遮蔽するため、外光に含まれる可視光Ｌｖが人感センサ２７に到達することはほとんどない。すなわち、ユーザが表示装置６０に接近している場合には、ユーザによって反射された赤外光Ｌｉが人感センサ２７に到達するが、ユーザが表示装置６０に接近していない場合には、赤外光Ｌｉおよび可視光Ｌｖのいずれも人感センサ２７にほとんど到達しない。従って、ユーザが表示装置６０に接近しているかどうかを検知することができる。   For example, when the display device 60 is provided with a function of sensing the approach of a user, as shown in FIG. 7, the semi-transparent layer 16 is a material that transmits infrared light Li and shields visible light Lv (hereinafter, red). An infrared light transmissive layer 16 a including an external light transmissive material is provided on the transparent substrate 11. In addition, as an example of the optical element 26, the display unit 25 radiates infrared light Li toward the observation side and detects incident infrared light Li as an example of the optical element 26. A human sensor 27 is provided. In this case, the infrared light Li radiated from the human sensor 27 passes through the semi-transmissive part 14 including the infrared light transmissive layer 16a and reaches the user. The infrared light Li that reaches the user is reflected by the user and returns to the semi-translucent portion 14, and then passes through the semi-transparent portion 14 and reaches the human sensor 27. In addition, since the infrared light transmissive layer 16 a of the semi-transmissive part 14 shields visible light, the visible light Lv included in the external light hardly reaches the human sensor 27. That is, when the user is approaching the display device 60, the infrared light Li reflected by the user reaches the human sensor 27, but when the user is not approaching the display device 60, the red light Li Neither the external light Li nor the visible light Lv reaches the human sensor 27 almost. Therefore, it can be detected whether or not the user is approaching the display device 60.

赤外光透光層１６ａに含まれる赤外光透光性材料としては、赤外光を透過させるとともに可視光を遮蔽することができる公知の材料が適宜用いられる。例えば、黒色を呈する黒色着色材以外の着色材を少なくとも３種類含有する樹脂組成物が挙げられる。これによって、上述の遮光層１５と同様の可視光に対する遮光性を実現するとともに、赤外光を透過させることができる。   As the infrared light transmissive material included in the infrared light transmissive layer 16a, a known material capable of transmitting infrared light and shielding visible light is appropriately used. For example, the resin composition which contains at least 3 types of coloring materials other than the black coloring material which exhibits black is mentioned. As a result, it is possible to realize the same light shielding property against visible light as that of the above-described light shielding layer 15 and to transmit infrared light.

以下、赤外光透光性材料について具体的に説明する。赤外光透光性材料を構成する、黒色着色材以外の着色材としては、例えば、赤色着色材、黄色着色材、青色着色材、緑色着色材、紫色着色材などを用いることができる。このように、着色材としてチタンブラック（低次酸化チタン、酸窒化チタンなど）、カーボンブラックなどの無機系の黒色着色材を用いずに、その他の着色材を用いることで、赤外光透光層１６ａに、可視光は遮蔽するが赤外光は透過させるという光学的特性を付与することができる。   Hereinafter, the infrared light transmitting material will be specifically described. As a colorant other than the black colorant constituting the infrared light transmissive material, for example, a red colorant, a yellow colorant, a blue colorant, a green colorant, a purple colorant, or the like can be used. In this way, by using other colorants without using inorganic black colorants such as titanium black (low-order titanium oxide, titanium oxynitride, etc.) and carbon black as colorants, infrared light transmission The layer 16a can be provided with an optical characteristic of blocking visible light but transmitting infrared light.

赤色着色材としては、例えば、ジケトピロロピロール系、アントラキノン系、ペリレン系などの赤色顔料を用いることができ、黄色着色材としては、例えば、イソインドリン系、アントラキノン系などの黄色顔料を用いることができ、青色着色材としては、例えば、銅フタロシアニン系、アントラキノン系などの青色顔料を用いることができ、緑色着色材としては、例えば、フタロシアニン系、イソインドリン系などの緑色顔料を用いることができる。
さらに具体例を示せば、ピグメントレッド２５４（ＰＲ２５４）などのジケトピロロピロール系の赤色顔料、ピグメントレッド１７７（ＰＲ１７７）などのアントラキノン系の赤色顔料、ピグメントイエロー１３９（ＰＹ１３９）などのイソインドリン系の黄色顔料、ビグメントブルーＰＢ１５：６（ＰＢ１５：６）などの銅フタロシアニン系の青色顔料、などを用いることができる。
また、紫色着色材としては、ビグメントバイオレット２３（ＰＶ２３）などのキナクリドン系の紫色顔料を用いることができる。また、これら以外の色、つまり色相を呈する、着色顔料を用いることもできる。
着色材の粒子の大きさは、平均粒径で１μｍ以下であり、好ましくは大よそ０．０３〜０．３μｍである。 As the red colorant, for example, a red pigment such as diketopyrrolopyrrole, anthraquinone, or perylene can be used. As the yellow colorant, for example, a yellow pigment such as isoindoline or anthraquinone is used. For example, blue pigments such as copper phthalocyanine and anthraquinone can be used as the blue colorant, and green pigments such as phthalocyanine and isoindoline can be used as the green colorant. .
Specific examples include diketopyrrolopyrrole red pigments such as Pigment Red 254 (PR254), anthraquinone red pigments such as Pigment Red 177 (PR177), and isoindoline-based pigments such as Pigment Yellow 139 (PY139). Yellow pigments, copper phthalocyanine-based blue pigments such as pigment blue PB15: 6 (PB15: 6), and the like can be used.
As the purple coloring material, a quinacridone-based purple pigment such as pigment violet 23 (PV23) can be used. Further, a color pigment exhibiting a color other than these, that is, a hue, can also be used.
The size of the particles of the colorant is 1 μm or less in terms of average particle size, preferably about 0.03 to 0.3 μm.

赤外光透光層１６ａは、互いに異なる色であって黒色着色材以外の着色材を少なくとも３種類以上含む。
互いに異なる色の着色材の組み合わせは、例えば、赤色着色材と黄色着色材と青色着色材との３種類の組み合わせを挙げることができる。この赤色と黄色と青色の３色の組み合わせは、各色の着色材の含有量を調整することで、黒色着色材を含ませないで黒色を表現できる上、任意の幅広い有彩色も表現できる点で好ましい組み合わせの一つである。
前記３色からなる３種類の着色材の組み合わせは、互いに異なる色であって黒色以外の着色材として２種類を用いた組み合わせでは表現できない色でも幅広く多様に表現できる点で好ましい。また、前記紫色着色材のように、例えば前記３色の組み合わせに対して、３色以外の色の着色材をさらに含有させると、より幅広い色を表現できる。例えば、紫色着色材をさらに含有させて４種類４色の組み合わせとする。 The infrared light transmitting layer 16a includes at least three kinds of coloring materials that are different from each other and other than the black coloring material.
Examples of combinations of colorants having different colors include three types of combinations of a red colorant, a yellow colorant, and a blue colorant. This combination of the three colors of red, yellow and blue can express black without any black colorant by adjusting the content of the colorant of each color, and can express any wide range of chromatic colors. One of the preferred combinations.
The combination of the three kinds of coloring materials composed of the three colors is preferable in that a wide variety of colors can be expressed even if the colors are different from each other and cannot be expressed by a combination using two kinds of coloring materials other than black. Further, for example, when a colorant other than the three colors is further added to the combination of the three colors as in the purple colorant, a wider range of colors can be expressed. For example, a purple coloring material is further contained to form a combination of four types and four colors.

赤色着色材と黄色着色材と青色着色材との組み合わせにおいて、各着着色材の好ましい具体例を示せば、赤色着色材としてアントラキノン系の赤色顔料或いはジケトピロロピロール系の赤色顔料、黄色着色材としてイソインドリン系の黄色顔料、青色着色材として銅フタロシアニン系の青色顔料が挙げられる。
より具体的に示せば、例えば、アントラキノン系の赤色顔料として、ピグメントレッド１７７（ＰＲ１７７）、より好ましくは、ジケトピロロピロール系の赤色顔料として、ピグメントレッド２５４（ＰＲ２５４）を用い、イソインドリン系の黄色顔料としてピグメントイエロー１３９（ＰＹ１３９）を用い、銅フタロシアニン系の青色顔料としてビグメントブルーＰＢ１５：６（ＰＢ１５：６）を用いる３色組み合わせである。
この３色組み合わせによって、カーボンブラックによる黒色に比べて、遜色のない黒色を表現することができる。 In a combination of a red colorant, a yellow colorant, and a blue colorant, a specific example of each colorant is described as follows. As a red colorant, an anthraquinone red pigment or a diketopyrrolopyrrole red pigment, a yellow colorant As an isoindoline-based yellow pigment, and as a blue colorant, a copper phthalocyanine-based blue pigment.
More specifically, for example, Pigment Red 177 (PR177) is used as an anthraquinone red pigment, and more preferably, Pigment Red 254 (PR254) is used as a diketopyrrolopyrrole red pigment. This is a three-color combination using Pigment Yellow 139 (PY139) as a yellow pigment and Pigment Blue PB15: 6 (PB15: 6) as a copper phthalocyanine-based blue pigment.
By combining these three colors, it is possible to express black that is not inferior to black by carbon black.

次に、図７に示す表示装置６０において、電子ペンを用いて前面板１０のコード化パターン２０を読み取る方法について説明する。図７に示す例においては、上述の図４に示す例の場合と同様に、コード化パターン２０の各ドット２１が、可視光を遮蔽する材料から構成されている。このため、撮影部７２に入射する光Ｌａの強度は、光Ｌｂの強度よりも小さくなっている。電子ペン７０は、このような光Ｌａと光Ｌｂとの間の強度比に基づいて、コード化パターン２０の各ドット２１の位置関係を認識することができ、この情報に基づいて、前面板１０上における各ドット２１の位置情報を算出することができる。これによって、ユーザによって描かれた文字や画像などの情報を電子化することができる。   Next, a method of reading the coded pattern 20 on the front plate 10 using the electronic pen in the display device 60 shown in FIG. 7 will be described. In the example shown in FIG. 7, each dot 21 of the coding pattern 20 is made of a material that blocks visible light, as in the case of the example shown in FIG. For this reason, the intensity of the light La incident on the imaging unit 72 is smaller than the intensity of the light Lb. The electronic pen 70 can recognize the positional relationship of the dots 21 of the coding pattern 20 based on the intensity ratio between the light La and the light Lb. Based on this information, the front plate 10 The position information of each dot 21 on the top can be calculated. Thereby, information such as characters and images drawn by the user can be digitized.

次に、カメラ機能を表示装置６０に設ける場合について、図８を参照して説明する。この場合、図８に示すように、半透光層１６として、可視光を透過させるとともに赤外光を遮蔽する材料（以下、赤外光遮光性材料とも称する）を含む赤外光遮光層１６ｂが透明基板１１上に設けられる。また、表示部２５のうち半透光部分１４と対向する部分には、光学素子２６の一例として、カメラ素子２８が設けられている。この場合、表示装置６０の半透光部分１４に入射する光のうち、可視光Ｌｖは半透光部分１４を透過してカメラ素子２８に到達するが、赤外光Ｌｉは半透光部分１４によって遮光される。従って、カメラ素子２８によって撮影された画像に、赤外光に起因するノイズが現れることを抑制することができる。   Next, the case where the camera function is provided in the display device 60 will be described with reference to FIG. In this case, as shown in FIG. 8, as the semi-transparent layer 16, an infrared light shielding layer 16b including a material that transmits visible light and shields infrared light (hereinafter also referred to as infrared light shielding material). Is provided on the transparent substrate 11. In addition, a camera element 28 is provided as an example of the optical element 26 in a portion of the display unit 25 that faces the semi-transparent portion 14. In this case, of the light incident on the semi-transparent portion 14 of the display device 60, the visible light Lv passes through the semi-transparent portion 14 and reaches the camera element 28, but the infrared light Li is transmitted through the semi-transparent portion 14. Is shielded from light. Therefore, it is possible to suppress the appearance of noise due to infrared light in an image photographed by the camera element 28.

赤外光遮光層１６ｂに含まれる赤外光遮光性材料としては、可視光を透過させるとともに赤外光を遮蔽することができる公知の材料が適宜用いられる。赤外光の遮光は、赤外光遮光層１６ｂが赤外光を吸収することによって実現されてもよく、若しくは、赤外光遮光層１６ｂが赤外光を反射することによって実現されてもよい。   As the infrared light shielding material contained in the infrared light shielding layer 16b, a known material capable of transmitting visible light and shielding infrared light is appropriately used. The light shielding of the infrared light may be realized by the infrared light shielding layer 16b absorbing the infrared light, or may be realized by the infrared light shielding layer 16b reflecting the infrared light. .

赤外光を吸収する赤外光遮光性材料としては、例えば特許第４４２６６３７号公報または特許第４４３６８８８号公報に記載されているような、ジイモニウム塩（イジモニウム色素）を含む樹脂組成物を挙げることができる。   Examples of the infrared light shielding material that absorbs infrared light include a resin composition containing a diimonium salt (idimonium dye) as described in, for example, Japanese Patent No. 4426637 or Japanese Patent No. 4436888. it can.

また赤外光遮光性材料は、単一の層として構成されていてもよく、若しくは、複数の層を積層させた積層体として構成されていてもよい。例えば特開２０１２−１０８２０７号公報に記載されているように、赤外光遮光性材料は、コレステリック液晶性を有する化合物の積層体であってもよい。積層数としては、２層〜８層が好ましい。コレステリック液晶層の選択反射波長としては、赤外光領域である限り特に制限なく、適宜選択することができるが、８００ｎｍ〜１，８００ｎｍが好ましい。   In addition, the infrared light shielding material may be configured as a single layer, or may be configured as a stacked body in which a plurality of layers are stacked. For example, as described in JP-A-2012-108207, the infrared light shielding material may be a laminate of compounds having cholesteric liquid crystallinity. The number of stacked layers is preferably 2 to 8 layers. The selective reflection wavelength of the cholesteric liquid crystal layer can be appropriately selected without particular limitation as long as it is in the infrared region, but is preferably from 800 nm to 1,800 nm.

次に、図８に示す表示装置６０において、電子ペンを用いて前面板１０のコード化パターン２０を読み取る方法について説明する。図８に示す例において、電子ペン７０の発光部７１は、赤外光を放射するよう構成されている。また撮影部７２は、赤外光を検知するよう構成されている。例えば撮影部７２は、赤外光を透過させるとともに赤外光以外の光を遮蔽するフィルタと、フィルタを透過した赤外光を検知するカメラ素子と、を含んでいる。また上述のように、コード化パターン２０の各ドット２１が、赤外光を遮蔽する、例えば赤外光を反射する赤外光遮光性材料から構成されている。このため、撮影部７２によって検知される、ドット２１からの光Ｌａの強度は、ドット２１以外の部分からの光Ｌｂの強度よりも大きくなっている。電子ペン７０は、このような光Ｌａと光Ｌｂとの間の強度比に基づいて、コード化パターン２０の各ドット２１の位置関係を認識することができ、この情報に基づいて、前面板１０上における各ドット２１の位置情報を算出することができる。これによって、ユーザによって描かれた文字や画像などの情報を電子化することができる。   Next, a method for reading the coded pattern 20 on the front plate 10 using the electronic pen in the display device 60 shown in FIG. 8 will be described. In the example shown in FIG. 8, the light emitting unit 71 of the electronic pen 70 is configured to emit infrared light. The photographing unit 72 is configured to detect infrared light. For example, the photographing unit 72 includes a filter that transmits infrared light and shields light other than infrared light, and a camera element that detects infrared light transmitted through the filter. Further, as described above, each dot 21 of the coded pattern 20 is made of an infrared light shielding material that shields infrared light, for example, reflects infrared light. For this reason, the intensity of the light La from the dot 21 detected by the photographing unit 72 is larger than the intensity of the light Lb from a part other than the dot 21. The electronic pen 70 can recognize the positional relationship of the dots 21 of the coding pattern 20 based on the intensity ratio between the light La and the light Lb. Based on this information, the front plate 10 The position information of each dot 21 on the top can be calculated. Thereby, information such as characters and images drawn by the user can be digitized.

また図８に示す例によれば、コード化パターン２０の各ドット２１が、可視光を透過させる赤外光遮光性材料から構成されている。このため、表示部２５から放射されて観察者側に向かう可視光は、各ドット２１を透過することができる。従って、表示装置６０の表示特性が劣化することを抑制しながら、前面板１０および表示装置６０にコード化パターン２０を設けることができる。   Moreover, according to the example shown in FIG. 8, each dot 21 of the coding pattern 20 is comprised from the infrared-light shielding material which permeate | transmits visible light. For this reason, visible light emitted from the display unit 25 and directed toward the viewer can pass through each dot 21. Therefore, the coded pattern 20 can be provided on the front plate 10 and the display device 60 while suppressing the display characteristics of the display device 60 from deteriorating.

なお、コード化パターン２０の各ドット２１を読み取るためのドット２１および電子ペン７０の構成例をいくつか説明したが、ドット２１および電子ペン７０の構成が上述の例に限られることはない。ドット２１が、前面板１０の加飾部１２を構成する材料のいずれかと同一の材料から構成され、かつ、ドット２１とドット２１以外の部分との位置関係を電子ペン７０によって読み取ることができる限りにおいて、ドット２１および電子ペン７０の様々な構成を採用することが可能である。   In addition, although the some example of a structure of the dot 21 and the electronic pen 70 for reading each dot 21 of the coding pattern 20 was demonstrated, the structure of the dot 21 and the electronic pen 70 is not restricted to the above-mentioned example. As long as the dots 21 are made of the same material as any of the materials constituting the decorative portion 12 of the front plate 10 and the positional relationship between the dots 21 and the portions other than the dots 21 can be read by the electronic pen 70. It is possible to adopt various configurations of the dot 21 and the electronic pen 70.

また図６においては、半透過部分１４を構成する半透光層１６の厚みと、ドット２１を構成する半透光層１６の厚みとが同一である例を示したが、これに限られることはない。例えば露光マスク１８としてハーフトーンマスクなどを用いることにより、半透過部分１４を構成する半透光層１６の厚みと、ドット２１を構成する半透光層１６の厚みとが異なるようにしてもよい。例えば、ドット２１を構成する半透光層１６の厚みが、半透過部分１４を構成する半透光層１６の厚みよりも小さくなっていてもよい。   6 shows an example in which the thickness of the semi-transmissive layer 16 constituting the semi-transmissive portion 14 and the thickness of the semi-transmissive layer 16 constituting the dot 21 are the same. However, the present invention is limited to this. There is no. For example, by using a halftone mask or the like as the exposure mask 18, the thickness of the semi-transmissive layer 16 constituting the semi-transmissive portion 14 may be different from the thickness of the semi-transmissive layer 16 constituting the dot 21. . For example, the thickness of the semi-transmissive layer 16 constituting the dots 21 may be smaller than the thickness of the semi-transmissive layer 16 constituting the semi-transmissive portion 14.

第２の変形例
次に、第２の変形例について図９乃至図１２を参照して説明する。 Second Modified Example Next, a second modified example will be described with reference to FIGS.

図９に示す例において、表示装置６０の前面板１０は、透明基板１１、コード化パターン２０および加飾部１２に加えて、透明基板１１、コード化パターン２０および加飾部１２の表示部２５側に設けられた保護層４０と、保護層４０の表示部２５側に設けられたタッチパネルセンサ５０と、をさらに備えている。なお前面板１０にタッチパネルセンサ５０が含まれる場合、表示装置６０にタッチパネル装置としての機能が付与されることになる。この場合、前面板１０は、表示部２５を保護するという機能とともに、ユーザが触れるタッチ面としての機能も提供している。   In the example shown in FIG. 9, the front plate 10 of the display device 60 includes the transparent substrate 11, the coded pattern 20, and the decorating unit 12, and the display unit 25 of the transparent substrate 11, the coded pattern 20 and the decorating unit 12. The protective layer 40 provided on the side and the touch panel sensor 50 provided on the display unit 25 side of the protective layer 40 are further provided. When the front panel 10 includes the touch panel sensor 50, the display device 60 is given a function as a touch panel device. In this case, the front plate 10 provides a function as a touch surface to be touched by the user as well as a function of protecting the display unit 25.

なお図９においては、保護層４０およびタッチパネルセンサ５０が透明基板１１、コード化パターン２０および加飾部１２の表示部２５側に配置される例を示した。しかしながら、これに限られることはなく、図１０に示すように、保護層４０およびタッチパネルセンサ５０が、透明基板１１、コード化パターン２０および加飾部１２の観察者側に配置されていてもよい。この場合、タッチパネルセンサ５０の観察者側に、ユーザが触れるタッチ面となる保護層４５がさらに設けられてもよい。   In addition, in FIG. 9, the protective layer 40 and the touch panel sensor 50 showed the example arrange | positioned at the display part 25 side of the transparent substrate 11, the coding pattern 20, and the decoration part 12. As shown in FIG. However, the present invention is not limited to this, and as shown in FIG. 10, the protective layer 40 and the touch panel sensor 50 may be disposed on the observer side of the transparent substrate 11, the coded pattern 20, and the decoration unit 12. . In this case, a protective layer 45 serving as a touch surface that is touched by the user may be further provided on the viewer side of the touch panel sensor 50.

（タッチパネルセンサ）
次にタッチパネルセンサ５０について説明する。タッチパネルセンサ５０のタイプが特に限られることはなく、様々なタイプのタッチパネルセンサ５０が適宜用いられ得る。例えば、被検出体からの圧力に基づいてタッチ箇所を検出する抵抗膜方式のタッチパネルセンサや、人体などの被検出体からの静電気に基づいてタッチ箇所を検出する静電容量方式のタッチパネルセンサが用いられ得る。ここでは、タッチパネルセンサ５０が静電容量方式のタッチパネルセンサである場合について、図１１Ａ乃至図１１Ｃを参照して説明する。図１１Ａは、静電容量方式のタッチパネルセンサ５０を示す平面図であり、図１１Ｂは，図１１Ａのタッチパネルセンサ５０をXIＢ−XIＢ方向から見た断面図であり、図１１Ｃは，図１１Ａのタッチパネルセンサ５０をXIＣ−XIＣ方向から見た断面図である。 (Touch panel sensor)
Next, the touch panel sensor 50 will be described. The type of touch panel sensor 50 is not particularly limited, and various types of touch panel sensor 50 can be used as appropriate. For example, a resistive touch panel sensor that detects a touch location based on a pressure from a detected object or a capacitive touch panel sensor that detects a touch location based on static electricity from a detected body such as a human body is used. Can be. Here, the case where the touch panel sensor 50 is a capacitive touch panel sensor will be described with reference to FIGS. 11A to 11C. 11A is a plan view showing a capacitive touch panel sensor 50, FIG. 11B is a cross-sectional view of the touch panel sensor 50 of FIG. 11A viewed from the XIB-XIB direction, and FIG. 11C is a touch panel of FIG. 11A. It is sectional drawing which looked at the sensor 50 from the XIC-XIC direction.

図１１Ａ乃至図１１Ｃに示すように、静電容量方式のタッチパネルセンサ５０は、保護層４０上に所定のパターンで設けられた複数の第１透明導電パターン５１および第２透明導電パターン５２を有している。図１１Ａに示すように、第１透明導電パターン５１は、図１１Ａにおける横方向に延びており、また第２透明導電パターン５２は、横方向に直交する縦方向に延びている。   As shown in FIGS. 11A to 11C, the capacitive touch panel sensor 50 has a plurality of first transparent conductive patterns 51 and second transparent conductive patterns 52 provided in a predetermined pattern on the protective layer 40. ing. As shown in FIG. 11A, the first transparent conductive pattern 51 extends in the horizontal direction in FIG. 11A, and the second transparent conductive pattern 52 extends in the vertical direction orthogonal to the horizontal direction.

各第１透明導電パターン５１は、横方向に沿って並べられ、各々が略正方形の形状を有する複数の第１電極部５１ａを有しており、各第１電極部５１ａ間は、第１接続部５１ｂによって接続されている。このような第１透明導電パターン５１により、被検出体のタッチ箇所の縦方向における位置が検出される。同様に、各第２透明導電パターン５２は、縦方向に沿って並べられ、各々が略正方形の形状を有する複数の第２電極部５２ａを有しており、各第２電極部５２ａ間は、第２接続部５２ｂによって接続されている。このような第２透明導電パターン５２により、被検出体のタッチ箇所の横方向における位置が検出される。なお、タッチパネルセンサ５０の法線方向から見た場合に第１接続部５１ｂと第２接続部５２ｂとが重なっている部分において第１透明導電パターン５１と第２透明導電パターン５２との間が電気的に接続されることを防ぐため、第１接続部５１ｂと第２接続部５２ｂとの間に絶縁層５７が介在されている。   Each first transparent conductive pattern 51 has a plurality of first electrode portions 51a that are arranged in the horizontal direction and each have a substantially square shape, and a first connection is made between the first electrode portions 51a. It is connected by the part 51b. With such a first transparent conductive pattern 51, the position in the vertical direction of the touch location of the detection object is detected. Similarly, each of the second transparent conductive patterns 52 has a plurality of second electrode portions 52a that are arranged along the vertical direction, each having a substantially square shape, and between the second electrode portions 52a, It is connected by the second connection part 52b. By such a second transparent conductive pattern 52, the position in the lateral direction of the touch location of the detection target is detected. In addition, when it sees from the normal line direction of the touch panel sensor 50, in the part which the 1st connection part 51b and the 2nd connection part 52b have overlapped, between the 1st transparent conductive pattern 51 and the 2nd transparent conductive pattern 52 is electrical. In order to prevent connection, an insulating layer 57 is interposed between the first connection portion 51b and the second connection portion 52b.

また保護層４０上には、第１透明導電パターン５１および第２透明導電パターン５２にそれぞれ電気的に接続された第１取出配線５３および第２取出配線５４と、第１取出配線５３および第２取出配線５４に接続され、第１透明導電パターン５１および第２透明導電パターン５２からの信号を外部へ取り出すための端子部５５と、が設けられている。   Further, on the protective layer 40, the first extraction wiring 53 and the second extraction wiring 54, which are electrically connected to the first transparent conductive pattern 51 and the second transparent conductive pattern 52, respectively, and the first extraction wiring 53 and the second extraction wiring 54, respectively. A terminal portion 55 is provided which is connected to the lead-out wiring 54 and for taking out signals from the first transparent conductive pattern 51 and the second transparent conductive pattern 52 to the outside.

次に、タッチパネルセンサ５０の各構成要素の材料について説明する。各第１透明導電パターン５１および第２透明導電パターン５２は、映像を表示させるための表示領域Ａ１に配置される。このため各第１透明導電パターン５１および第２透明導電パターン５２は、導電性および透明性を有する材料、例えばＩＴＯなどから構成される。一方、第１取出配線５３、第２取出配線５４および端子部５５は、表示領域Ａ１の周辺に位置する非表示領域Ａ２に配置される。このため、第１取出配線５３、第２取出配線５４および端子部５５を構成する材料が透明性を有する必要はない。従って第１取出配線５３、第２取出配線５４および端子部５５は一般に、第１透明導電パターン５１および第２透明導電パターン５２の材料よりも高い電気伝導率を有する金属材料から構成される。 Next, the material of each component of the touch panel sensor 50 will be described. Each first transparent conductive pattern 51 and the second transparent conductive pattern 52 is disposed in the display area A 1 for displaying an image. Therefore, each of the first transparent conductive pattern 51 and the second transparent conductive pattern 52 is made of a material having conductivity and transparency, such as ITO. On the other hand, the first take-out wiring 53, the second extraction wire 54 and the terminal portion 55 is disposed in the non-display area A 2 located around the display area A 1. For this reason, the material which comprises the 1st extraction wiring 53, the 2nd extraction wiring 54, and the terminal part 55 does not need to have transparency. Therefore, the first extraction wiring 53, the second extraction wiring 54, and the terminal portion 55 are generally made of a metal material having a higher electrical conductivity than the materials of the first transparent conductive pattern 51 and the second transparent conductive pattern 52.

前面板の製造方法
このようなタッチパネルセンサ５０を備えた前面板１０形成する方法が特に限られることはなく、様々な方法が適宜用いられ得る。例えば、はじめに図１２（ａ）に示すように、遮光層１５を有する加飾部１２と、複数のドット２１を含むコード化パターン２０と、がその上に設けられた透明基板１１を準備する。なお図１２（ａ）においては、各ドット２１が、遮光層１５の遮光性材料と同一の材料から構成される例が示されている。しかしながら、これに限られることはなく、図７または図８に示す上述の第１の変形例の場合と同様に、加飾部１２が半透光層１６を有し、そして各ドット２１が、半透光層１６の半透光性材料と同一の材料から構成されていてもよい。 Method for Manufacturing Front Plate The method for forming the front plate 10 provided with such a touch panel sensor 50 is not particularly limited, and various methods can be used as appropriate. For example, first, as shown in FIG. 12A, a transparent substrate 11 is prepared in which a decorative portion 12 having a light shielding layer 15 and a coded pattern 20 including a plurality of dots 21 are provided thereon. FIG. 12A shows an example in which each dot 21 is made of the same material as the light shielding material of the light shielding layer 15. However, the present invention is not limited to this. Similarly to the case of the first modified example shown in FIG. 7 or FIG. 8, the decorative portion 12 has the semi-translucent layer 16, and each dot 21 is The semi-transparent layer 16 may be made of the same material as the semi-transparent material.

次に図１２（ｂ）に示すように、透明基板１１，加飾部１２およびコード化パターン２０上に保護層４０を設ける（保護層形成工程）。次に図１２（ｃ）に示すように、保護層４０上に第１電極部５１ａ（図示せず）、第１接続部５１ｂおよび第２電極部５２ａを同時に形成する。例えば、はじめにＩＴＯなどの透明導電性材料からなる層を保護層４０の全域にわたって設け、次に、透明導電性材料からなる層をパターニングすることによって、第１接続部５１ｂおよび第２電極部５２ａを同時に形成する。その後、図１２（ｄ）に示すように、第１接続部５１ｂ上に絶縁層５７を形成する。   Next, as shown in FIG.12 (b), the protective layer 40 is provided on the transparent substrate 11, the decoration part 12, and the coding pattern 20 (protective layer formation process). Next, as shown in FIG. 12C, the first electrode portion 51a (not shown), the first connection portion 51b, and the second electrode portion 52a are formed on the protective layer 40 at the same time. For example, the first connection portion 51b and the second electrode portion 52a are formed by first providing a layer made of a transparent conductive material such as ITO over the entire protective layer 40 and then patterning the layer made of the transparent conductive material. Form at the same time. Thereafter, as shown in FIG. 12D, an insulating layer 57 is formed on the first connection portion 51b.

次に図１２（ｅ）に示すように、第２電極部５２ａ上および保護層４０上に、導電性を有する導電性材料を含む導電層５８を設ける。導電層５８の導電性材料としては、例えば金属材料が用いられる。その後、図１２（ｆ）に示すように、フォトリソグラフィー法などを用いて導電層５８をパターニングすることにより、隣接する２つの第２電極部５２ａ間を接続する第２接続部５２ｂ、第１取出配線５３（図示せず）、第２取出配線５４および端子部５５をそれぞれ同時に形成する。このようなタッチパネルセンサ形成工程を実施することにより、保護層４０上に設けられた透明導電パターン５１，５２、取出配線５３，５４および端子部５５を含むタッチパネルセンサ５０を得ることができる。その後、透明導電パターン５１，５２、取出配線５３，５４および端子部５５を保護するための保護層をさらに設けてもよい。   Next, as illustrated in FIG. 12E, a conductive layer 58 including a conductive material having conductivity is provided on the second electrode portion 52 a and the protective layer 40. As the conductive material of the conductive layer 58, for example, a metal material is used. Thereafter, as shown in FIG. 12 (f), the conductive layer 58 is patterned by using a photolithography method or the like, whereby the second connection portion 52b that connects the two adjacent second electrode portions 52a, the first extraction. The wiring 53 (not shown), the second extraction wiring 54, and the terminal portion 55 are formed simultaneously. By performing such a touch panel sensor formation process, the touch panel sensor 50 including the transparent conductive patterns 51 and 52 provided on the protective layer 40, the extraction wirings 53 and 54, and the terminal portion 55 can be obtained. Thereafter, a protective layer may be further provided to protect the transparent conductive patterns 51 and 52, the extraction wirings 53 and 54, and the terminal portion 55.

なお、図１２（ｅ）および図１２（ｆ）においては、第２接続部５２ｂと取出配線５３，５４および端子部５５とが同一の導電層５８の導電性材料から構成される例を示した。しかしながら、これに限られることはなく、第２接続部５２ｂを構成する材料と、取出配線５３，５４および端子部５５を構成する材料とが異なっていてもよい。例えば、ＩＴＯなどの透光性を有する導電性材料を用いて第２接続部５２ｂを形成し、一方、金属材料などの遮光性を有する導電性材料を用いて取出配線５３，５４および端子部５５を形成してもよい。   In addition, in FIG.12 (e) and FIG.12 (f), the 2nd connection part 52b, the extraction wiring 53,54, and the terminal part 55 showed the example comprised from the electroconductive material of the same conductive layer 58. . However, the present invention is not limited to this, and the material constituting the second connection portion 52b may be different from the material constituting the extraction wirings 53 and 54 and the terminal portion 55. For example, the second connection portion 52b is formed using a light-transmitting conductive material such as ITO, while the extraction wirings 53 and 54 and the terminal portion 55 are formed using a light-blocking conductive material such as a metal material. May be formed.

本実施の形態によれば、前面板１０は、電子ペン７０で読み取り可能な複数のドットを含むコード化パターン２０に加えて、被検出体からの静電気や圧力に基づいてタッチ箇所を検出するタッチパネルセンサ５０を備えている。このため、状況に応じた様々な入力方法を実現することができる。例えば、読み取る上で高い分解能が要求される漢字などを入力する場合、ユーザは、電子ペン７０を用いた、コード化パターン２０に基づく入力方法を選択することができる。一方、インターネット上のサイトの閲覧など、高い分解能が不要である場合、ユーザは、指７５などを用いた、タッチパネルセンサ５０に基づく入力方法を選択することができる。   According to the present embodiment, the front panel 10 is a touch panel that detects a touch location based on static electricity or pressure from a detection target in addition to the coded pattern 20 including a plurality of dots that can be read by the electronic pen 70. A sensor 50 is provided. For this reason, various input methods according to the situation can be realized. For example, when inputting kanji or the like that requires high resolution for reading, the user can select an input method based on the coding pattern 20 using the electronic pen 70. On the other hand, when high resolution is unnecessary, such as browsing a site on the Internet, the user can select an input method based on the touch panel sensor 50 using the finger 75 or the like.

また本実施の形態においても、コード化パターン２０の各ドット２１が、加飾部形成工程と同時に、加飾部１２を構成する遮光層１５や半透光層１６などの材料を用いて形成される。このため、加飾部１２を備えた前面板１０を製造する場合に比べて工数やコストを増大させることなく、加飾部１２およびコード化パターン２０を備えた前面板１０を製造することができる。また、コード化パターン２０を含む層を別途準備し、この層を前面板１０や表示装置６０に貼り合わせる従来の方法に比べて、前面板１０および表示装置６０の厚みを小さくすることができる。   Also in the present embodiment, each dot 21 of the coded pattern 20 is formed using a material such as the light shielding layer 15 and the semi-transparent layer 16 constituting the decorative portion 12 simultaneously with the decorative portion forming step. The For this reason, the front board 10 provided with the decorating part 12 and the coding pattern 20 can be manufactured, without increasing a man-hour and cost compared with the case where the front board 10 provided with the decorating part 12 is manufactured. . Further, the thickness of the front plate 10 and the display device 60 can be reduced as compared with a conventional method in which a layer including the coded pattern 20 is separately prepared and this layer is bonded to the front plate 10 or the display device 60.

なお本変形例のタッチパネルセンサ５０において、第１透明導電パターン５１の第１電極部５１ａと第２透明導電パターン５２の第２電極部５２ａとが同一平面上、すなわち保護層４０上に設けられる例を示した。しかしながら、これに限られることはなく、第１電極部５１ａと第２電極部５２ａとが互いに異なる平面上に設けられていてもよい。例えば、第１電極部５１ａと第２電極部５２ａとの間に絶縁層や基材などが介在されていてもよい。   In the touch panel sensor 50 of the present modification, the first electrode part 51a of the first transparent conductive pattern 51 and the second electrode part 52a of the second transparent conductive pattern 52 are provided on the same plane, that is, on the protective layer 40. showed that. However, the present invention is not limited to this, and the first electrode portion 51a and the second electrode portion 52a may be provided on different planes. For example, an insulating layer or a base material may be interposed between the first electrode portion 51a and the second electrode portion 52a.

なお、上述した実施の形態に対するいくつかの変形例を説明してきたが、当然に、複数の変形例を適宜組み合わせて適用することも可能である。   In addition, although some modified examples with respect to the above-described embodiment have been described, naturally, a plurality of modified examples can be applied in combination as appropriate.

第２の実施の形態
次に図１３を参照して、本発明の第２の実施の形態について説明する。 Second Embodiment Next, a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.

上述の第１の実施の形態および各変形例において、加飾部形成工程と同時に、加飾部１２を構成する材料と同一の材料を用いて、コード化パターン２０の各ドット２１が形成される例を示した。しかしながら、これに限られることはなく、前面板１０のうち加飾部１２以外の構成要素を形成する工程と同時に、加飾部１２以外の構成要素に含まれる材料と同一の材料を用いて、コード化パターン２０の各ドット２１を形成してもよい。一例として、本実施の形態においては、前面板１０のタッチパネルセンサ５０を形成するタッチパネルセンサ形成工程と同時に、タッチパネルセンサ５０の第２接続部５２ｂに含まれる材料と同一の材料を用いて、コード化パターン２０の各ドット２１を形成する例について説明する。   In the first embodiment and each modification described above, each dot 21 of the coded pattern 20 is formed using the same material as that constituting the decorating portion 12 simultaneously with the decorating portion forming step. An example is shown. However, it is not restricted to this, At the same time as the step of forming the constituent elements other than the decorative portion 12 in the front panel 10, using the same material as the material included in the constituent elements other than the decorative portion 12, Each dot 21 of the coded pattern 20 may be formed. As an example, in the present embodiment, encoding is performed using the same material as the material included in the second connection portion 52b of the touch panel sensor 50 at the same time as the touch panel sensor forming process of forming the touch panel sensor 50 of the front panel 10. An example of forming each dot 21 of the pattern 20 will be described.

図１３（ａ）〜（ｆ）は、前面板１０の製造方法を示す図である。ここでは、図１３（ａ）〜（ｅ）に示すようにして、第２電極部５２ａ上および保護層４０上に、導電性を有する導電性材料を含む導電層５８を設ける。図１３（ａ）〜（ｅ）に示す工程は、透明基板１１の表示領域Ａ１にドット２１がまだ形成されていない点を除いて、図１２（ａ）〜（ｅ）に示す上述の工程と同一である。導電層５８に含まれる導電性材料としては、遮光性を有する材料、例えば金属材料が用いられる。 13A to 13F are views showing a method for manufacturing the front plate 10. Here, as shown in FIGS. 13A to 13E, a conductive layer 58 including a conductive material having conductivity is provided on the second electrode portion 52 a and the protective layer 40. Step shown in FIG. 13 (a) ~ (e), except that the dots 21 in the display area A 1 of the transparent substrate 11 is not formed yet, the above-described process shown in FIG. 12 (a) ~ (e) Is the same. As the conductive material included in the conductive layer 58, a light-shielding material, for example, a metal material is used.

次に、図１３（ｆ）に示すように、フォトリソグラフィー法などを用いて導電層５８をパターニングする。これによって、図１２（ｆ）に示す上述の工程と同様に、第２接続部５２ｂ、第１取出配線５３（図示せず）、第２取出配線５４および端子部５５をそれぞれ同時に形成する。また本実施の形態においては、図１３（ｆ）に示すように、表示領域Ａ１のうちコード化パターン２０の各ドット２１が形成されるべき部分にも導電層５８が残るよう、導電層５８のパターニングを実施する。これによって、第２接続部５２ｂ、第１取出配線５３、第２取出配線５４および端子部５５を形成することと同時に、導電層５８の導電性材料を用いて、コード化パターン２０の各ドット２１を透明基板１１の表示領域Ａ１に形成することができる。 Next, as shown in FIG. 13F, the conductive layer 58 is patterned using a photolithography method or the like. As a result, the second connection portion 52b, the first extraction wiring 53 (not shown), the second extraction wiring 54, and the terminal portion 55 are simultaneously formed in the same manner as the above-described process shown in FIG. In this embodiment also, as shown in FIG. 13 (f), so that the conductive layer 58 in a portion to each dot 21 is formed of a coding pattern 20 in the display area A 1 remains conductive layer 58 The patterning is performed. As a result, the second connecting portion 52b, the first extraction wiring 53, the second extraction wiring 54, and the terminal portion 55 are formed, and at the same time, each dot 21 of the coded pattern 20 is formed using the conductive material of the conductive layer 58. Can be formed in the display area A 1 of the transparent substrate 11.

各ドット２１を構成する導電性材料は、上述のように、遮光性を有するよう構成されている。このため、ドット２１からの光Ｌａの強度と、ドット２１以外の部分からの光Ｌｂの強度との差に基づいて、コード化パターン２０の各ドット２１の位置関係を認識することができる。   As described above, the conductive material constituting each dot 21 is configured to have a light shielding property. For this reason, the positional relationship of each dot 21 of the coded pattern 20 can be recognized based on the difference between the intensity of the light La from the dot 21 and the intensity of the light Lb from a portion other than the dot 21.

なお本実施の形態において、図１３（ｆ）に示すように、ドット２１が電極部５１ａ，５２ａ上に設けられる例を示した。しかしながら、ドット２１が第２接続部５２ｂと同時に同一材料から形成される限りにおいて、ドット２１が設けられる場所が限られることはない。例えば、ドット２１と電極部５１ａ，５２ａとの間に絶縁層が介在されていてもよい。また、第２接続部５２ｂおよびドット２１が電極部５１ａ，５２ａよりも先に保護層４０上に形成されてもよい。   In the present embodiment, as shown in FIG. 13F, an example is shown in which the dots 21 are provided on the electrode portions 51a and 52a. However, as long as the dots 21 are formed of the same material at the same time as the second connection portion 52b, the place where the dots 21 are provided is not limited. For example, an insulating layer may be interposed between the dots 21 and the electrode portions 51a and 52a. Moreover, the 2nd connection part 52b and the dot 21 may be formed on the protective layer 40 ahead of electrode part 51a, 52a.

ところで、金属材料を含む導電層５８からドット２１が構成されている場合、金属光沢に起因して、ドット２１が観察者によって視認されてしまうことが考えらえる。この場合、ドット２１が視認されることを抑制するため、図１４に示すように、透明基板１１の法線方向から見た場合にドット２１と重なる領域に、赤外光を透過させるとともに可視光を遮蔽する材料を含む半透光層１６が設けられていてもよい。この場合、前面板１０に入射した外光に含まれる可視光は、主に、ドット２１に到達するよりも前に半透光性層１６によって遮蔽される。これによって、ドット２１の金属光沢に起因してドット２１が観察者によって視認されることを抑制することができる。一方、電子ペン７０の発光部７１から放射される赤外光は、半透光層１６を透過した後、ドット２１によって反射され、その後、再び半透光性層１６を透過した後、電子ペン７０に戻る。このため、ドット２１から電子ペン７０の撮影部７２に向かう赤外光の強度と、ドット２１の周囲から撮影部７２に向かう赤外光の強度との差や比に基づいて、各ドット２１の位置関係を認識することができる。このように、図１４に示す例によれば、複数のドット２１を含むコード化パターン２０の機能を維持しながら、ドット２１が観察者によって視認されることを抑制することができる。なお図示はしないが、図１４に示す例において、非表示領域Ａ２内には、半透光性層１６に遮光層１５が積層されていてもよい。 By the way, when the dot 21 is comprised from the conductive layer 58 containing a metal material, it can be considered that the dot 21 is visually recognized by the observer due to the metallic luster. In this case, in order to prevent the dots 21 from being visually recognized, as shown in FIG. 14, when viewed from the normal direction of the transparent substrate 11, infrared light is transmitted through a region overlapping the dots 21 and visible light is visible. A semi-transparent layer 16 containing a material that shields light may be provided. In this case, visible light included in the external light incident on the front plate 10 is mainly shielded by the semi-transparent layer 16 before reaching the dots 21. Thereby, it can suppress that the dot 21 is visually recognized by the observer due to the metallic luster of the dot 21. On the other hand, infrared light radiated from the light emitting portion 71 of the electronic pen 70 passes through the semi-transparent layer 16, is reflected by the dots 21, and then passes through the semi-transparent layer 16 again. Return to 70. Therefore, based on the difference or ratio between the intensity of the infrared light from the dot 21 toward the photographing unit 72 of the electronic pen 70 and the intensity of the infrared light from the periphery of the dot 21 toward the photographing unit 72, The positional relationship can be recognized. As described above, according to the example illustrated in FIG. 14, it is possible to suppress the dots 21 from being visually recognized by the observer while maintaining the function of the coded pattern 20 including the plurality of dots 21. Although not shown, in the example shown in FIG. 14, the non-display area A 2, the light blocking layer 15 in the semi-translucent layer 16 may be laminated.

１０ 前面板
１１ 透明基板
１２ 加飾部
１３ 遮光部分
１４ 半透光部分
１５ 遮光層
１６ 半透光層
２０ コード化パターン
２１ ドット
２５ 表示部
２６ 光学素子
４０ 保護層
５０ タッチパネルセンサ
６０ 表示装置
７０ 電子ペン
Ａ１ 表示領域
Ａ２ 非表示領域 DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Front plate 11 Transparent substrate 12 Decoration part 13 Light-shielding part 14 Semi-light-transmitting part 15 Light-shielding layer 16 Semi-light-transmitting layer 20 Encoding pattern 21 Dot 25 Display part 26 Optical element 40 Protection layer 50 Touch panel sensor 60 Display apparatus 70 Electronic pen A 1 display area A 2 non-display area

Claims (14)

表示領域と、前記表示領域の周辺に位置する非表示領域と、を含む前面板において、
透明基板と、
前記透明基板の表示領域に設けられ、電子ペンで読み取り可能な複数のドットを含むコード化パターンと、
前記透明基板の非表示領域に設けられた加飾部と、を備え、
前記加飾部は、光を遮蔽する遮光部分と、光を部分的に透過させる半透光部分と、を含み、
前記遮光部分は、光を遮蔽する遮光性材料を含む遮光層を少なくとも有し、
前記半透光部分は、光を部分的に透過させる半透光性材料を含む半透光層を有し、
前記コード化パターンの各ドットは、前記遮光層の前記遮光性材料または前記半透光層の前記半透光性材料と同一の材料から構成されている、前面板。 In a front plate including a display area and a non-display area located around the display area,
A transparent substrate;
A coding pattern including a plurality of dots provided in a display area of the transparent substrate and readable by an electronic pen;
A decorative portion provided in a non-display area of the transparent substrate,
The decorative portion includes a light shielding portion that shields light, and a semi-translucent portion that partially transmits light,
The light shielding portion has at least a light shielding layer containing a light shielding material that shields light,
The semi-transparent portion has a semi-transparent layer including a semi-transparent material that partially transmits light;
Each dot of the coded pattern is a front plate made of the same material as the light-shielding material of the light-shielding layer or the semi-transparent material of the semi-transparent layer . 前記コード化パターンの各ドットは、前記遮光層の前記遮光性材料と同一の材料から構成されている、請求項１に記載の前面板。 The front plate according to claim 1, wherein each dot of the coded pattern is made of the same material as the light shielding material of the light shielding layer. 前記コード化パターンの各ドットは、前記半透光層の前記半透光性材料と同一の材料から構成されている、請求項１に記載の前面板。 2. The front plate according to claim 1, wherein each dot of the coded pattern is made of the same material as the semi-translucent material of the semi-translucent layer. 前記半透光層の前記半透光性材料は、赤外光を透過させるとともに可視光を遮蔽する赤外光透光性材料である、請求項３に記載の前面板。   The front plate according to claim 3, wherein the semi-transparent material of the semi-transparent layer is an infrared light translucent material that transmits infrared light and shields visible light. 前記半透光層の前記半透光性材料は、可視光を透過させるとともに赤外光を遮蔽する赤外光遮光性材料である、請求項３に記載の前面板。   The front plate according to claim 3, wherein the semi-transparent material of the semi-transparent layer is an infrared light shielding material that transmits visible light and shields infrared light. 表示領域と、前記表示領域の周辺に位置する非表示領域と、を含む前面板において、
透明基板と、
前記透明基板の表示領域に設けられ、電子ペンで読み取り可能な複数のドットを含むコード化パターンと、
前記透明基板の非表示領域に設けられた加飾部と、を備え、
前記加飾部は、可視光を透過させるとともに赤外光を遮蔽する赤外光遮光性材料を含む半透光層を有し、
前記コード化パターンの各ドットは、前記半透光層の前記赤外光遮光性材料と同一の材料から構成されている、前面板。 In a front plate including a display area and a non-display area located around the display area,
A transparent substrate;
A coding pattern including a plurality of dots provided in a display area of the transparent substrate and readable by an electronic pen;
A decorative portion provided in a non-display area of the transparent substrate,
The decorative portion has a semi-transparent layer including an infrared light shielding material that transmits visible light and shields infrared light,
Each dot of the coded pattern is a front plate made of the same material as the infrared light shielding material of the semi-translucent layer . 前記透明基板上および前記加飾部上に設けられた保護層と、
前記保護層上に設けられたタッチパネルセンサと、をさらに備える、請求項１乃至６のいずれか一項に記載の前面板。 A protective layer provided on the transparent substrate and the decorative portion;
The front plate according to any one of claims 1 to 6, further comprising a touch panel sensor provided on the protective layer. 表示領域と、前記表示領域の周辺に位置する非表示領域と、を含む前面板の製造方法において、
透明基板を準備する工程と、
前記透明基板の非表示領域に、光を遮蔽する遮光部分と光を部分的に透過させる半透光部分とを含む加飾部を形成する加飾部形成工程と、を備え、
前記加飾部形成工程は、光を遮蔽する遮光性材料を用いて前記透明基板の非表示領域に遮光層を形成する遮光層形成工程と、光を部分的に透過させる半透光性材料を用いて前記透明基板の非表示領域に半透光層を形成する半透光層形成工程と、を有し、
前記遮光層形成工程と同時に、前記遮光性材料を用いて、または、前記半透光層形成工程と同時に、前記半透光性材料を用いて、電子ペンで読み取り可能なコード化パターンの複数のドットを前記透明基板の表示領域に形成する、前面板の製造方法。 In a method for manufacturing a front plate including a display area and a non-display area located around the display area,
Preparing a transparent substrate;
A decoration part forming step for forming a decoration part including a light-shielding part that shields light and a semi-translucent part that partially transmits light in the non-display area of the transparent substrate,
The decorative portion forming step includes a light shielding layer forming step of forming a light shielding layer in a non-display area of the transparent substrate using a light shielding material that shields light, and a semi-translucent material that partially transmits light. Using a semi-transparent layer forming step of forming a semi-transparent layer in a non-display area of the transparent substrate,
Simultaneously with the light-shielding layer forming step, using the light-shielding material, or simultaneously with the semi-transparent layer forming step, using the semi-transparent material, a plurality of coding patterns that can be read with an electronic pen A method for producing a front plate, wherein dots are formed in a display area of the transparent substrate. 前記遮光層形成工程と同時に、前記遮光性材料を用いて、前記コード化パターンの複数のドットを前記透明基板の表示領域に形成する、請求項８に記載の前面板の製造方法。 The method for manufacturing the front plate according to claim 8 , wherein a plurality of dots of the coded pattern are formed in a display region of the transparent substrate using the light shielding material simultaneously with the light shielding layer forming step. 前記半透光層形成工程と同時に、前記半透光性材料を用いて、前記コード化パターンの複数のドットを前記透明基板の表示領域に形成する、請求項８に記載の前面板の製造方法。 The method for manufacturing a front plate according to claim 8 , wherein a plurality of dots of the coded pattern are formed in a display region of the transparent substrate using the semi-translucent material simultaneously with the semi-transparent layer forming step. . 前記半透光層の前記半透光性材料は、赤外光を透過させるとともに可視光を遮蔽する赤外光透光性材料である、請求項１０に記載の前面板の製造方法。 The method for producing a front plate according to claim 10 , wherein the semi-translucent material of the semi-transparent layer is an infrared light translucent material that transmits infrared light and shields visible light. 前記半透光層の前記半透光性材料は、可視光を透過させるとともに赤外光を遮蔽する赤外光遮光性材料である、請求項１０に記載の前面板の製造方法。 The method for producing a front plate according to claim 10 , wherein the semi-transparent material of the semi-transparent layer is an infrared light shielding material that transmits visible light and shields infrared light. 表示領域と、前記表示領域の周辺に位置する非表示領域と、を含む前面板の製造方法において、
透明基板を準備する工程と、
前記透明基板の非表示領域に加飾部を形成する加飾部形成工程と、を備え、
前記加飾部形成工程は、可視光を透過させるとともに赤外光を遮蔽する赤外光遮光性材料を用いて前記透明基板の非表示領域に半透光層を形成する半透光層形成工程を有し、
前記半透光層形成工程と同時に、前記赤外光遮光性材料を用いて、電子ペンで読み取り可能なコード化パターンの複数のドットを前記透明基板の表示領域に形成する、前面板の製造方法。 In a method for manufacturing a front plate including a display area and a non-display area located around the display area,
Preparing a transparent substrate;
A decorative portion forming step of forming a decorative portion in a non-display area of the transparent substrate,
The decorative portion forming step includes forming a semi-transparent layer in a non-display area of the transparent substrate using an infrared light shielding material that transmits visible light and shields infrared light. Have
A method for producing a front plate , wherein a plurality of dots of a coding pattern readable by an electronic pen are formed in the display area of the transparent substrate using the infrared light shielding material simultaneously with the semi-transparent layer forming step . 前記透明基板上および前記加飾部上に保護層を形成する保護層形成工程と、
前記保護層上にタッチパネルセンサを形成するタッチパネルセンサ形成工程と、をさらに備える、請求項８乃至１３のいずれか一項に記載の前面板の製造方法。 A protective layer forming step of forming a protective layer on the transparent substrate and the decorative portion;
The manufacturing method of the front plate as described in any one of Claims 8 thru | or 13 further provided with the touchscreen sensor formation process which forms a touchscreen sensor on the said protective layer.
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