JP6142517B2 - 投影露光装置及び投影露光方法 - Google Patents

Description

本発明は、露光パターンを投影露光する投影露光装置及び投影露光方法に関するものである。

複数の発光素子によってパターンを形成し、形成したパターンを投影光学系によって被露光面に転写する投影露光装置や、この投影露光装置を適用した画像形成装置などが知られている。例えば下記特許文献１には、発光素子が形成された基板と、この基板に複数のレンズを対向させた投影光学系を備え、基板にはレンズが対向する位置に複数の発光素子が設けられ、レンズが対向位置にある発光素子から出射された光を像面に結像する画像形成装置が記載されている。

特開２００９−２９１０６号公報

図１は、投影露光装置の一構成例を示した説明図である（図１（ａ）が斜視図、図１（ｂ）が平面図）。投影露光装置１は、複数の光源要素が配列された光源要素群２と、光源要素群２によって形成されるパターンを被露光面Ｓに投影する投影光学系３を備えている。ここでいう光源要素とは、ドット又はライン配列によって構成される露光パターンの１ドット又は１ラインに対応するものであり、例えば、基板１０上に形成されたＬＥＤやＥＬ（有機ＥＬを含む）などの発光素子１１によって構成することができる。光源要素群２は、発光素子１１の複数配列によって構成することができるが、これに限定されるものではなく、例えば、デジタル・マイクロミラー・デバイス（Digital Micro−mirror Device；ＤＭＤ），光源とマスクの組み合わせなどによって構成することができる。

投影光学系３は、マイクロレンズ３ａによって構成することができ、図示の例ではレンズ基板３ｂに複数のマイクロレンズ３ａを配置してレンズアレイ３ｃを構成している。投影光学系３は、光源要素群２が形成するパターンを被露光面Ｓに結像して、被露光面Ｓに露光ドットＰ０の集合である露光パターンＰを形成している。図示の例では等倍投影によって露光パターンＰを形成しているが、拡大又は縮小して投影する変倍投影によって露光パターンＰを形成することもできる。

光源要素群２は、図１（ｂ）に示すように、複数の光源要素（発光素子１１）を連続配列した光源要素列２ａが複数分散配置されており、投影光学系３は、光源要素列２ａ毎に１つのマイクロレンズ３ａを配置している。このように光源要素列２ａを分散配置することで、所定口径のマイクロレンズを光源要素列２ａ毎に配置しながら、高密度の露光パターンＰを広範囲に亘って形成できるようにしている。

しかしながら、投影露光装置１のように、複数の光源要素を配列した光源要素群２によるパターンを投影光学系３によって被露光面Ｓに転写する場合には、投影光学系３の有効視野内の位置によって収差の発生度合いに差があるため、転写した露光パターンＰにおける露光ドット毎の露光強度が収差の影響によって不均一になる問題が生じる。

図２は、このような投影光学系の収差による露光強度の不均一を説明する説明図である。物体面の点ｈ１，ｈ２，ｈ３にそれぞれ配置した光源要素を投影光学系３によって像面に転写した場合には、像面における転写像の露光強度分布は図示のように異なる分布を示す。この図から明らかなように、投影光学系３の有効視野内の中心付近、すなわち光軸上付近にある点ｈ１では収差の発生が少なく、その像ｓ１はシャープに転写されて露光ドットの径が比較的小さくなる。しかしながら、点ｈ２，点ｈ３と有効視野内の中心から離れるに連れて、それらの像ｓ２，ｓ３は露光強度分布のピークが下がり裾野が広がってスポット形状が崩れた状態になる。

このように、投影光学系３の有効視野内の中心付近に配置された光源要素の像は比較的シャープに転写されるが、有効視野内の外側付近に配置された光源要素の像は、ぼやけたり、歪んだりした像になり、その結果、有効視野の中心付近と周辺付近とでは、露光パターンの露光強度にむらが生じてしまうことになる。

本発明は、このような問題に対処することを課題の一例とするものである。すなわち、複数の光源要素を配列した光源要素群とこの光源要素群が形成するパターンを被露光面に投影する投影光学系を備えた投影露光装置において、投影光学系の収差による露光の不均一を軽減すること、等が本発明の目的である。

このような目的を達成するために、本発明による投影露光装置及び投影露光方法は、以下の構成を少なくとも具備するものである。

複数の光源要素を配列した光源要素群と当該光源要素群が形成するパターンを被露光面に投影する投影光学系によって、特定の露光パターンを被露光面に重ね合わせ露光する複数の露光手段を備え、前記複数の露光手段の１つは、前記光源要素群を前記投影光学系の有効視野内における第１の位置に配置し、前記複数の露光手段の他の１つは、前記光源要素群を前記投影光学系の有効視野内における前記第１の位置とは異なる第２の位置に配置することを特徴とする投影露光装置。

複数の光源要素を配列した光源要素群と当該光源要素群が形成するパターンを被露光面に投影する投影光学系によって、特定の露光パターンを被露光面に重ね合わせ露光する複数の露光手段を備えた投影露光方法であって、前記複数の露光手段の１つにより、前記光源要素群を前記投影光学系の有効視野内における第１の位置に配置され、一の露光を行い、前記複数の露光手段の他の１つにより、前記光源要素群を前記投影光学系の有効視野内における前記第１の位置とは異なる第２の位置に配置され、次の露光を行うことを特徴とする投影露光方法。

このような特徴を有する投影露光装置及び投影露光方法によると、複数の露光手段又は露光工程による重ね合わせ露光によって、投影光学系の収差による露光不均一を軽減することが可能になる。これによって、複数の光源要素を配列した光源要素群とこの光源要素群が形成するパターンを被露光面に投影する投影光学系を備えた投影露光装置において、露光むらの少ない露光パターンを形成することができる。

投影露光装置の一構成例を示した説明図である（図１（ａ）が斜視図、図１（ｂ）が平面図）。 投影光学系の収差による露光強度の不均一を説明する説明図である。 投影光学系の有効視野内における光源要素群の位置を説明する説明図である。 本発明の実施形態に係る投影露光装置における複数の露光手段を示した説明図である。 複数の露光手段による重ね合わせ露光によって得られる露光結果の積算露光強度分布を示した説明図である。 本発明の他の実施形態を示した説明図である。 本発明の実施形態に係る投影露光装置の具体例を示した説明図である。

以下、図面を参照しながら本発明の実施形態を説明する。本発明の実施形態に係る投影露光装置は、図１に示した投影露光装置１と基本構成が同じであり、複数の光源要素を配列した光源要素群２と光源要素群２が形成するパターンを被露光面に投影する投影光学系３を備えている。そして、本発明の実施形態に係る投影露光装置は、光源要素群２と投影光学系３によって、特定の露光パターンを被露光面に重ね合わせ露光する複数の露光手段を備えており、複数の露光手段の１つは、光源要素群２を投影光学系３の有効視野内における第１の位置に配置し、複数の露光手段の他の１つは、光源要素群２を投影光学系３の有効視野内における第２の位置に配置する。ここでの第１の位置と第２の位置は異なる位置になる。

図３は、投影光学系の有効視野内における光源要素群の位置を説明する説明図である。図３（ａ）に示した例は、投影光学系３の有効視野Ｖｒ内の位置を中心付近の点ｈ１，点ｈ１から一定距離ｒ１離れた点ｈ２，点ｈ１から一定距離ｒ１の２倍離れた点ｈ３，点ｈ１から一定距離ｒ１の３倍離れた点ｈ４の４箇所に分けて示している。また、図３（ｂ）に示した例は、有効視野Ｖｒ内の位置を中心付近の点ｈ１，点ｈ１から一定距離ｒ２離れた点ｈ２，点ｈ１から一定距離ｒ２の２倍離れた点ｈ３の３箇所に分けて示している。

図４は、本発明の実施形態に係る投影露光装置における複数の露光手段を示した説明図である。ここでは、光源要素群２は、２Ａ，２Ｂ，２Ｃ，２Ｄの４つの光源要素によって構成されており、各光源要素が図３（ａ）に示した投影光学系３の有効視野Ｖｒ内の４つの点ｈ１，ｈ２，ｈ３，ｈ４にそれぞれ配置されている。そして、複数の露光手段は、有効視野Ｖｒ内における光源要素の配列数だけ設けられ、この例では、第１〜第４の露光手段が設けられる。

図４（ａ）は、複数の露光手段の中の第１の露光手段を示している。第１の露光手段は、光源要素群２を投影光学系３の有効視野Ｖｒ内における第１の位置に配置している。第１の位置は、有効視野Ｖｒ内において、点ｈ４に光源要素２Ａを配置し、点ｈ３に光源要素２Ｂを配置し、点ｈ２に光源要素２Ｃを配置し、点ｈ１に光源要素２Ｄを配置している。このような第１の露光手段によって第１の露光工程を行い、光源要素群２によるパターン（Ａ１，Ｂ１，Ｃ１，Ｄ１）を被露光面Ｓに転写して露光パターンＰ（Ａ０，Ｂ０，Ｃ０，Ｄ０）を形成する。

図４（ｂ）は、複数の露光手段の中の第２の露光手段を示している。第２の露光手段は、光源要素群２を投影光学系３の有効視野Ｖｒ内における第２の位置に配置している。第２の位置は、有効視野Ｖｒ内において、点ｈ３に光源要素２Ａを配置し、点ｈ２に光源要素２Ｂを配置し、点ｈ１に光源要素２Ｃを配置し、点ｈ２に光源要素２Ｄを配置している。この際、前述した第２の位置は、前述した第１の位置に対して投影光学系３の光軸方向と交差する方向にシフト（図示の例では光源要素の配列ピッチだけシフト）している。このような第２の露光手段によって第２の露光工程を行い、光源要素群２によるパターン（Ａ２，Ｂ２，Ｃ２，Ｄ２）を被露光面Ｓに転写して露光パターンＰ（Ａ０，Ｂ０，Ｃ０，Ｄ０）に重ね合わせ露光する。

図４（ｃ）は、複数の露光手段の中の第３の露光手段を示している。第３の露光手段は、光源要素群２を投影光学系３の有効視野Ｖｒ内における第３の位置に配置している。第３の位置は、有効視野Ｖｒ内において、点ｈ２に光源要素２Ａを配置し、点ｈ１に光源要素２Ｂを配置し、点ｈ２に光源要素２Ｃを配置し、点ｈ３に光源要素２Ｄを配置している。このような第３の露光手段によって第３の露光工程を行い、光源要素群２によるパターン（Ａ３，Ｂ３，Ｃ３，Ｄ３）を被露光面Ｓに転写して露光パターンＰ（Ａ０，Ｂ０，Ｃ０，Ｄ０）に重ね合わせ露光する。

図４（ｄ）は、複数の露光手段の中の第４の露光手段を示している。第４の露光手段は、光源要素群２を投影光学系３の有効視野Ｖｒ内における第４の位置に配置している。第４の位置は、有効視野Ｖｒ内において、点ｈ１に光源要素２Ａを配置し、点ｈ２に光源要素２Ｂを配置し、点ｈ３に光源要素２Ｃを配置し、点ｈ４に光源要素２Ｄを配置している。このような第４の露光手段によって第４の露光工程を行い、光源要素群２によるパターン（Ａ４，Ｂ４，Ｃ４，Ｄ４）を被露光面Ｓに転写して露光パターンＰ（Ａ０，Ｂ０，Ｃ０，Ｄ０）に重ね合わせ露光する。

前述した第１〜第４の露光手段（第１〜第４の露光工程）によって露光パターンＰを重ね合わせ露光すると、露光パターンＰにおける露光ドットＡ０は、投影光学系３の有効視野Ｖｒ内における点ｈ４，点ｈ３，点ｈ２，点ｈ１にそれぞれ配置される光源要素２Ａで重ね合わせ露光され、露光パターンＰにおける露光ドットＢ０は、投影光学系３の有効視野Ｖｒ内における点ｈ３，点ｈ２，点ｈ１，点ｈ２にそれぞれ配置される光源要素２Ｂで重ね合わせ露光され、露光パターンＰにおける露光ドットＣ０は、投影光学系３の有効視野Ｖｒ内における点ｈ２，点ｈ１，点ｈ２，点ｈ３にそれぞれ配置される光源要素２Ｃで重ね合わせ露光され、露光パターンＰにおける露光ドットＤ０は、投影光学系３の有効視野Ｖｒ内における点ｈ１，点ｈ２，点ｈ３，点ｈ４にそれぞれ配置される光源要素２Ｄで重ね合わせ露光されることになる。

図５は、複数の露光手段による重ね合わせ露光によって得られる露光結果の積算露光強度分布を示した説明図である。ここでは、図４における露光ドットＤ０における重ね合わせ露光の例を示している。先ず、有効視野Ｖｒ内の点ｈ１に光源要素２Ｄを配置した第１露光では、有効視野Ｖｒの中心付近に光源要素２Ｄを配置して露光を行うことで被露光面における露光強度分布は、シャープな立ち上がりを有する強度分布になる。次の点ｈ２に光源要素２Ｄを配置した第２露光、その次の点ｈ３に光源要素２Ｄを配置した第３露光、その次の点ｈ４に光源要素２Ｄを配置した第４露光では、各露光での露光強度分布は図示のように変化することになるが、第１露光〜第４露光による重ね合わせ露光では、各露光の異なる露光強度分布を積算した積算露光強度分布で露光ドットＤ０の露光がなされることになる。

図４に示した第１〜第４の露光手段（第１〜第４の露光工程）によって行われる重ね合わせ露光によると、露光ドットＡ０の露光は、図５における第４露光，第３露光，第２露光，第１露光が順次行われ、露光順序は異なるものの露光ドットＤ０と同様の積算露光強度分布が得られることなる。また、露光ドットＢ０の露光は、図５における第３露光，第２露光，第１露光，第２露光が順次行われ、露光ドットＣ０の露光は、図５における第２露光，第１露光，第２露光，第３露光が順次行われるので、前述した露光ドットＤ０とほぼ同等の積算露光強度分布が得られることなる。このように、図４に示した第１〜第４の露光手段（第１〜第４の露光工程）によって行われる重ね合わせ露光によると、露光ドットＡ０，Ｂ０，Ｃ０，Ｄ０からなる露光パターンＰにおける露光強度の不均一を軽減することが可能になる。

前述した第１〜第４の露光手段による重ね合わせ露光は、光源要素２Ａ〜２Ｄの配列方向と交差する特定の走査方向に沿った走査露光によって実行することができる。この場合、第２露光における光源要素２Ａ〜２Ｄの有効視野Ｖｒ内での位置（第２の位置）は、第１露光における光源要素２Ａ〜２Ｄの有効視野Ｖｒ内での位置（第１の位置）に対して走査方向と交差する方向にシフトしている。

図６は、本発明の他の実施形態を示した説明図である。ここでは、光源要素群２は、２Ａ，２Ｂ，２Ｃの３つの光源要素によって構成されており、各光源要素が図３（ｂ）に示した投影光学系３の有効視野Ｖｒ内の３つの点ｈ１，ｈ２，ｈ３にそれぞれ配置されている。そして、複数の露光手段が、有効視野Ｖｒ内における光源要素の配列数だけ設けられ、この例では、第１〜第３の露光手段が設けられる。

図６（ａ）に示した第１の露光手段における第１の位置は、有効視野Ｖｒ内において、点ｈ３に光源要素２Ａを配置し、点ｈ２に光源要素２Ｂを配置し、点ｈ１に光源要素２Ｃを配置している。このような第１の露光手段によって第１の露光工程を行い、光源要素群２によるパターン（Ａ１，Ｂ１，Ｃ１）を被露光面Ｓに転写して露光パターンＰ（Ａ０，Ｂ０，Ｃ０）を形成する。

図６（ｂ）に示した第２の露光手段における第２の位置は、有効視野Ｖｒ内において、点ｈ２に光源要素２Ａを配置し、点ｈ１に光源要素２Ｂを配置し、点ｈ２に光源要素２Ｃを配置している。この際、前述した第２の位置は、前述した第１の位置に対して投影光学系３の光軸方向と交差する方向にシフト（図示の例では光源要素の配列ピッチだけシフト）している。このような第２の露光手段によって第２の露光工程を行い、光源要素群２によるパターン（Ａ２，Ｂ２，Ｃ２）を被露光面Ｓに転写して露光パターンＰ（Ａ０，Ｂ０，Ｃ０）に重ね合わせ露光する。

図６（ｃ）に示した第３の露光手段における第３の位置は、有効視野Ｖｒ内において、点ｈ１に光源要素２Ａを配置し、点ｈ２に光源要素２Ｂを配置し、点ｈ３に光源要素２Ｃを配置している。このような第３の露光手段によって第３の露光工程を行い、光源要素群２によるパターン（Ａ３，Ｂ３，Ｃ３）を被露光面Ｓに転写して露光パターンＰ（Ａ０，Ｂ０，Ｃ０）に重ね合わせ露光する。

このような実施形態においても、第１〜第３の露光手段（第１〜第３の露光工程）によって行われる重ね合わせ露光によって、前述した実施形態と同様に、露光ドットＡ０，Ｂ０，Ｃ０からなる露光パターンＰにおける露光強度の不均一を軽減することが可能になる。前述した第１〜第３の露光手段による重ね合わせ露光は、光源要素２Ａ〜２Ｃの配列方向と交差する特定の走査方向に沿った走査露光によって実行することができる。この場合、第２露光における光源要素２Ａ〜２Ｃの有効視野Ｖｒ内での位置（第２の位置）は、第１露光における光源要素２Ａ〜２Ｃの有効視野Ｖｒ内での位置（第１の位置）に対して走査方向と交差する方向にシフトしている。

図７は、本発明の実施形態に係る投影露光装置の具体例を示した説明図である。この例では、投影光学系３は、一枚のレンズ基板３ｂに複数のマイクロレンズ３ａが配置されており、光源要素群２は、複数の光源要素を連続配列した光源要素列２ａと光源要素単体２Ｓが複数分散配置されている。そして、１つの光源要素列２ａ又は光源要素単体２Ｓ毎に１つのマイクロレンズ３ａが配置されている。

そして、レンズ基板３ｂ上には、マイクロレンズ３ａと光源要素列２ａ又は光源要素単体２Ｓとの組み合わせからなる第１の露光手段Ｅｘ１，第２の露光手段Ｅｘ２，第３の露光手段Ｅｘ３が配備されており、第１の露光手段Ｅｘ１，第２の露光手段Ｅｘ２，第３の露光手段Ｅｘ３が矢印ｙで示す特定の走査方向に沿って配置されている。この投影露光装置は、被露光面に対してレンズ基板３ｂを矢印ｙ方向に移動しながら走査露光を行うことで、第１の露光手段Ｅｘ１による第１の露光工程、第２の露光手段Ｅｘ２による第２の露光工程、第３の露光手段Ｅｘ３による第３の露光工程を順次行い、被露光面に露光結果として示した露光パターンＰを形成する。

図示の例では、第１の露光手段Ｅｘ１における光源要素の配列パターンの位置を走査方向と交差する方向にシフトした位置が第２の露光手段Ｅｘ２における光源要素の配列パターンになっており、更に走査方向と交差する方向にシフトした位置が第３の露光手段Ｅｘ２における光源要素の配列パターンになっている。但し、光源要素の配置は露光パターンＰの露光範囲内に限定されており、走査方向と交差する方向にシフトして露光範囲の一端側の境界を外れた光源要素は露光範囲の他端側の境界から露光範囲内に配置される。

この実施形態は、走査露光によって露光パターンＰにおける露光ドットＰ０に対応して露光ラインが形成されるが、前述した実施形態と同様に、露光パターンＰにおける１つの露光ドットＰ０（露光ライン）には、第１の露光手段Ｅｘ１，第２の露光手段Ｅｘ２，第３の露光手段Ｅｘ３における各光源要素による計３回の重ね合わせ露光がなされる。そして、１つの露光ドットＰ０に対する３回の重ね合わせ露光においては、光源要素列２ａの有効視野Ｖｒ内における位置がそれぞれ異なる位置に配置されている。

図示の例では、１つの露光ドットＰ０に対する３回の重ね合わせ露光を行う光源要素の位置に着目すると、第２の露光手段Ｅｘ２におけるマイクロレンズ３ａ内での光源要素の位置（第２の位置）は、第１の露光手段Ｅｘ１におけるマイクロレンズ３ａ内での光源要素の位置（第１の位置）に対してマイクロレンズ３ａの光軸方向と交差し且つ走査方向と交差する方向にシフトしている。また、第３の露光手段Ｅｘ３におけるマイクロレンズ３ａ内での光源要素の位置（第３の位置）は、第２の露光手段Ｅｘ２におけるマイクロレンズ３ａ内の光源要素の位置（第２の位置）に対してマイクロレンズ３ａの光軸方向と交差し且つ走査方向と交差する方向にシフトしている。

具体的には、第１の露光手段Ｅｘ１においてマイクロレンズ３ａの有効視野Ｖｒの中心に配置した光源要素が露光した１つの露光ドットＰ０上を露光する第２の露光手段Ｅｘ２における光源要素の位置は、有効視野Ｖｒの中心から走査方向と交差する方向の左右一方側にシフトしており、さらに同じ露光ドットＰ０上を露光する第３の露光手段Ｅｘ３における光源要素の位置は、有効視野Ｖｒの中心から走査方向と交差する方向に左右他方側にシフトしている。

また、第２の露光手段Ｅｘ２においてマイクロレンズ３ａの有効視野Ｖｒの中心に配置した光源要素が露光する１つの露光ドットＰ０上を露光する第１の露光手段Ｅｘ１における光源要素の位置は、有効視野Ｖｒの中心から走査方向と交差する方向の左右一方側にシフトしており、さらに同じ露光ドットＰ０上を露光する第３の露光手段Ｅｘ３における光源要素の位置は、有効視野Ｖｒの中心から走査方向と交差する方向に左右他方側にシフトしている。

同様に、第３の露光手段Ｅｘ２においてマイクロレンズ３ａの有効視野Ｖｒの中心に配置した光源要素が露光する１つの露光ドットＰ０上を露光する第１の露光手段Ｅｘ１における光源要素の位置は、有効視野Ｖｒの中心から走査方向と交差する方向の左右一方側にシフトしており、さらに同じ露光ドットＰ０上を露光する第２の露光手段Ｅｘ２における光源要素の位置は、有効視野Ｖｒの中心から走査方向と交差する方向に左右他方側にシフトしている。このような走査露光（重ね露光）を行うことで、露光パターンＰにおける露光強度の不均一を軽減することができる。

以上、本発明の実施の形態について図面を参照して詳述してきたが、具体的な構成はこれらの実施の形態に限られるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲の設計の変更等があっても本発明に含まれる。また、上述の各実施の形態は、その目的及び構成等に特に矛盾や問題がない限り、互いの技術を流用して組み合わせることが可能である。

１：投影露光装置，
２：光源要素群，２ａ：光源要素列，２Ｓ：光源要素単体，
２Ａ，２Ｂ，２Ｃ，２Ｄ：光源要素，
３：投影光学系，３ａ：マイクロレンズ，３ｂ：レンズ基板，
３ｃ：レンズアレイ，
１０：基板，１１発光素子，
Ｐ：露光パターン，Ｐ０：露光ドット，
Ｓ：被露光面，Ｖｒ：有効視野，
Ｅｘ１：第１の露光手段，Ｅｘ２：第２の露光手段，Ｅｘ３：第３の露光手段

Claims (6)

1. 複数の光源要素を配列した光源要素群と当該光源要素群が形成するパターンを被露光面に投影する投影光学系によって、特定の露光パターンを被露光面に重ね合わせ露光する複数の露光手段を備え、
   前記複数の露光手段の１つは、前記光源要素群を前記投影光学系の有効視野内における第１の位置に配置し、
   前記複数の露光手段の他の１つは、前記光源要素群を前記投影光学系の有効視野内における前記第１の位置とは異なる第２の位置に配置することを特徴とする投影露光装置。
2. 複数の光源要素を連続配列した光源要素列が複数分散配置されており、前記光源要素列毎に１つのマイクロレンズを配置した投影光学系によって、前記光源要素列が形成するパターンを被露光面に投影して、特定の露光パターンを被露光面に重ね合わせ露光する複数の露光手段を備え、
   前記複数の露光手段の１つは、前記光源要素列における第１の光源要素が前記マイクロレンズの有効視野内における第１の位置に配置され、
   前記複数の露光手段の他の１つは、前記第１の光源要素に重ね合わせ露光される光源要素が前記マイクロレンズの有効視野内における前記第１の位置とは異なる第２の位置に配置されることを特徴とする投影露光装置。
3. 前記複数の露光手段は被露光面を特定の走査方向に沿って走査露光し、
   前記第２の位置は、前記第１の位置に対して前記投影光学系の光軸方向と交差し且つ前記走査方向と交差する方向にシフトしていることを特徴とする請求項１又は２に記載の投影露光装置。
4. 前記光源要素は、発光素子によって構成されることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の投影露光装置。
5. 複数の光源要素を配列した光源要素群と当該光源要素群が形成するパターンを被露光面に投影する投影光学系によって、特定の露光パターンを被露光面に重ね合わせ露光する複数の露光手段を備えた投影露光方法であって、
   前記複数の露光手段の１つにより、前記光源要素群を前記投影光学系の有効視野内における第１の位置に配置され、一の露光を行い、
   前記複数の露光手段の他の１つにより、前記光源要素群を前記投影光学系の有効視野内における前記第１の位置とは異なる第２の位置に配置され、次の露光を行うことを特徴とする投影露光方法。
6. 複数の光源要素を連続配列した光源要素列が複数分散配置されており、前記光源要素列毎に１つのマイクロレンズを配置した投影光学系によって、前記光源要素列が形成するパターンを被露光面に投影して、特定の露光パターンを被露光面に重ね合わせ露光する複数の露光手段を備えた投影露光方法であって、
   前記複数の露光手段の１つにより、前記光源要素列における第１の光源要素が前記マイクロレンズの有効視野内における第１の位置に配置され、一の露光を行い、
   前記複数の露光手段の他の１つにより、前記第１の光源要素に重ね合わせ露光される光源要素が前記マイクロレンズの有効視野内における前記第１の位置とは異なる第２の位置に配置され、次の露光を行うことを特徴とする投影露光方法。

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