JP6128758B2 - 発光素子の製造方法 - Google Patents
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Landscapes
- Led Devices (AREA)
Description
10 透明基板
12、32、42 半導体スタック層
14 電極
110、310、410 第一導電型半導体層
112、312、412 活性層
124、324、424 第二導電型半導体層
200 発光装置
20 サブマウント
202 回路
22 はんだ
24 電気接続構造
30、40 基板
302、402 第一表面
304、404 第二表面
36、46 支持層
306、406 第一変質領域
306′、406′第二変質領域
3061、4061 第一延伸部
3062、4062 第二延伸部
342、442 第一電極
341、441 第二電極
381、481 酸化層
382、482 金属層
500 発光モジュール
501 下キャリア
502 キャリア
503 上キャリア
504、506、508、510 レンズ
512、514 電源供給端子
515 貫通孔
519 反射層
521 ゴム材
540 シェール
600 光源装置
Claims (8)
- 発光素子の製造方法であって、少なくとも、
第一表面及び第二表面を有し、該第一表面は該第二表面と相対する基板を提供するステップと、
複数の発光スタック層を前記基板の第二表面に形成するステップと、
酸化層を前記基板の第一表面に形成するステップと、
前記複数の発光スタック層を覆う支持層を形成するステップと、
前記基板の前記第一表面上の前記酸化層からエネルギーを前記基板内に与え、前記基板内に複数の不連続な第一変質領域を形成するステップと、
前記エネルギーを前記基板内に与えた後に、金属反射層を前記酸化層に形成するステップと、
前記複数の不連続な第一変質領域に沿って前記基板を切断するステップと、
を含む、発光素子の製造方法。 - 前記複数の不連続な第一変質領域を形成した後に、前記支持層を除去するステップを更に含む、請求項1に記載の発光素子の製造方法。
- 前記エネルギーを前記基板内に与えるステップは、第一延伸部を前記第一変質領域と前記基板の第二表面との間に形成することを更に含む、請求項1に記載の発光素子の製造方法。
- 前記基板の第一表面からエネルギーを前記基板内に与え、前記基板内に複数の不連続な第二変質領域を形成するステップを更に含み、
前記第二変質領域及び前記第一変質領域は、前記基板の第一表面に垂直である方向に互いに重なり合い又は重なり合わず、
前記複数の不連続な第二変質領域は、前記複数の不連続な第一変質領域の形成後に形成される、請求項1に記載の発光素子の製造方法。 - 第二延伸部を前記第一変質領域の下に形成するステップを更に含み、
前記第二延伸部は、前記第一変質領域と前記基板の第一表面との間に形成され、
前記第二延伸部の高さは、前記第一延伸部の高さよりも小さい、請求項3に記載の発光素子の製造方法。 - 前記酸化層は、前記支持層の形成前に形成される、請求項1に記載の発光素子の製造方法。
- 第一電極及び第二電極を前記発光スタック層に形成し、且つ、前記支持層により、前記発光スタック層、前記基板の第二表面、前記第一電極及び前記第二電極を覆う、請求項1に記載の発光素子の製造方法。
- 前記エネルギーを前記基板内に与える前に、前記複数の発光スタック層を覆う前記支持層を先に形成する、請求項1に記載の発光素子の製造方法。
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