JP6123455B2 - 有機含窒素化合物含有ガスの処理装置及び成膜装置 - Google Patents
有機含窒素化合物含有ガスの処理装置及び成膜装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6123455B2 JP6123455B2 JP2013090066A JP2013090066A JP6123455B2 JP 6123455 B2 JP6123455 B2 JP 6123455B2 JP 2013090066 A JP2013090066 A JP 2013090066A JP 2013090066 A JP2013090066 A JP 2013090066A JP 6123455 B2 JP6123455 B2 JP 6123455B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- organic nitrogen
- general formula
- compound represented
- compound
- carbon atoms
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 125000001477 organic nitrogen group Chemical group 0.000 title claims description 113
- 239000007789 gas Substances 0.000 title claims description 96
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 158
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 84
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 57
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 39
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 38
- 150000004696 coordination complex Chemical class 0.000 claims description 30
- 239000003446 ligand Substances 0.000 claims description 28
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 19
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 19
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 15
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 11
- 125000006165 cyclic alkyl group Chemical group 0.000 claims description 10
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 claims description 9
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 9
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 7
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 claims description 7
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 claims description 6
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 claims description 6
- WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L manganese(2+);methyl n-[[2-(methoxycarbonylcarbamothioylamino)phenyl]carbamothioyl]carbamate;n-[2-(sulfidocarbothioylamino)ethyl]carbamodithioate Chemical compound [Mn+2].[S-]C(=S)NCCNC([S-])=S.COC(=O)NC(=S)NC1=CC=CC=C1NC(=S)NC(=O)OC WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 6
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 5
- 239000002994 raw material Substances 0.000 claims description 4
- 239000000376 reactant Substances 0.000 claims description 3
- -1 amine compound Chemical class 0.000 description 7
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 7
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 6
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910021536 Zeolite Inorganic materials 0.000 description 5
- 230000008859 change Effects 0.000 description 5
- HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 5
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 5
- 239000010457 zeolite Substances 0.000 description 5
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 4
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 4
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 4
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 4
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 4
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 4
- 125000001570 methylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])[*:2] 0.000 description 4
- 150000002897 organic nitrogen compounds Chemical class 0.000 description 4
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 4
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 3
- 239000004927 clay Substances 0.000 description 3
- 125000001995 cyclobutyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 3
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 3
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 3
- 125000001559 cyclopropyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C1([H])* 0.000 description 3
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 3
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 230000008569 process Effects 0.000 description 3
- 125000002914 sec-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 3
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N Iron oxide Chemical compound [Fe]=O UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BAVYZALUXZFZLV-UHFFFAOYSA-N Methylamine Chemical compound NC BAVYZALUXZFZLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 2
- 238000000231 atomic layer deposition Methods 0.000 description 2
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 125000000816 ethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 2
- 150000002466 imines Chemical class 0.000 description 2
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- KJFMBFZCATUALV-UHFFFAOYSA-N phenolphthalein Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1C1(C=2C=CC(O)=CC=2)C2=CC=CC=C2C(=O)O1 KJFMBFZCATUALV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001973 tert-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 125000003258 trimethylene group Chemical group [H]C([H])([*:2])C([H])([H])C([H])([H])[*:1] 0.000 description 2
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000004814 1,1-dimethylethylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([*:1])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 125000004815 1,2-dimethylethylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([*:2])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- ZPLCXHWYPWVJDL-UHFFFAOYSA-N 4-[(4-hydroxyphenyl)methyl]-1,3-oxazolidin-2-one Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1CC1NC(=O)OC1 ZPLCXHWYPWVJDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MBMLMWLHJBBADN-UHFFFAOYSA-N Ferrous sulfide Chemical compound [Fe]=S MBMLMWLHJBBADN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052779 Neodymium Inorganic materials 0.000 description 1
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 229910052790 beryllium Inorganic materials 0.000 description 1
- ATBAMAFKBVZNFJ-UHFFFAOYSA-N beryllium atom Chemical compound [Be] ATBAMAFKBVZNFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000033228 biological regulation Effects 0.000 description 1
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 1
- JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N bismuth atom Chemical compound [Bi] JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 150000001869 cobalt compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 230000002596 correlated effect Effects 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 1
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical compound [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 125000003187 heptyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000004836 hexamethylene group Chemical group [H]C([H])([*:2])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:1] 0.000 description 1
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002472 indium compounds Chemical class 0.000 description 1
- 150000002506 iron compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229910052746 lanthanum Inorganic materials 0.000 description 1
- FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N lanthanum atom Chemical compound [La] FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002604 lanthanum compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002642 lithium compounds Chemical class 0.000 description 1
- 150000002681 magnesium compounds Chemical class 0.000 description 1
- 150000002697 manganese compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- QEFYFXOXNSNQGX-UHFFFAOYSA-N neodymium atom Chemical compound [Nd] QEFYFXOXNSNQGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001971 neopentyl group Chemical group [H]C([*])([H])C(C([H])([H])[H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002816 nickel compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 238000003672 processing method Methods 0.000 description 1
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 1
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 1
- YBRBMKDOPFTVDT-UHFFFAOYSA-N tert-butylamine Chemical compound CC(C)(C)N YBRBMKDOPFTVDT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PRZSXZWFJHEZBJ-UHFFFAOYSA-N thymol blue Chemical compound C1=C(O)C(C(C)C)=CC(C2(C3=CC=CC=C3S(=O)(=O)O2)C=2C(=CC(O)=C(C(C)C)C=2)C)=C1C PRZSXZWFJHEZBJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 1
- VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N yttrium atom Chemical compound [Y] VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003752 zinc compounds Chemical class 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Treating Waste Gases (AREA)
- Solid-Sorbent Or Filter-Aiding Compositions (AREA)
- Exhaust Gas Treatment By Means Of Catalyst (AREA)
- Investigating Or Analyzing Non-Biological Materials By The Use Of Chemical Means (AREA)
Description
本発明は、有機含窒素化合物含有ガスの処理装置及び成膜装置に関する。
近年、排気ガスによる環境負荷を低減するために、排気ガスに対する規制が厳しくなってきている。これに伴い、排気ガスの処理方法が種々提案されている。例えば、特許文献１では、ＮＨ３を含むガスの処理方法及び処理装置が提案されている。
被処理物を吸着したり、吸収したりする処理剤を用いた処理装置においては、処理剤の処理能力が低下した際に、処理剤を交換する必要がある。このため、処理剤の処理能力の低下を検知することが重要となる。
処理剤の処理能力の低下を検知する方法としては、例えば、ロードセルなどの重量検出機構を用いて処理剤の重量を測定し、測定された重量に基づいて処理剤の処理能力の低下を検知することも考えられる。ＮＨ３を含むガスを処理する装置においては、重量検出機構を用いた処理剤の処理能力の低下を検知する方法は有効であると考えられる。
しかしながら、例えば、金属酸化物膜を成膜する際に、窒素を含む金属錯体を用いた場合に排出される排気ガスのように、窒素を含む有機物である有機含窒素化合物を複数種類含むガスの場合は、ガスに含まれる有機含有窒素化合物の種類や、ガス中における有機含窒素化合物の含有比率（組成比）が変化する虞がある。ガスに含まれる有機含有窒素化合物の種類や、ガス中における有機含窒素化合物の含有比率が変化すると、処理剤の重量増加量と、処理剤の処理能力の低下度合いとの関係も変化する。これを考慮し、処理剤の処理能力が低くなりすぎないうちに、早期に処理剤を交換する必要がある。従って、処理剤の利用効率が低く、処理に要するコストが高くなるという問題がある。
本発明の主な目的は、複数種類の有機含窒素化合物を含む有機含窒素化合物含有ガスの処理に要するコストを低減することにある。
本発明に係る有機含窒素化合物含有ガスの処理装置は、複数種類の有機含窒素化合物を含む有機含窒素化合物含有ガスの処理装置である。本発明に係る有機含窒素化合物含有ガスの処理装置は、処理室と、検知部とを備える。処理室は、有機含窒素化合物含有ガスに含まれる複数種類の有機含窒素化合物の濃度を低減させる。検知部は、検知剤を含む。検知剤は、処理室において処理されたガスが供給されるように設けられている。検知剤は、有機含窒素化合物と接触した際に色度が変化する。
本発明に係る成膜装置は、成膜室と、供給部と、処理室と、検知部とを備える。成膜室は、膜を成膜するための室である。供給部は、膜の原料として、窒素を含む配位子を有する金属錯体を供給する。処理室は、成膜室から排出される、複数種類の有機含窒素化合物を含む有機含窒素化合物含有ガスに含まれる複数種類の有機含窒素化合物の濃度を低減させる。検知部は、処理室において処理されたガスが供給されるように設けられている。検知部は、検知剤を含む。検知剤は、有機含窒素化合物と接触した際に色度が変化する。
本発明によれば、複数種類の有機含窒素化合物を含む有機含窒素化合物含有ガスの処理に要するコストを低減することができる。
以下、本発明の一実施の形態について詳細に説明する。
（処理装置１の概略構成）
図１に示される処理装置１は、複数種類の有機含窒素化合物を含む有機含窒素化合物含有ガスを処理するための装置である。
図１に示される処理装置１は、複数種類の有機含窒素化合物を含む有機含窒素化合物含有ガスを処理するための装置である。
処理装置１は、処理室１０を備えている。処理室１０には、複数種類の有機含窒素化合物を含む有機含窒素化合物含有ガスが導入される。なお、有機含窒素化合物含有ガスは、複数種類の有機含窒素化合物のみからなるガスであってもよいし、複数種類の有機含窒素化合物と、その他のガスとを含む混合ガスであってもよい。通常は、有機含窒素化合物含有ガスは、複数種類の有機含窒素化合物と、その他のガスを含む混合ガスであることが多い。
処理室１０は、導入された有機含窒素化合物含有ガスに含まれる複数種類の有機含窒素化合物の濃度を低減する。処理室１０は、有機含窒素化合物含有ガスに含まれる有機含窒素化合物の濃度を低減できるものである限りにおいて特に限定されない。処理室１０は、湿式の処理室であってもよいし、乾式の処理室であってもよい。
本実施形態においては、処理室１０は、乾式の処理室である。処理室１０内には、処理剤３４が配されている。この処理剤３４により、有機含窒素化合物含有ガスに含まれる有機含窒素化合物の濃度が低減される。処理剤３４の例に関しては、後に詳述する。
処理室１０は、導入口１１と、排出口１２とを有する。導入口１１には、導入管３３が接続されている。有機含窒素化合物含有ガスは、この導入管３３を経由して、導入口１１から処理室１０内に導入される。
導入管３３の上流側端部に、例えば、排気ガスに含まれる固形物を除去するトラップが接続されていてもよい。すなわち、排気ガスの発生源と処理室１０との間に、例えば、排気ガスに含まれる固形物を除去するトラップが設けられていてもよい。このトラップを設けることにより、処理室１０に固形物が流入することを抑制することができる。トラップとしては、例えば、コールドトラップ装置やフィルタートラップ装置などが好ましく用いられる。
処理室１０において有機含窒素含有化合物の濃度が低減された有機含窒素化合物含有ガス（以下、「処理済みガス」とすることがある。）は、排出口１２と、排出口１２に接続された排気管３５とを経由して処理装置１の外部に排出される。
なお、処理済みガスは、処理室１０に導入された有機含窒素化合物含有ガスよりも有機含窒素化合物の濃度が低いガスであればよい。処理済みガスは、有機含窒素化合物を含んでいなくてもよいし、含んでいてもよい。処理済みガスに含まれる有機含窒素化合物の濃度の上限は、処理装置１に要求される性能等に応じて適宜設定することができる。
処理時の処理室１０の温度は、使用する処理剤３４の種類、導入される有機含窒素化合物含有ガスの種類、量等に応じて適宜設定することができる。処理時の処理室１０の温度は、例えば、０℃〜２００℃程度とすることができる。処理時の処理室１０の温度は、例えば、０℃〜９０℃であることが好ましく、常温であってもよい。処理時の処理室１０の温度を常温より高い温度または低い温度にする場合は、加熱機構や冷却機構などの温度調節機構を設けてもよい。
処理時の処理室１０の圧力も、使用する処理剤３４の種類、導入される有機含窒素化合物含有ガスの種類、量等に応じて適宜設定することができる。処理時の処理室１０の圧力は、例えば、常圧であってもよい。また、処理室１０を減圧または加圧した状態で処理を行ってもよい。
処理室１０に導入される有機含窒素化合物含有ガスの流量は、要求される処理能力、使用する処理剤３４の種類、導入される有機含窒素化合物含有ガスの種類、量等に応じて適宜設定することができる。処理室１０に導入される有機含窒素化合物含有ガスの流量は、例えば、０．１リットル／分〜４００００リットル／分であることが好ましく、１リットル／分〜２００００リットル／分であることがより好ましく、１０リットル／分〜１０００リットル／分であることがさらに好ましい。
有機含窒素化合物含有ガスにおける有機含窒素化合物の濃度は、特に限定されない。有機含窒素化合物含有ガスにおける有機含窒素化合物の濃度は、例えば、５ｐｐｍ〜５００００ｐｐｍであることが好ましく、１００ｐｐｍ〜３００００ｐｐｍであることがより好ましく、５００ｐｐｍ〜５０００ｐｐｍであることがさらに好ましい。
（検知部３６）
処理装置１は、検知部３６をさらに備える。検知部３６は、処理済みガスが供給されるように設けられている。具体的には、検知部３６は、排気管３５に設けられている。このため、本実施形態では、すべての処理済みガスが検知部３６を経由して処理装置１外に排気される。もっとも、処理済みガスの一部が検知部３６に供給されるように構成されていてもよい。
処理装置１は、検知部３６をさらに備える。検知部３６は、処理済みガスが供給されるように設けられている。具体的には、検知部３６は、排気管３５に設けられている。このため、本実施形態では、すべての処理済みガスが検知部３６を経由して処理装置１外に排気される。もっとも、処理済みガスの一部が検知部３６に供給されるように構成されていてもよい。
図２に、検知部３６の模式的断面図を示す。検知部３６は、検知部本体３６ａを有する。検知部本体３６ａの内部には、排気管３５に接続された内部空間が区画形成されている。この内部空間内に、検知剤３６ｂが収容されている。検知剤３６ｂは、有機含窒素化合物と接触した際に色度が変化する。検知部本体３６ａには、検知剤３６ｂが収容された内部空間に臨む観察窓３６ａ１が設けられている。この観察窓３６ａ１を通して、検知剤３６ｂの色度を観察することができる。よって、例えば、処理装置１の操作者が観察窓３６ａ１を通して検知剤３６ｂを観察することにより、処理剤３４の処理能力が所望する処理能力よりも低くなっていないか（処理剤３４が寿命を迎えていないか）を確認することができる。
処理剤の劣化度合いを管理する方法としては、処理剤の重量を管理する方法も考えられる。処理剤の重量増加量は、処理剤により吸着されたり、吸収されたりした化合物の重量と実質的に等しくなる。このため、処理剤の重量を管理することにより、吸着された化合物の重量を管理することができるためである。例えば、処理の対象となる化合物が、アンモニア１種類のみであるような場合には、吸着された化合物の重量、すなわち、処理剤の重量増加量と、処理剤の現処理能力とに高い相関がみられるため、好ましく適用される。
しかしながら、複数種類の有機含窒素化合物を含む有機含窒素化合物ガスを処理する場合には、吸着された化合物の重量、すなわち、処理剤の重量増加量と、処理剤の現処理能力とが高い相関関係にあるとは必ずしもいえない。例えば、有機含窒素化合物ガスに含まれる有機含有窒素化合物の種類が変化したり、有機含窒素化合物ガスにおける複数種類の有機含窒素化合物の含有比率が変化したりした場合には、吸着された化合物の重量と、処理剤の現処理能力との間の関係が変化する。従って、処理剤の重量を管理する方法では、処理剤の処理能力を高精度に管理することが困難である。
それに対して、本実施形態のように、有機含窒素化合物と接触した際に色相が変化する検知剤３６ｂを含む検知部３６を設けた場合は、処理室１０から排出される処理済みガスに所定の濃度以上の濃度で有機含窒素化合物が含まれているか否かを直接的に検知することができる。複数種類の有機含窒素化合物のいずれと接触した際にも色相が変化する検知剤３６ｂを用いることにより、処理済みガスに、複数種類の有機含窒素化合物のいずれかひとつでも所定濃度以上で含まれていた場合には、処理済みガスに有機含窒素化合物が含まれることを確実に検知することができる。従って、本実施形態では、検知剤３６ｂの処理能力が所望する処理能力を下回ると予想されるよりも早期に検知剤３６ｂを交換する必要は必ずしもない。検知剤３６ｂの処理能力が低下し、処理済みガスに有機含窒素化合物が含まれるようになるまで検知剤３６ｂを使用することができる。従って、有機含窒素化合物含有ガスの処理に要するコストを低減することができる。
検知剤３６ｂは、有機含窒素化合物と接触した際に、色度を構成している色相と彩度とのうち、少なくとも色相が変化するものであることが好ましい。検知剤３６ｂの変化が観察されやすいためである。検知剤３６ｂは、例えば、有機含窒素化合物と接触した際に黄色から青色に変化するものであってもよい。
有機含窒素化合物と接触した際に色度が変化する検知剤３６ｂとしては、例えば、ｐＨが変化した際に色度が変化するｐＨ検知剤、有機含窒素化合物と反応して、反応前とは異なる色度を有する化合物に変化する検知剤などが挙げられる。ｐＨが変化した際に色度が変化するｐＨ検知剤の具体例としては、例えば、フェノールフタレイン、リトマス等が挙げられる。有機含窒素化合物と反応して、反応前とは異なる色度を有する化合物に変化する検知剤の具体例としては、例えば、チモールブルー、ブロモチモールブルー等が挙げられる。
図３に示されるように、検知剤３６ｂの色度を測定する測定部３６ｃを設けてもよい。例えば、測定部３６ｃは、測定した検知剤３６ｂの色度と、処理能力が劣化したと判断する色度として、予め設定された色度とを比較し、処理剤３４の劣化度合いを判定する。このような測定部３６ｃを設けることにより、処理剤３４の劣化度合いを正確に測定することができる。測定部３６ｃは、例えば、色度計、色相判別器（カラーセンサー）等により構成することができる。
測定部３６ｃを設け、処理剤３４の寿命を自動的に測定する場合は、測定部３６ｃが処理剤３４の処理能力が予め定められた処理能力よりも低くなったと判断した際に、処理装置１の操作者等に放置する報知部をさらに設けてもよい。
（有機含窒素化合物）
有機含窒素化合物は、窒素を含む有機物である。有機含窒素化合物は、例えば、アミン化合物、イミン化合物、複数種類のアミン化合物が結合した化合物、及び、少なくとも一種のアミン化合物と少なくとも一種のイミン化合物とが結合した化合物からなる群より選ばれた少なくとも１種を含んでいてもよい。有機含窒素化合物は、例えば、モノアルキルアミン、一般式（ａ）で表される化合物、一般式（ｂ）で表される化合物、一般式（ｃ）で表される化合物、一般式（ｄ）で表される化合物、一般式（ｅ）で表される化合物、一般式（ｆ）で表される化合物、一般式（ｇ）で表される化合物、一般式（ｈ）で表される化合物及び一般式（ｉ）で表される化合物からなる群から選ばれた少なくとも１種を含んでいてもよい。なお、モノアルキルアミンの具体例としては、例えば、モノメチルアミン、ｔ−ブチルアミンなどが挙げられる。
有機含窒素化合物は、窒素を含む有機物である。有機含窒素化合物は、例えば、アミン化合物、イミン化合物、複数種類のアミン化合物が結合した化合物、及び、少なくとも一種のアミン化合物と少なくとも一種のイミン化合物とが結合した化合物からなる群より選ばれた少なくとも１種を含んでいてもよい。有機含窒素化合物は、例えば、モノアルキルアミン、一般式（ａ）で表される化合物、一般式（ｂ）で表される化合物、一般式（ｃ）で表される化合物、一般式（ｄ）で表される化合物、一般式（ｅ）で表される化合物、一般式（ｆ）で表される化合物、一般式（ｇ）で表される化合物、一般式（ｈ）で表される化合物及び一般式（ｉ）で表される化合物からなる群から選ばれた少なくとも１種を含んでいてもよい。なお、モノアルキルアミンの具体例としては、例えば、モノメチルアミン、ｔ−ブチルアミンなどが挙げられる。
より具体的には、有機含窒素化合物含有ガスは、例えば、窒素を含む配位子を有する金属錯体を用いて例えば、金属膜や金属酸化物膜などの膜を製造する際に、窒素を含む配位子を有する金属錯体が反応、分解等することにより生じる。このため、有機含窒素化合物含有ガスは、窒素を含む配位子を有する金属錯体を用いて膜を製造する際に発生したガスを含んでいてもよい。
窒素を含む配位子を有する金属錯体としては、例えば、（アミドアミノアルカン）金属化合物が挙げられる。（アミドアミノアルカン）金属化合物は、下記一般式（１）で示される。
一般式（１）において、ｎは、配位子の数を示す整数である。ｎは、金属Ｍの価数と等しく、通常１〜３の整数である。ｎが２以上の場合、２つ以上の配位子は同一であってもよく、異なっていてもよい。なお、配位子が２種以上の混合物の場合には、複数種の錯体ができることもある。
式（ａ）〜（ｉ）及び式（１）において、Ｒ１は、炭素原子数１〜６の直鎖状、分岐状または環状のアルキル基を示す。炭素原子数１〜６の直鎖状、分岐状または環状のアルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、シクロプロピル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、シクロブチル基、ｔ−ペンチル基、ネオペンチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。Ｒ１は、炭素原子数１〜６の直鎖状または分岐状のアルキル基であることが好ましく、炭素原子数１〜５の直鎖状または分岐状のアルキル基であることがより好ましく、炭素原子数２〜５の直鎖状または分岐状のアルキル基であることがさらに好ましく、炭素原子数３〜５の直鎖状または分岐状のアルキル基であることがなお好ましい。具体的には、Ｒ１は、イソプロピル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｔ−ペンチル基であることが特に好ましい。ＭがＭｇ（マグネシウム）またはＺｎ（亜鉛）の場合は、Ｒ１がメチル基以外の基であることが好ましい。ＭがＢｉ（ビスマス）の場合は、Ｒ１がｔ−ブチル基以外の基であることが好ましい。
式（ａ）〜（ｉ）及び式（１）において、Ｒ２及びＲ３は、それぞれ、炭素原子数１〜３の直鎖状または分岐状のアルキル基を示す。炭素原子数１〜３の直鎖状または分岐状のアルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基等が挙げられる。Ｒ２及びＲ３は、互いに結合して環（例えば、５員環や６員環など）を形成していてもよい。なかでも、Ｒ２及びＲ３は、それぞれ、炭素原子数１〜２のアルキル基（メチル基、エチル基）であることが好ましい。なお、Ｒ２及びＲ３は、同一であってもよく、異なっていてもよい。
Ｚは、単結合、あるいは炭素原子数１〜５の直鎖状または分岐状のアルキレン基を示す。Ｚの一部は、環を形成していてもよい。Ｚは、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等のシクロアルキル基を含んでいてもよい。但し、Ｚは、シクロアルキル基を含まない炭素原子数１〜１０、好ましくは、炭素原子数１〜５の直鎖状または分岐状のアルキレン基であることが好ましい。Ｚの好ましい具体例としては、例えば、メチレン基、エチレン基、トリメチレン基、メチルエチレン基、１，２−ジメチルエチレン基、１，１−ジメチルエチレン基、テトラエチレン基、２−メチルトリメチレン基、ヘキサメチレン基等などが挙げられる。Ｚが直鎖状のアルキレン基である場合は、Ｚにおける炭素原子数は、１〜３であることが好ましく、２であることがより好ましい。Ｚが分岐状のアルキレン基である場合は、Ｚは、例えば、下記の一般式で表される置換基であることが好ましい。
上記一般式において、Ｒは炭素原子数１〜６の直鎖状または分岐状アルキル基、または炭素原子数３〜６のシクロアルキル基を示す。炭素原子数１〜６の直鎖状または分岐状アルキル基の具体例としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ヘプチル基、ヘキシル基等が挙げられる。炭素原子数３〜６のシクロアルキル基の具体例としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。Ｒは、炭素原子数１〜６の直鎖状または分岐状のアルキル基であることが好ましく、炭素原子数１〜４の直鎖状または分岐状のアルキル基であることがより好ましく、炭素原子数１〜３の直鎖状のアルキル基であることが更に好ましく、メチル基であることが特に好ましい。Ｚ１がメチレン基である場合は、Ｒが炭素原子数１〜３の直鎖状のアルキル基、より好ましくはメチル基であることが好ましい。
（アミドアミノアルカン）金属化合物の具体例としては、例えば、ビス（アミドアミノアルカン）マグネシウム化合物、（アミドアミノアルカン）リチウム化合物、ビス（アミドアミノアルカン）コバルト化合物、ビス（アミドアミノアルカン）マンガン化合物、ビス（アミドアミノアルカン）亜鉛化合物、ビス（アミドアミノアルカン）鉄化合物、ビス（アミドアミノアルカン）ニッケル化合物、トリス（アミドアミノアルカン）インジウム化合物、トリス（アミドアミノアルカン）イットリウム化合物、トリス（アミドアミノアルカン）ランタン化合物などが挙げられる。
（処理剤３４）
処理剤３４は、例えば、有機含窒素化合物を吸着するものであってもよいし、吸収するものであってもよい。このような処理剤３４の具体例としては、活性白土、ゼオライト、活性炭、シリカゲル、酸化鉄、硫化鉄などが挙げられる。活性白土、ゼオライト、活性炭が処理剤３４として好ましく用いられ、なかでも、活性白土及びゼオライトが処理剤３４としてより好ましく用いられる。処理剤３４としては、Ｘ型のゼオライト、バインダーレスのゼオライトがより好ましく用いられる。なお、処理剤３４は、複数種類の処理剤を含んでいてもよい。
処理剤３４は、例えば、有機含窒素化合物を吸着するものであってもよいし、吸収するものであってもよい。このような処理剤３４の具体例としては、活性白土、ゼオライト、活性炭、シリカゲル、酸化鉄、硫化鉄などが挙げられる。活性白土、ゼオライト、活性炭が処理剤３４として好ましく用いられ、なかでも、活性白土及びゼオライトが処理剤３４としてより好ましく用いられる。処理剤３４としては、Ｘ型のゼオライト、バインダーレスのゼオライトがより好ましく用いられる。なお、処理剤３４は、複数種類の処理剤を含んでいてもよい。
また、処理剤３４は、有機含窒素化合物を分解させたり、反応させたりする触媒であってもよい。
処理剤３４は、例えば、粉末状であってもよいし、粒状、タブレット状などであってもよい。なかでも、処理剤３４が粒子状である場合、処理剤３４の粒子径は、０．１ｍｍ〜５ｍｍであることが好ましく、０．５ｍｍ〜２ｍｍであることがより好ましい。
（成膜装置２）
本実施形態の処理装置１は、有機含窒素化合物含有ガスが排出される装置に好適に使用される。具体的には、例えば、処理装置１は、図４に示される成膜装置２に対して好適に使用される。成膜装置２は、窒素を含む配位子を有する金属錯体を用いて、金属膜や金属酸化物膜等を成膜する装置である。
本実施形態の処理装置１は、有機含窒素化合物含有ガスが排出される装置に好適に使用される。具体的には、例えば、処理装置１は、図４に示される成膜装置２に対して好適に使用される。成膜装置２は、窒素を含む配位子を有する金属錯体を用いて、金属膜や金属酸化物膜等を成膜する装置である。
図４に示されるように、成膜装置２は、成膜室４１を有する。成膜室４１は、膜を成膜するための部屋である。成膜室４１には、供給部４０が接続されている。供給部４０は、膜の原料として、例えば上記一般式（１）で示される金属錯体などのような、窒素を含む配位子を有する金属錯体を成膜室４１に供給する。成膜室４１において、供給部４０から供給された金属錯体を原料として成膜が行われる。成膜室４１において行われる成膜の方法は、特に限定されない。成膜室４１は、例えば、化学気相蒸着（Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｖａｐｏｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ：ＣＶＤ）法や、原子層堆積（Ａｔｏｍｉｃ Ｌａｙｅｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ：ＡＬＤ）法などにより金属膜や、金属酸化物膜等を成膜する部屋であってもよい。
窒素を含む配位子を有する金属錯体は、成膜しようとする膜の種類によって適宜選択することができる。窒素を含む配位子を有する金属錯体としては、例えば、上記 一般式（１）で示される（アミドアミノアルカン）金属化合物が挙げられる。
成膜装置２は、処理装置１を有する。上述の通り、処理装置１を用いることにより、有機含窒素化合物含有ガスの処理に要するコストを低減することができる。このため、成膜装置２を用いることにより、成膜コストを低減することができる。
また、処理装置１と成膜室４１との間に、固形物をトラップするトラップ４２が設けられている。このため、処理装置１に固形物が流入することが抑制されている。
１：処理装置
２：成膜装置
１０：処理室
１１：導入口
１２：排出口
３３：導入管
３４：処理剤
３５：排気管
３６：検知部
３６ａ：検知部本体
３６ａ１：観察窓
３６ｂ：検知剤
３６ｃ：測定部
４０：供給部
４１：成膜室
４２：トラップ
２：成膜装置
１０：処理室
１１：導入口
１２：排出口
３３：導入管
３４：処理剤
３５：排気管
３６：検知部
３６ａ：検知部本体
３６ａ１：観察窓
３６ｂ：検知剤
３６ｃ：測定部
４０：供給部
４１：成膜室
４２：トラップ
Claims (6)
- 複数種類の有機含窒素化合物を含む有機含窒素化合物含有ガスの処理装置であって、
前記有機含窒素化合物含有ガスに含まれる前記複数種類の有機含窒素化合物の濃度を低減させる処理室と、
前記処理室において処理されたガスが供給されるように設けられており、前記有機含窒素化合物と接触した際に色度が変化する検知剤を含む検知部と、
を備え、
前記有機含窒素化合物含有ガスが、窒素を含む配位子を有する金属錯体が反応して生じたガス、窒素を含む配位子を有する金属錯体が分解して生じたガス、及び、窒素を含む配位子を有する金属錯体の反応物が分解して生じたガスの少なくとも一種を含み、
前記金属錯体が、下記の一般式（１）で表される金属錯体であり、
（式中、Ｍは、マンガン、コバルト及び鉄の少なくとも一種である。Ｒ １ は、炭素原子数１〜６の直鎖状、分岐状または環状のアルキル基を示す。Ｒ ２ 及びＲ ３ は、それぞれ、炭素原子数１〜３の直鎖状または分岐状のアルキル基を示す。Ｒ ２ 及びＲ ３ は、同一であってもよく、異なっていてもよい。Ｚは、−ＣＨ ２ ＣＨ ２ −、−ＣＨ ２ ＣＨ ２ ＣＨ ２ −、又は−ＣＨＣＨ ３ ＣＨ ２ −を示す。ｎは、配位子の数を示し、金属Ｍの価数に等しく、１〜３の整数である。）
前記有機含窒素化合物が、モノアルキルアミン、一般式（ａ）で表される化合物、一般式（ｂ）で表される化合物、一般式（ｃ）で表される化合物、一般式（ｄ）で表される化合物、一般式（ｆ）で表される化合物、一般式（ｇ）で表される化合物、一般式（ｈ）で表される化合物及び一般式（ｉ）で表される化合物からなる群から選ばれた少なくとも１種を含む、有機含窒素化合物含有ガスの処理装置。
（式中、Ｒ １ は、炭素原子数１〜６の直鎖状、分岐状または環状のアルキル基を示す。Ｒ ２ 及びＲ ３ は、それぞれ、炭素原子数１〜３の直鎖状または分岐状のアルキル基を示す。Ｒ ２ 及びＲ ３ は、同一であってもよく、異なっていてもよい。Ｒ ２ 及びＲ ３ は、互いに結合して環を形成していてもよい。Ｚは、単結合、あるいは炭素原子数１〜５の直鎖状または分岐状のアルキレン基を示す。） - 前記検知剤は、有機含窒素化合物と接触した際に色相が変化する、請求項１に記載の有機含窒素化合物含有ガスの処理装置。
- 前記検知部は、前記検知剤の色度を測定する測定部を有する、請求項１または２に記載の有機含窒素化合物含有ガスの処理装置。
- 膜を成膜するための成膜室と、
前記膜の原料として、下記の一般式（１）で表される金属錯体を供給する供給部と、
前記成膜室から排出される、複数種類の有機含窒素化合物を含む有機含窒素化合物含有ガスに含まれる前記複数種類の有機含窒素化合物の濃度を低減させる処理室と、
前記処理室において処理されたガスが供給されるように設けられており、前記有機含窒素化合物と接触した際に色度が変化する検知剤を含む検知部と、
を備え、
前記有機含窒素化合物が、モノアルキルアミン、一般式（ａ）で表される化合物、一般式（ｂ）で表される化合物、一般式（ｃ）で表される化合物、一般式（ｄ）で表される化合物、一般式（ｆ）で表される化合物、一般式（ｇ）で表される化合物、一般式（ｈ）で表される化合物及び一般式（ｉ）で表される化合物からなる群から選ばれた少なくとも１種を含む、成膜装置。
（式中、Ｍは、マンガン、コバルト及び鉄の少なくとも一種である。Ｒ １ は、炭素原子数１〜６の直鎖状、分岐状または環状のアルキル基を示す。Ｒ ２ 及びＲ ３ は、それぞれ、炭素原子数１〜３の直鎖状または分岐状のアルキル基を示す。Ｒ ２ 及びＲ ３ は、同一であってもよく、異なっていてもよい。Ｚは、−ＣＨ ２ ＣＨ ２ −、−ＣＨ ２ ＣＨ ２ ＣＨ ２ −、又は−ＣＨＣＨ ３ ＣＨ ２ −を示す。ｎは、配位子の数を示し、金属Ｍの価数に等しく、１〜３の整数である。）
（式中、Ｒ １ は、炭素原子数１〜６の直鎖状、分岐状または環状のアルキル基を示す。Ｒ ２ 及びＲ ３ は、それぞれ、炭素原子数１〜３の直鎖状または分岐状のアルキル基を示す。Ｒ ２ 及びＲ ３ は、同一であってもよく、異なっていてもよい。Ｒ ２ 及びＲ ３ は、互いに結合して環を形成していてもよい。Ｚは、単結合、あるいは炭素原子数１〜５の直鎖状または分岐状のアルキレン基を示す。） - 複数種類の有機含窒素化合物を含む有機含窒素化合物含有ガスの処理方法であって、
前記有機含窒素化合物含有ガスに含まれる前記複数種類の有機含窒素化合物の濃度を低減させる処理工程と、
前記処理工程において処理されたガスが供給されるように設けられており、前記有機含窒素化合物と接触した際に色度が変化する検知剤により前記有機含窒素化合物を検知する工程と、
を備え、
前記有機含窒素化合物含有ガスが、窒素を含む配位子を有する金属錯体が反応して生じたガス、窒素を含む配位子を有する金属錯体が分解して生じたガス、及び、窒素を含む配位子を有する金属錯体の反応物が分解して生じたガスの少なくとも一種を含み、
前記金属錯体が、下記の一般式（１）で表される金属錯体であり、
（式中、Ｍは、マンガン、コバルト及び鉄の少なくとも一種である。Ｒ １ は、炭素原子数１〜６の直鎖状、分岐状または環状のアルキル基を示す。Ｒ ２ 及びＲ ３ は、それぞれ、炭素原子数１〜３の直鎖状または分岐状のアルキル基を示す。Ｒ ２ 及びＲ ３ は、同一であってもよく、異なっていてもよい。Ｚは、−ＣＨ ２ ＣＨ ２ −、−ＣＨ ２ ＣＨ ２ ＣＨ ２ −、又は−ＣＨＣＨ ３ ＣＨ ２ −を示す。ｎは、配位子の数を示し、金属Ｍの価数に等しく、１〜３の整数である。）
前記有機含窒素化合物が、モノアルキルアミン、一般式（ａ）で表される化合物、一般式（ｂ）で表される化合物、一般式（ｃ）で表される化合物、一般式（ｄ）で表される化合物、一般式（ｆ）で表される化合物、一般式（ｇ）で表される化合物、一般式（ｈ）で表される化合物及び一般式（ｉ）で表される化合物からなる群から選ばれた少なくとも１種を含む、有機含窒素化合物含有ガスの処理方法。
（式中、Ｒ １ は、炭素原子数１〜６の直鎖状、分岐状または環状のアルキル基を示す。Ｒ ２ 及びＲ ３ は、それぞれ、炭素原子数１〜３の直鎖状または分岐状のアルキル基を示す。Ｒ ２ 及びＲ ３ は、同一であってもよく、異なっていてもよい。Ｒ ２ 及びＲ ３ は、互いに結合して環を形成していてもよい。Ｚは、単結合、あるいは炭素原子数１〜５の直鎖状または分岐状のアルキレン基を示す。） - 下記の一般式（１）で表される金属錯体を用いて成膜する成膜工程と、
前記成膜工程から排出される、複数種類の有機含窒素化合物を含む有機含窒素化合物含有ガスに含まれる前記複数種類の有機含窒素化合物の濃度を低減させる処理工程と、
前記処理工程において処理されたガスが供給されるように設けられており、前記有機含窒素化合物と接触した際に色度が変化する検知剤により前記有機含窒素化合物を検知する検知工程と、
を備え、
前記有機含窒素化合物が、モノアルキルアミン、一般式（ａ）で表される化合物、一般式（ｂ）で表される化合物、一般式（ｃ）で表される化合物、一般式（ｄ）で表される化合物、一般式（ｆ）で表される化合物、一般式（ｇ）で表される化合物、一般式（ｈ）で表される化合物及び一般式（ｉ）で表される化合物からなる群から選ばれた少なくとも１種を含む、成膜方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2013090066A JP6123455B2 (ja) | 2012-04-27 | 2013-04-23 | 有機含窒素化合物含有ガスの処理装置及び成膜装置 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2012103126 | 2012-04-27 | ||
| JP2012103126 | 2012-04-27 | ||
| JP2013090066A JP6123455B2 (ja) | 2012-04-27 | 2013-04-23 | 有機含窒素化合物含有ガスの処理装置及び成膜装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2013240780A JP2013240780A (ja) | 2013-12-05 |
| JP6123455B2 true JP6123455B2 (ja) | 2017-05-10 |
Family
ID=49842217
Family Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2013090065A Active JP6123454B2 (ja) | 2012-04-27 | 2013-04-23 | 有機含窒素化合物含有ガスの処理装置、有機含窒素化合物含有ガスの処理剤及び成膜装置 |
| JP2013090066A Active JP6123455B2 (ja) | 2012-04-27 | 2013-04-23 | 有機含窒素化合物含有ガスの処理装置及び成膜装置 |
Family Applications Before (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2013090065A Active JP6123454B2 (ja) | 2012-04-27 | 2013-04-23 | 有機含窒素化合物含有ガスの処理装置、有機含窒素化合物含有ガスの処理剤及び成膜装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (2) | JP6123454B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP6602709B2 (ja) * | 2016-03-23 | 2019-11-06 | 大陽日酸株式会社 | 排ガス処理装置、及び排ガス処理方法 |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6500487B1 (en) * | 1999-10-18 | 2002-12-31 | Advanced Technology Materials, Inc | Abatement of effluent from chemical vapor deposition processes using ligand exchange resistant metal-organic precursor solutions |
| JP4195831B2 (ja) * | 2003-05-29 | 2008-12-17 | 日本パイオニクス株式会社 | 有害ガスの検知方法 |
| JP4791049B2 (ja) * | 2005-02-16 | 2011-10-12 | ニチアス株式会社 | エアフィルタ用シート及びその製造方法並びにエアフィルタ |
| US20080254218A1 (en) * | 2007-04-16 | 2008-10-16 | Air Products And Chemicals, Inc. | Metal Precursor Solutions For Chemical Vapor Deposition |
-
2013
- 2013-04-23 JP JP2013090065A patent/JP6123454B2/ja active Active
- 2013-04-23 JP JP2013090066A patent/JP6123455B2/ja active Active
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP6123454B2 (ja) | 2017-05-10 |
| JP2013240779A (ja) | 2013-12-05 |
| JP2013240780A (ja) | 2013-12-05 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| Wu et al. | Tiered electron anions in multiple voids of LaScSi and their applications to ammonia synthesis | |
| Qin et al. | Aqueous-phase detection of antibiotics and nitroaromatic explosives by an alkali-resistant Zn-MOF directed by an ionic liquid | |
| Li et al. | A Luminescent Metal–Organic Framework as a Turn‐On Sensor for DMF Vapor | |
| TW544722B (en) | Abatement of effluent from chemical vapor depositon processes using ligand exchange resistant metal-organic precursor solutions | |
| Korhonen et al. | Isolated Cu 2+ ions: active sites for selective catalytic reduction of NO | |
| Azis et al. | On the role of H 2 to modify surface NO x species over Ag–Al 2 O 3 as lean NO x reduction catalyst: TPD and DRIFTS studies | |
| RU2010102885A (ru) | Способ выделения диоксида углерода из дымовых газов и соответствующее устройство | |
| US10261022B1 (en) | Self-indicating zirconium hydroxide and other porous metal hydroxides incorporating additional metals, metal oxides, and/or metal salts for toxic chemical removal and sensing | |
| JP6123455B2 (ja) | 有機含窒素化合物含有ガスの処理装置及び成膜装置 | |
| Vellingiri et al. | Validation of ‘lock-and-key’mechanism of a metal–organic framework in selective sensing of triethylamine | |
| Du et al. | Self-assembly of two supramolecular indium (iii) metal–organic frameworks for reversible iodine capture and large band gap change semiconductor behavior | |
| CN103086422A (zh) | 用来处理具有外皮的SnO的方法 | |
| US10406513B2 (en) | Method for the conversion of nitrous acid to dinitrogen gas | |
| Ye et al. | New insights into the NH 3-selective catalytic reduction of NO over Cu-ZSM-5 as revealed by operando spectroscopy | |
| Zhang et al. | NO decomposition and reduction by CH4 over Sr/La2O3 | |
| Cooper et al. | Decomposition of ammonia over quartz sand at 840-960. degree. C | |
| Li et al. | Mechanistic study of selective catalytic reduction of NO with NH 3 over highly dispersed Fe 2 O 3 loaded on Fe-ZSM-5 | |
| CN103541797B (zh) | 检测废气，特别是内燃机废气中所含的含氮化合物的方法 | |
| KR20120062223A (ko) | 수은 이온 선택성을 갖는 파이렌계 화합물 및 이를 이용한 수은 이온 검출 시스템 | |
| KR100378573B1 (ko) | 검지제 | |
| Şirikci et al. | Synthesis, spectral, theoretical studies and in vitro antimicrobial activities of novel diphenyltin (IV) complexes of Schiff bases derived from phenacylamine | |
| JP3554390B2 (ja) | デカボランガスの酸化処理法 | |
| JP4012102B2 (ja) | 金属化合物を含むガスの検知剤及び検知方法 | |
| Mondal et al. | Two CdII/CoII‐Imidazolate Coordination Polymers: Syntheses, Crystal Structures, Stabilities, and Luminescent/Magnetic Properties | |
| JP4195831B2 (ja) | 有害ガスの検知方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20160229 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20161221 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20170110 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20170220 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20170307 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20170320 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6123455 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |