JP6113555B2 - 光学フィルム - Google Patents

Description

本発明は、光学フィルムに関する。

近年、フラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ：例えば、液晶表示装置、有機ＥＬ表示装置）のような表示装置は、軽量・薄型化が進んでいる。表示装置の軽量・薄型化を図るため、表示装置の基板として、従来のガラス基板に置き換えて、樹脂から形成される光学フィルムを含む基板を用いることが提案されている（例えば、特許文献１、２、３）。該光学フィルは、単独で、または薄型ガラスと組み合わせて、基板を構成する。樹脂から形成される光学フィルムを用いれば、軽量・薄型の基板が得られる。しかし、従来の樹脂から形成される光学フィルムは、位相差が大きく、表示装置の表示特性に悪影響を及ぼすという問題がある。また、該光学フィルムは、耐熱性が悪く、表示装置の製造工程において高温に曝されて、劣化する、寸法変化が生じる等の問題がある。

特開平１１−３２９７１５号公報 特開２００８−１０７５１０号公報 特表２００２−５４２９７１号公報

本発明は上記の課題を解決するためになされたものであり、その目的とするところは、耐熱性に優れ、かつ、位相差が小さい光学フィルムを提供することにある。

本発明の光学フィルムは、下記一般式（ａ１）で表される繰り返し単位および下記一般式（ａ２）で表される繰り返し単位から選ばれる少なくとも１種の繰り返し単位を有する。

式（ａ１）および（ａ２）中、Ｚ^１１、Ｚ^１２、Ｚ^２１およびＺ^２２はそれぞれ独立して、シクロアルカンまたは芳香族環を含む置換基であり、Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^２１およびＲ^２２はそれぞれ独立して、水素原子、シクロアルカン、芳香族環または炭素数が１〜５の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基であり、Ｒ^１３〜Ｒ^１６およびＲ^２３〜Ｒ^２６はそれぞれ独立して、水素原子または炭素数が１〜５の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基であり、Ａ^１１、Ａ^１２、Ａ^２１およびＡ^２２はそれぞれ独立して上記一般式（１）〜（５）で表される連結基から選ばれる少なくとも１種であり、Ｘ^１１は、パラ位またはメタ位で、該連結基Ａ^１２と、該連結基Ａ^１１またはＡ^２１とに連結する１個以上の芳香族環であり、Ｘ^２１は、パラ位またはメタ位で、該連結基Ａ^２２と、該連結基Ａ^２１またはＡ^１１とに連結する１個以上の芳香族環である。
好ましい実施形態においては、上記芳香族系樹脂が、下記一般式（ｂ１）〜（ｂ４）で表される繰り返し単位から選ばれる少なくとも１種の繰り返し単位をさらに有する。

式（ｂ１）〜（ｂ４）中、Ｒ^３３〜Ｒ^３６、Ｒ^４３〜Ｒ^４６、Ｒ^５３〜Ｒ^５６およびＲ^６３〜Ｒ^６６、はそれぞれ独立して、水素原子または炭素数が１〜５の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基であり、Ａ^３１、Ａ^３２、Ａ^４１、Ａ^４２、Ａ^５１、Ａ^５２、Ａ^６１およびＡ^６２はそれぞれ独立して上記一般式（１）〜（５）で表される連結基から選ばれる少なくとも１種であり、式（ｂ１）中、Ｘ^３１は、パラ位またはメタ位で、該連結基Ａ^３２と、該連結基Ａ^３１、前記式（ａ１）中のＡ^１１、前記式（ａ２）中のＡ^２１、該式（ｂ２）中のＡ^４１、該式（ｂ３）中のＡ^５１または該式（ｂ４）中のＡ^６１とに連結する１個以上の芳香族環であり、（ｂ２）中、Ｒ^４７〜Ｒ^５０はそれぞれ独立して、水素原子または炭素数が１〜５の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基であり、Ｘ^４１は、パラ位またはメタ位で、該連結基Ａ^４２と、該連結基Ａ^４１、前記式（ａ１）中のＡ^１１、前記式（ａ２）中のＡ^２１、該式（ｂ１）中のＡ^３１、該式（ｂ３）中のＡ^５１または該式（ｂ４）中のＡ^６１とに連結する１個以上の芳香族環であり、式（ｂ３）中、Ｒ^５７〜Ｒ^５９はそれぞれ独立して、水素原子または炭素数が１〜５の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基であり、Ｘ^５１は、パラ位またはメタ位で、該連結基Ａ^５２と、該連結基Ａ^５１、前記式（ａ１）中のＡ^１１、前記式（ａ２）中のＡ^２１、該式（ｂ１）中のＡ^３１、該式（ｂ２）中のＡ^４１または該式（ｂ４）中のＡ^６１とに連結する１個以上の芳香族環であり、式（ｂ４）中、Ｒ^６７およびＲ^６８はそれぞれ独立して、水素原子または炭素数が１〜５の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基である。Ｒ^６９およびＲ^７０はそれぞれ独立して、水素原子、炭素数が１〜５の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基、ハロゲン原子、メチルエチニル基、フェニルエチニル基、エチルエチニル基またはアルコキシ基であり、Ｘ^６１は、パラ位またはメタ位で、該連結基Ａ^６２と、該連結基Ａ^６１、前記式（ａ１）中のＡ^１１、前記式（ａ２）中のＡ^２１、該式（ｂ１）中のＡ^３１、該式（ｂ２）中のＡ^４１または該式（ｂ３）中のＡ^５１とに連結する１個以上の芳香族環である。
好ましい実施形態においては、本発明の光学フィルムは、面内位相差Ｒｅが、２０ｎｍ以下である。
好ましい実施形態においては、本発明の光学フィルムは、厚み方向の位相差Ｒｔｈが、１００ｎｍ以下である。
好ましい実施形態においては、本発明の光学フィルムは、全光線透過率が、８５％以上である。
好ましい実施形態においては、上前記芳香族系樹脂のガラス転移温度が、２００℃以上である。
好ましい実施形態においては、上記芳香族系樹脂の重量平均分子量が、ポリスチレン換算で、４００００〜２０００００である。
好ましい実施形態においては、上記芳香族系樹脂が、トルエンおよび／またはキシレンを５０％以上含有する溶媒に可溶である。
本発明の別の局面によれば、透明基板が提供される。この透明基板は上記光学フィルムと、厚さが１００μｍ以下の無機ガラスとを備える。
好ましい実施形態においては、上記透明基板は、総厚が１５０μｍ以下である。
好ましい実施形態においては、上記透明基板は、クラックを入れ屈曲させた際の破断直径が５０ｍｍ以下である。
本発明のさらに別の局面によれば、表示素子が提供される。この表示素子は、上記光学フィルムを用いて作製される。
本発明のさらに別の局面によれば、太陽電池が提供される。この太陽電池は、上記光学フィルムを用いて作製される。
本発明のさらに別の局面によれば、照明素子が提供される。この照明素子は、上記光学フィルムを用いて作製される。

本発明によれば、特定の繰り返し単位を有する芳香族系樹脂を用いることにより、耐熱性に優れ、かつ、面内位相差および厚み方向の位相差が小さい光学フィルムを提供することができる。

本発明の好ましい実施形態による透明基板の概略断面図である。

Ａ．光学フィルム
Ａ−１．芳香族系樹脂
本発明の光学フィルムは、下記一般式（ａ１）で表される繰り返し単位（以下、繰り返し単位（ａ１）ともいう）および下記一般式（ａ２）で表される繰り返し単位（以下、繰り返し単位（ａ２）ともいう）から選ばれる少なくとも１種の繰り返し単位を有する芳香族系樹脂を含む。上記芳香族系樹脂がこのような繰り返し単位を有していれば、耐熱性に優れ、かつ、位相差の小さい光学フィルムを得ることができる。なお、本明細書において、下記一般式（ａ１）で表される繰り返し単位および下記一般式（ａ２）で表される繰り返し単位を総称して、「繰り返し単位（Ａ）」ともいう。

式（ａ１）および（ａ２）中、Ｚ^１１、Ｚ^１２、Ｚ^２１およびＺ^２２はそれぞれ独立して、シクロアルカンまたは芳香族環を含む置換基であり、好ましくは炭素数が５〜６のシクロアルカンまたは１個〜２個の芳香族環であり、より好ましくは炭素数が５〜６のシクロアルカンであり、特に好ましくは炭素数６のシクロアルカンである。Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^２１およびＲ^２２はそれぞれ独立して、水素原子、シクロアルカン、芳香族環または炭素数が１〜５の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基であり、好ましくは水素原子、炭素数が５〜６のシクロアルカン、芳香族環または炭素数が１〜５の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基であり、より好ましくは水素原子、メチル基またはｔ−ブチル基である。Ｒ^１３〜Ｒ^１６およびＲ^２３〜Ｒ^２６はそれぞれ独立して、水素原子または炭素数が１〜５の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基であり、より好ましくは水素原子、メチル基またはｔ−ブチル基である。Ａ^１１、Ａ^１２、Ａ^２１およびＡ^２２は、それぞれ独立して上記一般式（１）〜（５）で表される連結基から選ばれる少なくとも１種であり、好ましくは上記一般式（１）〜（３）で表される連結基から選ばれる少なくとも１種であり、より好ましくは上記一般式（１）で表される連結基である。Ｘ^１１は、パラ位またはメタ位で連結基Ａ^１２と連結基Ａ^１１またはＡ^２１とに連結する１個以上の芳香族環である。Ｘ^１１は、好ましくは１個〜２個の芳香族環であり、より好ましくは１個の芳香族環である。Ｘ^２１は、パラ位またはメタ位で連結基Ａ^２２と連結基Ａ^２１またはＡ^１１とに連結する１個以上の芳香族環である。Ｘ^２１は、好ましくは１個〜２個の芳香族環であり、より好ましくは１個の芳香族環である。なお、上記Ｚ^１１、Ｚ^１２、Ｚ^２１、Ｚ^２２、Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^２１、Ｒ^２２、Ｘ^１１およびＸ^２１の芳香族環またはシクロアルカンは置換基を有していてもよく、有していなくてもよい。また、後述のように、芳香族系樹脂が繰り返し単位（Ｂ）を有する場合、Ｘ^１１は、パラ位またはメタ位で、繰り返し単位（ｂ１）の連結基Ａ^３１、繰り返し単位（ｂ２）の連結基Ａ^４１、繰り返し単位（ｂ３）の連結基Ａ^５１または繰り返し単位（ｂ４）の連結基Ａ^６１とも連結し得る。

上記芳香族系樹脂において、繰り返し単位（ａ１）および繰り返し単位（ａ２）の合計含有割合は、芳香族系樹脂を構成する繰り返し単位の総モル数に対して、好ましくは５モル％〜１００モル％であり、より好ましくは１０モル％〜９０モル％であり、特に好ましくは２０モル％〜８０モル％である。このような範囲であれば、耐熱性に優れ、かつ、位相差の小さい光学フィルムを得ることができる。

上記芳香族系樹脂において、繰り返し単位（ａ１）と繰り返し単位（ａ２）との含有比は、任意の適切な値に設定され得る。繰り返し単位（ａ１）と繰り返し単位（ａ２）との含有比により、芳香族系樹脂のガラス転移温度をコントロールすることができる。具体的には、繰り返し単位（ａ１）を多く含む場合は、芳香族系樹脂のガラス転移温度を高くすることができる。１つの実施形態においては、繰り返し単位（ａ１）と繰り返し単位（ａ２）とのモル比（ａ１：ａ２）は、１００：０である。別の実施形態においては、繰り返し単位（ａ１）と繰り返し単位（ａ２）とのモル比（ａ１：ａ２）は、０：１００である。上記芳香族系樹脂が、繰り返し単位（ａ１）と繰り返し単位（ａ２）とを有する場合、これらのモル比（ａ１：ａ２）は、好ましくは８０：２０〜２０：８０であり、より好ましくは６０：４０〜４０：６０である。

好ましくは、上記芳香族系樹脂は、下記一般式（ｂ１）〜（ｂ４）で表される繰り返し単位から選ばれる少なくとも１種の繰り返し単位をさらに有する。上記芳香族系樹脂がこのような繰り返し単位を有していれば、光学フィルムの耐熱性を向上させることができる。下記一般式（ｂ１）〜（ｂ４）で表される繰り返し単位は剛直な構造であるため、該繰り返し単位を有することにより、光学フィルムの耐熱性を向上させることができると考えられる。なお、本明細書において、一般式（ｂ１）〜（ｂ４）で表される繰り返し単位をそれぞれ繰り返し単位（ｂ１）〜（ｂ４）ともいう。また、一般式（ｂ１）〜（ｂ４）で表される繰り返し単位を総称して、「繰り返し単位（Ｂ）」ともいう。

式（ｂ１）〜（ｂ４）中、Ｒ^３３〜Ｒ^３６、Ｒ^４３〜Ｒ^４６、Ｒ^５３〜Ｒ^５６およびＲ^６３〜Ｒ^６６、はそれぞれ独立して、水素原子または炭素数が１〜５の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基であり、より好ましくは水素原子、メチル基またはｔ−ブチル基である。Ａ^３１、Ａ^３２、Ａ^４１、Ａ^４２、Ａ^５１、Ａ^５２、Ａ^６１およびＡ^６２はそれぞれ独立して上記一般式（１）〜（５）で表される連結基から選ばれる少なくとも１種であり、好ましくは上記一般式（１）〜（３）で表される連結基から選ばれる少なくとも１種であり、より好ましくは上記一般式（１）で表される連結基である。
式（ｂ１）中、Ｘ^３１は、パラ位またはメタ位で、連結基Ａ^３２と、連結基Ａ^３１、上記式（ａ１）中の連結基Ａ^１１、上記式（ａ２）中の連結基Ａ^２１、上記式（ｂ２）中の連結基Ａ^４１、上記式（ｂ３）中の連結基Ａ^５１または上記式（ｂ４）中の連結基Ａ^６１とに連結する１個以上の芳香族環である。Ｘ^３１は、好ましくは１個〜２個の芳香族環であり、より好ましくは１個の芳香族環である。
式（ｂ２）中、Ｒ^４７〜Ｒ^５０はそれぞれ独立して、水素原子または炭素数が１〜５の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基である。Ｘ^４１は、パラ位またはメタ位で、連結基Ａ^４２と、連結基Ａ^４１、上記式（ａ１）中の連結基Ａ^１１、上記式（ａ２）中の連結基Ａ^２１、上記式（ｂ１）中の連結基Ａ^３１、上記式（ｂ３）中の連結基Ａ^５１または上記式（ｂ４）中の連結基Ａ^６１とに連結する１個以上の芳香族環である。Ｘ^４１は、好ましくは１個〜２個の芳香族環であり、より好ましくは１個の芳香族環である。
式（ｂ３）中、Ｒ^５７〜Ｒ^５９はそれぞれ独立して、水素原子または炭素数が１〜５の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基である。Ｘ^５１は、パラ位またはメタ位で、連結基Ａ^５２と、連結基Ａ^５１、上記式（ａ１）中の連結基Ａ^１１、上記式（ａ２）中の連結基Ａ^２１、上記式（ｂ１）中の連結基Ａ^３１、上記式（ｂ２）中の連結基Ａ^４１または上記式（ｂ４）中の連結基Ａ^６１とに連結する１個以上の芳香族環である。Ｘ^５１は、好ましくは１個〜２個の芳香族環であり、より好ましくは１個の芳香族環である。
式（ｂ４）中、Ｒ^６７およびＲ^６８はそれぞれ独立して、水素原子または炭素数が１〜５の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基であり、好ましくは水素原子またはメチル基であり、より好ましくはメチル基である。Ｒ^６９およびＲ^７０はそれぞれ独立して、水素原子、炭素数が１〜５の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基、ハロゲン原子、メチルエチニル基、フェニルエチニル基、エチルエチニル基またはアルコキシ基であり、好ましくは水素原子である。Ｘ^６１は、パラ位またはメタ位で、連結基Ａ^６２と、連結基Ａ^６１、上記式（ａ１）中の連結基Ａ^１１、上記式（ａ２）中の連結基Ａ^２１、上記式（ｂ１）中の連結基Ａ^３１、上記式（ｂ２）中の連結基Ａ^４１または上記式（ｂ３）中の連結基Ａ^５１とに連結する１個以上の芳香族環である。Ｘ^６１は、好ましくは１個〜２個の芳香族環であり、より好ましくは１個の芳香族環である。

上記繰り返し単位（Ｂ）の含有割合は、芳香族系樹脂を構成する繰り返し単位の総モル数に対して、好ましくは０モル％〜９０モル％であり、より好ましくは１０モル％〜８０モル％であり、特に好ましくは２０モル％〜８０モル％であり、最も好ましくは２５モル％〜７５モル％である。このような範囲であれば、耐熱性に優れ、かつ、位相差の小さい光学フィルムを得ることができる。

式（ａ１）、（ａ２）および（ｂ１）〜（ｂ４）中のＸとして、パラ位で連結基に連結する芳香族環を有する繰り返し単位（Ａ）および繰り返し単位（Ｂ）の合計と、メタ位で連結基に連結する芳香族環を有する繰り返し単位（Ａ）および繰り返し単位（Ｂ）の合計とのモル比（パラ位：メタ位）は、好ましくは９０：１０〜１０：９０であり、より好ましくは７０：３０〜３０：７０であり、特に好ましくは６０：４０〜４０：６０であり、最も好ましくは６０：４０〜５０：５０である。このような範囲であれば、耐熱性に優れ、かつ、位相差が小さい光学フィルムを得ることができる。

上記芳香族系樹脂の重量平均分子量は、ポリスチレン換算で、好ましくは４００００〜２０００００であり、より好ましくは４５０００〜１８００００である。このような範囲であれば、位相差が小さく、かつ、機械的強度および耐溶剤性に優れる光学フィルムを得ることができる。なお、本明細書における重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）測定（溶媒テトラヒドロフラン）により求めることができる。

上記芳香族系樹脂のガラス転移温度は、好ましくは２００℃以上であり、より好ましくは２３０℃以上であり、特に好ましくは２４０℃以上であり、最も好ましくは２５０℃である。上記芳香族系樹脂のガラス転移温度の上限は、特に制限されないが、通常、３００℃程度である。このような範囲の芳香族系樹脂を含む光学フィルムは耐熱性に優れる。

上記芳香族系樹脂は、好ましくはトルエンおよび／またはキシレンを５０％以上含有する溶媒に可溶であり、さらに好ましくはトルエンおよび／またはキシレンを７０％以上含有する溶媒に可溶であり、特に好ましくはトルエンおよび／またはキシレンを８０％以上含有する溶媒に可溶である。上記芳香族系樹脂がこのような溶媒に可溶であれば、当該芳香族系樹脂を含む溶液を基材に塗工して光学フィルムを得る際に、簡便に塗工工程を行うことができる。

Ａ−２．芳香族系樹脂の重合
上記繰り返し単位（Ａ）を有する芳香族系樹脂は、例えば、下記一般式（ａ１’）および／または（ａ２’）で表されるモノマーと、該モノマーと重合可能な芳香族系モノマーとを含むモノマー組成物を任意の適切な重合方法で重合して得ることができる。なお、本明細書において、下記一般式（ａ１’）および（ａ２’）で表されるモノマーを総称して、「モノマー（Ａ’）」ともいう。

式（ａ１’）および（ａ２’）中、Ｚ^１１、Ｚ^１２、Ｚ^２１、Ｚ^２２、Ｒ^１１〜Ｒ^１６およびＲ^２１〜Ｒ^２６は、上記で説明したとおりである。Ｂ^１１、Ｂ^１２、Ｂ^２１およびＢ^２２はそれぞれ独立して、水酸基、ヒドロキシエチル基、ヒドロキシメチル基またはヒドロキシプロピル基である。

上記モノマー（Ａ’）としては、例えば、１，１−ビス（３−シクロヘキシル−４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、２，２−ビス（３−シクロヘキシル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（２−ヒドロキシ−５−ビフェニルイル）プロパン等が挙げられる。これらのモノマーは、単独で、または２種以上を混合して使用することができる。

上記モノマー（Ａ’）と重合可能な芳香族系モノマーは、該芳香族系モノマーは、芳香族環を１個のみ有していてもよく、２個以上の芳香族環を有していてもよい。芳香族系モノマーは、好ましくは１個〜２個の芳香族環を有する。上記モノマー（Ａ’）と重合可能な芳香族系モノマーは、芳香族環のパラ位またはメタ位に、上記モノマー（Ａ’）と重合可能な２つの置換基を有する。該置換基としては、例えば、下記一般式（６）、（７）または（８）で表される置換基が挙げられる。このような芳香族系モノマーとしては、テレフタル酸クロライド、イソフタル酸クロライド、１，４−フェニレンジイソシアナート、１，３−フェニレンジイソシアナート、ジクロロジフェニルスルホン、ジクロロベンゼン、１，４−ジヒドロキシナフタレン等が挙げられる。パラ位に置換基を有する芳香族系モノマーとメタ位に置換基を有する芳香族系モノマーとの含有比率は、所望とする芳香族系樹脂の構造に応じて、任意の適切な含有比率とすることができる。パラ位に置換基を有する芳香族系モノマーとメタ位に置換基を有する芳香族系モノマーとのモル比（パラ位：メタ位）は、好ましくは９０：１０〜１０：９０であり、より好ましくは７０：３０〜３０：７０であり、特に好ましくは６０：４０〜４０：６０であり、最も好ましくは６０：４０〜５０：５０である。なお、該芳香族系モノマーは、上記モノマー（Ａ’）と重合可能な２つの置換基に加えて、任意の適切な置換基を有し得る。

上記芳香族系樹脂が繰り返し単位（Ｂ）をさらに有する場合、該芳香族系樹脂は、上記モノマー（Ａ’）と、上記芳香族系モノマーと、下記一般式（ｂ１’）〜（ｂ４’）で表されるモノマーから選ばれる少なくとも１種のモノマーとを含むモノマー組成物を任意の適切な重合方法で重合して得ることができる。なお、本明細書において、下記一般式（ｂ１’）〜（ｂ４’）で表されるモノマーを総称して、「モノマー（Ｂ’）」ともいう。

式（ｂ１’）〜（ｂ４’）中、Ｒ^３３〜Ｒ^３６、Ｒ^４３〜Ｒ^５０、Ｒ^５３〜Ｒ^５９およびＲ^６３〜Ｒ^７０は、上記で説明したとおりである。Ｂ^３１、Ｂ^３２、Ｂ^４１、Ｂ^４２、Ｂ^５１、Ｂ^５２、Ｂ^６１およびＢ^６２はそれぞれ独立して、水酸基、ヒドロキシエチル基、ヒドロキシメチル基またはヒドロキシプロピル基である。

上記モノマー（Ｂ’）としては、例えば、９，９−ビス（１−ヒドロキシー３−メチルフェニル）フルオレン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン、４，４’−（１−フェニルエチリデン）ビスフェノール、４，４’−ジヒドロキシテトラフェニルメタン等が挙げられる。これらのモノマーは、単独で、または２種以上を混合して使用することができる。

上記モノマー組成物は、任意の適切な重合溶媒を含み得る。重合溶媒としては、例えば、クロロホルム、塩化メチレン、トリクロロエタン等のハロゲン系溶媒；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶媒；等が挙げられる。中でも好ましくは、トルエンである。トルエンであれば、低コストで芳香族系樹脂を得ることができる。

Ａ−３．光学フィルムの形成
本発明の光学フィルムは、例えば、上記芳香族系樹脂を任意の適切な塗工溶媒に溶解して得られたキャスティング溶液を基材上に塗工して得ることができる。

上記塗工溶媒としては、例えば、ケトン系溶媒、ハロゲン系溶媒、芳香族系溶媒、高極性溶媒およびこれらの混合物が挙げられる。ケトン系溶媒としては、例えば、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン等が挙げられる。ハロゲン系溶媒としては、例えば、塩化メチレン、塩化エチレン、クロロホルム、四塩化炭素、トリクロロエタン等が挙げられる。芳香族系溶媒としては、例えば、トルエン、キシレン、ベンゼン、フェノール等が挙げられる。高極性溶媒としては、例えば、ジメチルスルホキシド、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルホルムアミド、アセト酢酸エチル等が挙げられる。

上記キャスティング溶液の塗工方法としては、任意の適切な方法を用いることができ、例えば、エアドクターコーティング、ブレードコーティング、ナイフコーティング、リバースコーティング、トランスファロールコーティング、グラビアロールコーティング、キスコーティング、キャストコーティング、スプレーコーティング、スロットオリフィスコーティング、カレンダーコーティング、電着コーティング、ディップコーティング、ダイコーティング等のコーティング法；フレキソ印刷等の凸版印刷法、ダイレクトグラビア印刷法、オフセットグラビア印刷法等の凹版印刷法、オフセット印刷法等の平版印刷法、スクリーン印刷法等の孔版印刷法等の印刷法が挙げられる。上記キャスティング溶液を塗工して形成された塗工層の乾燥方法としては、任意の適切な乾燥方法（例えば、自然乾燥、送風乾燥、加熱乾燥）が採用され得る。例えば、加熱乾燥の場合には、乾燥温度は代表的には１００℃〜２００℃であり、乾燥時間は代表的には１分〜３０分である。

Ａ−４．光学フィルム
本発明の光学フィルムの厚みは、好ましくは１μｍ〜６０μｍ、さらに好ましくは１μｍ〜４０μｍである。

本発明の光学フィルムの面内位相差Ｒｅは、好ましくは２０ｎｍ以下であり、より好ましくは１０ｎｍ以下であり、さらに好ましくは５ｎｍ以下であり、特に好ましくは１ｎｍ以下であり、最も好ましくは０．５ｎｍ以下である。本発明の光学フィルムは、上記芳香族系樹脂を含むことにより、このように位相差の小さい光学フィルムを得ることができる。なお、本明細書において面内位相差Ｒｅは２３℃、波長５５０ｎｍにおける光学フィルムの面内位相差値をいう。Ｒｅは、面内の屈折率が最大になる方向（すなわち、遅相軸方向）の屈折率をｎｘとし、面内で遅相軸と直交する方向（すなわち、進相軸方向）の屈折率をｎｙとし、光学フィルムの厚みをｄ（ｎｍ）としたとき、Ｒｅ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄによって求められる。

本発明の光学フィルムの厚み方向の位相差Ｒｔｈは、好ましくは１００ｎｍ以下であり、より好ましくは８０ｎｍ以下であり、さらに好ましくは６５ｎｍ以下であり、特に好ましくは４０ｎｍ以下であり、最も好ましくは０ｎｍ〜３０ｎｍ以下である。本発明の光学フィルムは、上記芳香族系樹脂を含むことにより、このように位相差の小さい光学フィルムを得ることができる。なお、本明細書において厚み方向の位相差Ｒｔｈは２３℃、波長５５０ｎｍにおける光学フィルムの厚み方向の位相差値をいう。Ｒｔｈは、面内の屈折率が最大になる方向（すなわち、遅相軸方向）の屈折率をｎｘとし、厚み方向の屈折率をｎｚとし、光学フィルムの厚みをｄ（ｎｍ）としたとき、Ｒｔｈ＝（ｎｘ−ｎｚ）×ｄによって求められる。

本発明の光学フィルムの面内方向の複屈折率Δｎ（ｎｘ−ｎｙ）は、好ましくは０．０００７４以下であり、より好ましくは０．０００３７以下であり、さらに好ましくは０．０００１８以下であり、特に好ましくは０．００００３６以下であり、最も好ましくは０．００００１８以下である。本明細書において面内方向の複屈折率Δｎ（ｎｘ−ｎｙ）は、２３℃、波長５５０ｎｍにおける光学フィルムの面内方向の複屈折率をいう。面内方向の複屈折率Δｎ（ｎｘ−ｎｙ）は、面内の屈折率が最大になる方向（すなわち、遅相軸方向）の屈折率をｎｘとし、面内で遅相軸と直交する方向（すなわち、進相軸方向）の屈折率をｎｙとしたとき、Δｎ（ｎｘ−ｎｙ）＝ｎｘ−ｎｙによって求められる。

本発明の光学フィルムの厚み方向の複屈折率Δｎ（ｎｘ−ｎｚ）は、好ましくは０．００３７以下であり、より好ましくは０．００２９６以下であり、さらに好ましくは０．００２４１以下であり、特に好ましくは０．００１４８以下であり、最も好ましくは０．００〜０．００１１である。本明細書において厚み方向の複屈折率Δｎ（ｎｘ−ｎｚ）は、２３℃、波長５５０ｎｍにおける光学フィルムの厚み方向の複屈折率をいう。厚み方向の複屈折率Δｎ（ｎｘ−ｎｚ）は、面内の屈折率が最大になる方向（すなわち、遅相軸方向）の屈折率をｎｘとし、厚み方向の屈折率をｎｚとしたとき、Δｎ（ｎｘ−ｎｚ）＝ｎｘ−ｎｚによって求められる。

本発明の光学フィルムの全光線透過率は、好ましくは８５％以上であり、より好ましくは８７％、最も好ましくは８８％以上である。

本発明の光学フィルムの２５℃における弾性率は、好ましくは１．５ＧＰａ〜１０ＧＰａであり、さらに好ましくは１．６ＧＰａ〜９ＧＰａであり、特に好ましくは１．７ＧＰａ〜８ＧＰａである。

本発明の光学フィルムの２５℃における破壊靭性値は、好ましくは１．５ＭＰａ・ｍ^１／２〜１０ＭＰａ・ｍ^１／２であり、さらに好ましくは２ＭＰａ・ｍ^１／２〜８ＭＰａ・ｍ^１／２であり、特に好ましくは２．５ＭＰａ・ｍ^１／２〜６ＭＰａ・ｍ^１／２である。

本発明の光学フィルムは、目的に応じて任意の適切な添加剤をさらに含有し得る。上記添加剤としては、例えば、希釈剤、老化防止剤、変成剤、界面活性剤、染料、顔料、変色防止剤、紫外線吸収剤、柔軟剤、安定剤、可塑剤、消泡剤、補強剤等が挙げられる。樹脂組成物に含有される添加剤の種類、数および量は、目的に応じて適切に設定され得る。

Ｂ．透明基板
Ｂ−１．透明基板の全体構成
図１は、本発明の好ましい実施形態による透明基板の概略断面図である。この透明基板１００は、無機ガラス１０と、無機ガラス１０の片側または両側（好ましくは、図示例のように両側）に配置された上記光学フィルム１１、１１’とを備える。光学フィルム１１、１１’としては上記Ａ項で説明した光学フィルムが用いられる。なお、図示しないが、無機ガラス１０と第１の光学フィルム１１、１１´との間に任意の適切な接着剤層が配置され得る。

上記透明基板は、必要に応じて、最外層として任意の適切なその他の層を備え得る。上記その他の層としては、例えば、ハードコート層、透明導電性層等が挙げられる。

上記透明基板の総厚は、好ましくは１５０μｍ以下であり、さらに好ましくは１２０μｍ以下であり、特に好ましくは５０μｍ〜１２０μｍである。上記透明基板は、上記光学フィルムを備えることにより、無機ガラスの厚みを、従来のガラス基板よりも格段に薄くすることができる。

上記透明基板にクラックを入れ屈曲させた際の破断直径は、好ましくは５０ｍｍ以下であり、さらに好ましくは４０ｍｍ以下、特に好ましくは２５ｍｍ以下である。本発明の透明基板は、上記光学フィルムを備えることにより、優れた可撓性（例えば、上記のような範囲の破断直径）を示す。

上記透明基板の全光線透過率は、好ましくは８０％以上であり、さらに好ましくは８５％以上である。好ましくは、上記透明基板は、１８０℃で２時間の加熱処理を施した後の光透過率の減少率が５％以内である。このような減少率であれば、ＦＰＤの製造プロセスにおいて必要な加熱処理を施しても、実用上許容可能な光透過率を確保できるからである。

上記透明基板の表面粗度Ｒａは、好ましくは５０ｎｍ以下であり、さらに好ましくは３０ｎｍ以下、特に好ましくは１０ｎｍ以下である。上記透明基板のうねりは、好ましくは０．５μｍ以下であり、さらに好ましくは０．１μｍ以下である。このような特性の透明基板であれば、品質に優れる。

上記光学フィルムが上記無機ガラスの両側に配置される場合、それぞれの光学フィルムの厚みは同一であってもよく異なっていてもよい。好ましくは、それぞれの光学フィルムの厚みは同一である。さらに、それぞれの光学フィルムは、同一組成の樹脂化合物で構成されてもよく、異なる組成の樹脂化合物で構成されてもよい。好ましくは、それぞれの光学フィルムは、同一組成の樹脂化合物で構成される。したがって、最も好ましくは、それぞれの光学フィルムは、同一組成の樹脂化合物で同一の厚みになるように構成される。このような構成であれば、加熱処理されても、無機ガラスの両面に熱応力が均等に掛かるため、反りやうねりがきわめて生じ難くなる。

Ｂ−２．無機ガラス
本発明の透明基板に用いられる無機ガラスは、板状のものであれば、任意の適切なものが採用され得る。上記無機ガラスは、組成による分類によれば、例えば、ソーダ石灰ガラス、ホウ酸ガラス、アルミノ珪酸ガラス、石英ガラス等が挙げられる。また、アルカリ成分による分類によれば、無アルカリガラス、低アルカリガラスが挙げられる。上記無機ガラスのアルカリ金属成分（例えば、Ｎａ_２Ｏ、Ｋ_２Ｏ、Ｌｉ_２Ｏ）の含有量は、好ましくは１５重量％以下であり、さらに好ましくは１０重量％以下である。

上記無機ガラスの厚みは、好ましくは１００μｍ以下であり、さらに好ましくは２０μｍ〜８０μｍであり、特に好ましくは３０μｍ〜７０μｍである。本発明においては、無機ガラスの片側または両側に光学フィルムを有することによって、無機ガラスの厚みを薄くすることができる。

上記無機ガラスの波長５５０ｎｍにおける光透過率は、好ましくは８５％以上である。上記無機ガラスの波長５５０ｎｍにおける屈折率ｎ_ｇは、好ましくは１．４〜１．６５である。

上記無機ガラスの密度は、好ましくは２．３ｇ／ｃｍ^３〜３．０ｇ／ｃｍ^３であり、さらに好ましくは２．３ｇ／ｃｍ^３〜２．７ｇ／ｃｍ^３である。上記範囲の無機ガラスであれば、軽量の透明基板が得られる。

上記無機ガラスの成形方法は、任意の適切な方法が採用され得る。代表的には、上記無機ガラスは、シリカやアルミナ等の主原料と、芒硝や酸化アンチモン等の消泡剤と、カーボン等の還元剤とを含む混合物を、１４００℃〜１６００℃の温度で溶融し、薄板状に成形した後、冷却して作製される。上記無機ガラスの薄板成形方法としては、例えば、スロットダウンドロー法、フュージョン法、フロート法等が挙げられる。これらの方法によって板状に成形された無機ガラスは、薄板化したり、平滑性を高めたりするために、必要に応じて、フッ酸等の溶剤により化学研磨されてもよい。

上記無機ガラスは、市販のものをそのまま用いてもよく、あるいは、市販の無機ガラスを所望の厚みになるように研磨して用いてもよい。市販の無機ガラスとしては、例えば、コーニング社製「７０５９」、「１７３７」または「ＥＡＧＬＥ２０００」、旭硝子社製「ＡＮ１００」、ＮＨテクノグラス社製「ＮＡ−３５」、日本電気硝子社製「ＯＡ−１０」、ショット社製「Ｄ２６３」または「ＡＦ４５」等が挙げられる。

Ｂ−３．その他の層
上記透明基板は、必要に応じて、最外層として、任意の適切なその他の層を備え得る。上記その他の層としては、例えば、透明導電性層、ハードコート層等が挙げられる。

上記透明導電性層は、電極または電磁波シールドとして機能し得る。

上記透明導電性層に用いられ得る材料としては、例えば、銅、銀等の金属；インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）、インジウム亜鉛酸化物（ＩＺＯ）等の金属酸化物；ポリチオフェン、ポリアニリン等の導電性高分子；カーボンナノチューブを含む組成物等が挙げられる。

上記ハードコート層は、上記透明基板に耐薬品性、耐擦傷性および表面平滑性を付与させる機能を有する。

上記ハードコート層を構成する材料としては、任意の適切なものを採用し得る。上記ハードコート層を構成する材料としては、例えば、エポキシ系樹脂、アクリル系樹脂、シリコーン系樹脂およびこれらの混合物が挙げられる。なかでも好ましくは、耐熱性に優れるエポキシ系樹脂である。上記ハードコート層はこれらの樹脂を熱または活性エネルギー線により硬化させて得ることができる。

Ｂ−４．透明基板の製造方法
１つの実施形態においては、上記透明基板は、溶液塗工により無機ガラス上に光学フィルムを形成させて得ることができる。具体的には、Ａ項で説明したように芳香族系樹脂を含むキャスティング溶液を基材に塗工して光学フィルムを形成する際の該基材を上記無機ガラスとすることにより、上記透明基板を得ることができる。

別の実施形態においては、上記Ａ項で説明したようにして光学フィルを形成した後、接着剤層を介して、該光学フィルムを上記無機ガラスに貼着して、透明基板を得ることができる。

上記接着剤層を構成する材料としては、任意の適切な樹脂を採用し得る。上記接着剤層を構成する材料としては、例えば、熱硬化性樹脂、活性エネルギー線硬化性樹脂等が挙げられる。このような樹脂の具体例としては、例えば、エポキシ類および／またはオキセタン類を含むエポキシ系樹脂；アクリル系樹脂；シリコーン系樹脂等が挙げられる。好ましくは、耐熱性に優れるエポキシ系樹脂である。なお、これらの樹脂は、単独で、または２種以上組み合わせて用いてもよい。上記エポキシ類としては、分子中にエポキシ基を持つものであれば、任意の適切なものが使用できる。上記エポキシ類としては、例えば、ビスフェノールＡ型、ビスフェノールＦ型、ビスフェノールＳ型及びこれらの水添加物等のビスフェノール型；フェノールノボラック型やクレゾールノボラック型等のノボラック型；トリグリシジルイソシアヌレート型やヒダントイン型等の含窒素環型；脂環式型；脂肪族型；ナフタレン型、ビフェニル型等の芳香族型；グリシジルエーテル型、グリシジルアミン型、グリシジルエステル型等のグリシジル型；ジシクロペンタジエン型等のジシクロ型；エステル型；エーテルエステル型；およびこれらの変性型等が挙げられる。これらのエポキシ類は、単独で、または２種以上を混合して使用することができる。好ましくは、上記エポキシ類は、ビスフェノールＡ型、脂環式型、含窒素環型、またはグリシジル型である。上記オキセタン類としては、例えば、３−エチル−３−ヒドロキシメチルオキセタン（オキセタンアルコール）、２−エチルヘキシシルオキセタン、キシリレンビスオキセタン、３−エチル−３（（（３−エチルオキセタン−３−イル）メトキシ）メチル）オキセタン等が挙げられる。

上記接着剤層の厚みは、好ましくは１０μｍ以下であり、さらに好ましくは０．０１μｍ〜１０μｍであり、特に好ましくは０．１μｍ〜７μｍである。上記接着剤層の厚みがこのような範囲であれば、透明基板の屈曲性を損なわずに、上記無機ガラスと光学フィルムとの優れた密着性を実現することができる。

Ｃ．用途
上記光学フィルムおよび透明基板は、任意の適切な表示素子、太陽電池または照明素子に用いられ得る。表示素子としては、例えば、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、電子ペーパー等が挙げられる。照明素子としては、例えば、有機ＥＬ素子、ＬＥＤ素子等が挙げられる。

以下、実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明はこれら実施例になんら限定されるものではない。実施例における評価方法は以下のとおりである。なお、厚みはアンリツ製デジタルマイクロメーター「ＫＣ−３５１Ｃ型」を使用して測定した。

（１）ガラス転移温度（Ｔｇ）
動的粘弾性スペクトル測定器（ＤＭＡ、ＴＡインスツルメント社社製）を用いて、周波数１０Ｈｚ、昇温速度５℃／分で３０℃〜３１０℃の範囲で測定し、ｔａｎθのピークトップをガラス転移温度とした。
（２）位相差値
光学フィルムの面内位相差および厚み方向の位相差をＡｘｏｍｅｔｒｉｃｓ社製ポラリメーターＡｘｏＳｃａｎを用いて計測した。測定波長は５５０ｎｍ、測定温度は２３℃とした。
（３）複屈折率
光学フィルムの面内方向の複屈折率Δｎ（ｎｘ−ｎｙ）および厚み方向の複屈折率Δｎ（ｎｘ−ｎｚ）をＡｘｏｍｅｔｒｉｃｓ社製ポラリメーターＡｘｏＳｃａｎを用いて計測した。測定波長は５５０ｎｍ、測定温度は２３℃とした。
（４）透過率
光学フィルムの透過率を、ＪｌＳ Ｚ ８７０１−１９８２の２度視野（Ｃ光源）により、視感度補正を行ったＹ値から評価した。表１中、透過率が８５％以上であった場合を○と表記する。

［合成例１］
攪拌装置を備えた反応容器中、１，１−ビス（３−シクロヘキシル−４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン９．０５ｇ（０．０２１ｍｏｌ）、９，９−ビス（１−ヒドロキシー３−メチルフェニル）フルオレン１５．４ｇ（０．０４１ｍｏｌ）、ベンジルトリブチルアンモニウムクロライド０．５４２ｇ、ｐ−ターシャリーブチルフェノール０．０２３ｇを１Ｍ水酸化ナトリウム溶液２２６ｇに溶解させた。この溶液に、テレフタル酸クロライド６．２５ｇ（０．０３１ｍｏｌ）およびイソフタル酸クロライド６．２５ｇ（０．０３１ｍｏｌ）を１６８ｇのトルエンに溶解させた溶液を攪拌しながら一度に加え、室温で１２０分間攪拌した。その後、重合溶液を静置分離してポリマーを含んだトルエン溶液を分離し、ついで酢酸水で洗浄し、イオン交換水で洗浄した後、メタノールに投入してポリマーを析出させた。析出したポリマーを濾過し、減圧下で乾燥することで、白色の芳香族系樹脂（１）３０ｇを得た。得られた芳香族系樹脂（１）を上記（１）の評価に供した。結果を表１に示す。

［合成例２］
ｐ−ターシャリーブチルフェノールの配合量を０．０１３ｇとし、トルエンの量を１５０ｇとした以外は合成例１と同様にして芳香族系樹脂（２）を得た。得られた芳香族系樹脂（２）を上記（１）の評価に供した。結果を表１に示す。

［合成例３］
攪拌装置を備えた反応容器中、２，２−ビス（３−シクロヘキシル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン８．２４ｇ（０．０２１ｍｏｌ）、９，９−ビス（１−ヒドロキシー３−メチルフェニル）フルオレン１５．４ｇ（０．０４１ｍｏｌ）、ベンジルトリブチルアンモニウムクロライド０．５２５ｇ、ｐ−ターシャリーブチルフェノール０．０２２ｇを１Ｍ水酸化ナトリウム溶液２１９ｇに溶解させた。この溶液に、テレフタル酸クロライド６．２４ｇ（０．０３１ｍｏｌ）およびイソフタル酸クロライド６．２４ｇ（０．０３１ｍｏｌ）を１６８ｇのトルエンに溶解させた溶液を攪拌しながら一度に加え、室温で１２０分間攪拌した。その後、重合溶液を静置分離してポリマーを含んだトルエン溶液を分離し、ついで酢酸水で洗浄し、イオン交換水で洗浄した後、メタノールに投入してポリマーを析出させた。析出したポリマーを濾過し、減圧下で乾燥することで、白色の芳香族系樹脂（３）２９ｇを得た。得られた芳香族系樹脂（３）を上記（１）の評価に供した。結果を表１に示す。

［合成例４］
ｐ−ターシャリーブチルフェノールの配合量を０．０１６ｇとし、トルエンの量を１５０ｇとした以外は合成例３と同様にして芳香族系樹脂（４）を得た。得られた芳香族系樹脂（４）を上記（１）の評価に供した。結果を表１に示す。

［合成例５］
テレフタル酸クロライドの配合量を７．０１ｇ（０．０３５ｍｏｌ）とし、イソフタル酸クロライドの配合量を５．５０ｇ（０．０２７ｍｏｌ）とした以外は合成例１と同様にして芳香族系樹脂（５）を得た。得られた芳香族系樹脂（５）を上記（１）の評価に供した。結果を表１に示す。

［合成例６］
１，１−ビス（３−シクロヘキシル−４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン９．０２ｇ（０．０２１ｍｏｌ）、９，９−ビス（１−ヒドロキシー３−メチルフェニル）フルオレン１６．３ｇ（０．０４３ｍｏｌ）および１，４−ジヒドロキシナフタレン１１．３７ｇ（０．０７１ｍol）を２規定濃度の水酸化カリウム水溶液１００ｍｌに一部溶解／一部分散させた溶液に、溶媒の塩化メチレン２００ｍｌを加えて攪拌しながら、冷却下にこの液中にホスゲンガスを１０．５８ｇ（０．１０７ｍｏｌ）吹き込んだ。ついで、この反応液を静置分離し、有機層に重合度が２〜５であり、分子末端にクロロホーメート基を有するオリゴマーの塩化メチレン溶液を得た。そして、得られた塩化メチレン溶液２００ｍｌに塩化メチレンを追加し全量を３００ｍｌとした後、これに１，１−ビス（３−シクロヘキシル−４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン３．０２ｇ（０．００７ｍｏｌ）を２規定の水酸化カリウム５０ｍｌに溶解させた溶液を添加し、さらに分子量調整剤としてｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール０．０５ｇを加えた。ついでこの混合液を激しく攪拌しながら、触媒として７％のトリエチルアミン水溶液０．８ｍｌを加え、攪拌下に２５℃で１．５ｈ反応させた。反応終了後に、得られた反応生成物を塩化メチレン１Ｌによって希釈し、水１．５Ｌで２回洗浄した。ついで、０．０５規定の塩酸で洗浄した後、さらに水１Ｌで２回洗浄した。そして得られた有機相をメタノール中に投入し再沈殿を行ない、粉末の芳香族系樹脂（６）２８ｇを得た。得られた芳香族系樹脂（６）を上記（１）の評価に供した。結果を表１に示す。

［合成例７］
１，１−ビス（３−シクロヘキシル−４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン５．６２ｇ（０．０１３ｍｏｌ）、９，９−ビス（１−ヒドロキシー３−メチルフェニル）フルオレン８．３３ｇ（０．０２２ｍｏｌ）、１，４−フェニレンジイソシアナート１１．３７ｇ（０．０７１ｍｏｌ）をジメチルホルムアミド１００ｍｌに溶解させた溶液を１２０℃にＮ２雰囲気下で加熱攪拌し、プレポリマーを得た。続いて、この反応液に１，１−ビス（３−シクロヘキシル−４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン６．４８ｇ（０．０１５ｍｏｌ）、９，９−ビス（１−ヒドロキシー３−メチルフェニル）フルオレン７．９５ｇ（０．０２１ｍｏｌ）のジメチルホルムアミド溶液を添加し、さらに反応触媒として１％ジブチルスズジラウレート溶液を１．１ｇ加え、引き続き１２０℃で過熱攪拌した。反応終了後に、得られた反応溶液をメタノール中に投入し再沈殿を行ない、粉末の芳香族系樹脂（７）２３ｇを得た。得られた芳香族系樹脂（７）を上記（１）の評価に供した。結果を表１に示す。

［合成例８］
攪拌装置を備えた反応容器中、４，４’−（１−フェニルエチリデン）ビスフェノール
５．３５ｇ（０．０１８ｍｏｌ）、９，９−ビス（１−ヒドロキシー３−メチルフェニル）フルオレン９．３ｇ（０．０２５ｍｏｌ）、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン５．７１ｇ（０．０１８ｍｏｌ）ベンジルトリブチルアンモニウムクロライド０．４５２ｇ、ｐ−ターシャリーブチルフェノール０．０６７ｇを１Ｍ水酸化ナトリウム溶液１８９ｇに溶解させた。この溶液に、テレフタル酸クロライド７．４８ｇ（０．０３７ｍｏｌ）およびイソフタル酸クロライド５．０ｇ（０．０２５ｍｏｌ）を１８７ｇのトルエンに溶解させた溶液を攪拌しながら一度に加え、室温で１２０分間攪拌した。その後、重合溶液を静置分離してポリマーを含んだトルエン溶液を分離し、ついで酢酸水で洗浄し、イオン交換水で洗浄した後、メタノールに投入してポリマーを析出させた。析出したポリマーを濾過し、減圧下で乾燥することで、白色の芳香族系樹脂（ｃ１）１１ｇを得た。得られた芳香族系樹脂（ｃ１）を上記（１）の評価に供した。結果を表１に示す。

［合成例９］
攪拌装置を備えた反応容器中、９，９−ビス（１−ヒドロキシー３−メチルフェニル）フルオレン７．０５ｇ（０．０１９ｍｏｌ）、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン１３．５ｇ（０．０４３ｍｏｌ）、ベンジルトリブチルアンモニウムクロライド０．４５６ｇ、ｐ−ターシャリーブチルフェノール０．０６８ｇを１Ｍ水酸化ナトリウム溶液１９０ｇに溶解させた。この溶液に、テレフタル酸クロライド６．３ｇ（０．０３１ｍｏｌ）およびイソフタル酸クロライド６．３ｇ（０．０３１ｍｏｌ）を２８３ｇのトルエンに溶解させた溶液を攪拌しながら一度に加え、室温で１２０分間攪拌した。その後、重合溶液を静置分離してポリマーを含んだトルエン溶液を分離し、ついで酢酸水で洗浄し、イオン交換水で洗浄した後、メタノールに投入してポリマーを析出させた。析出したポリマーを濾過し、減圧下で乾燥することで、白色の芳香族系樹脂（ｃ２）２８ｇを得た。得られた芳香族系樹脂（ｃ２）を上記（１）の評価に供した。結果を表１に示す。

［合成例１０］
攪拌装置を備えた反応容器中、４，４’−（１，３−ジメチルブチリデン）ビスフェノール７．６５ｇ（０．０２８ｍｏｌ）、４，４’−（１−フェニルエチリデン）ビスフェノール１２．３５ｇ（０．０４３ｍｏｌ）、ベンジルトリエチルアンモニウムクロライド０．４４４ｇ、ｐ−ターシャリーブチルフェノール０．０２２ｇを１Ｍ水酸化ナトリウム溶液１８５ｇに溶解させた。この溶液に、テレフタル酸クロライド１４．４ｇ（０．０７１ｍｏｌ）を２４６ｇのクロロホルムに溶解させた溶液を攪拌しながら一度に加え、室温で１２０分間攪拌した。その後、重合溶液を静置分離してポリマーを含んだクロロホルム溶液を分離し、ついで酢酸水で洗浄し、イオン交換水で洗浄した後、メタノールに投入してポリマーを析出させた。析出したポリマーを濾過し、減圧下で乾燥することで、白色の芳香族系樹脂（ｃ３）７ｇを得た。得られた芳香族系樹脂（ｃ３）を上記（１）の評価に供した。結果を表１に示す。

［実施例１］
合成例１で得られた芳香族系樹脂（１）１０ｇをシクロペンタノン９０ｇに溶かし、さらに、レベリング剤（ＢＹＫ３０７、ビックケミー社製）を７５０ｐｐｍとなるように添加して、光学フィルム形成用のキャステイング溶液を得た。
得られたキャスティング溶液をガラス板上に塗工し、１００℃で１０分間乾燥させ、１７０℃で２０分間熱処理を行い、厚みが２５μｍの光学フィルムを得た。この光学フィルムをガラス板から剥離して、上記評価（２）および（３）に供した。結果を表１に示す。

［実施例２〜７］
芳香族系樹脂（１）に代えて、表１に示す芳香族系樹脂（２）〜（７）を用いた以外は、実施例１と同様にして、光学フィルムを得、実施例１と同様の評価に供した。

［比較例１〜３］
芳香族系樹脂（１）に代えて、表１に示す芳香族系樹脂（ｃ１）〜（ｃ３）を用いた以外は、実施例１と同様にして、光学フィルムを得、実施例１と同様の評価に供した。

［比較例４］
光学フィルムとして、市販のポリアリレートフィルム（ユニチカ社製 商品名「Ｍ−２０７０」）を準備した。該ポリアリレートフィルムを実施例１と同様の評価に供した。

表１から明らかなように、本発明の光学フィルムは、ガラス転移温度が高い芳香族系樹脂を含んで耐熱性に優れ、かつ、位相差が小さい。本発明の光学フィルムは、このように耐熱性および低位相差に優れ、さらに、透過率も高いため、表示素子、太陽電池または照明素子に有用に用いられ得る。

本発明の透明基板は、表示素子、太陽電池または照明素子に用いられ得る。表示素子としては、例えば、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、電子ペーパー等が挙げられる。照明素子としては、例えば、有機ＥＬ素子、ＬＥＤ素子等が挙げられる。

１０ 無機ガラス
１１、１１´ 光学フィルム
１００ 透明基板

Claims (14)

1. 下記一般式（ａ１）で表される繰り返し単位および下記一般式（ａ２）で表される繰り返し単位から選ばれる少なくとも１種の繰り返し単位を有する芳香族系樹脂を含む、光学フィルム：
   

   

   
   式（ａ１）および（ａ２）中、
   Ｚ^１１、Ｚ^１２、Ｚ^２１およびＺ^２２はそれぞれ独立して、シクロアルカンまたは芳香族環を含む置換基であり、
   Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^２１およびＲ^２２はそれぞれ独立して、水素原子、シクロアルカン、芳香族環または炭素数が１〜５の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基であり、
   Ｒ^１３〜Ｒ^１６およびＲ^２３〜Ｒ^２６はそれぞれ独立して、水素原子または炭素数が１〜５の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基であり、
   Ａ^１１、Ａ^１２、Ａ^２１およびＡ^２２はそれぞれ独立して上記一般式（１）〜（５）で表される連結基から選ばれる少なくとも１種であり、
   Ｘ^１１は、パラ位またはメタ位で、該連結基Ａ^１２と、該連結基Ａ^１１またはＡ^２１とに連結する１個以上の芳香族環であり、
   Ｘ^２１は、パラ位またはメタ位で、該連結基Ａ^２２と、該連結基Ａ^２１またはＡ^１１とに連結する１個以上の芳香族環である。
2. 前記芳香族系樹脂が、下記一般式（ｂ１）〜（ｂ４）で表される繰り返し単位から選ばれる少なくとも１種の繰り返し単位をさらに有する、請求項１に記載の光学フィルム：
   

   

   
   式（ｂ１）〜（ｂ４）中、
   Ｒ^３３〜Ｒ^３６、Ｒ^４３〜Ｒ^４６、Ｒ^５３〜Ｒ^５６およびＲ^６３〜Ｒ^６６、はそれぞれ独立して、水素原子または炭素数が１〜５の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基であり、
   Ａ^３１、Ａ^３２、Ａ^４１、Ａ^４２、Ａ^５１、Ａ^５２、Ａ^６１およびＡ^６２はそれぞれ独立して上記一般式（１）〜（５）で表される連結基から選ばれる少なくとも１種であり、
   式（ｂ１）中、
   Ｘ^３１は、パラ位またはメタ位で、該連結基Ａ^３２と、該連結基Ａ^３１、前記式（ａ１）中のＡ^１１、前記式（ａ２）中のＡ^２１、該式（ｂ２）中のＡ^４１、該式（ｂ３）中のＡ^５１または該式（ｂ４）中のＡ^６１とに連結する１個以上の芳香族環であり、
   式（ｂ２）中、
   Ｒ^４７〜Ｒ^５０はそれぞれ独立して、水素原子または炭素数が１〜５の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基であり、
   Ｘ^４１は、パラ位またはメタ位で、該連結基Ａ^４２と、該連結基Ａ^４１、前記式（ａ１）中のＡ^１１、前記式（ａ２）中のＡ^２１、該式（ｂ１）中のＡ^３１、該式（ｂ３）中のＡ^５１または該式（ｂ４）中のＡ^６１とに連結する１個以上の芳香族環であり、
   式（ｂ３）中、
   Ｒ^５７〜Ｒ^５９はそれぞれ独立して、水素原子または炭素数が１〜５の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基であり、
   Ｘ^５１は、パラ位またはメタ位で、該連結基Ａ^５２と、該連結基Ａ^５１、前記式（ａ１）中のＡ^１１、前記式（ａ２）中のＡ^２１、該式（ｂ１）中のＡ^３１、該式（ｂ２）中のＡ^４１または該式（ｂ４）中のＡ^６１とに連結する１個以上の芳香族環であり、
   式（ｂ４）中、
   Ｒ^６７およびＲ^６８はそれぞれ独立して、水素原子または炭素数が１〜５の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基である。
   Ｒ^６９およびＲ^７０はそれぞれ独立して、水素原子、炭素数が１〜５の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基、ハロゲン原子、メチルエチニル基、フェニルエチニル基、エチルエチニル基またはアルコキシ基であり、
   Ｘ^６１は、パラ位またはメタ位で、該連結基Ａ^６２と、該連結基Ａ^６１、前記式（ａ１）中のＡ^１１、前記式（ａ２）中のＡ^２１、該式（ｂ１）中のＡ^３１、該式（ｂ２）中のＡ^４１または該式（ｂ３）中のＡ^５１とに連結する１個以上の芳香族環である。
3. 面内位相差Ｒｅが、２０ｎｍ以下である、請求項１または２記載の光学フィルム。
4. 厚み方向の位相差Ｒｔｈが、１００ｎｍ以下である、請求項１から３のいずれかに記載の光学フィルム。
5. 全光線透過率が、８５％以上である、請求項１から４のいずれかに記載の光学フィルム。
6. 前記芳香族系樹脂のガラス転移温度が、２００℃以上である、請求項１から５のいずれかに記載の光学フィルム。
7. 前記芳香族系樹脂の重量平均分子量が、ポリスチレン換算で、４００００〜２０００００である、請求項１から６のいずれかに記載の光学フィルム。
8. 前記芳香族系樹脂が、トルエンおよび／またはキシレンを５０％以上含有する溶媒に可溶である、請求項１から７のいずれかに記載の光学フィルム。
9. 請求項１から８のいずれかに記載の光学フィルムと、厚さが１００μｍ以下の無機ガラスとを備える、透明基板。
10. 総厚が１５０μｍ以下である、請求項９に記載の透明基板。
11. クラックを入れ屈曲させた際の破断直径が５０ｍｍ以下である、請求項９または１０に記載の透明基板。
12. 請求項１から８のいずれかに記載の光学フィルムを用いて作製された、表示素子。
13. 請求項１から８のいずれかに記載の光学フィルムを用いて作製された、太陽電池。
14. 請求項１から８のいずれかに記載の光学フィルムを用いて作製された、照明素子。
    

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