JP6086027B2 - カバーガラス及びカバーガラスの製造方法 - Google Patents
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Description
前記表示デバイス上に形成され、少なくとも前記表示デバイスの表示面側からの光を遮光する、低次酸化物を含む遮光層(低次酸化物を顔料として含む場合を除く)と、
前記遮光層上に形成される反射色調整層と、
前記反射色調整層上に形成される透明基材と、
を順次含む、カバーガラスを提供する。
先ず、本実施形態に係るカバーガラスの概略構成について説明する。図1に、本実施形態に係るカバーガラスの概略構成図を示す。
透明基材130としては、透明な基材であれば特に制限されず、例えば各種ガラス基板、透明導電性フィルム、透明非導電性フィルム、又は各種ガラス基板上にこれらのフィルムを形成したもの等を使用することができる。
反射色調整層120は、使用者が透明基材130の視認面130a側からカバーガラス100を見た場合に、非表示部220の「色」を光学設計する層である。なお、本明細書において、「色」とは、「色相」、「彩度」及び「明度」のことを意味する。本実施形態に係るカバーガラス100は、この反射色調整層120を有することにより、所望の「色」を表現することができる。そのため、本実施形態のカバーガラス100は、意匠性に優れたカバーガラスである。
遮光層110は、前述したように、表示デバイス200上に形成され、少なくとも表示デバイス200側からの光を遮光する機能を有する。そのため、遮光層110の特性として、遮光率が高いことが求められる。別の言い方をすると、遮光層110は、各色の色抜けによる混色を防止するために、表示デバイスからの必要のない光を十分に遮光することが求められる。
ニオブ低次酸化物、チタン低次酸化物、ジルコニウム低次酸化物、タンタル低次酸化物、ハフニウム低次酸化物、アルミニウム低次酸化物、ケイ素低次酸化物やクロム低次酸化物などが挙げられ、これらの混合物であってもよい。
本実施形態に係る、表示デバイスの上方に配置されるカバーガラスの製造方法は、透明基材130上に、反射色調整層120を成膜する工程(S300)と、前記反射色調整層上に、少なくとも前記表示デバイス200側からの光を遮光する、低次酸化物を含む遮光層110を成膜する工程(S310)と、を含む。
本実施形態のカバーガラス100が、遮光性及び絶縁性を両立すると共に、所望の「色」に設計できることを確認した実施形態について、説明する。
ターゲット:NbO(Nb2O5、及びNbOa成膜時)、
ターゲット:Si(SiO2成膜時)、
DC電源出力(W):300、
成膜圧力(Pa):0.3、
処理ガス流量(sccm):Ar/O2=28/2(Nb2O5成膜時)、22/8(SiO2成膜時)、30/0(NbOa成膜時)、
とした。
本実施形態のカバーガラス100が、遮光性及び絶縁性の設計の自由度が高いことを確認した実施形態について、説明する。
ターゲット:NbO、
DC電源出力(W):300、
成膜圧力(Pa):0.3、
処理ガス流量(sccm):Ar/O2=20〜30/0〜1、
とした。
ターゲット:Ti及びSi、
DC電源出力(W):300又は500、
成膜圧力(Pa):0.3、
処理ガス流量(sccm):Ar/O2=17〜29/3〜6、
とした。
110 遮光層
120 反射色調整層
130 透明基材
200 表示デバイス
205 配線層
210 表示部
220 非表示部
Claims (14)
- 表示デバイスの表示面側に配置されるカバーガラスであって、当該カバーガラスは、
前記表示デバイス上に形成され、少なくとも前記表示デバイスの表示面側からの光を遮光する、低次酸化物を含む遮光層(低次酸化物を顔料として含む場合を除く)と、
前記遮光層上に形成される反射色調整層と、
前記反射色調整層上に形成される透明基材と、
を順次含む、カバーガラス。 - 前記低次酸化物の吸収係数kは、0.03<k<1である、請求項1に記載のカバーガラス。
- 前記遮光層は、膜厚が8μm以下であり、シート抵抗値Rsが1×103Ω/□以上である、請求項1又は2に記載のカバーガラス。
- 前記遮光層は、膜厚が4μm以下であり、シート抵抗値Rsが1×104Ω/□以上である、
請求項3に記載のカバーガラス。 - 前記遮光層及び前記反射色調整層は、前記透明基材の表示デバイス側から前記表示デバイスに向かって縮径するテーパ形状を有する、
請求項1乃至4のいずれか一項に記載のカバーガラス。 - 前記遮光層は、物理的蒸着法により形成される、
請求項1乃至5のいずれか一項に記載のカバーガラス。 - 前記低次酸化物は、ニオブ低次酸化物NbOa(但し、0<a<2.5)、又は、ケイ素及びチタンの複合低次酸化物TibSicOd(但し、0≦b≦1、0≦c≦1、0<d<2)を含む、
請求項1乃至6のいずれか一項に記載のカバーガラス。 - 前記低次酸化物は、少なくとも前記ニオブ低次酸化物を含み、
前記ニオブ低次酸化物の波長550nmにおける光学定数は、屈折率nが2.35<n<2.6であり、吸収係数kが0.03<k<1である、請求項7に記載のカバーガラス。 - 前記低次酸化物は、少なくとも前記ケイ素及びチタンの複合低次酸化物を含み、
前記ケイ素及びチタンの複合低次酸化物の波長550nmにおける光学定数は、屈折率nが1.5<n<2.4であり、吸収係数kが0.03<k<1である、請求項7記載のカバーガラス。 - 前記反射色調整層は、酸化物層、窒化物、酸窒化物層及び/又は弗化物層を含む、単層膜又は多層膜で形成される、
請求項1乃至9のいずれか一項に記載のカバーガラス。 - 表示デバイスの表示面側に配置されるカバーガラスの製造方法であって、
透明基材上に、反射色調整層を成膜する工程と、
前記反射色調整層上に、少なくとも前記表示デバイス側からの光を遮光する、低次酸化物を含む遮光層(低次酸化物を顔料として含む場合を除く)を成膜する工程と、
を有する、カバーガラスの製造方法。 - 前記遮光層を成膜する工程は、物理的蒸着法によって実施される、
請求項11に記載のカバーガラスの製造方法。 - 前記反射色調整層を成膜する工程の前に、前記透明基材上の前記遮光層を形成しない領域に、フィルム又はガラスを含むマスクを設置する工程と、
前記遮光層を成膜する工程の後に、前記マスクを除去する工程と、
を更に含む、請求項11又は12に記載のカバーガラスの製造方法。 - 前記反射色調整層を成膜する工程の前に、前記透明基材上の前記遮光層を形成しない領域に、レジストパターンを形成する工程と、
前記遮光層を成膜する工程の後に、前記レジストパターンを除去する工程と、
を更に含む、
請求項11又は12に記載のカバーガラスの製造方法。
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