CN210626697U - 一体黑镀膜盖板 - Google Patents

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刘君钧
林浩
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Suzhou Victory Precision Manufacture Co Ltd
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Suzhou Victory Precision Manufacture Co Ltd
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Abstract

本实用新型公开了一体黑镀膜盖板,包括透明基板(1)、及设置在所述透明基板(1)外表面的减反吸收层,所述减反吸收层包括至少一层低折射率膜层、至少一层高折射率膜层、及至少一层金属Ti吸收膜层,所述金属Ti吸收膜层设置在所述减反吸收层的底层或中间层,所述减反吸收层的表层为低折射率膜层,所述减反吸收层位于表层下方的第二层为高折射率膜层。本实用新型提供的一体黑镀膜盖板,可实现熄屏一体黑效果。

Description

一体黑镀膜盖板
技术领域
本实用新型涉及显示屏幕技术领域,特别涉及一体黑镀膜盖板。
背景技术
随着显示屏在可穿戴电子产品以及车载显示中越来越广泛的应用,消费者不仅仅对显示屏的显示性能(分辨率、色彩饱和度等)有要求,对显示屏外观的要求也越来越高。由于普通显示屏盖板的显示区域采用全透光设计,显示区外采用丝印遮盖油墨方式设计,在实际使用时,息屏状态下显示区呈现灰黑色,显示区外因丝印油墨不同呈现不同颜色,比较常见的多为黑色或白色,采用黑色丝印油墨的显示模组,息屏后显示区域和边框颜色有区别,外观美学效果差。
实用新型内容
本实用新型目的是提供一体黑镀膜盖板,可降低盖板表面反射率,并设置吸收层,实现熄屏一体黑效果。
基于上述问题,本实用新型提供的技术方案是:
一体黑镀膜盖板,包括透明基板、及设置在所述透明基板外表面的减反吸收层,所述减反吸收层包括至少一层低折射率膜层、至少一层高折射率膜层、及至少一层金属Ti吸收膜层,所述金属Ti吸收膜层设置在所述减反吸收层的底层或中间层,所述减反吸收层的表层为低折射率膜层,所述减反吸收层位于表层下方的第二层为高折射率膜层。
在其中的一个实施例中,所述高折射率膜层的折射率为2.0~4.5,所述低折射率膜层的折射率为1.3~1.75。
在其中的一个实施例中,所述高折射率膜层为Nb2O5膜层、TiO2膜层或Si3N4膜层。
在其中的一个实施例中,所述低折射率膜层为SiO2膜层。
在其中的一个实施例中,透明基板为透明玻璃、PMMA板材、PC板材、 PMMA/PC复合板材或PMMA/PC/PMMA复合板材。
在其中的一个实施例中,所述减反吸收层包括由外而内设置的第一低折射率膜层、第一高折射率膜层、第一金属Ti吸收膜层。
在其中的一个实施例中,所述第一金属Ti吸收膜层与所述透明基板之间还设有第二低折射率膜层。
在其中的一个实施例中,所述第一金属Ti吸收膜层与所述第二低折射率膜层之间还设有第二高折射率膜层。
在其中的一个实施例中,所述第二高折射率膜层与所述第二低折射率膜层之间还设有第二金属Ti吸收膜层。
与现有技术相比,本实用新型的优点是:
采用本实用新型的技术方案,设置金属Ti吸收膜层,与高折射率膜层、低折射率膜层配合,降低屏幕反射光,放置炫光,显示屏在熄屏状态下,显示区反射率与边框反射率、视区L(亮度)值和非视区亮度值的接近程度,达到熄屏一体黑效果。
附图说明
为了更清楚地说明本实用新型实施例的技术方案,下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍,下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本实用新型一体黑镀膜盖板实施例1的结构示意图;
图2为本实用新型实施例2的结构示意图;
图3为本实用新型实施例3的结构示意图;
图4为本实用新型实施例4的结构示意图
其中:
1、透明基板;
2、第一低折射率膜层;
3、第一高折射率膜层;
4、第一金属Ti吸收膜层;
5、第二低折射率膜层;
6、第二高折射率膜层;
7、第二金属Ti吸收膜层。
具体实施方式
以下结合具体实施例对上述方案做进一步说明。应理解,这些实施例是用于说明本实用新型而不限于限制本实用新型的范围。实施例中采用的实施条件可以根据具体厂家的条件做进一步调整,未注明的实施条件通常为常规实验中的条件。
参见图1,为本实用新型实施例1的结构示意图,提供一体黑镀膜盖板,包括透明基板1、及设置在透明基板1外表面的减反吸收层,该减反吸收层包括至少一层低折射率膜层、至少一层高折射率膜层、及至少一层金属Ti 吸收膜层,其中,金属Ti吸收膜层设置在减反吸收层的底层或中间层,减反吸收层的表层为低折射率膜层,减反吸收层位于表层下方的第二层为高折射率膜层。高折射率膜层的折射率为2.0~4.5,低折射率膜层的折射率为1.3~1.75。
本例中,减反吸收层为三层结构,包括由外而内设置的第一低折射率膜层2、第一高折射率膜层3、第一金属Ti吸收膜层4,第一低折射率膜层2 为SiO2膜层,厚度为89nm,第一高折射率膜层3为Nb2O5膜层,厚度为 37nm,第一金属Ti吸收膜层4厚度为9nm,各膜层采用磁控溅射工艺制备。
金属Ti吸收膜层对波长450nm-650nm范围可见光实现均衡的吸收, 450nm-650nm范围内吸收率差异小于8%,金属Ti吸收层降低盖板透光度的同时不影响透射光色度,适当的选择金属Ti吸收膜层、高折射率层和低折射率层厚度及排列顺序,使相邻两束光在膜层与空气、各膜层间及膜层与基材界面反射光的等效光程差等于或接近π,即振动方向相反,叠加的结果使光学表面对该波长的反射光减少,从而降低屏幕反射光,防止显示屏眩光。镀膜面反射率优选为0.2%~2%;吸收层金属Ti膜层对透射光吸收阻隔,透射率优选为50%~80%
透明基板1为透明玻璃,透明基板1还可以为PMMA板材、PC板材、 PMMA/PC复合板材或PMMA/PC/PMMA复合板材,实施时根据需要进行选择。
参见图2,为本实用新型实施例2的结构示意图,其它与实施例1相同,不同之处在于:减反吸收层为四层结构,在第一金属Ti吸收膜层4与透明基板1之间还设有第二低折射率膜层5,第一低折射率膜层2为SiO2膜层,厚度为85nm,第一高折射率膜层3为Nb2O5膜层,厚度为33nm,第一金属Ti吸收膜层4厚度为8nm,第二低折射率膜层5为SiO2膜层,厚度为25nm。
参见图3,为本实用新型实施例3的结构示意图,其它与实施例2相同,不同之处在于:减反吸收层为五层结构,在第一金属Ti吸收膜层4与第二低折射率膜层5之间还设有第二高折射率膜层6,第一低折射率膜层2为 SiO2膜层,厚度为90nm,第一高折射率膜层3为Nb2O5膜层,厚度为35nm,第一金属Ti吸收膜层4厚度为7.5nm,第二高折射率膜层6为Nb2O5膜层,厚度为5nm,第二低折射率膜层5为SiO2膜层,厚度为22nm。
参见图4,为本实用新型实施例4的结构示意图,其它与实施例3相同,不同之处在于:减反吸收层为六层结构,在第二高折射率膜层6与第二低折射率膜层5之间还设有第二金属Ti吸收膜层7,第一低折射率膜层2为SiO2膜层,厚度为89nm,第一高折射率膜层3为Nb2O5膜层,厚度为37nm,第一金属Ti吸收膜层4厚度为6nm,第二高折射率膜层6为Nb2O5膜层,厚度为14nm,第二金属Ti吸收膜层7厚度为5nm,第二低折射率膜层5 为SiO2膜层,厚度为25nm,
上述实例只为说明本实用新型的技术构思及特点,其目的在于让熟悉此项技术的人是能够了解本实用新型的内容并据以实施,并不能以此限制本实用新型的保护范围。凡根据本实用新型精神实质所做的等效变换或修饰,都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。

Claims (9)

1.一体黑镀膜盖板,其特征在于:包括透明基板(1)、及设置在所述透明基板(1)外表面的减反吸收层,所述减反吸收层包括至少一层低折射率膜层、至少一层高折射率膜层、及至少一层金属Ti吸收膜层,所述金属Ti吸收膜层设置在所述减反吸收层的底层或中间层,所述减反吸收层的表层为低折射率膜层,所述减反吸收层位于表层下方的第二层为高折射率膜层。
2.根据权利要求1所述的一体黑镀膜盖板,其特征在于:所述高折射率膜层的折射率为2.0~4.5,所述低折射率膜层的折射率为1.3~1.75。
3.根据权利要求1所述的一体黑镀膜盖板,其特征在于:所述高折射率膜层为Nb2O5膜层、TiO2膜层或si3N4膜层。
4.根据权利要求1所述的一体黑镀膜盖板,其特征在于:所述低折射率膜层为SiO2膜层。
5.根据权利要求1所述的一体黑镀膜盖板,其特征在于:透明基板(1)为透明玻璃、PMMA板材、PC板材、PMMA/PC复合板材或PMMA/PC/PMMA复合板材。
6.根据权利要求1所述的一体黑镀膜盖板,其特征在于:所述减反吸收层包括由外而内设置的第一低折射率膜层(2)、第一高折射率膜层(3)、第一金属Ti吸收膜层(4)。
7.根据权利要求6所述的一体黑镀膜盖板,其特征在于:所述第一金属Ti吸收膜层(4)与所述透明基板(1)之间还设有第二低折射率膜层(5)。
8.根据权利要求7所述的一体黑镀膜盖板,其特征在于:所述第一金属Ti吸收膜层(4)与所述第二低折射率膜层(5)之间还设有第二高折射率膜层(6)。
9.根据权利要求8所述的一体黑镀膜盖板,其特征在于:所述第二高折射率膜层(6)与所述第二低折射率膜层(5)之间还设有第二金属Ti吸收膜层(7)。
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CN112366233A (zh) * 2020-11-17 2021-02-12 佛山市国星半导体技术有限公司 一种GaN基紫外探测器及其制作方法
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