JP6084577B2 - Hdd用ガラス基板 - Google Patents
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Description
SiO2:60〜75%
Al2O3:0.1〜6%
B2O3:0〜3%
Li2O:0.1〜5%
Na2O:0.1〜6%
K2O:0.1〜5%
MgO:5〜18%
CaO:0.1〜10%
ZnO:0〜5%
TiO2:0〜5%
ZrO2:0.1〜5%
となる含有範囲を有し、かつ
0.01<(ZrO2+TiO2)/(SiO2+Al2O3+B2O3)<0.15、
0.1<Li2O/(Li2O+Na2O+K2O)<0.8、および
0.3mol%<(Li2O+Na2O+K2O)<15mol%
という条件を満たすガラス組成からなることを特徴とする。
SiO2:63〜72%
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となる含有範囲を有し、かつ
0.03<(ZrO2+TiO2)/(SiO2+Al2O3+B2O3)<0.12、
0.2<Li2O/(Li2O+Na2O+K2O)<0.7、および
2.1mol%<(Li2O+Na2O+K2O)<13mol%
という条件を満たすガラス組成からなることが好ましい。
<HDD用ガラス基板>
本発明のHDD用ガラス基板は、mol%(モル%)表示で、
SiO2:60〜75%
Al2O3:0.1〜6%
B2O3:0〜3%
Li2O:0.1〜5%
Na2O:0.1〜6%
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MgO:5〜18%
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ZnO:0〜5%
TiO2:0〜5%
ZrO2:0.1〜5%
となる含有範囲を有し、かつ
0.01<(ZrO2+TiO2)/(SiO2+Al2O3+B2O3)<0.15、
0.1<Li2O/(Li2O+Na2O+K2O)<0.8、および
0.3mol%<(Li2O+Na2O+K2O)<15mol%
という条件を満たすガラス組成からなることを特徴とする。なお、本発明においては、ガラス組成を示す「%」表示は特に断らない限り「mol%」を示すものとする。また、「ZrO2+TiO2」等のような化学式の加算表記は、そのような化学式で示される成分の合計量を示すものとする。たとえば、「ZrO2+TiO2」とはZrO2とTiO2との合計量を示す。
すなわち、まずHDD用ガラス基板(ディスク)のフラッタリング量は、ディスクの固有振動がドライブ内の気流によって働く力Fの周波数に一致するときに増加する。強制振動の1次元モデルより考察すると、共鳴した時のフラッタリング量Xは、
本発明のガラス組成を構成する各構成成分について以下説明する。
本発明のHDD用ガラス基板は、上記で説明したとおり、mol%表示で、
SiO2:63〜72%
Al2O3:1〜5%
B2O3:0〜2%
Li2O:1〜4%
Na2O:1〜5%
K2O:0.1〜4%
MgO:8〜15%
CaO:1〜8%
ZnO:0〜3%
TiO2:0〜3%
ZrO2:1〜4%
となる含有範囲を有し、かつ
0.03<(ZrO2+TiO2)/(SiO2+Al2O3+B2O3)<0.12、
0.2<Li2O/(Li2O+Na2O+K2O)<0.7、および
2.1mol%<(Li2O+Na2O+K2O)<13mol%
という条件を満たすガラス組成からなることが好ましく、本発明の好適な実施態様とすることができる。
本発明のHDD用ガラス基板の製造方法は、特に限定はなく従来公知の製造方法を用いることができる。たとえば、HDD用ガラス基板を構成するガラス組成の各成分の原料として各々相当する酸化物、炭酸塩、硝酸塩、水酸化物等が使用され、所望の割合に秤量され、粉末で充分に混合して調合原料とされる。
以下の表1および表2に記載のガラス組成となるように、所定量の原料粉末を白金るつぼに秤量して入れ、混合した後、電気炉中で1550℃で溶解した。原料が充分に溶解したのち、白金製の撹拌羽をガラス融液に挿入し、1時間撹拌した。
示差熱測定装置(商品名:「EXSTAR6000」、セイコーインスツルメンツ社製)を用いて、室温〜900℃の温度範囲を10℃/minの昇温速度で、粉末状に調整したガラス試料を加熱し測定することにより、ガラス転移点を測定した。
JIS R 1602ファインセラミックスの弾性試験方法の動的弾性率試験方法に準じて、ヤング率Eを測定した。一方、アルキメデス法により、比重ρを測定した。そして、これらの測定値から、比弾性率E/ρを算出した。
各実施例および各比較例のHDD用ガラス基板に対して、大気中で650℃で1時間の熱処理を施した後、各HDD用ガラス基板に変形が発生しているか否かを確認した。
各実施例および各比較例のHDD用ガラス基板に対して、常法に基づきCo−Crの磁性層を形成することにより磁気記録媒体(磁気ディスク)を作製した。そして、この磁気ディスクをHDDに搭載して15000rpmの高速回転で5分間回転させた場合に、磁気ディスクのたわみにより磁気ヘッドが読み取り信号位置から外れるTMR(Track MisRegistration)による読み取りエラーが発生するか否かを確認した。
Claims (6)
- mol%表示で、
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となる含有範囲を有し、かつ
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0.1<Li2O/(Li2O+Na2O+K2O)<0.8、および
0.3mol%<(Li2O+Na2O+K2O)<15mol%
という条件を満たし、かつTg≧650℃であるガラス組成からなる、HDD用ガラス基板。 - 前記HDD用ガラス基板は、熱アシスト記録向けHDD用ガラス基板である、請求項1記載のHDD用ガラス基板。
- mol%表示で、
SiO2:63〜72%
Al2O3:1〜5%
B2O3:0〜2%
Li2O:1〜4%
Na2O:1〜5%
K2O:0.1〜4%
MgO:8〜15%
CaO:1〜8%
ZnO:0〜3%
TiO2:0〜3%
ZrO2:1〜4%
となる含有範囲を有し、かつ
0.03<(ZrO2+TiO2)/(SiO2+Al2O3+B2O3)<0.12、
0.2<Li2O/(Li2O+Na2O+K2O)<0.7、および
2.1mol%<(Li2O+Na2O+K2O)<13mol%
という条件を満たすガラス組成からなる、請求項1または2に記載のHDD用ガラス基板。 - 前記ガラス組成は、BaOを含有しない、請求項1〜3のいずれかに記載のHDD用ガラス基板。
- 前記HDD用ガラス基板の少なくとも端面に圧縮応力が発生している、請求項1〜4のいずれかに記載のHDD用ガラス基板。
- 請求項1〜5のいずれかに記載のHDD用ガラス基板の表面に少なくとも磁性膜を有する、磁気ディスク。
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