JP6076827B2 - コーティング装置 - Google Patents

Description

本発明は、医薬品、食品、農薬等の粉粒体のコーティング、混合、乾燥等を行なうコーティング装置に関し、特に、軸線回りに回転駆動される回転ドラムを備えたコーティング装置に関する。

医薬品、食品、農薬等の錠剤、ソフトカプセル、ペレット、顆粒、その他これらに類するもの（以下、これらを総称して粉粒体という。）にフィルムコーティングや糖衣コーティング等を施すために、回転ドラムを備えたコーティング装置が使用されている。

この種のコーティング装置は、一般にパンコーティング装置とも呼ばれ、例えば下記の特許文献１、２に記載されているように、回転ドラムは多角筒状又は円筒状の胴体部と、該胴体部から前後方向に延びる前壁部及び後壁部とを備え、水平な軸線回りに回転可能に配置される。胴体部の全周又は周囲複数箇所には多孔部で構成された通気部が設けられ、各通気部の外周側を通気ジャケットがそれぞれ覆って通気チャンネルが構成される。各通気チャンネルは、回転ドラムの回転に伴って所定位置に来たときに給気ダクト又は排気ダクトと連通し、これにより所定温度に温度制御された処理気体、例えば乾燥空気が給気ダクトから通気チャンネル及び通気部を介して回転ドラム内に給気され、また、回転ドラム内の乾燥空気が通気部及び通気チャンネルを介して排気ダクトに排気される。回転ドラムが所定方向に回転すると、回転ドラム内に粉粒体層（粉粒体粒子の転動床）が形成される。そして、回転ドラムの内部に配置されたスプレーノズルから粉粒体層に向けて膜剤液等のスプレー液が噴霧され、コーティング処理が行われる。

特開２００４−９７８５３号公報 特許第２７２６０６２号公報 特開２０１２−１８３５２８号公報

ところで、特許文献３には、回転ドラムが、軸線方向に沿って区画された複数の処理室を備えており、粉粒体粒子は軸方向一端側の前記処理室から軸方向他端側の前記処理室に順次に移送されて所定の処理を施されるコーティング装置が開示されている。この特許文献３のコーティング装置には、前記処理室内の粉粒体粒子を案内して軸方向他端側に隣接する前記処理室又は前記回転ドラムの外部に移送する移送部材が前記各処理室に設けられており、この移送部材は、各処理室の逆転動作によって粉粒体粒子を移送するものである。

しかしながら、特許文献３のコーティング装置では、各処理室で処理された粉粒体粒子を、相互に混ざらないように移送するためには、移送先の処理室内が空になるのを待たなければならない。つまり、粉粒体粒子の移送は、軸方向他端側の処理室から１つの処理室ずつ行わなければならない。このため、粉粒体粒子の移送が全ての処理室で完了するまでに少なからず時間を要することになる。

本発明は、上記事情に鑑み、回転ドラムが複数の処理室を備えたコーティング装置において、粉粒体粒子を効率良く移送することを課題とする。

上記課題を解決するため、本発明のコーティング装置は、回転ドラムの内部に収容された粉粒体粒子に対して、液材の添加と処理気体の通気を含む処理を施して被覆層を形成し、前記回転ドラムは、軸方向に沿って区画された複数の処理室を備えており、粉粒体粒子は軸方向一端側の前記処理室から軸方向他端側の前記処理室に順次に移送されて前記処理を施され、前記処理室内の粉粒体粒子を軸方向他端側に隣接する前記処理室又は前記回転ドラムの外部に移送する移送部材が前記各処理室に設けられているコーティング装置において、前記移送部材は、前記回転ドラムの内面に沿って、前記回転ドラムの軸方向に対して傾斜した方向に延在し、前記移送部材を、前記粉粒体粒子からなる粉粒体層より上側の所定位置と、該上側所定位置より下側の所定位置とに切り換える移送部材切り換え手段が設けられ、前記下側所定位置で、前記移送部材の一部が前記粉粒体層内に配置され、複数の前記処理室の間を仕切る仕切り部材が設けられ、該仕切り部材は、前記粉粒体粒子が通過するための通過部を有し、前記仕切り部材の通過部を、前記粉粒体粒子からなる粉粒体層より上方の所定位置と、該上方所定位置より下方の所定位置とに切り換える通過部切り換え手段が設けられ、前記粉粒体粒子の処理中には、前記移送部材が前記上側所定位置に配置されると共に前記通過部が前記上方所定位置に配置され、前記粉粒体粒子の移送時には、前記移送部材が前記下側所定位置に配置されると共に前記通過部が前記下方所定位置に配置され、前記処理室の回転に伴い、前記粉粒体粒子が前記移送部材によって案内され、前記移送部材によって案内された粉粒体粒子が前記通過部を通過することを特徴とする。

この構成であれば、粉粒体粒子の処理中には、移送部材が上側所定位置に配置される。そして、上側所定位置は粉粒体層より上側である。従って、粉粒体粒子の処理に移送部材が影響を与えることを抑制できる。

そして、この構成であれば、粉粒体粒子の移送時には、処理室の下方で、処理室の回転によって移送部材まで誘導された粉粒体粒子が、移送部材によって案内され、処理室から排出される。この場合、粉粒体粒子を案内するのは、移送部材における処理室の回転方向後側の部位である。従って、処理室から排出されるべき粉粒体粒子が、移送部材より回転方向後側の領域に位置するように、移送部材は配置される。このため、移送部材より回転方向前側の領域には、排出されるべき粉粒体粒子は存在しなくなる。そこで、処理室に供給される粉粒体粒子を、移送部材より回転方向前側の領域に導入するようにすれば、処理室からの粉粒体粒子の排出が完了する前でも、移送部材を境界として処理室から排出される粉粒体粒子と処理室に導入される粉粒体粒子とが混ざることを防止できる。従って、各処理室において、処理室からの粉粒体粒子の排出と処理室への粉粒体粒子の供給を、並行して実施することが可能となる。これにより、回転ドラムが複数の処理室を備えたコーティング装置において、粉粒体粒子を効率良く移送することが可能となる。

この構成であれば、粉粒体粒子の処理中には、上方所定位置に通過部が配置される。そして、上方所定位置は、粉粒体層より上方である。従って、粉粒体粒子の処理中には、処理室から隣接する処理室に粉粒体粒子が移動することが、仕切り部材によって防止される。

そして、この構成であれば、粉粒体粒子の移送時には、通過部が下方所定位置に配置され、移送中の粉粒体粒子が仕切り部材の通過部を通過するので、仕切り部材が粉粒体粒子の移送に干渉することを抑制できる。また、粉粒体粒子の移送時でも、通過部以外は仕切り部材で仕切られているので、通過部の位置を調整することにより、軸方向他端側の処理室における粉粒体粒子が導入される位置を確実に設定することができる。

そして、この構成で、前記粉粒体粒子の移送時に、前記仕切り部材の通過部が、軸方向他端側の処理室における前記移送部材より処理室の回転方向前側に通じるようにしてもよい。

この構成であれば、軸方向他端側の処理室における移送部材より処理室の回転方向前側に、粉粒体粒子を導入することができる。従って、上述のように、移送部材を境界として処理室から排出される粉粒体粒子と処理室に導入される粉粒体粒子とが混ざることを防止できる。

また、上記何れかの構成において、最も他端側の処理室の他端側に開口部が設けられ、前記粉粒体粒子を前記回転ドラムの外部に排出するための排出部材が最も他端側の処理室の内部に設けられ、前記開口部における内周面が、他端側に向かって漸次拡径した形状に形成され、前記排出部材は、前記回転ドラムの内面に設けられ、前記回転ドラムの軸方向に対して傾斜した方向に延在し、前記排出部材は、前記回転ドラムの回転により最も他端側の処理室の内部における粉粒体粒子を前記開口部に案内し、前記開口部に案内された粉粒体粒子は前記開口部の内周面に案内されて前記開口部から前記回転ドラムの外部に排出されるようにしてもよい。

この構成であれば、排出プレート等の排出部材により、最も他端側の処理室の内部における粉粒体粒子を開口部から円滑に排出することができ、かつ、点検作業等を安全かつ効率的に行うことができる。また、この構成において、更に、最も一端側の処理室の一端側に第２の開口部が設けられ、前記粉粒体粒子を前記回転ドラムの外部に排出するための第２の排出部材が最も一端側の処理室の内部に設けられ、前記第２の開口部における内周面が、一端側に向かって漸次拡径した形状に形成され、前記第２の排出部材は、前記回転ドラムの内面に設けられ、前記回転ドラムの軸方向に対して傾斜した方向に延在し、前記第２の排出部材は、前記粉粒体粒子の移送時の前記処理室の回転とは逆の方向の前記回転ドラムの回転により最も一端側の処理室の内部における粉粒体粒子を前記第２の開口部に案内し、前記第２の開口部に案内された粉粒体粒子は前記第２の開口部の内周面に案内されて前記第２の開口部から前記回転ドラムの外部に排出されるようにすることもできる。この場合には、排出プレート等の排出部材により、最も一端側の処理室の内部における粉粒体粒子を第２の開口部から円滑に排出することができ、かつ、点検作業等を安全かつ効率的に行うことができる。

また、上記何れかの構成において、前記処理気体の給気条件と、前記液材の噴霧条件の少なくとも一方を、前記処理室毎に個別的に制御してもよい。

この構成であれば、各処理室での処理を最適かつ効率的に行うことができ、これにより、コーティング品質に優れた粉粒体製品を効率的に収率よく製造することができる。

本発明によれば、回転ドラムが複数の処理室を備えたコーティング装置において、粉粒体粒子を効率良く移送することができる。

第１の実施形態に係るコーティング装置の縦断面図である。 第１の実施形態に係るコーティング装置を概念的に示す横断面図である。 図１の状態の仕切り板を図１の右側から見た図である。 排出板の配置を示す回転ドラムの胴体部の展開図である。 第２の実施形態に係るコーティング装置の縦断面図である。 参考例としてのコーティング装置の縦断面図である。 図６のＡ−Ａ線矢視断面図である。 粉粒体粒子を移送する動作の説明図である。 粉粒体粒子を移送する動作の説明図である。 粉粒体粒子を移送する動作の説明図である。 粉粒体粒子を移送する動作の説明図である。 粉粒体粒子を移送する動作の説明図である。 掻き出し板の初期位置への復帰動作の説明図である。 掻き出し板の初期位置への復帰動作の説明図である。 掻き出し板の初期位置への復帰動作の説明図である。 掻き出し板の初期位置への復帰動作の説明図である。 掻き出し板の初期位置への復帰動作の説明図である。

以下、本発明の実施形態を、図面を参照しながら説明する。

図１及び図２は、第１の実施形態に係るコーティング装置を示している。この実施形態のコーティング装置は、水平方向の軸線回りに回転する回転ドラム１と、回転ドラム１を収容するケーシング２とを備えている。

図１に示すように、回転ドラム１は、軸線方向に沿って区画された複数の処理室、例えば３つの処理室１ａ、１ｂ、１ｃを備えており、これに対応して、ケーシング２も軸線方向に沿って区画された複数の収容室、例えば３つの収容室２ａ、２ｂ、２ｃを備えている。

また、回転ドラム１は、軸方向一端の一端開口部１ｄと軸方向他端の他端開口部１ｅを有する。なお、軸方向一端は、図１で左側、軸方向他端は、図１で右側である（特に説明のない限り、以下同じ）。

回転ドラム１の一端開口部１ｄの内部空間は、粉粒体粒子を供給するための供給ゾーン１ｆを構成する。また、回転ドラム１内の処理室１ｃと他端開口部１ｅとの間の空間は、粉粒体粒子を排出するための排出ゾーン１ｇを構成する。排出ゾーン１ｇは、回転ドラム１における排出ゾーン１ｇに対応する周壁１ｇ１の一部に設けられた排出開口部１ｈを介して回転ドラム１の外部に通じている。周壁１ｇ１は、回転ドラム１の内外を通気する多孔板等からなる通気部は有さない。また、ケーシング２には、回転ドラム１に供給される粉粒体粒子を投入するための投入シュート２ｄと、回転ドラム１から排出された粉粒体粒子をコーティング装置の外部に排出するための排出シュート２ｅが付設されている。

回転ドラム１は、横断面が円形状で、ケーシング２に対して、例えば一端開口部１ｄに取り付けられた軸受１ｉと他端開口部１ｅに取り付けられた軸受１ｊによって、回転自在に収容される。また、回転ドラム１は、収容室２ａ、２ｂ、２ｃに対しても回転自在である。回転ドラム１は、回転駆動機構１ｋにより正転及び逆転駆動される。回転駆動機構１ｋは、本実施形態では、一端開口部１ｄの外周に設けられたスプロケット１ｋ１と、スプロケット１ｋ１に係合するチェーン１ｋ２と、チェーン１ｋ２を回転駆動する駆動源１ｋ３とで構成される。本実施形態では、回転ドラム１は、処理室１ａ、１ｂ、１ｃごとに分割されていない。従って、回転ドラム１の正転及び逆転に伴い、処理室１ａ、１ｂ、１ｃは正転及び逆転する。

この実施形態において、回転ドラム１における処理室１ａ、１ｂ、１ｃに対応する周壁である胴体部１ａ１、１ｂ１、１ｃ１の直径は、軸方向他端側に位置するものほど大きくなっている（１ａ１＜１ｂ１＜１ｃ１）。そして、胴体部１ａ１、１ｂ１、１ｃ１は、それぞれ、全周に亘って回転ドラム１の内外を通気する多孔板等からなる通気部を有しており、個別に設けられた排気ダクト３ａ（３ｂ、３ｃ）の排気口３ａ１（３ｂ１、３ｃ１）と所定位置で気密に摺接する。

図２に示すように、ケーシング２の収容室２ａ、２ｂ、２ｃには、それぞれ、給気ダクト４ａ、４ｂ、４ｃが接続されており、給気ダクト４ａ、４ｂ、４ｃから収容室２ａ、２ｂ、２ｃ内に供給された熱風等の処理気体は、胴体部１ａ１、１ｂ１、１ｃ１の通気部から処理室１ａ、１ｂ、１ｃ内に入り、処理室１ａ、１ｂ、１ｃ内の粉粒体層Ｍを通過して、排気口３ａ１（３ｂ１、３ｃ１）から排気ダクト３ａ（３ｂ、３ｃ）に排気される。

また、図１に示すように、回転ドラム１の処理室１ａ、１ｂ、１ｃには、それぞれ、液材、例えば膜材液等のスプレー液を噴霧するスプレーノズル５ａ、５ｂ、５ｃが設置される。スプレーノズル５ａ、５ｂ、５ｃは、ケーシング２の外部から回転ドラム１内に延在するスプレーアーム５ｄに取り付けられている。スプレー液は、スプレーアーム５ｄ内を経由してスプレーノズル５ａ、５ｂ、５ｃに供給される。

本実施形態のコーティング装置には、処理室１ａ、１ｂ、１ｃ内の粉粒体粒子を軸方向他端側に隣接する処理室１ｂ、１ｃ又は排出ゾーン１ｇに移送する移送部材としての排出板６ａ、６ｂ、６ｃが各処理室１ａ、１ｂ、１ｃに設けられている。また、処理室１ａ、１ｂ、１ｃと軸方向他端側に隣接する処理室１ｂ、１ｃ又は排出ゾーン１ｇとの間を仕切る仕切り部材としての仕切り板７ａ、７ｂ、７ｃが設けられている。また、本実施形態では、処理室１ａと供給ゾーン１ｆとの間の間を仕切る仕切り板７ｄも設けられている。

本実施形態では、仕切り板７ａ〜７ｄが、排出板６ａ、６ｂ、６ｃによって連結され、相互に固定されている。また、仕切り板７ａ〜７ｄの間を軸方向に沿って連結固定する連結部材８ａ、８ｂ、８ｃも設けられている。連結部材８ａ、８ｂ、８ｃには、各処理室１ａ、１ｂ、１ｃで処理中に粉粒体粒子を撹拌するためのバッフル９ａ、９ｂ、９ｃが固定されている。

そして、コーティング装置には、排出板６ａ、６ｂ、６ｃの位置を切り換える移送部材切り換え手段１０が設けられている。移送部材切り換え手段１０は、仕切り板７ｃに取り付けられた駆動軸１０ａと駆動軸１０ａを回動させる駆動源１０ｂを備える。駆動軸１０ａは、回転ドラム１の他端開口部１ｅによって軸受１０ａ１を介して回転自在に支持されている。

また、仕切り板７ｄには、軸方向一端側に延びる円筒状の支持部１１が設けられている。この支持部１１の一端側端部は、スプレーアーム５ｄに固定された閉塞部材５ｄ１によって、閉塞されている。支持部１１は、閉塞部材５ｄ１に対して、回転自在である。また、支持部１１は、ケーシング２によって軸受１１ａを介して回転自在に支持されている。

図３に示すように、仕切り板７ａ、７ｂ、７ｃは、粉粒体粒子が通過するための通過部としての開口部７ａ１、７ｂ１、７ｃ１をそれぞれ有する。また、仕切り板７ｄも、通過部としての開口部７ｄ１を有する（図１、図４参照）。上述のように、仕切り板７ａ、７ｂ、７ｃは、排出板６ａ、６ｂ、６ｃ及び連結部材８ａ、８ｂ、８ｃに連結固定されているので、排出板６ａ、６ｂ、６ｃと共に、図３の白矢印のように、移送部材切り換え手段１０によって、位置が切り換えられる。詳述すれば、排出板６ａ、６ｂ、６ｃは、粉粒体粒子からなる粉粒体層Ｍより上側の所定位置Ｈ１ａ、Ｈ１ｂ、Ｈ１ｃと、該上側所定位置Ｈ１ａ、Ｈ１ｂ、Ｈ１ｃより下側の所定位置Ｌ１ａ、Ｌ１ｂ、Ｌ１ｃ（図３に二点鎖線で示す）とに、移送部材切り換え手段１０によって切り換えられる。また、仕切り板７ａ、７ｂ、７ｃの開口部７ａ１、７ｂ１、７ｃ１も、粉粒体層Ｍより上方の所定位置Ｈ２ａ、Ｈ２ｂ、Ｈ２ｃと、該上方所定位置Ｈ２ａ、Ｈ２ｂ、Ｈ２ｃより下方の所定位置Ｌ２ａ、Ｌ２ｂ、Ｌ２ｃ（図３に二点鎖線で示す）とに、移送部材切り換え手段１０によって切り換えられる。なお、図示は省略するが、仕切り板７ａ、７ｂ、７ｃの開口部７ａ１、７ｂ１、７ｃ１と同様に、仕切り板７ｄの開口部７ｄ１も、粉粒体層Ｍより上方の所定位置と、該上方所定位置より下方の所定位置とに、移送部材切り換え手段１０によって切り換えられる。

図４で、二点鎖線は、処理室１ａ、１ｂ、１ｃの周壁（胴体部１ａ１、１ｂ１、１ｃ１）のそれぞれを周方向に８等分する仮想の線である。図４で、点線は、仕切り板７ａ〜７ｄの開口部７ａ１〜７ｄ１の位置を示す。図４の白矢印は、粉粒体粒子を移送する時の回転ドラム１の回転方向を示す。つまり、図４の下側が、回転ドラム１の回転方向の前側である。なお、本実施形態では、粉粒体粒子移送時の回転ドラム１の回転方向は、粉粒体粒子処理時の回転ドラム１の回転方向とは反対である。図４から分かるように、排出板６ａ、６ｂ、６ｃは、回転ドラム１の軸方向に対して傾斜している。また、仕切り板７ａ、７ｂ、７ｃの開口部７ａ１、７ｂ１、７ｃ１は、軸方向他端側の処理室１ｂ、１ｃにおける排出板６ｂ、６ｃより、粉粒体粒子移送時の回転ドラム１の回転方向前側に開口している。また、仕切り板７ｄの開口部７ｄ１も、処理室１ａにおける排出板６ａより、粉粒体粒子移送時の回転ドラム１の回転方向前側に開口している。

粉粒体粒子の処理中には、移送部材切り換え手段１０によって、排出板６ａ、６ｂ、６ｃが上側所定位置Ｈ１ａ、Ｈ１ｂ、Ｈ１ｃに配置固定されると共に、仕切り板７ａ、７ｂ、７ｃの開口部７ａ１、７ｂ１、７ｃ１が上方所定位置Ｈ２ａ、Ｈ２ｂ、Ｈ２ｃに配置固定される（仕切り板７ｄの開口部７ｄ１も上方所定位置に配置固定される）。また、バッフル９ａ、９ｂ、９ｃは、下方の所定位置に配置固定される（図１参照）。上側所定位置Ｈ１ａ、Ｈ１ｂ、Ｈ１ｃは粉粒体層Ｍより上側なので、粉粒体粒子の処理に排出板６ａ、６ｂ、６ｃが影響を与えることを抑制できる。また、上方所定位置Ｈ２ａ、Ｈ２ｂ、Ｈ２ｃは、粉粒体層Ｍより上方なので、粉粒体粒子の処理中には、軸方向他端側に隣接する処理室１ｂ、１ｃや排出ゾーン１ｇに粉粒体粒子が移動することが、仕切り板７ａ、７ｂ、７ｃによって防止される。また、バッフル９ａ、９ｂ、９ｃによって、粉粒体粒子の撹拌効率が向上する。

一方、粉粒体粒子の移送時には、移送部材切り換え手段１０によって、排出板６ａ、６ｂ、６ｃが下側所定位置Ｌ１ａ、Ｌ１ｂ、Ｌ１ｃに配置固定されると共に、仕切り板７ａ、７ｂ、７ｃの開口部７ａ１、７ｂ１、７ｃ１が下方所定位置Ｌ２ａ、Ｌ２ｂ、Ｌ２ｃに配置固定される（仕切り板７ｄの開口部７ｄ１も下方所定位置に配置固定される）。また、バッフル９ａ、９ｂ、９ｃは、上方の所定位置に配置固定される。

粉粒体粒子の移送時には、処理室１ａ、１ｂ、１ｃの下側所定位置Ｌ１ａ、Ｌ１ｂ、Ｌ１ｃに固定された排出板６ａ、６ｂ、６ｃまで、回転ドラム１の回転によって粉粒体粒子が誘導される。そして、この粉粒体粒子は、排出板６ａ、６ｂ、６ｃが軸線に対して傾斜していることにより、排出板６ａ、６ｂ、６ｃによって仕切り板７ａ、７ｂ、７ｃの開口部７ａ１、７ｂ１、７ｃ１に案内され、開口部７ａ１、７ｂ１、７ｃ１を通過して処理室１ａ、１ｂ、１ｃから排出される。そして、仕切り板７ａ、７ｂの開口部７ａ１、７ｂ１は、処理室１ｂ、１ｃにおける排出板６ｂ、６ｃよりも、回転ドラム１の回転方向前側に開口しているので、処理室１ｂ、１ｃにおける排出板６ｂ、６ｃよりも、回転ドラム１の回転方向前側に粉粒体粒子を導入することができる。これにより、排出板６ｂを境界として、処理室１ｂから排出される粉粒体粒子と処理室１ｂに導入される粉粒体粒子とが混ざることを防止でき、排出板６ｃを境界として、処理室１ｃから排出される粉粒体粒子と処理室１ｃに導入される粉粒体粒子とが混ざることを防止できる。従って、各処理室１ａ、１ｂ、１ｃにおいて、処理室１ａ、１ｂ、１ｃからの粉粒体粒子の排出と処理室１ｂ、１ｃへの粉粒体粒子の供給を、並行して実施することが可能となる。更に、バッフル９ａ、９ｂ、９ｃは上方の所定位置に配置固定されるので、バッフル９ａ、９ｂ、９ｃが粉粒体粒子の移送に干渉することがない。これにより、本実施形態のコーティング装置では、粉粒体粒子を効率良く移送することが可能となる。

粉粒体粒子の移送時に、排出板６ａ、６ｂ、６ｃの回転ドラム１の回転方向後側（図４で上側）の部位によって、粉粒体粒子が案内される。従って、排出されるべき粉粒体粒子は、下側所定位置Ｌ１ａ、Ｌ１ｂ、Ｌ１ｃにおける排出板６ａ、６ｂ、６ｃの回転方向後側の領域に、最初から配置されることが好ましい。このために、本実施形態では、排出板６ａ、６ｂ、６ｃは、回転ドラム１の回転方向後側から下側所定位置Ｌ１ａ、Ｌ１ｂ、Ｌ１ｃに向かうように（図３で、白矢印の下向き（反時計回り）に）、移送部材切り換え手段１０によって移動される。

排出板６ａ、６ｂ、６ｃの下側所定位置Ｌ１ａ、Ｌ１ｂ、Ｌ１ｃは、粉粒体粒子が全て排出されるように、排出板６ａ、６ｂ、６ｃの軸線に対する傾斜角度、粉粒体粒子移送時の回転ドラム１の回転速度、粉粒体粒子の大きさや重量等を考慮して設定される。

上記のように構成された第１の実施形態のコーティング装置による粉粒体粒子に対する動作の全体の流れは次のようになる。

コーティング装置の初期状態（図１の状態）では、移送部材切り換え手段１０によって、排出板６ａ、６ｂ、６ｃと仕切り板７ａ、７ｂ、７ｃの開口部７ａ１、７ｂ１、７ｃ１は、それぞれ上側所定位置Ｈ１ａ、Ｈ１ｂ、Ｈ１ｃと上方所定位置Ｈ２ａ、Ｈ２ｂ、Ｈ２ｃに配置固定されている（仕切り板７ｄの開口部７ｄ１も上方所定位置に配置固定されている）。この状態では、供給ゾーン１ｆ、処理室１ａ、１ｂ、１ｃ、排出ゾーン１ｇの下方は、相互に仕切り板７ａ〜７ｄで仕切られている。

そして、被覆層を形成すべき錠剤等の粉粒体粒子をコーティング装置に投入する前に、移送部材切り換え手段１０によって、排出板６ａ、６ｂ、６ｃが下側所定位置Ｌ１ａ、Ｌ１ｂ、Ｌ１ｃに配置固定されると共に、仕切り板７ａ、７ｂ、７ｃの開口部７ａ１、７ｂ１、７ｃ１が下方所定位置Ｌ２ａ、Ｌ２ｂ、Ｌ２ｃに配置固定される（仕切り板７ｄの開口部７ｄ１も下方所定位置に配置固定される）。これにより、供給ゾーン１ｆ、処理室１ａ、１ｂ、１ｃ、排出ゾーン１ｇの下方は、相互に開口部７ａ１〜７ｄ１で連通する。

被覆層を形成すべき錠剤等の粉粒体粒子が、投入シュート２ｄから、コーティング装置に投入される。投入シュート２ｄから投入された粉粒体粒子は、回転ドラム１の供給ゾーン１ｆ、下方所定位置に配置された仕切り板７ｄの開口部７ｄ１を介して、処理室１ａの内部に供給される。

次に、移送部材切り換え手段１０によって、初期状態（図１の状態）に切り換えられる。つまり、排出板６ａ、６ｂ、６ｃと仕切り板７ａ、７ｂ、７ｃの開口部７ａ１、７ｂ１、７ｃ１は、それぞれ上側所定位置Ｈ１ａ、Ｈ１ｂ、Ｈ１ｃと上方所定位置Ｈ２ａ、Ｈ２ｂ、Ｈ２ｃに配置固定される（仕切り板７ｄの開口部７ｄ１も上方所定位置に配置固定されている）。これにより、供給ゾーン１ｆ、処理室１ａ、１ｂ、１ｃ、排出ゾーン１ｇの下方は、相互に仕切り板７ａ〜７ｄで仕切られる。

そして、回転ドラム１が回転駆動機構１ｋにより正転駆動されると、処理室１ａの正転に伴い、内部の粉粒体粒子が攪拌混合されて粉粒体層（転動床）Ｍが形成される。そして、粉粒体層Ｍに対して、スプレーノズル５ａからスプレー液が噴霧される。粉粒体層Ｍに噴霧されたスプレー液は、処理室１ａの正転に伴う粉粒体層Ｍの攪拌混合作用によって、各粉粒体粒子の表面に展延される。粉粒体粒子の表面に展延されたスプレー液は、処理室１ａの内部に供給される処理気体（温風等）によって乾燥される。この処理気体は、給気ダクト４ａから収容室２ａの内部空間を介して処理室１ａ内に流入し、粉粒体層Ｍの中を通過して、排気口３ａ１から排気ダクト３ａに排気される。処理気体が粉粒体層Ｍの中を通過することにより、各粉粒体粒子の表面に展延されたスプレー液が斑なく均一に乾燥されて第１被覆層が形成される。

処理室１ａにおいて、上記の所定の処理が終了し、粉粒体粒子の表面に第１被覆層が形成されると、移送部材切り換え手段１０によって、排出板６ａ、６ｂ、６ｃと仕切り板７ａ、７ｂ、７ｃの開口部７ａ１、７ｂ１、７ｃ１は、それぞれ下側所定位置Ｌ１ａ、Ｌ１ｂ、Ｌ１ｃと下方所定位置Ｌ２ａ、Ｌ２ｂ、Ｌ２ｃに配置固定される（仕切り板７ｄの開口部７ｄ１も下方所定位置に配置固定される）。これにより、供給ゾーン１ｆ、処理室１ａ、１ｂ、１ｃ、排出ゾーン１ｇの下方は、相互に開口部７ａ１〜７ｄ１で連通する。

そして、回転ドラム１が回転駆動機構１ｋにより逆転駆動され、処理室１ａの逆転に伴い、処理室１ａ内の粉粒体粒子が、上述したように、排出板６ａによって、軸方向他端側に隣接する処理室１ｂに移送される。

粉粒体粒子が処理室１ａから処理室１ｂに移送されると、移送部材切り換え手段１０によって、初期状態（図１の状態）に切り換えられる。つまり、排出板６ａ、６ｂ、６ｃと仕切り板７ａ、７ｂ、７ｃの開口部７ａ１、７ｂ１、７ｃ１は、それぞれ上側所定位置Ｈ１ａ、Ｈ１ｂ、Ｈ１ｃと上方所定位置Ｈ２ａ、Ｈ２ｂ、Ｈ２ｃに配置固定される（仕切り板７ｄの開口部７ｄ１も上方所定位置に配置固定される）。これにより、供給ゾーン１ｆ、処理室１ａ、１ｂ、１ｃ、排出ゾーン１ｇの下方は、相互に仕切り板７ａ〜７ｄで仕切られる。

そして、回転ドラム１が回転駆動機構１ｋにより正転駆動され、処理室１ｂが正転駆動される。そして、処理室１ｂに設置されたスプレーノズル５ｂから、処理室１ａで用いるスプレー液とは異なる成分のスプレー液が粉粒体粒子の被覆層（第１被覆層）の表面に噴霧され、上記と同様の態様で、第１被覆層の表面に第２被覆層が形成される。

処理室１ｂにおいて、上記の所定の処理が終了し、粉粒体粒子の表面に第１及び第２被覆層が形成されると、移送部材切り換え手段１０によって、排出板６ａ、６ｂ、６ｃと仕切り板７ａ、７ｂ、７ｃの開口部７ａ１、７ｂ１、７ｃ１は、それぞれ下側所定位置Ｌ１ａ、Ｌ１ｂ、Ｌ１ｃと下方所定位置Ｌ２ａ、Ｌ２ｂ、Ｌ２ｃに配置固定される（仕切り板７ｄの開口部７ｄ１も下方所定位置に配置固定される）。これにより、供給ゾーン１ｆ、処理室１ａ、１ｂ、１ｃ、排出ゾーン１ｇの下方は、相互に開口部７ａ１〜７ｄ１で連通する。

そして、回転ドラム１が回転駆動機構１ｋにより逆転駆動され、処理室１ｂの逆転に伴い、処理室１ｂ内の粉粒体粒子が、上述したように、排出板６ｂによって、軸方向他端側に隣接する処理室１ｃに移送される。

粉粒体粒子が処理室１ｂから処理室１ｃに移送されると、移送部材切り換え手段１０によって、初期状態（図１の状態）に切り換えられる。つまり、排出板６ａ、６ｂ、６ｃと仕切り板７ａ、７ｂ、７ｃの開口部７ａ１、７ｂ１、７ｃ１は、それぞれ上側所定位置Ｈ１ａ、Ｈ１ｂ、Ｈ１ｃと上方所定位置Ｈ２ａ、Ｈ２ｂ、Ｈ２ｃに配置固定される（仕切り板７ｄの開口部７ｄ１も上方所定位置に配置固定されている）。これにより、供給ゾーン１ｆ、処理室１ａ、１ｂ、１ｃ、排出ゾーン１ｇの下方は、相互に仕切り板７ａ〜７ｄで仕切られる。

そして、回転ドラム１が回転駆動機構１ｋにより正転駆動され、処理室１ｃが正転駆動される。そして、処理室１ｃに設置されたスプレーノズル５ｃから、処理室１ｂで用いるスプレー液とは異なる成分のスプレー液が粉粒体粒子の第２被覆層の表面に噴霧され、上記と同様の態様で、第２被覆層の表面に第３被覆層が形成される。

処理室１ｃにおいて、上記の所定の処理が終了し、粉粒体粒子の表面に第１〜第３被覆層が形成され、所望の粉粒体製品として完成されると、移送部材切り換え手段１０によって、排出板６ａ、６ｂ、６ｃと仕切り板７ａ、７ｂ、７ｃの開口部７ａ１、７ｂ１、７ｃ１は、それぞれ下側所定位置Ｌ１ａ、Ｌ１ｂ、Ｌ１ｃと下方所定位置Ｌ２ａ、Ｌ２ｂ、Ｌ２ｃに配置固定される。（仕切り板７ｄの開口部７ｄ１も下方所定位置に配置固定される）。これにより、供給ゾーン１ｆ、処理室１ａ、１ｂ、１ｃ、排出ゾーン１ｇの下方は、相互に開口部７ａ１〜７ｄ１で連通する。

そして、回転ドラム１が回転駆動機構により逆転駆動され、処理室１ｃの逆転に伴い、処理室１ｃ内の粉粒体製品が、上述したように、排出板６ｃによって、開口部７ｃ１から排出ゾーン１ｇに移送される。排出ゾーン１ｇに移送された粉粒体製品は、周壁１ｇ１の排出開口部１ｈを介して、回転ドラム１の外部に排出される。そして、回転ドラム１から排出された粉粒体製品は、排出シュート２ｅを介してケーシング２の外部に排出される。

その後、移送部材切り換え手段１０によって、移送部材切り換え手段１０によって、初期状態（図１の状態）に切り換えられる。つまり、排出板６ａ、６ｂ、６ｃと仕切り板７ａ、７ｂ、７ｃの開口部７ａ１、７ｂ１、７ｃ１は、それぞれ上側所定位置Ｈ１ａ、Ｈ１ｂ、Ｈ１ｃと上方所定位置Ｈ２ａ、Ｈ２ｂ、Ｈ２ｃに配置固定される（仕切り板７ｄの開口部７ｄ１も上方所定位置に配置固定される）。これで、第１の実施形態のコーティング装置による粉粒体に対する動作は完了である。

コーティング装置による上記のコーティング処理は、バッチ式（回分式）で行っても良いし、連続式で行っても良い。ただし、本実施形態のコーティング装置は、上述のように、排出板６ａ、６ｂ、６ｃを境界として、粉粒体粒子の移送の際に、処理室に供給中の粉粒体粒子とこの処理室から排出中の粉粒体粒子とは混ざらないので、連続式でコーティング処理を行うのに好適である。

バッチ式で行う場合は、例えば、所定量の粉粒体粒子を回転ドラム１の処理室１ａに投入し、処理室１ａ〜１ｃでの一連の処理を順次に行って外部に排出した後、次の所定量の粉粒体粒子を回転ドラム１の処理室１ａに投入して同様の処理を繰り返す。

連続式で行う場合は、例えば、処理室１ａでの粉粒体粒子の処理が終了し、粉粒体粒子を処理室１ａから処理室１ｂに移送する際に、次の粉粒体粒子を処理室１ａに投入し、処理室１ａ及び処理室１ｂで粉粒体粒子の処理と同時並行的に行う。そして、処理室１ａ及び処理室１ｂでの粉粒体粒子の処理が終了し、粉粒体粒子を処理室１ａから処理室１ｂ、処理室１ｂから処理室１ｃに移送する際に、次の粉粒体粒子を処理室１ａに投入し、処理室１ａ、処理室１ｂ及び処理室１ｃで粉粒体粒子の処理と同時並行的に行う。処理室１ａ、処理室１ｂ及び処理室１ｃでの粉粒体粒子の処理が終了し、粉粒体粒子を処理室１ａから処理室１ｂ、処理室１ｂから処理室１ｃに移送すると共に、粉粒体製品を処理室１ｃから外部に排出する際に、さらに次の粉粒体粒子を処理室１ａに投入し、処理室１ａ、処理室１ｂ及び処理室１ｃで粉粒体粒子の処理と同時並行的に行い、以後、同様の操作を繰り返す。

コーティング装置では、粉粒体粒子に対するコーティング処理の初期段階の処理を行う処理室１ａは、胴体部１ａ１の直径が最も小さいため、処理室１ａ内での粉粒体層Ｍの層高さを相対的に小さくして所定の処理（第１被覆層の形成）を行うことができる。これにより、粉粒体粒子が脆い物性を有するものであっても、重力等の影響に起因する割れや欠けが発生することが低減される。処理室１ａで第１被覆層が形成された粉粒体粒子は、粒子径がやや大きくなった状態で処理室１ｂに移送されて所定の処理（第２被覆層の形成）が行われるが、処理室１ｂは、胴体部１ｂ１の直径が処理室１ａよりも大きいため、回転数が同じであっても、胴体部１ｂ１の周速は処理室１ａよりも大きくなる。そのため、処理室１ｂでは、スプレーノズル５ｂによるスプレー液の噴霧速度を処理室１ａよりも大きくして、効率的な処理を行うことができる。また、処理室１ｂで第２被覆層が形成された粉粒体粒子は、粒子径が更に大きくなった状態で処理室１ｃに移送されて所定の処理（第３被覆層の形成）が行われるが、処理室１ｃは、胴体部１ｃ１の直径が処理室１ｂよりも大きいため、回転数が同じであっても、胴体部１ｃ１の周速は処理室１ｂよりも大きくなる。そのため、処理室１ｃでは、スプレーノズル５ｃによるスプレー液の噴霧速度を処理室１ｂよりも更に大きくして、効率的な処理を行うことができる。

また、上記実施形態のコーティング装置では、粉粒体粒子の処理中と粉粒体粒子の移送時とで、回転ドラム１の回転方向が逆となっているが、特にこれに限定されず、粉粒体粒子の処理中と移送時とで、回転ドラム１の回転方向が同じとなるように構成することもできる。

また、コーティング装置は、処理気体の給気条件及びスプレー液の噴霧条件の少なくとも一方を処理室１ａ、１ｂ、１ｃ毎に個別的に制御することにより、各処理室１ａ、１ｂ、１ｃでの処理を最適かつ効率的に行うことができ、これにより、コーティング品質に優れた粉粒体製品を効率的に収率よく製造することができる。

また、上記実施形態では、１つの回転ドラム１が、３つの処理室１ａ、１ｂ、１ｃを備えており、この回転ドラム１を１つの回転駆動機構１ｋで駆動しているが、処理室１ａ、１ｂ、１ｃごとに、回転ドラムを別体として、各回転ドラムを別の回転駆動機構で駆動してもよい。この場合には、回転ドラム１の回転数を処理室１ａ、１ｂ、１ｃ毎に個別的に制御することにより、各処理室１ａ、１ｂ、１ｃでの処理を更に最適かつ効率的に行うことができ、これにより、コーティング品質に優れた粉粒体製品を更に効率的に収率よく製造することができる。

また、上記実施形態では、排出板６ａ、６ｂ、６ｃと仕切り板７ａ、７ｂ、７ｃの位置を全て単一の移送部材切り換え手段１０で切り換えたが、排出板６ａ、６ｂ、６ｃの位置と、仕切り板７ａ、７ｂ、７ｃの位置とを、別の切り換え手段で切り換えてもよい。また、排出板６ａ、６ｂ、６ｃのそれぞれの位置を別の切り換え手段で切り換えてもよいし、仕切り板７ａ、７ｂ、７ｃのそれぞれの位置を別の切り換え手段で切り換えてもよい。

次に、第２の実施形態に係るコーティング装置について図５を参照しつつ説明する。ここでは、第１実施形態と異なる点を中心に説明し、第１実施形態と同様の構成については説明を割愛する。

図５に示すように、本実施形態のコーティング装置では、粉粒体処理時に処理室１ｃと排出ゾーン１ｇとを仕切るという意味での仕切り板７ｃが設けられていない（ただし、移送時に処理室１ｃと排出ゾーン１ｇとを連通する開口部７ｃ１は存在する）。代わりに、本実施形態のコーティング装置では、処理室１ｃと排出ゾーン１ｇとを区画する環状の突出部１ｎが回転ドラム１の内周に設けられている。突出部１ｎは、排出ゾーン１ｇに開口する開口部１ｏを有する。開口部１ｏは処理室１ｃの軸方向他端側に設けられている。また、粉粒体処理時に処理室１ａと供給ゾーン１ｆとを仕切るという意味での仕切り板７ｄも設けられていない（ただし、移送時に処理室１ａと供給ゾーン１ｆとを連通する開口部７ｄ１は存在する）。

また、ケーシング２には、回転ドラム１の一端開口部１ｄ（処理室１ａの軸方向一端側に設けられた第２の開口部）から排出された粉粒体粒子をコーティング装置の外部に排出するための排出シュート２ｆが回転ドラム１の一端側に付設されている。また、ケーシング２に対して回転ドラム１を支持する軸受１ｊは、他端開口部１ｅではなく、突出部１ｎが設けられた回転ドラム１の部位の外周に取り付けられている。そして、回転ドラム１に対して、駆動軸１０ａを支持する軸受１０ａ１は、回転ドラム１の他端開口部１ｅの内周ではなく、他端開口部１ｅの外側に取り付けられている。

そして、両端の処理室１ａ、１ｃの内部における粉粒体粒子を回転ドラム１の外部に排出するための排出部材としての排出プレート１５、１６を回転ドラム１の内部に備える。排出プレート１５、１６は、それぞれ、処理室１ａ、１ｃの端面１７、１８に設けられている。

排出プレート１５、１６は、例えば、長手方向に沿って屈曲した屈曲部を有する板状部材で構成される。そして、排出プレート１５は、端面１７の他端から一端（一端開口部１ｄの他端）の軸方向位置まで延在し、その延在方向は、（展開図で見た場合）回転ドラム１の軸方向に対して傾斜している。この実施形態では、排出プレート１５の一端部は、開口部１ｄの他端に円滑に接続されている。また、排出プレート１６は、端面１８の一端から他端（開口部１ｏの一端）の軸方向位置まで延在し、その延在方向は、（展開図で見た場合）回転ドラム１の軸方向に対して傾斜している。この実施形態では、排出プレート１６の他端部は、開口部１ｏの一端に円滑に接続されている。回転ドラム１の軸方向に対する排出プレート１５、１６の傾斜の向きは、回転ドラム１の軸方向に対する排出板６ａ、６ｂ、６ｃの傾斜の向きと反対である（図４参照）。

処理室１ａ、１ｃの端面１７、１８は、軸方向断面で、回転ドラム１の径方向に対して傾斜している。開口部１ｄにおける内周面１ｐが、軸方向一端側に向かって漸次拡径した形状、例えば軸方向一端側に向かって角度α（回転ドラム１の軸線となす角度）の円錐角で漸次拡径した円錐面に形成されている。開口部１ｏにおける内周面１ｑが、軸方向他端側に向かって漸次拡径した形状、例えば軸方向他端側に向かって角度α（回転ドラム１の軸線となす角度）の円錐角で漸次拡径した円錐面に形成されている。尚、開口部１ｄ、１ｏの内周面１ｐ、１ｑは、一端側、他端側に向かって漸次拡径した形状に形成すれば良く、必ずしも円錐面に形成する必要はない。例えば、開口部１ｄ、１ｏの内周面１ｐ、１ｑは、一端側、他端側に向かって曲面状に漸次拡径した形状に形成しても良い。

次に、本実施形態での粉粒体粒子の移送時における粉粒体粒子の流れについて説明する。

粉粒体粒子の移送時における排出板６ａ、６ｂ、６ｃ、仕切り板７ａ、７ｂの開口部７ａ１、７ｂ１、及び開口部７ｃ１、７ｄ１の配置は、第１実施形態と同様である。そして、第１実施形態と同じ方向（図４の白矢印）に、回転ドラム１を回転させる。

この場合、処理室１ａ、１ｂ、１ｃにおける排出板６ａ、６ｂ、６ｃと、開口部７ａ１、７ｂ１周辺での粉粒体粒子の流れは、第１実施形態と同様である。そして、処理室１ｃにおいて、排出板６ｃによって案内され、開口部７ｃ１を通過した粉粒体粒子は、端面１８に設けられた排出プレート１６によってすくい上げられて開口部１ｏまで案内される。そして、排出プレート１６によって開口部１ｏに案内された粉粒体粒子は、他端側に向かって角度αで漸次拡径した円錐面状の内周面１ｑに案内されて他端側に進み、開口部１ｏから排出ゾーン１ｇを介して回転ドラム１の外部に排出される。そして、回転ドラム１の外部に排出された粉粒体粒子は、ケーシング２の排出シュート２ｅから装置外に排出される。

更に、本実施形態では、排出板６ａ、６ｂ、６ｃ、仕切り板７ａ、７ｂの開口部７ａ１、７ｂ１、及び開口部７ｃ１、７ｄ１を第１実施形態と同様の配置として、第１実施形態とは逆の方向に、回転ドラム１を回転させて、粉粒体粒子を移送することができる。

この場合、排出板６ａ、６ｂ、６ｃまで、回転ドラム１の回転によって粉粒体粒子が誘導される。そして、この粉粒体粒子は、排出板６ａ、６ｂ、６ｃが軸線に対して傾斜していることにより、排出板６ａ、６ｂ、６ｃによって仕切り板７ａ、７ｂの開口部７ａ１、７ｂ１及び開口部７ｄ１に案内され、開口部７ａ１、７ｂ１、７ｄ１を通過する（図４参照）。

仕切り板７ａ、７ｂの開口部７ａ１、７ｂ１を通過した粉粒体粒子は、処理室１ｂ、１ｃから排出される。そして、仕切り板７ａ、７ｂの開口部７ａ１、７ｂ１は、処理室１ａ、１ｂにおける排出板６ａ、６ｂよりも、回転ドラム１の回転方向前側に開口しているので、処理室１ａ、１ｂにおける排出板６ａ、６ｂよりも、回転ドラム１の回転方向前側に粉粒体粒子を導入することができる。これにより、排出板６ａを境界として、処理室１ａから排出される粉粒体粒子と処理室１ａに導入される粉粒体粒子とが混ざることを防止でき、排出板６ｂを境界として、処理室１ｂから排出される粉粒体粒子と処理室１ｂに導入される粉粒体粒子とが混ざることを防止できる。従って、各処理室１ａ、１ｂ、１ｃにおいて、処理室１ａ、１ｂ、１ｃからの粉粒体粒子の排出と処理室１ａ、１ｂへの粉粒体粒子の供給を、並行して実施することが可能となる。更に、バッフル９ａ、９ｂ、９ｃは上方の所定位置に配置固定されるので、バッフル９ａ、９ｂ、９ｃが粉粒体粒子の移送に干渉することがない。これにより、本実施形態のコーティング装置では、粉粒体粒子を効率良く移送することが可能となる。

そして、処理室１ａにおいて、排出板６ａによって案内されて開口部７ｄ１を通過した粉粒体粒子は、端面１７に設けられた排出プレート１５によってすくい上げられて開口部１ｄまで案内される。そして、排出プレート１５によって開口部１ｄに案内された粉粒体粒子は、一端側に向かって角度αで漸次拡径した円錐面状の内周面１ｐに案内されて一端側に進み、開口部１ｄから供給ゾーン１ｆを介して回転ドラム１の外部に排出される。そして、回転ドラム１の外部に排出された粉粒体粒子は、ケーシング２の排出シュート２ｆから装置外に排出される。

このように、この実施形態では、粉粒体粒子の移送時、回転ドラム１の回転により、回転ドラム１の内部の粉粒体粒子を排出プレート１５、１６により開口部１ｄ、１ｏに案内し、開口部１ｄ、１ｏの円錐面状の内周面１ｐ、１ｑを滑らせて一端側、他端側に案内して、開口部１ｄ、１ｏから回転ドラム１の外部に排出する構成にしている。これにより、排出プレート１５の一端、排出プレート１６の他端を、従来装置のように、開口部１ｄの一端、開口部１ｏの他端まで延在させなくても、回転ドラム１の内部の粉粒体粒子を円滑に回転ドラム１の外部に排出することができる。すなわち、この実施形態において、排出プレート１５の一端は開口部１ｄの他端の軸方向位置まで延びており、その位置から一端側には延在しておらず、一方、排出プレート１６の他端は開口部１ｏの一端の軸方向位置まで延びており、その位置から他端側には延在していない。このように、開口部１ｄ、１ｏには、排出プレート１５、１６の延在部分がないので、回転ドラム１の内部の点検作業等を安全かつ効率的に行うことができる。

次に、参考例としてのコーティング装置について図６、図７を参照しつつ説明する。ここでは、第１実施形態と異なる点を中心に説明し、第１実施形態と同様の構成については説明を割愛する。

図６に示すように、本参考例のコーティング装置は、区切り部材としての区切り板１２ａ、１２ｂと、移送部材としての掻き出し板１３ａ、１３ｂ、１３ｃと、スライド板１４と、掻き出し板１３ａ、１３ｂ、１３ｃを移動するための移送部材移動手段（不図示）とを備えている。回転ドラム１の形状は第１実施形態と同様である。区切り板１２ａは、処理室１ａと軸方向他端側に隣接する処理室１ｂとの間を区切り、区切り板１２ｂは、処理室１ｂと軸方向他端側に隣接する処理室１ｃとの間を区切る。スライド板１４は、処理室１ａ、１ｂ、１ｃと排出ゾーン１ｇとの間を区切る。なお、軸方向一端は、図６で左側、軸方向他端は、図６で右側である（特に説明のない限り、以下同じ）。

本参考例では、区切り板１２ａ、１２ｂは、回転ドラム１に対して固定されている。また、本参考例では、掻き出し板１３ａ、１３ｂ、１３ｃとスライド板１４は、回転ドラム１に対して相対回転しないように構成されているが、軸線方向に沿って移動可能である。移送部材移動手段は、例えば、回転ドラム１の外部に設置されるアクチュエータ等の駆動源と、回転ドラム１の他端開口部１ｅ内を経由して掻き出し板１３ａ、１３ｂ、１３ｃおよびスライド板１４と接続され、駆動源によって軸線方向に沿って駆動される駆動軸とで構成される。

図７に示すように、区切り板１２ａは、円環状であり、粉粒体粒子が通過するための通過部としての開口部１２ａ１を図７（図６）で上方の所定位置Ｈ３ａに有する。区切り板１２ｂも円環状であり、粉粒体粒子が通過するための通過部としての開口部１２ｂ１を図６で上方の所定位置Ｈ３ｂに有する。また、図７に示すように、掻き出し板１３ｂも、円環状であり、粉粒体粒子が通過するための通過部としての開口部１３ｂ１を図７（図６）で下側の所定位置Ｌ４ｂに有する。また、掻き出し板１３ａ、１３ｃも、円環状であり、粉粒体粒子が通過するための通過部としての開口部１３ａ１、１３ｃ１を図６で下側の所定位置Ｌ４ａ、Ｌ４ｃに有する。また、スライド板１４は、円環状であるが、粉粒体粒子が通過するための通過部としての開口部を有さない。本参考例では、区切り板１２ａ、１２ｂの開口部と掻き出し板の開口部とは、周方向の位置が１８０°異なるように構成されているが、周方向位置はその他の角度で異なってもよい。

本参考例では、区切り板１２ａ、１２ｂは、回転ドラム１に対して固定されており、掻き出し板１３ａ、１３ｂ、１３ｃは、回転ドラム１に対して相対回転しない。従って、回転駆動機構１ｋによって、回転ドラム１を回転すると、回転ドラム１の回転に伴い、区切り板１２ａ、１２ｂの開口部１２ａ１、１２ｂ１と掻き出し板１３ａ、１３ｂ、１３ｃの開口部１３ａ１、１３ｂ１、１３ｃ１の周方向の位置が変位する。換言すれば、図６の状態から回転ドラム１を１８０°回転させると、区切り板１２ａ、１２ｂの開口部１２ａ１、１２ｂ１は、下方所定位置Ｌ３ａ、Ｌ３ｂに移行する（図８参照）。また、図６の状態から回転ドラム１を１８０°回転させると、掻き出し板１３ａ、１３ｂ、１３ｃの開口部１３ａ１、１３ｂ１、１３ｃ１は、上側所定位置Ｈ４ａ、Ｈ４ｂ、Ｈ４ｃに移行する（図８参照）。つまり、回転駆動機構１ｋは、区切り板１２ａ、１２ｂ（区切り部材）の開口部１２ａ１、１２ｂ１の上方所定位置Ｈ３ａ、Ｈ３ｂと下方所定位置Ｌ３ａ、Ｌ３ｂを切り換える区切り部材切り換え手段である。また、回転駆動機構１ｋは、掻き出し板１３ａ、１３ｂ、１３ｃ（移送部材）の開口部１３ａ１、１３ｂ１、１３ｃ１の上側所定位置Ｈ４ａ、Ｈ４ｂ、Ｈ４ｃと下側所定位置Ｌ４ａ、Ｌ４ｂ、Ｌ４ｃとを切り換える移送部材切り換え手段でもある。

下方所定位置Ｌ３ａ、Ｌ３ｂでの区切り板１２ａ、１２ｂの開口部１２ａ１、１２ｂ１は、少なくとも一部が粉粒体層Ｍ中に存在する。一方、下側所定位置Ｌ４ａ、Ｌ４ｂ、Ｌ４ｃでの掻き出し板１３ａ、１３ｂ、１３ｃの開口部１３ａ１、１３ｂ１、１３ｃ１は、少なくとも一部が粉粒体層Ｍ中に存在する。

粉粒体粒子の処理時には、掻き出し板１３ａ、１３ｂ、１３ｃは、各処理室１ａ、１ｂ、１ｃの軸方向で最も一端側（図６で左側）に配置されている（初期位置Ｐ１ａ，Ｐ１ｂ，Ｐ１ｃ）。スライド板１４は、処理室１ｃの軸方向で最も他端側（図６で右側）に配置されている（図６の位置Ｐ１）。この状態で、掻き出し板１３ｂ、１３ｃは、区切り板１２ａ、１２ｂに当接している。掻き出し板１３ａは、回転ドラム１の内側における軸方向一端側の面１ｌに当接している。粉粒体粒子の処理時には、区切り板１２ａ、１２ｂ、掻き出し板１３ａ、１３ｂ、１３ｃ、スライド板１４によって、粉粒体粒子が隣接する処理室１ａ、１ｂ、１ｃ又は排出ゾーン１ｇに移動することが規制されており、異なる処理室１ａ、１ｂ、１ｃの粉粒体粒子は混ざらない。

次に、本参考例のコーティング装置による粉粒体粒子を移送する動作について、図８〜図１２を参照しつつ説明する。

最初に、回転駆動機構１ｋにより、図８に示すように、区切り板１２ａ、１２ｂの開口部１２ａ１、１２ｂ１が、下方位置Ｌ３ａ、Ｌ３ｂとなり、掻き出し板１３ａ、１３ｂ、１３ｃの開口部１３ａ１、１３ｂ１、１３ｃ１が上側位置Ｈ４ａ、Ｈ４ｂ、Ｈ４ｃとなるように、回転ドラム１を回転させ、その状態となったら回転ドラム１を回転しないように固定する。この状態で、排出ゾーン１ｇの排出開口部１ｈは、下方に位置する。

次に、移送部材移動手段により、図９に示すように、スライド板１４が回転ドラム１の内側における軸方向他端側の面１ｍの近傍の（排出ゾーン１ｇの他端側）位置Ｐ２に到達するまで、掻き出し板１３ａ、１３ｂ、１３ｃ及びスライド板１４を回転ドラム１の軸方向に沿って同期させて同距離移動させる。これにより、処理室１ｃ内の粉粒体粒子が、掻き出し板１３ｃに押圧されて排出ゾーン１ｇに移送され、排出ゾーン１ｇの下方の排出開口部１ｈを介して排出される。この時、掻き出し板１３ｃは、その軸方向に沿った移動範囲の中で最も他端側の位置（Ｐ２ｃ）となる。同時に、処理室１ｂの粉粒体粒子の一部が掻き出し板１３ｂに押圧されて処理室１ｃに移送されると共に、処理室１ａの粉粒体粒子の一部が掻き出し板１３ａに押圧されて処理室１ｂに移送される。この際に、処理室１ｃに移送される処理室１ｂの粉粒体粒子は区切り板１２ｂの開口部１２ｂ１を通過し、処理室１ｂに移送される処理室１ａの粉粒体粒子は区切り板１２ａの開口部１２ａ１を通過する。この状態では、掻き出し板１３ａ、１３ｂ、１３ｃの開口部１３ａ１、１３ｂ１、１３ｃ１は上側に配置されているため、掻き出し板１３ａ、１３ｂ、１３ｃにより、異なる処理室１ａ、１ｂ、１ｃで処理された粉粒体粒子は混ざらない。

そして、移送部材移動手段により、図１０に示すように、掻き出し板１３ｂが区切り板１２ｂに当接する（処理室１ｂの他端側）位置Ｐ２ｂに到達するまで、掻き出し板１３ａ、１３ｂを回転ドラム１の軸方向に沿って同期させて同距離移動させる。これにより、処理室１ｂ内の粉粒体粒子の残りが、掻き出し板１３ｂに押圧されて処理室１ｃに移送される。同時に、処理室１ａの粉粒体粒子の一部が掻き出し板１３ａに押圧されて処理室１ｂに移送される。この際に、処理室１ｃに移送される処理室１ｂの粉粒体粒子は区切り板１２ｂの開口部１２ｂ１を通過し、処理室１ｂに移送される処理室１ａの粉粒体粒子は区切り板１２ａの開口部１２ａ１を通過する。この状態では、掻き出し板１３ａ、１３ｂ、１３ｃの開口部１３ａ１、１３ｂ１、１３ｃ１は上側に配置されているため、掻き出し板１３ａ、１３ｂ、１３ｃにより、異なる処理室１ａ、１ｂ、１ｃで処理された粉粒体粒子は混ざらない。

その後、移送部材移動手段により、図１１に示すように、掻き出し板１３ａが区切り板１２ａに当接する（処理室１ａの他端側）位置Ｐ２ａに到達するまで、掻き出し板１３ａを回転ドラム１の軸方向に沿って移動させる。これにより、処理室１ａ内の粉粒体粒子の残りが、掻き出し板１３ａに押圧されて処理室１ｂに移送される。この際に、処理室１ｂに移送される処理室１ａの粉粒体粒子は区切り板１２ａの開口部１２ａ１を通過する。この状態では、掻き出し板１３ａ、１３ｂ、１３ｃの開口部１３ａ１、１３ｂ１、１３ｃ１は上側に配置されているため、掻き出し板１３ａ、１３ｂ、１３ｃにより、異なる処理室１ａ、１ｂ、１ｃで処理された粉粒体粒子は混ざらない。

これで、処理室１ａ、１ｂ、１ｃ内の粉粒体粒子を隣接する処理室１ｂ、１ｃ又は排出ゾーン１ｇへ移送する動作は完了する。そして、図１２に示すように、本参考例では、新たに処理室１ａに所定量の粉粒体粒子を投入する。

引き続き、掻き出し板１３ａ、１３ｂ、１３ｃ及びスライド板１４の初期位置Ｐ１ａ、Ｐ１ｂ、Ｐ１ｃ、Ｐ１への復帰動作について、図１３〜図１７を参照しつつ説明する。

まず、移送部材移動手段により、図１３に示すように、スライド板１４のみを回転ドラム１の軸方向に沿って初期位置Ｐ１に復帰させる。初期位置Ｐ１でスライド板１４は掻き出し板１３ｃに当接する。

次に、回転駆動機構１ｋにより、図１４に示すように、回転ドラム１を１８０°回転させた後、回転しないように固定する。この状態で、区切り板１２ａ、１２ｂの開口部１２ａ１、１２ｂ１は上方位置Ｈ３ａ、Ｈ３ｂであり、掻き出し板１３ａ、１３ｂ、１３ｃの開口部１３ａ１、１３ｂ１、１３ｃ１は下側位置Ｌ４ａ、Ｌ４ｂ、Ｌ４ｃである。

次に、移送部材移動手段により、図１５に示すように、掻き出し板１３ｃが区切り板１２ｂに当接する（処理室１ｃの一端側）初期位置Ｐ１ｃに到達するまで、掻き出し板１３ａ、１３ｂ、１３ｃを回転ドラム１の軸方向に沿って同期させて同距離移動させる。この際に、処理室１ａ、１ｂ、１ｃにおける粉粒体粒子のそれぞれが掻き出し板１３ａ、１３ｂ、１３ｃの開口部１３ａ１、１３ｂ１、１３ｃ１を通過する。この状態では、区切り板１２ａ、１２ｂの開口部１２ａ１、１２ｂ１は上方に配置されているため、区切り板１２ａ、１２ｂ及びスライド板１４により、処理室１ａ、１ｂ、１ｃ内の粉粒体粒子は移動を規制され、また、異なる処理室１ａ、１ｂ、１ｃの粉粒体粒子は混ざらない。

そして、移送部材移動手段により、図１６に示すように、掻き出し板１３ｂが区切り板１２ａに当接する（処理室１ｂの一端側）初期位置Ｐ１ｂに到達するまで、掻き出し板１３ａ、１３ｂを回転ドラム１の軸方向に沿って同期させて同距離移動させる。この際に、処理室１ａ、１ｂにおける粉粒体粒子のそれぞれが掻き出し板１３ａ、１３ｂの開口部１３ａ１、１３ｂ１を通過する。この状態では、区切り板１２ａ、１２ｂの開口部１２ａ１、１２ｂ１は上方に配置されているため、区切り板１２ａ、１２ｂ及びスライド板１４により、処理室１ａ、１ｂ、１ｃ内の粉粒体粒子は移動を規制され、また、異なる処理室１ａ、１ｂ、１ｃの粉粒体粒子は混ざらない。

そして、移送部材移動手段により、図１７に示すように、掻き出し板１３ａが回転ドラム１の軸方向一端側の面１ｌに当接する（処理室１ａ、１ｂ、１ｃの一端側）初期位置Ｐ１ａに到達するまで、掻き出し板１３ａを回転ドラム１の軸方向に沿って移動させる。この際に、処理室１ａにおける粉粒体粒子が掻き出し板１３ａの開口部１３ａ１を通過する。この状態では、区切り板１２ａ、１２ｂの開口部１２ａ１、１２ｂ１は上方に配置されているため、区切り板１２ａ、１２ｂ及びスライド板１４により、処理室内１ａ、１ｂ、１ｃの粉粒体粒子は移動を規制され、また、異なる処理室１ａ、１ｂ、１ｃの粉粒体粒子は混ざらない。

これで、掻き出し板１３ａ、１３ｂ、１３ｃ及びスライド板１４の初期位置Ｐ１ａ、Ｐ１ｂ、Ｐ１ｃ、Ｐ１への復帰動作が完了する。そして、処理室１ａ、１ｂ、１ｃ内の粉粒体粒子の処理が再開される。

このように、参考例のコーティング装置では、各処理室１ａ、１ｂ、１ｃ内の掻き出し板１３ａ、１３ｂ、１３ｃを一端側所定位置Ｐ１ａ、Ｐ１ｂ、Ｐ１ｃから他端側所定位置Ｐ２ａ、Ｐ２ｂ、Ｐ２ｃまで同時に移動させることによって、全ての処理室１ａ、１ｂ、１ｃ内の粉粒体粒子を並行して移送可能である。しかも、掻き出し板１３ａ、１３ｂ、１３ｃを境界として処理室から排出される粉粒体粒子と処理室に導入される粉粒体粒子とが混ざることが防止できる。これにより、本参考例のコーティング装置では、粉粒体粒子を効率良く移送することが可能となる。

また、参考例のコーティング装置では、掻き出し板１３ａ、１３ｂ、１３ｃ及びスライド板１４の初期位置Ｐ１ａ、Ｐ１ｂ、Ｐ１ｃ、Ｐ１への復帰動作において、各処理室１ａ、１ｂ、１ｃの粉粒体粒子が、掻き出し板１３ａ、１３ｂ、１３ｃの開口部１３ａ１、１３ｂ１、１３ｃ１を通過する。これにより、掻き出し板１３ａ、１３ｂ、１３ｃの復帰動作が容易となる。そして、掻き出し板１３ａ、１３ｂ、１３ｃ及びスライド板１４の初期位置Ｐ１ａ、Ｐ１ｂ、Ｐ１ｃ、Ｐ１への復帰動作において、区切り板１２ａ、１２ｂ及びスライド板１４により、処理室内１ａ、１ｂ、１ｃの粉粒体粒子は移動を規制され、また、異なる処理室１ａ、１ｂ、１ｃの粉粒体粒子は混ざらない。

本参考例のコーティング装置による上記のコーティング処理は、バッチ式（回分式）で行っても良いし、連続式で行っても良い。ただし、本参考例のコーティング装置は、上述のように、掻き出し板１３ａ、１３ｂ、１３ｃを境界として、粉粒体粒子の移送の際に、処理室に供給中の粉粒体粒子とこの処理室から排出中の粉粒体粒子とは混ざらないので、連続式でコーティング処理を行うのに好適である。

本参考例では、回転ドラムの横断面形状が円形であったが、回転ドラムの横断面形状は多角形でもよい。

また、本参考例では、掻き出し板１３ａ、１３ｂ、１３ｃは、回転ドラム１に対して相対回転が規制されていたが、これらを回転ドラム１に対して相対回転自在とすると共に回転駆動機構１ｋとは別の移送部材切り換え手段を設けることによって、初期位置Ｐ１ａ、Ｐ１ｂ、Ｐ１ｃへの復帰動作の時以外は、開口部１３ａ１、１３ｂ１、１３ｃ１を上側所定位置Ｈ４ａ、Ｈ４ｂ、Ｈ４ｃで固定しておき、初期位置Ｐ１ａ、Ｐ１ｂ、Ｐ１ｃへの復帰動作の時に開口部１３ａ１、１３ｂ１、１３ｃ１を下側所定位置Ｌ４ａ、Ｌ４ｂ、Ｌ４ｃに切り換えて固定してもよい。このような場合には、回転ドラム１を処理室１ａ、１ｂ、１ｃごとの分割構造として、それぞれを個別に回転駆動することも可能である。また、区切り板１２ａ、１２ｂを回転ドラム１に対して相対回転自在とすると共に回転駆動機構１ｋとは別の区切り部材切り換え手段を設けることによって、粉粒体粒子の移送時以外は、開口部１２ａ１、１２ｂ１を上方所定位置Ｈ３ａ、Ｈ３ｂで固定しておき、粉粒体粒子の移送時に開口部１２ａ１、１２ｂ１を下方所定位置Ｌ３ａ、Ｌ３ｂに切り換えて固定してもよい。

以上の説明では、各処理室に対応する回転ドラムの径が異なっていたが、各処理室に対応する回転ドラムの径は同じであってもよい。

１ 回転ドラム
１ａ、１ｂ、１ｃ 処理室
１ｄ 一端開口部（第２の開口部）
１ｏ 開口部
６ａ、６ｂ、６ｃ 排出板（移送部材）
７ａ、７ｂ、７ｃ 仕切り板（仕切り部材）
７ａ１、７ｂ１、７ｃ１ 開口部（通過部）
１０ 移送部材切り換え手段
１２ａ、１２ｂ 区切り板（区切り部材）
１２ａ１、１２ｂ１ 開口部（通過部）
１３ａ、１３ｂ、１３ｃ 掻き出し板（移送部材）
１３ａ１、１３ｂ１、１３ｃ１ 開口部（通過部）
１５、１６ 排出プレート（排出部材）
Ｈ１ａ、Ｈ１ｂ、Ｈ１ｃ 上側所定位置
Ｈ２ａ、Ｈ２ｂ、Ｈ２ｃ 上方所定位置
Ｌ１ａ、Ｌ１ｂ、Ｌ１ｃ 下側所定位置
Ｌ２ａ、Ｌ２ｂ、Ｌ２ｃ 下方所定位置
Ｍ 粉粒体層
Ｐ１ａ，Ｐ１ｂ，Ｐ１ｃ 初期位置（一端側所定位置）
Ｐ２ａ，Ｐ２ｂ，Ｐ２ｃ 他端側所定位置

Claims (5)

1. 回転ドラムの内部に収容された粉粒体粒子に対して、液材の添加と処理気体の通気を含む処理を施して被覆層を形成し、前記回転ドラムは、軸方向に沿って区画された複数の処理室を備えており、粉粒体粒子は軸方向一端側の前記処理室から軸方向他端側の前記処理室に順次に移送されて前記処理を施され、前記処理室内の粉粒体粒子を軸方向他端側に隣接する前記処理室又は前記回転ドラムの外部に移送する移送部材が前記各処理室に設けられているコーティング装置において、
   前記移送部材は、前記回転ドラムの内面に沿って、前記回転ドラムの軸方向に対して傾斜した方向に延在し、
   前記移送部材を、前記粉粒体粒子からなる粉粒体層より上側の所定位置と、該上側所定位置より下側の所定位置とに切り換える移送部材切り換え手段が設けられ、
   前記下側所定位置で、前記移送部材の一部が前記粉粒体層内に配置され、
   複数の前記処理室の間を仕切る仕切り部材が設けられ、
   該仕切り部材は、前記粉粒体粒子が通過するための通過部を有し、
   前記仕切り部材の通過部を、前記粉粒体粒子からなる粉粒体層より上方の所定位置と、該上方所定位置より下方の所定位置とに切り換える通過部切り換え手段が設けられ、
   前記粉粒体粒子の処理中には、前記移送部材が前記上側所定位置に配置されると共に前記通過部が前記上方所定位置に配置され、
   前記粉粒体粒子の移送時には、前記移送部材が前記下側所定位置に配置されると共に前記通過部が前記下方所定位置に配置され、前記処理室の回転に伴い、前記粉粒体粒子が前記移送部材によって案内され、前記移送部材によって案内された粉粒体粒子が前記通過部を通過することを特徴とするコーティング装置。
2. 前記粉粒体粒子の移送時に、前記仕切り部材の通過部が、軸方向他端側の処理室における前記移送部材より処理室の回転方向前側に通じることを特徴とする請求項１に記載のコーティング装置。
3. 最も他端側の処理室の他端側に開口部が設けられ、
   前記粉粒体粒子を前記回転ドラムの外部に排出するための排出部材が最も他端側の処理室の内部に設けられ、
   前記開口部における内周面が、他端側に向かって漸次拡径した形状に形成され、
   前記排出部材は、前記回転ドラムの内面に設けられ、前記回転ドラムの軸方向に対して傾斜した方向に延在し、
   前記排出部材は、前記回転ドラムの回転により最も他端側の処理室の内部における粉粒体粒子を前記開口部に案内し、前記開口部に案内された粉粒体粒子は前記開口部の内周面に案内されて前記開口部から前記回転ドラムの外部に排出されることを特徴とする請求項１又は２に記載のコーティング装置。
4. 更に、最も一端側の処理室の一端側に第２の開口部が設けられ、
   前記粉粒体粒子を前記回転ドラムの外部に排出するための第２の排出部材が最も一端側の処理室の内部に設けられ、
   前記第２の開口部における内周面が、一端側に向かって漸次拡径した形状に形成され、
   前記第２の排出部材は、前記回転ドラムの内面に設けられ、前記回転ドラムの軸方向に対して傾斜した方向に延在し、
   前記第２の排出部材は、前記粉粒体粒子の移送時の前記処理室の回転とは逆の方向の前記回転ドラムの回転により最も一端側の処理室の内部における粉粒体粒子を前記第２の開口部に案内し、前記第２の開口部に案内された粉粒体粒子は前記第２の開口部の内周面に案内されて前記第２の開口部から前記回転ドラムの外部に排出されることを特徴とする請求項３に記載のコーティング装置。
5. 前記処理気体の給気条件と、前記液材の噴霧条件の少なくとも一方を、前記処理室毎に個別的に制御することを特徴とする請求項１〜４の何れか１項に記載のコーティング装置。