JP6044792B2 - 低屈折率膜形成用組成物 - Google Patents
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Description
ポリシロキサンは合成する方法によってポリマー構造が変化するが、加水分解の溶媒を特定の溶剤に変更し、完全加水分解型としたポリシロキサンが知られている(特許文献5)。無機粒子と完全加水分解型のポリシロキサンとを組み合わせて低屈折率材料とした検討は皆無である。
また、低屈折率材料に用いる無機粒子の製法は、アルコキシドの加水分解を用いる方法が知られている(特許文献6乃至8)。そして、水ガラスのイオン交換による方法が知られている(特許文献9乃至10)。このような方法により粒子形状をコントロールする技術が開示されている。
第2観点として、ケイ素化合物(A)が下記式(1):
(式中R1はアルコキシ基、アシルオキシ基、又はハロゲン基を示す。)で表される加水分解性シランの加水分解縮合物である第1観点に記載の膜形成用組成物、
第3観点として、式(1)で表される加水分解性シランがテトラエトキシシラン、又はテトラメトキシシランである第2観点に記載の膜形成用組成物、
第4観点として、非アルコール溶剤がケトン又はエーテルである第1観点乃至第3観点のいずれか一つに記載の膜形成用組成物、
第5観点として、非アルコール溶剤がアセトン又はテトラヒドロフランである第1観点乃至第3観点のいずれか一つに記載の膜形成用組成物、
第6観点として、溶剤(C)が上記加水分解性シランの加水分解縮合の際に用いる非アルコール溶剤と、該加水分解性シランの加水分解によって生じた反応物を除去するための溶剤置換用溶剤を含むものである第1観点乃至第5観点のいずれか一つに記載の膜形成用組成物、
第7観点として、無機粒子(B)が1.15乃至1.50の屈折率を有する粒子である第1観点乃至第6観点のいずれか一つに記載の膜形成用組成物、
第8観点として、無機粒子(B)が、BET法による比表面積から計算される平均粒子径(粒子径A)が5乃至60nmであり、動的光散乱法による分散粒子径(粒子径B)が50乃至250nmであり、そして粒子径B/粒子径Aが1.1以上の無機粒子(B−1)である第1観点乃至第7観点のいずれか一つに記載の膜形成用組成物、
第9観点として、無機粒子(B)が、外殻と内部とを有し、該内部が多孔質又は空洞であり、平均粒子径が15乃至100nmである無機粒子(B−2)である第1観点乃至第7観点のいずれか一つに記載の膜形成用組成物、
第10観点として、加水分解性シランを非アルコール溶剤中で加水分解し縮合して得られた重量平均分子量1000乃至20000のケイ素化合物(A)が、溶剤(C)に溶解したケイ素化合物(A)のワニスを得る工程と、1乃至100nmの平均粒子径を有する無機粒子(B)を含む分散媒(C’)のゾルと上記ケイ素化合物(A)のワニスを混合する工程とを含む第1観点乃至第9観点のいずれか一つに記載の膜形成用組成物の製造方法、
第11観点として、無機粒子(B)がBET法による比表面積から計算される1乃至100nmの平均粒子径と1.15乃至1.50の屈折率を有する無機粒子である第10観点に記載の製造方法、
第12観点として、第1観点乃至第9観点のいずれか一つに記載の膜形成用組成物を基板上に被覆し焼成して得られ、波長633nmで1.15乃至1.30の屈折率と、JIS規格K5600によって定められた鉛筆硬度がH乃至9Hの硬度を有する被膜、
第13観点として、第1観点乃至第9観点のいずれか一つに記載の膜形成用組成物を基板上に被覆し焼成する工程を含む第12観点に記載の被膜の形成方法、
第14観点として、第1観点乃至第9観点のいずれか一つに記載の膜形成用組成物から得られた反射防止膜、
第15観点として、第1観点乃至第9観点のいずれか一つに記載の膜形成用組成物を用いて得られた電子デバイスを有する装置、及び
第16観点として、電子デバイスが液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、カソードレイチューブ、有機発光ディスプレイ、電子ペーパー、光半導体(LED)、固体撮像素子、太陽電池、又は有機薄膜トランジスタである第15観点に記載の装置である。
従って、本発明によって得られた膜は低屈折率、高透明性、高耐熱性、高耐光性、高硬度を一度に満たすことが可能であり、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、カソードレイチューブ、有機発光ディスプレイ、電子ペーパー、光半導体(LED)、固体撮像素子、太陽電池、有機薄膜トランジスタなどの電子デバイスとして好適に用いることができる。
部分加水分解型のポリシロキサンは、水酸基等の官能基を含むアルコールを加水分解又は重縮合時の溶剤に使用して得られたポリマーを指す。部分加水分解型のポリシロキサンは加水分解し、重縮合する段階で溶剤のアルコール又はモノマーのシランアルコキシドから生成するアルコールが前記加水分解で生成したシラノール基と反応しシランアルコキシドの形で残存している。また、溶液状態ではポリマー中のシラノール基とシランアルコキシドは化学的に平衡反応であるため、アルコールを加水分解及び縮合時の溶剤に選択するとシランアルコキシドの残留割合が多いポリシロキサンとなる。
一方で完全加水分解型のポリシロキサンは水酸基を含まない非アルコールを加水分解及び縮合時の溶剤に用いて得られたポリマーを指す。完全加水分解型のポリシロキサンは加水分解及び重縮合時の溶剤である非アルコール溶剤がポリマーのシラノールを末端封止する水酸基を有していないため、得られたポリマーはシラノールの残留割合が多いポリシロキサンとなる。
そして、部分加水分解型のポリシロキサンに含有しているシランアルコキシドは炭素などの有機基を示し、屈折率を増加させる部位である。一方で、完全加水分解型のポリシロキサンはシランアルコキシドの残留割合が極めて低いことから、炭素のような屈折率を高める部位をほとんど有していない。
また、完全加水分解型のポリシロキサンはシラノールが多く残留しているため、シリカ微粒子表面のシラノールと外部刺激として熱がかかったときに、重縮合を開始し、強固で高硬度な膜を形成できる。しかし、部分加水分解型のポリテオスはシランアルコキシドが多く残存しているため、シリカ微粒子のシラノールと反応する際に一旦加水分解を経由しなければならず、別途、添加剤などの添加が必要となる。この場合添加剤はシラノールの生成促進剤や、シランアルコキシドの分解促進剤が挙げられるが、これらの添加剤は有機基や金属を含んで屈折率を高めるため、本発明の組成物には不向きである。
無機粒子(B)がBET法による比表面積から計算される平均粒子径(粒子径A)が5乃至60nmであり、動的光散乱法による分散粒子径(粒子径B)が50乃至250nmであり、粒子径B/粒子径Aが1.1以上である無機粒子を導入することにより、得られる膜中に微少な空気層(屈折率1.00)が導入されることにより低屈折率化を達成することができる。
固形分換算で無機粒子(B)を100質量部としたときに、ケイ素化合物(A)を0.1乃至50質量部の範囲で加えることができ、好ましくは0.1乃至30質量部であり、膜質を保持し、安定した低屈折率を得るために、より好ましくは1乃至20質量部である。
加水分解物はシランモノマーの加水分解基が加水分解を生じシラノール基を生成したものである。その加水分解縮合物は加水分解物中のシラノール基同士が脱水縮合を起こした加水分解縮合物であり、ポリシロキサンを形成したものであり、縮合物の末端は通常、シラノール基を有している。ケイ素化合物(A)は多くが加水分解縮合物(ポリシロキサン)であるが、その前駆体である加水分解物を有していても良い。
テトラメトキシシラン、テトラアセトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラn−プロポキシシラン、テトライソプロポキシシラン、テトラn−ブトキシシラン、テトラアセトキシシラン、テトラクロルシラン、等が挙げられるが、4官能のシロキサンモノマーであれば良く、これらに限定されるものではない。これらの中でもテトラメトキシシラン、テトラエトキシシランは好適に使用することができる。加水分解性シランは、市販品を用いることができる。
加水分解触媒としての無機酸は、例えば塩酸、硝酸、硫酸、フッ酸、リン酸等を挙げることができる。
加水分解縮合物(ポリシロキサン)を含むケイ素化合物(A)を得る方法としては、例えば、加水分解性シラン、非アルコール溶剤、純水及び酸触媒の混合物を加熱する方法が挙げられる。具体的には、あらかじめアセトンに加水分解性シランを溶解させ、塩酸と純水を加えて塩酸水溶液とした後、これを加水分解性シラン溶液中に滴下し、加熱する方法である。その際、塩酸の量は、加水分解性シランが有する全加水分解基(全アルコキシ基)の1モルに対して0.0001乃至0.5モルとすることが一般的である。この方法における加熱は、液温50乃至180℃で行うことができ、好ましくは、液の蒸発、揮散等が起こらないように、例えば、密閉容器中の還流下で数十分から十数時間行われる。
ケイ素化合物(A)のワニスとして用いる場合に、ワニス中でのケイ素化合物(A)の濃度は0.1乃至60質量%の範囲で用いることができる。
内標若しくは溶媒のピークから算出されたプロトン数を1.00としたときに完全加水分解型のポリシロキサンのSi−OHの算出したプロトン数は0.1以上、好ましくは0.2以上である。一方、部分加水分解型のポリシロキサンは内標若しくは溶媒のピークから算出されたプロトン数を1.00としたときに、ポリシロキサンのSi−OHの算出したプロトン数は0.1未満として定義する。
本発明に用いられる(B)成分はBET法による比表面積から計算される平均粒子径が1乃至100nm、又は5乃至100nm、又は5乃至60nmの無機粒子(B−1)を用いることができる。
そして、本発明に用いられる(B)成分は、BET法による比表面積から計算される平均粒子径が1乃至100nm、又は5乃至100nm、又は5乃至60nmであり、屈折率が1.15乃至1.50の無機粒子(B−1)を用いることができる。
無機粒子(B)がBET法による比表面積から計算される平均粒子径(粒子径A)が5乃至60nm、動的光散乱法による分散粒子径(粒子径B)が50乃至250nmであり、粒子径B/粒子径Aが1.1以上の無機粒子(B−1)を挙げることができる。
また粒子径Aと粒子径Bの関係は粒子径B/粒子径Aが1.1以上、例えば1.1乃至50.0、又は1.1乃至20.0、又は1.1乃至10.0、又は1.1乃至5.0、又は1.4乃至20.0、又は1.4乃至10.0、又は1.4乃至5.0の範囲を選択することができる。
上記粒子径については平均粒子径又は分散粒子径の異なる微粒子を混合して用いても良い。
なお、酸化ケイ素による処理とは、無機粒子を含む分散体中で粒子表面に、酸化ケイ素物質を公知の方法で成長させるものである。有機ケイ素化合物、有機金属化合物による処理とは、無機粒子を含む分散体中に、これらの化合物を添加し、無機粒子の表面にこれらの化合物、又はこれらの化合物の反応生成物を吸着又は結合させるものである。
上記有機ケイ素化合物としては、シランカップリング剤やシランが挙げられ、シランカップリング剤の具体例としては、ビニルトリクロルシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルメチルジトリエトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、p−スチリルトリメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、3−アクロキシプロピルトリメトキシシラン、N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルメチルトリメトキシシラン、N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルメチルトリエトキシシラン、3−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルトリエトキシシラン、3−トリエトキシシリル−N−(1、3−ジメチル−ブチリデン)プロピルアミン、N−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−クロロプロピルトリメトキシシラン、3−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、ビス(トリエトキシシリルプロピル)テトラスルフィド、3−イソシアネートプロピルトリエトキシシラン等が挙げられる。
また、シランの具体例としては、メチルトリクロロシラン、ジメチルジクロロシラン、トリメチルクロロシラン、フェニルトリクロロシラン、メチルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ジメチルジエトキシシランフェニルトリエトキシシラン、n−プロピルトリメトキシシラン、n−プロピルトリエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン、ヘキシルトリエトキシシラン、デシルトリメトキシシラン、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、ヘキサメチルジシラザン等が挙げられる。
本発明においては、本発明の効果を損なわない限りにおいて、成分(A)、成分(B)、及び成分(C)以外にその他の成分、例えばレベリング剤、界面活性剤等の成分が含まれていてもよい。
本発明の膜形成用組成物は、基材に塗布し熱硬化することで所望の被膜を得ることができる。塗布方法は、公知又は周知の方法を採用できる。例えば、スピンコート法、ディップ法、フローコート法、インクジェット法、スプレー法、バーコート法、グラビアコート法、スリットコート法、ロールコート法、転写印刷法、刷毛塗り、ブレードコート法、エアーナイフコート法等の方法を採用できる。その際に用いる基材は、シリコン、インジウム錫酸化物(ITO)、インジウム亜鉛酸化物(IZO)、ポリエチレンテレフタレート(PET)、トリアセチルセルロース(TAC)、ポリエチレン(PE)、アイオノマー(IO)、ポリイミド(PI)、ポリアミド(PA)、ポリ塩化ビニル(PVC)、ポリシクロオレフィン(PCO)、ポリ塩化ビニリデン(PVDC)、ポリビニルアルコール(PVA)、ポリプロピレン(PP)、ポリカーボネート(PC)、ポリスチレン(PS)、ポリアクリロニトリル(PAN)、エチレン酢酸ビニル共重合体(EVA)、エチレンビニルアルコール共重合体(EVOH)、エチレンメタクリル酸共重合体(EMMA)、ポリメタクリル酸(PMMA)、ナイロン、プラスチック、ガラス、石英、セラミックス等からなる基材を挙げることができる。
焼成機器としては、特に限定されるものではなく、例えば、ホットプレート、オーブン、ファーネスを用いて、適切な雰囲気下、すなわち大気、窒素等の不活性ガス、真空中等で焼成させればよい。これにより、均一な製膜面を有する被膜を得ることが可能である。
[GPC]
装置:東ソー(株)製 HLC−8200 GPC
カラム:Shodex KF−804L+KF−805L
カラム温度:40℃
溶媒:テトラヒドロフラン(以下、THF)
検出器:UV(254nm)
検量線:標準ポリスチレン
[1H−NMR]
装置:日本電子株式会社製 ECP300
溶剤:重アセトン
[鉛筆硬度]
装置:(株)安田精機製 No.553−M 電動鉛筆引っかき硬度試験機
規格:JIS K 5600
[紫外線可視分光光度計]
装置:(株)島津製作所製 SHIMADSU UV−3600
[被膜の屈折率/エリプソメーター]
装置:ジェー・エー・ウーラム・ジャパン製 多入射角分光エリプソメーターVASE。
波長633nmで測定。
〔平均粒子径〕
装置:Quantachrome製 Monosorb
無機粒子を300℃で乾燥後、得られたゲルを乳鉢で粉砕した粉末を、BET法により比表面積を測定した。シリカ粒子は以下の式で、平均粒子径を計算した。
平均粒子径(nm)=2720/比表面積(m2/g)
〔粒子の屈折率〕
装置:(株)アタゴ製 アッベ屈折率計
有機溶媒:溶媒1(粒子より低屈折率のもの)、溶媒2(粒子より高屈折率のもの)
溶媒1と2は互いに混合可能なものを選定する。
測定方法:無機粒子を150℃で乾燥後、乳鉢で粉砕した粉末を、溶媒1に浸漬した後、溶媒2を少量ずつ微粒子がほぼ透明になるまで添加した。この液の屈折率をアッベの屈折計を用いて測定した。測定は23℃、D線=波長589nmで行われた。上記溶媒1と溶媒2は屈折率に応じて、例えば1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロ−2−プロパノール、2−プロパノール、クロロホルム、四塩化炭素、トルエン、グリセリン等の溶媒が挙げられる。
〔分散粒子径〕
装置:Beckman Coulter製 N5
無機粒子分散液を分散媒と同じ溶媒で希釈し、動的光散乱法の粒子径(Unimodalモード、強度平均粒子径)を測定した。
35.14gのテトラエトキシシラン、52.71gのアセトンを300mlのフラスコに入れ、混合溶液をマグネチックスターラーにて撹拌しながら0.01mol/Lの塩酸12.16gを混合溶液に滴下した。添加後、85℃に調整されたオイルバスにフラスコを移し、加温還流下で240分間反応させた。その後、反応溶液を室温まで冷却し、反応溶液に70.00gのプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを加え、反応副生物であるエタノール、水、塩酸、アセトンを減圧留去し、濃縮して加水分解縮合物(ポリマー)プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEAと略す)溶液を得た。さらにPGMEAを加え、140℃における固形残物換算で14質量パーセントとなるように調整した。得られたポリマーは加水分解縮合物(ポリシロキサン)を含むケイ素化合物(A)のワニスであり、完全加水分解型のポリシロキサン(P1と略す)のワニスである。得られたP1のGPCによる重量平均分子量はポリスチレン換算でMw2800であった。
P1のPGMEAワニスは140℃における固形残物換算で6質量パーセントとなるようにPGMEAを加え、1H−NMRを測定した。その結果を図1に示す。
35.14gのテトラエトキシシラン、52.71gのエタノールを300mlのフラスコに入れ、混合溶液をマグネチックスターラーにて撹拌しながら0.01mol/Lの塩酸12.16gを混合溶液に滴下した。添加後、85℃に調整されたオイルバスにフラスコを移し、加温還流下で240分間反応させた。その後、反応溶液を室温まで冷却し、反応溶液に70.00gのPGMEAを加え、溶媒であるエタノール、反応副生物であるエタノール、水、塩酸を減圧留去し、濃縮して加水分解縮合物(ポリマー)PGMEA溶液を得た。さらにPGMEAを加え、140℃における固形残物換算で14質量パーセントとなるように調整した。得られたポリマーは加水分解縮合物(ポリシロキサン)を含むケイ素化合物(A)のワニスであり、部分加水分解型のポリシロキサン(P2と略す)のワニスである。得られたP2のGPCによる重量平均分子量はポリスチレン換算でMw4000であった。
P2のPGMEAワニスは140℃における固形残物換算で6質量パーセントとなるようにPGMEAを加え、1H−NMRを測定した。その結果を図2に示す。
オルト珪酸メチルの加水分解法によるシリカ粒子の水分散ゾルを100乃至200Torrの減圧下にプロピレングリコールモノメチルエーテル(PGMEと略す)を添加しながらロータリーエバポレーターで脱水、溶媒置換してPGMEに分散したシリカゾル(S1)を得た。
平均粒子径及び分散粒子径の異なるオルト珪酸メチルの加水分解法によるシリカ粒子の水分散ゾルをS1と同様にそれぞれ溶媒置換してPGMEに分散したシリカゾル(S2)を得た。
平均粒子径及び分散粒子径の異なるオルト珪酸メチルの加水分解法によるシリカ粒子の水分散ゾルをS1と同様にそれぞれ溶媒置換してPGMEに分散したシリカゾル(S3)を得た。
合成例3乃至5で得た無機粒子(B−1)の各物性値を表1に示す。
平均粒径5nm のシリカゾル(商品名:スノーテックス ST−XS、日産化学工業(株)製、SiO2濃度20質量%)10g と純水190gの混合物を80℃に加温した。この反応母液のpHは10.5であり、同母液にSiO2として1.17質量%の珪酸ナトリウム水溶液900gとAl2O3として0.83質量%のアルミン酸ナトリウム水溶液900gとを同時に添加した。その間、反応液の温度を80℃に保持した。添加終了後、反応液を室温まで冷却し、限外濾過膜で洗浄して固形分濃度20質量%のSiO2・Al2O3一次粒子分散液を調製した。この反応液のpHは12.9であった。この一次粒子分散液50gに純水170gを加えて98℃に加温し、この温度を保持しながら、濃度0.5質量%の硫酸ナトリウム5,040gを添加し、ついでSiO2として濃度1.17質量%の珪酸ナトリウム水溶液300gとAl2O3としての濃度0.5質量%のアルミン酸ナトリウム水溶液900gを添加して複合酸化物微粒子の分散液を得た。ついで、限外濾過膜で洗浄して固形分濃度13質量%になった複合酸化物微粒子の分散液138gに純水311gを加え、さらに濃塩酸(濃度35.5質量%)を滴下してpH1.0とし、脱アルミニウム処理を行った。次いで、pH3の塩酸水溶液2.76Lと純水1.38Lを加えながら限外濾過膜で溶解したアルミニウム塩を分離して固形分濃度20質量%のシリカ系微粒子の水分散液とした。この水分散液45gと、純水15g、エタノール52.5gおよび28%アンモニア水18.8gとの混合液を35℃に加温した後、エチルシリケート(SiO2濃度28質量%)3.1gを添加してシリカ被膜を形成した。ついで、限外濾過膜にて分散媒を水に置換し、200℃で1時間熟成し、再び限外濾過膜を用いて分散媒を2−プロパノールに置換して固形分濃度20質量%のシリカ系微粒子の2−プロパノール分散液(シリカゾル(S4))を調製した。シリカゾル(S4)は、平均粒子径46nm、屈折率1.28であった。
[実施例1]
20mLナス型フラスコに合成例3で得られた14.0000gのS1を秤量し、次いで、4.1256gのプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEAと略す)を加え、合成例1で得た1.5500gのP1(S1の固形分に対して、ポリシロキサンの固形分が10質量部)を加え、界面活性剤としてビックケミー・ジャパン(株)製のBYK−307をPGMEAで希釈し0.1質量%とした溶液0.2170gを加え、室温で完全に均一になるまで混合し、固形分の総質量が12.0質量%のワニス(V1と略す)を得た。
20mLナス型フラスコに合成例3で得られた14.0000gのS1を秤量し、次いで、3.9979gのプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEAと略す)を加え、合成例1で得た0.7750gのP1(S1の固形分に対して、ポリシロキサンの固形分が5質量部)を加え、界面活性剤として、ビックケミー・ジャパン(株)製のBYK−307をPGMEAで希釈し0.1質量%とした溶液0.2170gを加え、室温で完全に均一になるまで混合し、固形分の総質量が12.0質量%のワニス(V2と略す)を得た。
実施例1のP1をP2に置き換えた以外は実施例1と同様に操作し、ワニス(RV1)を得た。RV1は実施例1と同様にシリコン基板上でスピンコート、焼成し、屈折率乃至鉛筆硬度を測定した。その結果を表2に示す。
実施例2のP1をP2に置き換えた以外は実施例2と同様に操作し、ワニス(RV2)を得た。RV2は実施例2と同様にシリコン基板上でスピンコート、焼成し、屈折率乃至鉛筆硬度を測定した。その結果を表2に示す。
実施例1のS1を合成例4で得られたS2に置き換えた以外は実施例1と同様に操作し、ワニス(V3)を得た。V3は実施例1と同様にシリコン基板上でスピンコート、焼成し、屈折率乃至鉛筆硬度を測定した。その結果を表2に示す。
実施例2のS1を合成例4で得られたS2に置き換えた以外は実施例2と同様に操作し、ワニス(V4)を得た。V4は実施例2と同様にシリコン基板上でスピンコート、焼成し、屈折率乃至鉛筆硬度を測定した。その結果を表2に示す。
実施例1のS1を合成例5で得られたS3に置き換えた以外は実施例1と同様に操作し、ワニス(V5)を得た。V5は実施例1と同様にシリコン基板上でスピンコート、焼成し、屈折率乃至鉛筆硬度を測定した。その結果を表2に示す。
実施例2のS1を合成例5で得られたS3に置き換えた以外は実施例2と同様に操作し、ワニス(V6)を得た。V6は実施例2と同様にシリコン基板上でスピンコート、焼成し、屈折率乃至鉛筆硬度を測定した。その結果を表2に示す。
20mLナス型フラスコに合成例3で得られた7.0000gのS1を秤量し、合成例4で得られた7.0000gのS2を加え、次いで、4.1256gのプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEAと略す)を加え、合成例1で得た1.5500gのP1(S1とS2の合計固形分に対して、ポリシロキサンの固形分が10質量部)を加え、界面活性剤として、ビックケミー・ジャパン(株)製のBYK−307をPGMEAで希釈し0.1質量%とした溶液0.2170gを加え、室温で完全に均一になるまで混合し、固形分の総質量が12.0質量%のワニス(V7と略す)を得た。
実施例7のS1を合成例5で得られたS3に置き換えた以外は実施例7と同様に操作し、ワニス(V8)を得た。V8は実施例7と同様にシリコン基板上でスピンコート、焼成し、屈折率乃至鉛筆硬度を測定した。その結果を表2に示す。
実施例7のS2を合成例5で得られたS3に置き換えた以外は実施例7と同様に操作し、ワニス(V9)を得た。V9は実施例7と同様にシリコン基板上でスピンコート、焼成し、屈折率乃至鉛筆硬度を測定した。その結果を表2に示す。
20mLナス型フラスコに合成例3で得られた15.0000gのS1を秤量し、次いで、4.1444gのプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEAと略す)を加え、界面活性剤として、ビックケミー・ジャパン(株)製のBYK−307をPGMEAで希釈し0.1質量%とした溶液0.2325gを加え、室温で完全に均一になるまで混合し、固形分の総質量が12.0質量%のワニス(RV3と略す)を得た。
比較例3のS1を合成例4で得られたS2に置き換えた以外は比較例3と同様に操作し、ワニス(RV4)を得た。RV4は比較例3と同様にシリコン基板上でスピンコート、焼成し、屈折率乃至鉛筆硬度を測定した。その結果を表2に示す。
比較例3のS1を合成例5で得られたS3に置き換えた以外は比較例3と同様に操作し、ワニス(RV5)を得た。RV5は比較例3と同様にシリコン基板上でスピンコート、焼成し、屈折率乃至鉛筆硬度を測定した。その結果を表2に示す。
20mLナス型フラスコに合成例1で得られた17.0000gのP1を秤量し、次いで、2.5973gのプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEAと略す)を加え、界面活性剤として、ビックケミー・ジャパン(株)製のBYK−307をPGMEAで希釈し0.1質量%とした溶液0.2380gを加え、室温で完全に均一になるまで混合し、固形分の総質量が12.0質量%のワニス(RV6と略す)を得た。
比較例6のP1を合成例2で得られたP2に置き換えた以外は比較例6と同様に操作し、ワニス(RV7)を得た。RV7は比較例6と同様にシリコン基板上でスピンコート、焼成し、屈折率乃至鉛筆硬度を測定した。その結果を表2に示す。
20mLナス型フラスコに合成例6で得られた5.4540gのS−4を秤量し、次いで、3.6577gの2−プロパノールを加え、合成例1で得た0.7791gのP1(S4の固形分に対して、ポリシロキサンの固形分が10質量部)を加え、界面活性剤としてビックケミー・ジャパン(株)製のBYK−307をPGMEAで希釈し0.1質量%とした溶液0.1091gを加え、室温で完全に均一になるまで混合し、固形分の総質量が12.0質量%のワニス(V10と略す)を得た。
表2の結果から、V1の膜とV2の膜とを比較する。ポリシロキサンの含有量が多くなるにしたがって屈折率が高まり、鉛筆硬度による膜硬度が高いことが分かった。
V1乃至V2の膜とRV1乃至RV2の膜とを比較する。ポリシロキサンの種類が完全加水分解型とした膜は、部分加水分解型を選択した場合の膜と比較して鉛筆硬度による膜硬度が高くなり、屈折率が低くなることがわかった。この結果は、部分加水分解型のポリシロキサンに残留するアルコキシ基の屈折率が高く発現することと、シリカ粒子表面のシラノール基と縮合しにくく、鉛筆硬度が低下することを示していると考えられる。
RV3、RV4乃至RV5はシリカ粒子単独で製膜した比較例である。シリカ粒子の単独膜は非常に低屈折率を発現するものの、鉛筆硬度による膜硬度が6B以下となり、触れただけで膜が傷つきデバイス作製の際の被膜として柔らかすぎることがわかった。
RV6乃至RV7はポリシロキサン単独で製膜した比較例である。ポリシロキサンの単独膜は非常に高い鉛筆硬度を発現するものの、波長633nmの屈折率が1.4以上となり、目的とする波長633nmにおける1.3以下の屈折率を達成することができなかった。
上記実施例1及び実施例2の耐熱性試験を行った。
実施例1で得られたV1はシリコン基板及び石英上にスピンコーターを用いて、膜厚が500nmとなるようにスピンコートし、ホットプレートを用いて、(A)100℃1分間で仮乾燥を行い、次いで200℃5分間の焼成、(B)100℃1分間で仮乾燥を行い、次いで250℃5分間の焼成、(C)100℃1分間で仮乾燥を行い、次いで300℃5分間の焼成をそれぞれ行い被膜を得た。被膜はエリプソメーターにより膜厚及び波長633nmの屈折率を、電動鉛筆引っかき硬度試験機により鉛筆硬度を、紫外線可視分光光度計により透過率を測定し、その結果を表3及び図3〜5に示す。屈折率と鉛筆硬度はシリコン基板上の膜を、透過率は石英基板上の膜を測定した。
透過率を測定する際のバックグラウンドは膜を塗布していない石英基板とした。透過率の測定波長は200乃至800nmとした。
〔表3〕
実施例11で用いたV1をV2に置き換えた以外は実施例11と同様に操作し、屈折率、鉛筆硬度乃至透過率を測定した。その結果を表4及び図6〜8に示す。
〔表4〕
表3〜4及び図3〜8の結果から、各膜は焼成温度に影響されず300℃の高温焼成まで膜厚、屈折率、鉛筆硬度、透過率が変化せず良好であることがわかった。
溶剤耐性試験とは、本焼成後の被膜が溶剤への接触に対して不溶化していることを示す試験である。溶剤耐性は被膜の上にレジストなどをリコートし、パターニングする後工程が加わった際に必要になる特性であり、溶剤耐性がない場合、リコートする際のレジスト溶剤に被膜が溶解してしまい、被膜とレジストとがミキシングされてしまって、本来の特性が発現しないことがある。
実施例1において、シリコン基板上に作製したV1の被膜の溶剤耐性試験を行った。
焼成後の膜厚は500.1nmであり、これを初期膜厚とした。被膜をそれぞれ独立して、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、シクロヘキサノン、アセトン、乳酸エチルに完全に浸漬させ、5分間放置した。次いで、エアーで乾燥後、200℃のホットプレートで1分間焼成し、残留溶剤を完全に蒸発させた後、膜厚を測定し、初期膜厚と比較した。
その結果、初期膜厚を100%としたとき、プロピレングリコールモノメチルエーテルでは100.0%、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートでは100.0%、シクロヘキサノンでは100.0%、アセトンでは100.0%、乳酸エチルでは100.0%となり、各種有機溶剤に対して溶剤耐性が良好であることがわかった。
実施例2において、シリコン基板上に作製したV2の被膜を用いた以外は、実施例12と同様にして溶剤耐性試験を行った。焼成後の膜厚は500.5nmであり、これを初期膜厚とした。
初期膜厚を100%としたとき、プロピレングリコールモノメチルエーテルでは100.0%、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートでは100.0%、シクロヘキサノンでは100.0%、アセトンでは100.0%、乳酸エチルでは100.0%となり、各種有機溶剤に対して溶剤耐性が良好であることがわかった。
耐光性試験における、光照射は財団法人日本ウエザリングテストセンターにて行い、照度が180W/m2、露光波長が275nm以上のキセノンアークランプを光源とした。試験機はスガ試験機(株)製 SX75−AP型を用いた。
実施例2で作製したV2の被膜の耐光性試験を行った。光照射時間は500時間とし、光照射前後の膜厚、屈折率、鉛筆硬度、透過率を測定した。その結果を表6及び図11〜12に示す。
〔表6〕
表5〜表6及び図9〜図12の結果から、本発明の被膜は非常に強い耐光性を有していることが分かった。本光照射条件はLCDの耐光性試験に一般的に用いられる光照射条件であるが、膜厚、屈折率、鉛筆硬度、透過率ともに変化は見られなかった。
恒温恒湿試験の条件は90℃、90%RHにて336時間とした。
[実施例17]
実施例1で作成したV1の被膜の恒温恒湿試験を行った。試験後の膜はホットプレートを用いて200℃1分間焼成した。試験前後の膜厚、屈折率、鉛筆硬度、透過率を測定した。その結果を表7及び図13〜14に示す。
〔表7〕
実施例2で作成したV2の被膜の恒温恒湿試験を行った。試験後の膜はホットプレートを用いて200℃1分間焼成した。試験前後の膜厚、屈折率、鉛筆硬度、透過率を測定した。その結果を表8及び図15〜16に示す。
〔表8〕
表7乃至表8及び図13乃至図16の結果から、本発明の被膜は恒温恒湿試験後においても良好な透過率を保持し、波長633nmにおける屈折率も著しく変化することなく良好であることがわかった。
本発明の水酸基を含まない非アルコールを加水分解又は重縮合時の溶剤に用いて得られる分子量が1000乃至20000の完全加水分解型のポリシロキサンと、BET法による比表面積から計算される平均粒子径が100nm以下(例えば1乃至100nm)、および屈折率が1.5以下(例えば1.15乃至1.50)の無機粒子とからなる膜形成用組成物を用いることで、高透明性、高耐熱性、高耐光性、高硬度の要求特性を一度に満たすことができる。得られる被膜は具体的には、屈折率が波長633nmで1.15乃至1.30となり、鉛筆硬度がH以上(例えばH乃至9H、又はH乃至5H、又はH乃至3H)であり、耐熱性、耐光性、高信頼性を有する低屈折率膜を得ることができる。
さらに、保存安定性が良好であることから、目的とする表示デバイスを作製する際の安定製造、安定供給につながり、コストの削減、デバイス製造のスループットの向上が達成され、結果として歩留まりが向上する。その結果、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、カソードレイチューブ、有機発光ディスプレイ、電子ペーパー、光半導体(LED)、固体撮像素子、太陽電池、有機薄膜トランジスタなどの電子デバイスとして好適に用いることができる。
Claims (13)
- 式(1)で表される加水分解性シランがテトラエトキシシラン、又はテトラメトキシシランである請求項1に記載の膜形成用組成物。
- 溶剤(C)が上記加水分解性シランの加水分解縮合の際に用いるアセトン又はテトラヒドロフランと、該加水分解性シランの加水分解によって生じた反応物を除去するための溶剤置換用溶剤を含むものである請求項1又は請求項2に記載の膜形成用組成物。
- 無機粒子(B)が1.15乃至1.50の屈折率を有する粒子である請求項1乃至請求項3のいずれか1項に記載の膜形成用組成物。
- 無機粒子(B)が、BET法による比表面積から計算される平均粒子径(粒子径A)が5乃至60nmであり、動的光散乱法による分散粒子径(粒子径B)が50乃至250nmであり、そして粒子径B/粒子径Aが1.1以上の無機粒子(B−1)である請求項1乃至請求項4のいずれか1項に記載の膜形成用組成物。
- 無機粒子(B)が、外殻と内部とを有し、該内部が多孔質又は空洞であり、平均粒子径が15乃至100nmである無機粒子(B−2)である請求項1乃至請求項4のいずれか
1項に記載の膜形成用組成物。 - 無機粒子(B)がBET法による比表面積から計算される1乃至100nmの平均粒子径と1.15乃至1.50の屈折率を有する無機粒子である請求項7に記載の製造方法。
- 請求項1乃至請求項6のいずれか1項に記載の膜形成用組成物を基板上に被覆し焼成して得られ、波長633nmで1.15乃至1.30の屈折率と、JIS規格K5600によって定められた鉛筆硬度がH乃至9Hの硬度を有する被膜。
- 請求項1乃至請求項6のいずれか1項に記載の膜形成用組成物を基板上に被覆し焼成する工程を含む請求項9に記載の被膜の形成方法。
- 請求項1乃至請求項6のいずれか1項に記載の膜形成用組成物から得られた反射防止膜。
- 請求項1乃至請求項6のいずれか1項に記載の膜形成用組成物を用いて得られた電子デバイスを有する装置。
- 電子デバイスが液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、カソードレイチューブ、有機発光ディスプレイ、電子ペーパー、光半導体(LED)、固体撮像素子、太陽電池、又は有機薄膜トランジスタである請求項12に記載の装置。
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