JP6028929B2 - 基板処理装置 - Google Patents
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Description
これにより、チャンバを小型化することができ、チャンバ内から効果的に排液及び排気を行うことができる。
以下に、本願において特許請求が可能と認識されている発明(以下、「請求可能発明」という場合がある。)の態様をいくつか例示し、それらについて説明する。なお、各態様は、請求項と同様に、項に区分し、各項に番号を付して、必要に応じて他の項を引用する形式で記載する。これは、あくまでも請求可能発明の理解を容易にするためであり、請求可能発明を構成する構成要素の組み合わせを、以下の各項に記載されたものに限定する趣旨ではない。つまり、請求可能発明は、各項に付随する記載、実施の形態等を参酌して解釈されるべきであり、その解釈に従う限りにおいて、各項の態様にさらに他の構成要件を付加した態様も、また、各項の態様から構成要件を削除した態様も、請求可能発明の一態様となり得るのである。
(1)項の基板処理装置では、チャンバ内に配置する構成部材を、回転支持体、処理液供給ノズル及び回収カップの最小限として、回転支持体を回転させるモータ、処理液供給ノズルを所定の位置に移動させるモータ、回収カップを上下方向に移動させるカップ上下方向移動機構及び排液タンク等をチャンバ外に配置して、且つチャンバの下方の開口を閉塞する収集トレーにより回収カップ内の排液及びチャンバ内の排気を収集するようにしたので、チャンバの容積を最小限にすることができる。
また、(1)項の基板処理装置では、排液収集凹部に連通して、収集トレーの側面から外方に突設される排液ポートと、排気収集凹部に連通して、収集トレーの側面から外方に突設され、排液ポートと同じ方向に指向する排気ポートとを備えているので、装置全体を小型化することができ、専有スペースを小さくすることができる。
(2)項の基板処理装置では、収集トレーの排液収集凹部内に収集された排液は案内溝に沿ってスムーズに案内されて、排液収集凹部の一箇所に収集される。
(3)項の基板処理装置では、回収カップ内からの排液の収集効率を向上させることができる。
(4)項の基板処理装置では、チャンバ内における収集トレーの各排気収集凹部への排気量分布を略均一にすることができる。
(5)項の基板処理装置では、複数のカップ用排液ポートにより回収カップ内の排液がスムーズに収集トレーの排液収集凹部に流れ込むようになる。
(6)項の基板処理装置では、チャンバ内の気流は、カバーの各排気用孔を経由して収集トレーの排気収集凹部内に収集されるので、チャンバ内における排気収集凹部への排気量分布を略均一にすることができる。
(8)前記各排気用孔の内径の大きさは、前記排気収集用凹部との距離が短くなるにつれて小さく形成されることを特徴とする(7)項に記載の基板処理装置。
(7)項及び(8)項の基板処理装置では、特に、チャンバ内からの排気量が少ない場合、チャンバ内における収集トレーの排気収集凹部への排気量分布を略均一にすることができる。
(9)項の基板処理装置では、処理液供給ノズルから模擬的に噴射された処理液を、管状部材を経由して収集トレーの排液収集凹部内に収集することができる。
本発明の実施の形態に係る基板処理装置1は、図1〜図3に示すように、基板、例えば半導体ウエハ2に、フォトレジスト液、リンス液や洗浄液などの処理液を供給して、半導体ウエハ2を処理するものである。本基板処理装置1では、チャンバ3内に回転支持体4、処理液供給ノズル5及び回収カップ6を収容して構成される。チャンバ3は、下方を開放する略直方体に形成される。チャンバ3の下方の開口は収集トレー10にて閉塞される。チャンバ3内にはその上部から気流が送り込まれる。なお、チャンバ3の側部には開口(図示略)が設けられ、該開口に半導体ウエハ2の出し入れやメンテナンス時に開閉する開閉自在カバー(図示略)が取り付けられている。
まず、チャンバ3内の回転支持体4の上面に半導体ウエハ2が搬送されて、半導体ウエハ2は回転支持体4の上面に吸引固定される。回収カップ6がカップ上下方向移動機構20を作動させることにより所定高さに配置される。各処理液供給手段30のうちいずれか一方の処理液供給手段30の柱状体32を回動させることによりアーム31を回動させて、各処理液供給ノズル5の先端が半導体ウエハ2表面の中心部の上方に位置するようにして、且つ各処理液供給ノズル5はノズル上下方向移動機構34を作動させることにより所定高さに配置される。
さらに、本発明の実施の形態に係る基板処理装置1では、収集トレー10の上面を塞ぐカバー55に設けた複数の排気用孔57は、収集トレー10の各排気収集凹部43、43との距離によりその内径の大きさが相違しており、具体的には、各排気用孔57の内径の大きさは、収集トレー10の各排気収集凹部43、43との距離が短くなるにつれて小さく形成される。この結果、特に、チャンバ3内からの排気量が少ない場合、チャンバ3内における収集トレー10の各排気収集凹部43、43への排気量分布を略均一にすることができる。
Claims (5)
- 基板を支持して回転駆動する回転支持体と、
該回転支持体上の前記基板に対して処理液を供給する処理液供給ノズルと、
前記基板を囲むように配置され、飛散した処理液を回収する回収カップと、
前記回転支持体、前記処理液供給ノズル及び前記回収カップを収容するチャンバと、
該チャンバの下方の開口を閉塞するように配置され、前記回収カップからの排液及び前記チャンバ内からの排気を収集する、板部材で構成される収集トレーと、を備え、
前記収集トレーは、
その上面を凹設して形成した、前記回収カップからの排液を収集する排液収集凹部と、
その上面を凹設して形成した、前記チャンバ内からの排気を収集する排気収集凹部と、
前記排液収集凹部に連通して、前記収集トレーの側面から外方に突設される排液ポートと、
前記排気収集凹部に連通して、前記収集トレーの側面から外方に突設され、前記排液ポートと同じ方向に指向する排気ポートと、
を備えることを特徴とする基板処理装置。 - 前記排液収集凹部の底部には排液を案内する案内溝が形成されることを特徴とする請求項1に記載の基板処理装置。
- 前記収集トレーの上面は、複数の排気用孔を有したカバーにより覆われていることを特徴とする請求項1または2に記載の基板処理装置。
- 前記各排気用孔は、前記収集トレーの排気収集凹部との距離によりその内径の大きさが相違することを特徴とする請求項3に記載の基板処理装置。
- 前記回収カップの側方に、前記収集トレーの前記排液収集凹部に連通する管状部材が立設され、
前記処理液供給ノズルは前記管状部材の上方に移動可能であることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の基板処理装置。
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