JP6025978B2 - 可動要素のための支持部、露光装置、及びデバイス製造方法 - Google Patents
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Description
本出願は、2012年7月12日に出願された米国仮出願第61/671,000号の利益を主張し、その全体が本明細書に援用される。
に関する。
1.可動要素のための支持部であって、
固定子要素と、
前記固定子要素に装着された重力補償器場誘起要素であって、前記固定子要素と前記可動要素との隙間における磁場を制御することによって、並進力を前記可動要素に与えるよう構成されている重力補償器場誘起要素と、
前記固定子要素に装着された複数のトルク補償器場誘起要素であって、前記固定子要素と前記可動要素との隙間における磁場を制御することによって、前記重力補償器場誘起要素によって与えられる並進力の方向に実質的に垂直な第1軸まわりのトルクを前記可動要素に与えるよう構成されている複数のトルク補償器場誘起要素と、を備える支持部。
2.前記複数のトルク補償器場誘起要素は、前記重力補償器場誘起要素によって与えられる並進力の方向及び前記第1軸に実質的に垂直な第2軸まわりのトルクを与えるようにも構成されている、項1に記載の支持部。
3.前記固定子要素は、前記重力補償器場誘起要素のための固定子として主に動作するよう構成されている第1部分を有する、項1または2に記載の支持部。
4.前記固定子要素は、追加部分をさらに備え、前記追加部分は、前記複数のトルク補償器場誘起要素の1つのための固定子として主に動作するよう構成されている、項3に記載の支持部。
5.前記固定子要素の第1部分は、前記固定子要素の追加部分と一体である、項4に記載の支持部。
6.1つ又は複数の場誘起要素が電流を伝導するコイルを備える、項1から5のいずれかに記載の支持部。
7.前記複数のトルク補償器場誘起要素は、前記固定子要素と前記可動要素との隙間における磁場のサイズの空間的変動を制御するよう構成されている、項1から6のいずれかに記載の支持部。
8.前記複数のトルク補償器場誘起要素は、第1領域における磁場のサイズを制御するよう構成されている第1場誘起要素と、第2領域における磁場のサイズを制御するよう構成されている第2場誘起要素と、を備え、前記第1領域は、前記重力補償器場誘起要素によって与えられる並進力の方向に垂直な方向に前記第2領域から分離されている、項1から7のいずれかに記載の支持部。
9.前記第1場誘起要素及び前記第2場誘起要素は、前記第1領域における磁場のサイズを前記第2領域における磁場のサイズと異ならせることによって前記第1軸まわりのトルクを与えるよう構成されている、項8に記載の支持部。
10.磁場のサイズは、前記第1領域においては前記隙間における磁場の平均サイズより小さく、前記第2領域においては前記隙間における磁場の平均サイズより大きいよう調整される、項9に記載の支持部。
11.前記第1領域における磁場の変更により前記可動要素に与えられる力の変化は、前記第2領域における磁場の変更により前記可動要素に与えられる力の変化と実質的に等しくかつ反対向きである、項10に記載の支持部。
12.前記複数のトルク補償器場誘起要素は、第3領域における磁場のサイズを制御するよう構成されている第3場誘起要素と、第4領域における磁場のサイズを制御するよう構成されている第4場誘起要素と、をさらに備え、前記第3領域及び前記第4領域は、前記重力補償器場誘起要素によって与えられる並進力の方向に垂直な方向に互いに分離されかつ前記第1領域及び前記第2領域のそれぞれから分離されている、項8から11のいずれかに記載の支持部。
13.前記第3場誘起要素及び前記第4場誘起要素は、前記第3領域における磁場のサイズを前記第4領域における磁場のサイズと異ならせることによって前記重力補償器場誘起要素によって与えられる並進力の方向及び前記第1軸に実質的に垂直な第2軸まわりのトルクを与えるよう構成されている、項12に記載の支持部。
14.前記複数のトルク補償器場誘起要素は、各々が前記隙間の異なる領域における磁場のサイズを制御するよう構成されている3つの場誘起要素を備え、前記3つの場誘起要素は、前記重力補償器場誘起要素によって与えられる並進力の方向に垂直でありかつ互いに垂直である第1軸及び第2軸の一方または両方まわりのトルクを選択的に与えるよう個別に制御可能である、項1から11のいずれかに記載の支持部。
15.前記固定子要素は、前記固定子要素と前記可動要素との隙間における磁場を提供するよう構成されている永久磁石を備える、項1から14のいずれかに記載の支持部。
16.前記永久磁石によって提供される磁場は、前記重力補償器場誘起要素によって提供される磁場と前記隙間において実質的に平行である、項15に記載の支持部。
17.前記固定子要素と前記可動要素との隙間と前記永久磁石との間に場均一化要素をさらに備える、項15または16に記載の支持部。
18.前記場均一化要素は、軟磁性材料を備える、項17に記載の支持部。
19.前記重力補償器場誘起要素は、2以上のトルク補償器場誘起要素から形成され、かつ重力方向に作用する動的変動並進力を補正するのみであるよう構成され、前記可動要素の重量は、前記永久磁石が供給する場によって主に支持される、項15から18のいずれかに記載の支持部。
20.前記場誘起要素に電流を駆動する支持部駆動部であって、前記可動要素に並進力を提供するのみであるよう前記重力補償器場誘起要素を駆動するとともに、前記重力補償器場誘起要素によって与えられる並進力の方向に実質的に平行に前記可動要素に与えられる合力においてトルク及び動的変動の両方を補償するよう前記複数のトルク補償器場誘起要素を駆動するように構成されている支持部駆動部をさらに備える、項1から18のいずれかに記載の支持部。
21.前記場誘起要素に電流を駆動する支持部駆動部をさらに備える、項1から19のいずれかに記載の支持部。
22.可動要素と、
前記可動要素を支持するよう構成されている項1から21のいずれかに記載の支持部と、を備える支持システム。
23.前記可動要素の運動を駆動するよう構成されている可動要素駆動部をさらに備える、項22に記載のシステム。
24.前記可動要素駆動部は、前記可動要素に回転運動を伝えるよう構成されている、項23に記載のシステム。
25.前記回転運動は、前記重力補償器場誘起要素によって与えられる並進力の方向に実質的に平行な方向まわりである、項24に記載のシステム。
26.前記可動要素駆動部は、前記可動要素に並進運動を伝えるよう構成されている、項23から25のいずれかに記載のシステム。
27.前記可動要素は、非接触に支持される、項22から26のいずれかに記載のシステム。
28.前記支持部は、前記可動要素への重力に実質的に等しい力を与えるよう構成されている、項22から27のいずれかに記載のシステム。
29.前記可動要素は、前記支持部の下方に非接触に吊下される、項22から28のいずれかに記載のシステム。
30.複数の放射ビームの各々を目標物に投影するよう構成されている投影系であって、静止要素及び可動要素を備える投影系と、
前記可動要素を支持するよう構成されている項1から21のいずれかに記載の支持部と、を備える露光装置。
31.複数の放射ビームの各々を目標物に投影する投影系であって、静止要素及び可動要素を備える投影系と、
固定子要素と、
前記固定子要素に装着された重力補償器場誘起要素と、
前記固定子要素に装着された複数のトルク補償器場誘起要素と、を備え、
前記重力補償器場誘起要素は、前記固定子要素と前記可動要素との隙間における磁場を制御することによって、並進力を前記可動要素に与えるよう構成され、
前記複数のトルク補償器場誘起要素は、前記固定子要素と前記可動要素との隙間における磁場を制御することによって、前記重力補償器場誘起要素によって与えられる並進力の方向に垂直な第1軸まわりのトルクを前記可動要素に与えるよう構成されている露光装置。
32.前記可動要素は、前記静止要素に対し回転するよう構成されている、項30または31に記載の装置。
33.前記複数の放射ビームを提供するよう構成されているプログラマブルパターニングデバイスをさらに備える、項30から32のいずれかに記載の装置。
34.前記プログラマブルパターニングデバイスは、複数の自己放射コントラストデバイスを備える、項33に記載の装置。
35.可動要素を支持する方法であって、
固定子要素に装着された重力補償器場誘起要素を、前記固定子要素と前記可動要素との隙間における磁場を制御することによって並進力を前記可動要素に与えるよう駆動することと、
前記固定子要素に装着された複数のトルク補償器場誘起要素を、前記固定子要素と前記可動要素との隙間における磁場を制御することによって前記重力補償器場誘起要素によって与えられる並進力の方向に実質的に垂直な第1軸まわりのトルクを前記可動要素に与えるよう駆動することと、を備える方法。
36.投影系は静止要素及び可動要素を備え、複数の放射ビームの各々を目標物に投影することと、
固定子要素に装着された重力補償器場誘起要素を、前記固定子要素と前記可動要素との隙間における磁場を制御することによって並進力を前記可動要素に与えるよう駆動することと、
前記固定子要素に装着された複数のトルク補償器場誘起要素を、前記固定子要素と前記可動要素との隙間における磁場を制御することによって前記重力補償器場誘起要素によって与えられる並進力の方向に実質的に垂直な第1軸まわりのトルクを前記可動要素に与えるよう駆動することと、を備えるデバイス製造方法。
Claims (15)
- 可動要素のための支持部であって、
固定子要素と、
前記固定子要素に装着された重力補償器場誘起要素であって、前記固定子要素と前記可動要素との隙間における磁場を制御することによって、並進力を前記可動要素に与えるよう構成されている重力補償器場誘起要素と、
前記重力補償器場誘起要素とは別個に設けられ前記固定子要素に装着された複数のトルク補償器場誘起要素であって、前記固定子要素と前記可動要素との隙間における磁場を制御することによって、前記重力補償器場誘起要素によって与えられる並進力の方向に実質的に垂直な第1軸まわりのトルクを前記可動要素に与えるよう構成されている複数のトルク補償器場誘起要素と、を備える支持部。 - 前記複数のトルク補償器場誘起要素は、前記重力補償器場誘起要素によって与えられる並進力の方向及び前記第1軸に実質的に垂直な第2軸まわりのトルクを与えるようにも構成されている、請求項1に記載の支持部。
- 前記固定子要素は、前記重力補償器場誘起要素のための固定子として主に動作するよう構成されている第1部分を有する、請求項1または2に記載の支持部。
- 前記固定子要素は、追加部分をさらに備え、前記追加部分は、前記複数のトルク補償器場誘起要素の1つのための固定子として主に動作するよう構成されている、請求項3に記載の支持部。
- 前記固定子要素の第1部分は、前記固定子要素の追加部分と一体である、請求項4に記載の支持部。
- 前記複数のトルク補償器場誘起要素は、前記固定子要素と前記可動要素との隙間における磁場のサイズの空間的変動を制御するよう構成されている、請求項1から5のいずれかに記載の支持部。
- 前記複数のトルク補償器場誘起要素は、第1領域における磁場のサイズを制御するよう構成されている第1場誘起要素と、第2領域における磁場のサイズを制御するよう構成されている第2場誘起要素と、を備え、前記第1領域は、前記重力補償器場誘起要素によって与えられる並進力の方向に垂直な方向に前記第2領域から分離されている、請求項1から6のいずれかに記載の支持部。
- 前記第1場誘起要素及び前記第2場誘起要素は、前記第1領域における磁場のサイズを前記第2領域における磁場のサイズと異ならせることによって前記第1軸まわりのトルクを与えるよう構成されている、請求項7に記載の支持部。
- 磁場のサイズは、前記第1領域においては前記隙間における磁場の平均サイズより小さく、前記第2領域においては前記隙間における磁場の平均サイズより大きいよう調整される、請求項8に記載の支持部。
- 前記第1領域における磁場の変更により前記可動要素に与えられる力の変化は、前記第2領域における磁場の変更により前記可動要素に与えられる力の変化と実質的に等しくかつ反対向きである、請求項9に記載の支持部。
- 可動要素のための支持部であって、
固定子要素と、
前記固定子要素に装着された重力補償器場誘起要素であって、前記固定子要素と前記可動要素との隙間における磁場を制御することによって、並進力を前記可動要素に与えるよう構成されている重力補償器場誘起要素と、
前記固定子要素に装着された複数のトルク補償器場誘起要素であって、前記固定子要素と前記可動要素との隙間における磁場を制御することによって、前記重力補償器場誘起要素によって与えられる並進力の方向に実質的に垂直な第1軸まわりのトルクを前記可動要素に与えるよう構成されている複数のトルク補償器場誘起要素と、を備え、
前記固定子要素は、前記固定子要素と前記可動要素との隙間における磁場を提供するよう構成されている永久磁石を備える支持部。 - 前記重力補償器場誘起要素は、2以上のトルク補償器場誘起要素から形成され、かつ重力方向に作用する動的変動並進力を補正するのみであるよう構成され、前記可動要素の重量は、前記永久磁石が供給する場によって主に支持される、請求項11に記載の支持部。
- 可動要素のための支持部であって、
固定子要素と、
前記固定子要素に装着された重力補償器場誘起要素であって、前記固定子要素と前記可動要素との隙間における磁場を制御することによって、並進力を前記可動要素に与えるよう構成されている重力補償器場誘起要素と、
前記固定子要素に装着された複数のトルク補償器場誘起要素であって、前記固定子要素と前記可動要素との隙間における磁場を制御することによって、前記重力補償器場誘起要素によって与えられる並進力の方向に実質的に垂直な第1軸まわりのトルクを前記可動要素に与えるよう構成されている複数のトルク補償器場誘起要素と、
前記場誘起要素に電流を駆動する支持部駆動部であって、前記可動要素に並進力を提供するのみであるよう前記重力補償器場誘起要素を駆動するとともに、前記重力補償器場誘起要素によって与えられる並進力の方向に実質的に平行に前記可動要素に与えられる合力においてトルク及び動的変動の両方を補償するよう前記複数のトルク補償器場誘起要素を駆動するように構成されている支持部駆動部と、を備える支持部。 - 複数の放射ビームの各々を目標物に投影するよう構成されている投影系であって、静止要素及び可動要素を備える投影系と、
前記可動要素を支持するよう構成されている請求項1から13のいずれかに記載の支持部と、を備える露光装置。 - 投影系は静止要素及び可動要素を備え、複数の放射ビームの各々を目標物に投影することと、
固定子要素に装着された重力補償器場誘起要素を、前記固定子要素と前記可動要素との隙間における磁場を制御することによって並進力を前記可動要素に与えるよう駆動することと、
前記重力補償器場誘起要素とは別個に設けられ前記固定子要素に装着された複数のトルク補償器場誘起要素を、前記固定子要素と前記可動要素との隙間における磁場を制御することによって前記重力補償器場誘起要素によって与えられる並進力の方向に実質的に垂直な第1軸まわりのトルクを前記可動要素に与えるよう駆動することと、を備えるデバイス製造方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US201261671000P | 2012-07-12 | 2012-07-12 | |
US61/671,000 | 2012-07-12 | ||
PCT/EP2013/059999 WO2014009042A1 (en) | 2012-07-12 | 2013-05-15 | Support for a movable element and lithography apparatus |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2015523601A JP2015523601A (ja) | 2015-08-13 |
JP6025978B2 true JP6025978B2 (ja) | 2016-11-16 |
Family
ID=48430807
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015520859A Active JP6025978B2 (ja) | 2012-07-12 | 2013-05-15 | 可動要素のための支持部、露光装置、及びデバイス製造方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9535340B2 (ja) |
JP (1) | JP6025978B2 (ja) |
KR (1) | KR101688906B1 (ja) |
NL (1) | NL2010804A (ja) |
WO (1) | WO2014009042A1 (ja) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2018166745A1 (en) * | 2017-03-16 | 2018-09-20 | Asml Netherlands B.V. | Bearing device, magnetic gravity compensator, vibration isolation system, lithographic apparatus, method to control a gravity compensator having a negative stiffness, and spring |
CN106997155B (zh) * | 2017-05-24 | 2018-06-12 | 华中科技大学 | 一种低刚度的磁悬浮重力补偿器及微动台结构 |
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---|---|---|---|---|
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-
2013
- 2013-05-15 US US14/413,667 patent/US9535340B2/en active Active
- 2013-05-15 KR KR1020157002515A patent/KR101688906B1/ko active IP Right Grant
- 2013-05-15 JP JP2015520859A patent/JP6025978B2/ja active Active
- 2013-05-15 WO PCT/EP2013/059999 patent/WO2014009042A1/en active Application Filing
- 2013-05-15 NL NL2010804A patent/NL2010804A/en not_active Application Discontinuation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20150205210A1 (en) | 2015-07-23 |
KR101688906B1 (ko) | 2016-12-22 |
US9535340B2 (en) | 2017-01-03 |
JP2015523601A (ja) | 2015-08-13 |
NL2010804A (en) | 2014-01-14 |
KR20150036273A (ko) | 2015-04-07 |
WO2014009042A1 (en) | 2014-01-16 |
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Date | Code | Title | Description |
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A977 | Report on retrieval |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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