JP6022759B2 - 反射屈折型投影光学系およびそれを備えた投影露光装置 - Google Patents
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Description
k×h×L−m ≦ β
ただし、k、mは、投影光学系の特性によって定められる係数を表す。また、βは、照明光学系の照度補正可能な折り返しプリズムへの最大限度入射角を表す。
98.065×h×L−1.0305 ≦ 6.5
P ≦ 1×10−4 ・・・・・(1)
k×h×L−m ≦ β ・・・・・・(2)
Θ=−694065P2+2938.7P ・・・・(3)
θ=468.1L−1.030 (画角h=5mm)
θ=938.9L−1.030 (画角h=10mm)
θ=1415.2L−1.031 (画角h=15mm)
θ=1900.3L−1.032 (画角h=20mm)
θ=2398.0L−1.033 (画角h=25mm)
θ=2912.3L−1.035 (画角h=30mm)
θ=3451.6L−1.037 (画角h=35mm)
θ=4025.5L−1.039 (画角h=40mm)
・・・・・・・(4)
k=98.05×h ・・・・・(5)
θ=98.065×h×L−1.0305 ・・・・(6)
98.065×h×L−1.0305 ≦ 6.5 ・・・・(7)
20 照明光学系
30 投影光学系
32 第1レンズ群(第1光学系、前段光学系)
34 第2レンズ群(第2光学系、中間光学系)
34a 1/4波長板(第1の1/4波長板)
36 第3レンズ群(第3光学系、中間光学系)
36A 1/4波長板(第2の1/4波長板)
38 第4レンズ群(第4光学系、後段光学系)
40 偏光ビームスプリッタ(折返しプリズム)
42 凹面ミラー(第1凹面ミラー)
44 凹面ミラー(第2凹面ミラー)
PM マスク
SW 基板
Claims (5)
- 等倍の反射屈折型投影光学系であって、
物体面のパターン光を結像させる第1光学系と、
前記第1光学系からの光を偏光分離する折り返しプリズムと、
前記折り返しプリズムによって分離した一方の光の光路上に配置される第2光学系と、
前記第2光学系を透過した光を反射し、前記第2光学系を介して前記折り返しプリズムへ再度入射させる第1凹面ミラーと、
前記折り返しプリズムによって分離した他方の光の光路上に配置される第3光学系と、
前記第3光学系を透過した光を反射し、前記第3光学系を介して前記折り返しプリズムへ再度入射させる第2凹面ミラーと、
前記折り返しプリズムと像面との間の光路上に配置される第4光学系とを備え、
前記折り返しプリズムが、前記第1、第2凹面ミラーからの反射光を像面側へ導き、
前記第4光学系が、前記折り返しプリズムから射出する反射光を、像面に結像させ、
前記物体面からのマージナル光線が、前記折り返しプリズムに対して実質的に垂直入射するように、前記第1光学系の光学特性が定められており、
前記第2光学系および前記第1凹面ミラーを合わせたレンズパワー、および前記第3光学系および前記第2凹面ミラーを合わせたレンズパワーが、1×10 −4 (1/mm)以下であり、
最大画角h(mm)と、物体面から前記第1、第2凹面ミラーまでの光路長L(mm)が、以下の条件式を満たすことを特徴とする反射屈折型等倍投影光学系。
k×h×L −m ≦ β
ただし、k、mは、投影光学系の特性によって定められる係数を表す。また、βは、照明光学系の照度補正可能な折返しプリズムへの最大限度入射角(°)を表し、レンズパワーは、焦点距離の逆数を表し、最大画角hは、像面上における露光エリアの光軸からの最長距離を表す。 - 最大画角hと光路長Lが、以下の条件式を満たすことを特徴とする請求項1に記載の反射屈折型等倍投影光学系。
98.065×h×L−1.0305 ≦ 6.5
- 前記折り返しプリズムは、偏光ビームスプリッタを有し、
前記偏光ビームスプリッタと前記第2光学系との間に配置される第1の1/4波長板と、
前記偏光ビームスプリッタと前記第3光学系との間に配置される第2の1/4波長板とをさらに備えることを特徴とする請求項1乃至2のいずれかに記載の反射屈折型等倍投影光学系。 - 前記第1、第2の1/4波長板は、350nm〜450nmの波長域において、少なくとも400nm以上の波長に対して光を偏光可能であることを特徴とする請求項3に記載の反射屈折型等倍投影光学系。
- 請求項1乃至4のいずれかに記載の反射屈折型等倍投影光学系を備えた投影露光装置。
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