JP6008101B2 - 電力用はんだ - Google Patents
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Description
電気自動車やハイブリッド自動車の基幹技術として、バッテリーと並びインバーターが挙げられる。電気自動車やハイブリッド自動車の走行用モーターは、交流で電圧が500V以上のものが用いられるが、電気自動車やハイブリッド自動車に使用されているニッケルカドミウム電池やリチウムイオン電池などの2次電池の電圧は、直流で1V前後と低いため、直流から交流への変換と昇圧が必要です。この役目をするのが、インバータである。
パワーモジュールでは、絶縁基板のCuランドとパワー素子のCuランドとをはんだを用いて平面接合することが多く、平面接合することで、パワー素子で発生した熱を放熱板に逃がしている。
これは、CuとSnの二種類の金属が接触境界面で原子の拡散をして、Cuが移動するカーケンダル現象によって起きるもので、カーケンダルボイドと呼ばれる。カーケンダル現象は、拡散速度が大きく異なる金属同士で起き易く、拡散速度が大きく異なる金属の接触境界面に、別の金属を被覆することで防止する方法(特許文献1、特開2011−233879号公報)があり、この発明では、Niをバリア層として用いている。
また本出願人は、はんだボールの耐落下衝撃性を高めるために、Sn−Ag−CuはんだにSiを添加したはんだ合金(特許文献3,特開2004−261863号公報)を開示している。
この対策として、Cuランド上にNiめっきのバリアを作り、カーケンダルボイドを防止していました。しかし、Niめっきのバリアは薄いとバリアとしての効果がなく、厚すぎると、パワー素子からの放熱の障害となって、パワーモジュールの放熱効果を阻害していた。
本発明が、解決しようとする改題は、パワーモジュール内部の絶縁基板と半導体素子電極のCuランド上にNiのバリアを設けなくとも済むSn−Cu系のはんだ合金を見いだすことである。
本発明は、Cuが0.5〜1.5質量%、Siが0.001〜2.0質量%、残りはSnからなることを特徴とするはんだ合金である。
パワーモジュールには、従来からSn-Cu系はんだ合金が用いられてきた。それは、Sn-Cu系はんだ合金が一般的な基板のはんだ付けに使用されるSn-Ag-Cuはんだ合金に比較して、液相線温度が約10℃高いために、大電流が流れて、高温になりやすいパワーモジュールでは液相線温度が高く、耐熱性が高いという利点があり、また、パワーモジュールのようなはんだで接合される部分が両側で、応力が加わったときに力の逃げ場のない構造では、Sn-Ag-Cuはんだ合金のような硬いはんだ組成では、応力破壊が起こり易い。それに対して、Sn-Cu系はんだ合金ではSn-Ag-Cuはんだ合金に比較して柔軟性があるので、応力破壊に対して強い特性がある。従って、Sn-Cu系はんだ合金が用いられている。
SiとCuは多様な化合物を形成することができるため、はんだ付け界面においてSiとCuが化合物を形成することによってCuの拡散速度を低下させているからだと考えられる。
試験方法は、基板用のCu板として30×25×3mmの無酸素銅板(C1020)と、チップ用のCu板として10×10×1mmの無酸素銅板(C1020)を、表1の各組成の10×10×0.1mmのはんだペレットを用いて、酸素濃度150PPM,、ピーク温度230℃、60秒の条件でリフローはんだ付けした。
作製した試験片を150℃の恒温槽に放置し、1000時間後に取り出し、ボイドの観察と金属間化合物を観察して、ボイド量と金属間化合物(IMC)厚みを算定した。
1000時間高温放置後の倍率5000倍の断面写真を用いて、Cuとはんだの接合部分に発生したボイドの横方向の長さを測定して、それらを合計した長さをボイド発生量とし、断面写真の横方向の長さで割って、ボイド発生率(%)を算定する。
次にIMC厚みは、1000時間高温放置後の倍率5000倍の断面写真を用いて、電子顕微鏡のサイズ表示を参照してIMC厚みを算定する。
ボイド発生率及びIMC厚みの結果を表1に示す。
Claims (3)
- Niバリアを設けないCuランドを有する基板と、Cuランドを有する半導体チップとがはんだで平面接合されているパワーモジュール用のはんだ合金であり、Cuが0.5〜1.5質量%、Siが0.001〜2.0質量%、オプションとしてP、Ge、Gaから選択される元素1種以上を0.01〜0.1質量%、残りはSnからなることを特徴とするはんだ合金。
- 絶縁基板とパワー素子とをはんだを用いて接合しているパワーモジュールにおいて、絶縁基板上に形成されているCuランドにはNiのバリアが設けられておらず、パワー素子にはCuランドが形成されていて、絶縁基板上のCuランドとパワー素子のCuランドは、Cuが0.5〜1.5質量%、Siが0.001〜2.0質量%、オプションとしてP、Ge、Gaから選択される元素1種以上を0.01〜0.1質量%、残りはSnからなるはんだ合金によって、平面接合されていることを特徴とするパワーモジュール。
- 絶縁基板とパワー素子とをはんだを用いて接合しているパワーモジュールのはんだ付け方法において、Niのバリアを設けないCuランドを有する基板とCuランドを有する半導体チップからなるパワーモジュールの平面接合に、Cuが0.5〜1.5質量%、Siが0.001〜2.0質量%、オプションとしてP、Ge、Gaから選択される元素1種以上を0.01〜0.1質量%、残りはSnからなるはんだ合金を使用することを特徴とするパワーモジュールのはんだ付け方法。
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