JP6005118B2 - マイクロバブル生成装置及びシリコンウェハ洗浄装置 - Google Patents
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Description
また、好ましくは、前記管部は前記拡幅部において前記噴出口の近傍に設けられている。
図1は、本発明の第1の実施の形態に係るマイクロバブル生成装置の概略構成を示す図であり、図1(a)は斜視図であり、図1(b)は正面図である。
また、マイクロバブル生成装置1は上述のように小型であるので、シリコンウェハ洗浄装置100において、配置位置の自由度が高く、シリコンウェハ洗浄装置100の設計の自由度を向上させることができる。また、シリコンウェハ洗浄装置100を小型化することができ、使用や移動を容易にすることができ、取り扱いを容易にすることができる。
また、本発明に係るマイクロバブル生成装置は、シリコンウェハ洗浄装置以外の洗浄装置、例えば、部品洗浄機、洗濯機等に適用してもよい。更に、浴槽、生簀、水族館の水槽、又は鑑賞魚用の水槽に設置してもよい。この場合、例えば、循環ろ過フィルターの循環路に接続することが考えられる。また、家庭用シャワーのホースの途中や水道管の途中に設けてもよい。
10 マイクロバブル生成機構
11 噴出口
20,210,310,410,510,610 導出導管
21,411,611 拡幅部
22 管部
23,24,412 底面
25,612 周面
100 シリコンウェハ洗浄装置
101 洗浄槽
102 洗浄液
103 ポンプ
104,105 管路
711 供給管路
z,z1 軸
M マイクロバブル
W シリコンウェハ
Claims (8)
- マイクロバブルを生成するマイクロバブル生成機構と、
前記マイクロバブル生成機構によって生成されたマイクロバブルを導出するために前記マイクロバブル生成機構に接続された導出導管とを備え、
前記マイクロバブル生成機構はマイクロバブルを外部に噴出する噴出口を備え、前記導出導管は互いに連通する拡幅部と管部とを備え、前記拡幅部はマイクロバブルの流路断面積が前記管部より大きく、前記マイクロバブル生成機構は前記拡幅部に接続され、
前記噴出口から噴出されたマイクロバブルが、噴出された際と同じバブルサイズを維持しながら前記拡幅部に拡散できるように前記拡幅部のサイズが設定されており、
マイクロバブルは、前記噴出口から円錐形状に拡がることを特徴とするマイクロバブル生成装置。 - 前記拡幅部におけるマイクロバブルの流路軸と前記管部におけるマイクロバブルの流路軸とが互いに同一方向に延びるように、前記マイクロバブル生成機構及び前記管部が前記拡幅部に接続されていることを特徴とする請求項1記載のマイクロバブル生成装置。
- 前記拡幅部におけるマイクロバブルの流れ方向と、前記管部におけるマイクロバブルの流れ方向は、互いに逆方向であることを特徴とする請求項1記載のマイクロバブル生成装置。
- 前記拡幅部におけるマイクロバブルの流路軸と前記管部におけるマイクロバブルの流路軸とが互いに交差するように、前記マイクロバブル生成機構及び前記管部が前記拡幅部に接続されていることを特徴とする請求項1記載のマイクロバブル生成装置。
- 前記拡幅部における流路軸と前記管部における流路軸とが互いに直交するように、前記マイクロバブル生成機構及び前記管部が前記拡幅部に接続されていることを特徴とする請求項4記載のマイクロバブル生成装置。
- 前記マイクロバブル生成機構は、前記噴出口が前記管部におけるマイクロバブルの流路軸線上から外れるように前記拡幅部に接続されていることを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項記載のマイクロバブル生成装置。
- 前記拡幅部は流路断面が円形であることを特徴とする請求項1乃至6のいずれか1項記載のマイクロバブル生成装置。
- 前記管部は前記拡幅部において前記噴出口の近傍に設けられていることを特徴とする請求項1乃至7のいずれか1項記載のマイクロバブル生成装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2008330560A Division JP5666086B2 (ja) | 2008-12-25 | 2008-12-25 | シリコンウェハ洗浄装置 |
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JP2015019111A JP2015019111A (ja) | 2015-01-29 |
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JP3765759B2 (ja) * | 2002-02-04 | 2006-04-12 | 株式会社 多自然テクノワークス | 微細気泡発生装置 |
US8726918B2 (en) * | 2005-09-23 | 2014-05-20 | Sadatoshi Watanabe | Nanofluid generator and cleaning apparatus |
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2014
- 2014-10-15 JP JP2014210748A patent/JP6005118B2/ja active Active
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Publication number | Publication date |
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JP2015019111A (ja) | 2015-01-29 |
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