JP6005045B2 - シリカとカーボンの混合物の製造方法 - Google Patents

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Description

本発明は、シリカとカーボンからなる粒子、及び、該粒子の集合体であるシリカとカーボンの混合物の製造方法に関する。
炭化ケイ素またはシリコンの原料として、シリカ(SiO)とカーボン(C)の混合物を用いることが知られている。
シリカとカーボンの混合物を用いた炭化ケイ素の製造方法として、例えば、安価なシリカとコークスなどの炭素を原料とし、それらを1500〜1900℃に加熱することで、炭素とシリカによる還元反応によって、比較的高純度の炭化ケイ素を製造する方法が知られている(特許文献1)。
また、シリカとカーボンの混合物を用いた高純度シリコン製造用原材料の製造方法として、カーボンと二酸化珪素を主成分とする材料の混合物を、1300℃以上1800℃以下の温度範囲で5000Pa以下の圧力のもとに両物質間の接触面における反応により一酸化珪素ガス及び一酸化炭素ガスを生成させ、さらにこのガスを冷却して一酸化珪素の一部をバルク状に固化した後、回収するとともに、他の一酸化珪素を排気する方法が提案されている(特許文献2)。一酸化珪素(SiO)からシリコンを製造する場合、従来技術において得られるシリコンの純度は、原材料である一酸化珪素の純度に依存する。特許文献2に記載の方法によると、シリコンの原材料として用い得る高純度の一酸化珪素を得ることができる。
特開2000−044223号公報 特開2005−206441号公報
半導体等に用いられる炭化ケイ素及びシリコンには高い純度が求められている。炭化ケイ素及びシリコンの原料であるシリカ及びカーボンに含まれている不純物の量を減少させることができれば、より簡易な方法で、高純度の炭化ケイ素及びシリコンを得ることができる。
また、炭化ケイ素及びシリコンの原料であるシリカ粒子とカーボン粒子を乾式混合して得られる混合原料は、シリカ粒子とカーボン粒子が各々独立に存在しているため、特にこれらの粒子の径が大きい場合には、焼成時の反応性が悪いという問題があった。
さらに、焼成時の反応性を高める目的で、上記混合原料中のシリカ粒子及びカーボン粒子を細粒化する際に、粉砕機を構成する金属成分や、粉砕機内に残存していた不純物等が作業中に混合原料に混入するという問題があった。
そこで、本発明の目的は、シリカとカーボンからなり、不純物の含有率が小さく、かつ、焼成時のシリカとカーボンの反応性に優れた粒子を提供することにある。
また、本発明の他の目的は、シリカとカーボンからなり、不純物の含有率が小さく、かつ、焼成時のシリカとカーボンの反応性に優れた粒子の集合体であるシリカとカーボンの混合物を、簡易にかつ低コストで製造することのできる方法を提供することにある。
本発明者は、上記課題を解決するために鋭意検討した結果、粒子内にシリカとカーボンの各々が全体的に分布しており、かつ、不純物の含有率が小さいシリカとカーボンからなる粒子によれば、前記の目的を達成することができることを見出し、本発明を完成した。
また、本発明者は、特定のケイ酸アルカリ水溶液と、カーボンを混合した後、得られた混合物と鉱酸を混合して、シリカとカーボンからなる粒子を析出させ、次いで、該粒子を含む液状物に対して固液分離を行い、該粒子の集合体を含む固形分を得る方法によれば、前記の他の目的を達成することができることを見出し、本発明を完成した。
すなわち、本発明は、以下の[1]〜[13]を提供するものである。
粒子内にシリカとカーボンの各々が全体的に分布しており、かつ、B及びPの各々の含有率が1ppm以下であるシリカとカーボンからなる粒子の集合体であるシリカとカーボンの混合物の製造方法であって、(B)液分中のSi濃度が10質量%以上のケイ酸アルカリ水溶液とカーボンを混合して、カーボン含有ケイ酸アルカリ水溶液を得るカーボン混合工程と、(C)工程(B)で得られたカーボン含有ケイ酸アルカリ水溶液と鉱酸を混合して、液分中のC及びSiをシリカとカーボンからなる粒子として析出させ、粒子含有液状物を得た後、該粒子含有液状物を固液分離して、シリカとカーボンからなる粒子の集合体であるシリカとカーボンの混合物を含む固形分と、不純物を含む液分を得るシリカ回収工程と、を含むシリカとカーボンの混合物の製造方法。
[2] 上記シリカとカーボンからなる粒子は、粒子内の90体積%以上の領域において、シリカの含有率が90質量%以下であり、かつ、カーボンの含有率が10質量%以上の粒子である、前記[1]に記載のシリカとカーボンの混合物の製造方法
[3] 上記シリカとカーボンからなる粒子は、Al、Fe、Mg、Ca、及びTiの含有率が、各々、5ppm以下、5ppm以下、5ppm以下、5ppm以下、1ppm以下の粒子である前記[1]または[2]に記載のシリカとカーボンの混合物の製造方法
] 工程(C)において、カーボン含有ケイ酸アルカリ水溶液と鉱酸の混合が、カーボン含有ケイ酸アルカリ水溶液を鉱酸に添加することによって行われる、前記[]〜[]のいずれかに記載のシリカとカーボンの混合物の製造方法。
] 工程(C)において、カーボン含有ケイ酸アルカリ水溶液と鉱酸をpH1.0以下に保ちながら混合する、前記[]〜[]のいずれかに記載のシリカとカーボンの混合物の製造方法。
] (D)工程(C)で得られたシリカとカーボンの混合物を含む固形分と酸を混合して、pHが3.0未満の酸性スラリーを調製し、上記固形分中に残存する不純物を溶解させた後、上記酸性スラリーを固液分離して、シリカとカーボンの混合物を含む固形分と、不純物を含む液分を得る酸洗浄工程、を含む前記[1]〜[5]のいずれかに記載のシリカとカーボンの混合物の製造方法。
] 工程(C)または工程(D)において、過酸化水素を添加する前記[6]に記載のシリカとカーボンの混合物の製造方法。
] (E)前工程で得られたシリカとカーボンの混合物を含む固形分と、水を混合して、スラリーを調製し、上記固形分中に残存する不純物を溶解させた後、上記スラリーを固液分離して、シリカとカーボンの混合物を含む固形分と、不純物を含む液分を得る水洗浄工程、を含む前記[1]〜[7]のいずれかに記載のシリカとカーボンの混合物の製造方法。
] 工程(B)の前に、(A)シリカ含有鉱物とアルカリ水溶液を混合して、pHが11.5以上のアルカリ性スラリーを調製し、液分中のSi濃度が10質量%以上となるように、上記シリカ含有鉱物中のSiを液分中に溶解させた後、上記アルカリ性スラリーを固液分離して、ケイ酸アルカリ水溶液と、固形分を得るアルカリ溶解工程、を含む前記[1]〜[8]のいずれかに記載のシリカとカーボンの混合物の製造方法。
10] 工程(A)と工程(B)の間に、(B1)工程(A)で得られたケイ酸アルカリ水溶液と酸を混合して、pHを10.3を超え、11.5未満であり、かつ、液分中のSi濃度が10質量%以上のアルカリ性スラリーを調製し、液分中の不純物を析出させた後、上記アルカリ性スラリーを固液分離して、ケイ酸アルカリ水溶液と、固形分を得る不純物回収工程、を含む前記[]に記載のシリカとカーボンの混合物の製造方法。
11] 工程(A)の前に、(A1)シリカ含有鉱物を水洗して、粘土分及び有機物を除去する原料水洗工程、を含む前記[]または[10]に記載のシリカとカーボンの混合物の製造方法。
12] 工程(A)の前に、(A2)シリカ含有鉱物を300〜1000℃で0.5〜2時間焼成して、有機物を除去する原料焼成工程、を含む前記[]〜[11]のいずれかに記載のシリカとカーボンの混合物の製造方法。
13] 前記[1]〜[12]のいずれかに記載のシリカとカーボンの混合物の製造方法によって、上記シリカとカーボンの混合物を得た後、上記シリカとカーボンの混合物を焼成して炭化ケイ素を得る、炭化ケイ素の製造方法
本発明のシリカとカーボンからなる粒子は、不純物の含有率が小さく、かつ、反応性に優れているため、簡易な方法で高純度の炭化ケイ素及びシリコンを得ることができる。
また、本発明のシリカとカーボンの混合物の製造方法によると、操作が簡易であり、処理効率が高いことなどに起因して、従来技術に比して低い製造コストでシリカとカーボンからなる粒子の集合体であるシリカとカーボンの混合物を得ることができる。
さらに、本発明の製造方法により得られるシリカとカーボンの混合物は、アルミニウム(Al)、鉄(Fe)、マグネシウム(Mg)、カルシウム(Ca)、チタン(Ti)、ホウ素(B)、リン(P)等の不純物の含有率が小さいという特長がある。
本発明のシリカとカーボンの混合物の製造方法の実施形態の一例を示すフロー図である。 珪質頁岩の一例についてのCu−Kα線による粉末X線の回折強度を示すグラフである。 珪質頁岩の一例についてのオパールCTの半値幅を示すグラフである。 水ガラスを原料とした場合の本発明のシリカとカーボンの混合物の焼成物の粉末X線の回折強度を示すグラフである。 珪質頁岩を原料とした場合の本発明のシリカとカーボンの混合物の焼成物の粉末X線の回折強度を示すグラフである。 高純度シリカとカーボンの混合物(乾式混合した場合:乾式混合)の焼成物の粉末X線の回折強度を示すグラフである。 高純度シリカとカーボンの混合物(カーボンを酸洗浄工程で加えた場合:湿式混合)の焼成物の粉末X線の回折強度を示すグラフである。 実施例1において、得られたシリカとカーボンの混合物の写真を簡易に表した図である。 実施例1において、EPMA分析により得られた試料中のカーボンの含有率を示す写真を簡易に表した図である。 実施例1において、EPMA分析により得られた試料中のシリカの含有率を示す写真を簡易に表した図である。
本発明のシリカとカーボンからなる粒子は、粒子内にシリカとカーボンの各々が全体的に分布しており、かつ、ホウ素(B)及びリン(P)の各々の含有率が1ppm以下のものである。
また、シリカとカーボンからなる粒子中のアルミニウム(Al)、鉄(Fe)、マグネシウム(Mg)、カルシウム(Ca)、及びチタン(Ti)の含有率は、好ましくは、各々、5ppm以下、5ppm以下、5ppm以下、5ppm以下、1ppm以下である。
本発明のシリカとカーボンからなる粒子は、粒子内にシリカとカーボンの各々が全体的に分布しているため、焼成時の反応性が高い。
具体的には、粒子内の好ましくは90体積%以上、より好ましくは95体積%以上、さらに好ましくは98体積%以上、特に好ましくは100体積%の領域において、シリカの含有率が90質量%以下であり、かつカーボンの含有率が10質量%以上であることが好ましい。
また、粒子内の任意の地点において、シリカの含有率は、好ましくは90質量%以下、より好ましくは60〜90質量%、さらに好ましくは60〜80質量%、特に好ましくは60〜70質量%であり、また、カーボンの含有率は、好ましくは10質量%以上、より好ましくは10〜40質量%、さらに好ましくは20〜40質量%、特に好ましくは30〜40質量%である。
また、粒子の製造の容易性の観点から、粒子の中心部から縁辺に向かって、カーボンの含有率が傾斜状に徐々に小さくなっている粒子が好ましい。具体的には、粒子の中心部のカーボンの含有率が30〜40質量%であり、中心部と縁辺の間の中間領域のカーボンの含有率が、20〜30質量%であり、縁辺または縁辺の近傍のカーボンの含有率が10〜20質量%である粒子が好ましい。
不純物(B、P等)を上記範囲内とすることで高純度の炭化ケイ素(SiC)の原料や、高純度のシリコン(Si)の原料として好適に用いることができる。
例えば、本発明のシリカとカーボンからなる粒子を焼成することで、高純度の炭化ケイ素を得ることができる。本発明のシリカとカーボンからなる粒子を焼成して炭化ケイ素を得る場合、C及びSiOの配合モル比(C/SiO)は、好ましくは1.5〜4.5である。また、焼成温度は、好ましくは1500〜2500℃である。
なお、シリカとカーボンからなる粒子を焼成して炭化ケイ素を得る際に、シリカ又はカーボンが炭化ケイ素にならずに残存することを防ぐ目的で、シリカとカーボンの両方またはいずれか一方を加えてもよい。
さらに、本発明のシリカとカーボンからなる粒子中の、シリカとカーボンの合計の含有率は、好ましくは99.0質量%以上、より好ましくは99.5質量%以上、特に好ましくは99.9質量%以上である。
本発明のシリカとカーボンからなる粒子の大きさは特に限定されるものではないが、通常、粒子の長径が500μm以下、好ましくは400μm以下、より好ましくは300μm以下である。
以下、本発明のシリカとカーボンの混合物の製造方法の一例について詳しく説明する。なお、本明細書中において、シリカとカーボンの混合物とは、上述したシリカとカーボンからなる粒子の集合体(換言すると、シリカとカーボンからなる粒子が複数集まったもの)をいう。
以下の工程(A1)〜工程(E)中、工程(B)及び(C)は、本発明において必須の工程である。工程(A)は、シリカ含有鉱物を原料としてケイ酸アルカリ水溶液を調製する場合に追加される工程である。工程(A1)、(A2)、(B1)、(D)及び(E)は、本発明において必須ではなく、任意で追加可能な工程である。
[工程(A1);原料水洗工程]
工程(A1)は、シリカ含有鉱物(岩石状又は粉末状)を水洗して、粘土分及び有機物を除去する工程である。水洗後のシリカ含有鉱物は、通常、フィルタープレス等を用いて、さらに脱水される。
シリカ含有鉱物としては、珪藻土、珪質頁岩等が挙げられる。シリカ含有鉱物は、アルカリに対する溶解性が高いことが望ましい。
ここで、珪藻土とは、珪藻が海底や湖底に沈積し、長い年月の間に体内の原形質その他の有機物が分解し、非晶質シリカを主体とした珪藻殻が集積して堆積したものである。
珪質頁岩とは、珪質の生物遺骸等に由来する頁岩である。すなわち、海域には、珪質の殻を有する珪藻などのプランクトンが生息するが、このプランクトンの死骸が海底中に堆積すると、死骸中の有機物の部分は徐々に分解され、珪質(SiO;シリカ)の殻のみが残る。この珪質の殻(珪質堆積物)が、時間の経過や温度・圧力の変化などに伴い、続成作用により変質して、硬岩化することにより珪質頁岩となる。なお、珪質堆積物中のシリカは、続成作用によって、非晶質シリカから、結晶化してクリストバライト、トリデイマイトへ、さらに石英へと変化する。
珪藻土は、主に非晶質シリカであるオパールAからなる。珪質頁岩は、オパールAより結晶化が進んだオパールCTまたはオパールCを主に含む。オパールCTとは、クリストバライト構造とトリディマイト構造からなるシリカ鉱物である。オパールCとは、クリストバライト構造からなるシリカ鉱物である。このうち、本発明では、オパールCTを主とする珪質頁岩が好ましく用いられる。
さらに、Cu−Kα線による粉末X線回折において、石英の2θ=26.6degのピーク頂部の回折強度に対するオパールCTの2θ=21.5〜21.9degの回折強度は、石英を1とした場合の比率で、好ましくは0.2〜2.0、より好ましくは0.4〜1.8、特に好ましくは0.5〜1.5である。該値が0.2未満の場合には、反応性に富むオパールCTの量が少ないため、シリカの収量が低下する。一方、該値が2.0を超える場合には、オパールCTの量が石英よりはるかに多い珪質頁岩は資源的に少ないことから、経済性が悪くなる。
なお、石英に対するオパールCTの回折強度の比率は、以下の式で求める。
石英に対するオパールCTの回折強度の比率=(21.5〜21.9degのピーク頂部の回折強度)/(26.6degのピーク頂部の回折強度)
また、珪質頁岩のCu−Kα線による粉末X線回折において、オパールCTの2θ=21.5〜21.9degの間に存在するピークの半値幅は、好ましくは0.5°以上、より好ましくは0.75°以上、特に好ましくは1.0°以上である。該値が0.5°未満の場合には、オパールCTの結晶の結合力が増大し、アルカリとの反応性が低下して、シリカの収量が減少する。ここで、半値幅とは、ピーク頂部の回折強度の1/2に位置する回折線の幅をいう。
本発明で用いる珪質頁岩の中のシリカ(SiO)の含有率は、好ましくは70質量%以上、より好ましくは75質量%以上である。該含有率が70質量%以上であると、より高純度のシリカを低コストで製造することができる。
シリカ含有鉱物は、例えば、珪質頁岩等のシリカ含有鉱物を粉砕装置(例えば、ジョークラッシャー、トップグラインダーミル、クロスビーターミル、ボールミル等)で粉砕することによって得ることができる。
[工程(A2);原料焼成工程]
工程(A2)は、シリカ含有鉱物を300〜1000℃で0.5〜2時間焼成(加熱)し、有機物を除去する工程である。
なお、工程(A1)と工程(A2)の双方を実施する場合、その順序は特に限定されない。
[工程(A);アルカリ溶解工程]
工程(A)は、シリカ含有鉱物とアルカリ水溶液を混合して、pHが11.5以上のアルカリ性スラリーを調製し、液分中のSi濃度が10質量%以上となるように、上記シリカ含有鉱物中のSiを液分中に溶解させた後、上記アルカリ性スラリーを固液分離して、ケイ酸アルカリ水溶液と、固形分を得るアルカリ溶解工程である。
ここで、本明細書中、ケイ酸アルカリ水溶液とは、化学式中にシリカ(SiO)を含む物質を含有するアルカリ性の水溶液をいう。
シリカ含有鉱物とアルカリ水溶液を混合してなるアルカリ性スラリーのpHは、11.5以上、好ましくは12.5以上、より好ましくは13.0以上である。該pHが11.5未満であると、シリカを十分に溶解させることができず、シリカが固形分中に残存してしまうため、得られるシリカの収量が減少する。
pHを上記数値範囲内に調整するためのアルカリ水溶液としては、水酸化ナトリウム水溶液、水酸化カリウム水溶液等が用いられる。
スラリーの固液比(アルカリ水溶液1リットルに対するシリカ含有鉱物の質量)は、好ましくは100〜500g/リットル、より好ましくは200〜400g/リットルである。該固液比が100g/リットル未満では、スラリーの固液分離に要する時間が増大するなど、処理効率が低下する。該固液比が400g/リットルを超えると、シリカ等を十分に溶出させることができないことがある。
スラリーは、通常、所定時間(例えば、30〜90分間)攪拌される。
攪拌後のスラリーは、フィルタープレス等の固液分離手段を用いて、固形分と液分に分離される。液分は、Si及び他の成分(Al、Fe等の不純物)を含むケイ酸アルカリ水溶液であり、次の工程(B1)または工程(C)で処理される。液分中に含まれるSiの濃度は、10質量%以上、好ましくは10〜20質量%、より好ましくは12〜18質量%、特に好ましくは13〜16質量%である。Siの濃度が10質量%未満であると、後述する工程(C)においてゲル状のカーボン含有シリカが析出する場合があり、固液分離に時間がかかるとともに、得られるシリカとカーボンの混合物の量が低下する。
なお、工程(A)においてアルカリ性スラリーを得る際の液温は、エネルギーコストの観点から、好ましくは5〜100℃、より好ましくは10〜80℃、特に好ましくは10〜40℃である。液温を上記範囲内に保持することにより、処理効率を高めることができる。
[工程(B1);不純物回収工程]
工程(B1)は、工程(A)で得られたケイ酸アルカリ水溶液と酸を混合して、pHを、10.3を超え、11.5未満であり、かつ、液分中のSi濃度が10質量%以上のアルカリ性スラリーを調製し、液分中のSi以外の不純物(例えば、Al及びFe)を析出させた後、上記アルカリ性スラリーを固液分離して、ケイ酸アルカリ水溶液と、固形分を得る工程である。
なお、工程(B1)で回収されずに液分中に残存する不純物は、工程(C)以降の工程で回収される。
工程(B1)において、酸との混合後の液分のpHは、10.3を超え、11.5未満、好ましくは10.4〜11.0、より好ましくは10.5〜10.8である。該pHが10.3以下であると、不純物(例えば、Al及びFe)と共にSiも析出してしまう。一方、該pHが11.5以上では、十分に析出せずに液分中に残存する不純物の量が多くなる。
また、酸と混合後の液分中に含まれるSiの濃度は、10質量%以上、好ましくは10〜20質量%、より好ましくは12〜18質量%、特に好ましくは13〜16質量%である。Siの濃度が10質量%未満であると、後述する工程(C)においてゲル状のカーボン含有シリカが析出する場合があり、固液分離に時間がかかるとともに、得られるシリカとカーボンの混合物の量が低下する。
pHを上記数値範囲内に調整するための酸としては、硫酸、塩酸、シュウ酸等が用いられる。
pH調整後、フィルタープレス等の固液分離手段を用いて、固形分と液分に分離する。
このうち、固形分(ケーキ)は、不純物(例えば、Al及びFe)を含むものである。
液分は、Siを含むものであり、後述する工程(C)で処理される。
なお、本工程においてpH調整を行う際の液温は、エネルギーコストの観点から、好ましくは5〜100℃、より好ましくは10〜80℃、特に好ましくは10〜40℃である。液温を上記範囲内に保持することにより、処理効率を高めることができる。
[工程(B);カーボン混合工程]
工程(B)は、液分中のSi濃度が10質量%以上のケイ酸アルカリ水溶液とカーボンを混合して、カーボン含有ケイ酸アルカリ水溶液を得る工程である。
工程(B)において用いられるケイ酸アルカリ水溶液は、特に限定されないが、具体的には前工程(工程(A)または工程(B1))で得られたケイ酸アルカリ水溶液、及び水ガラス等が挙げられる。
本発明で用いられる水ガラスは、市販のものを使用することができ、JIS規格により規定される1号、2号、3号の他に各水ガラスメーカーで製造販売されているJIS規格外の製品も使用することができる。
ケイ酸アルカリ水溶液中に含まれるSiの濃度は、10質量%以上、好ましくは10〜20質量%、より好ましくは12〜18質量%、特に好ましくは13〜16質量%である。Si濃度が10質量%未満であると、工程(C)においてゲル状のカーボン含有シリカが析出する場合があり、固液分離に時間がかかるとともに、得られるシリカとカーボンの混合物の量が低下する。
Si濃度が20質量%を超えると、ケイ酸アルカリ水溶液のハンドリング(輸送等)が悪化するとともに、不純物の除去が不十分となる場合がある。
本発明で用いられるカーボンは特に限定されるものではないが、例えば石油コークス、石炭ピッチ、カーボンブラック、各種有機樹脂等が挙げられる。
カーボンの粒度は好ましくは5mm以下、より好ましくは2mm以下である。粒度が5mmを超える場合、不純物の除去が不十分となる場合がある。
粒度が前記の好ましい範囲内であるカーボンの割合は、全カーボン中、好ましくは80重量%以上、より好ましくは90重量%以上である。
カーボンの粒度とは、カーボンの粒子中の最大の寸法(例えば、断面が楕円である場合、長径の寸法)をいう。
なお、工程(B)の前に、カーボンを上記の粒度範囲にまで粉砕する工程を含んでもよい。
混合方法は特に限定されるものではないが、好ましくはケイ酸アルカリ水溶液にカーボンを加える方法である。
工程(B)においてカーボンを混合することによって、得られるシリカとカーボンの混合物中のカーボン由来の不純物を大幅に低減することができる。また、後述する工程(C)において、内部にカーボンが均一に取り込まれたシリカとカーボンからなる粒子を析出することができる。
[工程(C);シリカ回収工程]
本工程は、工程(B)で得られたカーボン含有ケイ酸アルカリ水溶液と鉱酸を混合して、液分中のC及びSiをシリカとカーボンからなる粒子(非ゲル状のカーボン含有沈降性シリカ)として析出させ、粒子含有液状物を得た後、該液状物を固液分離して、シリカとカーボンからなる粒子の集合体であるシリカとカーボンの混合物を含む固形分と、不純物を含む液分を得る工程である。
なお、シリカとカーボンからなる粒子は、カーボン含有ケイ酸アルカリ水溶液と、鉱酸との混合と同時に生成する。
本工程において用いられる鉱酸は、例えば硫酸、塩酸、硝酸等が挙げられ、硫酸を用いることが薬剤コストの低減の観点から好ましい。
鉱酸の濃度は、好ましくは1体積%以上、より好ましくは5〜20体積%、特に好ましくは10〜15体積%である。鉱酸の濃度が、1体積%未満の場合には、シリカとカーボンからなる粒子とゲル状のカーボン含有シリカの両方が生成するおそれがある。このゲル状のカーボン含有シリカが生成すると、最終生成物中の不純物の濃度が高くなる。また、該濃度が20体積%を超えるとコストの面から好ましくない。
カーボン含有ケイ酸アルカリ水溶液と鉱酸の混合方法は、特に限定されるものではないが、シリカとカーボンからなる粒子のみを生成させる観点から、カーボン含有ケイ酸アルカリ水溶液を鉱酸に添加する方法が好ましい。具体的には、カーボン含有ケイ酸アルカリ水溶液を鉱酸に滴下する方法や、カーボン含有ケイ酸アルカリ水溶液を、1.0mmφ以上、好ましくは4.0mmφ以上のチューブ等から、鉱酸中に直接押し出す方法等が挙げられる。
また、混合する際のpHは好ましくは1.0以下、より好ましくは0.9以下である。pHが1.0を超えるとゲル状のカーボン含有シリカが析出する場合があり、固液分離に時間がかかるとともに、得られるシリカとカーボンの混合物の量が低下する。
また、カーボン含有ケイ酸アルカリ水溶液の鉱酸中への流出速度は限定されないが、混合する際にpHが1.0を超え、かつ、流出速度が大きい場合には、シリカとカーボンからなる粒子が生成しない、あるいはシリカとカーボンからなる粒子とゲル状のカーボン含有シリカの両方が生成するおそれがある。
本工程において、カーボン含有ケイ酸アルカリ水溶液と鉱酸を混合する際のシリカとカーボンからなる粒子の析出温度は、特に限定されるものではないが、好ましくは10〜80℃、より好ましくは15〜40℃、特に好ましくは20〜30℃であり、通常、常温(例えば10〜40℃)である。該温度が80℃を超えると、エネルギーコストが上昇するとともに、設備の腐食が生じ易くなる。
上記カーボン含有ケイ酸アルカリ水溶液中のC及びSiをシリカとカーボンからなる粒子として析出させた後、フィルタープレス等の固液分離手段を用いて、シリカとカーボンからなる粒子の集合体であるシリカとカーボンの混合物を含む固形分と、不純物を含む液分に分離する。得られたシリカとカーボンの混合物はゲル状ではなく、粒子状であるため、固液分離に要する時間を短くすることができる。
工程(C)で得られた固形分に含まれるシリカとカーボンの混合物は、Al、Fe、Mg、Ca、TiB、P等の不純物が低減されたシリカとカーボンの混合物である。
また、得られたシリカとカーボンの混合物は、粒子内にシリカとカーボンの各々が全体的に分布している粒子からなるため、焼成時の反応性が高く、容易に高純度の炭化ケイ素やシリコンを得ることができる。
なお、工程(C)において、カーボン含有ケイ酸アルカリ水溶液及び鉱酸の少なくともいずれか一方と過酸化水素を混合してもよい。
過酸化水素を混合することで、不純物(特にTi)が低減されたシリカとカーボンの混合物を得ることができる。
混合方法は特に限定されるものではなく、(1)カーボン含有ケイ酸アルカリ水溶液と過酸化水素を混合し、次いで得られた混合物と鉱酸を混合する方法、(2)鉱酸と過酸化水素を混合し、次いで得られた混合物とカーボン含有ケイ酸アルカリ水溶液を混合する方法、(3)カーボン含有ケイ酸アルカリ水溶液と鉱酸を混合し、次いで得られた混合物と過酸化水素を混合する方法、(4)カーボン含有ケイ酸アルカリ水溶液と、鉱酸と、過酸化水素を同時に混合する方法が挙げられる。中でも、工程の上流側で不純物の低減を図るという観点から、好ましくは(1)または(2)の方法である。
過酸化水素の添加量は、炭素(C)とシリカ(SiO)の合計質量(100質量%)に対して、好ましくは0.1〜15質量%、より好ましくは0.1〜10質量%、特に好ましくは0.1〜5質量%である。該添加量が0.1質量%未満では、不純物(例えばTi)の低減効果が十分ではない。該添加量が15質量%を超えると、不純物の低減効果が飽和状態となる。
工程(C)において用いられる鉱酸が硫酸である場合、工程(C)で得られた不純物を含む液分を中和処理することで、液分中の不純物を石膏として析出させて、該石膏をセメントの原料として再利用してもよい。
[工程(D);酸洗浄工程]
工程(C)で得られたシリカとカーボンからなる粒子の集合体であるシリカとカーボンの混合物を含む固形分に対して、適宜、工程(D)(酸洗浄工程)を行うことができる。酸洗浄工程を行うことにより、より不純物が低減されたシリカとカーボンの混合物を得ることができる。
工程(D)は、工程(C)で得られたシリカとカーボンからなる粒子の集合体であるシリカとカーボンの混合物を含む固形分と酸を混合して、pHが3.0未満の酸性スラリーを調製し、上記固形分中に残存する不純物(例えば、Al、Fe)を溶解させた後、上記酸性スラリーを固液分離して、シリカとカーボンからなる粒子の集合体であるシリカとカーボンの混合物を含む固形分と、不純物(例えば、Al、Fe)を含む液分を得る工程である。
本工程における酸性スラリーのpHは、3.0未満、好ましくは2.0以下である。酸性スラリーのpHを上記範囲内に調整して酸洗浄を行うことにより、工程(C)で得られた固形分にわずかに残存するアルミニウム分、鉄分等の不純物を溶解して液分中へ移行させることができ、固形分中のC及びSiOの含有率を上昇させることができるため、さらに不純物が低減されたシリカとカーボンの混合物を得ることができる。
pHを上記数値範囲内に調整するための酸としては、硫酸、塩酸、シュウ酸等が用いられる。
pH調整後、フィルタープレス等の固液分離手段を用いて、固形分と液分に分離する。
なお、本工程においてpH調整を行う際の液温は、特に限定されるものではないが、エネルギーコストの観点から、好ましくは10〜80℃、より好ましくは15〜40℃、特に好ましくは20〜30℃であり、通常、常温(例えば10〜40℃)である。液温を上記範囲内とすることにより、処理効率を高めることができる。
また、酸洗浄工程後の液分を回収し、工程(C)に用いられる鉱酸、および工程(D)に用いられる酸として再利用してもよい。
本発明では、工程(C)における過酸化水素の使用に代えて、または、工程(C)における過酸化水素の使用とともに、工程(D)において、酸と過酸化水素を混合することで、不純物(特にTi)が低減されたシリカとカーボンの混合物を得ることができる。
混合方法は特に限定されるものではなく、(1)工程(C)で得られたシリカとカーボンの混合物を含む固形分と過酸化水素を混合し、次いで得られた混合物と酸を混合する方法、(2)酸と過酸化水素を混合し、次いで得られた混合物と工程(C)で得られたシリカとカーボンの混合物を含む固形分を混合する方法、(3)工程(C)で得られたシリカとカーボンの混合物を含む固形分と酸を混合し、次いで得られた混合物と過酸化水素を混合する方法、(4)工程(C)で得られたシリカとカーボンの混合物を含む固形分と、酸と、過酸化水素を同時に混合する方法が挙げられる。中でも、工程の上流側で不純物の低減を図るという観点から、好ましくは(1)または(2)の方法である。
過酸化水素の添加量は、炭素(C)とシリカ(SiO)の合計質量(100質量%)に対して、好ましくは0.1〜15.0質量%、より好ましくは0.1〜10.0質量%、特に好ましくは0.1〜5.0質量%である。過酸化水素の添加量が0.1質量%未満では不純物(例えばTi)の低減効果が十分ではない。該添加量が15.0質量%を超えると、不純物の低減効果が飽和状態となる。
[工程(E);水洗浄工程]
本工程は、前工程(工程(C)または工程(D))で得られたシリカとカーボンからなる粒子の集合体であるシリカとカーボンの混合物を含む固形分と水を混合して、スラリーを調製し、上記固形分中に残存する不純物を溶解させた後、上記スラリーを固液分離して、シリカとカーボンからなる粒子の集合体であるシリカとカーボンの混合物を含む固形分と、不純物を含む液分を得る工程である。適宜、水洗浄を行うことにより、前工程で得られた固形分にわずかに残存するナトリウム、硫黄等の不純物を溶解して液分中へ移行させることができ、固形分中のC及びSiOの含有率を上昇させることができるため、さらに不純物が低減されたシリカとカーボンの混合物を得ることができる。
水洗浄後、フィルタープレス等の固液分離手段を用いて、固形分と液分に分離する。
本工程で得られた固形分に対して、水洗浄工程をさらに行ってもよい。
また、水洗浄工程後の液分を回収し、工程(A1)、工程(A)、工程(C)、工程(D)、及び工程(E)に用いられる水として再利用してもよい。
[他の追加しうる工程]
さらに、本発明において、工程(A)と工程(B)の間で、適宜、イオン交換処理及び/又は活性炭処理を行うことができる。
イオン交換処理及び/又は活性炭処理で回収される不純物は、ホウ素(B)、リン(P)、アルミニウム(Al)、鉄(Fe)、ナトリウム(Na)、チタン(Ti)、カルシウム(Ca)、カリウム(K)、及びマグネシウム(Mg)からなる群より選ばれる一種以上である。
イオン交換処理は、キレート樹脂、イオン交換樹脂等のイオン交換媒体を用いて行なうことができる。
イオン交換媒体の種類は、除去対象元素に対する選択性を考慮して、適宜定めればよい。例えば、ホウ素を除去する場合、グルカミン基を有するキレート樹脂や、N−メチルグルカミン基を有するイオン交換樹脂等を用いることができる。
イオン交換媒体の形態は、特に限定されるものではなく、ビーズ状、繊維状、クロス状等が挙げられる。イオン交換媒体への液分の通液方法もなんら限定されるものではなく、例えばカラムにキレート樹脂またはイオン交換樹脂を充填して連続的に通液する方法などを用いることができる。
イオン交換処理及び/又は活性炭処理を行う際の液温は、各処理に用いる材料の耐用温度以下であれば、特に限定されない。
本発明の製造方法によって最終的に得られたシリカとカーボンからなる粒子の集合体であるシリカとカーボンの混合物を含む固形分は、適宜、乾燥処理及び/又は焼成処理を行うことができる。乾燥処理及び/又は焼成処理の条件は、例えば、100〜400℃で1〜5時間である。
また、最終的に得られたシリカとカーボンの混合物を含む固形分をアルカリ溶液(例えば水酸化ナトリウム)に溶解させ、工程(B)のケイ酸アルカリ水溶液として用い、工程(B)〜工程(E)を複数回繰り返すことによって、より不純物が低減されたシリカとカーボンの混合物を得ることができる。
本発明の製造方法で得られるシリカとカーボンの混合物は、炭素及びシリカの含有率が高く、また、アルミニウム(Al)、鉄(Fe)、マグネシウム(Mg)、カルシウム(Ca)、チタン(Ti)等の不純物の含有量が低いものである。
本発明の製造方法で得られるシリカとカーボンの混合物中のC及びSiOの合計含有率は、好ましくは99.0質量%以上である。Al、Fe、Mg、Ca、Ti、B、Pの含有率は、各々、好ましくは5ppm以下、5ppm以下、5ppm以下、5ppm以下、1ppm以下、1ppm以下、1ppm以下である。
以下、本発明を実施例により具体的に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。
[実施例1]
水ガラス溶液(富士化学(株)製:SiO/NaO(モル比)=3.20)140gに、水35gを加えて混合し、Si濃度10質量%の水ガラス溶液を得た。
得られた水ガラス溶液にカーボン(東海カーボン社製、平均粒径:1mm、2mm以下の粒度の粒子の割合:90質量%以上)を27.0g加えて混合し、カーボン含有水ガラス溶液を得た。
得られたカーボン含有水ガラス溶液66.2gを硫酸濃度10.7体積%の硫酸(水165.6mlに濃硫酸20mlを混合したもの)200g中に滴下し、常温(25℃)下でシリカとカーボンからなる粒子(カーボン含有沈降性シリカ)を析出させた後、減圧下でブフナー漏斗を用いて固液分離し、シリカとカーボンからなる粒子の集合体であるシリカとカーボンの混合物を含む固形分33.9gと、不純物を含む液分232.3gを得た。なお、pHは滴下終了時まで1.0以下に保った。
得られたシリカとカーボンの混合物を含む固形分に対して、常温(25℃)下で硫酸濃度10.7体積%の硫酸を200g添加してpHが3.0未満のスラリーとした。このスラリーを固液分離した後に、得られた固形分を、蒸留水を用いて水洗した。その後、水洗した固形分を105℃で1日乾燥させ、シリカとカーボンの混合物21.3gを得た。
得られたシリカとカーボンの混合物中のアルミニウム(Al)、鉄(Fe)、マグネシウム(Mg)、カルシウム(Ca)、チタン(Ti)、ホウ素(B)、リン(P)の濃度を測定した。その結果を表1に示す。
得られたシリカとカーボンの混合物を乾燥させた後の、CとSiOの合計量は99.99質量%であり、Siの回収率は97.0%であった。
また、得られたシリカとカーボンの混合物(C/SiOのモル比:3.5)10gを管状炉に入れて、1650℃で3時間、アルゴン雰囲気下で焼成した。得られた焼成物についてX線回析を行った。結果を図4に示す。
さらに、得られたシリカとカーボンの混合物を、EPMAを用いて観察するとともに、該混合物を構成する粒子中のカーボンまたはシリカの分布状態を分析した。装置としては、電子線マイクロアナライザー(日本電子社製、商品名「JXA−8100」)を用いて、加速電圧15kV、プローブ径0.5μm、ピクセルサイズ1μm、ピクセル数400×400の条件で分析を行った。
図8にシリカとカーボンの混合物の写真を簡易に表した図を示す。
図9及び10に、シリカとカーボンの混合物表面の写真を簡易に表した図を示す。各図の右上の数値は、混合物を構成する粒子に含まれるシリカまたはカーボンの質量%であり、数値が大きいほど、含有率が高いことを示している。
図9及び10から、粒子内の100体積%の領域において、シリカの含有率が90質量%以下であり、かつカーボンの含有率が10質量%以上であることがわかった。
[実施例2]
珪質頁岩から得られたケイ酸アルカリ水溶液100g(Si濃度10質量%)にカーボン(東海カーボン社製、平均粒径:1mm、2mm以下の粒度の粒子の割合:90質量%以上)を15.7g加えて混合し、カーボン含有水ガラス溶液を得た。
得られたカーボン含有水ガラス溶液66.2gを硫酸濃度10.7体積%の硫酸(水165.6mlに濃硫酸20mlを混合したもの)200g中に滴下し、常温(25℃)下でシリカとカーボンからなる粒子(カーボン含有沈降性シリカ)を析出させた後、減圧下でブフナー漏斗を用いて固液分離し、シリカとカーボンからなる粒子の集合体であるシリカとカーボンの混合物を含む固形分33.8gと、不純物を含む液分232.4gを得た。なお、pHは滴下終了時まで1.0以下に保った。
得られたシリカとカーボンの混合物を含む固形分に対して、常温(25℃)下で硫酸濃度10.7体積%の硫酸を200g添加してpHが3.0未満のスラリーとした。このスラリーを固液分離した後に、得られた固形分を、蒸留水を用いて水洗した。その後、水洗した固形分を105℃で1日乾燥させ、シリカとカーボンの混合物21.2gを得た。
得られたシリカとカーボンの混合物中のアルミニウム(Al)、鉄(Fe)、マグネシウム(Mg)、カルシウム(Ca)、チタン(Ti)、ホウ素(B)、リン(P)の濃度を測定した。その結果を表1に示す。
得られたシリカとカーボンの混合物を乾燥させた後の、CとSiOの合計量は99.99質量%であり、Siの回収率は96.9%であった。
また、得られたシリカとカーボンの混合物(C/SiOのモル比:3.5)10gを管状炉に入れて、1650℃で3時間、アルゴン雰囲気下で焼成した。得られた焼成物についてX線回析を行った。結果を図5に示す。
[比較例1]
水ガラス溶液(富士化学(株)製:SiO/NaO(モル比)=3.20)140gに、水35gを加えて混合し、Si濃度10質量%の水ガラス溶液を得た。
得られた水ガラス水溶液66.2gを硫酸濃度10.7体積%の硫酸(水165.6mlに濃硫酸20mlを混合したもの)200g中に滴下し、常温(25℃)下で沈降性シリカを析出させた後、減圧下でブフナー漏斗を用いて固液分離し、SiOを含む固形分(沈降性シリカ)28.9gと、不純物を含む液分237.3gを得た。なお、pHは滴下終了時まで1.0以下に保った。
得られたSiOを含む固形分に対して、常温(25℃)下で硫酸濃度10.7体積%の硫酸を200g添加してpHが3.0未満のスラリーとした。このスラリーを固液分離した後に、得られた固形分を、蒸留水を用いて水洗した。その後、水洗した固形分を105℃で1日乾燥させ、高純度シリカ14.5gを得た。
得られた高純度シリカにカーボン(東海カーボン社製、平均粒径:1mm、2mm以下の粒度の粒子の割合:90質量%以上)を2.8g加えて混合し、高純度シリカとカーボンの混合物を得た。
得られた高純度シリカとカーボンの混合物中のアルミニウム(Al)、鉄(Fe)、マグネシウム(Mg)、カルシウム(Ca)、チタン(Ti)、ホウ素(B)、リン(P)の濃度を測定した。その結果を表1に示す。
得られた高純度シリカとカーボンの混合物は、CとSiOの合計量が99.98質量%であり、Siの回収率が97.0%であった。
また、得られた高純度シリカとカーボンの混合物(C/SiOのモル比:3.5)10gを管状炉に入れて、1650℃で3時間、アルゴン雰囲気下で焼成した。得られた焼成物についてX線回析を行った。結果を図6に示す。
[比較例2]
比較例1と同様の手順で得たSiOを含む固形分(沈降性シリカ)28.9gに対して、カーボン(東海カーボン社製、平均粒径:1mm、2mm以下の粒度の粒子の割合:90質量%以上)を2.8g加え、さらに常温(25℃)下で硫酸濃度10.7体積%の硫酸を200g添加してpHが3.0未満のスラリーとした。このスラリーを固液分離した後に、得られた固形分を、蒸留水を用いて水洗した。その後、水洗した固形分を105℃で1日乾燥させ、高純度シリカとカーボンの混合物17.3gを得た。
得られた高純度シリカとカーボンの混合物中のアルミニウム(Al)、鉄(Fe)、マグネシウム(Mg)、カルシウム(Ca)、チタン(Ti)、ホウ素(B)、リン(P)の濃度を測定した。その結果を表1に示す。
得られた高純度シリカとカーボンの混合物を乾燥させた後の、CとSiOの合計量は99.99質量%であり、Siの回収率は97.0%であった。
また、得られた高純度シリカとカーボンの混合物(C/SiOのモル比:3.5)10gを管状炉に入れて、1650℃で3時間、アルゴン雰囲気下で焼成した。得られた焼成物についてX線回析を行った。結果を図7に示す。
Figure 0006005045
実施例1、2の結果から、本発明の製造方法により得られたシリカとカーボンの混合物は、比較例1、2と比べて、不純物(Al、Fe、Mg、Ca、Ti、B、P)の含有率が小さいことがわかる。
また、図4〜7から、本発明の製造方法により得られたシリカとカーボンの混合物は焼成時の反応性が高く、比較例1、2で得られた高純度シリカとカーボンの混合物を焼成した場合と比べて、焼成によってより高純度の炭化ケイ素(SiC)を得ることができる。
さらに、図9及び10より本発明の製造方法により得られたシリカとカーボンの混合物は、シリカとカーボンからなる粒子の内部にシリカ及びカーボンが均一に分布していることがわかる。
1 シリカとカーボンからなる粒子

Claims (13)

  1. 粒子内にシリカとカーボンの各々が全体的に分布しており、かつ、B及びPの各々の含有率が1ppm以下であるシリカとカーボンからなる粒子の集合体であるシリカとカーボンの混合物の製造方法であって、
    (B)液分中のSi濃度が10質量%以上のケイ酸アルカリ水溶液とカーボンを混合して、カーボン含有ケイ酸アルカリ水溶液を得るカーボン混合工程と、
    (C)工程(B)で得られたカーボン含有ケイ酸アルカリ水溶液と鉱酸を混合して、液分中のC及びSiをシリカとカーボンからなる粒子として析出させ、粒子含有液状物を得た後、該粒子含有液状物を固液分離して、シリカとカーボンからなる粒子の集合体であるシリカとカーボンの混合物を含む固形分と、不純物を含む液分を得るシリカ回収工程と、
    を含むシリカとカーボンの混合物の製造方法。
  2. 上記シリカとカーボンからなる粒子は、粒子内の90体積%以上の領域において、シリカの含有率が90質量%以下であり、かつ、カーボンの含有率が10質量%以上の粒子である、請求項1に記載のシリカとカーボンの混合物の製造方法
  3. 上記シリカとカーボンからなる粒子は、Al、Fe、Mg、Ca、及びTiの含有率が、各々、5ppm以下、5ppm以下、5ppm以下、5ppm以下、1ppm以下の粒子である請求項1または2に記載のシリカとカーボンの混合物の製造方法
  4. 工程(C)において、カーボン含有ケイ酸アルカリ水溶液と鉱酸の混合が、カーボン含有ケイ酸アルカリ水溶液を鉱酸に添加することによって行われる、請求項1〜3のいずれか1項に記載のシリカとカーボンの混合物の製造方法。
  5. 工程(C)において、カーボン含有ケイ酸アルカリ水溶液と鉱酸をpH1.0以下に保ちながら混合する、請求項1〜4のいずれか1項に記載のシリカとカーボンの混合物の製造方法。
  6. (D)工程(C)で得られたシリカとカーボンの混合物を含む固形分と酸を混合して、pHが3.0未満の酸性スラリーを調製し、上記固形分中に残存する不純物を溶解させた後、上記酸性スラリーを固液分離して、シリカとカーボンの混合物を含む固形分と、不純物を含む液分を得る酸洗浄工程、を含む請求項1〜5のいずれか1項に記載のシリカとカーボンの混合物の製造方法。
  7. 工程(C)または工程(D)において、過酸化水素を添加する請求項に記載のシリカとカーボンの混合物の製造方法。
  8. (E)前工程で得られたシリカとカーボンの混合物を含む固形分と、水を混合して、スラリーを調製し、上記固形分中に残存する不純物を溶解させた後、上記スラリーを固液分離して、シリカとカーボンの混合物を含む固形分と、不純物を含む液分を得る水洗浄工程、を含む請求項1〜7のいずれか1項に記載のシリカとカーボンの混合物の製造方法。
  9. 工程(B)の前に、(A)シリカ含有鉱物とアルカリ水溶液を混合して、pHが11.5以上のアルカリ性スラリーを調製し、液分中のSi濃度が10質量%以上となるように、上記シリカ含有鉱物中のSiを液分中に溶解させた後、上記アルカリ性スラリーを固液分離して、ケイ酸アルカリ水溶液と、固形分を得るアルカリ溶解工程、を含む請求項1〜8のいずれか1項に記載のシリカとカーボンの混合物の製造方法。
  10. 工程(A)と工程(B)の間に、(B1)工程(A)で得られたケイ酸アルカリ水溶液と酸を混合して、pHを10.3を超え、11.5未満であり、かつ、液分中のSi濃度が10質量%以上のアルカリ性スラリーを調製し、液分中の不純物を析出させた後、上記アルカリ性スラリーを固液分離して、ケイ酸アルカリ水溶液と、固形分を得る不純物回収工程、を含む請求項に記載のシリカとカーボンの混合物の製造方法。
  11. 工程(A)の前に、(A1)シリカ含有鉱物を水洗して、粘土分及び有機物を除去する原料水洗工程、を含む請求項9または10に記載のシリカとカーボンの混合物の製造方法。
  12. 工程(A)の前に、(A2)シリカ含有鉱物を300〜1000℃で0.5〜2時間焼成して、有機物を除去する原料焼成工程、を含む請求項9〜11のいずれか1項に記載のシリカとカーボンの混合物の製造方法。
  13. 請求項1〜12のいずれか1項に記載のシリカとカーボンの混合物の製造方法によって、上記シリカとカーボンの混合物を得た後、上記シリカとカーボンの混合物を焼成して炭化ケイ素を得る、炭化ケイ素の製造方法
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5797086B2 (ja) * 2011-11-01 2015-10-21 太平洋セメント株式会社 高純度炭化珪素粉末の製造方法
JP6174897B2 (ja) * 2013-04-22 2017-08-02 太平洋セメント株式会社 非液体物質の製造方法、及び非液体物質の製造装置

Family Cites Families (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
NL256511A (ja) * 1959-10-08
US3959445A (en) * 1973-04-30 1976-05-25 E. I. Du Pont De Nemours And Company Highly absorbent, low bulk density sodium silicate
US4112032A (en) * 1976-04-21 1978-09-05 Corning Glass Works Silica-containing porous bodies of controlled pore size
JPS6117416A (ja) * 1984-07-03 1986-01-25 Nippon Chem Ind Co Ltd:The 高純度シリカおよびその製造方法
JPS6212608A (ja) 1985-07-11 1987-01-21 Nippon Chem Ind Co Ltd:The 高純度シリカ及びその製造方法
JP3442803B2 (ja) * 1992-12-14 2003-09-02 株式会社ブリヂストン 高純度β型炭化ケイ素粉末の製造方法
CN1085874A (zh) * 1993-08-01 1994-04-27 张殿芝 用硫酸烷基化酸渣生产白炭黑方法
US6375735B1 (en) * 1996-05-06 2002-04-23 Agritec, Inc. Precipitated silicas, silica gels with and free of deposited carbon from caustic biomass ash solutions and processes
JP2000044223A (ja) 1998-07-28 2000-02-15 Toshiba Ceramics Co Ltd 炭化珪素の製造方法
JP4222582B2 (ja) * 1999-03-04 2009-02-12 日本化学工業株式会社 高純度シリカゾルの製造方法
CN1210204C (zh) * 2003-07-15 2005-07-13 中国科学院理化技术研究所 一种制备碳化硅的方法
JP2005206441A (ja) 2004-01-26 2005-08-04 Nippon Steel Corp 高純度Si製造用原材料及びその製造方法
US7638108B2 (en) 2004-04-13 2009-12-29 Si Options, Llc High purity silicon-containing products
US7588745B2 (en) * 2004-04-13 2009-09-15 Si Options, Llc Silicon-containing products
JP2009269798A (ja) * 2008-05-08 2009-11-19 Sumitomo Osaka Cement Co Ltd 炭化ケイ素粒子およびその製造方法
JP5094614B2 (ja) * 2008-07-29 2012-12-12 太平洋セメント株式会社 高純度シリカの製造方法
EP2331462A2 (de) * 2008-09-30 2011-06-15 Evonik Degussa GmbH Herstellung von solar-silicium aus siliciumdioxid
DE102008064642A1 (de) * 2008-09-30 2010-04-01 Evonik Degussa Gmbh Zusammensetzung oder Kit für ein Verfahren zur Herstellung von hochreinem Siliciumcarbid aus Kohlenhydraten und Siliciumoxid sowie darauf basierende Artikel

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