JP6005001B2 - 水晶振動素子及びその製造方法 - Google Patents
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Description
基部と、この基部から同一方向に延設された二本の振動腕部と、これらの振動腕部の表裏面である第一及び第二の主面にそれぞれ設けられた第一及び第二の溝部と、を備えた水晶振動素子において、
前記第一及び第二の溝部は、それぞれ一の開口からなり、当該開口内に前記振動腕部の延設方向に沿って山と谷とが交互に連続する底面を有し、
前記第一の溝部に形成された前記山は前記第二の溝部に形成された前記谷に対向し、
前記第一の溝部に形成された前記谷は前記第二の溝部に形成された前記山に対向する、
ことを特徴とする。
本発明に係る水晶振動素子を製造する方法であって、
水晶ウェハの表裏に耐食膜を形成する耐食膜形成工程と、
前記耐食膜上に感光性レジスト膜を形成する感光性レジスト膜形成工程と、
前記基部及び前記振動腕部となる領域の前記感光性レジスト膜を残し、かつ、前記溝部となる領域の前記感光性レジスト膜を除去する露光現像工程と、
前記感光性レジスト膜で覆われていない前記耐食膜を除去することにより前記耐食膜からなるマスクを作成するパターニング工程と、
前記耐食膜からなるマスクを用いて前記水晶ウェハをウェットエッチングするウェットエッチング工程と、
を含み、
前記露光現像工程では、前記第一及び第二の溝部に形成される前記山となる領域に、前記感光性レジスト膜からなる突起を残し、
前記ウェットエッチング工程では、前記耐食膜で覆われていない領域の前記水晶ウェハを除去するととともに、前記耐食膜からなる前記突起に覆われた領域の前記水晶ウェハをサイドエッチングによって除去する、
ことを特徴とする。
S2=√(t2+t2)×d≒1.41td
S1≒t×d=td
11 基部
12a,12b 振動腕部
131 主面(第一の主面)
132 主面(第二の主面)
15 外側面
141a,142a,141b,142b 溝部(第一の溝部)
143a,144a,143b,144b 溝部(第二の溝部)
21 開口
22 底面
221 山
222 谷
223 底板
23 内側面
31a,31b 励振電極
42 耐食膜
43 感光性レジスト膜
52 振動腕部となる領域
54 溝部となる領域
55 第一の溝部の山となる領域
56 第二の溝部の山となる領域
57 突起
62,65,67 幅
64 ずれ
66 傾き
68 深さ
71,72 傾斜角
d,t 厚み
P ピッチ
321 開口
322 底面
521 山
522 谷
523 底板
323 内側面
341 水晶ウェハ
342 耐食膜
352 振動腕部となる領域
354 溝部となる領域
355 表の溝部の山となる領域
356 裏の溝部の山となる領域
357 突起
441a,443a 溝部
621 小溝部
622 底面
821 仕切部
822 谷
823 底板
824 傾斜角
623 内側面
741a,743a 溝部
Q ピッチ
Claims (4)
- 基部と、この基部から同一方向に延設された二本の振動腕部と、これらの振動腕部の表裏面である第一及び第二の主面にそれぞれ設けられた第一及び第二の溝部と、を備えた水晶振動素子において、
前記第一及び第二の溝部は、それぞれ一の開口からなり、当該開口内に前記振動腕部の延設方向に沿って山と谷とが交互に連続する底面を有し、
前記第一の溝部に形成された前記山は前記第二の溝部に形成された前記谷に対向し、
前記第一の溝部に形成された前記谷は前記第二の溝部に形成された前記山に対向する、
ことを特徴とする水晶振動素子。 - 前記第一及び第二の溝部に形成された前記谷の深さは、前記振動腕部の厚みの50%以上かつ60%以下である、
請求項1記載の水晶振動素子。 - 水晶の頂点を通る結晶軸をZ軸、このZ軸に垂直な平面内の稜線を結ぶ三つの結晶軸をX軸、前記X軸及び前記Z軸に直交する座標軸をY軸とし、これらのX軸、Y軸及びZ軸からなる座標系を前記X軸を中心として±5度の範囲で回転させたときの回転後の前記Y軸及び前記Z軸を、それぞれY’軸及びZ’軸とした場合、
前記山の前記Y’軸の方向のピッチをPとしたとき、
前記第一の溝部に形成された前記山に対する、前記第二の溝部に形成された前記山の前記Y’軸の方向のずれは、0.4P以上かつ0.5P未満である、
請求項1又は2記載の水晶振動素子。 - 請求項1乃至3のいずれか一つに記載の水晶振動素子を製造する方法であって、
水晶ウェハの表裏に耐食膜を形成する耐食膜形成工程と、
前記耐食膜上に感光性レジスト膜を形成する感光性レジスト膜形成工程と、
前記基部及び前記振動腕部となる領域の前記感光性レジスト膜を残し、かつ、前記溝部となる領域の前記感光性レジスト膜を除去する露光現像工程と、
前記感光性レジスト膜で覆われていない前記耐食膜を除去することにより前記耐食膜からなるマスクを作成するパターニング工程と、
前記耐食膜からなるマスクを用いて前記水晶ウェハをウェットエッチングするウェットエッチング工程と、
を含み、
前記露光現像工程では、前記第一及び第二の溝部に形成される前記山となる領域に、前記感光性レジスト膜からなる突起を残し、
前記ウェットエッチング工程では、前記耐食膜で覆われていない領域の前記水晶ウェハを除去するととともに、前記耐食膜からなる前記突起に覆われた領域の前記水晶ウェハをサイドエッチングによって除去する、
ことを特徴とする水晶振動素子の製造方法。
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JP2013143363A JP6005001B2 (ja) | 2013-07-09 | 2013-07-09 | 水晶振動素子及びその製造方法 |
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JP2013143363A JP6005001B2 (ja) | 2013-07-09 | 2013-07-09 | 水晶振動素子及びその製造方法 |
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JP2016171673A Division JP6448591B2 (ja) | 2016-09-02 | 2016-09-02 | 水晶振動素子 |
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JP2015019138A JP2015019138A (ja) | 2015-01-29 |
JP6005001B2 true JP6005001B2 (ja) | 2016-10-12 |
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JP2013143363A Active JP6005001B2 (ja) | 2013-07-09 | 2013-07-09 | 水晶振動素子及びその製造方法 |
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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2013
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