JP5989525B2 - 基板処理装置、基板処理装置の基板保持状態の把握方法および記憶媒体 - Google Patents
基板処理装置、基板処理装置の基板保持状態の把握方法および記憶媒体 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5989525B2 JP5989525B2 JP2012263301A JP2012263301A JP5989525B2 JP 5989525 B2 JP5989525 B2 JP 5989525B2 JP 2012263301 A JP2012263301 A JP 2012263301A JP 2012263301 A JP2012263301 A JP 2012263301A JP 5989525 B2 JP5989525 B2 JP 5989525B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- marker
- imaging
- substrate processing
- imaging device
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Landscapes
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Description
前記画像制御部が、予め記憶され前記撮像装置が正しい位置および向きをとるときの第1マーカの基準画像データと、前記撮像装置から送られた第1マーカの撮像画像データとを比較する工程と、前記比較結果に基づいて前記撮像装置の位置および向きの少なくとも一方が調整された後、前記画像制御部が前記照明装置が正しい位置および向きをとるときの前記回転テーブル上であってクランプと同一円周上に設けられた第2マーカと光の到達点の撮像画像データと、前記回転テーブルを回転させ第2マーカを前記保持位置に移動させ、前記撮像装置が撮像した第2マーカと光の到達点の撮像画像データとを比較する工程と、比較した情報に基づいて、前記照明装置が正しい位置および向きをとるための照明装置の調整量を算出し、この照明装置の調整量を表示器に表示する工程とを備えることを特徴とする基板処理装置の基板保持状態の把握方法である。
22 基板保持手段
25 CCDカメラ
25a、25b、25c 回動軸
26 制御手段
27 記憶媒体
29 回転テーブル
30 クランプ
55 照明手段
55a、55b 一対のライト
70 画像制御部
72 演算部
72a 撮像装置姿勢演算部
72b 照明装置姿勢演算部
72c 照明装置輝度演算部
73 調整量算出部
74 ディスプレイ
75 ディスプレイ付PC
W 基板
M1 第1マーカ
M2 第2マーカ
Claims (13)
- 基板を処理する基板処理装置において、
基板処理室と、
前記基板処理室内に回転自在に設けられた回転テーブルと、前記回転テーブルに設けられて基板を保持する複数のクランプとを有する基板保持装置と、
基板の保持状態を撮像する撮像装置と、
前記基板処理室内に設けられた第1マーカと、
予め記憶され前記撮像装置が正しい位置および向きをとるときの第1マーカの基準画像データと、少なくとも1つのクランプが含まれる撮像領域に向けられた前記撮像装置から送られた第1マーカの撮像画像データとを比較する画像制御部とを備え、
前記画像制御部による比較結果に基づいて前記撮像装置の位置および向きの少なくとも一方が調整された後、前記撮像装置は、前記基板を保持しているクランプを撮像することを特徴とする基板処理装置。 - 前記画像制御部は、前記撮像装置から送られた第1マーカの撮像画像と、第1マーカの基準画像データとを比較し、比較した情報に基づいて、前記撮像装置が正しい位置および向きをとるための撮像装置の調整量を算出し、前記撮像装置の調整量を表示器に表示することを特徴とする請求項1記載の基板処理装置。
- 基板を処理する基板処理装置において、
基板処理室と、
前記基板処理室内に回転自在に設けられた回転テーブルと、前記回転テーブルに設けられて基板を保持する複数のクランプとを有する基板保持装置と、
基板の保持状態を撮像する撮像装置と、
前記基板処理室内に設けられた第1マーカと、
予め記憶され前記撮像装置が正しい位置および向きをとるときの第1マーカの基準画像データと、前記撮像装置から送られた第1マーカの撮像画像データとを比較する画像制御部とを備え、
撮像装置は、第1マーカとともに、基板保持装置のうち少なくとも2個のクランプを撮像することを特徴とする基板処理装置。 - 基板を処理する基板処理装置において、
基板処理室と、
前記基板処理室内に回転自在に設けられた回転テーブルと、前記回転テーブルに設けられて基板を保持する複数のクランプとを有する基板保持装置と、
基板の保持状態を撮像する撮像装置と、
基板を保持した前記クランプに向けて光を照射する照明装置と、
前記基板処理室内に設けられた第1マーカと、
前記回転テーブル上であって、前記クランプと同一円周上に設けられた第2マーカと、
画像制御部とを備え、
前記画像制御部は、予め記憶され撮像装置が正しい位置および向きをとるときの第1マーカの基準画像データと、撮像装置から送られた第1マーカの撮像画像データとを比較し、
前記画像制御部による比較結果に基づいて前記撮像装置の位置および向きの少なくとも一方が調整された後、前記画像制御部は前記照明装置が正しい位置および向きをとるときの第2マーカと光の到達点の撮像画像データと、前記回転テーブルを回転させ第2マーカを前記保持位置に移動させ、前記撮像装置が撮像した第2マーカと光の到達点の撮像画像データとを比較し、比較した情報に基づいて、前記照明装置が正しい位置および向きをとるための前記照明装置の調整量を算出し、この照明装置の調整量を表示器に表示することを特徴とする基板処理装置。 - 前記画像制御部は第2マーカを含む光の到達点の撮像画像データに基づいて前記照明装置の検出輝度分布を求め、
撮像画像輝度分布と、予め記憶された基準輝度分布とを比較することを特徴とする請求項4記載の基板処理装置。 - 前記撮像装置はカメラと、カメラの位置および向きを調整するための複数の回転軸からなる調整機構とを備え、
前記画像制御部は前記撮像装置の調整機構の各回転軸の調整量を算出することを特徴とする請求項1乃至5のいずれか記載の基板処理装置。 - 基板処理室と、前記基板処理室内に回転自在に設けられた回転テーブルと、前記回転テーブルに設けられて基板を保持する複数のクランプとを有する基板保持装置と、基板の保持状態を撮像する撮像装置と、前記撮像装置に接続された画像制御部を備えた基板処理装置の基板保持状態の把握方法において、
前記撮像装置が前記基板処理室内に設けられた第1マーカを撮像する工程と、
得られた撮像画像データを前記撮像装置が前記画像制御部に送る工程と、
前記画像制御部が、予め記憶され前記撮像装置が正しい位置および向きをとるときの第1マーカの基準画像データと、少なくとも1つのクランプが含まれる撮像領域に向けられた前記撮像装置から送られた第1マーカの撮像画像データとを比較する工程と、
前記画像制御部による比較結果に基づいて前記撮像装置の位置および向きの少なくとも一方が調整された後、前記撮像装置が前記基板を保持しているクランプを撮像する工程と、を備えることを特徴とする基板処理装置の基板保持状態の把握方法。 - 前記画像制御部は、前記撮像装置から送られた第1マーカの撮像画像と、第1マーカの基準画像データとを比較し、比較した情報に基づいて、前記撮像装置が正しい位置および向きをとるための前記撮像装置の調整量を算出し、前記撮像装置の調整量を表示器に表示することを特徴とする請求項7記載の基板処理装置の基板保持状態の把握方法。
- 基板処理室と、前記基板処理室内に回転自在に設けられた回転テーブルと、前記回転テーブルに設けられて基板を保持する複数のクランプとを有する基板保持装置と、基板の保持状態を撮像する撮像装置と、前記撮像装置に接続された画像制御部を備えた基板処理装置の基板保持状態の把握方法において、
前記撮像装置が前記基板処理室内に設けられた第1マーカを撮像する工程と、
得られた撮像画像データを前記撮像装置が前記画像制御部に送る工程と、
前記画像制御部が、予め記憶され前記撮像装置が正しい位置および向きをとるときの第1マーカの基準画像データと、前記撮像装置から送られた第1マーカの撮像画像データとを比較する工程と、
前記撮像装置は、第1マーカとともに、基板保持装置のうち少なくとも2個のクランプを撮像することを特徴とする基板処理装置の基板保持状態の把握方法。 - 基板処理室と、前記基板処理室内に回転自在に設けられた回転テーブルと、前記回転テーブルに設けられて基板を保持する複数のクランプとを有する基板保持装置と、基板の保持状態を撮像する撮像装置と、基板を保持したクランプに向けて光を照射する照明装置と、前記撮像装置に接続された画像制御部を備えた基板処理装置の基板保持状態の把握方法において、
前記撮像装置が前記基板処理室内に設けられた第1マーカを撮像する工程と、
得られた撮像画像データを前記撮像装置が前記画像制御部に送る工程と、
前記画像制御部が、予め記憶され前記撮像装置が正しい位置および向きをとるときの第1マーカの基準画像データと、前記撮像装置から送られた第1マーカの撮像画像データとを比較する工程と、
前記比較結果に基づいて前記撮像装置の位置および向きの少なくとも一方が調整された後、前記画像制御部が前記照明装置が正しい位置および向きをとるときの前記回転テーブル上であってクランプと同一円周上に設けられた第2マーカと光の到達点の撮像画像データと、前記回転テーブルを回転させ第2マーカを前記保持位置に移動させ、前記撮像装置が撮像した第2マーカと光の到達点の撮像画像データとを比較する工程と、
比較した情報に基づいて、前記照明装置が正しい位置および向きをとるための照明装置の調整量を算出し、この照明装置の調整量を表示器に表示する工程とを備えることを特徴とする基板処理装置の基板保持状態の把握方法。 - 前記画像制御部は第2マーカを含む光の到達点の撮像画像データに基づいて前記照明装置の検出輝度分布を求め、
撮像画像輝度分布と、予め記憶された基準輝度分布とを比較することを特徴とする請求項10記載の基板処理装置の基板保持状態の把握方法。 - 前記撮像装置はカメラと、カメラの位置および向きを調整するための複数の回転軸からなる調整機構とを備え、
前記画像制御部は前記撮像装置の調整機構の各回転軸の調整量を算出することを特徴とする請求項7乃至11のいずれか記載の基板処理装置の基板保持状態の把握方法。 - コンピュータに、請求項7乃至12のいずれかに記載の基板処理装置の基板保持状態の把握方法を実行させるためのプログラムを記憶したコンピュータ読み取り可能な記憶媒体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012263301A JP5989525B2 (ja) | 2012-11-30 | 2012-11-30 | 基板処理装置、基板処理装置の基板保持状態の把握方法および記憶媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012263301A JP5989525B2 (ja) | 2012-11-30 | 2012-11-30 | 基板処理装置、基板処理装置の基板保持状態の把握方法および記憶媒体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2014110296A JP2014110296A (ja) | 2014-06-12 |
JP5989525B2 true JP5989525B2 (ja) | 2016-09-07 |
Family
ID=51030772
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012263301A Active JP5989525B2 (ja) | 2012-11-30 | 2012-11-30 | 基板処理装置、基板処理装置の基板保持状態の把握方法および記憶媒体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5989525B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6456712B2 (ja) | 2015-02-16 | 2019-01-23 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板保持機構及びこれを用いた基板処理装置 |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06110515A (ja) * | 1992-09-25 | 1994-04-22 | Sony Corp | 被搬送物の移載方法 |
JP3102193B2 (ja) * | 1993-02-26 | 2000-10-23 | 安藤電気株式会社 | Qfp型icのicソケットへの接触・位置決め装置 |
JPH11121589A (ja) * | 1997-10-09 | 1999-04-30 | Nikon Corp | 搬送方法および搬送装置、および露光装置 |
JP3076287B2 (ja) * | 1997-10-28 | 2000-08-14 | 山形日本電気株式会社 | 半導体装置の製造装置 |
JP3998223B2 (ja) * | 1998-03-30 | 2007-10-24 | キヤノン株式会社 | 位置検出装置、露光装置及びデバイス製造方法 |
JP4255791B2 (ja) * | 2003-09-22 | 2009-04-15 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 基板処理装置 |
EP3252533B1 (en) * | 2004-02-04 | 2019-04-10 | Nikon Corporation | Exposure apparatus, exposure method, and method for producing a device |
EP1791169A4 (en) * | 2004-08-31 | 2011-03-02 | Nikon Corp | ALIGNMENT PROCESS, DEVELOPMENT SYSTEM, SUBSTRATED REPEATABILITY MEASURING METHOD, POSITION MEASURING METHOD, EXPOSURE METHOD, SUBSTRATE PROCESSING DEVICE, MEASURING METHOD AND MEASURING DEVICE |
JP5616279B2 (ja) * | 2011-04-12 | 2014-10-29 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板保持装置、基板処理装置、基板処理方法、及び基板処理プログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体 |
-
2012
- 2012-11-30 JP JP2012263301A patent/JP5989525B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2014110296A (ja) | 2014-06-12 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5661022B2 (ja) | 基板処理装置及び基板処理方法並びに基板処理プログラムを記憶したコンピュータ読み取り可能な記憶媒体 | |
KR100941688B1 (ko) | 기판 인도 장치, 기판 처리 장치, 기판 인도 방법 | |
JP4313824B2 (ja) | 基板移載装置及び基板移載方法並びに記憶媒体 | |
TWI422522B (zh) | 搬運裝置之教導方法、記憶媒體、及基板處理設備 | |
KR20220010760A (ko) | 기판 처리 장치의 관리 방법, 및 기판 처리 시스템 | |
US20090016857A1 (en) | Substrate-replacing apparatus, substrate-processing apparatus, and substrate-inspecting apparatus | |
US20090209175A1 (en) | Polishing apparatus and substrate processing method | |
KR101581474B1 (ko) | 얼라인먼트 장치 및 얼라인먼트 방법 | |
KR100976604B1 (ko) | 웨이퍼 에지영역 검사장치, 이를 이용하는 웨이퍼 에지영역검사방법 및 웨이퍼 정렬방법 | |
US20170287704A1 (en) | Substrate processing apparatus, control method of substrate processing apparatus and substrate processing system | |
US9358686B2 (en) | Robot system | |
JP5989525B2 (ja) | 基板処理装置、基板処理装置の基板保持状態の把握方法および記憶媒体 | |
KR20170115635A (ko) | 스크라이빙 장치 | |
JP2009016595A (ja) | 基板検査装置 | |
JP4492155B2 (ja) | 半導体ウエーハ用キャリアの保持孔検出装置及び検出方法並びに半導体ウエーハの研磨方法 | |
KR20240027875A (ko) | 기판 처리 장치 및 그 반송 제어 방법 | |
JP2005294378A (ja) | 半導体ウエーハの両面研磨装置及び両面研磨方法 | |
JP5616279B2 (ja) | 基板保持装置、基板処理装置、基板処理方法、及び基板処理プログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体 | |
KR20160021405A (ko) | 기판 처리 장치 및 방법 | |
JP5656688B2 (ja) | 透明板状物のエッジ検出装置及び研削装置 | |
US20210252694A1 (en) | Teaching method of transfer device and processing system | |
KR100542727B1 (ko) | 글라스 이송유닛을 구비한 평판 디스플레이 패널 검사장치 | |
JP7478639B2 (ja) | ノズルの位置調整方法及び液処理装置 | |
US12030179B2 (en) | Teaching method of transfer device and processing system | |
KR20220085897A (ko) | 티칭 모듈 및 티칭 방법 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20150213 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20151210 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20151215 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20160212 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20160715 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20160810 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5989525 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |