JP5973912B2 - 反射防止性を有するコーティングを作製するための方法 - Google Patents
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Description
組成物S1
3mlの市販のナノ粒子(Levasil 200S 30%、15nm、酢酸で安定化)を24mlのエタノール中に分散させ、5分間混合した。その後、3mlのTiO2懸濁液(タイプ1;還流法、5nm、体積比1:1のエタノール:水中に分散させた5重量%のTiO2)を加え、その混合物を2時間撹拌した。この組成物は6:1のSiO2:TiO2比を有する。このことはエネルギー分散型X線分光分析(EDX)でも確認された(図5−1)。透過型電子顕微鏡法による分析は、粒子がよく分散して存在することを示している(図6−1)。
タイプ2のTiO2粒子(5nm、下記参照)を含むTiO2懸濁液を使用した点以外は、組成物S1と同じ配合。透過型電子顕微鏡法による分析は、粒子が極めてよく分散して存在することを示している(図6−2)。
リオサーマルプロセスで製造されたタイプ3のTiO2粒子(3〜4nm)を使ったTiO2懸濁液を使用した点以外は、組成物S1と同じ配合。透過型電子顕微鏡法による分析は、粒子が極めてよく分散して存在することを示している(図6−3)。
3重量%を含有するTiO2ゾルを得るために、タイプ1、2または3のTiO2懸濁液18mlを12mlのエタノール中に分散させ、その混合物を2時間撹拌した。H1はタイプ1、H2はタイプ2、そしてH3はタイプ3からなる。
3重量%SiO2ゾルを得るために、3mlのSiO2懸濁液(Levasil 200S、30%、15nm、酢酸で安定化)を、エタノール24mlと水3mlの混合物中に分散させ、2時間混合した。
市販のSiO2ナノ粒子(Levasil 200S、30%、15nm、酢酸で安定化)3mlを24mlのエタノール中に分散させ、5分間混合した。これに、ITOナノ粒子の懸濁液(5重量%、エタノール中に分散、Nano−ITO c5000 S1Nペースト(71%)から製造)3mlを加え、その混合物を2時間撹拌した。透過型電子顕微鏡法による分析は、ITO粒子の一部がアグロメレートとして存在することを示している(図6−4a、図6−4b)。
3重量%ITOゾルを得るために、ITOナノ粒子の懸濁液(5重量%、エタノールに分散、Nano−ITO c5000 S1Nペースト(71%)から製造した)18mlを12mlのエタノール中に分散させ、2時間撹拌した。
72.08gのチタンイソプロポキシドを50mlのn−プロパノールに徐々に加え、5分間混合した。次に、その混合物に11.9gの濃度のHCl(37%)を加え、5分間混合した。次のステップでは、27.93gのエチレングリコールを徐々に加え、20分間混合した。十分に混合した後、その混合物をテフロン(登録商標)容器に移し、2.36gの水を滴下して、さらに1時間撹拌した。その後、その混合物をオートクレーブ中、200℃で3時間加熱した。その結果生じたTiO2粒子をアセトン(200ml)で1回、および1−ブタナール(150ml)または2−ブタノン(150ml)で1回洗浄し、遠心分離によって取り出した。粒子を真空乾燥器中、60℃で乾燥した。
製造した組成物を浸漬コーティング機を使って2mm/秒の速度で塗布した。
・ガラス(7.5×2.5(l×w)厚さ1mm)
・ポリカーボネート(7.5×2.5(l×w)厚さ4mm)
・PMMA(7.5×2.5(l×w)厚さ3mm)。
PMMA上のコーティングは80℃で1時間処理した。ポリカーボネートおよびガラス上のコーティングは100℃で1時間処理した。
ガラス上のコーティングは、5℃/分の加熱速度で、450℃で30分間処理した。
反射スペクトルおよび透過スペクトルはCary 5000計器を使って記録した。
ガラス上の組成物S1、S2、S3およびH(Hゾルはいずれも類似する結果を与えた)から構成されるコーティングであって、450℃(加熱速度5℃/分)で30分間処理したものを使って、試験を行った。光分解実験では、モデル物質としての4−クロロフェノール(4−CP)の分解を調べた。c0=50μmol/lの4−CP濃度を有する溶液50mlを、コーティングされたガラス板のそれぞれに加え、750Wキセノンランプを装着したAtlas Suntester CPS+を使って人工日光を照射した。UV−Vis分光法によって4−CPの各濃度ctを決定した。図7−1では、それぞれの出発濃度c0に対して標準化された4−CPの濃度が、照射時間に対してプロットされている。
偏光解析法を利用してコーティングの多孔度を調べた。ガラス上のコーティングは450℃で、またPMMAおよびPET上のコーティングは80℃で、またPC上のコーティングは100℃で処理した。以下の屈折率が決定された。
屈折率だけでなく、表面の接触角でも、表面の多孔度について推論することができる。低い接触角は高い表面粗さを示し、したがって高い多孔度も示す。測定は室温において顕微鏡下で行った。水に対する接触角をコーティング上の3点で決定し、平均を求めた。
このために、組成物S1、S2、S3のコーティング(高温プロセスで処理したもの)を5℃未満まで冷却し、相対大気湿度50〜55%の雰囲気に暴露した。すべてのコーティングが明確に結露防止特性を有する(図8−1a〜d)。
コーティングの(機械的)安定性を測定するために、組成物S2のコーティング(ガラス基材上、450℃で30分間の熱処理)を、硬さ5Hの鉛筆で引っ掻き、SEM顕微鏡およびEDXで調べた。顕微鏡像は均一な表面を示す。鉛筆による引っ掻きは表面にわずかな引っ掻き傷をつけただけだった。損傷を受けていない表面のEDX分析は基本的にSiおよびOのシグナルを示す。引っ掻き後は、CおよびAlからのシグナルが追加されるが、これらは鉛筆に由来するものである。
3.27g(3ml)のSiO2ゾル(Levasil 200S、30%、15nm、酸安定化)を50:50のエタノールおよび2−プロパノール(11.85g(15ml)+11.70g(15ml))中に分散させ、5分間混合した。その後、TiO2ナノ粒子の懸濁液(5重量%(90mg)、水1gとエタノール0.78gの混合物中に分散したもの)1.8mlを加え、組成物を2時間撹拌した。
3.4335gのSiO2ゾル(Levasil 200S、30%、15nm、酸安定化)を50:50のエタノールおよび2−プロパノール(11.85g(15ml)+11.70g(15ml))中に分散させ、5分間混合した。その後、TiO2ナノ粒子の懸濁液(5重量%(90mg)、水1gとエタノール0.78gの混合物中に分散したもの)1.8mlを加え、その組成物を2時間撹拌した。
3.1065gのSiO2ゾル(Levasil 200S、30%、15nm、酸安定化)を50:50のエタノールおよび2−プロパノール(11.85g(15ml)+11.70g(15ml))中に分散させ、5分間混合した。その後、TiO2ナノ粒子の懸濁液(5重量%(90mg)、水1gとエタノール0.78gの混合物中に分散したもの)1.8mlを加え、その組成物を2時間撹拌した。
3.27gのSiO2ゾル(Levasil 200S、30%、15nm、酸安定化)をエタノール(12.433g)および2−プロパノール(11.70g)の混合物中に分散させ、5分間混合した。その後、TiO2ナノ粒子の懸濁液(5重量%(90mg)、水1gとエタノール0.78gの混合物中に分散したもの)1.8mlを加え、その組成物を2時間撹拌した。
3.27gのSiO2ゾル(Levasil 200S、30%、15nm、酸安定化)をエタノール(11.258g)と2−プロパノール(11.70g)の混合物中に分散させ、5分間混合した。その後、TiO2ナノ粒子の懸濁液(5重量%(90mg)、水1gとエタノール0.78gの混合物中に分散したもの)1.8mlを加え、その組成物を2時間撹拌した。
3.27gのSiO2ゾル(Levasil 200S、30%、15nm、酸安定化)をエタノール(11.85g)と2−プロパノール(12.285g)の混合物中に分散させ、5分間混合した。その後、TiO2ナノ粒子の懸濁液(5重量%(90mg)、水1gとエタノール0.78gの混合物中に分散したもの)1.8mlを加え、その組成物を2時間撹拌した。
3.27gのSiO2ゾル(Levasil 200S、30%、15nm、酸安定化)をエタノール(11.85g)と2−プロパノール(11.12g)の混合物中に分散させ、5分間混合した。その後、TiO2ナノ粒子の懸濁液(5重量%(90mg)、水1gとエタノール0.78gの混合物中に分散したもの)1.8mlを加え、その組成物を2時間撹拌した。
3.27gのSiO2ゾル(Levasil 200S、30%、15nm、酸安定化)をエタノール(11.85g)と2−プロパノール(11.7g)の混合物中に分散させ、5分間混合した。その後、TiO2ナノ粒子の懸濁液(5.25重量%(94.5mg)、水1gとエタノール0.78gの混合物中に分散したもの)1.8mlを加え、その組成物を2時間撹拌した。
3.27gのSiO2ゾル(Levasil 200S、30%、15nm、酸安定化)をエタノール(11.85g)と2−プロパノール(11.7g)の混合物中に分散させ、5分間混合した。その後、TiO2ナノ粒子の懸濁液(4.75重量%(85.5mg)、水1gとエタノール0.78gの混合物中に分散したもの)1.8mlを加え、その組成物を2時間撹拌した。
組成物を浸漬コーティングにより、1.7〜1.8mm/秒の速度で塗布した。熱処理は550℃で30分間(加熱速度5℃/分)行った。
2.65g(2ml)のSiO2ゾル(Levasil 100S、45%、30nm、酸安定化)を50:50のエタノール(14.22g)および2−プロパノール(14.04g)の混合物中に分散させ、5分間混合した。その後、TiO2ナノ粒子の懸濁液(5重量%(90mg)、水1gとエタノール0.78gの混合物中に分散したもの)1.8mlを加え、その組成物を2時間撹拌した。
塩基安定化(アンモニア)SiO2ゾルを使用した点以外は組成物S6と同様にして、組成物を製造した。
リオサーマル法で製造されたTiO2ナノ粒子(タイプ2)を使用した点以外は組成物S5と同様にして、組成物を製造した。
Claims (15)
- 反射防止性を持つコーティングを作製するためのプロセスであって、
a)少なくとも2種類のナノ粒子と少なくとも1つの溶媒とから組成物を製造するステップと、
b)前記組成物を基材に塗布するステップと、
c)コーティングされた前記基材を熱的に処理するステップとを少なくとも含み、
前記2種類のナノ粒子は、SiO 2 ナノ粒子とTiO 2 またはITOナノ粒子とであるとともに、SiO 2 ナノ粒子の平均粒度がTiO 2 またはITOナノ粒子の平均粒度より少なくとも2倍大きく、
平均粒度が小さい方の前記TiO 2 またはITOナノ粒子は、平均粒度が大きい方の前記SiO 2 ナノ粒子を覆うことを特徴とするプロセス。 - 前記熱処理が200℃未満の温度で行われることを特徴とする、請求項1に記載のプロセス。
- 前記熱処理が400℃を上回る温度で行われることを特徴とする、請求項1に記載のプロセス。
- ステップb)が、前記プロセスを実施する過程において1回だけ行われることを特徴とする、請求項1〜3のいずれか一項に記載のプロセス。
- 前記組成物が1重量%を上回るナノ粒子の総含有量を有することを特徴とする、請求項1〜4のいずれか一項に記載のプロセス。
- 前記組成物が1重量%〜10重量%のナノ粒子の総含有量を有することを特徴とする、請求項5に記載のプロセス。
- 前記2種類のナノ粒子は、それらの平均粒度が2〜10倍異なることを特徴とする、請求項1〜6のいずれか一項に記載のプロセス。
- 少なくとも1種類のナノ粒子がカルボン酸で安定化されたナノ粒子を含むことを特徴とする、請求項1〜7のいずれか一項に記載のプロセス。
- 少なくとも1種類のナノ粒子が2〜8個の炭素原子を有する一塩基および多塩基カルボン酸を含む群から選択される1つ以上のカルボン酸で安定化されたナノ粒子を含むことを特徴とする、請求項8に記載のプロセス。
- 前記少なくとも1つの溶媒が、C1−C8−アルコール、C1−C8−ケトン、C1−C8−アルデヒド、水を含む群より選択されることを特徴とする、請求項1〜9のいずれか一項に記載のプロセス。
- 前記組成物が少なくとも2つの溶媒を含むことを特徴とする、請求項1〜10のいずれか一項に記載のプロセス。
- 前記組成物が少なくとも2つの溶媒を含み、
前記組成物の主要構成成分が非水性溶媒であることを特徴とする、請求項11に記載のプロセス。 - 前記組成物が、湿潤剤および/またはポリマーなどのさらなる添加剤を何も含まないことを特徴とする、請求項1〜12のいずれか一項に記載のプロセス。
- 第2の種類のナノ粒子で均一に覆われた少なくとも1種類のナノ粒子を有し、
前記1種類のナノ粒子は、SiO 2 ナノ粒子であり、
前記第2の種類のナノ粒子は、TiO 2 またはITOナノ粒子であり、
前記SiO 2 ナノ粒子の平均粒度は、前記TiO 2 またはITOナノ粒子の平均粒度より大きいことを特徴とする、反射防止性を持つコーティング。 - 第2の種類のナノ粒子で均一に覆われた少なくとも1種類のナノ粒子を有し、
前記1種類のナノ粒子は、SiO 2 ナノ粒子であり、
前記第2の種類のナノ粒子は、TiO 2 またはITOナノ粒子であり、
前記SiO 2 ナノ粒子の平均粒度は、前記TiO 2 またはITOナノ粒子の平均粒度より大きいことを特徴とする、反射防止コーティングを作製するための組成物。
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Families Citing this family (8)
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CN102683231B (zh) * | 2012-05-31 | 2015-07-08 | 昆山维信诺显示技术有限公司 | 一种高折射率散射膜的制备方法及应用 |
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US20170030510A1 (en) * | 2015-05-26 | 2017-02-02 | Thomas Dunlap | Photocatalytic thermal barrier coating |
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Family Cites Families (23)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6298301A (ja) * | 1985-10-25 | 1987-05-07 | Seiko Epson Corp | 反射防止膜 |
JPS63193101A (ja) * | 1987-02-06 | 1988-08-10 | Hitachi Ltd | 反射防止膜 |
JPS6476001A (en) * | 1987-09-18 | 1989-03-22 | Hitachi Ltd | Antireflection film |
JP3039937B2 (ja) * | 1988-09-09 | 2000-05-08 | 株式会社日立製作所 | 超微粒子 |
JP3178009B2 (ja) | 1991-07-05 | 2001-06-18 | 株式会社日立製作所 | 反射防止体及びその利用装置 |
JP3383050B2 (ja) * | 1993-12-28 | 2003-03-04 | 大日本印刷株式会社 | 最密充填塗膜、その製造方法及び最密充填塗膜形成フィルム |
JPH07318702A (ja) * | 1994-05-24 | 1995-12-08 | Asahi Optical Co Ltd | コーティング組成物 |
EP0897898B1 (de) * | 1997-08-16 | 2004-04-28 | MERCK PATENT GmbH | Verfahren zur Abscheidung optischer Schichten |
DE10146687C1 (de) * | 2001-09-21 | 2003-06-26 | Flabeg Solarglas Gmbh & Co Kg | Glas mit einer porösen Antireflex-Oberflächenbeschichtung sowie Verfahren zur Herstellung des Glases und Verwendung eines derartigen Glases |
TWI230123B (en) | 2003-04-01 | 2005-04-01 | Optimax Tech Corp | Structure and fabricating method of optic protection film |
DE10323729A1 (de) | 2003-05-26 | 2004-12-16 | Institut Für Neue Materialien Gem. Gmbh | Zusammensetzung mit Nichtnewtonschem Verhalten |
US7189768B2 (en) * | 2003-11-25 | 2007-03-13 | 3M Innovative Properties Company | Solution containing surface-modified nanoparticles |
JP4885441B2 (ja) * | 2004-11-18 | 2012-02-29 | コニカミノルタオプト株式会社 | 防眩性反射防止フィルム、偏光板および画像表示装置 |
JP4816223B2 (ja) * | 2005-04-26 | 2011-11-16 | 住友化学株式会社 | 反射防止積層体の製造方法 |
JP2007077243A (ja) * | 2005-09-13 | 2007-03-29 | Fujifilm Corp | 微粒子分散液の調製方法、微粒子分散液、ドープの調製方法、環状オレフィン系樹脂フィルム、偏光板および液晶表示装置 |
JP2009515218A (ja) * | 2005-11-05 | 2009-04-09 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | 高屈折率及び反射防止コーティングを備えている光学フィルム |
WO2007053772A1 (en) * | 2005-11-05 | 2007-05-10 | 3M Innovative Properties Company | Optical films comprising high refractive index and antireflective coatings |
JP5055763B2 (ja) | 2005-12-20 | 2012-10-24 | 日油株式会社 | 光学物品及びそれを用いた表示装置 |
JP4872739B2 (ja) * | 2006-03-23 | 2012-02-08 | 住友化学株式会社 | 積層体の製造方法 |
US20080268229A1 (en) | 2006-08-09 | 2008-10-30 | Daeyeon Lee | Superhydrophilic coatings |
JP5181692B2 (ja) | 2007-01-22 | 2013-04-10 | 大日本印刷株式会社 | 光学積層体、その製造方法、偏光板及び画像表示装置 |
JP4867900B2 (ja) | 2007-11-22 | 2012-02-01 | 日油株式会社 | 反射防止フィルムの製造方法 |
CN102326099B (zh) * | 2008-12-30 | 2014-09-17 | 3M创新有限公司 | 减反射制品及其制备方法 |
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