JP5953322B2 - 赤外線吸収組成物ないしは赤外線吸収組成物キット、これを用いた赤外線カットフィルタ及びその製造方法、並びに、カメラモジュール及びその製造方法 - Google Patents

赤外線吸収組成物ないしは赤外線吸収組成物キット、これを用いた赤外線カットフィルタ及びその製造方法、並びに、カメラモジュール及びその製造方法 Download PDF

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Description

本発明は、赤外線吸収組成物ないしは赤外線吸収組成物キット、これを用いた赤外線カットフィルタ及びその製造方法、並びに、カメラモジュール及びその製造方法に関する。
ビデオカメラ、デジタルスチルカメラ、カメラ機能付き携帯電話などにはカラー画像の固体撮像素子であるＣＣＤやＣＭＯＳイメージセンサが用いられている。これら固体撮像素子はその受光部において近赤外線に感度を有するシリコンフォトダイオードを使用しているために、視感度補正を行うことが要求され、赤外線カットフィルタを用いる（例えば、特許文献１参照）。
このような赤外線カットフィルタとして、誘電体多層膜を用いたタイプのものと、赤外線吸収剤を用いたタイプのものが知られている。
誘電体多層膜を用いたタイプの赤外線カットフィルタとしては、例えば、基材としてガラス基板を用いたものや、基材として樹脂フィルムを用いたものが知られている。
また、赤外線吸収剤を用いたタイプとしては、構成材料の大部分がガラスとされた赤外線カットフィルタが主に知られている。
例えば、特許文献２等には、特定の銅錯体を使用した近赤外線吸収フィルタが開示されている。また、特許文献３等には、酸化セシウムタングステン等の赤外線吸収剤が開示されている。
特開２０１２−２８６２０号公報 特開２０１２−１８５３８５号公報 特表２０１２−５１７３５９号公報
赤外線カットフィルタは、耐熱性及び耐湿性等の諸性能を満足することが求められており、特に、波長７００ｎｍ付近の近赤外線を充分に遮蔽し、かつ赤外線も充分に遮蔽することが要求されている。
本発明は、かかる現状に鑑みてなされたものであり、以下の目的を達成することを課題とする。
即ち、本発明の目的は、近赤外線遮蔽性、赤外線遮蔽性、並びに耐熱性及び耐湿性に優れる赤外線カットフィルタを製造し得る赤外線吸収組成物ないしは赤外線吸収組成物キット、これを用いた赤外線カットフィルタ及びその製造方法、並びにカメラモジュール及びその製造方法を提供することにある。
本発明は、下記の構成であり、これにより本発明の上記目的が達成される。
〔１〕
波長７００ｎｍ〜１０００ｎｍの範囲内に極大吸収波長を有する銅化合物又は色素を含有する組成物と、波長８００ｎｍ〜２０００ｎｍの範囲内に極大吸収波長を有する金属酸化物を含有する組成物とを含む赤外線吸収組成物キット。
〔２〕
上記金属酸化物を含有する組成物における上記金属酸化物の含有量が、上記組成物の全固形分質量に対して、１〜５０質量％である、〔１〕に記載の赤外線吸収組成物キット。
〔３〕
上記銅化合物又は色素を含有する組成物における上記銅化合物の含有量が、上記組成物の全固形分質量に対して、５０〜８０質量％である、〔１〕又は〔２〕に記載の赤外線吸収組成物キット。
〔４〕
上記銅化合物又は色素を含有する組成物における上記色素の含有量が、上記組成物の全固形分質量に対して、１〜２０質量％である、〔１〕又は〔２〕に記載の赤外線吸収組成物キット。
〔５〕
上記色素が、シアニン色素、フタロシアニン色素、クアテリレン色素、アミニウム色素、イミニウム色素、アゾ色素、アンスラキノン色素、ジイモニウム色素、スクアリリウム色素、又は、ポルフィリン色素である、〔１〕に記載の赤外線吸収組成物キット。
〔６〕
波長７００ｎｍ〜１０００ｎｍの範囲内に極大吸収波長を有する銅化合物と、波長８００ｎｍ〜２０００ｎｍの範囲内に極大吸収波長を有する金属酸化物とを含有する赤外線吸収組成物。
〔７〕
上記金属酸化物の含有量が、上記組成物の全固形分質量に対して、０．００１〜５質量％である、〔６〕に記載の赤外線吸収組成物。
〔８〕
上記銅化合物の含有量が、上記組成物の全固形分質量に対して、５０〜８０質量％である、〔６〕又は〔７〕に記載の赤外線吸収組成物。
〔９〕
上記金属酸化物がセシウム酸化タングステンである、〔１〕〜〔８〕のいずれか１項に記載の赤外線吸収組成物ないしは赤外線吸収組成物キット。
〔１０〕
上記銅化合物が下記一般式（１）で表される銅錯体である、〔１〕〜〔９〕のいずれか１項に記載の赤外線吸収組成物ないしは赤外線吸収組成物キット。
Ｃｕ（Ｌ）ｎ１・（Ｘ）ｎ２ 一般式（１）
（上記一般式（１）中、
Ｌは、銅に配位する配位子を表し、
Ｘは、存在しないか、ハロゲン原子、Ｈ２Ｏ、ＮＯ３、ＣｌＯ４、ＳＯ４、ＣＮ、ＳＣＮ、ＢＦ４、ＰＦ６、ＢＰｈ４（Ｐｈはフェニル基を表す）又はアルコールを表す。
ｎ１及びｎ２は、各々独立に、１〜４の整数を表す。）
〔１１〕
上記一般式（１）における配位子Ｌがスルホン酸、カルボン酸、リン酸、リン酸エステル、ホスホン酸、ホスホン酸エステル又はホスフィン酸である、〔１０〕に記載の赤外線吸収組成物ないしは赤外線吸収組成物キット。
〔１２〕
上記銅化合物に対する上記金属酸化物の質量比が、０．０００１〜０．５である、〔１〕〜〔１１〕のいずれか１項に記載の赤外線吸収組成物ないしは赤外線吸収組成物キット。
〔１３〕
波長７００ｎｍ〜１０００ｎｍの範囲内に極大吸収波長を有する銅化合物又は色素を含有する銅化合物又は色素含有膜と、波長８００ｎｍ〜２０００ｎｍの範囲内に極大吸収波長を有する金属酸化物を含有する金属酸化物含有膜とを有する赤外線カットフィルタ。
〔１４〕
上記銅化合物又は色素含有膜が銅化合物含有膜であり、その膜厚が１０〜３００μｍであり、上記金属酸化物含有膜の膜厚が１０μｍ以下である、〔１３〕に記載の赤外線カットフィルタ。
〔１５〕
上記銅化合物又は色素含有膜の膜厚が１０〜１００μｍである、〔１４〕に記載の赤外線カットフィルタ。
〔１６〕
上記銅化合物又は色素含有膜が色素含有膜であり、その膜厚が０．０５〜１００μｍであり、上記金属酸化物含有膜の膜厚が１０μｍ以下である、〔１３〕に記載の赤外線カットフィルタ。
〔１７〕
上記金属酸化物含有膜の膜厚が５μｍ以下である、〔１４〕〜〔１６〕のいずれか１項に記載の赤外線カットフィルタ。
〔１８〕
〔１〕〜〔１２〕のいずれか１項に記載の赤外線吸収組成物ないしは赤外線吸収組成物キットを用いて形成される赤外線カットフィルタ。
〔１９〕
波長７００ｎｍ〜１０００ｎｍの範囲内に極大吸収波長を有する銅化合物又は色素を含有する組成物を塗布することにより銅化合物又は色素含有膜を形成する工程、及び
波長８００ｎｍ〜２０００ｎｍの範囲内に極大吸収波長を有する金属酸化物を含有する組成物を塗布することにより金属酸化物含有膜を形成する工程
を有する赤外線カットフィルタの製造方法。
〔２０〕
〔１〕〜〔１２〕のいずれか１項に記載の赤外線吸収組成物ないしは赤外線吸収組成物キットを塗布することにより膜を形成する工程を有する、赤外線カットフィルタの製造方法。
〔２１〕
上記塗布がアプリケータ塗布である、〔１９〕又は〔２０〕に記載の赤外線カットフィルタの製造方法。
〔２２〕
固体撮像素子基板と、上記固体撮像素子基板の受光側に配置された赤外線カットフィルタとを有するカメラモジュールであって、上記赤外線カットフィルタが〔１３〕〜〔１８〕のいずれか１項に記載の赤外線カットフィルタである、カメラモジュール。
〔２３〕
固体撮像素子基板と、上記固体撮像素子基板の受光側に配置された赤外線カットフィルタとを有するカメラモジュールの製造方法であって、固体撮像素子基板の受光側において、波長７００ｎｍ〜１０００ｎｍの範囲内に極大吸収波長を有する銅化合物又は色素を含有する組成物を塗布することにより銅化合物又は色素含有膜を形成する工程、及び
波長８００ｎｍ〜２０００ｎｍの範囲内に極大吸収波長を有する金属酸化物を含有する組成物を塗布することにより金属酸化物含有膜を形成する工程
を有する、カメラモジュールの製造方法。
〔２４〕
固体撮像素子基板と、上記固体撮像素子基板の受光側に配置された赤外線カットフィルタとを有するカメラモジュールの製造方法であって、固体撮像素子基板の受光側において、〔１〕〜〔１２〕のいずれか１項に記載の赤外線吸収組成物ないしは赤外線吸収組成物キットを塗布することにより膜を形成する工程を有する、カメラモジュールの製造方法。
〔２５〕
固体撮像素子基板と、上記固体撮像素子基板の受光側に配置されたマイクロレンズとを有する固体撮像素子であって、
上記マイクロレンズの表面から２ｍｍ以内に、波長８００ｎｍ〜２０００ｎｍの範囲内に極大吸収波長を有する金属酸化物を含有する近赤外線吸収層を有する固体撮像素子。
〔２６〕
上記金属酸化物がセシウム酸化タングステンである、〔２５〕に記載の固体撮像素子。
〔２７〕
固体撮像素子基板と、上記固体撮像素子基板の受光側に配置されたマイクロレンズとを有する固体撮像素子の上記マイクロレンズの表面から２ｍｍ以内の位置に塗布する近赤外線吸収組成物であって、
波長８００ｎｍ〜２０００ｎｍの範囲内に極大吸収波長を有する金属酸化物を含有する近赤外線吸収組成物。
本発明は、更に、下記の構成であることが好ましい。
〔２８〕
上記金属酸化物が、下記一般式（Ｉ）で表される上記〔１〕〜〔１２〕のいずれか１項に記載の赤外線吸収組成物ないしは赤外線吸収組成物キット。
ＭｘＷｙＯｚ・・・（Ｉ）
Ｍは金属、Ｗはタングステン、Ｏは酸素を表す。
０．００１≦ｘ／ｙ≦１．１
２．２≦ｚ／ｙ≦３．０
〔２９〕
上記Ｍがアルカリ金属である上記〔２８〕に記載の赤外線吸収組成物ないしは赤外線吸収組成物キット。
本発明は、上記〔１〕〜〔２９〕に係る発明であるが、以下、それ以外の事項についても記載している。
＜１＞
波長７００ｎｍ〜１０００ｎｍの範囲内に極大吸収波長を有する銅化合物又は色素を含有する組成物と、波長８００ｎｍ〜２０００ｎｍの範囲内に極大吸収波長を有する金属酸化物を含有する組成物とを含む赤外線吸収組成物キット。
＜２＞
上記金属酸化物を含有する組成物における上記金属酸化物の含有量が、上記組成物の全固形分質量に対して、１〜５０質量％である、＜１＞に記載の赤外線吸収組成物キット。
＜３＞
上記銅化合物又は色素を含有する組成物における上記銅化合物の含有量が、上記組成物の全固形分質量に対して、５０〜８０質量％である、＜１＞又は＜２＞に記載の赤外線吸収組成物キット。
＜４＞
上記銅化合物又は色素を含有する組成物における上記色素の含有量が、上記組成物の全固形分質量に対して、１〜２０質量％である、＜１＞又は＜２＞に記載の赤外線吸収組成物キット。
＜５＞
波長７００ｎｍ〜１０００ｎｍの範囲内に極大吸収波長を有する銅化合物又は色素と、波長８００ｎｍ〜２０００ｎｍの範囲内に極大吸収波長を有する金属酸化物とを含有する赤外線吸収組成物。
＜６＞
上記赤外線吸収組成物が上記銅化合物を含有するとき、上記金属酸化物の含有量が、上記組成物の全固形分質量に対して、０．００１〜５質量％である、＜５＞に記載の赤外線吸収組成物。
＜７＞
上記赤外線吸収組成物が上記色素を含有するとき、上記金属酸化物の含有量が、上記組成物の全固形分質量に対して、３０〜８０質量％である、＜５＞に記載の赤外線吸収組成物。
＜８＞
上記銅化合物の含有量が、上記組成物の全固形分質量に対して、５０〜８０質量％である、＜５＞又は＜６＞に記載の赤外線吸収組成物。
＜９＞
上記色素の含有量が、上記組成物の全固形分質量に対して、１〜２０質量％である、＜５＞又は＜７＞に記載の赤外線吸収組成物。
＜１０＞
上記色素に対する上記金属酸化物の質量比が、５〜５０である、＜５＞、＜７＞又は＜９＞に記載の赤外線吸収組成物。
＜１１＞
上記色素が、シアニン色素、フタロシアニン色素、クアテリレン色素、アミニウム色素、イミニウム色素、アゾ色素、アンスラキノン色素、ジイモニウム色素、スクアリリウム色素、又は、ポルフィリン色素である、＜１＞〜＜５＞、＜７＞、＜９＞及び＜１０＞のいずれか１項に記載の赤外線吸収組成物ないしは赤外線吸収組成物キット。
＜１２＞
上記金属酸化物がセシウム酸化タングステンである、＜１＞〜＜１１＞のいずれか１項に記載の赤外線吸収組成物ないしは赤外線吸収組成物キット。
＜１３＞
上記銅化合物が下記一般式（１）で表される銅錯体である、＜１＞〜＜１２＞のいずれか１項に記載の赤外線吸収組成物ないしは赤外線吸収組成物キット。
Ｃｕ（Ｌ）ｎ１・（Ｘ）ｎ２ 一般式（１）
（上記一般式（１）中、
Ｌは、銅に配位する配位子を表し、
Ｘは、存在しないか、ハロゲン原子、Ｈ２Ｏ、ＮＯ３、ＣｌＯ４、ＳＯ４、ＣＮ、ＳＣＮ、ＢＦ４、ＰＦ６、ＢＰｈ４（Ｐｈはフェニル基を表す）又はアルコールを表す。
ｎ１及びｎ２は、各々独立に、１〜４の整数を表す。）
＜１４＞
上記一般式（１）における配位子Ｌがスルホン酸、カルボン酸、リン酸、リン酸エステル、ホスホン酸、ホスホン酸エステル又はホスフィン酸である、＜１３＞に記載の赤外線吸収組成物ないしは赤外線吸収組成物キット。
＜１５＞
上記銅化合物に対する前記金属酸化物の質量比が、０．０００１〜０．５である、＜１＞〜＜１４＞のいずれか１項に記載の赤外線吸収組成物ないしは赤外線吸収組成物キット。
＜１６＞
波長７００ｎｍ〜１０００ｎｍの範囲内に極大吸収波長を有する銅化合物又は色素を含有する銅化合物又は色素含有膜と、波長８００ｎｍ〜２０００ｎｍの範囲内に極大吸収波長を有する金属酸化物を含有する金属酸化物含有膜とを有する赤外線カットフィルタ。
＜１７＞
上記銅化合物又は色素含有膜が銅化合物含有膜であり、その膜厚が１０〜３００μｍであり、上記金属酸化物含有膜の膜厚が１０μｍ以下である、＜１６＞に記載の赤外線カットフィルタ。
＜１８＞
上記銅化合物又は色素含有膜の膜厚が１０〜１００μｍである、＜１７＞に記載の赤外線カットフィルタ。
＜１９＞
上記銅化合物又は色素含有膜が色素含有膜であり、その膜厚が０．０５〜１００μｍであり、上記金属酸化物含有膜の膜厚が１０μｍ以下である、＜１６＞に記載の赤外線カットフィルタ。
＜２０＞
上記金属酸化物含有膜の膜厚が５μｍ以下である、＜１７＞〜＜１９＞のいずれか１項に記載の赤外線カットフィルタ。
＜２１＞
＜１＞〜＜１５＞のいずれか１項に記載の赤外線吸収組成物ないしは赤外線吸収組成物キットを用いて形成される赤外線カットフィルタ。
＜２２＞
波長７００ｎｍ〜１０００ｎｍの範囲内に極大吸収波長を有する銅化合物又は色素を含有する組成物を塗布することにより銅化合物又は色素含有膜を形成する工程、及び
波長８００ｎｍ〜２０００ｎｍの範囲内に極大吸収波長を有する金属酸化物を含有する組成物を塗布することにより金属酸化物含有膜を形成する工程
を有する赤外線カットフィルタの製造方法。
＜２３＞
＜１＞〜＜１５＞のいずれか１項に記載の赤外線吸収組成物ないしは赤外線吸収組成物キットを塗布することにより膜を形成する工程を有する、赤外線カットフィルタの製造方法。
＜２４＞
上記塗布がアプリケータ塗布である、＜２２＞又は＜２３＞に記載の赤外線カットフィルタの製造方法。
＜２５＞
固体撮像素子基板と、上記固体撮像素子基板の受光側に配置された赤外線カットフィルタとを有するカメラモジュールであって、上記赤外線カットフィルタが＜１５＞〜＜２１＞のいずれか１項に記載の赤外線カットフィルタである、カメラモジュール。
＜２６＞
固体撮像素子基板と、上記固体撮像素子基板の受光側に配置された赤外線カットフィルタとを有するカメラモジュールの製造方法であって、固体撮像素子基板の受光側において、波長７００ｎｍ〜１０００ｎｍの範囲内に極大吸収波長を有する銅化合物又は色素を含有する組成物を塗布することにより銅化合物又は色素含有膜を形成する工程、及び
波長８００ｎｍ〜２０００ｎｍの範囲内に極大吸収波長を有する金属酸化物を含有する組成物を塗布することにより金属酸化物含有膜を形成する工程
を有する、カメラモジュールの製造方法。
＜２７＞
固体撮像素子基板と、上記固体撮像素子基板の受光側に配置された赤外線カットフィルタとを有するカメラモジュールの製造方法であって、固体撮像素子基板の受光側において、＜１＞〜＜１５＞のいずれか１項に記載の赤外線吸収組成物ないしは赤外線吸収組成物キットを塗布することにより膜を形成する工程を有する、カメラモジュールの製造方法。
本発明によれば、近赤外線遮蔽性、赤外線遮蔽性、並びに耐熱性及び耐湿性に優れる赤外線カットフィルタを製造し得る赤外線吸収組成物ないしは赤外線吸収組成物キット、これを用いた赤外線カットフィルタ及びその製造方法、並びにカメラモジュール及びその製造方法を提供することができる。
本発明の赤外線カットフィルタの概略断面図である。 本発明の実施形態に係る固体撮像素子を備えたカメラモジュールの構成を示す概略断面図である。 本発明の実施形態に係る固体撮像素子基板の概略断面図である。
本明細書に於ける基（原子団）の表記に於いて、置換及び無置換を記していない表記は、置換基を有さないものと共に置換基を有するものをも包含するものである。例えば、「アルキル基」とは、置換基を有さないアルキル基（無置換アルキル基）のみならず、置換基を有するアルキル基（置換アルキル基）をも包含するものである。また、本明細書において、粘度値は２５℃における値を指す。
本発明の赤外線吸収組成物キット（以下、単に「第１の態様」ともいう）としては、波長７００ｎｍ〜１０００ｎｍの範囲内に極大吸収波長を有する銅化合物又は色素を含有する組成物と、波長８００ｎｍ〜２０００ｎｍの範囲内に極大吸収波長を有する金属酸化物を含有する組成物とを含む。
図１は本発明の赤外線カットフィルタの概略断面図である。
本発明の上記赤外線吸収組成物キット（特に、赤外線カットフィルタ形成用の赤外線吸収組成物キットが好ましい）を用いることにより、図１に示したような、波長７００ｎｍ〜１０００ｎｍの範囲内に極大吸収波長を有する銅化合物又は色素を含有する銅化合物又は色素含有膜２と、波長８００ｎｍ〜２０００ｎｍの範囲内に極大吸収波長を有する金属酸化物を含有する金属酸化物含有膜３とを有する赤外線カットフィルタ１を得ることができる。
本発明の上記赤外線吸収組成物キットによれば、銅化合物又は色素を含有する組成物により近赤外線遮光性を有する銅化合物又は色素含有膜２を形成することができ、金属酸化物を含有する組成物により赤外線遮光性を有する金属酸化物含有膜３を形成することができ、これにより近赤外線遮光性及び赤外線遮光性いずれをも有する赤外線カットフィルタ１を得ることができる。
銅化合物又は色素含有膜を固体撮像素子に適用するためには膜厚を薄くすることが好ましいが、近赤外線遮光性を達成するために、銅化合物又は色素含有膜単独では膜厚が厚くなってしまう。
一方、本発明の上記赤外線吸収組成物キットによれば、金属酸化物含有膜３が近赤外線遮光性を一部補え得るため銅化合物又は色素含有膜２の膜厚を薄くすることができる。
また、本発明の赤外線吸収組成物の第２の態様としては、波長７００ｎｍ〜１０００ｎｍの範囲内に極大吸収波長を有する銅化合物又は色素と、波長８００ｎｍ〜２０００ｎｍの範囲内に極大吸収波長を有する金属酸化物とを含有する赤外線吸収組成物（特に、赤外線カットフィルタ形成用の赤外線吸収組成物が好ましい）であってもよい。
上記銅化合物又は色素及び上記金属酸化物における吸収極大波長は、銅化合物若しくは色素、又は、金属酸化物を溶液全量に対して固形分２０質量％に調製した溶液を塗工することにより得られる膜厚１μｍの膜を、分光光度計を用いて得られる値に準ずる。
なお、固形分には溶媒は含まれず、固形分とは膜を形成する材料を意図する。
本発明の赤外線吸収組成物は、上記第１及び第２のいずれの態様によっても、波長７００ｎｍ〜１０００ｎｍの範囲内に極大吸収波長を有する銅化合物又は色素と、波長８００ｎｍ〜２０００ｎｍの範囲内に極大吸収波長を有する金属酸化物とを使用することにより、波長７００ｎｍ付近の近赤外線も含めた赤外線に対する遮蔽性が高い赤外線カットフィルタを形成できるものと考えられる。また、波長８００ｎｍ〜２０００ｎｍの範囲内に極大吸収波長を有する化合物として、金属酸化物を用いているので、詳細な理由は定かではないが、可視光線に対する透過性が良好であるとともに、耐熱性及び耐湿性に優れる赤外線カットフィルタを形成できるものと考えられる。
以下、この組成物の構成を説明する。
以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に限定されるものではない。なお、本明細書において「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む範囲を意味する。
なお、本明細書において、“（メタ）アクリレート”はアクリレート及びメタアクリレートを表し、“（メタ）アクリルはアクリル及びメタアクリルを表し、“（メタ）アクリロイル”は、アクリロイル及びメタクリロイルを表す。また、本明細書中において、“単量体”と“モノマー”とは同義である。本発明における単量体は、オリゴマー及びポリマーと区別され、質量平均分子量が２，０００以下の化合物をいう。本明細書中において、重合性化合物とは、重合性基を有する化合物のことをいい、単量体であっても、ポリマーであってもよい。重合性基とは、重合反応に関与する基を言う。
［１］波長７００ｎｍ〜１０００ｎｍの範囲内に極大吸収波長を有する銅化合物又は色素
本発明は、波長７００ｎｍ〜１０００ｎｍの範囲内に極大吸収波長を有する銅化合物又は色素を使用するものであるが、波長７００ｎｍ〜１０００ｎｍの範囲内に極大吸収波長を有する銅化合物であることが好ましい。
本発明で用いる銅化合物は、波長７００ｎｍ〜１０００ｎｍの範囲内（近赤外線領域）に極大吸収波長を有する銅化合物であれば特に制限はないが、銅化合物は銅錯体であることが好ましい。
本発明で用いる銅錯体は、下記一般式（１）で表されることが好ましく、リン含有銅錯体またはスルホン酸銅錯体であることがより好ましい。
Ｃｕ（Ｌ）ｎ１・（Ｘ）ｎ２ 一般式（１）
（上記一般式（１）中、
Ｌは、銅に配位する配位子を表し、
Ｘは、存在しないか、ハロゲン原子、Ｈ２Ｏ、ＮＯ３、ＣｌＯ４、ＳＯ４、ＣＮ、ＳＣＮ、ＢＦ４、ＰＦ６、ＢＰｈ４（Ｐｈはフェニル基を表す）又はアルコールを表す。
ｎ１及びｎ２は、各々独立に、１〜４の整数を表す。）
銅に配位する配位子Ｌとしては銅イオンと配位結合可能であれば特に限定されないが、好ましくは銅に配位可能な原子としてＣ、Ｎ、Ｏ、および／またはＳを含む置換基を有するものであり、さらに好ましくはＮやＯ、Ｓなどの孤立電子対を持つ基を有するものである。
配位子Ｌを形成する化合物としては、例えば、スルホン酸、リン酸、リン酸エステル、ホスホン酸、ホスホン酸エステル、ホスフィン酸、カルボン酸、カルボニル（エステル、ケトン）、アミン、アミド、スルホンアミド、ウレタン、ウレア、アルコール、チオールなどを有する化合物が挙げられる。これらの中でも、スルホン酸、リン酸、リン酸エステル、ホスホン酸、ホスホン酸エステル、ホスフィン酸が好ましい。
また、配位可能な基は分子内に１種類に限定されず、２種以上を含んでもよく、解離しても非解離でもよい。非解離の場合、Ｘは存在しない。
赤外線吸収物質としての銅錯体は、中心金属の銅に配位子が配位した銅錯体（銅化合物）の形態となっている。本発明の銅錯体における銅は２価の銅であり、例えば、銅成分と配位子とが反応して生成し得る。よって、「銅と配位子とを含有する赤外線吸収組成物」であれば、組成物中で銅錯体を形成していることが予見される。
配位子Ｌとなる化合物またはその塩として、上記に一例を示したが、例えば、有機酸化合物（例えば、スルホン酸化合物、カルボン酸化合物、リン酸化合物）またはその塩などが好適に挙げられる。
上記配位子となる化合物またはその塩は、酸基またはその塩を含有する化合物が好ましく、下記一般式（ｉｉ）で表される化合物が好ましい。
（一般式（ｉｉ）中、Ｒ１はｎ価（１〜６価）の有機基を表し、Ｘ１は酸基を表し、ｎ３は１〜６の整数を表す。）
一般式（ｉｉ）中、ｎ価の有機基は、炭化水素基またはオキシアルキレン基が好ましく、脂肪族炭化水素基または芳香族炭化水素基がより好ましい。炭化水素基は、置換基を有していてもよく、置換基としては、アルキル基、ハロゲン原子（好ましくはフッ素原子）、重合性基（例えば、ビニル基、（メタ）アクリロイル基、エポキシ基、オキセタン基など）、スルホン酸基、カルボン酸基、リン原子を含有する酸基、カルボン酸エステル基（例えば−ＣＯ２ＣＨ３）、水酸基、アルコキシ基（例えばメトキシ基）、アミノ基、カルバモイル基、カルバモイルオキシ基、ハロゲン化アルキル基（例えばフルオロアルキル基、クロロアルキル基）等が挙げられる。炭化水素基が置換基を有する場合、さらに置換基を有していてもよく、置換基としてはアルキル基、上記重合性基、ハロゲン原子等が挙げられる。
上記炭化水素基が１価の場合、アルキル基、アルケニル基またはアリール基が好ましく、アリール基がより好ましい。炭化水素基が２価の場合、アルキレン基、アリーレン基、オキシアルキレン基が好ましく、アリーレン基がより好ましい。炭化水素基が３価以上の場合には、上記１価の炭化水素基または２価の炭化水素基に対応するものが好ましい。
アルキル基及びアルキレン基は、直鎖状、分岐状または環状のいずれであってもよい。直鎖状のアルキル基及びアルキレン基の炭素数は、１〜２０が好ましく、１〜１２がより好ましく、１〜８がさらに好ましい。分岐状のアルキル基及びアルキレン基の炭素数は、３〜２０が好ましく、３〜１２がより好ましく、３〜８がさらに好ましい。環状のアルキル基及びアルキレン基は、単環、多環のいずれであってもよい。環状のアルキル基及びアルキレン基の炭素数は、３〜２０が好ましく、４〜１０がより好ましく、６〜１０がさらに好ましい。
アルケニル基及びアルケニレン基の炭素数は、２〜１０が好ましく、２〜８がより好ましく、２〜４がさらに好ましい。
アリール基及びアリーレン基の炭素数は、６〜１８が好ましく、６〜１４１２がより好ましく、６〜１０がさらに好ましい。
一般式（ｉｉ）中、Ｘ１は、スルホン酸基、カルボン酸基およびリン原子を含有する酸基から選択される少なくとも１種であることが好ましい。Ｘ１は、１種単独でも２種以上であってもよいが、２種以上であることが好ましい。
一般式（ｉｉ）中、ｎ３は、１〜３が好ましく、２または３がより好ましく、３がさらに好ましい。
上記配位子となる化合物またはその塩（酸基またはその塩を含有する化合物）の分子量は、１０００以下が好ましく、８０〜７５０７０〜１０００が好ましく、８０〜６００７０〜５００がより好ましい。
本発明で用いる配位子Ｌを形成する化合物の好適態様の一つとしてはスルホン酸化合物であることが好ましい。つまり、上記銅錯体が、スルホン酸銅錯体であることが好ましい。本発明で用いられるスルホン酸銅錯体は、銅を中心金属としスルホン酸化合物を配位子とするものである。
上記スルホン酸化合物としては、下記一般式（ｉｉｉ）で表される化合物がより好ましい。
（一般式（ｉｉｉ）中、Ｒ２は１価の有機基を表す。）
一般式（ｉｉｉ）で表されるスルホン酸およびその塩は、銅に配位する配位子として作用する。
一般式（ｉｉｉ）中のＲ２の具体的な１価の有機基としては、炭化水素基を挙げることができ、具体的には直鎖状、分岐状または環状のアルキル基、アルケニル基、アリール基等を挙げることができる。これらの基は、２価の連結基（例えば、直鎖状または分岐状のアルキレン基、環状のアルキレン基、アリーレン基、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＳＯ２−、−ＮＲ−（Ｒは水素原子あるいはアルキル基）など）を介した基であってもよい。
直鎖状のアルキル基、分岐状のアルキル基、環状のアルキル基、アルケニル基およびアリール基の炭素数は、上述した一般式（ｉｉ）中のＲ１における説明と同義であり、好ましい範囲も同様である。
１価の有機基は置換基を有していてもよく、置換基としては上述した一般式（ｉｉ）中のＲ１が有していてもよい置換基が挙げられる。直鎖状のアルキル基および分岐状のアルキル基が有していてもよい置換基としては、ハロゲン原子、重合性基およびカルボン酸基の少なくとも１種が挙げられる。アリール基が有していてもよい置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン化アルキル基、ハロゲン原子、重合性基、スルホン酸基、カルボン酸基およびカルボン酸メチル基の少なくとも１種が挙げられ、スルホン酸基およびカルボン酸基の少なくとも１種が好ましい。
２価の連結基である直鎖状または分岐状のアルキレン基、環状のアルキレン基、アリーレン基としては、前述の直鎖状、分岐状または環状のアルキル基、アリール基から水素原子を１個除いて誘導される２価の連結基が挙げられる。
一般式（ｉｉｉ）で表される化合物の分子量は、８０〜７５０が好ましく、８０〜６００がより好ましく、８０〜４５０がさらに好ましい。
また、本発明のスルホン酸銅錯体は、下記一般式（ｉｖ）で表される構造を含有する。
（一般式（ｉｖ）中、Ｒ３は、１価の有機基を示す。「＊」は、銅と配位結合する部位を示す。）
一般式（ｉｖ）中、Ｒ３は、一般式（ｉｉｉ）中におけるＲ２と同義であり、好ましい範囲も同様である。
一般式（ｉｉｉ）で表されるスルホン酸化合物の具体例を以下に示すが、これらに限定されるものではない。
本発明に用いられるスルホン酸銅錯体は、銅成分に対して、配位子となるスルホン酸化合物またはその塩とを反応させることにより得ることができる。
銅成分としては、銅または銅を含む化合物を用いることができる。銅を含む化合物としては、例えば、酸化銅や銅塩を用いることができる。銅塩は、１価または２価の銅が好ましく、２価の銅がより好ましい。銅塩としては、酢酸銅、塩化銅、ギ酸銅、ステアリン酸銅、安息香酸銅、エチルアセト酢酸銅、ピロリン酸銅、ナフテン酸銅、クエン酸銅、硝酸銅、硫酸銅、炭酸銅、塩素酸銅、（メタ）アクリル酸銅、過塩素酸銅がより好ましく、酢酸銅、塩化銅、硫酸銅、安息香酸銅、（メタ）アクリル酸銅がさらに好ましい。
本発明に用いられるスルホン酸化合物は、市販のスルホン酸を用いることもできるし、公知の方法を参照して、合成することもできる。スルホン酸化合物の塩としては、例えば金属塩が好ましく、具体的には、ナトリウム塩、カリウム塩等が挙げられる。
銅成分と、上述したスルホン酸化合物またはその塩とを反応させる際の反応比率としては、モル比率で１：１．５〜１：４とすることが好ましい。この際、スルホン酸化合物またはその塩は、１種類でもよいし、２種類以上を用いてもよい。
また、銅成分と、上述したスルホン酸化合物またはその塩とを反応させる際の反応条件は、例えば、２０〜５０℃で、０．５時間以上とすることが好ましい。
本発明のスルホン酸銅錯体の極大吸収波長およびグラム吸光度については、上述したリン含有銅錯体と同義であり、好ましい範囲も同様である。
本発明で用いられる銅錯体としては、上述したもの以外に、カルボン酸を配位子とする銅錯体を用いてもよい。なお、本発明がこれに限定されるものではない。カルボン酸を配位子とする銅錯体に用いられるカルボン酸としては、例えば、下記一般式（ｖ）で表される化合物が好ましい。
（一般式（ｖ）中、Ｒ４は１価の有機基を表す。）
一般式（ｖ）中、Ｒ４は１価の有機基を表す。１価の有機基は、特に限定されないが、上述した一般式（ｉｉｉ）中の１価の有機基Ｒ２と同義であり、その好ましい範囲も同様である。
本発明で用いる配位子Ｌを形成する化合物の好適態様の一つとしてはリン化合物（リン含有化合物）であることが好ましく、下記一般式（２）で表される化合物がより好ましい。
一般式（２）
（ＨＯ）ｎ−Ｐ（＝Ｏ）−（Ｒ）３−ｎ
上記一般式（２）中、Ｒは炭素数１〜１８のアルキル基、炭素数６〜１８のアリール基、炭素数１〜１８のアラルキル基、炭素数１〜１８のアルケニル基、炭素数４〜１００のポリオキシアルキル基、炭素数４〜１００の（メタ）アクリロイルオキシアルキル基、炭素数４〜１００の（メタ）アクリロイルポリオキシアルキル基、または、それらの置換基（Ｒ）が酸素原子を介してＰ原子と結合している置換基（−ＯＲ’）を表し、ｎは１または２を表す。上記ポリオキシアルキル基、（メタ）アクリロイルオキシアルキル基、（メタ）アクリロイルポリオキシアルキル基の炭素数は、それぞれ、４〜２０であることが好ましく、４〜１０であることがより好ましい。
ｎが１のとき、Ｒはそれぞれ同一でもよいし、異なっていてもよい。
また上記置換基（Ｒ）は、少なくとも一つの水素原子が、ハロゲン原子、オキシアルキル基、ポリオキシアルキル基、オキシアリール基、アシル基、カルボキシル基、（メタ）アクリロイル基、（メタ）アクリロイルオキシアルキル基、アルカノイルオキシ基、アルコキシカルボニル基、又は、これらを組み合わせた基で置換されていてもよい。
本発明では、ｎが１のとき、Ｒの一方は、酸素原子を介してＰ原子と連結している置換基（−ＯＲ’）であって、酸素原子に結合している置換基（Ｒ’）が炭素数１〜１８のアルキル基、炭素数６〜１８のアリール基、炭素数１〜１８のアラルキル基、炭素数１〜１８のアルケニル基、炭素数４〜１００の（メタ）アクリロイルオキシアルキル基、または、炭素数４〜１００の（メタ）アクリロイルポリオキシアルキル基であることが好ましい。
本発明で用いるリン酸エステル化合物の分子量は、３００〜１５００であることが好ましく、３２０〜９００であることがより好ましい。
赤外線吸収物質としてリン酸エステル銅錯体は中心金属の銅にリン酸エステルが配位した銅錯体（銅化合物）の形態となっている。リン酸エステル銅錯体における銅は２価の銅であり、例えば、銅塩とリン酸エステルとが反応して生成し得る。よって、「銅とリン酸エステル化合物とを含有する赤外線吸収組成物」であれば、組成物中でリン酸銅錯体を形成していることが予見される。
配位子を形成する化合物の具体例としては、下記例示化合物（Ａ−１）〜(Ａ−１２２）が挙げられる。
また、配位子を形成するリン含有化合物として、具体的にはＷＯ２００５／０３０８９８号公報の第５頁第２７行目〜第７頁第２０行目に記載された化合物や特開２００２−６９３０５の００２７〜００５６欄に開示の化合物を参酌することができ、これらの内容は本願明細書に組み込まれる。
配位子を形成する化合物の合成方法としては、公知の方法を参照にして合成することができる。例えば、下記リン酸エステルは、２，４−ジメチルペンタノールのテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）溶液にトリエチルアミンを添加し０℃で５分間攪拌を行い、オキシ塩化リンを滴下後、室温で６時間攪拌することで反応を終了させる。反応終了後、温度が３０℃以上上昇しないように、反応液を水でデカンテーションし、クロロホルム／水で分液を行い、有機層の溶剤を留去することで下記リン酸エステルを得ることができる。
また、リン酸エステル銅化合物の合成においては、市販品として、例えばホスマーＭ、ホスマーＰＥ、ホスマーＰＰ（ユニケミカル（株）製）等のホスホン酸を用いてもよい。
ここで用いる銅塩は、２価または３価の銅が好ましく、２価の銅がより好ましい。銅塩としては、酢酸銅、塩化銅、ギ酸銅、ステアリン酸銅、安息香酸銅、エチルアセト酢酸銅、ピロリン酸銅、ナフテン酸銅、クエン酸銅、硝酸銅、硫酸銅、炭酸銅、塩素酸銅、（メタ）アクリル酸銅がより好ましく、安息香酸銅、（メタ）アクリル酸銅がさらに好ましい。なお、これらの銅塩は、近赤外線吸収物質の銅化合物として使用することもできる。
本発明で用いられる銅錯体の具体例としては、銅が二価の銅であり、配位子としては上述したＡ−１〜Ａ−１２２のいずれか２つが配位した銅錯体が好ましく用いられる。本発明がこれらに限定されるものではないことは言うまでもない。
本発明の組成物は、波長７００ｎｍ〜１０００ｎｍの範囲内に極大吸収波長を有する色素を含有するものであってもよい。
色素としては、波長７００ｎｍ〜１０００ｎｍの範囲内に極大吸収波長（λｍａｘ）を有すれば特に限定されないが、シアニン色素、フタロシアニン色素、クアテリレン色素、アミニウム色素、イミニウム色素、アゾ色素、アンスラキノン色素、ジイモニウム色素、スクアリリウム色素、又は、ポルフィリン色素などを好適に挙げることができる。その中でも好ましくは、シアニン色素、フタロシアニン色素、クアテリレン色素が挙げられ、より好ましくは、フタロシアニン色素が挙げられる。
極大吸収波長が７００ｎｍ未満、又は、極大吸収波長が１０００ｎｍ超過であると、波長７００ｎｍ付近の近赤外線に対する遮蔽性が低く、満足の行く結果が得られない。
シアニン系染料、クアテリレン系色素の具体例としては特開２０１２−２１５８０６号公報の段落０１６０、特開２００８−００９２０６号公報の段落００２１等に記載の化合物が挙げられ、これらの内容は本願明細書に組み込まれる。
フタロシアニン化合物の具体例としては、特開２０００−２６７４８号公報、特開２０００−６３６９１号公報、特開２００１−１０６６８９号公報の特許請求の範囲及び段落０１１１、特開２００４−１８５６１号公報の特許請求の範囲及び段落００６３〜００７１、特開２００５−２２００６０号公報の特許請求の範囲及び段落００４５〜００６２、特開２００７−１６９３４３号公報の特許請求の範囲に記載の化合物が挙げられ、これらの公報に記載の方法に従って合成することができる。
アゾ色素、アンスラキノン色素（アントラキノン化合物）、スクアリリウム系色素（スクアリリウム化合物）の具体例としては特開２０１２−２１５８０６号公報の段落０１１４〜０１１７、０１２８、０１２９、０１７７等に記載の化合物が挙げられる。
上記色素は市販品としても入手可能であり、例えば、シアニン色素としてはＤａｉｔｏ ｃｈｍｉｘ １３７１Ｆ（ダイトーケミックス社製）、クアテリレン色素としてはＬｕｍｏｇｅｎ ＩＲ７６５（ＢＡＳＦ社製）、フタロシアニン色素としてはＥｘｃｏｌｏｒシリーズ、Ｅｘｃｏｌｏｒ ＴＸ−ＥＸ ７２０、同７０８Ｋ、（日本触媒製）などが挙げられる。また、例えば、Ｌｕｍｏｇｅｎ ＩＲ７８８（ＢＡＳＦ製）；ＡＢＳ６４３、ＡＢＳ６５４、ＡＢＳ６６７、ＡＢＳ６７０Ｔ、ＩＲＡ６９３Ｎ、ＩＲＡ７３５（Ｅｘｃｉｔｏｎ製）；ＳＤＡ３５９８、ＳＤＡ６０７５、ＳＤＡ８０３０、ＳＤＡ８３０３、ＳＤＡ８４７０、ＳＤＡ３０３９、ＳＤＡ３０４０、ＳＤＡ３９２２、ＳＤＡ７２５７（Ｈ．Ｗ．ＳＡＮＤＳ製）；ＴＡＰ−１５、ＩＲ−７０６（山田化学工業製）；などを挙げることができるがこれに限定されるものではない。
上記色素は微粒子であることが好ましい。色素の平均粒子径は、８００ｎｍ以下であることが好ましく、４００ｎｍ以下であることがより好ましく、２００ｎｍ以下であることが更に好ましい。平均粒子径がこのような範囲であることによって、色素が光散乱によって可視光を遮断しにくくなることから、可視光領域における透光性をより確実にすることができる。光酸乱を回避する観点からは、平均粒子径は小さいほど好ましいが、製造時における取り扱い容易性などの理由から、色素の平均粒子径は、通常、１ｎｍ以上である。
本発明の第１の態様において、銅化合物の含有量は、第１の態様における銅化合物を含有する組成物の全固形分に対し、２０〜９０質量％が好ましく、３０〜９０質量％がより好ましく、３５〜８０質量％がさらに好ましく、４０〜８０質量％が特に好ましく、５０〜８０質量％が最も好ましい。
本発明の第１の態様において、色素の含有量は、第１の態様における色素を含有する組成物の全固形分に対し、１〜２０質量％であることが好ましく、３〜２０質量％であることがより好ましく、３〜１０質量％であることが更に好ましい。
第２の態様における銅化合物及び金属酸化物のいずれをも含有する組成物において、上記銅化合物の含有量は、上記組成物の全固形分質量に対して、２０〜９０質量％が好ましく、３０〜９０質量％がより好ましく、３５〜８０質量％がさらに好ましく、４０〜８０質量％が特に好ましく、５０〜８０質量％が最も好ましい。
一方、第２の態様における色素及び金属酸化物のいずれをも含有する組成物において、上記色素の含有量は、上記組成物の全固形分質量に対して、１〜２０質量％であることが好ましく、３〜２０質量％であることがより好ましく、３〜１０質量％であることが更に好ましい。
特に銅化合物を使用する場合、高い含有量で含有させることができるので、銅化合物含有膜を薄膜化することができるというメリットがある。
銅化合物又は色素は、１種類のみでも、２種類以上でもよく、２種類以上の場合は、合計量が上記範囲となる。
なお、上記固形分には溶媒は含まれず、固形分とは膜を形成する材料を意図する。
［２］波長８００ｎｍ〜２０００ｎｍの範囲内に極大吸収波長を有する金属酸化物
本発明の赤外線吸収組成物において使用される金属酸化物は、波長８００ｎｍ〜２０００ｎｍの範囲内に極大吸収波長（λｍａｘ）を有すれば特に限定されないが、例えば、酸化タングステン系化合物（タングステンを含有する酸化物）を好適に挙げることができる。
酸化タングステン系化合物は、赤外線（特に波長が約８００〜１２００ｎｍの光）に対しては吸収が高く（すなわち、赤外線に対する遮光性（遮蔽性）が高く）、可視光に対しては吸収が低い赤外線遮蔽材である。よって、本発明の組成物が、酸化タングステン系化合物を含有することにより、赤外領域における遮光性（赤外線遮蔽性）が高く、可視光領域における透光性（可視光線透過性）が高い赤外線カットフィルタを製造できる。
酸化タングステン系化合物としては、下記一般式（組成式）（Ｉ）で表される酸化タングステン系化合物であることがより好ましい。
ＭｘＷｙＯｚ・・・（Ｉ）
Ｍは金属、Ｗはタングステン、Ｏは酸素を表す。
０．００１≦ｘ／ｙ≦１．１
２．２≦ｚ／ｙ≦３．０
Ｍの金属としては、アルカリ金属、アルカリ土類金属、Ｍｇ、Ｚｒ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｒｕ、Ｃｏ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｎｉ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｔｌ、Ｓｎ、Ｐｂ、Ｔｉ、Ｎｂ、Ｖ、Ｍｏ、Ｔａ、Ｒｅ、Ｂｅ、Ｈｆ、Ｏｓ、Ｂｉが挙げられる。Ｍの金属は１種でも２種以上でもよい。
Ｍはアルカリ金属であることが好ましく、Ｒｂ又はＣｓであることが好ましく、Ｃｓであることがより好ましい。
すなわち、金属酸化物は、セシウム酸化タングステンであることがより好ましい。
ｘ／ｙが０．００１以上であることにより、赤外線を十分に遮蔽することができ、１．１以下であることにより、酸化タングステン系化合物中に不純物相が生成されることをより確実に回避することできる。
ｚ／ｙが２．２以上であることにより、材料としての化学的安定性をより向上させることができ、３．０以下であることにより赤外線を十分に遮蔽することができる。
上記一般式（Ｉ）で表される酸化タングステン系化合物の具体例としては、Ｃｓ０．３３ＷＯ３、Ｒｂ０．３３ＷＯ３、Ｋ０．３３ＷＯ３、Ｂａ０．３３ＷＯ３などを挙げることができ、Ｃｓ０．３３ＷＯ３又はＲｂ０．３３ＷＯ３であることが好ましく、Ｃｓ０．３３ＷＯ３であることが更に好ましい。
金属酸化物は微粒子であることが好ましい。金属酸化物の平均粒子径は、８００ｎｍ以下であることが好ましく、４００ｎｍ以下であることがより好ましく、２００ｎｍ以下であることが更に好ましい。平均粒子径がこのような範囲であることによって、金属酸化物が光散乱によって可視光を遮断しにくくなることから、可視光領域における透光性をより確実にすることができる。光酸乱を回避する観点からは、平均粒子径は小さいほど好ましいが、製造時における取り扱い容易性などの理由から、金属酸化物の平均粒子径は、通常、１ｎｍ以上である。
金属酸化物の含有量は、第１の態様における金属酸化物を含有する組成物の全固形分質量に対して、１〜５０質量％であることが好ましく、３〜４０質量％であることがより好ましく、５〜３０質量％であることがさらに好ましい。
第２の態様における銅化合物及び金属酸化物のいずれをも含有する組成物において、上記金属酸化物の含有量は、上記組成物の全固形分質量に対して、０．００１〜５質量％であることが好ましく、０．０１〜３質量％であることがより好ましく、０．１〜３質量％であることがさらに好ましい。
一方、第２の態様における色素及び金属酸化物のいずれをも含有する組成物において、上記金属酸化物の含有量は、上記組成物の全固形分質量に対して、２０〜８５質量％であることが好ましく、３０〜８０質量％であることがより好ましく、４０〜７５質量％であることがさらに好ましい。
また、酸化タングステン系化合物等の金属酸化物は２種以上を使用することが可能である。
金属酸化物は市販品として入手可能であるが、金属酸化物が、例えば酸化タングステン系化合物である場合、酸化タングステン系化合物は、タングステン化合物を不活性ガス雰囲気若しくは還元性ガス雰囲気中で熱処理する方法により得ることができる（特許４０９６２０５号参照）。
また、酸化タングステン系化合物は、例えば、住友金属鉱山株式会社製のＹＭＦ−０２などのタングステン微粒子の分散物としても、入手可能である。
本発明の効果をより確実に発現できるという観点から、上記銅化合物に対する上記金属酸化物の質量比（［金属酸化物の含有量］／［銅化合物の含有量］）は、０．０００１〜０．５であることが好ましく、０．００１〜０．５であることがより好ましく、０．００１〜０．１であることが更に好ましい。
第２の態様における色素及び金属酸化物のいずれをも含有する組成物において、本発明の効果をより確実に発現できるという観点から、上記色素に対する上記金属酸化物の質量比（［金属酸化物の含有量］／［色素の含有量］）は、５〜５０であることが好ましく、１０〜４０であることがより好ましい。
［３］重合性化合物
本発明の赤外線吸収組成物ないしは赤外線吸収組成物キット（第１の態様における銅化合物又は色素を含有する組成物、金属酸化物を含有する組成物、又は第２の態様における銅化合物若しくは色素、及び、金属酸化物を含有する組成物、以下同様。）は、重合性化合物の少なくとも一種を含有することによって好適に構成することができる。
重合性化合物として、「分子内に２個以上のエポキシ基又はオキセタニル基を有する化合物」を使用することが好ましい。
−分子内に２個以上のエポキシ基（オキシラニル基）又はオキセタニル基を有する化合物−
重合性化合物としての分子内に２個以上のエポキシ基を有する化合物の具体例としては、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、脂肪族エポキシ樹脂等を挙げることができる。
これらは市販品として入手できる。例えば、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂としては、ＪＥＲ−８２７、ＪＥＲ−８２８、ＪＥＲ−８３４、ＪＥＲ−１００１、ＪＥＲ−１００２、ＪＥＲ−１００３、ＪＥＲ−１０５５、ＪＥＲ−１００７、ＪＥＲ−１００９、ＪＥＲ−１０１０（以上、三菱化学（株）製）、ＥＰＩＣＬＯＮ８６０、ＥＰＩＣＬＯＮ１０５０、ＥＰＩＣＬＯＮ１０５１、ＥＰＩＣＬＯＮ１０５５（以上、ＤＩＣ（株）製）等であり、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂としては、ＪＥＲ−８０６、ＪＥＲ−８０７、ＪＥＲ−４００４、ＪＥＲ−４００５、ＪＥＲ−４００７、ＪＥＲ−４０１０（以上、三菱化学（株）製）、ＥＰＩＣＬＯＮ８３０、ＥＰＩＣＬＯＮ８３５（以上、ＤＩＣ（株）製）、ＬＣＥ−２１、ＲＥ−６０２Ｓ（以上、日本化薬（株）製）等であり、フェノールノボラック型エポキシ樹脂としては、ＪＥＲ−１５２、ＪＥＲ−１５４、ＪＥＲ−１５７Ｓ７０、ＪＥＲ−１５７Ｓ６５、（以上、三菱化学（株）製）、ＥＰＩＣＬＯＮ Ｎ−７４０、ＥＰＩＣＬＯＮ Ｎ−７４０、ＥＰＩＣＬＯＮ Ｎ−７７０、ＥＰＩＣＬＯＮ Ｎ−７７５（以上、ＤＩＣ（株）製）等であり、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂としては、ＥＰＩＣＬＯＮ Ｎ−６６０、ＥＰＩＣＬＯＮ Ｎ−６６５、ＥＰＩＣＬＯＮ Ｎ−６７０、ＥＰＩＣＬＯＮ Ｎ−６７３、ＥＰＩＣＬＯＮ Ｎ−６８０、ＥＰＩＣＬＯＮ Ｎ−６９０、ＥＰＩＣＬＯＮ Ｎ−６９５（以上、ＤＩＣ（株）製）、ＥＯＣＮ−１０２０（以上、日本化薬（株）製）等であり、脂肪族エポキシ樹脂としては、ＡＤＥＫＡ ＲＥＳＩＮ ＥＰ−４０８０Ｓ、同ＥＰ−４０８５Ｓ、同ＥＰ−４０８８Ｓ（以上、（株）ＡＤＥＫＡ製）セロキサイド２０２１Ｐ、セロキサイド２０８１、セロキサイド２０８３、セロキサイド２０８５、ＥＨＰＥ−３１５０、ＥＰＯＬＥＡＤ ＰＢ ３６００、同ＰＢ ４７００（以上、ダイセル化学工業（株）製）、デナコール ＥＸ−２１１Ｌ、ＥＸ−２１２Ｌ、ＥＸ−２１４Ｌ、ＥＸ−２１６Ｌ、ＥＸ−３２１Ｌ、ＥＸ−８５０Ｌ（以上、ナガセケムテックス（株）製）等である。その他にも、ＡＤＥＫＡ ＲＥＳＩＮ ＥＰ−４０００Ｓ、同ＥＰ−４００３Ｓ、同ＥＰ−４０１０Ｓ、同ＥＰ−４０１１Ｓ（以上、（株）ＡＤＥＫＡ製）、ＮＣ−２０００、ＮＣ−３０００、ＮＣ−７３００、ＸＤ−１０００、ＥＰＰＮ−５０１、ＥＰＰＮ−５０２（以上、（株）ＡＤＥＫＡ製）、ＪＥＲ−１０３１Ｓ（三菱化学（株）製）等が挙げられる。
これらは１種単独又は２種以上を組み合わせて使用することができる。
分子内に２個以上のオキセタニル基を有する化合物の具体例としては、アロンオキセタンＯＸＴ−１２１、ＯＸＴ−２２１、ＯＸ−ＳＱ、ＰＮＯＸ（以上、東亞合成（株）製）を用いることができる。
また、オキセタニル基を含む化合物は、単独で又はエポキシ基を含む化合物と混合して使用することが好ましい。
上記重合性化合物として、具体的には、末端エチレン性不飽和結合を少なくとも１個、好ましくは２個以上有する化合物から選ばれる。本発明における重合性化合物は一種単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。特に、上述の分子内に２個以上のエポキシ基又はオキセタニル基を有する化合物及び末端エチレン性不飽和結合を少なくとも１個、好ましくは２個以上有する化合物のいずれか単独で用いてもよいし、上述の分子内に２個以上のエポキシ基又はオキセタニル基を有する化合物と、末端エチレン性不飽和結合を少なくとも１個、好ましくは２個以上有する化合物とを併用してもよい。
末端エチレン性不飽和結合を少なくとも１個、好ましくは２個以上有する化合物について、具体的には、モノマー及びそのプレポリマーの例としては、不飽和カルボン酸（例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸など）やそのエステル類、アミド類、並びにこれらの多量体が挙げられ、好ましくは、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アルコール化合物とのエステル、及び不飽和カルボン酸と脂肪族多価アミン化合物とのアミド類、並びにこれらの多量体である。
また、ヒドロキシル基やアミノ基、メルカプト基等の求核性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル或いはアミド類と、単官能若しくは多官能イソシアネート類或いはエポキシ類との付加反応物や、単官能若しくは多官能のカルボン酸との脱水縮合反応物等も好適に使用される。また、イソシアネート基やエポキシ基等の親電子性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル或いはアミド類と、単官能若しくは多官能のアルコール類、アミン類、チオール類との付加反応物、更に、ハロゲン基やトシルオキシ基等の脱離性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル或いはアミド類と、単官能若しくは多官能のアルコール類、アミン類、チオール類との置換反応物も好適である。また、別の例として、上記の不飽和カルボン酸の代わりに、不飽和ホスホン酸、スチレン等のビニルベンゼン誘導体、ビニルエーテル、アリルエーテル等に置き換えた化合物群を使用することも可能である。
これらの具体的な化合物としては、特開２００９−２８８７０５号公報の段落００９５〜段落０１０８に記載されている化合物を本発明においても好適に用いることができる。
また、重合性化合物としては、重合性モノマーとして、少なくとも１個の付加重合可能なエチレン基を有する、常圧下で１００℃以上の沸点を持つエチレン性不飽和基を持つ化合物も好ましい。その例としては、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、等の単官能のアクリレートやメタアクリレート；ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオール（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（アクリロイルオキシプロピル）エーテル、トリ（アクリロイロキシエチル）イソシアヌレート、グリセリンやトリメチロールエタン等の多官能アルコールにエチレンオキサイドやプロピレンオキサイドを付加させた後（メタ）アクリレート化したもの、特開昭４８−６４１８３号、特公昭４９−４３１９１号公報の第８及び９欄等、特公昭５２−３０４９０号公報の第５〜８欄等に記載されているポリエステルアクリレート類、エポキシ樹脂と（メタ）アクリル酸との反応生成物であるエポキシアクリレート類等の多官能のアクリレートやメタアクリレート及びこれらの混合物を挙げることができる。
多官能カルボン酸にグリシジル（メタ）アクリレート等の環状エーテル基とエチレン性不飽和基を有する化合物を反応させ得られる多官能（メタ）アクリレートなども挙げることができる。
また、その他の好ましい重合性化合物として、特開２０１０−１６０４１８号公報の段落００４３〜００４８、特開２０１０−１２９８２５号公報の段落００４１、特許４３６４２１６等に記載される、フルオレン環を有し、エチレン性重合性基を２官能以上有する化合物、カルド樹脂も使用することが可能である。
また、常圧下で１００℃以上の沸点を有し、少なくとも一つの付加重合可能なエチレン性不飽和基を持つ化合物としては、特開２００８−２９２９７０号公報の段落０２５４〜０２５７に記載の化合物も好適である。
上記のほか、特開２０１２−２１５８０６号公報の段落０２９７〜０３００に記載の一般式（ＭＯ−１）〜（ＭＯ−５）で表される、ラジカル重合性モノマーも好適に用いることができる。
上記一般式（ＭＯ−１）〜（ＭＯ−５）で表される、ラジカル重合性モノマーの具体例としては、特開２００７−２６９７７９号公報の段落０２４８〜０２５１に記載されている化合物も本発明においても好適に用いることができる。
また、特開平１０−６２９８６号公報において一般式（１）及び（２）としてその具体例と共に記載の、多官能アルコールにエチレンオキサイドやプロピレンオキサイドを付加させた後に（メタ）アクリレート化した化合物も、重合性化合物として用いることができる。
中でも、重合性化合物としては、ＭＸ−ＲＤ−Ｆ８（日本触媒社製）、ペンタエリスリトールテトラアクリレート（新中村化学製、Ａ−ＴＭＭＴ）、ジペンタエリスリトールトリアクリレート（市販品としては ＫＡＹＡＲＡＤ Ｄ−３３０；日本化薬株式会社製）、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート（市販品としては ＫＡＹＡＲＡＤ Ｄ−３２０；日本化薬株式会社製）ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート（市販品としては ＫＡＹＡＲＡＤ Ｄ−３１０；日本化薬株式会社製）、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート（市販品としては ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ ；日本化薬株式会社製）、及びこれらの（メタ）アクリロイル基がエチレングリコール、プロピレングリコール残基を介している構造が好ましい。これらのオリゴマータイプも使用できる。
重合性化合物としては、多官能モノマーであって、カルボキシル基、スルホン酸基、リン酸基等の酸基を有していてもよい。従って、エチレン性化合物が、上記のように混合物である場合のように未反応のカルボキシル基を有するものであれば、これをそのまま利用することができるが、必要において、上述のエチレン性化合物のヒドロキシル基に非芳香族カルボン酸無水物を反応させて酸基を導入してもよい。この場合、使用される非芳香族カルボン酸無水物の具体例としては、無水テトラヒドロフタル酸、アルキル化無水テトラヒドロフタル酸、無水ヘキサヒドロフタル酸、アルキル化無水ヘキサヒドロフタル酸、無水コハク酸、無水マレイン酸が挙げられる。
本発明において、酸基を有するモノマーとしては、脂肪族ポリヒドロキシ化合物と不飽和カルボン酸とのエステルであり、脂肪族ポリヒドロキシ化合物の未反応のヒドロキシル基に非芳香族カルボン酸無水物を反応させて酸基を持たせた多官能モノマーが好ましく、特に好ましくは、このエステルにおいて、脂肪族ポリヒドロキシ化合物がペンタエリスリトール及び／又はジペンタエリスリトールであるものである。市販品としては、例えば、東亞合成株式会社製の多塩基酸変性アクリルオリゴマーとして、アロニックスシリーズのＭ−３０５、Ｍ−５１０、Ｍ−５２０などが挙げられる。
これらのモノマーは１種を単独で用いてもよいが、製造上、単一の化合物を用いることは難しいことから、２種以上を混合して用いてもよい。また、必要に応じてモノマーとして酸基を有しない多官能モノマーと酸基を有する多官能モノマーを併用してもよい。酸基を有する多官能モノマーの好ましい酸価としては、０．１〜４０ｍｇ−ＫＯＨ／ｇであり、特に好ましくは５〜３０ｍｇ−ＫＯＨ／ｇである。異なる酸基の多官能モノマーを２種以上併用する場合、或いは酸基を有しない多官能モノマーを併用する場合、全体の多官能モノマーとしての酸価が上記範囲に入るように調整することが好ましい。
また、重合性モノマーとして、特開２０１２−２１５８０６号公報の段落０３０６〜０３１３に記載のカプロラクトン構造を有する多官能性単量体も用いることができる。
このようなカプロラクトン構造を有する多官能性単量体は、例えば、日本化薬（株）からＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＣＡシリーズとして市販されており、ＤＰＣＡ−２０、ＤＰＣＡ−３０、ＤＰＣＡ−６０、ＤＰＣＡ−１２０等を挙げることができる。
本発明において、カプロラクトン構造を有する多官能性単量体は、単独で又は２種以上を混合して使用することができる。
また、本発明における重合性化合物としては、特開２０１２−２１５８０６号公報の段落０３１４〜０３２４に記載の一般式（Ｚ−４）又は（Ｚ−５）で表される化合物も用いることができる。
一般式（Ｚ−４）、（Ｚ−５）で表される重合性化合物の市販品としては、例えばサートマー社製のエチレンオキシ鎖を４個有する４官能アクリレートであるＳＲ−４９４、日本化薬株式会社製のペンチレンオキシ鎖を６個有する６官能アクリレートであるＤＰＣＡ−６０、イソブチレンオキシ鎖を３個有する３官能アクリレートであるＴＰＡ−３３０などが挙げられる。
また、重合性化合物としては、特公昭４８−４１７０８号、特公昭５０−６０３４号公報の第１３〜２５欄に記載の各実施例、特開昭５１−３７１９３号公報第６〜１０頁に記載の実施例、特公平２−３２２９３号公報第６及び７頁の例１、特公平２−１６７６５号公報第５及び６欄に記載されているようなウレタンアクリレート類や、特公昭５８−４９８６０号、特公昭５６−１７６５４号、特公昭６２−３９４１７号、特公昭６２−３９４１８号公報第８〜１１頁に記載の実施例等に記載のエチレンオキサイド系骨格を有するウレタン化合物類も好適である。更に、重合性化合物として、特開昭６３−２７７６５３号公報第８及び９頁第１表、特開昭６３−２６０９０９号公報第１０頁第１表、特開平１−１０５２３８号公報第１０頁第１表に記載される、分子内にアミノ構造やスルフィド構造を有する付加重合性化合物類を用いることによって、非常に感光スピードに優れた硬化性組成物を得ることができる。
重合性化合物の市販品としては、ウレタンオリゴマーＵＡＳ−１０、ＵＡＢ−１４０（山陽国策パルプ社製）、ＵＡ−７２００」(新中村化学社製、ＤＰＨＡ−４０Ｈ（日本化薬社製）、ＵＡ−３０６Ｈ、ＵＡ−３０６Ｔ、ＵＡ−３０６Ｉ、ＡＨ−６００、Ｔ−６００、ＡＩ−６００（共栄社製）などが挙げられる。
重合性化合物としては、特開２０１２−１５０４６８号公報の段落０２１６〜０２２０に記載の同一分子内に２個以上のメルカプト（ＳＨ）基を有する多官能チオール化合物も用いることができる。
これらの重合性化合物について、その構造、単独使用か併用か、添加量等の使用方法の詳細は、赤外線吸収組成物の最終的な性能設計にあわせて任意に設定できる。例えば、感度の観点では、１分子あたりの不飽和基含量が多い構造が好ましく、多くの場合は２官能以上が好ましい。また、赤外線カットフィルタの強度を高める観点では、３官能以上のものがよく、更に、異なる官能数・異なる重合性基（例えばアクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、スチレン系化合物、ビニルエーテル系化合物）のものを併用することで、感度と強度の両方を調節する方法も有効である。また、赤外線吸収組成物に含有される他の成分（例えば、金属酸化物、色素、重合開始剤、バインダー等）との相溶性、分散性に対しても、重合性化合物の選択・使用法は重要な要因であり、例えば、低純度化合物の使用や２種以上の併用により相溶性を向上させうることがある。また、支持体などの硬質表面との密着性を向上させる観点で特定の構造を選択することもあり得る。
第１の態様における銅化合物又は色素を含有する組成物、金属酸化物を含有する組成物、又は第２の態様における銅化合物又は色素及び金属酸化物のいずれをも含有する組成物中における重合性化合物の含有量は、第１の態様における銅化合物を含有する組成物、金属酸化物を含有する組成物、又は第２の態様における銅化合物又は色素及び金属酸化物のいずれをも含有する組成物中の固形分に対して０．１質量％〜９０質量％が好ましく、１．０質量％〜８０質量％がさらに好ましく、２．０質量％〜７０質量％が特に好ましい。
［４］重合開始剤
本発明の赤外線吸収組成物ないしは赤外線吸収組成物キットは、重合開始剤を含有していてもよく、重合開始剤としては、光、熱のいずれか或いはその双方により重合性化合物の重合を開始する能力を有する限り、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、光重合性化合物であることが好ましい。光で重合を開始させる場合、紫外線領域から可視の光線に対して感光性を有するものが好ましい。
また、熱で重合を開始させる場合には、１５０℃〜２５０℃で分解する開始剤が好ましい。
本発明に用いうる重合開始剤としては、少なくとも芳香族基を有する化合物であることが好ましく、例えば、アシルホスフィン化合物、アセトフェノン系化合物、α−アミノケトン化合物、ベンゾフェノン系化合物、ベンゾインエーテル系化合物、ケタール誘導体化合物、チオキサントン化合物、オキシム化合物、ヘキサアリールビイミダゾール化合物、トリハロメチル化合物、アゾ化合物、有機過酸化物、ジアゾニウム化合物、ヨードニウム化合物、スルホニウム化合物、アジニウム化合物、ベンゾインエーテル系化合物、ケタール誘導体化合物、メタロセン化合物等のオニウム塩化合物、有機硼素塩化合物、ジスルホン化合物などが挙げられる。
感度の観点から、オキシム化合物、アセトフェノン系化合物、α−アミノケトン化合物、トリハロメチル化合物、ヘキサアリールビイミダゾール化合物、及び、チオール化合物が好ましい。
以下、本発明に好適な重合開始剤の例を挙げるが、本発明はこれらに制限されるものではない。
アセトフェノン系化合物としては、具体的には、例えば、２，２−ジエトキシアセトフェノン、ｐ−ジメチルアミノアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オン、ｐ−ジメチルアミノアセトフェノン、４’−イソプロピル−２−ヒドロキシ−２−メチル−プロピオフェノン、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１、２−トリル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノプロパノン−１、２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノプロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１、２−（ジメチルアミノ）−２−［（４−メチルフェニル）メチル］−１−［４−（４−モルホリニル）フェニル］−１−ブタノン、及び、２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノプロパン−１−オンなどが挙げられる。
また、特開平１０−２９１９６９号公報の段落０００４に記載のアミノアセトフェノン系開始剤、特許第４２２５８９８号公報の段落０００４〜００２６に記載のアシルホスフィンオキシド系開始剤、も用いることができる。
アセトフェノン系開始剤としては、市販品であるＩＲＧＡＣＵＲＥ−９０７、ＩＲＧＡＣＵＲＥ−３６９、及び、ＩＲＧＡＣＵＲＥ−３７９（商品名：いずれもＢＡＳＦジャパン社製）を用いることができる。
また、アシルホスフィン系開始剤としては市販品であるＩＲＧＡＣＵＲＥ−８１９やＤＡＲＯＣＵＲ−ＴＰＯ（商品名：いずれもＢＡＳＦジャパン社製）を用いることができる。
トリハロメチル化合物として、より好適には、すくなくとも一つのモノ、ジ、又はトリハロゲン置換メチル基がｓ−トリアジン環に結合したｓ−トリアジン誘導体、具体的には、例えば、２，４，６−トリス（モノクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２，４，６−トリス（ジクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２，４，６−トリス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−メチル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２―ｎ−プロピル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（α，α，β−トリクロロエチル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−フェニル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−メトキシフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（３，４−エポキシフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−クロロフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−〔１−（ｐ−メトキシフェニル）−２，４−ブタジエニル〕−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−スチリル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−メトキシスチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−ｉ−プロピルオキシスチリル）−４、６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−トリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−ナトキシナフチル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−フェニルチオ−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−ベンジルチオ−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２，４，６−トリス（ジブロモメチル）−ｓ−トリアジン、２，４，６−トリス（トリブロモメチル）−ｓ−トリアジン、２−メチル−４，６−ビス（トリブロモメチル）−ｓ−トリアジン、２−メトキシ−４，６−ビス（トリブロモメチル）−ｓ−トリアジン等が挙げられる。
ヘキサアリールビイミダゾール化合物としては、例えば、特公平６−２９２８５号公報、米国特許第３，４７９，１８５号、同第４，３１１，７８３号、同第４，６２２，２８６号等の各明細書に記載の種々の化合物、具体的には、２，２’−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（ｏ−ブロモフェニル））４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（ｏ，ｐ−ジクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ（ｍ−メトキシフェニル）ビイジダゾール、２，２’−ビス（ｏ，ｏ’−ジクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（ｏ−ニトロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（ｏ−メチルフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（ｏ−トリフルオロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール等が挙げられる。
オキシム化合物としては、ＴＲＯＮＬＹ ＴＲ−ＰＢＧ−３０４、ＴＲＯＮＬＹ ＴＲ−ＰＢＧ−３０９、ＴＲＯＮＬＹ ＴＲ−ＰＢＧ−３０５（常州強力電子新材料有限公司社（ＣＨＡＮＧＺＨＯＵ ＴＲＯＮＬＹ ＮＥＷ ＥＬＥＣＴＲＯＮＩＣ ＭＡＴＥＲＩＡＬＳ ＣＯ．，ＬＴＤ）製）などの市販品が使用できる。また、特開２０１２−１１３１０４号公報の段落００９２〜００９６に記載されている重合開始剤の記載を参酌でき、これらの内容は本願明細書に組み込まれる。このようなオキシム化合物を使用することで、硬化感度が高く、現像性が良好な樹脂組成物を提供することができる。上記オキシム化合物は、特開２０１２−１１３１０４号公報の段落００３０以降に説明されている化合物である。一般式としては、特開２０１２−１１３１０４の請求項１に記載の一般式（Ｉ）で表され、より好ましくは請求項３に記載の一般式（Ｉ−Ａ）で表されるものであり、これらの記載を参酌でき、これらの内容は本願明細書に組み込まれる。
また、Ｊ．Ｃ．Ｓ． Ｐｅｒｋｉｎ ＩＩ （１９７９）１６５３−１６６０、Ｊ．Ｃ．Ｓ． Ｐｅｒｋｉｎ ＩＩ （１９７９）１５６−１６２、Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｐｈｏｔｏｐｏｌｙｍｅｒ Ｓｃｉｅｎｃｅ ａｎｄ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ（１９９５）２０２−２３２、特開２０００−６６３８５号公報記載の化合物、特開２０００−８００６８号公報の段落０２１８〜０２８１、特表２００４−５３４７９７号公報の段落０２４２〜０２５１に記載の化合物、ＢＡＳＦジャパン社製 ＩＲＧＡＣＵＲＥ ＯＸＥ ０１（１．２−オクタンジオン，１−［４−（フェニルチオ）−，２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）］）、ＩＲＧＡＣＵＲＥ ＯＸＥ ０２（エタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］−，１−（Ｏ−アセチルオキシム）），２−（アセチルオキシイミノメチル）チオキサンテン−９−オン等も挙げられ、これらの内容は本願明細書に組み込まれる。
更に、特開２００７−２３１０００公報の段落００３１、及び、特開２００７−３２２７４４公報の段落００３９に記載される環状オキシム化合物、特開２００７−２６９７７９公報の段落００６０〜００６２に示される特定置換基を有するオキシム化合物や、特開２００９−１９１０６１公報の段落００９０〜０１０６に示されるチオアリール基を有するオキシム化合物、特開２００１−２３３８４２号公報の段落０３７５〜０４０９記載の化合物等も挙げられ、これらの内容は本願明細書に組み込まれる。
重合開始剤は、１種単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。
本発明において、重合開始剤が含有されていても含有されていなくてもよいが、含有されている場合、第１の態様における銅化合物又は色素を含有する組成物、金属酸化物を含有する組成物、又は第２の態様における銅化合物又は色素及び金属酸化物のいずれをも含有する組成物の全固形分質量に対する重合開始剤の含有量は、０．０１質量％〜３０質量％が好ましく、０．１質量％〜２０質量％がより好ましく、０．１質量％〜１５質量％がさらに好ましく、１質量％〜１０質量％がよりさらに好ましく、１質量％〜５質量％が特に好ましい。
［５］バインダー
本発明の赤外線吸収組成物ないしは赤外線吸収組成物キットは、バインダーを含有することが好ましい。
バインダーは特に限定されないが、バインダーは、アルカリ可溶性樹脂であることが好ましい。
アルカリ可溶性樹脂としては、線状有機高分子重合体であって、分子（好ましくは、アクリル系共重合体、スチレン系共重合体を主鎖とする分子）中に少なくとも１つのアルカリ可溶性を促進する基を有するアルカリ可溶性樹脂の中から適宜選択することができる。耐熱性の観点からは、ポリヒドロキシスチレン系樹脂、ポリシロキサン系樹脂、アクリル系樹脂、アクリルアミド系樹脂、アクリル／アクリルアミド共重合体樹脂が好ましく、現像性制御の観点からは、アクリル系樹脂、アクリルアミド系樹脂、アクリル／アクリルアミド共重合体樹脂が好ましい。
アルカリ可溶性樹脂におけるアルカリ可溶性を促進する基（酸基）、アルカリ可溶性樹脂の製造方法において用いられる重合後に酸基を付与しうるモノマーの具体例、好ましい例としては、特開２０１２−２０８４９４号公報の段落０５５８及び０５５９に記載の具体例、好ましい例が挙げられ、アルカリ可溶性樹脂の製造方法の具体例としては、同公報の段落０５６０に記載の具体例が挙げられ、これらの内容は本願明細書に組み込まれる。
アルカリ可溶性樹脂として用いられる線状有機高分子重合体としては、側鎖にカルボン酸を有するポリマーが好ましく、メタクリル酸共重合体、アクリル酸共重合体、イタコン酸共重合体、クロトン酸共重合体、マレイン酸共重合体、部分エステル化マレイン酸共重合体、ノボラック型樹脂などのアルカリ可溶性フェノール樹脂等、並びに側鎖にカルボン酸を有する酸性セルロース誘導体、水酸基を有するポリマーに酸無水物を付加させたもの挙げられる。特に、（メタ）アクリル酸と、これと共重合可能な他の単量体との共重合体が、アルカリ可溶性樹脂として好適である。（メタ）アクリル酸と共重合可能な他の単量体としては、アルキル（メタ）アクリレート、アリール（メタ）アクリレート、ビニル化合物などが挙げられる。アルキル（メタ）アクリレート及びアリール（メタ）アクリレートとしては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ペンチル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、トリル（メタ）アクリレート、ナフチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート等、ビニル化合物としては、スチレン、α−メチルスチレン、ビニルトルエン、グリシジルメタクリレート、アクリロニトリル、ビニルアセテート、Ｎ−ビニルピロリドン、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、ポリスチレンマクロモノマー、ポリメチルメタクリレートマクロモノマー等、特開平１０−３００９２２号公報に記載のＮ位置換マレイミドモノマーとして、Ｎ―フェニルマレイミド、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド等を挙げることができる。なお、これらの（メタ）アクリル酸と共重合可能な他の単量体は１種のみであってもよいし、２種以上であってもよい。
アルカリ可溶性フェノール樹脂としては、例えば、ノボラック樹脂、又はビニル重合体等が挙げられる。
上記ノボラック樹脂の具体例としては、例えば、メタクレゾール、パラクレゾール又はこれらの混合物とホルマリンとの縮合生成物が挙げられる。
上記ノボラック樹脂は分別等の手段を用いて分子量分布を調節してもよい。又、ビスフェノールＣやビスフェノールＡ等のフェノール系水酸基を有する低分子量成分を上記ノボラック樹脂に混合してもよい。
また、本発明における赤外線吸収組成物ないしは赤外線吸収組成物キットから得られる赤外線カットフィルタの架橋効率を向上させるために、重合性基を有したアルカリ可溶性樹脂を使用してもよい。重合性基を有したアルカリ可溶性樹脂としては、アリル基、（メタ）アクリル基、アリルオキシアルキル基等を側鎖に含有したアルカリ可溶性樹脂等が有用である。上述の重合性基を含有するポリマーの例としては、ダイヤナ−ルＮＲシリーズ（三菱レイヨン株式会社製）、Ｐｈｏｔｏｍｅｒ６１７３（ＣＯＯＨ含有 ｐｏｌｙｕｒｅｔｈａｎｅ ａｃｒｙｌｉｃ ｏｌｉｇｏｍｅｒ． Ｄｉａｍｏｎｄ Ｓｈａｍｒｏｃｋ Ｃｏ．Ｌｔｄ．，製）、ビスコートＲ−２６４、ＫＳレジスト１０６（いずれも大阪有機化学工業株式会社製）、サイクロマーＰ ＡＣＡ２３０ＡＡ等のサイクロマーＰシリーズ、プラクセル ＣＦ２００シリーズ（いずれもダイセル化学工業株式会社製）、Ｅｂｅｃｒｙｌ３８００（ダイセルユーシービー株式会社製）などが挙げられる。これら重合性基を含有するアルカリ可溶性樹脂としては、予めイソシアネート基とＯＨ基を反応させ、未反応のイソシアネート基を１つ残し、かつ（メタ）アクリロイル基を含む化合物とカルボキシル基を含むアクリル樹脂との反応によって得られるウレタン変性した重合性二重結合含有アクリル樹脂、カルボキシル基を含むアクリル樹脂と分子内にエポキシ基及び重合性二重結合を共に有する化合物との反応によって得られる不飽和基含有アクリル樹脂、酸ペンダント型エポキシアクリレート樹脂、ＯＨ基を含むアクリル樹脂と重合性二重結合を有する２塩基酸無水物を反応させた重合性二重結合含有アクリル樹脂、ＯＨ基を含むアクリル樹脂とイソシアネートと重合性基を有する化合物を反応させた樹脂、特開２００２−２２９２０７号公報及び特開２００３−３３５８１４号公報に記載されるα位又はβ位にハロゲン原子或いはスルホネート基などの脱離基を有するエステル基を側鎖に有する樹脂に塩基性処理を行うことで得られる樹脂などが好ましい。
アルカリ可溶性樹脂としては、特に、ベンジル（メタ）アクリレート／（メタ）アクリル酸共重合体やベンジル（メタ）アクリレート／（メタ）アクリル酸／他ノモノマーからなる多元共重合体が好適である。この他、２−ヒドロキシエチルメタクリレートを共重合したもの、特開平７−１４０６５４号公報に記載の、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート／ポリスチレンマクロモノマー／ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピルアクリレート／ポリメチルメタクリレートマクロモノマー／ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体、２−ヒドロキシエチルメタクリレート／ポリスチレンマクロモノマー／メチルメタクリレート／メタクリル酸共重合体、２−ヒドロキシエチルメタクリレート／ポリスチレンマクロモノマー／ベンジルメタクレート／メタクリル酸共重合体などが挙げられる。市販品としては、例えばアクリベースＦＦ−１８７、ＦＦ−４２６（藤倉化成社製）などが挙げられる。
アルカリ可溶性樹脂の酸価としては好ましくは３０ｍｇＫＯＨ／ｇ〜２００ｍｇＫＯＨ／ｇ、より好ましくは５０ｍｇＫＯＨ／ｇ〜１５０ｍｇＫＯＨ／ｇであることが好ましく、７０〜１２０ｍｇＫＯＨ／ｇであることが最も好ましい。
また、アルカリ可溶性樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）としては、２，０００〜５０，０００が好ましく、５，０００〜４０，０００がより好ましく、７，０００〜３５，０００が最も好ましい。
第１の態様における銅化合物又は色素を含有する組成物、金属酸化物を含有する組成物、又は第２の態様における銅化合物又は色素及び金属酸化物のいずれをも含有する組成物中におけるバインダーの含有量としては、該組成物の全固形分に対して、１〜２０質量％が好ましく、より好ましくは、２〜１５質量％であり、特に好ましくは、３〜１２質量％である。
［６］分散剤
本発明の赤外線吸収組成物ないしは赤外線吸収組成物キットは、上記金属酸化物や上記銅化合物又は色素の分散性、分散安定性向上を目的として、公知の分散剤により分散して用いてもよい。
本発明に用いうる分散剤としては、高分子分散剤〔例えば、ポリアミドアミンとその塩、ポリカルボン酸とその塩、高分子量不飽和酸エステル、変性ポリウレタン、変性ポリエステル、変性ポリ（メタ）アクリレート、（メタ）アクリル系共重合体、ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物〕、及び、ポリオキシエチレンアルキルリン酸エステル、ポリオキシエチレンアルキルアミン、アルカノールアミン等の界面活性剤等を挙げることができる。
高分子分散剤は、その構造から更に直鎖状高分子、末端変性型高分子、グラフト型高分子、ブロック型高分子に分類することができる。
表面へのアンカー部位を有する末端変性型高分子としては、例えば、特開平３−１１２９９２号公報、特表２００３−５３３４５５号公報等に記載の末端にりん酸基を有する高分子、特開２００２−２７３１９１号公報等に記載の末端にスルホン酸基を有する高分子、特開平９−７７９９４号公報等に記載の有機色素の部分骨格や複素環を有する高分子、特開２００８−２９９０１号公報等に記載の片末端に水酸基又はアミノ基を有するオリゴマー又はポリマーと酸無水物で変性して製造される高分子などが挙げられる。また、特開２００７−２７７５１４号公報に記載の高分子末端に２個以上の赤外線遮蔽材表面へのアンカー部位（酸基、塩基性基、有機色素の部分骨格やヘテロ環等）を導入した高分子も分散安定性に優れ好ましい。
表面へのアンカー部位を有するグラフト型高分子としては、例えば、特開昭５４−３７０８２号公報、特表平８−５０７９６０号公報、特開２００９−２５８６６８公報等に記載のポリ（低級アルキレンイミン）とポリエステルの反応生成物、特開平９−１６９８２１号公報等に記載のポリアリルアミンとポリエステルの反応生成物、特開２００９−２０３４６２号公報に記載の塩基性基と酸性基を有する両性分散樹脂、特開平１０−３３９９４９号、特開２００４−３７９８６号公報等に記載のマクロモノマーと、窒素原子モノマーとの共重合体、特開２００３−２３８８３７号公報、特開２００８−９４２６号公報、特開２００８−８１７３２号公報等に記載の有機色素の部分骨格や複素環を有するグラフト型高分子、特開２０１０−１０６２６８号公報等に記載のマクロモノマーと酸基含有モノマーの共重合体等が挙げられる。
表面へのアンカー部位を有するグラフト型高分子をラジカル重合で製造する際に用いるマクロモノマーとしては、公知のマクロモノマーを用いることができ、東亜合成（株）製のマクロモノマーＡＡ−６（末端基がメタクリロイル基であるポリメタクリル酸メチル）、ＡＳ−６（末端基がメタクリロイル基であるポリスチレン）、ＡＮ−６Ｓ（末端基がメタクリロイル基であるスチレンとアクリロニトリルの共重合体）、ＡＢ−６（末端基がメタクリロイル基であるポリアクリル酸ブチル）、ダイセル化学工業（株）製のプラクセルＦＭ５（メタクリル酸２−ヒドロキシエチルのε−カプロラクトン５モル当量付加品）、ＦＡ１０Ｌ（アクリル酸２−ヒドロキシエチルのε−カプロラクトン１０モル当量付加品）、及び特開平２−２７２００９号公報に記載のポリエステル系マクロモノマー等が挙げられる。これらの中でも、特に柔軟性かつ親溶剤性に優れるポリエステル系マクロモノマーが、組成物における赤外線遮蔽材の分散性、及び分散安定性の観点から特に好ましく、更に、特開平２−２７２００９号公報に記載のポリエステル系マクロモノマーで表されるポリエステル系マクロモノマーが最も好ましい。
表面へのアンカー部位を有するブロック型高分子としては、特開２００３−４９１１０号公報、特開２００９−５２０１０号公報等に記載のブロック型高分子が好ましい。
分散剤としては、例えば、公知の分散剤や界面活性剤を適宜選択して用いることができる。
そのような具体例としては、ＢＹＫＣｈｅｍｉｅ社製「Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ−１０１（ポリアミドアミン燐酸塩）、１０７（カルボン酸エステル）、１１０（酸基を含む共重合物）、１３０（ポリアミド）、１６１、１６２、１６３、１６４、１６５、１６６、１７０（高分子共重合物）」、「ＢＹＫ−Ｐ１０４、Ｐ１０５（高分子量不飽和ポリカルボン酸）、ＥＦＫＡ社製「ＥＦＫＡ４０４７、４０５０〜４０１０〜４１６５（ポリウレタン系）、ＥＦＫＡ４３３０〜４３４０（ブロック共重合体）、４４００〜４４０２（変性ポリアクリレート）、５０１０（ポリエステルアミド）、５７６５（高分子量ポリカルボン酸塩）、６２２０（脂肪酸ポリエステル）、６７４５（フタロシアニン誘導体）」、味の素ファンテクノ社製「アジスパーＰＢ８２１、ＰＢ８２２、ＰＢ８８０、ＰＢ８８１」、共栄社化学（株）製「フローレンＴＧ−７１０（ウレタンオリゴマー）」、「ポリフローＮｏ．５０Ｅ、Ｎｏ．３００（アクリル系共重合体）」、楠本化成社製「ディスパロンＫＳ−８６０、８７３ＳＮ、８７４、＃２１５０（脂肪族多価カルボン酸）、＃７００４（ポリエーテルエステル）、ＤＡ−７０３−５０、ＤＡ−７０５、ＤＡ−７２５」、花王社製「デモールＲＮ、Ｎ（ナフタレンスルホン酸ホルマリン重縮合物）、ＭＳ、Ｃ、ＳＮ−Ｂ（芳香族スルホン酸ホルマリン重縮合物）」、「ホモゲノールＬ−１８（高分子ポリカルボン酸）」、「エマルゲン９２０、９３０、９３５、９８５（ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル）」、「アセタミン８６（ステアリルアミンアセテート）」、日本ルーブリゾール（株）製「ソルスパース５０００（フタロシアニン誘導体）、１３２４０（ポリエステルアミン）、３０００、１７０００、２７０００（末端部に機能部を有する高分子）、２４０００、２８０００、３２０００、３８５００（グラフト型高分子）」、日光ケミカル者製「ニッコールＴ１０６（ポリオキシエチレンソルビタンモノオレート）、ＭＹＳ−ＩＥＸ（ポリオキシエチレンモノステアレート）」、川研ファインケミカル（株）製ヒノアクトＴ−８０００Ｅ等、信越化学工業（株）製、オルガノシロキサンポリマーＫＰ３４１、裕商（株）製「Ｗ００１：カチオン系界面活性剤」、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、ポリエチレングリコールジラウレート、ポリエチレングリコールジステアレート、ソルビタン脂肪酸エステル等のノニオン系界面活性剤、「Ｗ００４、Ｗ００５、Ｗ０１７」等のアニオン系界面活性剤、森下産業（株）製「ＥＦＫＡ−４６、ＥＦＫＡ−４７、ＥＦＫＡ−４７ＥＡ、ＥＦＫＡポリマー１００、ＥＦＫＡポリマー４００、ＥＦＫＡポリマー４０１、ＥＦＫＡポリマー４５０」、サンノプコ（株）製「ディスパースエイド６、ディスパースエイド８、ディスパースエイド１５、ディスパースエイド９１００」等の高分子分散剤、（株）ＡＤＥＫＡ製「アデカプルロニックＬ３１、Ｆ３８、Ｌ４２、Ｌ４４、Ｌ６１、Ｌ６４、Ｆ６８、Ｌ７２、Ｐ９５、Ｆ７７、Ｐ８４、Ｆ８７、Ｐ９４、Ｌ１０１、Ｐ１０３、Ｆ１０８、Ｌ１２１、Ｐ−１２３」、及び三洋化成（株）製「イオネット（商品名）Ｓ−２０」等が挙げられる。
これらの分散剤は、単独で使用してもよく、２種以上を組み合わせて使用してもよい。また、本発明の分散剤は、赤外線遮蔽材表面へのアンカー部位を有する末端変性型高分子、グラフト型高分子、ブロック型高分子と伴に、アルカリ可溶性樹脂を併用して用いてもよい。アルカリ可溶性樹脂としては、（メタ）アクリル酸共重合体、イタコン酸共重合体、クロトン酸共重合体、マレイン酸共重合体、部分エステル化マレイン酸共重合体等、並びに側鎖にカルボン酸を有する酸性セルロース誘導体、水酸基を有するポリマーに酸無水物を変性した樹脂が挙げられるが、特に（メタ）アクリル酸共重合体が好ましい。また、特開平１０−３００９２２号公報に記載のＮ位置換マレイミドモノマー共重合体、特開２００４−３００２０４号公報に記載のエーテルダイマー共重合体、特開平７−３１９１６１号公報に記載の重合性基を含有するアルカリ可溶性樹脂も好ましい。
分散性及び沈降性の観点から、好ましくは、特開２０１０−１０６２６８号公報に記載の以下に示す樹脂が好ましく、特に、分散性の観点から、側鎖にポリエステル鎖を有する高分子分散剤が好ましく、酸基とポリエステル鎖とを有する樹脂も好適に挙げることができる。分散剤における好ましい酸基としては、吸着性の観点から、ｐＫａが６以下の酸基が好ましく、特にカルボン酸、スルホン酸、リン酸が好ましい。
上記樹脂の具体例としては、特開２０１０−１０６２６８号公報の段落００７８〜０１１１に記載の具体例が挙げられる。
本発明の赤外線吸収組成物ないしは赤外線吸収組成物キットが、重合性化合物及び分散剤を含有する場合、まず、上記金属酸化物、上記銅化合物又は色素と、分散剤とを、適切な溶剤により分散組成物を調製した後、重合性化合物を配合することが分散性向上の観点から好ましい。
赤外線吸収組成物ないしは赤外線吸収組成物キットは、分散剤を含有してもしなくてもよいが、含有する場合、組成物中における分散剤の含有量としては、組成物中の上記金属酸化物の質量と上記銅化合物又は色素の質量との和に対して、１質量％〜９０質量％が好ましく、３質量％〜７０質量％がより好ましい。
［７］増感剤
本発明の赤外線吸収組成物ないしは赤外線吸収組成物キットは、重合開始剤のラジカル発生効率の向上、感光波長の長波長化の目的で、増感剤を含有してもよい。本発明に用いることができる増感剤としては、上記した光重合開始剤に対し、電子移動機構又はエネルギー移動機構で増感させるものが好ましい。本発明に用いることができる増感剤としては、以下に列挙する化合物類に属しており、かつ３００ｎｍ〜４５０ｎｍの波長領域に吸収波長を有するものが挙げられる。
増感剤については、例えば特開２０１０−１０６２６８号公報の段落０２３０〜０２５３（対応する米国特許出願公開第２０１１／０１２４８２４Ａ１号明細書の[０２５３]〜［０２７３］）に詳細に記載されており、これらの内容は本願明細書に組み込まれる。
本発明の赤外線吸収組成物ないしは赤外線吸収組成物キットが増感剤を含む場合、増感剤の含有量は、第１の態様における銅化合物又は色素を含有する組成物、金属酸化物を含有する組成物、又は第２の態様における銅化合物又は色素及び金属酸化物のいずれをも含有する組成物の全固形分質量に対して、０．０１質量％以上１０質量％以下であることが好ましく、０．１質量％以上２質量％以下であることがより好ましい。
［８］架橋剤
本発明の赤外線吸収組成物ないしは赤外線吸収組成物キットは、赤外線カットフィルタの強度を向上させる目的で、更に、架橋剤を含有していてもよい。
架橋剤は、架橋性基を有する化合物であることが好ましく、架橋性基を２個以上で有する化合物であることがより好ましい。架橋性基の具体例としては、オキセタン基、シアネート基を好適に挙げることができ、中でも、エポキシ基、オキセタン基又はシアネート基であることが好ましい。すなわち、架橋剤は、特にエポキシ化合物、オキセタン化合物又はシアネート化合物が好ましい。
本発明において架橋剤として好適に用いうるエポキシ化合物としては、例えば、１分子中に少なくとも２つのオキシラン基を有するエポキシ化合物、β位にアルキル基を有するエポキシ基を少なくとも１分子中に２つ含むエポキシ化合物などが挙げられる。
１分子中に少なくとも２つのオキシラン基を有するエポキシ化合物としては、例えば、ビキシレノール型若しくはビフェノール型エポキシ化合物（「ＹＸ４０００ジャパンエポキシレジン社製」等）又はこれらの混合物、イソシアヌレート骨格等を有する複素環式エポキシ化合物（「ＴＥＰＩＣ；日産化学工業株式会社製」、「アラルダイトＰＴ８１０；ＢＡＳＦジャパン社製」等）、ビスフェノールＡ型エポキシ化合物、ノボラック型エポキシ化合物、ビスフェノールＦ型エポキシ化合物、水添ビスフェノールＡ型エポキシ化合物、ビスフェノールＳ型エポキシ化合物、フェノールノボラック型エポキシ化合物、クレゾ−ルノボラック型エポキシ化合物、ハロゲン化エポキシ化合物（例えば低臭素化エポキシ化合物、高ハロゲン化エポキシ化合物、臭素化フェノールノボラック型エポキシ化合物など）、アリル基含有ビスフェノールＡ型エポキシ化合物、トリスフェノールメタン型エポキシ化合物、ジフェニルジメタノール型エポキシ化合物、フェノールビフェニレン型エポキシ化合物、ジシクロペンタジエン型エポキシ化合物（「ＨＰ−７２００，ＨＰ−７２００Ｈ；大日本インキ化学工業株式会社製」等）、グリシジルアミン型エポキシ化合物（ジアミノジフェニルメタン型エポキシ化合物、ジグリシジルアニリン、トリグリシジルアミノフェノール等）、グリジジルエステル型エポキシ化合物（フタル酸ジグリシジルエステル、アジピン酸ジグリシジルエステル、ヘキサヒドロフタル酸ジグリシジルエステル、ダイマー酸ジグリシジルエステル等）ヒダントイン型エポキシ化合物、脂環式エポキシ化合物（３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３’，４’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、ビス（３，４−エポキシシクロヘキシルメチル）アジペート、ジシクロペンタジエンジエポキシド、「ＧＴ−３００，ＧＴ−４００，ＥＨＰＥ３１５０；ダイセル化学工業株式会社製」等、）、イミド型脂環式エポキシ化合物、トリヒドロキシフェニルメタン型エポキシ化合物、ビスフェノールＡノボラック型エポキシ化合物、テトラフェニロールエタン型エポキシ化合物、グリシジルフタレート化合物、テトラグリシジルキシレノイルエタン化合物、ナフタレン基含有エポキシ化合物（ナフトールアラルキル型エポキシ化合物、ナフトールノボラック型エポキシ化合物、４官能ナフタレン型エポキシ化合物、市販品としては「ＥＳＮ−１９０，ＥＳＮ−３６０；新日鉄化学株式会社製」、「ＨＰ−４０３２，ＥＸＡ−４７５０，ＥＸＡ−４７００；大日本インキ化学工業株式会社製」等）、フェノール化合物とジビニルベンゼンやジシクロペンタジエン等のジオレフィン化合物との付加反応によって得られるポリフェノール化合物と、エピクロルヒドリンとの反応物、４−ビニルシクロヘキセン−１−オキサイドの開環重合物を過酢酸等でエポキシ化したもの、線状含リン構造を有するエポキシ化合物、環状含リン構造を有するエポキシ化合物、α−メチルスチルベン型液晶エポキシ化合物、ジベンゾイルオキシベンゼン型液晶エポキシ化合物、アゾフェニル型液晶エポキシ化合物、アゾメチンフェニル型液晶エポキシ化合物、ビナフチル型液晶エポキシ化合物、アジン型エポキシ化合物、グリシジルメタアクリレート共重合系エポキシ化合物（「ＣＰ−５０Ｓ，ＣＰ−５０Ｍ；日本油脂株式会社製」等）、シクロヘキシルマレイミドとグリシジルメタアクリレートとの共重合エポキシ化合物、ビス（グリシジルオキシフェニル）フルオレン型エポキシ化合物、ビス（グリシジルオキシフェニル）アダマンタン型エポキシ化合物などが挙げられるが、これらに限られるものではない。これらのエポキシ樹脂は、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
また、１分子中に少なくとも２つのオキシラン基を有するエポキシ化合物以外に、β位にアルキル基を有するエポキシ基を少なくとも１分子中に２つ含むエポキシ化合物を用いることができ、β位がアルキル基で置換されたエポキシ基（より具体的には、β−アルキル置換グリシジル基など）を含む化合物が特に好ましい。
β位にアルキル基を有するエポキシ基を少なくとも含むエポキシ化合物は、１分子中に含まれる２個以上のエポキシ基のすべてがβ−アルキル置換グリシジル基であってもよく、少なくとも１個のエポキシ基がβ−アルキル置換グリシジル基であってもよい。
オキセタン化合物としては、例えば、１分子内に少なくとも２つのオキセタニル基を有するオキセタン樹脂が挙げられる。
具体的には、例えば、ビス［（３−メチル−３−オキセタニルメトキシ）メチル］エーテル、ビス［（３−エチル−３−オキセタニルメトキシ）メチル］エーテル、１，４−ビス［（３−メチル−３−オキセタニルメトキシ）メチル］ベンゼン、１，４−ビス［（３−エチル−３−オキセタニルメトキシ）メチル］ベンゼン、（３−メチル−３−オキセタニル）メチルアクリレート、（３−エチル−３−オキセタニル）メチルアクリレート、（３−メチル−３−オキセタニル）メチルメタクリレート、（３−エチル−３−オキセタニル）メチルメタクリレート又はこれらのオリゴマーあるいは共重合体等の多官能オキセタン類の他、オキセタン基を有する化合物と、ノボラック樹脂、ポリ（ｐ−ヒドロキシスチレン）、カルド型ビスフェノール類、カリックスアレーン類、カリックスレゾルシンアレーン類、シルセスキオキサン等の水酸基を有する化合物など、とのエーテル化合物が挙げられ、この他、オキセタン環を有する不飽和モノマーとアルキル（メタ）アクリレートとの共重合体なども挙げられる。
シアネート化合物としては、例えば、ビスＡ型シアネート化合物、ビスＦ型シアネート化合物、クレゾールノボラック型シアネート化合物、フェノールノボラック型シアネート化合物、などが挙げられる。
また、架橋剤として、メラミン又はメラミン誘導体を用いることができる。
メラミン誘導体としては、例えば、メチロールメラミン、アルキル化メチロールメラミン（メチロール基を、メチル、エチル、ブチルなどでエーテル化した化合物）などが挙げられる。
架橋剤は１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。架橋剤は、保存安定性が良好で、硬化膜（光ないしは熱等のエネルギーによって架橋剤による架橋反応が実施された後における膜）の表面硬度あるいは膜強度自体の向上に有効である点で、メラミン若しくはアルキル化メチロールメラミンが好ましく、ヘキサメチル化メチロールメラミンが特に好ましい。
本発明の赤外線吸収組成物ないしは赤外線吸収組成物キットが架橋剤を含む場合、架橋剤の含有量は、第１の態様における銅化合物又は色素を含有する組成物、金属酸化物を含有する組成物、又は第２の態様における銅化合物又は色素及び金属酸化物のいずれをも含有する組成物の全固形分質量に対して、１質量％以上４０質量％以下であることが好ましく、３質量％以上２０質量％以下であることがより好ましい。
［９］硬化促進剤
本発明の赤外線吸収組成物ないしは赤外線吸収組成物キットは、エポキシ化合物やオキセタン化合物等の架橋剤の熱硬化を促進することを目的に、更に、硬化促進剤を含有してもよい。
硬化促進剤としては、例えば、アミン化合物（例えば、ジシアンジアミド、ベンジルジメチルアミン、４−（ジメチルアミノ）−Ｎ，Ｎ−ジメチルベンジルアミン、４−メトキシ−Ｎ，Ｎ−ジメチルベンジルアミン、４−メチル−Ｎ，Ｎ−ジメチルベンジルアミン等）、４級アンモニウム塩化合物（例えば、トリエチルベンジルアンモニウムクロリド等）、ブロックイソシアネート化合物（例えば、ジメチルアミン等）、イミダゾール誘導体二環式アミジン化合物及びその塩（例えば、イミダゾール、２−メチルイミダゾール、２−エチルイミダゾール、２−エチル−４−メチルイミダゾール、２−フェニルイミダゾール、４−フェニルイミダゾール、１−シアノエチル−２−フェニルイミダゾール、１−（２−シアノエチル）−２−エチル−４−メチルイミダゾール等）、リン化合物（例えば、トリフェニルホスフィン等）、グアナミン化合物（例えば、メラミン、グアナミン、アセトグアナミン、ベンゾグアナミン等）、Ｓ−トリアジン誘導体（例えば、２，４−ジアミノ−６−メタクリロイルオキシエチル−Ｓ−トリアジン、２−ビニル−２，４−ジアミノ−Ｓ−トリアジン、２−ビニル−４，６−ジアミノ−Ｓ−トリアジン・イソシアヌル酸付加物、２，４−ジアミノ−６−メタクリロイルオキシエチル−Ｓ−トリアジン・イソシアヌル酸付加物等）などを用いることができる。硬化促進剤は、メラミン又はジシアンジアミドであることが好ましい。
硬化促進剤は、１種単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。
第１の態様における銅化合物又は色素を含有する組成物、金属酸化物を含有する組成物、又は第２の態様における銅化合物又は色素及び金属酸化物のいずれをも含有する組成物は、硬化促進剤を含有してもしなくてもよいが、含有する場合、硬化促進剤の組成物の全固形分に対する含有量は、通常０．０１〜１５質量％である。
［１０］フィラー
本発明の赤外線吸収組成物ないしは赤外線吸収組成物キットは、更にフィラーを含んでもよい。本発明に用い得るフィラーとしては、シランカップリング剤で表面処理された球状のシリカが挙げられる。
本発明の赤外線吸収組成物ないしは赤外線吸収組成物キットがフィラーを含有することにより、耐久性の高い赤外線カットフィルタが得られる点で好ましい。
なお、球状フィラーにおける「球状」とは、粒子形状が、針状、柱状、不定形ではなく、丸みを帯びていればよく、必ずしも「真球状」である必要はないが、代表的な「球状」の携帯としては「真球状」が挙げられる。
フィラーが球状であることは、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）で観察することにより、確認することができる。
フィラーの一次粒子の体積平均粒径には、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、０．０５μｍ〜３μｍが好ましく、０．１μｍ〜１μｍがより好ましい。フィラーの一次粒子の体積平均粒径が上記範囲において、チクソトロピー性の発現による加工性の低下が抑制され、かつ、最大粒子径が大きくなることもないために、得られる赤外線カットフィルタにおける異物の付着や塗膜の不均一に起因する欠陥の発生が抑制されることから有利である。
フィラーの一次粒子の体積平均粒径は、動的光散乱法粒子径分布測定装置により測定することができる。
フィラーは前述の分散剤、バインダーを用いることにより分散することができる。上述したように、硬化性の観点から、側鎖に架橋性基を有するアルカリ可溶性バインダーポリマーが特に好ましい。
−表面処理−
次に、フィラーの表面処理としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、特開２０１２−００３２２５号公報の段落０２３２〜０２３９に記載のシランカップリング剤、その使用量及びそのシランカップリング剤によるシリカを被覆する処理が好ましく挙げられ、これらの内容は本願明細書に組み込まれる。
本発明で用いることができるシランカップリング剤で表面処理された球状のシリカとしては、例えば、電気化学工業：ＦＢ、ＳＦＰシリーズ、龍森：１−ＦＸ、東亜合成：ＨＳＰシリーズ、扶桑化学工業：ＳＰシリーズなどが挙げられる。
第１の態様における銅化合物又は色素を含有する組成物、金属酸化物を含有する組成物、又は第２の態様における銅化合物又は色素及び金属酸化物のいずれをも含有する組成物は、フィラーを含有してもしなくてもよいが、含有する場合、第１の態様における銅化合物又は色素を含有する組成物、金属酸化物を含有する組成物、又は第２の態様における銅化合物又は色素及び金属酸化物のいずれをも含有する組成物の全固形分質量に対するフィラーの含有量は、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、１質量％〜６０質量％が好ましい。添加量が上記範囲において、十分な線膨張係数の低下が達成され、かつ、形成された赤外線カットフィルタの脆化が抑制され、赤外線カットフィルタとしての機能が十分に発現される。
［１１］エラストマー
本発明の赤外線吸収組成物ないしは赤外線吸収組成物キットは、更に、エラストマーを含んでいてもよい。
エラストマーを含有させることにより、基材と赤外線カットフィルタとの密着性をより向上させることができるとともに、赤外線カットフィルタの耐熱性、耐熱衝撃性、柔軟性及び強靭性をより向上させることができる。
本発明に用いうるエラストマーとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、スチレン系エラストマー、オレフィン系エラストマー、ウレタン系エラストマー、ポリエステル系エラストマー、ポリアミド系エラストマー、アクリル系エラストマー、シリコーン系エラストマー等が挙げられる。これらのエラストマーは、ハードセグメント成分とソフトセグメント成分から成り立っており、一般に前者が耐熱性、強度に、後者が柔軟性、強靭性に寄与している。これらの中でも、ポリエステル系エラストマーが、その他素材との相溶性の点で、有利である。
スチレン系エラストマーとしては、具体的には、タフプレン、ソルプレンＴ、アサプレンＴ、タフテック（以上、旭化成工業（株）製）、エラストマーＡＲ（アロン化成製）、クレイトンＧ、過リフレックス（以上、シェルジャパン社製）、ＪＳＲ−ＴＲ、ＴＳＲ−ＳＩＳ、ダイナロン（以上、日本合成ゴム（株）製）、デンカＳＴＲ（電気化学社製）、クインタック（日本ゼオン社製）、ＴＰＥ−ＳＢシリーズ（住友化学（株）製）、ラバロン（三菱化学（株）製）、セプトン、ハイブラー（以上、クラレ社製）、スミフレックス（住友ベークライト（株）製）、レオストマー、アクティマー（以上、理研ビニル工業社製）等が挙げられる。
オレフィン系エラストマーの具体例としては、ミラストマ（三井石油化学社製）、ＥＸＡＣＴ（エクソン化学社製）、ＥＮＧＡＧＥ（ダウケミカル社製）、水添スチレン−ブタジエンラバー“ＤＹＮＡＢＯＮ ＨＳＢＲ”（日本合成ゴム社製）、ブタジエン−アクリロニトリル共重合体“ＮＢＲシリーズ”（日本合成ゴム社製）、架橋点を有する両末端カルボキシル基変性ブタジエン−アクリロニトリル共重合体の“ＸＥＲシリーズ”（日本合成ゴム社製）、ポリブタジエンを部分的にエポキシ化したエポキシ化ポリブダジエンの“ＢＦ−１０００”（日本曹達社製）等が挙げられる。
ウレタン系エラストマーの具体例としては、ＰＡＮＤＥＸ Ｔ−２１８５、Ｔ−２９８３Ｎ（以上、大日本インキ化学工業社製）、シラクトランＥ７９０等が挙げられる。
ポリエステル系エラストマーの具体例としては、ハイトレル（デュポン−東レ社製）、ペルプレン（東洋紡績社製）、エスペル（日立化成工業社製）等が挙げられる。
ポリアミド系エラストマーとして具体的には、ＵＢＥポリアミドエラストマー（宇部興産社製）、ダイアミド（ダイセルヒュルス社製）、ＰＥＢＡＸ（東レ社製）、グリロンＥＬＹ（エムスジャパン社製）、ノバミッド（三菱化学社製）、グリラックス（大日本インキ化学工業社製）等が挙げられる。
アクリル系エラストマーは、エチルアクリレート、ブチルアクリレート、メトキシエチルアクリレート、エトキシエチルアクリレート等のアクリル酸エステルと、グリシジルメタクリレート、アリルグリシジルエーテル等のエポキシ基を有する単量体及び／又はアクリロニトリルやエチレン等のビニル系単量体とを共重合して得られるものである。アクリル系エラストマーとしては、アクリロニトリル−ブチルアクリレート共重合体、アクリロニトリル−ブチルアクリレート−エチルアクリレート共重合体、アクリロニトリル−ブチルアクリレート−グリシジルメタクリレート共重合体等が挙げられる。
シリコーン系エラストマーの具体例としては、ＫＥシリーズ（信越化学社製）、ＳＥシリーズ、ＣＹシリーズ、ＳＨシリーズ（以上、東レダウコーニングシリコーン社製）等が挙げられる。
また、上記のエラストマー以外に、ゴム変性したエポキシ樹脂を用いることができる。ゴム変性したエポキシ樹脂は、例えば、上述のビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、サリチルアルデヒド型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、又はクレゾールノボラック型エポキシ樹脂等の一部又は全部のエポキシ基を、両末端カルボン酸変性型ブタジエン−アクリルニトリルゴム、末端アミノ変性シリコーンゴム等で変性することによって得られるものである。
エラストマーの中でも、せん断密着性及び耐熱衝撃性の観点から、両末端カルボキシル基変性ブタジエン−アクリロニトリル共重合体、ポリエステル系エラストマーである水酸基を有するエスペル（エスペル１６１２、１６２０、日立化成工業社製）、エポキシ化ポブタジエンが好ましい。
本発明の赤外線吸収組成物ないしは赤外線吸収組成物キットがエラストマーを含有する場合、第１の態様における銅化合物又は色素を含有する組成物、金属酸化物を含有する組成物、又は第２の態様における銅化合物又は色素及び金属酸化物のいずれをも含有する組成物の全固形分質量に対するエラストマーの含有量は、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、組成物中の固形分中の０．５質量％〜３０質量％が好ましく、１質量％〜１０質量％がより好ましく、３質量％〜８質量％が特に好ましい。上記含有量が好ましい範囲内であると、せん断接着性及び耐熱衝撃性を更に向上させることが可能となる点で、有利である。
［１２］界面活性剤
本発明の赤外線吸収組成物ないしは赤外線吸収組成物キットには、塗布性をより向上させる観点から、各種の界面活性剤を添加してもよい。界面活性剤としては、フッ素系界面活性剤、ノニオン系界面活性剤、カチオン系界面活性剤、アニオン系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤などの各種界面活性剤を使用できる。
特に、本発明の赤外線吸収組成物ないしは赤外線吸収組成物キットは、フッ素系界面活性剤を含有することで、塗布液として調製したときの液特性（特に、流動性）がより向上することから、塗布厚の均一性や省液性をより改善することができる。
即ち、フッ素系界面活性剤を含有する赤外線吸収組成物ないしは赤外線吸収組成物キットを適用した塗布液を用いて膜形成する場合においては、被塗布面と塗布液との界面張力を低下させることにより、被塗布面への濡れ性が改善され、被塗布面への塗布性が向上する。このため、少量の液量で数μｍ程度の薄膜を形成した場合であっても、厚みムラの小さい均一厚の膜形成をより好適に行える点で有効である。
フッ素系界面活性剤中のフッ素含有率は、３質量％〜４０質量％が好適であり、より好ましくは５質量％〜３０質量％であり、特に好ましくは７質量％〜２５質量％である。フッ素含有率がこの範囲内であるフッ素系界面活性剤は、塗布膜の厚さの均一性や省液性の点で効果的であり、赤外線吸収組成物中における溶解性も良好である。
フッ素系界面活性剤としては、例えば、特開２０１２−０８３７２７号公報の段落０３５２等に記載の界面活性剤が挙げられ、これらの内容は本願明細書に組み込まれる。また、メガファックＦ−１７１、同Ｆ−１７２、同Ｆ−１７３、同Ｆ−１７６、同Ｆ−１７７、同Ｆ−１４１、同Ｆ−１４２、同Ｆ−１４３、同Ｆ−１４４、同Ｒ−３０、同Ｆ−４３７、同Ｆ−４７５、同Ｆ−４７９、同Ｆ−４８２、同Ｆ−５５４、同Ｆ−７８０、同Ｆ−７８１（以上、ＤＩＣ（株）製）、フロラードＦＣ４３０、同ＦＣ４３１、同ＦＣ１７１（以上、住友スリーエム（株）製）、サーフロンＳ−３８２、同ＳＣ−１０１、同ＳＣ−１０３、同ＳＣ−１０４、同ＳＣ−１０５、同ＳＣ１０６８、同ＳＣ−３８１、同ＳＣ−３８３、同Ｓ３９３、同ＫＨ−４０（以上、旭硝子（株）製）等が挙げられる。
ノニオン系界面活性剤として具体的には、特開２０１２−２０８４９４号公報の段落０５５３等（対応する米国特許出願公開第２０１２／２３５０９９Ａ１号明細書の［０６７９］等）に記載のノニオン系界面活性剤が挙げられ、これらの内容は本願明細書に組み込まれる。
カチオン系界面活性剤として具体的には、特開２０１２−２０８４９４号公報の段落０５５４等（対応する米国特許出願公開第２０１２／２３５０９９Ａ１号明細書の［０６８０］等）に記載のカチオン系界面活性剤が挙げられ、これらの内容は本願明細書に組み込まれる。
アニオン系界面活性剤として具体的には、Ｗ００４、Ｗ００５、Ｗ０１７（裕商（株）社製）等が挙げられる。
シリコーン系界面活性剤としては、例えば、特開２０１２−１７３３２７号公報の段落０２１０等に記載のシリコーン系界面活性剤が挙げられ、これらの内容は本願明細書に組み込まれる。また、東レ・ダウコーニング（株）製「トーレシリコーンＤＣ３ＰＡ」、「トーレシリコーンＳＨ７ＰＡ」、「トーレシリコーンＤＣ１１ＰＡ」，「トーレシリコーンＳＨ２１ＰＡ」，「トーレシリコーンＳＨ２８ＰＡ」、「トーレシリコーンＳＨ２９ＰＡ」、「トーレシリコーンＳＨ３０ＰＡ」、「トーレシリコーンＳＨ８４００」、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製「ＴＳＦ−４４４０」、「ＴＳＦ−４３００」、「ＴＳＦ−４４４５」、「ＴＳＦ−４４６０」、「ＴＳＦ−４４５２」、信越シリコーン株式会社製「ＫＰ３４１」、「ＫＦ６００１」、「ＫＦ６００２」、ビックケミー社製「ＢＹＫ３２３」、「ＢＹＫ３３０」等が挙げられる。
界面活性剤は、１種のみを用いてもよいし、２種類以上を組み合わせてもよい。
本発明の赤外線吸収組成物ないしは赤外線吸収組成物キットが界面活性剤を含む場合、界面活性剤の含有量は、第１の態様における銅化合物又は色素を含有する組成物、金属酸化物を含有する組成物、又は第２の態様における銅化合物又は色素及び金属酸化物のいずれをも含有する組成物の全固形分質量に対して、０．００１質量％以上１質量％以下であることが好ましく、０．０１質量％以上０．１質量％以下であることがより好ましい。
［１３］その他の成分
本発明の赤外線吸収組成物ないしは赤外線吸収組成物キットは、必須成分や好ましい添加剤に加え、本発明の効果を損なわない限りにおいて、目的に応じてその他の成分を適宜選択して用いてもよい。
併用可能なその他の成分としては、例えば、熱硬化促進剤、熱重合禁止剤、可塑剤などが挙げられ、更に基材表面への密着促進剤及びその他の助剤類（例えば、導電性粒子、充填剤、消泡剤、難燃剤、レベリング剤、剥離促進剤、酸化防止剤、香料、表面張力調整剤、連鎖移動剤など）を併用してもよい。
これらの成分を適宜含有させることにより、目的とする赤外線吸収フィルタの安定性、膜物性などの性質を調整することができる。
熱重合禁止剤については、例えば特開２０１０−１０６２６８号公報の段落０２５９〜０２８１（対応する米国特許出願公開第２０１１／０１２４８２４Ａ１号明細書の［０２８１］〜［０２９８］）に詳細に記載されている。
可塑剤については、例えば特開２００８−２５００７４号公報の段落０１０３〜０１０４に詳細に記載されている。
密着促進剤については、例えば特開２０１０−１０６２６８号公報の段落０２９３〜０２９６（対応する米国特許出願公開第２０１１／０１２４８２４Ａ１号明細書の［０３２４］〜［０３２８］）に詳細に記載されている。
これら公報に記載の添加剤は、いずれも本発明の赤外線吸収組成物に使用可能である。
［１４］溶剤
本発明の赤外線吸収組成物ないしは赤外線吸収組成物キットは溶剤を含有することが好ましい。
溶剤は、特に制限はなく、本発明の赤外線吸収組成物の各成分を均一に溶解或いは分散しうるものであれば、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、水；メタノール、エタノール、ノルマル−プロパノール、イソプロパノール、ノルマル−ブタノール、セカンダリーブタノール、ノルマル−ヘキサノール等のアルコール類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン等のケトン類；酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸−ノルマル−アミル、硫酸メチル、プロピオン酸エチル、フタル酸ジメチル、安息香酸エチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、及びメトキシプロピルアセテート等のエステル類；トルエン、キシレン、ベンゼン、エチルベンゼン等の芳香族炭化水素類；四塩化炭素、トリクロロエチレン、クロロホルム、１，１，１−トリクロロエタン、塩化メチレン、モノクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類；テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、１−メトキシ−２−プロパノール、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のエーテル類；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホオキサイド、スルホラン等が挙げられる。これらの中でも水または親水性溶媒が好ましい。これらは、１種単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。また、公知の界面活性剤を添加してもよい。
このようにして得られた本発明の赤外線吸収組成物ないしは赤外線吸収組成物キットは、固形分濃度は５質量％以上９０質量％以下であることが好ましく、より好ましくは７質量％以上８０質量％以下、最も好ましくは１０質量％以上６０質量％以下である。
以上のように、組成物に溶剤を含有させて組成物とすれば、この組成物を、例えばスピン塗布することにより膜を形成するという工程によって、赤外線カットフィルタを煩雑な工程を要することなく製造できるため、上記した従来の赤外線カットフィルタにおける不充分な製造適性を改善することができる。
本発明の赤外線吸収組成物ないしは赤外線吸収組成物キットの用途は、固体撮像素子基板の受光側における赤外線カットフィルタ用（例えば、ウエハーレベルレンズに対する赤外線カットフィルタ用など）、固体撮像素子基板の裏面側（受光側とは反対側）における赤外線カットフィルタ用などを挙げることができ、固体撮像素子基板の受光側における遮光膜用であることが好ましい。
本発明の赤外線吸収組成物ないしは赤外線吸収組成物キットが、固体撮像素子基板の受光側における赤外線カットフィルタ用である場合、厚膜形成性と均一塗布性の観点から、その粘度が１０ｍＰａ・ｓ以上１０００Ｐａ・ｓ以下の範囲にあることが好ましい。塗布方法がスピンコート、あるいはスリットコートの場合は、１０ｍＰａ・ｓ以上５００ｍＰａ・ｓ以下の範囲にあることがより好ましく、２０ｍＰａ・ｓ以上１００ｍＰａ・ｓ以下の範囲にあることが最も好ましい。塗布方法がスクリーン印刷の場合は、１Ｐａ・ｓ以上１０００Ｐａ・ｓ以下の範囲にあることがより好ましく、５Ｐａ・ｓ以上２００ｍＰａ・ｓ以下の範囲にあることが最も好ましい。
本発明は、固体撮像素子基板の受光側において、本発明の赤外線吸収組成物ないしは赤外線吸収組成物キットを塗布することにより膜を形成する工程を有する、赤外線カットフィルタの製造方法にも関する。
本発明の赤外線カットフィルタの製造方法は、
波長７００ｎｍ〜１０００ｎｍの範囲内に極大吸収波長を有する銅化合物又は色素を含有する組成物を塗布することにより銅化合物又は色素含有膜を形成する工程、及び
波長８００ｎｍ〜２０００ｎｍの範囲内に極大吸収波長を有する金属酸化物を含有する組成物を塗布することにより金属酸化物含有膜を形成する工程
を有することが好ましい。
膜の形成方法としては、支持体上に、銅化合物又は色素を含有する組成物、金属酸化物を含有する組成物、又は銅化合物又は色素及び金属酸化物いずれをも含有する組成物（組成物における固形分が上記溶剤に溶解、乳化又は分散させてなる塗布液）を直接塗布し、乾燥させることにより形成する方法が挙げられる。
支持体は、固体撮像素子基板であっても、固体撮像素子基板の受光側に設けられた別の基板（例えば後述のガラス基板３０）であっても、固体撮像素子基板の受光側に設けられた平坦化層等の層であってもよい。
赤外線吸収組成物（塗布液）を支持体上に塗布する方法は、例えば、アプリケータ、スピンコーター、スリットスピンコーター、スリットコーター、スクリーン印刷等を用いることにより実施でき、アプリケータによる塗布であることが好ましい。
また、塗膜の乾燥条件としては、各成分、溶媒の種類、使用割合等によっても異なるが、通常６０℃〜１５０℃の温度で３０秒間〜１５分間程度である。
本発明の赤外線吸収組成物ないしは赤外線吸収組成物キットを用いて赤外線カットフィルタを形成する方法は、その他の工程を含んでいてもよい。
その他の工程としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、基材の表面処理工程、前加熱工程（プリベーク工程）、硬化処理工程、後加熱工程（ポストベーク工程）などが挙げられる。
＜前加熱工程・後加熱工程＞
前加熱工程及び後加熱工程における加熱温度は、通常、８０℃〜２００℃であり、９０℃〜１５０℃であることが好ましい。
前加熱工程及び後加熱工程における加熱時間は、通常、３０秒〜２４０秒であり、６０秒〜１８０秒であることが好ましい。
＜硬化処理工程＞
硬化処理工程は、必要に応じ、形成された膜に対して硬化処理を行う工程であり、この処理を行うことにより、赤外線カットフィルタの機械的強度が向上する。
硬化処理工程としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、全面露光処理、全面加熱処理などが好適に挙げられる。ここで、本発明において「露光」とは、各種波長の光のみならず、電子線、Ｘ線などの放射線照射をも包含する意味で用いられる。
露光は放射線の照射により行うことが好ましく、露光に際して用いることができる放射線としては、特に、電子線、ＫｒＦ、ＡｒＦ、ｇ線、ｈ線、ｉ線等の紫外線や可視光が好ましく用いられる。好ましくは、ＫｒＦ、ｇ線、ｈ線、ｉ線が好ましい。
露光方式としては、ステッパー露光や、高圧水銀灯による露光などが挙げられる。
露光量は５ｍＪ／ｃｍ２〜３０００ｍＪ／ｃｍ２が好ましく、１０ｍＪ／ｃｍ２〜２０００ｍＪ／ｃｍ２がより好ましく、５０ｍＪ／ｃｍ２〜１０００ｍＪ／ｃｍ２が最も好ましい。
全面露光処理の方法としては、例えば、形成された膜の全面を露光する方法が挙げられる。赤外線吸収組成物ないしは赤外線吸収組成物キットが重合性化合物を含有する場合、全面露光により、上記組成物より形成される膜中の重合成分の硬化が促進され、膜の硬化が更に進行し、機械的強度、耐久性が改良される。
全面露光を行う装置としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、超高圧水銀灯などのＵＶ露光機が好適に挙げられる。
また、全面加熱処理の方法としては、形成された膜の全面を加熱する方法が挙げられる。全面加熱により、パターンの膜強度が高められる。
全面加熱における加熱温度は、１２０℃〜２５０℃が好ましく、１２０℃〜２５０℃がより好ましい。該加熱温度が１２０℃以上であれば、加熱処理によって膜強度が向上し、２５０℃以下であれば、膜中の成分の分解が生じ、膜質が弱く脆くなることを防止できる。
全面加熱における加熱時間は、３分〜１８０分が好ましく、５分〜１２０分がより好ましい。
全面加熱を行う装置としては、特に制限はなく、公知の装置の中から、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ドライオーブン、ホットプレート、ＩＲヒーターなどが挙げられる。
本発明は、上記した本発明の赤外線吸収組成物ないしは赤外線吸収組成物キットを用いて得られる赤外線カットフィルタにも関する。
上記した本発明の赤外線カットフィルタの製造方法の好ましい態様によれば、図１に示したような、波長７００ｎｍ〜１０００ｎｍの範囲内に極大吸収波長を有する銅化合物又は色素を含有する銅化合物又は色素含有膜２と、波長８００ｎｍ〜２０００ｎｍの範囲内に極大吸収波長を有する金属酸化物を含有する金属酸化物含有膜３とを有する赤外線カットフィルタ１を得ることができる。
本発明の赤外線カットフィルタ１において、上記銅化合物又は色素含有膜２が銅化合物含有膜であるとき、上記銅化合物含有膜の膜厚が１０〜３００μｍであり、上記金属酸化物含有膜３の膜厚が１０μｍ以下であることが固体撮像素子に適用する観点から好ましい。上記銅化合物含有膜の膜厚が１０〜１００μｍであることがより好ましい。また、上記金属酸化物含有膜３の膜厚が５μｍ以下であることもより好ましい。
一方、本発明の赤外線カットフィルタ１において、上記銅化合物又は色素含有膜２が色素含有膜であるとき、上記色素含有膜の膜厚が０．０５〜１００μｍであることが好ましく、０．１〜５０μｍであることがより好ましい。上記金属酸化物含有膜３の膜厚の好ましい範囲については上記と同様である。
また、上記銅化合物及び上記金属酸化物のいずれも含有する膜を形成する場合、固体撮像素子に適用する観点から膜厚２０μｍ以上であることが好ましく、２０μｍ〜２００μｍがより好ましく、３０μｍ〜１５０μｍが更に好ましく、４０μｍ〜１２０μｍが特に好ましい。
上記銅化合物及び上記金属酸化物のいずれも含有する膜を形成する場合、固体撮像素子に適用する観点から膜厚としては、１．０μｍ〜１００μｍであることが好ましく、１．０μｍ〜５０μｍであることがより好ましく、１．０μｍ〜４．０μｍであることが特に好ましい。
本発明の赤外線カットフィルタは、本発明の赤外線吸収組成物ないしは赤外線吸収組成物キットより形成されているので、近赤外線遮蔽性及び赤外線遮蔽性が高く、かつ耐熱性及び耐湿性に優れる。
また、本発明は、固体撮像素子基板と、固体撮像素子基板の受光側に配置された赤外線カットフィルタとを有するカメラモジュールであって、上記赤外線カットフィルタが本発明の赤外線カットフィルタである、カメラモジュールにも関する。
以下、本発明の実施形態に係るカメラモジュールを、図２及び図３を参照しながら説明するが、本発明は以下の具体例によって限定されることはない。
なお、図２及び図３にわたり、共通する部分には共通する符号を付す。
また、説明に際し、「上」、「上方」及び「上側」は、シリコン基板１０から見て遠い側を指し、「下」、「下方」及び「下側」は、はシリコン基板１０に近い側を指す。
図２は、固体撮像素子を備えたカメラモジュールの構成を示す概略断面図である。
図２に示すカメラモジュール２００は、実装基板である回路基板７０に接続部材であるハンダボール６０を介して接続されている。
詳細には、カメラモジュール２００は、シリコン基板の第１の主面に撮像素子部を備えた固体撮像素子基板１００と、固体撮像素子基板１００の第１の主面側（受光側）に設けられた平坦化層４６（図２には不図示）と、平坦化層４６の上に設けられた赤外線カットフィルタ４２と、赤外線カットフィルタ４２の上方に配置されるガラス基板３０（光透過性基板）と、ガラス基板３０の上方に配置され内部空間に撮像レンズ４０を有するレンズホルダー５０と、固体撮像素子基板１００及びガラス基板３０の周囲を囲うように配置された遮光兼電磁シールド４４と、を備えて構成されている。各部材は、接着剤２０（図２には不図示）、４５により接着されている。
本発明は、固体撮像素子基板と、固体撮像素子基板の受光側に配置された赤外線カットフィルタとを有するカメラモジュールの製造方法にも関する。
本発明のカメラモジュールの製造方法において、固体撮像素子基板の受光側において、上記本発明の赤外線吸収組成物ないしは赤外線吸収組成物キットを塗布することにより膜を形成する工程を有することが好ましい。
より具体的には、本実施形態に係るカメラモジュールにおいては、例えば、平坦化層４６の上に、本発明の赤外線吸収組成物ないしは赤外線吸収組成物キットを塗布することにより膜を形成して、赤外線カットフィルタ４２を形成する。塗布することにより膜を形成し、赤外線カットフィルタを製造する方法は上述した通りである。
本発明のカメラモジュールの製造方法のより好ましい態様として、固体撮像素子基板の受光側において、波長７００ｎｍ〜１０００ｎｍの範囲内に極大吸収波長を有する銅化合物又は色素を含有する組成物を塗布することにより銅化合物又は色素含有膜を形成する工程、及び、波長８００ｎｍ〜２０００ｎｍの範囲内に極大吸収波長を有する金属酸化物を含有する組成物を塗布することにより金属酸化物含有膜を形成する工程を有する。
これにより、例えば、平坦化層４６の上に、銅化合物又は色素含有膜と金属酸化物含有膜とからなる赤外線カットフィルタ４２を形成することができる。
カメラモジュール２００では、外部からの入射光ｈνが、撮像レンズ４０、ガラス基板３０、赤外線カットフィルタ４２、平坦化層４６を順次透過した後、固体撮像素子基板１００の撮像素子部に到達するようになっている。
また、カメラモジュール２００は、固体撮像素子基板１００の第２の主面側で、ハンダボール６０（接続材料）を介して回路基板７０に接続されている。
図３は、図２中の固体撮像素子基板１００を拡大した断面図である。
固体撮像素子基板１００は、基体であるシリコン基板１０、撮像素子１２、層間絶縁膜１３、ベース層１４、赤色のカラーフィルタ１５Ｒ、緑色のカラーフィルタ１５Ｇ、青色のカラーフィルタ１５Ｂ、オーバーコート１６、マイクロレンズ１７、遮光膜１８、絶縁膜２２、金属電極２３、ソルダレジスト層２４、内部電極２６、及び素子面電極２７を備えて構成されている。
但し、ソルダレジスト層２４は省略されていてもよい。
まず、固体撮像素子基板１００の第１の主面側の構成を中心に説明する。
図３に示すように、固体撮像素子基板１００の基体であるシリコン基板１０の第１の主面側に、ＣＣＤやＣＭＯＳ等の撮像素子１２が２次元に複数配列された撮像素子部が設けられている。
撮像素子部における撮像素子１２上には層間絶縁膜１３が形成されており、層間絶縁膜１３上にはベース層１４が形成されている。更にベース層１４上には、撮像素子１２に対応するように、赤色のカラーフィルタ１５Ｒ、緑色のカラーフィルタ１５Ｇ、青色のカラーフィルタ１５Ｂ（以下、これらをまとめて「カラーフィルタ１５」ということがある）がそれぞれ配置されている。
赤色のカラーフィルタ１５Ｒ、緑色のカラーフィルタ１５Ｇ、青色のカラーフィルタ１５Ｂの境界部、及び撮像素子部の周辺には、図示しない遮光膜が設けられていてもよい。この遮光膜は、例えば、公知のブラックのカラーレジストを用いて作製できる。
カラーフィルタ１５上にはオーバーコート１６が形成され、オーバーコート１６上には撮像素子１２（カラーフィルタ１５）に対応するようにマイクロレンズ１７が形成されている。
そして、マイクロレンズ１７の上には、平坦化層４６が設けられている。
また、第１の主面側の撮像素子部の周辺は、周辺回路（不図示）及び内部電極２６が設けられており、内部電極２６は、周辺回路を介して撮像素子１２と電気的に接続されている。
更に、内部電極２６上には、層間絶縁膜１３を介して素子面電極２７が形成されている。内部電極２６と素子面電極２７間の層間絶縁膜１３内には、これら電極間を電気的に接続するコンタクトプラグ（不図示）が形成されている。素子面電極２７は、コンタクトプラグ、内部電極２６を介して電圧の印加及び信号の読み出しなどに使用される。
素子面電極２７上には、ベース層１４が形成されている。ベース層１４上にはオーバーコート１６が形成されている。素子面電極２７上に形成されたベース層１４及びオーバーコート１６が開口されて、パッド開口部が形成され、素子面電極２７の一部が露出している。
以上が固体撮像素子基板１００の第１の主面側の構成であるが、平坦化層４６の上に赤外線カットフィルタ４２が設けられる代わりに、ベース層１４とカラーフィルタ１５との間、あるいは、カラーフィルタ１５とオーバーコート１６との間に、赤外線カットフィルタが設けられる形態であってもよい。特に、マイクロレンズ１７表面から２ｍｍ以内（より好ましくは１ｍｍ以内）の位置に設けられることが好ましい。この位置に設けると、近赤外線カットフィルタを形成する工程が簡略化でき、マイクロレンズへの不要な近赤外線を十分にカットすることができるので、近赤外線遮蔽性をより高めることができる。
固体撮像素子基板１００の第１の主面側において、撮像素子部の周辺には接着剤２０が設けられ、この接着剤２０を介し、固体撮像素子基板１００とガラス基板３０とが接着される。
また、シリコン基板１０は、該シリコン基板１０を貫通する貫通孔を有しており、貫通孔内には、金属電極２３の一部である貫通電極が備えられている。この貫通電極により、撮像素子部と回路基板７０とが電気的に接続されている。
次に、固体撮像素子基板１００の第２の主面側の構成を中心に説明する。
該第２の主面側には、第２の主面上から貫通孔の内壁にわたり絶縁膜２２が形成されている。
絶縁膜２２上には、シリコン基板１０の第２の主面上の領域から貫通孔の内部に至るようにパターニングされた金属電極２３が設けられている。金属電極２３は、固体撮像素子基板１００中の撮像素子部と回路基板７０との接続用の電極である。
貫通電極は、この金属電極２３のうち、貫通孔の内部に形成された部分である。貫通電極は、シリコン基板１０及び層間絶縁膜の一部を貫通して内部電極２６の下側に至り、該内部電極２６に電気的に接続されている。
更に、第２の主面側には、金属電極２３が形成された第２の主面上を覆い、かつ、該金属電極２３上の１部を露出する開口部を有するソルダレジスト層２４（保護絶縁膜）が設けられている。
更に、第２の主面側には、ソルダレジスト層２４が形成された第２の主面上を覆い、かつ、該金属電極２３上の１部が露出する開口部を有する遮光膜１８が設けられている。
なお、図３では、遮光膜１８は、金属電極２３の１部を覆い、残りの部分を露出させるようにパターニングされているが、金属電極２３の全部を露出させるようにパターニングされていてもよい（ソルダレジスト層２４のパターニングについても同様である）。
また、ソルダレジスト層２４は省略されていてもよく、金属電極２３が形成された第２の主面上に、遮光膜１８が直接形成されていてもよい。
露出された金属電極２３上には、接続部材としてのハンダボール６０が設けられ、このハンダボール６０を介し、固体撮像素子基板１００の金属電極２３と、回路基板７０の不図示の接続用電極と、が電気的に接続される。
以上、固体撮像素子基板１００の構成について説明したが、特開２００９−１５８８６３号公報の段落００３３〜００６８に記載の方法や、特開２００９−９９５９１号公報の段落００３６〜００６５に記載の方法など、公知の方法により形成できる。
以上、カメラモジュールの一実施形態について図２及び図３を参照して説明したが、上記一実施形態は図２及び図３の形態に限られるものではない。
以下、本発明の実施例を説明するが、本発明は、これらの実施例に何ら限定されるものではない。尚、特に断りのない限り、「部」、「％」は質量基準である。
（銅化合物Ａとその調製方法）
無水安息香酸銅（関東化学（株）製）５ｇ、及びメタクリロイルオキシエチルホスフェート（城北化学工業社製）（上記表中の配位子の具体例Ａ−１）７ｇをアセトン２５ｍｌ中に溶解し、室温（２０℃）で４時間攪拌しながら反応を進行させた。得られた反応生成物を、ヘキサン溶剤中に滴下し、沈殿物を濾過により抽出、乾燥することで銅化合物Ａを得た。なお、銅化合物Ａは、Ｃｕ（Ｌ１）ｎ１で表され、Ｌ１はＡ−１を、ｎ１は２を表す。
なお、銅化合物Ａの極大吸収波長（λｍａｘ）は、８１８ｎｍ（膜）であった。
（銅化合物Ｂとその調製方法）
銅化合物Ａの調製方法において、メタクリロイルオキシエチルホスフェートの代わりに、リン酸ジフェニル８．２４ｇを用い、目的物の銅化合物Ｂを得た。なお、銅化合物Ｂは、Ｃｕ（Ｌ２）ｎで表され、Ｌ２はリン酸ジフェニルを、ｎ２は２を表す。
なお、銅化合物Ｂの極大吸収波長（λｍａｘ）は、８２６ｎｍ（膜）であった。
＜赤外線吸収組成物の調製＞
下記組成の成分を攪拌機で混合し、各赤外線吸収組成物を調製した。
（銅化合物含有膜用の組成物Ａ）
・上記銅化合物Ａ １４９．０質量部
・下記ＪＥＲ−１５７Ｓ６５（三菱化学（株）製） ２４．５質量部
（重合性化合物）
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート ２４．５質量部
（新中村化学工業株式会社製Ａ−ＴＭＭＴ）（重合性化合物）
・メガファックＦ−７８１Ｆ（ＤＩＣ株式会社製）（界面活性剤） ２．０質量部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）２００．０質量部
（銅化合物含有膜用の組成物Ｂ）
・上記銅化合物Ｂ １００．０質量部
・ＭＸ−ＲＤ−Ｆ８（日本触媒製）（重合性化合物） ５０．０質量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート ５０．０質量部
（新中村化学工業株式会社製Ａ−ＴＭＭＴ）（重合性化合物）
・シクロヘキサノン ２００．０質量部
（銅化合物含有膜用の組成物Ｃ）
・上記銅化合物Ａ ４００．０質量部
・ＥＨＰＥ−３１５０（ダイセル化学工業（株）製；２，２−ビス（ヒドロキシメチル）−１−ブタノールの１，２−エポキシ−４−（２−オキシラニル）シクロヘキサン付加物）（重合性化合物） ２４．５質量部
・ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ（日本化薬株式会社製）（重合性化合物）２４．５質量部
・メガファックＦ−７８１Ｆ（ＤＩＣ株式会社製）（界面活性剤） ２．０質量部
・ＰＧＭＥＡ ２００．０質量部
（銅化合物含有膜用の組成物Ｄ）
・上記銅化合物Ａ ２０．０質量部
・ＥＨＰＥ−３１５０（ダイセル化学工業（株）製；２，２−ビス（ヒドロキシメチル）−１−ブタノールの１，２−エポキシ−４−（２−オキシラニル）シクロヘキサン付加物）（重合性化合物） ２４．５質量部
・ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ（日本化薬株式会社製）（重合性化合物）２４．５質量部
・メガファックＦ−７８１Ｆ（ＤＩＣ株式会社製）（界面活性剤） ２．０質量部
・ＰＧＭＥＡ ２００．０質量部
（銅化合物及び金属酸化物含有膜用の組成物Ｅ）
・上記銅化合物Ａ １００．０質量部
・ＹＭＦ−０２（住友金属鉱山（株）製 セシウム酸化タングステン（Ｃｓ０．３３ＷＯ３（平均分散粒径８００ｎｍ以下；極大吸収波長（λｍａｘ）＝１５５０〜１６５０ｎｍ（膜））の１８．５質量％分散液） ２．０質量部
・上記ＪＥＲ−１５７Ｓ６５（三菱化学（株）製） ２４．５質量部
（重合性化合物）
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート ５０．０質量部
（新中村化学工業株式会社製Ａ−ＴＭＭＴ）（重合性化合物）
・ＰＧＭＥＡ ２００．０質量部
（銅化合物及び金属酸化物含有膜用の組成物Ｇ）
・上記銅化合物Ａ １８０．０質量部
・ＹＭＦ−０２（住友金属鉱山（株）製 セシウム酸化タングステン（Ｃｓ０．３３ＷＯ３（平均分散粒径８００ｎｍ以下；極大吸収波長（λｍａｘ）＝１５５０〜１６５０ｎｍ（膜））の１８．５質量％分散液） ４．０質量部
・ＭＸ−ＲＤ−Ｆ８（日本触媒製）（重合性化合物） ２４．５質量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート ５０．０質量部
（新中村化学工業株式会社製Ａ−ＴＭＭＴ）（重合性化合物）
・ＰＧＭＥＡ ２００．０質量部
（銅化合物及び金属酸化物含有膜用の組成物Ｈ）
・上記銅化合物Ａ ９０．０質量部
・ＹＭＦ−０２（住友金属鉱山（株）製 セシウム酸化タングステン（Ｃｓ０．３３ＷＯ３（平均分散粒径８００ｎｍ以下；極大吸収波長（λｍａｘ）＝１５５０〜１６５０ｎｍ（膜））の１８．５質量％分散液） １５．０質量部
・上記ＪＥＲ−１５７Ｓ６５（三菱化学（株）製） ２４．５質量部
（重合性化合物）
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート ５０．０質量部
（新中村化学工業株式会社製Ａ−ＴＭＭＴ）（重合性化合物）
・ＰＧＭＥＡ ２００．０質量部
（銅化合物及び金属酸化物含有膜用の組成物Ｋ）
・上記銅化合物Ａ ３０．０質量部
・ＹＭＦ−０２（住友金属鉱山（株）製 セシウム酸化タングステン（Ｃｓ０．３３ＷＯ３（平均分散粒径８００ｎｍ以下；極大吸収波長（λｍａｘ）＝１５５０〜１６５０ｎｍ（膜））の１８．５質量％分散液） １５．０質量部
・上記ＪＥＲ−１５７Ｓ６５（三菱化学（株）製） ２４．５質量部
（重合性化合物）
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート ５０．０質量部
（新中村化学工業株式会社製Ａ−ＴＭＭＴ）（重合性化合物）
・ＰＧＭＥＡ ２００．０質量部
（銅化合物及び金属酸化物含有膜用の組成物Ｌ）
・上記銅化合物Ａ ４００．０質量部
・ＹＭＦ−０２（住友金属鉱山（株）製 セシウム酸化タングステン（Ｃｓ０．３３ＷＯ３（平均分散粒径８００ｎｍ以下；極大吸収波長（λｍａｘ）＝１５５０〜１６５０ｎｍ（膜））の１８．５質量％分散液） １５．０質量部
・上記ＪＥＲ−１５７Ｓ６５（三菱化学（株）製） ２４．５質量部
（重合性化合物）
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート ５０．０質量部
（新中村化学工業株式会社製Ａ−ＴＭＭＴ）（重合性化合物）
・ＰＧＭＥＡ ２００．０質量部
（銅化合物含有膜用の組成物Ｆ）
・硝酸銅 １００．０質量部
・ＭＸ−ＲＤ−Ｆ８（日本触媒製）（重合性化合物） ５０．０質量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート ５０．０質量部
（新中村化学工業株式会社製Ａ−ＴＭＭＴ）（重合性化合物）
・ＰＧＭＥＡ ２００．０質量部
（色素含有膜用の組成物１）
・フタロシアニン系色素Ａ（日本触媒製 Ｅｘｃｏｌｏｒ ＴＸ−ＥＸ ７２０；極大吸収波長（λｍａｘ）＝７２０ｎｍ） １．０質量部
・上記ＪＥＲ−１５７Ｓ６５（三菱化学（株）製） １５．８質量部
（重合性化合物）
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート １５．８質量部
（新中村化学工業株式会社製Ａ−ＴＭＭＴ）（重合性化合物）
・メガファックＦ−７８１Ｆ（ＤＩＣ株式会社製）（界面活性剤） ０．３質量部
・ＰＧＭＥＡ １３６．１質量部
（色素含有膜用の組成物２）
フタロシアニン系色素Ａに代えて、フタロシアニン系色素Ｂ（日本触媒製 Ｅｘｃｏｌｏｒ ＴＸ−ＥＸ ７０８Ｋ；極大吸収波長（λｍａｘ）＝７５５ｎｍ（膜））を用いた以外は、色素含有膜用の組成物１と同様とすることにより、色素含有膜用の組成物２を調製した。
（色素含有膜用の組成物３）
フタロシアニン系色素Ａに代えて、シアニン系色素（ダイトーケミックス社製 Ｄａｉｔｏ ｃｈｍｉｘ １３７１Ｆ；極大吸収波長（λｍａｘ）＝８０５ｎｍ（膜））を用いた以外は、色素含有膜用の組成物１と同様とすることにより、色素含有膜用の組成物３を調製した。
（色素含有膜用の組成物４）
フタロシアニン系色素Ａに代えて、クアテリレン系色素（ＢＡＳＦ社製 Ｌｕｍｏｇｅｎ ＩＲ７６５；極大吸収波長（λｍａｘ）＝７０５ｎｍ（膜））を用いた以外は、色素含有膜用の組成物１と同様とすることにより、色素含有膜用の組成物４を調製した。
（色素含有膜用の組成物５）
・フタロシアニン系色素Ａ（日本触媒製 Ｅｘｃｏｌｏｒ ＴＸ−ＥＸ ７２０；極大吸収波長（λｍａｘ）＝７２０ｎｍ（膜）） １．０質量部
・ＭＸ−ＲＤ−Ｆ８（日本触媒製）（重合性化合物） １５．８質量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート １５．８質量部
（新中村化学工業株式会社製Ａ−ＴＭＭＴ）（重合性化合物）
・メガファックＦ−７８１Ｆ（ＤＩＣ株式会社製）（界面活性剤） ０．３質量部
・ＰＧＭＥＡ １３６．１質量部
（色素含有膜用の組成物６）
・フタロシアニン系色素Ａ（日本触媒製 Ｅｘｃｏｌｏｒ ＴＸ−ＥＸ ７２０；極大吸収波長（λｍａｘ）＝７２０ｎｍ（膜）） １．０質量部
・ＥＨＰＥ−３１５０（ダイセル化学工業（株）製；２，２−ビス（ヒドロキシメチル）−１−ブタノールの１，２−エポキシ−４−（２−オキシラニル）シクロヘキサン付加物）（重合性化合物） １５．８質量部
・ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ（日本化薬株式会社製）（重合性化合物）１５．８質量部
・メガファックＦ−７８１Ｆ（ＤＩＣ株式会社製）（界面活性剤） ０．３質量部
・ＰＧＭＥＡ １３６．１質量部
（色素含有膜用の組成物７）
・フタロシアニン系色素Ａ（日本触媒製 Ｅｘｃｏｌｏｒ ＴＸ−ＥＸ ７２０；極大吸収波長（λｍａｘ）＝７２０ｎｍ（膜）） ０．６７質量部
・ＭＸ−ＲＤ−Ｆ８（日本触媒製）（重合性化合物） ３１．５質量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート ３１．５質量部
（新中村化学工業株式会社製Ａ−ＴＭＭＴ）（重合性化合物）
・メガファックＦ−７８１Ｆ（ＤＩＣ株式会社製）（界面活性剤） ０．３質量部
・ＰＧＭＥＡ １０４質量部
（比較例用の色素含有膜用の組成物８）
・Ｅｘｃｉｔｏｎ社製 ６７０Ｔ
（極大吸収波長（λｍａｘ）＝６７０ｎｍ（膜状態）） ０．６７質量部
・ＭＸ−ＲＤ−Ｆ８（日本触媒製）（重合性化合物） ３１．６質量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート ３１．６質量部
（新中村化学工業株式会社製Ａ−ＴＭＭＴ）（重合性化合物）
・ＰＧＭＥＡ １０４質量部
（金属酸化物含有膜用の組成物Ａ）
・ＹＭＦ−０２（住友金属鉱山（株）製 セシウム酸化タングステン（Ｃｓ０．３３ＷＯ３（平均分散粒径８００ｎｍ以下；極大吸収波長（λｍａｘ）＝１５５０〜１６５０ｎｍ（膜））の１８．５質量％分散液） ９９．０質量部
・アクリベースＦＦ−１８７（藤倉化成社製のベンジルメタクリレートとメタクリル酸との共重合体（繰り返し単位のモル比＝７０：３０；酸価＝１１０ｍｇＫＯＨ／ｇ））（バインダー） ９９．０質量部
・メガファックＦ−７８１Ｆ（ＤＩＣ株式会社製）（界面活性剤） ２．０質量部
・ＰＧＭＥＡ １００．０質量部
（金属酸化物含有膜用の組成物Ｂ）
・ＹＭＦ−０２（住友金属鉱山（株）製 セシウム酸化タングステン（Ｃｓ０．３３ＷＯ３（平均分散粒径８００ｎｍ以下；極大吸収波長（λｍａｘ）＝１５５０〜１６５０ｎｍ（膜））の１８．５質量％分散液） ９９．０質量部
・アクリベースＦＦ−１８７（藤倉化成社製のベンジルメタクリレートとメタクリル酸との共重合体（繰り返し単位のモル比＝７０：３０；酸価＝１１０ｍｇＫＯＨ／ｇ））（バインダー） ４９．５質量部
・ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ（日本化薬株式会社製）（重合性化合物） ４９．５質量部
・メガファックＦ−７８１Ｆ（ＤＩＣ株式会社製）（界面活性剤） ２．０質量部
・ＰＧＭＥＡ １００．０質量部
（金属酸化物含有膜用の組成物Ｄ）
・ＹＭＦ−０２（住友金属鉱山（株）製 セシウム酸化タングステン（Ｃｓ０．３３ＷＯ３（平均分散粒径８００ｎｍ以下；極大吸収波長（λｍａｘ）＝１５５０〜１６５０ｎｍ（膜））の１８．５質量％分散液） ８０．０質量部
・アクリベースＦＦ−１８７（藤倉化成社製のベンジルメタクリレートとメタクリル酸との共重合体（繰り返し単位のモル比＝７０：３０；酸価＝１１０ｍｇＫＯＨ／ｇ））（バインダー） １１８．０質量部
・メガファックＦ−７８１Ｆ（ＤＩＣ株式会社製）（界面活性剤） ２．０質量部
・ＰＧＭＥＡ １００．０質量部
（金属酸化物含有膜用の組成物Ｅ）
・ＹＭＦ−０２（住友金属鉱山（株）製 セシウム酸化タングステン（Ｃｓ０．３３ＷＯ３（平均分散粒径８００ｎｍ以下；極大吸収波長（λｍａｘ）＝１５５０〜１６５０ｎｍ（膜））の１８．５質量％分散液） １２０．０質量部
・アクリベースＦＦ−１８７（藤倉化成社製のベンジルメタクリレートとメタクリル酸との共重合体（繰り返し単位のモル比＝７０：３０；酸価＝１１０ｍｇＫＯＨ／ｇ））（バインダー） ７８．０質量部
・メガファックＦ−７８１Ｆ（ＤＩＣ株式会社製）（界面活性剤） ２．０質量部
・ＰＧＭＥＡ １００．０質量部
（比較例用の組成物Ｃ）
・塩化バナジウム（和光純薬工業(株)） １００．０質量部
・ＭＸ−ＲＤ−Ｆ８（日本触媒社製）（重合性化合物） ５０．０質量部
・Ａ−ＴＭＭＴ（新中村化学社製）（重合性化合物） ５０．０質量部
・ＰＧＭＥＡ ２００．０質量部
＜赤外線カットフィルタの作製＞
（実施例１）
金属酸化物含有膜用の組成物Ａをガラス基板上に３０００ｒｐｍでスピン塗布（ＭＩＫＡＳＡ Ｃｏ．，ＬＴＤ製のＭＩＫＡＳＡ ＳＰＩＮＣＯＡＴＥＲ １Ｈ−Ｄ７を使用）し、１００℃、１２０秒間の前加熱（プリベーク）を行った後、２００℃、３００秒間の後加熱（ポストベーク）を行い、膜厚１．１μｍの金属酸化物含有膜を得た。
上記形成した金属酸化物含有膜上に銅化合物含有膜用の組成物ＡをＹＢＡ型ベーカーアプリケーター（ヨシミツ精機株式会社製）を用いて塗布し、１００℃、１２０秒間の前加熱（プリベーク）を行った後、２００℃、１２０秒間の後加熱（ポストベーク）を行い、膜厚１００μｍの銅化合物含有膜を形成し、金属酸化物含有膜と銅化合物含有膜とからなる赤外線カットフィルタを得た。
（実施例２、３、１０、１１）
金属酸化物含有膜用の組成物Ａを下記表に記載の金属酸化物含有膜用の組成物に変更し、かつ銅化合物含有膜用の組成物Ａを下記表に記載の銅化合物含有膜用の組成物に変更する以外は実施例１と同様にして、金属酸化物含有膜と銅化合物含有膜とからなる赤外線カットフィルタを得た。
（実施例４）
銅化合物及び金属酸化物含有膜用の組成物Ｅをガラス基板上にＹＢＡ型ベーカーアプリケーター（ヨシミツ精機株式会社製）を用いて塗布し、１００℃、１２０秒間の前加熱（プリベーク）を行った後、２００℃、１２０秒間の後加熱（ポストベーク）を行い、膜厚１００μｍの銅化合物及び金属酸化物含有膜からなる赤外線カットフィルタを得た。
（実施例６〜９）
銅化合物及び金属酸化物含有膜用の組成物Ｅを下記表に記載の銅化合物及び金属酸化物含有膜用の組成物に変更する以外は実施例４と同様にして、銅化合物及び金属酸化物含有膜からなる赤外線カットフィルタを得た。
（実施例５）
銅化合物含有膜用の組成物Ｂをガラス基板上にＹＢＡ型ベーカーアプリケーター（ヨシミツ精機株式会社製）を用いて塗布し、１００℃、１２０秒間の前加熱（プリベーク）を行った後、２００℃、１２０秒間の後加熱（ポストベーク）を行い、膜厚１００μｍの銅化合物含有膜を得た。
形成した銅化合物含有膜上に金属酸化物含有膜用の組成物Ｂを３０００ｒｐｍでスピン塗布し、１００℃、１２０秒間の前加熱（プリベーク）を行った後、２００℃、３００秒間の後加熱（ポストベーク）を行い、膜厚１．１μｍの金属酸化物含有膜を形成し、金属酸化物含有膜と銅化合物含有膜とからなる赤外線カットフィルタを得た。
（比較例１及び４）
銅化合物含有膜用の組成物Ａ又はＦをガラス基板上にＹＢＡ型ベーカーアプリケーター（ヨシミツ精機株式会社製）を用いて塗布し、１００℃、１２０秒間の前加熱（プリベーク）を行った後、２００℃、１２０秒間の後加熱（ポストベーク）を行い、膜厚１００μｍの銅化合物含有膜からなる赤外線カットフィルタを得た。
（参考例２及び３）
金属酸化物含有膜用の組成物Ａ又はＢをガラス基板上に３０００ｒｐｍでスピン塗布し、１００℃、１２０秒間の前加熱（プリベーク）を行った後、２００℃、３００秒間の後加熱（ポストベーク）を行い、膜厚１．１μｍの金属酸化物含有膜からなる赤外線カットフィルタを得た。
（比較例５）
銅化合物含有膜用の組成物Ｆをガラス上にＹＢＡ型ベーカーアプリケーター（ヨシミツ精機株式会社製）を用いて塗布し、１００℃、１２０秒間の前加熱（プリベーク）を行った後、２００℃、１２０秒間の後加熱（ポストベーク）を行い、膜厚１００μｍの銅化合物含有膜を得た。
形成した銅化合物含有膜上に比較例用の組成物Ｃを３０００ｒｐｍでスピン塗布し、１００℃、１２０秒間の前加熱（プリベーク）を行った後、２００℃、３００秒間の後加熱（ポストベーク）を行い、膜厚１．１μｍの塩化バナジウム含有膜を形成し、塩化バナジウム含有膜と銅化合物含有膜とからなる赤外線カットフィルタを得た。
（実施例Ｂ１）
金属酸化物含有膜用の組成物Ａをガラス基板上に３０００ｒｐｍでスピン塗布（ＭＩＫＡＳＡ Ｃｏ．，ＬＴＤ製のＭＩＫＡＳＡ ＳＰＩＮＣＯＡＴＥＲ １Ｈ−Ｄ７を使用）し、１００℃、１２０秒間の前加熱（プリベーク）を行った後、２００℃、３００秒間の後加熱（ポストベーク）を行い、膜厚１．１μｍの金属酸化物含有膜を得た。
上記形成した金属酸化物含有膜上に色素含有膜用の組成物１をスピン塗布（ＭＩＫＡＳＡ Ｃｏ．，ＬＴＤ製のＭＩＫＡＳＡ ＳＰＩＮＣＯＡＴＥＲ １Ｈ−Ｄ７を使用）し、１００℃，１２０秒間の前加熱（プリベーク）を行った後、２００℃、３００秒間の後加熱（ポストベーク）を行い、膜厚０．５μｍの色素含有膜を形成し、金属酸化物含有膜と色素含有膜とからなる赤外線カットフィルタを得た。
（実施例Ｂ２〜Ｂ１６）
金属酸化物含有膜用の組成物Ａを下記表に記載の金属酸化物含有膜用の組成物に変更し、かつ色素含有膜用の組成物１を下記表に記載の色素含有膜用の組成物に変更する以外は実施例Ｂ１と同様にして、金属酸化物含有膜と色素含有膜とからなる赤外線カットフィルタを得た。
（比較例Ｂ１及びＢ２）
色素含有膜用の組成物１又は８をガラス基板上にスピン塗布（ＭＩＫＡＳＡ Ｃｏ．，ＬＴＤ製のＭＩＫＡＳＡ ＳＰＩＮＣＯＡＴＥＲ １Ｈ−Ｄ７を使用）し、１００℃、１２０秒間の前加熱（プリベーク）を行った後、２００℃、３００秒間の後加熱（ポストベーク）を行い、膜厚０．５μｍの色素含有膜からなる赤外線カットフィルタを得た。
（比較例Ｂ３）
色素含有膜用の組成物８をガラス上にスピン塗布（ＭＩＫＡＳＡ Ｃｏ．，ＬＴＤ製のＭＩＫＡＳＡ ＳＰＩＮＣＯＡＴＥＲ １Ｈ−Ｄ７を使用）し、１００℃，１２０秒間の前加熱（プリベーク）を行った後、２００℃、３００秒間の後加熱（ポストベーク）を行い、膜厚０．５μｍの色素含有膜を得た。
形成した色素含有膜上に比較例用の組成物Ｃを３０００ｒｐｍでスピン塗布し、１００℃、１２０秒間の前加熱（プリベーク）を行った後、２００℃、３００秒間の後加熱（ポストベーク）を行い、膜厚１．１μｍの塩化バナジウム含有膜を形成し、塩化バナジウム含有膜と色素含有膜とからなる赤外線カットフィルタを得た。
＜赤外線カットフィルタの評価＞
（近赤外線遮蔽性評価、赤外線遮蔽性評価）
上記のようにして得た赤外線カットフィルタの波長９００ｎｍの透過率を、紫外可視近赤外分光光度計ＵＶ３６００（島津製作所製）を用いて測定した。数値が低いほど近赤外線遮蔽性に優れると評価する。波長９００ｎｍの透過率に関しては、近赤外線透過率が１０％以下で実用上良好な近赤外線遮蔽性を示すといえる。
更に、上記赤外線カットフィルタにおける波長１３００ｎｍの透過率を分光光度計Ｕ−４１００（日立ハイテクノロジーズ社製）を用いて測定した。数値が低いほど赤外線遮蔽性に優れると評価する。赤外線透過率が３０％未満で実用上良好な赤外線遮蔽性を示すといえる。
（耐熱性評価１）
得られた赤外線カットフィルタを、ホットプレートで、２２０℃、３分間、加熱処理した。耐熱性試験前と耐熱性試験後において、赤外線カットフィルタの波長４００ｎｍ〜７００ｎｍにおける吸光度を分光光度計Ｕ−４１００（日立ハイテクノロジーズ社製）を用いて測定し、それぞれの吸光度の積分変化率を求めた。
｜（試験前における波長４００ｎｍ〜７００ｎｍの吸光度面積−試験後における波長４００ｎｍ〜７００ｎｍ吸光度面積）／試験前における波長４００ｎｍ〜７００ｎｍの吸光度面積×１００｜（％）
で表される吸光度面積変化率を以下の基準で評価した。
Ａ：吸光度面積変化率≦２％
Ｂ：２％＜吸光度面積変化率≦４％
Ｃ：４％＜吸光度面積変化率≦７％
Ｄ：７％＜吸光度面積変化率
（可視領域（４００〜５００ｎｍ）における耐熱性評価２）
得られた赤外線カットフィルタを、ホットプレートで、２２０℃、３分間、加熱処理した。耐熱性試験前と耐熱性試験後において、赤外線カットフィルタの波長４００ｎｍ〜５００ｎｍにおける吸光度を分光光度計Ｕ−４１００（日立ハイテクノロジーズ社製）を用いて測定し、それぞれの吸光度の積分変化率を求めた。
｜（試験前における波長４００ｎｍ〜５００ｎｍの吸光度面積−試験後における波長４００ｎｍ〜５００ｎｍの吸光度面積）／試験前における波長４００ｎｍ〜５００ｎｍの吸光度面積×１００｜（％）
で表される吸光度面積変化率を以下の基準で評価した。
Ａ：吸光度面積変化率≦２％
Ｂ：２％＜吸光度面積変化率≦４％
Ｃ：４％＜吸光度面積変化率≦７％
Ｄ：７％＜吸光度面積変化率
（耐湿性評価）
ヤマダ科学株式会社製のＴｅｍｐｅｒａｔｕｒｅ ａｎｄ Ｈｕｍｉｄｉｔｙ Ｃｈａｍｂｅｒ ＩＷ２２２を用い、実施例１〜１１、比較例１〜５、実施例Ｂ１〜Ｂ１６及び比較例Ｂ１〜Ｂ３の赤外線カットフィルタを８５℃、湿度９５％ＲＨの雰囲気下において、２０時間放置する耐湿性試験を行った。
耐湿性試験後における赤外線カットフィルタの可視光線透過性（波長５５０ｎｍ）を上記方法に準じて測定し、｜（試験前における可視光線透過性（％）−試験後における可視光線透過性（％））／試験前における可視光線透過性（％）×１００｜（％）で表される可視光線透過性変化率を以下の基準で評価した。
Ａ：可視光線透過性変化率＜３％
Ｂ：３％≦可視光線透過性変化率＜５％
Ｃ：５％≦可視光線透過性変化率≦１５％
Ｄ：１５％＜可視光線透過性変化率
下表に評価の結果を示す。
なお、表中の「＜Ａ％」とは、Ａ％未満であり、Ａ％−０．１超である範囲を意図する。つまり、（Ａ−０．１）％超Ａ％未満の範囲を意図する。例えば、「＜５％」とは、４．９％超５％未満を意図する。
上記表に示した結果から明らかなように、金属酸化物含有膜を有しない比較例１及び４は、赤外線遮光性及び耐湿性に劣り、近赤外線遮光性もやや劣り、特に、銅化合物として硝酸銅を使用した比較例４は耐熱性にも劣ることが分かる。
また、銅化合物含有膜を有しない参考例２及び３は、近赤外線遮光性に劣ることが分かる。なお、参考例２及び３は、近赤外線遮光性に劣るが、近赤外線遮光性がかかる評価の程度でも問題ない場合には、固体撮像素子の近赤外線吸収フィルタの材料として使用することができる。
金属酸化物含有膜ではなく、塩化バナジウム含有膜を有し、銅化合物として硝酸銅を使用した比較例５は、耐熱性、耐湿性に劣ることが分かる。
一方、金属酸化物と銅化合物とを使用した実施例１〜１１は、近赤外線遮光性、赤外線遮光性、耐熱性及び耐湿性いずれにも優れることがわかる。
特に、銅化合物含有膜と金属酸化物含有膜とを有する実施例１〜３及び５、１０、１１は、近赤外線遮光性、赤外線遮光性、耐熱性及び耐湿性のいずれにも特に優れることがわかる。
また、金属酸化物含有膜を有しない比較例Ｂ１及びＢ２は、赤外線遮光性に劣り、特に、λmaxが７００ｎｍに満たない色素を使用した比較例Ｂ２は耐熱性にも劣ることが分かる。塩化バナジウム含有膜を有し、λmaxが７００ｎｍに満たない色素を使用した比較例Ｂ３は、近赤外線遮蔽性にやや劣り、赤外線遮蔽性及び耐熱性に劣ることが分かる。
一方、λmaxが７００〜１０００ｎｍの色素と金属酸化物とを使用した実施例Ｂ１〜Ｂ１６は、近赤外線遮光性、赤外線遮光性、耐熱性及び耐湿性のいずれにも優れることがわかる。
＜赤外線吸収組成物の調製＞
（実施例Ｃ１）
下記組成成分を攪拌機で混合し、実施例Ｃ１の赤外線吸収組成物を調製した。
・ＹＭＦ−０２（住友金属鉱山（株）製 セシウム酸化タングステン（Ｃｓ０．３３ＷＯ３（平均分散粒径８００ｎｍ以下；極大吸収波長（λｍａｘ）＝１５５０〜１６５０ｎｍ（膜））の１８．５質量％分散液） １０８．３質量部
・フタロシアニン系色素Ａ（日本触媒製 Ｅｘｃｏｌｏｒ ＴＸ−ＥＸ ７２０；極大吸収波長（λｍａｘ）＝７２０ｎｍ（膜）） １．０質量部
・ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ（日本化薬株式会社製）（重合性化合物） ５．８質量部
・アクリベースＦＦ−１８７（藤倉化成社製のベンジルメタクリレートとメタクリル酸との共重合体（繰り返し単位のモル比＝７０：３０；酸価＝１１０ｍｇＫＯＨ／ｇ））（バインダー） ５．８質量部
・ＰＧＭＥＡ ４８．３質量部
・メガファックＦ−７８１（ＤＩＣ株式会社製）（界面活性剤） ０．３質量部
（実施例Ｃ２）
１．０質量部のフタロシアニン系色素Ａに代えて、０．５質量部の上記フタロシアニン系色素Ａと、０．５質量部のフタロシアニン系色素Ｂ（日本触媒製 Ｅｘｃｏｌｏｒ ＴＸ−ＥＸ ７０８Ｋ；極大吸収波長（λｍａｘ）＝７５５ｎｍ（膜））とを用いた以外は、実施例Ｃ１と同様とすることにより、実施例Ｃ２の赤外線吸収組成物を調製した。
（実施例Ｃ３）
１．０質量部のフタロシアニン系色素Ａに代えて、０．５質量部の上記フタロシアニン系色素Ａと、０．５質量部のシアニン系色素（ダイトーケミックス社製 Ｄａｉｔｏ ｃｈｍｉｘ １３７１Ｆ；極大吸収波長（λｍａｘ）＝８０５ｎｍ（膜））とを用いた以外は、実施例Ｃ１と同様とすることにより、実施例Ｃ３の赤外線吸収組成物を調製した。
（実施例Ｃ４）
１．０質量部のフタロシアニン系色素Ａに代えて、０．５質量部の上記フタロシアニン系色素Ａと、０．５質量部のクアテリレン系色素（ＢＡＳＦ社製 Ｌｕｍｏｇｅｎ ＩＲ７６５；極大吸収波長（λｍａｘ）＝７０５ｎｍ（膜））とを用いた以外は、実施例Ｃ１と同様とすることにより、実施例Ｃ４の赤外線吸収組成物を調製した。
（実施例Ｃ５）
１．０質量部のフタロシアニン系色素Ａに代えて、１．０質量部のフタロシアニン系色素Ｂ（日本触媒製 Ｅｘｃｏｌｏｒ ＴＸ−ＥＸ ７０８Ｋ；極大吸収波長（λｍａｘ）＝７５５ｎｍ（膜））を用いた以外は、実施例Ｃ１と同様とすることにより、実施例Ｃ５の赤外線吸収組成物を調製した。
（実施例Ｃ６）
１．０質量部のフタロシアニン系色素Ａに代えて、０．５質量部のフタロシアニン系色素Ｂ（日本触媒製 Ｅｘｃｏｌｏｒ ＴＸ−ＥＸ ７０８Ｋ；極大吸収波長（λｍａｘ）＝７５５ｎｍ（膜））と０．５質量部のシアニン系色素（ダイトーケミックス社製 Ｄａｉｔｏ ｃｈｍｉｘ １３７１Ｆ；極大吸収波長（λｍａｘ）＝８０５ｎｍ（膜））とを用いた以外は、実施例Ｃ１と同様とすることにより、実施例Ｃ６の赤外線吸収組成物を調製した。
（実施例Ｃ７）
１．０質量部のフタロシアニン系色素Ａに代えて、０．５質量部のフタロシアニン系色素Ｂ（日本触媒製 Ｅｘｃｏｌｏｒ ＴＸ−ＥＸ ７０８Ｋ；極大吸収波長（λｍａｘ）＝７５５ｎｍ（膜））と０．５質量部のクアテリレン系色素（ＢＡＳＦ社製 Ｌｕｍｏｇｅｎ ＩＲ７６５；極大吸収波長（λｍａｘ）＝７０５ｎｍ（膜））とを用いた以外は、実施例Ｃ１と同様とすることにより、実施例Ｃ７の赤外線吸収組成物を調製した。
（実施例Ｃ８）
１．０質量部のフタロシアニン系色素Ａに代えて、１．０質量部のシアニン系色素（ダイトーケミックス社製 Ｄａｉｔｏ ｃｈｍｉｘ １３７１Ｆ；極大吸収波長（λｍａｘ）＝８０５ｎｍ（膜））を用いた以外は、実施例Ｃ１と同様とすることにより、実施例Ｃ８の赤外線吸収組成物を調製した。
（実施例Ｃ９）
１．０質量部のフタロシアニン系色素Ａに代えて、０．５質量部のシアニン系色素（ダイトーケミックス社製 Ｄａｉｔｏ ｃｈｍｉｘ １３７１Ｆ；極大吸収波長（λｍａｘ）＝８０５ｎｍ（膜））と０．５質量部のクアテリレン系色素（ＢＡＳＦ社製 Ｌｕｍｏｇｅｎ ＩＲ７６５；極大吸収波長（λｍａｘ）＝７０５ｎｍ（膜））とを用いた以外は、実施例Ｃ１と同様とすることにより、実施例Ｃ９の赤外線吸収組成物を調製した。
（実施例Ｃ１０）
１．０質量部のフタロシアニン系色素Ａに代えて、１．０質量部のクアテリレン系色素（ＢＡＳＦ社製 Ｌｕｍｏｇｅｎ ＩＲ７６５；極大吸収波長（λｍａｘ）＝７０５ｎｍ（膜））を用いた以外は、実施例Ｃ１と同様とすることにより、実施例Ｃ８の赤外線吸収組成物を調製した。
（実施例Ｃ１１）
５．８質量部のＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ（日本化薬株式会社製）に代えて、５．８質量部のアロニックスＭ−３０５（東亜合成株式会社製）を用いた以外は、実施例Ｃ１と同様とすることにより、実施例Ｃ１１の赤外線吸収組成物を調製した。
（実施例Ｃ１２）
５．８質量部のアクリベースＦＦ−１８７（藤倉化成社製）に代えて、５．８質量部のサイクロマーＰ ＡＣＡ２３０ＡＡ（ダイセル化学工業株式会社製）を用いた以外は、実施例Ｃ１と同様とすることにより、実施例Ｃ１２の赤外線吸収組成物を調製した。
（実施例Ｃ１３）
５．８質量部のＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ（日本化薬株式会社製）及び５．８質量部のアクリベースＦＦ−１８７（藤倉化成社製）に代えて、それぞれ、５．８質量部のアロニックスＭ−３０５（東亜合成株式会社製）及び５．８質量部のサイクロマーＰ ＡＣＡ２３０ＡＡ（ダイセル化学工業株式会社製）を用いた以外は、実施例Ｃ１と同様とすることにより、実施例Ｃ１３の赤外線吸収組成物を調製した。
（実施例Ｃ１４）
４８．３質量部のＰＧＭＥＡに代えて、４８．３質量部のプロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ）を用いた以外は、実施例Ｃ１と同様とすることにより、実施例Ｃ１４の赤外線吸収組成物を調製した。
（実施例Ｃ１５）
フタロシアニン系色素Ａの使用量を１．０質量部から０．２質量部に変更した以外は、実施例Ｃ１と同様とすることにより、実施例Ｃ１５の赤外線吸収組成物を調製した。
（実施例Ｃ１６）
ＹＭＦ−０２の使用量を１０８．３質量部から１０質量部に変更し、フタロシアニン系色素Ａの使用量を１．０質量部から５質量部に変更した以外は、実施例Ｃ１と同様とすることにより、実施例Ｃ１６の赤外線吸収組成物を調製した。
（参考例Ｃ１）
フタロシアニン系色素Ａを使用しないとともに、４８．３質量部のＰＧＭＥＡを２６．０質量部のＰＧＭＥＡとした以外は、実施例Ｃ１と同様とすることにより、比較例Ｃ１の赤外線吸収組成物を調製した。
（比較例Ｃ２）
１０８．３質量部のＹＭＦ−０２を使用しないとともに、４８．３質量部のＰＧＭＥＡを４９．３質量部のＰＧＭＥＡとした以外は、実施例Ｃ１と同様とすることにより、比較例Ｃ２の赤外線吸収組成物を調製した。
（比較例Ｃ３）
１０８．３質量部のＹＭＦ−０２を使用しないとともに、１．０質量部のフタロシアニン系色素Ａに代えて、０．５質量部の上記フタロシアニン系色素Ａと、０．５質量部のシアニン系色素（ダイトーケミックス社製 １３７１Ｆ；極大吸収波長（λｍａｘ）＝８０５ｎｍ（膜））を使用し、かつ、４８．３質量部のＰＧＭＥＡを１５６．６質量部のＰＧＭＥＡとした以外は、実施例Ｃ１と同様とすることにより、比較例Ｃ３の赤外線吸収組成物を調製した。
（参考例Ｃ４）
１．０質量部のフタロシアニン系色素Ａに代えて、１．０質量部のＥｘｃｉｔｏｎ社製
６７０Ｔ（極大吸収波長（λｍａｘ）＝６７０ｎｍ（膜状態））を使用した以外は、実施例Ｃ１と同様とすることにより、比較例Ｃ５の赤外線吸収組成物を調製した。
以下、実施例Ｃ１〜Ｃ１６、比較例Ｃ１〜Ｃ４の赤外線吸収組成物の特徴について纏めたものを下記表に示す。
＜赤外線カットフィルタの作製＞
得られた実施例Ｃ１〜Ｃ１６、参考例Ｃ１、比較例Ｃ２〜Ｃ３、参考例Ｃ４の赤外線吸収組成物の各々から、スピン塗布法（ＭＩＫＡＳＡ Ｃｏ．，ＬＴＤ製のＭＩＫＡＳＡ ＳＰＩＮＣＯＡＴＥＲ １Ｈ−Ｄ７を使用；３４０ｒｐｍ）を用いて塗布膜を形成し、１００℃、１２０秒間の前加熱（プリベーク）を行った後、ｉ線ステッパーを用い、２０００ｍＪ／ｃｍ２で全面露光を行った。次いで、２００℃、５分間の後加熱（ポストベーク）を行い、膜厚が約２μｍの赤外線カットフィルタを得た。
＜赤外線カットフィルタの評価＞
得られた赤外線カットフィルタについて前述と同様の方法により（近赤外線遮蔽性評価、赤外線遮蔽性評価）、（耐熱性評価１）、（可視領域（４００〜５００ｎｍ）における耐熱性評価２）、（耐湿性評価）を評価した。
評価結果を以下に示す。
上記表に示した結果から明らかなように、色素を含有しない参考例Ｃ１、色素のλｍａｘが本発明の範囲から外れる参考例Ｃ４は、赤外線遮蔽性に劣ることがわかる。なお、参考例Ｃ１及びＣ４は、近赤外線遮光性に劣るが、近赤外線遮光性がかかる評価の程度でも問題ない場合には、固体撮像素子の近赤外線吸収フィルタの材料として使用することができる。
金属酸化物を含有しない比較例Ｃ２、Ｃ３は、近赤外線遮蔽性、耐熱性及び耐湿性のいずれにも劣ることが分かる。
一方、実施例Ｃ１〜Ｃ１６は近赤外線遮蔽性、赤外線遮蔽性、耐熱性及び耐湿性のいずれにも優れることが分かる。
次に、金属酸化物としてのセシウム酸化タングステンの含有量（質量％）、及び、フタロシアニン系色素Ａの含有量（質量％）が下表の値となるように、それぞれ、ＹＭＦ−０２及びフタロシアニン系色素Ａの使用量を変更した以外は、実施例Ｃ１の処方と同様とすることで、実施例Ｃ１７〜Ｃ２５の赤外線吸収組成物を調製した（ここで、セシウム酸化タングステン及びフタロシアニン系色素Ａ以外の成分の使用量は、実施例Ｃ１におけるものと同様であり、セシウム酸化タングステンの使用量とフタロシアニン系色素Ａの使用量との総和は、実施例Ｃ１におけるものと同様である）。
実施例Ｃ１７〜Ｃ２５の赤外線吸収組成物の各々を用いて、上記＜赤外線カットフィルタの作製＞で述べた方法に基づき、各赤外線カットフィルタを作製し、上記（近赤外線遮蔽性、赤外線遮蔽性評価）で述べた評価を実施したところ、いずれの赤外線カットフィルタも、実用上良好な近赤外線遮蔽性及び赤外線遮蔽性を示した。
また、これらの赤外線カットフィルタに対して、上記（耐熱性評価）及び上記（耐湿性評価）で述べた評価を実施したところ、実施例Ｃ１８〜Ｃ２０、Ｃ２３及びＣ２４は、実施例Ｃ１と同様に、耐熱性及び耐湿性の点で良好な結果が得られた。一方、実施例Ｃ１７及びＣ２５は、耐熱性及び耐湿性の点で実施例Ｃ１よりも劣ったが、実用的に充分な結果が得られた。一方、実施例Ｃ２２は、近赤外線遮蔽性の観点で実施例Ｃ１よりも劣ったが、実用的に充分な結果が得られた。
以上のように、本発明の赤外線吸収組成物によれば、近赤外線遮蔽性、赤外線遮蔽性、耐熱性及び耐湿性の全てに優れる赤外線カットフィルタを作製することができることが分かる。
また、本発明の赤外線吸収組成物は、例えばスピン塗布することにより膜を形成することができるので、この点において、赤外線カットフィルタを煩雑な工程を要することなく製造できるため、上記した従来の赤外線カットフィルタにおける不充分な製造適性を改善することができる。
このように、本発明の赤外線吸収組成物は、固体撮像素子基板と、前記固体撮像素子基板の受光側に配置された赤外線カットフィルタとを有するカメラモジュールを作製するのに適した赤外線吸収組成物である。
１ 赤外線カットフィルタ
２ 銅化合物又は色素含有膜
３ 金属酸化物含有膜
１０ シリコン基板
１２ 撮像素子
１３ 層間絶縁膜
１４ ベース層
１５ カラーフィルタ
１６ オーバーコート
１７ マイクロレンズ
１８ 遮光膜
２０ 接着剤
２２ 絶縁膜
２３ 金属電極
２４ ソルダレジスト層
２６ 内部電極
２７ 素子面電極
３０ ガラス基板
４０ 撮像レンズ
４２ 赤外線カットフィルタ
４４ 遮光兼電磁シールド
４５ 接着剤
４６ 平坦化層
５０ レンズホルダー
６０ ハンダボール
７０ 回路基板
１００ 固体撮像素子基板
２００ カメラモジュール

Claims (33)

  1. 波長７００ｎｍ〜１０００ｎｍの範囲内に極大吸収波長を有する銅化合物を含有する組成物と、波長８００ｎｍ〜２０００ｎｍの範囲内に極大吸収波長を有する金属酸化物を含有する組成物とを含む赤外線吸収組成物キットであって、
    前記銅化合物が、下記一般式（１）で表される銅錯体である、赤外線吸収組成物キット。
    Ｃｕ（Ｌ） ｎ１ ・（Ｘ） ｎ２ 一般式（１）
    （上記一般式（１）中、
    Ｌは、銅に配位する配位子を表し、
    Ｘは、存在しないか、ハロゲン原子、Ｈ ２ Ｏ、ＮＯ ３ 、ＣｌＯ ４ 、ＳＯ ４ 、ＣＮ、ＳＣＮ、ＢＦ ４ 、ＰＦ ６ 、ＢＰｈ ４ （Ｐｈはフェニル基を表す）又はアルコールを表す。
    ｎ１及びｎ２は、各々独立に、１〜４の整数を表す。）
  2. 前記配位子Ｌが、スルホン酸化合物、カルボン酸化合物、又は、リン含有化合物である、請求項１に記載の赤外線吸収組成物キット。
  3. 前記配位子Ｌが、スルホン酸化合物、又は、リン含有化合物である、請求項２に記載の赤外線吸収組成物キット。
  4. 前記銅化合物を含有する組成物が、さらに各成分を均一に溶解する溶媒を含む、請求項１〜３のいずれか１項に記載の赤外線吸収組成物キット。
  5. 波長７００ｎｍ〜１０００ｎｍの範囲内に極大吸収波長を有する銅化合物又は色素を含有する組成物と、波長８００ｎｍ〜２０００ｎｍの範囲内に極大吸収波長を有する金属酸化物を含有する組成物とを含む赤外線吸収組成物キットであって、
    前記銅化合物又は色素を含有する組成物が、さらに各成分を均一に溶解する溶媒を含む、赤外線吸収組成物キット。
  6. 波長７００ｎｍ〜１０００ｎｍの範囲内に極大吸収波長を有する色素を含有する組成物と、波長８００ｎｍ〜２０００ｎｍの範囲内に極大吸収波長を有する金属酸化物を含有する組成物とを含む赤外線吸収組成物キットであって、
    前記色素が、クアテリレン色素、イミニウム色素、又は、ポルフィリン色素である、赤外線吸収組成物キット。
  7. 前記金属酸化物を含有する組成物における前記金属酸化物の含有量が、前記組成物の全固形分質量に対して、１〜５０質量％である、請求項１〜６のいずれか１項に記載の赤外線吸収組成物キット。
  8. 前記銅化合物を含有する組成物における前記銅化合物の含有量が、前記組成物の全固形分質量に対して、５０〜８０質量％である、請求項１〜５のいずれか１項に記載の赤外線吸収組成物キット。
  9. 前記色素を含有する組成物における前記色素の含有量が、前記組成物の全固形分質量に対して、１〜２０質量％である、請求項６に記載の赤外線吸収組成物キット。
  10. 波長７００ｎｍ〜１０００ｎｍの範囲内に極大吸収波長を有する銅化合物と、波長８００ｎｍ〜２０００ｎｍの範囲内に極大吸収波長を有する金属酸化物とを含有する赤外線吸収組成物であって、
    前記銅化合物が、下記一般式（１）で表される銅錯体である、赤外線吸収組成物。
    Ｃｕ（Ｌ） ｎ１ ・（Ｘ） ｎ２ 一般式（１）
    （上記一般式（１）中、
    Ｌは、銅に配位する配位子を表し、
    Ｘは、存在しないか、ハロゲン原子、Ｈ ２ Ｏ、ＮＯ ３ 、ＣｌＯ ４ 、ＳＯ ４ 、ＣＮ、ＳＣＮ、ＢＦ ４ 、ＰＦ ６ 、ＢＰｈ ４ （Ｐｈはフェニル基を表す）又はアルコールを表す。
    ｎ１及びｎ２は、各々独立に、１〜４の整数を表す。）
  11. さらに各成分を均一に溶解する溶媒を含む、請求項１０に記載の赤外線吸収組成物。
  12. 波長７００ｎｍ〜１０００ｎｍの範囲内に極大吸収波長を有する銅化合物と、波長８００ｎｍ〜２０００ｎｍの範囲内に極大吸収波長を有する金属酸化物とを含有する赤外線吸収組成物であって、
    さらに各成分を均一に溶解する溶媒を含む、赤外線吸収組成物。
  13. 前記金属酸化物の含有量が、前記組成物の全固形分質量に対して、０．００１〜５質量％である、請求項１０〜１２のいずれか１項に記載の赤外線吸収組成物。
  14. 前記銅化合物の含有量が、前記組成物の全固形分質量に対して、５０〜８０質量％である、請求項１０〜１３のいずれか１項に記載の赤外線吸収組成物。
  15. 前記一般式（１）における配位子Ｌがスルホン酸、カルボン酸、リン酸、リン酸エステル、ホスホン酸、ホスホン酸エステル又はホスフィン酸である、請求項１０〜１４のいずれか１項に記載の赤外線吸収組成物。
  16. 前記金属酸化物がセシウム酸化タングステンである、請求項１〜１５のいずれか１項に記載の赤外線吸収組成物ないしは赤外線吸収組成物キット。
  17. 前記銅化合物に対する前記金属酸化物の質量比が、０．０００１〜０．５である、請求項１〜５および１０〜１５のいずれか１項に記載の赤外線吸収組成物ないしは赤外線吸収組成物キット。
  18. 波長７００ｎｍ〜１０００ｎｍの範囲内に極大吸収波長を有する銅化合物を含有する銅化合物含有膜と、
    波長８００ｎｍ〜２０００ｎｍの範囲内に極大吸収波長を有する金属酸化物を含有する金属酸化物含有膜と
    を有する赤外線カットフィルタであって、
    前記銅化合物が、下記一般式（１）で表される銅錯体である、赤外線カットフィルタ。
    Ｃｕ（Ｌ） ｎ１ ・（Ｘ） ｎ２ 一般式（１）
    （上記一般式（１）中、
    Ｌは、銅に配位する配位子を表し、
    Ｘは、存在しないか、ハロゲン原子、Ｈ ２ Ｏ、ＮＯ ３ 、ＣｌＯ ４ 、ＳＯ ４ 、ＣＮ、ＳＣＮ、ＢＦ ４ 、ＰＦ ６ 、ＢＰｈ ４ （Ｐｈはフェニル基を表す）又はアルコールを表す。
    ｎ１及びｎ２は、各々独立に、１〜４の整数を表す。）
  19. 波長７００ｎｍ〜１０００ｎｍの範囲内に極大吸収波長を有する色素を含有する色素含有膜と、
    波長８００ｎｍ〜２０００ｎｍの範囲内に極大吸収波長を有する金属酸化物を含有する金属酸化物含有膜と
    を有する赤外線カットフィルタであって、
    前記色素が、クアテリレン色素、イミニウム色素、又は、ポルフィリン色素である、赤外線カットフィルタ。
  20. 前記銅化合物含有膜の膜厚が１０〜３００μｍであり、前記金属酸化物含有膜の膜厚が１０μｍ以下である、請求項１８に記載の赤外線カットフィルタ。
  21. 前記銅化合物含有膜の膜厚が１０〜１００μｍである、請求項２０に記載の赤外線カットフィルタ。
  22. 前記色素含有膜の膜厚が０．０５〜１００μｍであり、前記金属酸化物含有膜の膜厚が１０μｍ以下である、請求項１９に記載の赤外線カットフィルタ。
  23. 前記色素含有膜の膜厚が１０〜１００μｍである、請求項２２に記載の赤外線カットフィルタ。
  24. 前記金属酸化物含有膜の膜厚が５μｍ以下である、請求項１８〜２３のいずれか１項に記載の赤外線カットフィルタ。
  25. 請求項１〜１７のいずれか１項に記載の赤外線吸収組成物ないしは赤外線吸収組成物キットを用いて形成される赤外線カットフィルタ。
  26. 波長７００ｎｍ〜１０００ｎｍの範囲内に極大吸収波長を有する銅化合物を含有する組成物を塗布することにより銅化合物含有膜を形成する工程、及び
    波長８００ｎｍ〜２０００ｎｍの範囲内に極大吸収波長を有する金属酸化物を含有する組成物を塗布することにより金属酸化物含有膜を形成する工程
    を有する赤外線カットフィルタの製造方法であって、
    前記銅化合物が、下記一般式（１）で表される銅錯体である、赤外線カットフィルタの製造方法。
    Ｃｕ（Ｌ） ｎ１ ・（Ｘ） ｎ２ 一般式（１）
    （上記一般式（１）中、
    Ｌは、銅に配位する配位子を表し、
    Ｘは、存在しないか、ハロゲン原子、Ｈ ２ Ｏ、ＮＯ ３ 、ＣｌＯ ４ 、ＳＯ ４ 、ＣＮ、ＳＣＮ、ＢＦ ４ 、ＰＦ ６ 、ＢＰｈ ４ （Ｐｈはフェニル基を表す）又はアルコールを表す。
    ｎ１及びｎ２は、各々独立に、１〜４の整数を表す。）
  27. 波長７００ｎｍ〜１０００ｎｍの範囲内に極大吸収波長を有する色素を含有する組成物を塗布することにより色素含有膜を形成する工程、及び
    波長８００ｎｍ〜２０００ｎｍの範囲内に極大吸収波長を有する金属酸化物を含有する組成物を塗布することにより金属酸化物含有膜を形成する工程
    を有する赤外線カットフィルタの製造方法であって、
    前記色素が、クアテリレン色素、イミニウム色素、又は、ポルフィリン色素である、赤外線カットフィルタの製造方法。
  28. 請求項１〜１７のいずれか１項に記載の赤外線吸収組成物ないしは赤外線吸収組成物キットを塗布することにより膜を形成する工程を有する、赤外線カットフィルタの製造方法。
  29. 前記塗布がアプリケータ塗布である、請求項２６〜２８のいずれか１項に記載の赤外線カットフィルタの製造方法。
  30. 固体撮像素子基板と、前記固体撮像素子基板の受光側に配置された赤外線カットフィルタとを有するカメラモジュールであって、前記赤外線カットフィルタが請求項１８〜２５のいずれか１項に記載の赤外線カットフィルタである、カメラモジュール。
  31. 固体撮像素子基板と、前記固体撮像素子基板の受光側に配置された赤外線カットフィルタとを有するカメラモジュールの製造方法であって、固体撮像素子基板の受光側において、波長７００ｎｍ〜１０００ｎｍの範囲内に極大吸収波長を有する銅化合物を含有する組成物を塗布することにより銅化合物含有膜を形成する工程、及び
    波長８００ｎｍ〜２０００ｎｍの範囲内に極大吸収波長を有する金属酸化物を含有する組成物を塗布することにより金属酸化物含有膜を形成する工程
    を有する、カメラモジュールの製造方法であって、
    前記銅化合物が、下記一般式（１）で表される銅錯体である、カメラモジュールの製造方法。
    Ｃｕ（Ｌ） ｎ１ ・（Ｘ） ｎ２ 一般式（１）
    （上記一般式（１）中、
    Ｌは、銅に配位する配位子を表し、
    Ｘは、存在しないか、ハロゲン原子、Ｈ ２ Ｏ、ＮＯ ３ 、ＣｌＯ ４ 、ＳＯ ４ 、ＣＮ、ＳＣＮ、ＢＦ ４ 、ＰＦ ６ 、ＢＰｈ ４ （Ｐｈはフェニル基を表す）又はアルコールを表す。
    ｎ１及びｎ２は、各々独立に、１〜４の整数を表す。）
  32. 固体撮像素子基板と、前記固体撮像素子基板の受光側に配置された赤外線カットフィルタとを有するカメラモジュールの製造方法であって、固体撮像素子基板の受光側において、波長７００ｎｍ〜１０００ｎｍの範囲内に極大吸収波長を有する色素を含有する組成物を塗布することにより色素含有膜を形成する工程、及び
    波長８００ｎｍ〜２０００ｎｍの範囲内に極大吸収波長を有する金属酸化物を含有する組成物を塗布することにより金属酸化物含有膜を形成する工程
    を有する、カメラモジュールの製造方法であって、
    前記色素が、クアテリレン色素、イミニウム色素、又は、ポルフィリン色素である、カメラモジュールの製造方法。
  33. 固体撮像素子基板と、前記固体撮像素子基板の受光側に配置された赤外線カットフィルタとを有するカメラモジュールの製造方法であって、固体撮像素子基板の受光側において、請求項１〜１７のいずれか１項に記載の赤外線吸収組成物ないしは赤外線吸収組成物キットを塗布することにより膜を形成する工程を有する、カメラモジュールの製造方法。
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